KR20070119746A - 라모세트론 또는 이의 염의 신규 제조방법 - Google Patents

라모세트론 또는 이의 염의 신규 제조방법 Download PDF

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KR20070119746A
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Abstract

의약, 특히 항악성 종양제 투여에 따르는 소화기 증상, 설사형 과민성 장증후군, 과민성 장증후군의 설사 증상 등의 치료제 및/또는 예방제로서 유용한 라모세트론 또는 이의 염의 신규 제조방법을 제공한다.
저급 알킬알루미늄 디할라이드, 디저급 알킬알루미늄 할라이드, 트리저급 알킬알루미늄 및 저급 알킬알루미늄 세스퀴할라이드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 루이스산의 존재하에, 화학식 I 또는 이의 염으로 나타내어지는 화합물과 1-메틸-1H-인돌을 반응시킴으로써 라모세트론 또는 이의 염을 제조할 수 있다.
화학식 I
Figure 112007080473283-PCT00007
위의 화학식 I에서,
X는 할로겐이다.
라모세트론, 저급 알킬알루미늄 디할라이드, 디저급 알킬알루미늄 할라이드, 소화기 증상, 설사형 과민성 장증후군, 과민성 장증후군의 설사 증상.

Description

라모세트론 또는 이의 염의 신규 제조방법{Novel process for producing ramosetron or its salt}
본 발명은 의약, 특히 5-HT3 수용체 길항제, 보다 구체적으로는, 예를 들면, 항악성 종양제(시스플라틴 등) 투여에 따르는 소화기 증상(악심, 구토), 설사형 과민성 장증후군, 과민성 장증후군의 설사 증상 등의 치료제 및/또는 예방제로서 유용한 라모세트론 또는 이의 염의 신규 제조방법에 관한 것이다.
라모세트론의 화학명은 (-)-(R)-5-[(1-메틸-1H-인돌-3-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸이고, 화학식 II의 구조를 갖는다.
Figure 112007080473283-PCT00001
라모세트론 또는 이의 염은, 강력한 5-HT3 수용체 길항 작용을 갖는 것이 알려져 있고[참조: 특허문헌 1, 비특허문헌 1 및 비특허문헌 2], 항악성 종양제(시스 플라틴 등) 투여에 따르는 소화기 증상(악심, 구토)의 예방·치료제로서 판매되고 있다. 또한, 라모세트론 또는 이의 염은, 설사형 과민성 장증후군 치료제 또는 과민성 장증후군의 설사 증상 개선제로서 유용할 가능성이 보고되어 있고(특허문헌 1), 현재 설사형 과민성 장증후군 치료제 또는 과민성 장증후군의 설사 증상 개선제로서 임상 시험이 진행되고 있다.
라모세트론 또는 이의 염의 제조방법으로서 이하의 제조방법이 알려져 있다.
특허문헌 1에는, 하기 제조방법 A로 나타내어지는 제조방법, 즉 헤테로사이클릭 화합물(III)과 화학식 IV의 카복실산 또는 이의 반응성 유도체를 반응시키는 테트라하이드로벤즈이미다졸 유도체(V)의 제조방법이 기재되어 있다.
(제조방법 A)
Figure 112007080473283-PCT00002
상기 반응식에서,
X2는 단일 결합이고, Het로 나타내어지는 헤테로사이클릭 위의 탄소원자와 결합한다.
특허문헌 1에는 라모세트론의 제조방법으로서 구체적으로는, 화합물(III)으로서 1-메틸-1H-인돌을, 반응성 유도체[화합물(IV)]로서 산 아미드인 N,N-디에틸-4,5,6,7-테트라하이드로벤즈이미다졸-5-카복스아미드 또는 N-[(4,5,6,7-테트라하이 드로벤즈이미다졸-5-일)카보닐]피롤리딘을 사용하여, 옥시염화인으로 처리하는 것(빌스마이어(Vilsmeyer) 반응)에 의해 라세미체의 라모세트론을 수득한 후, (+)-디벤조일타르타르산을 사용하여 분별 결정에 의해 광학 분할하는 제조방법(제조방법 A-1)이 기재되어 있다.
또한, 특허문헌 1에는, 제조방법 A에서 화합물(IV)의 반응성 유도체의 하나로서 산 할라이드를 들고 있고, 루이스산을 촉매로서 사용하여 헤테로사이클릭 화합물(III)과 화합물(IV)의 산 할라이드를 프리델-크래프츠(Friedel-Crafts) 아실화 반응에 의해 축합하는 화합물(V)의 제조방법(제조방법 A-2)도 기재되어 있다. 그러나, 프리델-크래프츠 아실화 반응에 의한 라모세트론의 구체적인 제조예는 기재되어 있지 않다.
또한, 비특허문헌 1 및 2에는, 라모세트론의 제조방법으로서, 제조방법 A-1과 동일한 방법이 기재되어 있다.
또한, 비특허문헌 3에는 제조방법 B로 나타내어지는 11C로 라벨한 라모세트론의 제조방법이 기재되어 있다. 그러나, 메틸화의 공정이 개시되어 있을 뿐이고, 원료인 nor-YM060의 제조방법은 개시되어 있지 않다.
(제조방법 B)
Figure 112007080473283-PCT00003
상기 반응식에서,
nor-YM060은 (R)-5-[(1H-인돌-3-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸이고, 본 출원인에 의해 제공되어 있으며,
DMF는 디메틸포름아미드이다.
비특허문헌 1: Chemical & Pharmaceutical Bulletin, 1996, Vol. 44, No. 9, p. 1707-1716
비특허문헌 2: Drugs of the Future, 1992, Vol. 17, No. 1, p. 28-29
비특허문헌 3: Applied Radiation and Isotopes, 1995, Vol.46, No. 9, p. 907-910
특허문헌 1: 일본 특허공보 제(평)6-25153호
발명의 개시
발명이 해결하고자 하는 과제
기존의 라모세트론의 제조방법은 공업적으로 생산 효율의 점에서 만족되는 것은 아니다. 그래서, 효율적인 라모세트론 또는 이의 염의 제조방법, 특히 라세미화하지 않고 광학 순도가 유지되는 라모세트론의 제조방법의 개발이 갈망되고 있다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명자들은, 공업적으로 보다 효율적인 라모세트론 또는 이의 염의 제조 방법의 개발을 목적으로 하여 예의 연구를 진행하였다. 그 결과, 이하의 제조방법에 의하면 광학 순도가 거의 저하되지 않고 입체를 유지하여 반응이 진행되고, 라모세트론 또는 이의 염을 효율적으로 제조할 수 있는 것을 밝혀내고 본 발명을 완성하였다.
즉, 본 발명에 의하면, 이하에 나타내는 라모세트론 또는 이의 염의 신규 제조방법이 제공된다.
(1) (제조방법 1)
저급 알킬알루미늄 디할라이드, 디저급 알킬알루미늄 할라이드, 트리저급 알킬알루미늄 및 저급 알킬알루미늄 세스퀴할라이드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 루이스산의 존재하에 화학식 I 또는 이의 염으로 나타내어지는 화합물과 1-메틸-1H-인돌을 반응시킴을 특징으로 하는 라모세트론 또는 이의 염의 제조방법.
Figure 112007080473283-PCT00004
위의 화학식 I에서,
X는 할로겐이다.
(2) (제조방법 2)
(R)-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸-5-카복실산 또는 이의 염을 할로겐화제와 반응시켜 상기 항목 (1)에 따르는 화학식 I의 화합물로 하고, 저급 알킬알루미늄 디할라이드, 디저급 알킬알루미늄 할라이드, 트리저급 알킬알루미늄 및 저급 알킬알루미늄 세스퀴할라이드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 루이스산의 존재하에 1-메틸-1H-인돌과 반응시킴을 특징으로 하는 라모세트론 또는 이의 염의 제조방법.
(3) 상기 항목 (1) 또는 (2)에 있어서, 루이스산이 디에틸알루미늄 클로라이드 또는 디에틸알루미늄 세스퀴클로라이드인 제조방법.
(4) 상기 항목 (3)에 있어서, 반응의 용매가 방향족 탄화수소인 제조방법.
(5) 상기 항목 (4)에 있어서, 방향족 탄화수소가 톨루엔인 제조방법.
(6) 상기 항목 (1)에 따르는 제조방법에 의해 제조된 라모세트론 또는 이의 염.
(7) 상기 항목 (2)에 따르는 제조방법에 의해 제조된 라모세트론 또는 이의 염.
또한, 본 발명에 의하면, 이하에 나타내는 라모세트론 또는 이의 염을 함유하는 조성물도 제공된다.
(8) 5-[(1-메틸-1H-인돌-5-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸 또는 이의 염 및/또는 5-[(1-메틸-1H-인돌-6-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸 또는 이의 염을 라모세트론 또는 이의 염에 대하여 합계 1% 미만으로 함유함을 특징으로 하는, 라모세트론 또는 이의 염을 함유하는 조성물.
발명의 효과
본 발명의 제조방법은, 입체를 유지하여 반응이 진행되기 때문에, 후술하는 바와 같이 공지되어 있고 제조가 용이한 (R)-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸-5-카복실산 또는 이의 염으로부터 고수율로 광학 순도가 높은 라모세트론 또는 이의 염을 제조할 수 있다.
한편, 특허문헌 1에 기재되어 있는 제조방법 A-1에서는 산 아미드 화합물과 1-메틸-1H-인돌을 빌스마이어 반응에 의해 축합한 후, (+)-디벤조일타르타르산을 사용하여 분별 결정법에 의해 광학 분할하여 라모세트론을 제조하고 있다. 그러나, 광학 분할이 생산 공정의 후반 공정에 있으면, 절반을 차지하는 불필요한 광학이성체의 제조를 위해 원료를 여분으로 사용하게 된다. 그러나, 제조방법 A-1에서는, 광학 활성인 산 아미드 화합물을 원료로서 사용하더라도, 빌스마이어 반응의 공정에서 완전히 라세미화되기 때문에, 광학 순도가 높은 라모세트론을 수득하기 위해서는 반응후에 광학 순도를 높이기 위한 처리를 필요로 한다. 한편, 본 발명의 제조방법에서는, 반응이 입체를 유지한 채로 고수율로 진행하는 점에서, 광학 활성인 화합물(I)로부터 높은 광학 순도의 라모세트론을 공업적으로 효율적으로 제조할 수 있다. 또한, 제조방법 A-1에서는 빌스마이어 반응의 공정에서 1,2-디클로로에탄을 용매로서 사용하고 있지만, 현재는 의약품 제조에 사용해서는 안되는 것으로 되어 있다. 한편, 본 발명의 제조방법에서는, 톨루엔이 적합하게 사용된다. 또한, 제조방법 A-1에 의해 실제로 출원인에 의해 제조되어 있는 염산라모세트론의 제조에서는, 광학 순도가 높은 염산라모세트론을 수득하기 위해서, 라세미체의 라모세트론, 라모세트론의 (+)-디벤조일타르타르산염, 염산라모세트론의 취출과 정제 공정에서, 라모세트론을 함유하는 결정을 합계 6회 여과하고 있다. 한편, 본 발명의 제조방법에서는 후술하는 바와 같이 1회, 정제를 포함해도 2회의 여과로 광학 순도가 높은 염산라모세트론을 제조할 수 있기 때문에 조작이 간편하다.
또한, 제조방법 A-2는, 루이스산을 촉매로서 사용하여 헤테로사이클릭 화합물(III)과 화합물(IV)의 할라이드를 프리델-크래프츠(Friedel-Crafts) 아실화 반응시킴으로써 테트라하이드로벤즈이미다졸 유도체(V)를 제조하는 방법이다. 그러나, 전술한 바와 같이 본 제법에 의한 라모세트론의 구체적인 제조예는 기재되어 있지 않다. 또한, 특허문헌 1에는 유사 화합물의 제조예로서 5-[(벤조티오펜-3-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로벤즈이미다졸 및 5-[(2-메틸벤조푸란-3-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로벤즈이미다졸을, 루이스산으로서 각각 염화알루미늄, 4염화주석을 사용하여 프리델-크래프츠 아실화 반응에 의해 제조하는 방법이 기재되어 있지만, 모두 바람직한 수율이라고는 말할 수 없다. 또한, 라모세트론의 제조에 있어서 동일한 반응 조건을 적용하면 수율도 낮고, 타르상의 고점성 물질이 부생하여 정제가 곤란하였다. 이와 같이, 라모세트론의 제조에서는 통상적으로 자주 사용되는 루이스산을 공업적으로 사용할 수 없었다. 그래서, 본 발명자들은 루이스산을 예의 검토한 결과, 저급 알킬알루미늄 디할라이드, 디저급 알킬알루미늄 할라이드, 트리저급 알킬알루미늄 및 저급 알킬알루미늄 세스퀴할라이드를 루이스산으로서 사용한 경우, 의외로 부생물이 적고 고수율로 라모세트론을 제조할 수 있는 것을 밝혀냈다. 또한, 본 발명에서 사용되는 루이스산을 사용하여 라모세트론을 제조한 경우, 광학 활성인 화합물(I)을 사용하여 반응을 실시하면, 의외로 광학 순도가 거의 저하되지 않고 입체를 유지하여 반응이 진행되는 것이 판명되었다. 이로부터, 본 발명의 제조방법에 의하면, 광학 활성인 화합물(I)로부터 높은 광학 순도의 라모세트론을 공업적으로 효율적으로 제조할 수 있다.
또한, 제조방법 B에서는 광학 활성인 화합물(V)을 라벨화한 요오드화메틸로 메틸화하여 라벨화한 라모세트론을 제조하고 있다. 그러나, 제조방법 B는 인돌의 1위치를 라벨화하기 위해서 nor-YM060을 경유하고 있는 제조방법이고, nor-YM060을 경유하지 않는 라모세트론의 제조방법에 비해 1공정이 길어진다. 한편, 본 발명에 의하면 nor-YM060을 경유하지 않고서 제조하기 때문에 공정수가 짧아진다.
따라서, 본 발명의 제조방법은 공지의 제조방법과 비교하여, (1) 고수율이다, (2) 의약품 제조에 사용해서는 안되는 용매의 사용을 회피하고 있다, (2) 환경에 대한 부하가 적다, (3) 총 공정수가 단축되어 있다, (4) 조작의 간편성이 향상되어 있는 점에서 우수한 제조방법이다.
본 발명을 더욱 설명하면 이하와 같다.
본 명세서에서, 「알킬」이란 직쇄상 또는 분지상의 포화 지방족 탄화수소 쇄를 의미한다.
「저급 알킬」이란, C1-6의 알킬을 의미한다. 구체적으로는, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 이소프로필, 3급-부틸 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 메틸, 에틸이다.
「할로겐」이란, F, Cl, Br 및 I를 의미한다. 바람직하게는, Cl이다.
「트리저급 알킬알루미늄」이란, Al(저급 알킬)3로 나타내어지는 화합물을 의미한다. 구체적으로는, 트리메틸알루미늄, 트리에틸알루미늄, 트리이소부틸알루미늄을 들 수 있다. 바람직하게는, 트리메틸알루미늄이다.
「저급 알킬알루미늄 디할라이드」란, Al(저급 알킬)(할로겐)2으로 나타내어지는 화합물을 의미한다. 구체적으로는, 메틸알루미늄 디클로라이드, 에틸알루미늄 디클로라이드를 들 수 있다. 바람직하게는, 에틸알루미늄 디클로라이드이다.
「디저급 알킬알루미늄 할라이드」란, Al(저급 알킬)2(할로겐)으로 나타내어지는 화합물을 의미한다. 구체적으로는, 디메틸알루미늄 클로라이드, 디에틸알루미늄 클로라이드를 들 수 있다. 바람직하게는, 디에틸알루미늄 클로라이드이다.
「저급 알킬알루미늄 세스퀴할라이드」란, Al2(저급 알킬)3(할로겐)3으로 나타내어지는 화합물을 의미한다. 구체적으로는, 메틸알루미늄 세스퀴클로라이드, 에틸알루미늄 세스퀴클로라이드를 들 수 있다. 바람직하게는, 에틸알루미늄 세스퀴클로라이드이다.
프리델-크래프츠 아실화 반응의 용매로서의「방향족 탄화수소」란, 프리델-크래프츠 아실화 반응의 용매로서 사용할 수 있는 것이면 어떤 것이라도 양호하다. 구체적으로는, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 니트로벤젠을 들 수 있다. 바람직하게는, 톨루엔이다.
「라모세트론 또는 이의 염」에 있어서의「이의 염」이란, 라모세트론과 제약학적으로 허용되는 산과의 염이면 어떠한 것이라도 양호하며, 구체적으로는, 라모세트론과, 염산, 황산 등의 무기산, 아세트산, 옥살산, 산말론산, 석신산 등의 유기산과의 산부가염을 들 수 있다. 「라모세트론 또는 이의 염」은, 바람직하게는, 라모세트론, 또는 염산라모세트론이다. 조염은 통상적으로 사용되는 조염 방법을 사용할 수 있다.
또한, 본 발명은, 라모세트론 및/또는 이의 제조 원료를 구성하는 원자의 일부 또는 전부를 방사성 동위원소로 치환한 화합물, 소위 라벨체의 제조방법도 포함한다.
본 발명의 제조방법 1은, 루이스산의 존재하에, 화학식 I의 화합물과 1-메틸-1H-인돌을, 입체를 유지하여 프리델-크래프츠 아실화 반응시키는 라모세트론의 제조방법이다.
반응은, 루이스산의 존재하에, 당해 제조 원료를 등몰 내지 한쪽을 과잉량 사용하여, 냉각하 내지 가열하에서 실시할 수 있으며, 냉각하에서 실시하는 것이 바람직하다.
반응에 사용되는 용매는, 무용매 또는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류, 디에틸 에테르, 테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄(DME) 등의 에테르류, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세토니트릴, 디메틸설폭사이드(DMSO), 아세트산에틸, N,N-디메틸포름아미드(DMF), 니트로메탄, 2황화탄소 등의 반응에 불활성인 용매 또는 이들의 혼합 용매가 사용된다. 바람직하게는, 방향족 탄화수소류이고, 보다 바람직하게는 톨루엔이다.
루이스산은, 등량 내지 과잉량 사용할 수 있고, 바람직하게는 디에틸알루미늄 클로라이드, 에틸알루미늄 세스퀴클로라이드이다.
또한, 화학식 I 중의 X로서는 Cl이 바람직하다.
제조방법 2는, (R)-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸-5-카복실산 또는 이의 염을 할로겐화제와 반응시켜 화학식 I의 화합물을 수득한 후, 루이스산의 존재하에, 1-메틸-1H-인돌과 입체를 유지하여 프리델-크래프츠 아실화 반응시키는 라모세트론의 제조방법이다.
전반의 할로겐화 반응은, 당해 제조 원료를 등몰 내지 한쪽을 과잉량 사용하여, 냉각하 내지 가열 환류하에서 실시할 수 있으며, 가열하에서 실시하는 것이 바람직하다.
반응은, 무용매 또는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류, 디에틸 에테르, 테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄(DME) 등의 에테르류, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세토니트릴, 아세트산에틸, N,N-디메틸포름아미드(DMF) 등의 반응에 불활성인 용매 중 또는 이들의 혼합 용매 중에서 실시할 수 있다. 바람직하게는, 테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄이다.
할로겐화제로서는, 염화티오닐, 옥살릴클로라이드, 5염화인, 브롬화티오닐, 3브롬화인 등의 통상적으로 산할로겐화물의 제조에 사용되는 할로겐화제를 사용할 수 있다. 바람직하게는, 염화티오닐이다.
또한, 화학식 I 중의 X로서는 Cl이 바람직하다.
후반의 프리델-크래프츠 아실화 반응은 제조방법 1과 동일한 방법으로 반응을 실시할 수 있다.
전반의 공정에서 제조한 산 할로겐화물은, 단리하여 또는 단리하지 않고서 후반의 공정에서 사용할 수 있다.
상기의 제조방법 1 또는 제조방법 2에 의하면, 5-[(1-메틸-1H-인돌-5-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸(이하「화합물 A」) 또는 이의 염 및 5-[(1-메틸-1H-인돌-6-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸「화합물 B」또는 이의 염을 라모세트론 또는 이의 염에 대하여 합계 1% 미만으로 함유하는, 라모세트론 또는 이의 염을 함유하는 조성물을 수득할 수 있다. 라모세트론 또는 이의 염에 대한, 화합물 A 또는 이의 염 및 화합물 B 또는 이의 염의 함유율은, 바람직하게는 0.5% 미만, 보다 바람직하게는 0.2% 미만, 더욱 보다 바람직하게는 0.1% 미만이다. 이렇게 하여 수득된 라모세트론 또는 이의 염을 함유하는 조성물은 항악성 종양제(시스플라틴 등) 투여에 따르는 소화기 증상(악심, 구토), 설사형 과민성 장증후군, 과민성 장증후군의 설사 증상 등의 치료제 및/또는 예방제로서 사용할 수 있다.
화합물 A 및 화합물 B의 구조를 이하에 나타낸다.
Figure 112007080473283-PCT00005
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예에 의해 조금도 제한되는 것이 아니다.
실시예 1
(R)-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸-5-카복실산 1염산염(99.4%e.e.) 4.05g, 디메톡시에탄 120mL, 염화티오닐 5.47g의 혼합물을 70℃에서 2시간 동안 가열함으로써, (R)-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸-5-카보닐 클로라이드를 합성하고, 용매를 감압 증류하였다. 잔사에 톨루엔 80mL를 가하여 다시 감압 증류하고, 잔사에 톨루엔 120mL, 1-메틸-1H-인돌 5.24g을 가하여, 질소 분위기하에서 -40℃로 냉각시켰다. 당해 액에 1.0mol/L의 에틸알루미늄 세스퀴클로라이드의 톨루엔 용액 30mL를 천천히 가하여 -40℃에서 3시간 동안 교반하며, 교반후 테트라하이드로푸란 10mL를 가하였다. 당해 액을 0℃로 냉각시킨 물 160mL 중에 천천히 분산하여 유기층을 제거한 후, 수층을 톨루엔 40mL로 세정하고, 여기에 2-부탄온 80mL과 20% 수산화나트륨 수용액 50mL를 가하여 추출하였다. 수층을 2-부탄온 40mL로 세정하고, 유기층을 합하여, 10% 식염수 20mL로 2회, 계속해서 물 4mL로 세정하였다. 수득된 유기층에 에탄올 40mL를 가하여 감압 증류하고, 다시 잔사에 에탄올 40mL를 가하여 감압 증류하였다. 에탄올과 아세트산에틸(1:3)의 혼합 용매 120mL를 잔사에 가하고, 70℃에서 4mol/L 염화수소 아세트산에틸 용액을 5mL 가하여 1시간 동안 가열하고, 천천히 0℃까지 냉각시켰다. 석출된 결정을 여과하여 에탄올-아세트산에틸 혼합 용매로 결정을 세정한 후, 50℃에서 진공 건조시킴으로써, (-)-(R)-5-[(1-메틸-1H-인돌-3-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸-염산염 4.98g(수율 78.8%, 99.5%e.e.)을 수득하였다.
FAB-MS(m/z): 280[M+H+]
1H NMR(DMSO-d6, 30℃): δppm(TMS 내부 표준): 1.82-1.95(1H, m), 2.12-2.22(1H, m), 2.66-2.94(4H, m), 3.63-3.72(1H, m), 3.88(3H, s), 7.24(1H, t, J=8.0Hz), 7.30(1H, t, J=8.0Hz), 7.56(1H, d, J=8.0Hz), 8.22(1H, d, J=8.0Hz), 8.53(1H, s), 8.90(1H, s), 14.42(1H, br).
실시예 2
(R)-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸-5-카복실산 1염산염(99.4%e.e.) 4.05g, 디메톡시에탄 120mL, 염화티오닐 5.47g의 혼합물을 70℃에서 2시간 동안 가열함으로써, (R)-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸-5-카보닐 클로라이드를 합성하고, 용매를 감압 증류하였다. 잔사에 톨루엔 80mL를 가하여 다시 감압 증류하고, 잔사에 톨루엔 120mL, 1-메틸-1H-인돌 5.24g을 가하고, 질소 분위기하에서 -25℃로 냉각시켰다. 당해 액에 1.8mol/L의 디에틸알루미늄 클로라이드의 톨루엔 용액 33mL를 천천히 가하여 -25℃에서 2시간 동안 교반하고, 교반후 테트라하이드로푸란 8mL를 가하였다. 당해 액을 0℃로 냉각시킨 물 100mL 중에 천천히 분산시킨 후, 45℃로 가온하였다. 유기층을 제거한 후, 수층을 톨루엔 40mL로 세정하고, 여기에 2-부탄온 80mL과 20% 수산화나트륨 수용액 50mL를 가하여 추출하였다. 수층을 2-부탄온 40mL로 세정하고, 유기층을 합쳐서, 10% 식염수 20mL로 2회, 계속해서 물 4mL로 세정하였다. 수득된 유기층을 감압 증류하여, 잔사에 에탄올 40mL를 가하여 감압 증류하고, 다시 잔사에 에탄올 40mL를 가하여 감압 증류하였다. 에탄올과 아세트산에틸(1:3)의 혼합 용매 120mL를 잔사에 가하고, 70℃에서 4mol/L 염화수소 아세트산에틸 용액을 5mL 가하여 12시간 동안 가열하고, 천천히 O℃까지 냉각시켰다. 석출된 결정을 여과하고, 에탄올-아세트산에틸 혼합 용매로 결정을 세정한 후, 50℃에서 진공 건조시킴으로써 (-)-(R)-5-[(1-메틸-1H-인돌-3-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸 1염산염 5.45g(수율 86.3%, 99.2%e.e.)를 수득하였다.
FAB-MS(m/z): 280[M+H+]
1H NMR(DMSO-d6, 30℃): δppm(TMS 내부 표준): 1.82-1.95(1H, m), 2.12-2.22(1H, m), 2.66-2.94(4H, m), 3.63-3.72(1H, m), 3.88(3H, s), 7.24(1H, t, J=8.0Hz), 7.30(1H, t, J=8.0Hz), 7.56(1H, d, J=8.0Hz), 8.21(1H, d, J=8.0Hz), 8.53(1H, s), 8.91(1H, s), 14.45(1H, br).
실시예 1 또는 실시예 2에서 수득된 라모세트론을 함유하는 조성물에서의 라모세트론을 100%로 하였을 때의 화합물 A 및 화합물 B의 함유율을 표 1에 기재한다.
또한, 화합물 A 및 화합물 B의 정량은, 다음 조건으로 액체 크로마토그래프법에 의해 실시하고, 피크 면적을 자동 적분법에 의해 측정하였다.
각 화합물의 함유율(%) = A/B
[여기서, A는 시료 중의 각 화합물의 피크 면적이고, B는 라모세트론의 피크 면적이다.]
<시험 조건>
검출기: 자외 흡광 광도계(측정 파장 254nm)
칼럼: 노무라 가가쿠 Develosil C8-5 4.6mm IDX150mm
칼럼 온도: 40℃ 부근의 일정 온도
이동층: 0.05M KH2PO4 수용액(pH 4.0 H3PO4로 조정):MeOH:THF= 8:1:1
유속: 0.82ml/분
상기 조건으로 측정한 결과, 라모세트론, 화합물 A 및 화합물 B의 유지 시간은 실시예 1에서는 각각 약 7.41분, 약 9.45분 및 약 11.91분이고, 실시예 2에서는 약 7.01분, 약 9.00분 및 약 12.46분이었다.
각 화합물의 함유율(%)
실시예 1 실시예 2
화합물 A 0.04 0.63
화합물 B 0.02 0.35
화합물 A 및 화합물 B의 물성치를 이하에 나타낸다.
화합물 A:
LC-ESI: 280[M+H+]
1H-NMR(DMSO-d6, 30℃): δppm(TMS 내부 표준): 1.70-1.83(1H, m), 2.05-2.14(1H, m), 2.49-2.76(4H, m), 3.84(3H, s), 3.86-3.93(1H, m), 6.61(1H, d, J=3.1Hz), 7.43(1H, s), 7.44(1H, d, J=3.1Hz), 7.54(1H, d, J=8.9Hz), 7.83(1H, d, J=8.9Hz), 8.36(1H, s).
화합물 B:
LC-ESI: 280[M+H+]
1H-NMR(DMSO-d6, 30℃): δppm(TMS 내부 표준): 1.72-1.83(1H, m), 2.05-2.12(1H, m), 2.52-2.78(4H, m), 3.89(3H, s), 3.93-4.03(1H, m), 6.52(1H, d, J=3.1Hz), 7.43(1H, s), 7.57(1H, d, J=3.1Hz), 7.64(1H, d, J=8.2Hz), 7.70(1H, dd, J=8.2Hz, J=1.2Hz), 8.20(1H, s).
상술한 바와 같이 본 발명의 제조방법에 의하면, 입체를 유지하여 반응이 진행되기 때문에, 제조가 용이한 (R)-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸-5-카복실산 또는 이의 염으로부터 고수율로 광학 순도가 높은 라모세트론 또는 이의 염을 제조할 수 있다. 또한, 상기 제조방법에 의해 수득된 라모세트론 또는 이의 염을 함유하는 조성물은 항악성 종양제(시스플라틴 등) 투여에 따른 소화기 증상(악심, 구토), 설사형 과민성 장증후군, 과민성 장증후군의 설사 증상 등의 치료제 및/또는 예방제로서 사용할 수 있다.

Claims (8)

  1. 저급 알킬알루미늄 디클로라이드, 디저급 알킬알루미늄 할라이드, 트리저급 알킬알루미늄 및 저급 알킬알루미늄 세스퀴할라이드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 루이스산의 존재하에, 화학식 I 또는 이의 염으로 나타내어지는 화합물과 1-메틸-1H-인돌을 반응시킴을 특징으로 하는, 라모세트론 또는 이의 염의 제조방법.
    화학식 I
    Figure 112007080473283-PCT00006
    위의 화학식 I에서,
    X는 할로겐이다.
  2. (R)-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸-5-카복실산 또는 이의 염을 할로겐화제와 반응시켜 제1항에 따르는 화학식 I의 화합물로 하고, 저급 알킬알루미늄 디할라이드, 디저급 알킬알루미늄 할라이드, 트리저급 알킬알루미늄 및 저급 알킬알루미늄 세스퀴할라이드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 루이스산의 존재하에 1-메틸-1H-인돌과 반응시킴을 특징으로 하는, 라모세트론 또는 이의 염의 제조방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 루이스산이 디에틸알루미늄 클로라이드 또는 에틸알루미늄 세스퀴클로라이드인 제조방법.
  4. 제3항에 있어서, 반응의 용매가 방향족 탄화수소인 제조방법.
  5. 제4항에 있어서, 방향족 탄화수소가 톨루엔인 제조방법.
  6. 제1항에 따르는 제조방법에 의해 제조된 라모세트론 또는 이의 염.
  7. 제2항에 따르는 제조방법에 의해 제조된 라모세트론 또는 이의 염.
  8. 5-[(1-메틸-1H-인돌-5-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸또는 이의 염 및/또는 5-[(1-메틸-1H-인돌-6-일)카보닐]-4,5,6,7-테트라하이드로-1H-벤즈이미다졸 또는 이의 염을 라모세트론 또는 이의 염에 대하여 합계 1% 미만으로 함유함을 특징으로 하는, 라모세트론 또는 이의 염을 함유하는 조성물.
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