KR20070097073A - 2-c-치환된 프로판-1,3-디카보닐 화합물 및 이의 악취중화 용도 - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 악취 중화 화합물 및 이를 함유하는 조성물에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 특정 친전자성 알켄 및 이의 하이드록실- 및 알콕시-부가생성물의 용도에 관한 것이다.
악취는 공기 중에서, 그리고 섬유, 경질 표면, 피부 및 모발과 같은 많은 기재 상에서 접하게 되는 불쾌한 냄새이다. 악취는 개인적 또는 환경적 원인으로 발생한다. 예를 들어, 땀, 소변 및 대변의 악취는 개인적 원인인 반면, 부엌 및 요리 악취는 환경적 원인이다. 개인적 악취는 섬유, 모발, 및 스킨에 쉽게 침착되며, 환경적 악취 또한 이러한 기재 상에 침착되는 성향이 있다.
아민, 티올, 설파이드, 단쇄 지방족 및 올레핀 산, 예를 들어, 지방산은 땀, 가정내 및 환경적 악취에서 발견되고, 이에 기여하는 일반적인 화학물질이다. 이러한 유형의 악취는 일반적으로 화장실 및 동물 냄새에서 발견되는 인돌, 스카 톨(skatole) 및 메탄티올; 소변에서 발견되는 피페리딘 및 모르폴린; 부엌 및 쓰레기 냄새에서 발견되는 피리딘 및 트리에틸 아민; 및 겨드랑이 악취에서 발견되는 3-메틸-3-히드록시헥산산, 3-메틸헥산산 또는 3-메틸-2-헥산산과 같은 단쇄 지방산을 포함한다. 겨드랑이에서 발견된 화합물들은 본원에서 참고로 인용되는 문헌(Xiao-Nong Zeng et al., Journal of Chemical Ecology, Vol. 17, No. 7, 1991 page 1469-1492)에 개시되어 있다.
악취를 중화시키기 위해 여러 방법이 사용되어 왔다. 이들 방법으로는 상쾌한 보다 강한 냄새로 악취를 중첩시킴에 의한 마스킹, 악취 후각 수용체의 차단에 의한 교차 순응(cross-adaptation), 라올트 법칙(Raoult's law)에 따라 음의 편차(negative deviation)을 일으키는 성분과의 혼합에 의한 악취 억제, 다공성 또는 케이지형 구조물에 의한 악취의 흡수에 의한 악취 제거, 및 항균제 및 효소 억제제와 같은 방법에 의한 악취 형성의 회피가 포함된다. 당해 공지된 방법이 특정 악취를 중화시키는 능력을 가지고 있지만, 악취에 대해 훨씬 더 효과적인 추가 화합물이 여전히 요구되고 있다.
놀랍게도, 본 발명자들은 악취를 중화시킬 수 있는 새로운 부류의 화합물을 발견하였다.
따라서, 본 발명의 제 1 양태는 하기 화학식 1의 화합물의 악취 중화제로서의 용도에 관한 것이다:
상기 식에서,
X 및 Y는 독립적으로,
-CR1R2R3(여기에서, R1, R2 및 R3은 독립적으로, H, 탄화수소 잔기, 또는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다);
-NR4R5(여기에서, R4 및 R5는 독립적으로 H 또는 탄화수소 잔기, 바람직하게는 C1-C20 알킬(예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 2-에틸헥실), 또는 C4-C8 시클로알킬(예컨대, 시클로펜틸 및 시클로헥실)이거나; R4와 R5는 이들이 결합되는 질소 원자와 함께 3, 5 또는 6원 고리를 형성하거나; 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다);
-OR6(여기에서, R6는 탄화수소 잔기이고, 바람직하게는 R6은 C1-C20 알킬(예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 2-에틸헥실, 3차-부틸); C3-C8 시클로알킬(예컨대, 시클로부틸, 시클로펜틸 및 시클로헥실); C3-C10 알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐 및 이소부테닐); C6-C10 아릴(예컨대, 페닐 및 나프틸); 또는 C7 내지 C10 알킬아릴(예컨대, 벤질)이거나, R6은 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)로 이루어진 군으로부터 선택된 잔기이고;
A는 H이거나, -COOR7(여기에서, R7은 탄화수소 잔기, 바람직하게는 C1-C5 알킬(메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸 및 3차-부틸); C2-C5 알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐 및 이소부테닐); C6-C10 아릴(예컨대, 페닐 및 나프틸); 또는 C7 내지 C10 알킬아릴(예컨대, 벤질)이거나, 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다);
-C(O)R8(여기에서, R8은 탄화수소 잔기, 바람직하게는 C1-C5 알킬(메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸 및 3차-부틸); C3-C5 알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐 및 이소부테닐); C6-C10 아릴(예컨대, 페닐 및 나프틸); 또는 C7 내지 C10 알킬아릴(예컨대, 벤질)이거나, 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다); 또는
-CR9R10R11(여기에서, R9, R10 및 R11은 독립적으로 H, 탄화수소 잔기, 또는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이고;
B는 H; -CR12R13R14(여기에서, R12, R13 및 R14는 독립적으로 H 또는 탄화수소, 바람직하게는, C1-C20 알킬(예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 2-에틸헥실, 3차-부틸); C3-C8 시클로알킬(예컨대, 시클로부틸, 시클로펜틸 및 시클로헥실); C3-C10 알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐 및 이소부테닐); C6-C10 아릴(예컨대, 페닐 및 나프틸); 또는 C7 내지 C10 알킬아릴(예컨대, 벤질)이다); 또는 -OC(O)R18(여기에서, R18은 H, 또는 탄화수소 잔기이다)이거나, R12, R13 및 R14는 독립적으로 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이고,
이때, 점선은 탄소-탄소 결합과 함께 이중 결합을 나타내거나;
B는 -NR16R17(여기에서, R16 및 R17은 독립적으로 H 또는 탄화수소 잔기, 바람직하게는, C1-C20 알킬(예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 2-에틸헥실, 3차-부틸); C3-C8 시클로알킬(예컨대, 시클로부틸, 시클로펜틸 및 시클로헥실); 또는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다); 또는
-OR15(여기에서, R15는 H, 탄화수소 잔기, 바람직하게는 C1-C20 알킬(예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 2-에틸헥실, 3차-부틸); C3-C8 시클로알킬(예컨대, 시클로부틸, 시클로펜틸 및 시클로헥실); C3-C10 알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐 및 이소부테닐); C6-C10 아릴(예컨대, 페닐 및 나프틸); 또는 C7 내지 C10 알킬아릴(예컨대, 벤질)이다)이거나, R15는 독립적으로 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이고;
이때, 점선은 탄소-탄소 결합과 함께 단일 결합 또는 이중 결합을 나타내고,
단, A 및 B가 동시에 수소는 아니다.
탄소-탄소 결합과 함께 점선이 단일 결합을 나타내는 화학식 1의 화합물은 이의 모든 호변이성질형을 포함한다.
특히 바람직한 화학식 1의 화합물은 X 또는 Y가 식 -CR1R2R3 의 잔기이며, R1, R2 및 R3 가 이들이 결합되는 탄소 원자와 함께 C1-C20 알킬(예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 에틸헥실 및 3차-부틸), 및 0, N, Si, Cl, 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C1-C20 알킬(예컨대, 에톡시에틸, 메톡시에틸, 2-에톡시-2-메틸에틸, 시아노메틸, 아세트아미도에틸, 디에틸아미노카르바모일에틸 및 트리메틸실릴옥시에틸);
C3-C8 시클로알킬(예컨대, 시클로펜틸, 시클로헥실 및 시클로옥틸);
히드록시-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 O, N, Si, Cl 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C3-C8 시클로알킬(예컨대, 옥사시클로프로필 및 테트라히드로푸라닐);
C6-C12 알킬시클로알킬(예컨대, 메틸시클로헥실, 에틸시클로헥실 및 메틸시클로펜틸);
히드록시-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 O, N, Si, Cl 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C6-C12 알킬시클로알킬(예컨대, (4-히드록시)-시클로헥실메틸);
C6-C12 시클로알킬알킬(예컨대, (4-메틸)-시클로헥실 및 2-(2-부틸)-시클로헥실);
히드록시-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 O, N, Si, Cl 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C6-C12 시클로알킬알킬(예컨대, (4-메톡시)-시클로헥실, (2-메톡시)-시클로헥실 및 4-아자시클로헥실);
C2-C10알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐, 이소부테닐);
히드록시-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 O, N, Si, Cl 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C2-C10 알케닐(예컨대, 에틸옥시비닐 및 (2-프로페닐옥시)-에틸);
C2-C10 알키닐(예컨대, 프로피닐);
히드록시-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 O, N, Si, Cl 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C2-C10 알키닐;
C6-C10 아릴(예컨대, 페닐);
C1-C15 알킬 및 C1-C15 알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된 C6-C10 아릴(예컨대, p-메톡시페닐);
C5-C10 헤테로아릴(예컨대, 피리디닐, 푸라닐, 피릴, 이미다졸릴);
C7-C10 알킬아릴(예컨대, 벤질); 및
C1-C15 알킬, C1-C15 알콕시, 아미노, C1-C15 알킬아미노, 및 C2-C30 디알킬아미노로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된 C7-C10 알킬아릴(예컨대, 메톡시벤질, 히드록시벤질, 디히드록시벤질, (2-히드록시-4-메톡시)-벤질 및 (2-히드록시-4-시아노)-벤질)로 이루어진 군으로부터 선택된 잔기를 형성하는 화합물이다.
A가 -CR9R10R11인 화학식 1의 화합물은, R9, R10 및 R11이 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 C1-C20알킬(예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 2-에틸헥실 및 3차-부틸); C4-C8 시클로알킬(예컨대, 시클로펜틸 및 시클로헥실); C3 -C10알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐 및 이소부테닐); C6-C10 아릴(예컨대, 페닐 및 나프틸); 하이드록실, C1-C5 알콕시, 페녹시, 벤질옥시, 아세틸, 벤조일, 아미노, C1-C5 알킬아미노, C1-C5 디알킬아미노, 니트로, 클로로 및 브로모로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기를 갖는 C6-C10 아릴(예컨대, (2-히드록시-5-니트로)페닐, (2-히드록시-5-아세틸) 페닐, (2-히드록시-4-메톡시)페닐, (2-히드록시)페닐 및 (3-에톡시-4-히드록시)페닐); 및 C5-C8 헤테로아릴(예컨대, 피리디닐, 푸라닐, 피릴 및 이미다졸릴)로 이루어진 군으로부터 선택된 탄화수소 잔기를 형성하는 화합물을 포함한다.
B가 -CR12R13R14인 화학식 1의 화합물은, R12, R13 및 R14이 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 C1-C10 알킬(예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 2-에틸헥실, 및 3차-부틸); C4-C8 시클로알킬(예컨대, 시클로펜틸 및 시클로헥실); C3-C10알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐 및 이소부테닐); 및 C6-C10 아릴(예컨대, 페닐 또는 나프틸)로 이루어진 선택된 탄화수소 잔기를 형성하는 화합물을 포함한다.
또한, 바람직한 화합물은 A가 -CR9R10R11이고, B가 수소 또는 -CR12R13R14인 화합물, 및 A가 -COOR7 또는 -C(O)R8이고, B가 수소 또는 -CR12R13R14, -NR16R17, 및 -OR15로 이루어진 군으로부터 선택된 잔기인 화합물이다.
B가 -NR16R17이고, R16 과 R17의 탄소 원자의 합이 10 초과인 화학식 1의 화합물이 바람직하다.
특히 바람직한 화학식 1의 화합물은 구체적으로 실시예 1 내지 34에 기술된 화합물이다.
또한, 바람직한 화학식 1의 화합물은
2-(3,7-디메틸-옥타-2,6-디에닐리덴)-말론산 디에틸 에스터;
3-옥틸리덴-펜탄-2,4-디온;
2-피리딘-2-일메틸렌-말론산 디에틸 에스터;
2-옥틸리덴-말론산 디메틸 에스터;
2-에톡시카보닐-부트-2-에네디오산 디에틸 에스터;
2-아세틸-펜트-2-에노산 에틸 에스터;
2-옥틸리덴-말론산 디에틸 에스터;
2-데실리덴-말론산 디에틸 에스터;
2-아세틸-데크-2-에노산 에틸 에스터;
2-(2-히드록시-벤질리덴)-1-페닐-부탄-1,3-디온;
2-(2-히드록시-벤질리덴)-말론산 디에틸 에스터;
3-(2-히드록시-벤질리덴)-펜탄-2,4-디온;
3-(2-히드록시-4-메톡시-벤질리덴)-펜탄-2,4-디온;
2-(2-히드록시-벤질리덴)-3-옥소-부티르산 에틸 에스터;
2-에톡시카보닐-옥시메틸렌-말론산 디에틸 에스터; 및
2-아세톡시메틸렌-말론산 디에틸 에스터로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물이다.
본 발명자들은, 본 발명에 따른 화합물이 -SH, -NHR 또는 -NH2 로부터 선택된 작용기를 포함하는 악취 화합물을 상기 기와의 화학 반응에 의해 중화시키므로써 악취를 중화시킬 수 있음을 발견하였다. 또한, 본 발명의 화합물은 화학 반응에 의해 암모니아와 반응할 수 있다. 탄소-탄소 결합과 함께 점선이 이중 결합을 나타내는 화학식 1의 화합물에 의한 악취 화합물의 중화는 친전자성 이중 결합에 상기 작용기가 부가되어 일어나는 반면, 탄소-탄소 결합과 함께 점선이 단일 결합을 나타내는 화학식 1의 화합물에 의한 악취 화합물의 중화는 제거/부가 메카니즘을 통해 일어나는 것으로 여겨진다.
또한, 놀랍게도 화학식 1의 특정 화합물이 카르복실기를 함유하는 악취 화합물, 예컨대, 3-메틸헥산산을 중화시키는 것으로 밝혀졌다.
화학식 1의 화합물은, 실시예에서 예시된 바와 같이, 특히 수성 환경에서 악취 화합물에 대해 디헥실푸마레이트(DHF)에 비해 훨씬 더 활성인 것으로 밝혀졌다. 따라서, DHF로부터 수득되는 것과 유사한 악취 감소를 달성하는 데 훨씬 적은 농도의 본 발명의 화합물이 필요하다. 디헥실푸마레이트는 오랫 동안 악취 반작용제로서 사용되어 왔으며, 이에 따라 비교예로서 선택되었다.
용어 "활성"은 악취 화합물의 상부공간(headspace) 농도의 감소율(%)을 의미한다. 상부공간은 실시예에서 보다 자세히 기술되는 바와 같이 GC-MS에 의한 시험 샘플의 상부공간의 정해진 용적을 측정함으로써 분석된다.
본 발명에 따른 화합물은, 이 화합물을 소비재에 직접 혼합하므로써, 또는 화학식 1의 화합물을 포함하는 조성물, 예를 들어, 방향제와 같은 추가의 성분을 함유하는 알코올계 또는 수용액을 혼합한 후, 통상의 기술 및 방법을 사용하여 소비재에 혼합시키므로써 광범위한 소비재에 혼입될 수 있다. 따라서, 본 발명은 추가로 활성 성분으로서 화학식 1의 화합물을 포함하는 조성물을 제조하는 방법을 제공한다. 추가로, 활성 성분으로서 상기 화합물을 포함하는 소비재를 제조하는 방법을 제공한다.
효과적인 악취 중화에 요구되는 본 발명의 화합물의 양은 이러한 화합물이 혼입되는 제품의 유형에 따른다. 추가로 습도 및 pH와 같은 주위 조건에 따른다. 예를 들어, 방취 스프레이 또는 실내 방취 스프레이에 사용될 경우, 이러한 제품은 본 발명의 화합물을 최종 제품의 약 0.01 내지 약 10% wt/wt, 바람직하게는 약 0.1 내지 약 1% wt/wt로 포함할 것이다. 실내 방취 필터 장치, 즉 조리실 후드에 사용될 경우, 상기 화합물의 양은 필터 중량의 약 0.1% 내지 약 20% wt/wt 범위일 수 있다. 따라서, 본 발명의 한 양태는 화학식 1의 화합물 또는 이의 혼합물을 약 0.01 내지 약 20중량%로 포함하는 소비재에 관한 것이다.
본 발명의 추가 양태는 피부, 모발 또는 섬유과 같은 기재에 악취 중화 효과를 부여하는 방법으로서, 기재에 화학식 1의 화합물을 포함하는 소비재를 접촉시키는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 화학식 1의 화합물을 포함하는 소비재를 한정된 공간, 예를 들어, 방, 벽장, 장롱 및 서랍에 분산시키는 방법을 포함한다. 이 방법은 화학식 1의 화합물을 소비재에 혼입시키고, 효과적인 양의 소비재를 상기 공간에 예컨데, 분무, 분사 및/또는 휘발에 의해 분산시키는 것을 포함한다.
본원에서 사용되는 "소비재"는 예를 들어, 방취제, 발한방지제, 피부 크림 및 로션을 포함하는 화장품, 샴푸, 향수, 및 치약, 공기 청정기, 표면 세제, 세제,섬유 컨디셔너, 섬유 헹굼 컨디셔너와 같은 제품 및 의류, 가구, 커튼, 카펫 및 흡수성 물질에 사용되는 제품을 포함하는 가정용 위생(home care) 및 섬유 위생(fabric care) 제품을 포함한다.
본원에서 사용되는 화장품은 세정, 미화, 매력 증진을 위해 또는 기능상 인체 구조에 영향을 미치지 않고 외관을 변화시키기 위해 인체에 사용되는 물품을 나타낸다.
흡수 물질은 고양이 오물통에 까는 재료(cat litter) 및 필터와 같은 물품을 포함한다. 특정 구체예에서, 용어 "필터"는 예를 들어, 부엌, 연회장(ballroom), 휴지통, 자동차 및 냉장고에서의 악취를 감소시키기 위한 장치의 일부로서 사용되는 임의 부류의 필터를 나타낸다. 이러한 장치는 조리실 후드, 진공 청소기 및 고양이 오물 상자를 포함한다.
소비재는 예를 들어, 붓기 또는 분무에 의해 표면에 적용하기 위한 액체; 고체, 예컨대 분말 또는 컴팩트 파우더(compact powder)의 형태, 또는 양초의 형태; 또는 겔과 같은 반고체의 형태로 존재할 수 있다.
몇몇 화합물은 문헌에 개시되어 있지만, 그외는 개시되어 있지 않으므로, 신규하다. 따라서, 본 발명의 또 다른 양태는, 하기 화학식 1a의 화합물을 제공한다:
상기 식에서,
X 및 Y는 상기 정의된 바와 같으며,
A는 -COOR7(여기에서, R7은 탄화수소 잔기, 바람직하게는 C1-C5 알킬(메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸 및 3차-부틸); C2-C5 알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐 및 이소부테닐); C6-C10 아릴(예컨대, 페닐 및 나프틸); 또는 C7 내지 C10 알킬아릴(예컨대, 벤질)이거나, 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이거나,
A는 -C(O)R8(여기에서, R8은 탄화수소 잔기, 바람직하게는 C1-C5 알킬(메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸 및 3차-부틸); C3-C5 알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐 및 이소부테닐); C6-C10 아릴(예컨대, 페닐 및 나프틸); 또는 C7 내지 C10 알킬아릴(예컨대, 벤질)이거나, 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이고;
B는 -NR16R17(여기에서, R16 및 R17은 독립적으로 H 또는 탄화수소 잔기이거나, R16 및 R17은 독립적으로 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이거나,
B는 -OR15(여기에서, R15는 H, 탄화수소 잔기, 바람직하게는 C1-C20 알킬(예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 2-에틸헥실, 3차-부틸); C3-C8 시클로알킬(예컨대, 시클로부틸, 시클로펜틸 및 시클로헥실); C3-C10 알케닐(예컨대, 프로페닐, 이소프로페닐 및 이소부테닐); C6-C10 아릴(예컨대, 페닐 및 나프틸); 또는 C7 내지 C10 알킬아릴(예컨대, 벤질)이다)이거나, R15는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이고;
점선은 탄소-탄소 결합과 함께 단일 결합을 나타내고,
단, X 및 Y가 에톡시인 경우, B는 메톡시가 아니고,
X가 에톡시이고 Y가 메틸인 경우, B는 메톡시 또는 에톡시가 아니다.
특정 구체예의 화합물은 A가 -COOC2H5이고, B가 하이드록실 또는 -O-C2H5인 화학식 1a의 화합물, 예를 들어, 3-아세틸-2-히드록시-4-옥소-펜탄산 에틸 에스터; 2-아세틸-3-히드록시-숙신산 디에틸 에스터; 2-벤조일-3-히드록시-숙신산 디에틸 에스터; 2-아세틸-3-히드록시-숙신산 4-에틸 에스터 1-(2-메톡시-에틸) 에스터; 3-벤조일-2-에톡시-4-옥소-펜탄산 에틸 에스터; 2-부티릴-3-에톡시-숙신산 디에틸 에스터; 및 2-벤조일-3-에톡시-숙신산 디에틸 에스터이다.
본 발명의 추가의 양태는 하기 화학식 1b의 화합물을 제공한다:
상기 식에서,
X 및 Y는 상기 정의된 바와 같으며,
A는 n-헵틸, -COOC2H5, 및 -CH2-CH(CH)3-(CH2)2-CH=CH(CH3)2로 이루어진 군으로부터 선택되고;
B는 수소이고,
점선은 탄소-탄소 결합과 함께 이중 결합을 나타내고,
단, X 및 Y가 메틸 또는 메톡시인 경우, A는 -COOC2H5가 아니고,
X 및 Y가 메틸, 메톡시 또는 에톡시인 경우, A는 n-헵틸이 아니고,
X가 메틸이고 Y가 에톡시인 경우, A는 n-헵틸이 아니다.
특정 구체예에서, 화학식 1b의 화합물은 2-벤조일-데크-2-에노산 에틸 에스터; 2-아세틸-5,9-디메틸-데카-2,8-디에노산 에틸 에스터; 2-아세틸-데크-2-에노산 2-(2-메톡시-에톡시)-에틸 에스터; 1-(4-tert-부틸페닐)-3-(4-메톡시-페닐)-2-옥틸리덴-프로판-1,3-디온; 2-옥틸리덴-말론산 디벤질 에스터; 2-카르바모일-데크-2-에노산 메틸 에스터; 2-부티릴-부트-2-에네디오산 디에틸 에스터; 2-아세틸-부트-2-에네디오산 1-벤질 에스터 4-에틸 에스터; 2-아세틸-부트-2-에네디오산 4-에틸 에스터 l-(2-메톡시-에틸) 에스터; 3-카르바모일-4-옥소-펜트-2-에노산 에틸 에스터; 2-(2,2-디메틸-프로피오닐)-부트-2-에네디오산 4-에틸 에스터 1-메틸 에스터; 2-펜트-4-이노일-부트-2-에네디오산 4-에틸 에스터 1-메틸 에스터; 4-에틸 1-(2-(트리메틸실릴)에틸)-2-아세틸 말레에이트; 에틸-4-시클로헥실-4-옥소-3-아세틸-부트-2-에노에이트; 에틸 3-((트리메틸실릴)메틸카르바모일)-4-옥소펜트-2-에노에이트; 에틸-4-(4-메틸시클로헥실)-4-옥소-3-아세틸-부트-2-에노에이트; 및 1-(2-(디메틸아미노)에틸)4-에틸 2-아세틸말레에이트로 이루어진 군으로부터 선택된다.
화학식 1에서, 점선이 탄소-탄소 결합과 함께 이중 결합을 나타내고, A가 -CR9R10R11이고, B 가 수소인 화합물은 크뇌베나겔(Knoevenagel) 축합으로서 공지된, 하기 반응식 1에 기재된 바와 같이, 하기 화학식 d의 알데히드를 하기 화학식 e의 디카보닐 화합물과 축합시키므로써 제조될 수 있다. 축합은 바람직하게는 소량(일반적으로 0.1 내지 5몰%)의 고리형 아민, 예컨대 피페리딘 또는 피롤리딘의 존재 하에서 수행될 수 있다.
화학식 1에서, 점선이 탄소-탄소 결합과 함께 이중 결합을 나타내고, A가 -CR9R10R11이고, B 가 -CR12R13R14인 화합물은 예를 들어, 문헌(Tetrahedron 1973, 29, 635-638 (W. Lehnert))에 기술된 바와 같이 화학식 R9R10R11C-C(O)-CR12R13R14 의 케톤을 TiCl4와 같은 루이스 산의 존재하에서 화학식 e의 디카보닐 화합물과 축합시키므로써 제조될 수 있다.
유사하게, 화학식 1에서, 점선이 탄소-탄소 결합과 함께 이중 결합을 나타내고, A가 -COOR7 또는 -C(O)R8을 나타내고, B가 -CR12R13R14인 화합물은 예를 들어, 문헌(Tetrahedron 1972, 28, 663-666 (W. Lehnert))에 기술된 바와 같이 화학식 R7OOC-C(O)-CR12R13R14의 케토에스터 또는 화학식 R8(O)C-C(O)-CR12R13R14의 α-디케톤을 TiCl4와 같은 루이스 산의 존재하에서 화학식 e의 디카보닐 화합물과 축합시키므로써 제조될 수 있다.
화학식 1에서, 점선이 탄소-탄소 결합과 함께 단일 결합을 나타내고, A가 -COOR7를 나타내고, B가 -OH인 화합물은 하기 반응식 2에 기재되는 바와 같이, 소 량(일반적으로 0.1 내지 5몰%)의 고리형 아민, 예컨대 피페리딘 또는 피롤리딘의 존재 하에서, 하기 화학식 d'의 글리옥살레이트에 하기 화학식 e의 디카보닐 화합물을 부가시킴으로써 제조될 수 있다.
유사하게, 화학식 1에서, 점선이 탄소-탄소 결합과 함께 단일 결합을 나타내고, A가 -C(O)R8을 나타내고, B가 -OH인 화합물은 하기 반응식 3에 기재되는 바와 같이, 소량(일반적으로 0.1 내지 5몰%)의 고리형 아민, 예컨대 피페리딘 또는 피롤리딘의 존재 하에서, 식 R8(O)C-CHO의 알킬글리옥살에 하기 화학식 e의 디카보닐 화합물을 부가시킴으로써 제조될 수 있다.
화학식 1에서, 점선이 탄소-탄소 결합과 함께 단일 결합을 나타내고, A가 -COOR7을 나타내고, B가 H인 화합물은 하기 반응식 4에 기재되는 바와 같이, 화학식 d'e의 화합물로부터 출발하여, 톨루엔 또는 시클로헥산과 같은 물-공비 형성 유기 용매를 사용하여 p-톨루엔설폰산과 같은 산성 촉매(일반적으로 0.1 내지 5몰%)의 존재 하에서 물의 공비적 제거에 의해 제조될 수 있다.
상기 반응식 2에 기재된 첨가 단계 및 반응식 3에 기재된 탈수 단계는 동일 반응 용기에서 연속해서 수행될 수 있다. 이러한 경우에, 탈수 단계에 첨가되는 산성 촉매의 몰량은 첨가 단계에 촉매작용하는 고리형 아민의 양을 0.1몰% 이상 초과해야 한다.
화학식 1에서, 점선이 탄소-탄소 결합과 함께 이중 결합을 나타내고, A가 -C(O)R8을 나타내고, B가 H인 화합물은 상기 d'e' 타입의 화합물 제조에 대해 기술된 바와 유사한 방식으로 제조될 수 있다.
화학식 1에서, 점선이 탄소-탄소 결합과 함께 단일 결합을 나타내고, A가 -COOR7을 나타내고, B가 -OR15를 나타내는 화합물은 하기 반응식 5에 기재되는 바와 같이, HOR15을 상기 d'e' 타입의 화합물과, 바람직하게는 50 내지 150℃의 온도에서 반응시키므로써 제조될 수 있다. 이러한 화합물은 또한 상기 d'e 타입의 화합물을 HOR15와 직접 반응시키므로써 제조될 수 있다. 이러한 반응은 첨가 단계가 종료된 후 간단히 과량의 HOR15을 첨가하고, 형성된 용액을 50 내지 150℃로 가열시키므로써 화합물(d'e)을 수득하는 반응과 동일한 반응 용기에서 수행될 수 있다.
화학식 1에서, B가 -NR16R17 인 화합물은 상기 d'e" 타입의 화합물 제조에 대해 기술된 공정과 유사하게 HNR16R17의 반응에 의해 제조될 수 있다.
화학식 1에서, 점선이 탄소-탄소 결합과 함께 이중 결합을 나타내고, A가 H이고, B가 -OH 또는 -OC(O)R18인 화합물은 하기 반응식 6에 기재되는 바와 같이, 화학식(e)의 디카보닐 화합물을 나트륨 메톡시드와 같은 염기의 존재하에서 에틸포메 이트 또는 메틸포메이트와 반응시킨 후, 식 ClC(O)R18의 아실 클로라이드로 아실화시킴으로써 제조될 수 있다.
유사하게, 화학식 1에서, 점선이 탄소-탄소 결합과 함께 이중 결합을 나타내고, A가 -CR9R10R11이고, B가 -OH 또는 -OC(O)R18인 화합물은 ClC(O)OC2H5를 사용하여 상기 ef 타입의 화합물을 제조하기 위한 공정에 따라 제조될 수 있다.
이제, 본 발명은 하기 비제한적 실시예를 참조로 추가로 기술될 것이다.
이들 실시예는 단지 예시를 목적으로 하며, 본 발명의 범주에서 출발하지 않더라도 당업자들에 의해 변경 및 변형이 이루어질 수 있는 것으로 이해해야 한다. 기술된 구체예는 단지 대안으로가 아니라 병합될 수 있다.
실시예 1: 2-벤조일-데크-2-에노산 에틸 에스터
피페리딘 (0.10 ml, 0.5 mol%)을 5℃에서 옥타날 (25.6 g, 0.20 mol)과 에틸 벤조일아세테이트(38.4 g, 0.20 mol)의 혼합물에 첨가하였다. 형성되는 용액을 실온으로 가온시키고, 24시간 동안 교반하였으며, 이 기간 동안 미세 에멀젼이 형성되었다. 이 혼합물을 메틸 t-부틸 에테르로 희석하고, 유기층을 2N HCl 수용액, 물 및 염수로 세척한 다음, MgSO4 로 건조시켰다.
용매를 진공 하에서 제거하고, 잔뮬을 증류시켜 E/Z-혼합물로서, 129-135℃ /0.1mbar에서 비등하는, 18.0g(38%)의 생성물을 수득하였다. 이 화합물은 무취 오일이었다.
13C-NMR (CHCl13, 100 MHz; 주 이성질체): 194.5 (s), 164.6 (s), 148.6 (d), 137.2 (s), 133.7 (d), 133.6 (s), 129.0 (d), 128.8 (d), 61.0 (t), 31.6 (t), 29.5 (t), 29.1 (t), 28.8 (t), 28.3 (t), 22.5 (t), 14. (q), 13.9 (q).
MS (EI, 70 eV): 302 (<1, M+), 257 (2), 217 (10), 199 (15), 186 (15), 171 (4), 157 (13), 105 (100).
실시예
2-7
실시예 1의 일반적인 공정에 따라, 모두가 무색 오일(다르게 명시되지 않는 한)이고, 실질적으로 무취인 하기 화합물을 제조하였다:
(*) 크로마토그래피에 의해 정제됨
(**) 수득된 생성물은 약 15%의 2-(1-히드록시-에틸리덴)-데크-3-에노산 2-(2-메톡시-에톡시)-에틸 에스터를 함유하였다. 출발 물질인 3-옥소-부티르산 2-(2-메톡시-에톡시)-에틸 에스터를 하기와 같이 제조하였다:
에틸 아세토아세테이트 (39.0 g, 0.30 mol) 및 디에틸렌글리콜 모노메틸 에테르 (36.0 g, 0.30 mol)를 110℃ (오일조 온도)로 가열하고, 테트라이소프로필 오로토티타네이트(0.60 ml, 2.0 mmol, 0.7 mol%)를 첨가하였다. 온도를 추가로 150℃로 증가시켰다. 30분 후, 메탄올(5 g)을 증류시키고 수거하였다. 이 온도를 추가의 8시간 동안 유지하면서 장치내 압력을 800 mbar로 낮추었다. 실온으로 냉각시킨 후, 잔류물을 65-120℃/0.06mbar에서 증류시켜 약 10%의 디에틸렌글리콜 모노메틸 에테르를 함유하는 30.5 g의 생성물을 분리하였다(수율 44%).
13C-NMR(CHC13, 100 MHz): 200.4 (s), 167.0 (s), 89.9 (d), 71.8 (t), 70.4 (t), 68.8 (t), 64.2 (t), 59.0 (q), 50.0 (t), 30.0 (q).
MS (El, 70 eV): 302 (<1, M+), 257 (2), 217 (10), 199 (15), 186 (15), 171 (4), 157 (13), 105 (100).
실시예 8: 2-아세틸-3-히드록시-숙신산 4-에틸 에스터 1-(2-메톡시-에틸) 에스터
에틸 글리옥실레이트(톨루엔 중의 50%, 40.84g, 0.20mol)와 2-메톡시 아세토아세테이트의 혼합물을 5℃로 냉각시키고, 피페리딘(0.10ml, 1.0mmol, 0.5mol%)로 처리하였다. 혼합물을 서서히 실온으로 가온시키고, 1시간 동안 교반하였다. 이후, 메틸 t-부틸 에테르로 희석하고, 유기층을 2N HCl 수용액 및 염수로 세척하였다. MgSO4 로 건조시킨 후, 용매를 진공 하에서 제거하고, 잔류물을 실리카 겔 상에서 크로마토그래피에 의해 정제하여 17.41g의 2-아세틸-3-히드록시-숙신산 4-에틸 에스터 1-(2-메톡시-에틸) 에스터를 무색 및 무취의 오일로서 수득하였다 (33% 수율). 생성물은 2개의 부분입체이성질체의 혼합물로 구성되었다.
13C-NMR (CHC13, 100MHz, 둘 모두 부분입체이성질체): 201.7, 201.0 (s), 171.8, 171.8 (s), 167.6, 167.5 (s), 70.0, 69.9 (t), 69.7, 69.2 (d), 64.5, 64.4 (t), 62.1, 62.1 (t), 61.8, 61.7 (d), 58.8, 58.8 (q), 29.9, 29.8 (q), 13.9, 13.9 (q).
MS (El, 70eV): 263 (<1, [M+1]+), 245(<1), 219 (6), 189 (36), 147 (45), 85 (39), 71(43), 58 (65), 43 (100).
실시예 9-14
실시예 8의 일반적인 공정에 따라, 모두가 무색 오일이고, 실질적으로 무취인 하기 화합물을 제조하였다:
실시예
16: 2-
부티릴
-
부트
-2-
에네디오산
디에틸
에스터
시클로헥산 중의 2-부티릴-3-히드록시-숙신산 디에틸 에스터 (10.0 g, 38.5 mmol) 및 p-톨루엔설폰산(0.20g)의 용액을 딘-스탁(Dean-Stark) 장치에서 3시간 동안 환류 하에 가열하였다. 이 용액을 실온으로 냉각시키고, 시클로헥산으로 희석하고, 물, 희석된 NaHCO3 수용액 및 염수로 세척하였다. 유기층을 MgSO4 상에서 건조시키고, 진공 하에 농축시켰다. 잔류물을 0.1mbar에서 190-200℃의 오븐 온도에서 벌브-투-벌브(bulb-to-bulb) 증류시켜 무색이고 사실상 무취인 오일로서 생성물을 수득하였다(7.20 g, 77% 수율).
13C-NMR(CHC13, 100 MHz): 202.2 (s), 195.9 (s), 165.5 (s), 164.1 (s), 164.0 (s), 162.9 (s), 147.2 (s), 144.5 (s), 128.4(d), 127.7(d), 62.3 (t), 62.0 (t), 61.7 (t), 61.7 (t), 44.6 (t), 41.2(t), 16.9 (t), 16.3 (t), 14.0 (q), 13.9 (q), 13.9 (q), 13.5 (q), 13.5 (q).
MS (El, 70eV): 197 (11, [M-OEt]+), 169 (28), 143 (100), 125 (29), 71 (37).
실시예
17-22
실시예 16의 일반적인 공정에 따라, 모두가 무색 오일이고, 실질적으로 무취인 하기 화합물을 제조하였다:
실시예 23: 2-아세틸-3-메톡시-숙신산 디에틸 에스터
에탄올(20ml) 중의, 실시예 14에 기술된 공정에 따라 제조된 3-아세틸-4-옥소-펜트-2-에노산 에틸 에스터(3.0g, 16.3mmol)의 용액을 20시간 동안 환류 하에 가열하였다. 용매를 진공 하에 제거하고, 잔류물을 실리카 겔 상에서 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 생성물이 무색이고, 사실상 무취인 오일로서 분리되었다(2.35g, 63% 수율).
13C-NMR (CHCl3, 100MHz; 주 이성질체): 201.2 (s), 200.4 (s), 170.4 (s), 108.7 (s, 엔올형), 77.5 (d), 69.9 (d), 67.3 (t), 61.5 (t), 30.6 (q) , 29. 8 (q), 23.8 (q), 15.1 (q), 15.0 (q), 14.1 (q), 14.0 (q).
MS (El, 70eV): 197 (11, [M-OEt]+), 169 (28), 143 (100), 125 (29), 71(37).
실시예
24-27
실시예 23의 일반적인 공정에 따라, 모두가 무색 오일이고, 실질적으로 무취 인 하기 화합물을 제조하였다:
실시예 29: 프로필 메르캅탄의 중화
23x75mm -상부공간 바이알에 디메틸설폭사이드/H2O 1:1 중의 시험 화합물 4mM 용액의 0.25ml를 충전하였다. 0.25ml의 디메틸설폭사이드/H2O 1:1를 함유하는 블랭크 샘플을 3개의 시험 샘플마다 제조하였다. 바이알을 고무 격벽을 함유하는 20mm-알루미늄 시일(seal)로 밀봉하였다. 15분 간격(이는 1회 GC-분석 수행 시간임)으로, 디메틸설폭사이드/H2O 1:1 중의 4mM 프로필 메르캅탄 용액 0.25ml를 캐뉼라를 통해 각 샘플에 첨가하였다. 이 샘플을 3시간 동안 실온에서 방치한 후, GC-MS 장치에 연결된 상부공간 자동 샘플러를 사용하여 상부공간을 분석하였다. 샘플당 상부공간의 250㎕가 주입되었다. 프로필 메르캅탄의 피크 면적(MS-이온 전류법)을 블랭크 샘플로부터의 평균 값과 비교하여 상부공간 농도의 감소를 계산하였다. 이 결과를 하기 표 1에 기재내었다.
실시예
30: 수성 환경에서의 사람 땀의 중화
두개의 챔버 샘플을 도 1에 도시된 바와 같이 준비하였다. 이는 외측 용기로서 실시예 26에 기술된 상부공간 바이알(1') 및 내측 용기로서 표준 HPLC-자동 샘플러 바이알(2')로 구성된다. 시험 화합물(5.0μmol)을 비스코스(viscose) 필터(3')(CH2Cl2-용액으로 적용되고 증발되게 함) 상에 흡수시켰다. 3-메틸 헥산산(23 mM)과 3-메트캅토-1-부탄올(17 mM)의 수용액 100㎕를 내측 바이알(2')의 바닥에 넣었다. 필터(3')를 포함하는 스크류 캡을 HPLC-바이알(2') 상에서 단단히 조이고, 이는 상부공간 바이알(1')내에 위치시켰다. 상부공간 바이알을 고무 격벽(5')을 포함하는 알루미늄 시일로 밀봉하였다. 상기 기술된 바와 같이 내측 바이알에 빈 필터(3'), 3-메틸 헥산산 및 3-메트캅토-1-부탄올을 함유하는 블랭크 샘플을 제조하였다(3개의 시험 샘플당 블랭크 하나). 샘플을 35℃에서 16시간 동안 방치한 후, 실시예 26에 기술된 바와 같이 상부공간 분석을 실시하였다.
악취 화합물(3-메틸 헥산산 및 3-메르캅토-1-부탄올)이 필터를 통해 외측 용적(6')으로 확산하였다. 이에 따라 필터(3') 상에 적용된 화학식 1의 화합물(중화 물질)이 블랭크 샘플과 비교하여 외측 용적내 땀냄새의 상부공간 농도를 감소시킬 것이다. 본 발명의 여러 화합물에 대해 관찰된 상부공간 농도 감소율을 표 2에 나타내었다.
실시예
31: 땀냄새 재구성 물질에 대한 후각 평가
에놀계 겨드랑이 악취 재구성 물질 용액을 lcm x 1cm 면 조각(100㎕, 0.1% wt/wt)에 묻힌 후, 50㎕의 시험 화합물(에탄올 중의 1% 용액)을 상기 악취 처리된 조각에 투여하였다. 악취 강도는 평가인 20명의 전문 패널에 의해 LMS(labelled magnitude scale)으로 등급화하였다. 이후, 이 결과를 시험 화합물을 첨가하지 않은 조각의 악취에 대한 감소율(%)로 나타내었다. 그 결과를 하기 표 3에 제시하였다.
상기 실험은 대부분의 화합물이 겨드랑이 악취 감소에 있어서 디헥실푸마레이트(DHF)보다 훨씬 더 효과적이거나 적어도 유사하게 효과적이었음을 보여준다.
실시예
32:
또한, 본 발명의 하기 화합물이 실시예 1의 일반적인 공정에 따라 제조될 수 있다:
실시예 33:
또한, 본 발명의 하기 화합물이 실시예 8의 일반적인 공정에 따라 제조될 수 있다:
실시예 34:
또한, 본 발명의 하기 화합물이 실시예 15의 일반적인 공정에 따라 제조될 수 있다:
Claims (20)
- 하기 화학식 1의 화합물의 악취 중화제로서의 용도:상기 식에서,X 및 Y는 독립적으로,-CR1R2R3(여기에서, R1, R2 및 R3은 독립적으로, H, 탄화수소 잔기, 또는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다);-NR4R5(여기에서, R4 및 R5는 독립적으로 H 또는 탄화수소 잔기이거나; R4 및 R5는 이들이 결합되는 질소 원자와 함께 3, 5 또는 6원 고리를 형성하거나; R4 및 R5는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하 는 탄화수소 잔기이다);-OR6(여기에서, R6는 탄화수소 잔기이거나, R6는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)로 이루어진 군으로부터 선택된 잔기이고;A는 H; -COOR7(여기에서, R7은 탄화수소 잔기이거나, R7는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다);-C(O)R8(여기에서, R8은 탄화수소 잔기이거나, R8은 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다); 또는-CR9R10R11(여기에서, R9, R10 및 R11 은 독립적으로 H, 탄화수소 잔기, 또는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이고;B는 H; -CR12R13R14(여기에서, R12, R13 및 R14는 독립적으로 H 또는 탄화수소 잔기이거나, R12, R13 및 R14는 독립적으로 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스 터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다); 또는-OC(O)R18(여기에서, R18은 H 또는 탄화수소 잔기이다)이고,이때, 점선은 탄소-탄소 결합과 함께 이중 결합을 나타내거나;B는 -NR16R17(여기에서, R16 및 R17은 독립적으로 H 또는 탄화수소 잔기이거나, R16 및 R17은 독립적으로 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다); 또는-OR15(여기에서, R15는 H, 탄화수소 잔기이거나, R15는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이고;이때, 점선은 탄소-탄소 결합과 함께 단일 결합 또는 이중 결합을 나타내고,단, A 및 B가 동시에 수소는 아니다.
- 제 1 항에 있어서,X가 식 -CR1R2R3의 잔기이고, 여기에서 R1, R2 및 R3가 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께C1-C20 알킬;0, N, Si, Cl, 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C1-C20 알킬;C3-C8 시클로알킬;히드록시-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 O, N, Si, Cl 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C3-C8 시클로알킬;C6-C12 알킬시클로알킬;히드록시-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 O, N, Si, Cl 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C6-C12 알킬시클로알킬;C6-C12 시클로알킬알킬;히드록시-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 O, N, Si, Cl 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C6-C12 시클로알킬알킬;C2-C10 알케닐;히드록시-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 O, N, Si, Cl 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C2-C10 알케닐;C2-C10 알키닐;히드록시-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 O, N, Si, Cl 및 Br로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 C2-C10 알키닐;C6-C10 아릴;C1-C15 알킬 및 C1-C15 알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된 C6-C10 아릴;C5-C10 헤테로아릴;C7-C10 알킬아릴; 및C1-C15 알킬, C1-C15 알콕시, 아미노, C1-C15 알킬아미노, 및 C2-C30 디알킬아미노로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된 C7-C10 알킬아릴로 이루어진 군으로부터 선택된 잔기를 형성하는 화학식 1의 화합물의 용도.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,A가 H, C1-C9 알킬, -COOC2H5, -C(O)CH3 및 -COOCH2Ph로 이루어진 군으로부터 선택되는, 화학식 1의 화합물의 용도.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,A가 -CR9R10R11이고, 여기에서 R9, R10 및 R11가 이들이 결합되는 탄소와 함께 하이드 록실, C1-C5 알콕시, 아세틸 및 아미노로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기를 갖는 C6-C10 아릴을 형성하거나, A가 -CR9R10R11이고, 여기에서, R9, R10 및 R11가 이들이 결합되는 탄소와 함께 C5-C8 헤테로아릴을 형성하는 화학식 1의 화합물의 용도.
- 제 1 항에 있어서,A가 -CR9R10R11이고, 여기에서, R9, R10 및 R11은 이들이 결합되는 탄소와 함께 피리딘을 형성하는, 화학식 1의 화합물의 용도.
- 제 1 항에 있어서,B가 H, 하이드록실, -O-C2H5, -O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-C2H5, -O-C(O)CH3 또는 -O-C(O)C2H5인, 화학식 1의 화합물의 용도.
- 제 1 항에 있어서,2-(3,7-디메틸-옥타-2,6-디에닐리덴)-말론산 디에틸 에스터;3-옥틸리덴-펜탄-2,4-디온;2-피리딘-2-일메틸렌-말론산 디에틸 에스터;2-옥틸리덴-말론산 디메틸 에스터;2-에톡시카보닐-부트-2-에네디오산 디에틸 에스터;2-아세틸-펜트-2-에노산 에틸 에스터;2-옥틸리덴-말론산 디에틸 에스터;2-데실리덴-말론산 디에틸 에스터;2-아세틸-데크-2-에노산 에틸 에스터;2-(2-히드록시-벤질리덴)-1-페닐-부탄-1,3-디온;2-(2-히드록시-벤질리덴)-말론산 디에틸 에스터;3-(2-히드록시-벤질리덴)-펜탄-2,4-디온;3-(2-히드록시-4-메톡시-벤질리덴)-펜탄-2,4-디온;2-(2-히드록시-벤질리덴)-3-옥소-부티르산 에틸 에스터;2-에톡시카보닐옥시메틸렌-말론산 디에틸 에스터;2-아세톡시메틸렌-말론산 디에틸 에스터;2-벤조일-데크-2-에노산 에틸 에스터;2-아세틸-5,9-디메틸-데카-2,8-디에노산 에틸 에스터;2-아세틸-데크-2-에노산 2-(2-메톡시-에톡시)-에틸 에스터;1-(4-tert -부틸-페닐)-3-(4-메톡시-페닐)-2-옥틸리덴-프로판-1,3-디온;2-옥틸리덴-말론산 디벤질 에스터;2-카르바모일-데크-2-에노산 메틸 에스터;3-(3-에톡시-4-히드록시-벤질리덴)-펜탄-2,4-디온;2-아세틸-3-히드록시-숙신산 4-에틸 에스터 1-(2-메톡시-에틸) 에스터;3-아세틸-2-히드록시-4-옥소-펜탄산 에틸 에스터;2-아세틸-3-히드록시-숙신산 디에틸 에스터;2-벤조일-3-히드록시-숙신산 디에틸 에스터;2-부티릴-3-히드록시-숙신산 디에틸 에스터;2-아세틸-3-히드록시-숙신산 1-3차-부틸 에스터 4-에틸 에스터;2-(2,2-디메틸-프로피오닐)-3-히드록시-숙신산 4-에틸 에스터 1-메틸 에스터;2-아세틸-3-히드록시-숙신산 4-에틸 에스터 1-(2-메톡시-에틸) 에스터;2-부티릴-부트-2-에네디오산 디에틸 에스터;2-아세틸-부트-2-에네디오산 1-벤질 에스터 4-에틸 에스터;2-아세틸-부트-2-에네디오산 4-에틸 에스터 1-(2-메톡시-에틸) 에스터;3-카르바모일-4-옥소-펜트-2-에노산 에틸 에스터;2-(2,2-디메틸-프로피오일)-부트-2-에네디오산 4-에틸 에스터 1-메틸 에스터;2-펜트-4-이노일-부트-2-에네디오산 4-에틸 에스터 1-메틸 에스터;2-아세틸-3-메톡시-숙신산 디에틸 에스터;3-벤조일-2-에톡시-4-옥소-펜탄산 에틸 에스터;2-부티릴-3-에톡시-숙신산 디에틸 에스터;2-벤조일-3-에톡시-숙신산 디에틸 에스터;2-아세틸-3-[2-(2-에톡시-에톡시)-에톡시]-숙신산 디에틸 에스터;3-아세틸-2-에톡시-4-옥소-펜탄산 에틸 에스터;2-프로필리덴-1-(피리딘-4-일)부탄-1,3-디온;2-에틸리덴-1-(1H-이미다졸-5-일)부탄-1,3-디온;3-(2-히드록시-5-니트로벤질리덴)펜탄-2,4-디온;3-(2-히드록시-5-아세틸벤질리덴)펜탄-2,4-디온;에틸-2-히드록시-4-(1H-이미다졸-4-일)-3-아세틸-4-옥소부타노에이트;4-에틸 1-(2-(트리메틸실릴)에틸)-2-아세틸말레에이트;에틸-4-시클로헥실-4-옥소-3-아세틸-부트-2-에노에이트;에틸 3-((트리메틸실릴)메틸카르바모일)-4-옥소펜트-2-에노에이트;에틸-4-(4-메틸시클로헥실)-4-옥소-3-아세틸-부트-2-에노에이트;1-(2-(디메틸아미노)에틸) 4-에틸 2-아세틸말레에이트;벤질 3-아세틸-4-옥소펜트-2-에노에이트; 및4-아세틸-9-메틸데카-3,8-디엔-2,5-디온으로 이루어진 군으로부터 선택된, 화학식 1의 화합물의 용도.
- 제 1 항 내지 제7 항 중의 어느 한 항에 따른 화학식 1의 화합물을 악취 중화제로서 포함하는 소비재.
- 제 8 항에 있어서,소비재가 화장품, 가정용 위생(home care) 제품 및 섬유 위생(fabric care) 제품으로 이루어진 군으로부터 선택되는 소비재.
- 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,제 1 항 내지 제 7 항 중의 어느 한 항에 따른 화학식 1의 화합물 또는 이의 혼합물을 약 0.01 내지 약 20중량% 포함하는 소비재.
- 제 8 항 내지 제 10 항 중의 어느 한 항에 따른 소비재를 기재에 접촉시키는 것을 포함하는, 기재에 악취 중화 효과를 부여하는 방법.
- 제 11 항에 있어서,기재가 섬유, 경질 표면, 피부 및 모발로 이루어진 군으로부터 선택되는, 방법.
- (a) 소비재에 화학식 1의 화합물을 혼입시키고,(b) 유효량의 소비재를 공간내로 분산시키는 것을 포함하는, 소비재의 공간내 분산방법.
- 제 13 항에 있어서,소비재가 가정용 위생 제품인 방법.
- 하기 화학식 1a의 화합물:상기 식에서,X 및 Y는 독립적으로,-CR1R2R3(여기에서, R1, R2 및 R3은 독립적으로, H, 탄화수소 잔기, 또는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다);-NR4R5(여기에서, R4 및 R5는 독립적으로 H 또는 탄화수소 잔기이거나; R4 및 R5는 이들이 결합되는 질소 원자와 함께 3, 5 또는 6원 고리를 형성하거나; R4 및 R5는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다); 및-OR6(여기에서, R6는 탄화수소 잔기이거나, R6는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)로 이루어진 군으로부터 선택된 잔기이고;A는 -COOR7(여기에서, R7은 탄화수소 잔기이거나, R7은 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이거나;A는 -C(O)R8(여기에서, R8은 탄화수소 잔기이거나, R8은 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이고;B는 -NR16R17(여기에서, R16 및 R17은 독립적으로 H 또는 탄화수소 잔기이거나, R16 및 R17은 독립적으로 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이거나;B는 -OR15(여기에서, R15는 H 또는 탄화수소 잔기이거나, R15는 독립적으로 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)이고;점선은 탄소-탄소 결합과 함께 단일 결합을 나타내고,단, X 및 Y가 에톡시인 경우, B는 메톡시가 아니고,X가 에톡시이고 Y가 메틸인 경우, B는 메톡시 또는 에톡시가 아니다.
- 제 15 항에 있어서,A가 -COOC2H5인 화합물.
- 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,B가 하이드록실 또는 -O-C2H5인 화합물.
- 제 15 항에 있어서,3-아세틸-2-히드록시-4-옥소-펜탄산 에틸 에스터; 2-아세틸-3-히드록시-숙신산 디에틸 에스터; 2-벤조일-3-히드록시-숙신산 디에틸 에스터; 2-아세틸-3-히드록시-숙신산 4-에틸 에스터 1-(2-메톡시-에틸) 에스터; 3-벤조일-2-에톡시-4-옥소-펜탄산 에틸 에스터; 2-부티릴-3-에톡시-숙신산 디에틸 에스터; 및 2-벤조일-3-에톡시-숙신산 디에틸 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물.
- 하기 화학식 1b의 화합물:상기 식에서,X 및 Y는 독립적으로,-CR1R2R3(여기에서, R1, R2, 및 R3은 독립적으로, H, 탄화수소 잔기, 또는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다);-NR4R5(여기에서, R4 및 R5는 독립적으로 H, 탄화수소 잔기이거나; R4와 R5는 이들이 결합되는 질소 원자와 함께 3, 5 또는 6원 고리를 형성하거나; R4 및 R5는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다); 및-OR6(여기에서, R6는 탄화수소 잔기이거나, R6는 하이드록실-, 카보닐-, 에테르- 또는 에스터기를 형성하는 산소, 질소, 규소, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 탄화수소 잔기이다)로 이루어진 군으로부터 선택된 잔기이고;A는 n-헵틸, -COOC2H5, 및 -CH2-CH(CH)3-(CH2)2-CH=CH(CH3)2로 이루어진 군으로부터 선택되고;B는 수소이고,점선은 탄소-탄소 결합과 함께 이중 결합을 나타내고,단, X 및 Y가 메틸 또는 메톡시인 경우, A는 -COOC2H5가 아니고,X 및 Y가 메틸, 메톡시 또는 에톡시인 경우, A는 n-헵틸이 아니고,X가 메틸이고 Y가 에톡시인 경우, A는 n-헵틸이 아니다.
- 제 19 항에 있어서,2-벤조일-데크-2-에노산 에틸 에스터;2-아세틸-5,9-디메틸-데카-2,8-디에노산 에틸 에스터;2-아세틸-데크-2-에노산 2-(2-메톡시-에톡시)-에틸 에스터;1-(4-tert -부틸-페닐)-3-(4-메톡시-페닐)-2-옥틸리덴-프로판-1,3-디온;2-옥틸리덴-말론산 디벤질 에스터;2-카르바모일-데크-2-에노산 메틸 에스터;2-부티릴-부트-2-에네디오산 디에틸 에스터;2-아세틸-부트-2-에네디오산 1-벤질 에스터 4-에틸 에스터;2-아세틸-부트-2-에네디오산 4-에틸 에스터 l-(2-메톡시-에틸) 에스터;3-카르바모일-4-옥소-펜트-2-에노산 에틸 에스터;2-(2,2-디메틸-프로피오닐)-부트-2-에네디오산 4-에틸 에스터 1-메틸 에스터;2-펜트-4-이노일-부트-2-에네디오산 4-에틸 에스터 1-메틸 에스터;4-에틸 1-(2-(트리메틸실릴)에틸)-2-아세틸 말레에이트;에틸-4-시클로헥실-4-옥소-3-아세틸-부트-2-에노에이트;에틸 3-((트리메틸실릴)메틸카르바모일)-4-옥소펜트-2-에노에이트;에틸-4-(4-메틸시클로헥실)-4-옥소-3-아세틸-부트-2-에노에이트; 및1-(2-(디메틸아미노)에틸)4-에틸 2-아세틸말레에이트로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물.
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