KR20070115427A - 수화전자와 다주파를 이용한 폐수처리 장치 및 방법 - Google Patents
수화전자와 다주파를 이용한 폐수처리 장치 및 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (7)
- 고전압 고주파 펄스전원의 인가로 전자 및 라디칼을 방출하는 핀 형태의 전극을 포함하는 활성전자 발생기(120)와;다수의 핀이 구비되고 이에 따른 다수의 판이 부착되어 다량의 고전압 고주파 펄스방식의 전자 및 이온, 라디칼이 토출되고 이를 활성화시키는 수화전자 발생기(110)와;상기 활성전자 발생기(110) 및 수화전자 발생기(120)에서 발생된 이온 및 전자, 라디칼을 폐수내에 버블링시킬 수 있는 순환펌프와 순환관등이 구비된 반응조(130)와;상기 활성전자 발생기(110)에서 출력되는 전자 및 라디칼을 폐수가 순환하는 산기관(180)에 투입하기 위해 활성전자 발생기와 산기관(180) 사이에 접속되는 티(T)자형 벤츄리관(190)과;상기 반응조(130)에 수장되며 반응조의 폐수속에 존재하는 오염물질에 대한 수화전자 및 라디칼의 산화 환원반응에 기여하도록 다주파가 발생되는 다주파동 발생기(140)를 포함하여 구성함을 특징으로 하는 수화전자와 다주파를 이용한 폐수처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 수화전자 발생기(110)는 전기전도도가 높은 금 또는 구리로 이루어진 것을 특징으로 하는 수화전자와 다주파를 이용한 폐수처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 반응조(130)에는 수화전자 발생기(110)에서 출력되는 전자 및 라디칼의 통과가 용이하도록 수화전자 발생기의 출력단에 수화전자 폭기기(150)를 더 설치하여 이루어진 것을 특징으로 하는 수화전자와 다주파를 이용한 폐수처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 반응조(130)에는 활성전자 발생기에서 출력되는 전자 및 라디칼의 통과가 용이하도록 활성전자 발생기의 출력단에 활전전자 폭기기(160)를 다수개 설치하여 이루어진 것을 특징으로 하는 수화전자와 다주파를 이용한 폐수처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 반응조(130)의 후단에는 오염물질을 제거하기 위한 약품을 투입하여 교반하는 반응 응집조(200)와, 교반된 폐수를 침전시켜 슬러지를 제거하는 침전조(300)와, 상기 침전조(300)를 통과한 상등수를 여과처리하는 여과조(400)를 더 연결하여 구성한 것을 특징으로 하는 수화전자와 다주파를 이용한 폐수처리 장치.
- 수화전자 발생기로부터 수화전자 및 이온, 라디칼을 발생시키는 수화전자 발생 단계(S100)와;수화전자 및 라디칼을 폐수가 함유된 반응조로 이송시키는 수화전자 이송단계(S200)와;수화전자 및 이온을 수화전자 폭기기를 이용하여 폐수속에 버블링시키는 폐수 반응 단계(S300)와;수화전자가 활성화되도록 반응조내에 다주파 발생기를 이용하여 다주파를 제공하는 다주파 제공 단계(S400)와;수화전자와 이온 및 라디칼의 산화 환원반응으로 폐수를 정화하는 폐수정화 단계(S500)로 이루어짐을 특징으로 하는 수화전자와 다주파를 이용한 폐수처리 방법.
- 제 6 항에 있어서,펌프를 이용하여 폐수를 자체 순환하는 폐수순환단계(S600)와;순환되는 폐수에 활성전자를 공급하는 활성전자 공급단계(S700)를 더 부가하여 이루어짐을 특징으로 하는 수화전자와 다주파를 이용한 폐수처리 방법.
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KR101051798B1 (ko) * | 2010-11-25 | 2011-07-25 | (주) 엔티스 | 마이크로 버블을 이용한 난분해성 악성 폐수처리장치 |
WO2012157804A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | (주)에이치엠환경 | 고전압 글로우 방전을 이용한 폐수처리 장치 |
WO2012165671A1 (ko) * | 2011-05-30 | 2012-12-06 | (주)에이치엠환경 | 고전압 글로우 방전을 이용한 중수 처리장치 |
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Cited By (6)
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---|---|---|---|---|
KR101027522B1 (ko) * | 2008-09-10 | 2011-04-06 | (주)화인이테크 | 유전체장벽 방전장치를 이용한 폐수처리장치 |
KR101051798B1 (ko) * | 2010-11-25 | 2011-07-25 | (주) 엔티스 | 마이크로 버블을 이용한 난분해성 악성 폐수처리장치 |
WO2012157804A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | (주)에이치엠환경 | 고전압 글로우 방전을 이용한 폐수처리 장치 |
WO2012165671A1 (ko) * | 2011-05-30 | 2012-12-06 | (주)에이치엠환경 | 고전압 글로우 방전을 이용한 중수 처리장치 |
KR101280158B1 (ko) * | 2011-05-30 | 2013-06-28 | 송진우 | 고전압 글로우 방전을 이용한 유청폐수 처리장치 |
WO2018043782A1 (ko) * | 2016-09-01 | 2018-03-08 | 주식회사 그룬 | 생태독성 제거를 위한 하폐수 위해성 물질 저감 장치 및 방법 |
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