KR20070060243A - 액정표시장치의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 액정표시장치의 제조방법은 기판 상에 게이트 배선, 게이트 전극 및 게이트 패드를 형성하는 단계, 상기 게이트 전극을 포함한 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 상기 게이트 전극 상부의 게이트 절연막 상에 반도체층을 형성하는 단계, 상기 게이트 배선에 수직교차하는 데이터 배선을 형성하고, 동시에 소스/드레인 전극 및 데이터 패드를 형성하는 단계, 상기 데이터 배선을 포함한 전면에 보호막을 형성하는 단계, 상기 보호막을 포함한 기판 전면에 오버코트층을 형성하는 단계, 상기 오버코트층을 패터닝하여 오버코트층 패턴을 형성하되, 상기 오버코트층 패턴은 오버코트층 잔존영역이 정의될 영역에 형성된 상기 오버코트층은 일부 두께만 잔존되도록 형성하는 단계, 상기 오버코트층 패턴을 마스크로 하여 상기 오버코트층, 보호막, 게이트 절연막을 선택적으로 제거하여 콘택홀, 제1 및 제2 패드오픈영역을 형성하면서 동시에 오버코트층 잔존영역을 정의하는 단계 및 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 접속하는 화소전극 및 상기 제1, 제2 패드오픈영역을 통해 상기 게이트 패드 및 데이터 패드와 접속하는 제1 및 제2 투명도전막을 형성하는 단계를 포함한다.
오버코트층, 포토 아크릴

Description

액정표시장치의 제조방법{Method of manufacturing Liquid Crystal Display Device}
도 1은 일반적인 액정표시장치의 평면도
도 2a 내지 도 2d는 종래 기술에 따른 액정표시장치의 제작과정을 나타낸 공정단면도
도 3a 내지 도 3g는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제작과정을 나타낸 공정단면도
<도면의 주요부분에 대한 부호설명>
511: 기판 512a: 게이트전극
513: 게이트 절연막 514: 반도체층
515a: 소스전극 515b: 드레인전극
516: 보호막 517: 화소전극
518: 콘택홀 522: 게이트 패드
525: 데이터 패드 534: 블랙매트릭스층
536a: 오버코트층 536b: 오버코트층 패턴
540: 씨일재
528, 538: 제1, 제2 패드오픈영역
527, 537: 제1, 제2 투명도전막
본 발명은 액정표시장치(LCD ; Liquid CrysTal Display Device)의 제조방법에 관한 것으로, 특히 하나의 기판 위에 컬러필터 어레이와 TFT 어레이를 동시에 형성하는 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.
평판표시장치로서 최근 각광받고 있는 액정표시장치는 콘트라스트(contrast) 비가 크고, 계조 표시나 동화상 표시에 적합하며 전력소비가 작다는 장점 때문에 활발한 연구가 이루어지고 있다.
특히, 얇은 두께로 제작될 수 있어 장차 벽걸이 TV와 같은 초박형 표시장치로 사용될 수 있을 뿐만 아니라, 무게가 가볍고, 전력소비도 CRT 브라운관에 비해 상당히 적어 배터리로 동작하는 노트북 컴퓨터의 디스플레이로 사용되는 등, 차세대 표시장치로서 각광을 받고 있다.
이러한 액정표시장치는 일반적으로, 게이트 배선 및 데이터 배선에 의해 정의된 각 화소 영역에 박막트랜지스터(TFT:Thin Film Transistor)와 화소전극이 형성된 박막 어레이 기판과, 컬러 필터층과 공통전극이 형성된 컬러필터 어레이 기판이 서로 대향되도록 배치되고, 그 사이에 유전 이방성을 갖는 액정이 형성되는 구조를 가져, 화소 선택용 어드레스(address) 배선을 통해 수십 만개의 화소에 부가된 TFT를 스위칭 동작시켜 해당 화소에 전압을 인가해 주는 방식으로 구동된다.
이때 상기 컬러필터 어레이 기판과 박막 어레이 기판은 에폭시 수지와 같은 시일재에 의해 합착되며, PCB(Printed Circuit Board) 상의 구동회로는 TCP(Tape Carrier Package)를 통해 박막트랜지스터 어레이 기판에 연결된다.
구체적으로, 상기 박막트랜지스터 어레이 기판(11)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 액티브 영역(60)과 패드부 영역(61)으로 구분되는 바, 상기 액티브 영역(60)의 유리 기판 상에는 복수 개의 게이트 배선(12) 및 데이터 배선(15)이 교차 형성되고, 상기 게이트 배선(12)과 데이터 배선(15)의 교차 부위에는 스위칭 소자로서 박막트랜지스터(TFT : Thin Film Transistor, 도시하지 않음)가 형성된다.
그리고, 패드부 영역(61)에는 게이트 드라이버의 게이트 구동신호를 상기 각 게이트 배선(12)에 인가하기 위해 상기 게이트 배선(12)에서 연장 형성된 복수 개의 게이트 패드(22)와, 데이터 드라이버의 데이터 신호를 상기 각 데이터 배선(15)에 인가하기 위해 상기 데이터 배선(15)에서 연장 형성된 복수 개의 데이터 패드(25)가 형성되어 각각 외부 구동회로와 전기적 신호를 인터페이싱한다.
즉, 액정표시장치를 구동하기 위해서는 상기의 게이트 패드(22) 및 데이터 패드(25)를 오픈하여 구동신호를 공급하는 구동회로와 접속시키는데, 상기 구동회로에서 공급하는 데이터 입력신호를 자체의 제어신호에 따라 분리하여 각 화소에 전달한다.
그러나, 최근 박막트랜지스터 어레이 기판과 컬러필터 어레이 기판의 미스-얼라인(miss-align)에 의해 빛샘이 발생하는데, 이는 개구율이 현저히 떨어지는 요인으로 작용한다. 따라서, 상기와 같은 문제점을 방지하기 위해 하나의 기판 위에 컬러필터 어레이와 박막트랜지스터 어레이를 동시에 형성하는 TOC(TFT On Color Filter)형 또는 COT(Color Filter On TFT)형의 액정표시장치가 도입되었다.
이하에서는, 첨부된 도면을 참조로 상기 COT형 액정표시장치의 제조방법에 대해 구체적으로 살펴보기로 한다.
도 2a 내지 도 2d는 종래 기술에 의한 COT형 액정표시장치의 제작과정을 나타낸 공정단면도이다.
우선, 도 2a에 도시된 바와 같이, 투명 유리기판(111) 상에 저저항 금속 물질을 스퍼터링 방법으로 증착한 후 패터닝하여 게이트 배선(도시하지 않음), 게이트 전극(112a), 게이트 패드(122)를 형성한다.
다음, 상기 게이트 전극(112a)을 포함한 전면에 무기 절연물질인 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx)등을 증착하여 게이트 절연막(113)을 형성한다.
이후, 상기 게이트 절연막(113) 상에 비정질 실리콘 및 저저항 금속층을 차례로 적층한 후 일괄적으로 패터닝하여 반도체층(114), 데이터 배선(도시하지 않음), 소스/드레인 전극(115a, 115b) 및 데이터 패드(125)를 형성한다.
이때, 도면에는 도시하지 않았으나 하프톤 마스크를 사용하여 반도체층(114) 및 데이터 배선, 소스/드레인 전극(115a, 115b) 및 데이터 패드(125)를 형성한다.
따라서, 데이터 배선 및 데이터 패드(125) 하층에도 반도체층(114)이 존재하게 된다. 물론, 하프톤 마스크를 사용하지 않고 반도체층을 패터닝한 다음, 그 위에 금속층을 증착하고 패터닝하여 데이터 배선, 소스/드레인 전극 및 데이터 패드 를 형성할 수도 있다.
이상의 과정으로 형성된 액티브 영역의 게이트 전극(112a), 게이트 절연막(113), 반도체층(114), 소스/드레인 전극(115a,115b)의 적층막이 박막트랜지스터를 구성한다.
계속하여, 상기 소스/드레인 전극(115a,115b)을 포함한 전면에 무기 절연물질을 증착하여 보호막(116)을 형성한다.
이후, 상기 보호막(116) 상부에 카본(carbon) 계통의 불투명한 유기물질을 도포하고, 사진식각기술로 패터닝하여 화소영역을 제외한 부분에 블랙 매트릭스(134)를 형성한다.
그리고, 상기 블랙 매트릭스(134) 상부에 감광 특성의 컬러 레지스트를 도포하고 마스크를 이용하여 광을 조사한 후 현상액을 작용시켜 원하는 패턴을 형성함으로써 각 화소영역에 R,G,B의 컬러필터층(135)을 완성한다.
이때, 상기 블랙 매트릭스(134) 및 컬러필터층(135)은 액티브 영역에만 한정하여 형성한다.
이와 같이 하나의 기판 상에 박막트랜지스터, 블랙 매트릭스(134) 및 컬러필터층(135)을 동시에 형성하게 되므로, 대향기판에는 별도의 블랙 매트릭스나 컬러필터층을 형성하지 않아도 된다.
이어서, 도 2b에 도시된 바와 같이, 컬러필터층(135)까지 형성된 기판(111) 전면에 BCB(Benzocyclobutene), 포토 아크릴 등의 유기 절연물질을 도포하여 오버코트층(136)을 형성한다. 상기 오버코트층(136)은 표면 평탄화 및 고개구율을 위해 형성하는 것으로, 막질 역할과 포토 레지스트의 역할을 동시에 수행하며, COT형 액정표시장치에서는 필수적으로 요구되는 구성요소이다.
이어서, 상기 보호막(116), 게이트 절연막(113) 및 블랙 매트릭스층(134)을 패터닝하여 상기 드레인전극(115b)이 노출되는 콘택홀(118)을 형성하면서 동시에 상기 게이트 패드(122) 및 데이터 패드(125) 상부의 오버코트층(136) 및 보호막(116) 또는 게이트 절연막(113)을 패터닝하여 제1 ,제2 패드오픈영역(128,138)을 형성한다. 이때, 하부 금속층인 게이트 패드(122) 및 데이터 패드(125)가 에칭 스토퍼로 작용한다.
그리고, 도 2c에 도시된 바와 같이, 제1, 제2 패드 오픈영역(128, 138)이 형성된 오버코트층(136)을 패터닝하여, 오버코트층 잔존영역을 정의한다.
상기 오버코트층 잔존영역은 이후 형성될 시일재 바깥쪽의 비표시영역을 제외한 시일재 안쪽의 화상표시영역을 일컫는데, 상기 영역에만 오버코트층이 잔존해야 한다.
이후, 도 2d에 도시된 바와 같이, 상기 콘택홀(118) 및 제 1 ,제 2 패드오픈영역(128,138)을 통해서 상기 드레인 전극(115b), 게이트 패드(122) 및 데이터 패드(125)와 각각 접속하도록, 상기 보호막(116) 상에 투명한 도전 물질을 증착하고 패터닝하여 각 화소영역에 화소전극(117)을 형성함과 동시에, 각 게이트 패드 및 데이터 패드에 제1 ,제2 투명도전막(127,137)을 형성한다.
마지막으로, 액정표시장치의 액티브 영역과 패드 영역 사이의 경계면에 접착제 역할을 하는 시일제(140)를 형성한 후, 상기 기판(111)에 다른 기판(도시하지 않음)을 대향합착시키고 그 사이에 액정을 주입하면 액정표시장치를 완성하게 된다.
그러나, 상기와 같은 종래 기술에 의한 액정표시장치 및 그 제조방법은 다음과 같은 문제점이 있다.
상기 콘택홀(118), 제1 및 제2 패드오픈영역(128, 138) 형성 공정을 위한 마스크와 상기 표시영역에만 오버코트층이 잔존하도록 비표시영역의 상기 오버코트층 을 제거하기 위한 마스크가 각각 사용되어, 공정단계의 축소 및 원가절감에 한계를 갖게 된다.
따라서 제조 공정을 단순화하여 제조 단가를 줄일 수 있는 방안이 요구된다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 콘택홀, 제1 및 제2 패드 오픈영역 형성 공정 및 오버코트층 잔존영역을 정의하는 공정이 동시에 진행될 수 있는 마스크를 형성함으로써 공정의 간소화 및 원가절감이 가능한 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정표시장치의 제조방법은 기판 상에 게이트 배선, 게이트 전극 및 게이트 패드를 형성하는 단계, 상기 게이트 전극을 포함한 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 상기 게이트 전극 상부의 게이트 절연막 상에 반도체층을 형성하는 단계, 상기 게이트 배선에 수직교차하는 데이터 배선을 형성하고, 동시에 소스/드레인 전극 및 데이터 패드를 형성하는 단계, 상기 데이터 배선을 포함한 전면에 보호막을 형성하는 단계, 상기 보호막을 포함한 기판 전면에 오버코트층을 형성하는 단계, 상기 오버코트층을 패터닝하여 오버코트층 패턴을 형성하되, 상기 오버코트층 패턴은 콘택홀, 제1 및 제2 패드오픈영역이 정의될 영역의 상기 오버코트층은 제거되고, 오버코트층 잔존영역이 정의될 영역에 형성된 상기 오버코트층은 일부 두께만 잔존되도록 형성하는 단계, 상기 오버코트층 패턴을 마스크로 하여 상기 오버코트층, 보호막, 게이트 절연막을 선택적으로 제거하여 콘택홀, 제1 및 제2 패드오픈영역을 형성하면서 동시에 오버코트층 잔존영역을 정의하는 단계 및 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 접속하는 화소전극 및 상기 제1, 제2 패드오픈영역을 통해 상기 게이트 패드 및 데이터 패드와 접속하는 제1 및 제2 투명도전막을 형성하는 단계를 포함한다.
상기 오버코트층 패턴은 상기 오버코트층에 회절 마스크를 정렬한 후 노광 및 현상공정을 수행하여 형성한다. 이때, 상기 회절 마스크는 상기 콘택홀 및 상기 제1 및 제2 패드오픈영역에 대응되는 투과부, 상기 오버코트층 잔존영역에 대응되는 차단부 및 상기 오버코트층 잔존영역을 제외한 영역에 대응되는 회절부를 포함한다.
상기 오버코트층은 포토 아크릴물질과 같은 감광특성을 가진 유기절연물질로 형성한다.
상기 보호막은 무기 절연물질로 형성한다.
상기 보호막을 형성하는 단계 이후에, 상기 보호막 상부의 소정 부위에 블랙매트릭스 및 컬러필터층을 형성하는 단계를 더 포함한다.
상기 오버코트층 잔존영역은 비표시영역을 제외한 화면표시영역으로 정의한다.
상기와 같은 특징을 갖는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법을 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 3a 내지 도 3g는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제작과정을 나타낸 공정단면도이다.
우선, 도 3a에 도시된 바와 같이, 투명하고 절연내압이 높은 기판(511) 상에 신호지연의 방지를 위해서 15μΩcm-1 이하의 낮은 비저항을 가지는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd : Aluminum Neodymium), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴-텅스텐(MoW) 등의 저저항 금속 물질을 스퍼터링 방법으로 증착하고 포토식각기술로 패터닝하여 게이트 배선(도시하지 않음), 게이트 전극(512a), 게이트 패드(522)를 형성한다.
다음, 상기 게이트 전극(512a)을 포함한 전면에 절연 내압 특성이 좋은 무기 절연물질인 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx) 등을 플라즈마 강화형 화학 증기 증착 방법으로 증착하여 2000Å 두께의 게이트 절연막(513)을 형성한다.
이후, 도 3b에 도시된 바와 같이, 이후, 상기 게이트 절연막(513) 상에 비정질 실리콘(Amorphous Silicon;a-Si:H)을 SiH4 와 H2 혼합가스를 이용한 플라즈마 화학기상증착 방법으로 증착하고, 그 위에, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd : Aluminum Neodymium), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴-텅스텐(MoW) 등의 저저항 금속 물질을 적층한 뒤, 하프톤 마스크등을 이용한 사진식각기술로 일괄적으로 패터닝하여 반도체층(514), 데이터 배선(도시하지 않음), 소스/드레인 전극(515a,515b) 및 데이터 패드(525)를 형성한다.
이때, 반도체층(514)을 먼저 형성한 다음, 그 위에 금속층을 증착하고 패터닝하여 데이터 배선, 소스/드레인 전극(515a,515b) 및 데이터 패드(525)를 형성할 수도 있다. 즉, 상기 반도체층(514)과 데이터 배선층을 상기와 같이 동시에 형성할 수도 있으나, 서로 다른 공정에서 별도로 진행하여도 무방하다.
이상의 액티브 영역의 게이트 전극(512a), 반도체층(514), 소스/드레인 전극(515a,515b)의 적층막이 박막트랜지스터(TFT)를 구성한다.
계속하여, 도 3c에 도시된 바와 같이, 상기 박막트랜지스터(TFT)를 포함한 전면에 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx) 등의 무기 절연물질을 증착하여 보호막(516)을 형성한다.
이후, 도 3d에 도시된 바와 같이, 상기 보호막(516) 상부에 카본(carbon) 계통의 불투명한 유기물질을 도포하고, 사진식각기술로 패터닝하여 화소영역을 제외한 부분에 블랙 매트릭스(534)를 형성한다.
여기서, 상기 블랙 매트릭스(534)는 단위 화소 가장자리와 박막트랜지스터(TFT)가 형성되는 영역에 상응되도록 형성하여 전계가 불안한 영역에서의 빛샘을 차광한다.
그리고, 상기 블랙 매트릭스(534) 상부에 감광 특성의 컬러 레지스트를 도포하고 마스크를 이용하여 광을 조사한 후 현상액을 작용시켜 원하는 패턴을 형성함 으로써 각 화소영역에 R,G,B의 컬러필터층(535)을 완성한다.
이때, 상기 블랙 매트릭스(534) 및 컬러필터층(535)은 액티브 영역에만 한정하여 형성한다.
다음으로, 컬러필터층(535)을 포함한 전면에 표면 평탄화를 위하여 오버코트층(536a)을 도포한다. 상기 오버코트층(536a)은 포토 아크릴 등의 감광 특성을 가진 유기 절연물질을 사용하여 스핀(spin)법, 롤 코팅(roll coating)법 등으로 도포한다. 이때, 상기 오버코트층(536a)은 막질 역할과 PR(Photo Resist) 역할을 동시에 수행하게 된다.
이어서, 도 3e에 도시된 바와 같이, 상기 오버코트층(536a) 상에 회절마스크(M)를 정렬한다.
상기 회절 마스크(M)에는 광을 차단시키는 차단부(M1)와, 광의 일부분은 투과시키고 일부분은 차단시키는 복수의 슬릿으로 이루어진 회절부(M3)와, 광을 모두 통과시키는 투과부(M2)로 구성되어 있다.
상기 회절마스크(M)의 투과부(M2)는 콘택홀(518) 및 제 1 ,제2 패드오픈영역(528,538)이 형성될 영역에 위치되고, 회절부(M3)는 오버코트층이 제거되어야 하는 영역 즉, 이후 형성될 시일재 바깥쪽의 비표시영역에 위치되고, 상기 차단부(M1)는 오버코트층의 잔존영역 즉, 이후 형성될 시일재 바깥쪽의 비표시영역을 제외한 시일재 안쪽의 표시영역에 위치된다.
즉, 회절마스크의 회절부(M3)는 상기 슬릿들이 형성된 영역을 통해 조사되는 노광량은 빛을 모두 투과시키는 투과부(M2)에 조사된 노광량보다 적기 때문에, 포 토레지스트역할을 수행하는 오버코트층(536a)을 도포한 후 상기 포토레지스트에 부분적으로 회절부(M3) 및 투과부(M2)가 구비된 회절마스크를 사용하여 노광 및 현상하게 되면, 회절부(M3)에 남아있는 포토레지스트의 두께와 차단부(M1)에 남아있는 포토레지스트의 두께가 다르게 형성된다. 즉, 투과부(M2)를 통해 빛이 조사된 부분의 오버코트층은 모두 제거되고 회절부(M3)를 통해 빛이 조사된 오버코트층은 약1/2 정도의 두께가 남고 차단부(M1)에 상응하는 부분의 오버코트층은 그대로 남게 된다.
상술한 방법으로, 상기 회절마스크(M)를 이용하여 오버코트층(536a)을 노광 및 현상하여 오버코트층 패턴(536b)을 형성한다. 이와 같이 형성된 상기 오버코트층 패턴(536b) 중에서, 회절 마스크(M)의 투과부(M2)에 대응되는 영역에는 오버코트층이 제거되어 패드부 영역들에서는 보호막(516)이 노출되고 액티브 영역에는 블랙매트릭스층(534)이 노출된다. 그리고, 회절부(M1)에 대응되는 영역에는 오버코트층의 원래 두께의 10~ 50%정도가 남게 되며, 차단부(M1)에 대응되는 영역에는 원래 두께에 해당되는 오버코트층이 남게 된다.
이어서, 도 3f에 도시된 바와 같이, 상기 오버코트층 패턴(536b)을 마스크로 상기 블랙매트릭스층(534), 보호막(516) 및 게이트절연막(513)을 건식식각하여 상기 액티브영역에 콘택홀(518)을 형성함과 동시에 각 패드부영역에 제1, 제2 패드오픈 영역(528,538)을 형성한다. 그후, 상기 오버코트층 패턴(536b)을 에싱하여 10~ 50% 정도 두께로 남은 오버코트층을 제거한다. 따라서 상기 회절부(M2)에 상응하는 상기 각 패드부영역의 오버코트층 패턴(536b)이 완전히 제거된다.
다시 말해, 상기 액티브영역에 형성된 오버코트층 패턴(536b)을 마스크로 하여 블랙매트릭스층(534), 보호막(516)을 건식 식각하면 드레인전극(515b)을 노출하는 콘택홀(518)을 형성하고, 상기 게이트 패드부영역 및 데이터 패드부영역에 형성된 오버코트층 패턴(536b)을 마스크로 하여 보호막(516) 또는 게이트 절연막(513)을 건식식각하면 게이트 패드(522) 또는 데이터 패드(525)를 노출하는 제1, 제2 패드오픈영역(528,538)을 형성한다. 더불어, 상기 오버코트층에 수행되는 에싱공정으로 인해 상기 10~ 50% 정도 두께로 남은 오버코트층 또한 완전히 제거되어 상기 오버코트층 잔존영역을 정의한다.
상기 오버코트층 잔존영역은 이후 형성될 시일재 바깥쪽의 비표시영역을 제외한 시일재 안쪽의 표시영역을 일컫는데, 오버코트층은 상기 오버코트층 잔존영역에만 형성되어야 한다.
따라서, 상기 오버코트층 패턴(536b)은 콘택홀, 제1, 제2 패드오픈영역의 형성공정 및 오버코트층의 잔존영역 정의공정을 동시에 진행할 수 있도록 함으로써, 상기 홀 형성공정 및 상기 오버코트층 잔존영역 정의공정 각각에 사용되는 두 개의 마스크 제작시 발생된 문제가 해결되어 공정 단계의 축소 및 원가절감을 갖게 된다.
다음, 도 3g에 도시된 바와 같이, 상기 오버코트층(536)을 포함한 전면에 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide) 등의 투명도전물질을 증착하고 패터닝하여, 화소전극(517) 및 제1 ,제2 투명도전막(527,537)을 동시에 형성한다.
상기 화소 전극(517)은 상기 콘택홀(518)을 통해 상기 드레인 전극(515b)에 접속시키고, 상기 제 1 ,제 2 투명 도전막(527,537)은 상기 제 1 ,제 2 패드오픈영역(528,538)을 통해서 상기 게이트 패드(522) 및 데이터 패드(525)에 각각 접속시킨다.
마지막으로, 패드부 영역의 상기 오버코트층 잔존영역 이외의 영역상에 접착제 역할을 하는 시일재(540)를 형성한 후, 상기 기판(511)에 유리기판(도시하지 않음)을 대향합착시키고 그 사이에 액정층을 형성하여 액정표시장치를 완성한다.
본 발명에 의하면, 하나의 마스크를 통해 상기 콘택홀, 제1, 제2 패드오픈영역의 형성공정 및 상기 오버코트층의 잔존영역 정의공정이 동시에 진행함으로써, 공정 단계의 축소 및 원가절감을 갖게 되는 효과가 있다.

Claims (8)

  1. 기판 상에 게이트 배선, 게이트 전극 및 게이트 패드를 형성하는 단계;
    상기 게이트 전극을 포함한 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계;
    상기 게이트 전극 상부의 게이트 절연막 상에 반도체층을 형성하는 단계;
    상기 게이트 절연막 상에 데이터 배선을 형성하고, 동시에 소스/드레인 전극 및 데이터 패드를 형성하는 단계;
    상기 데이터 배선을 포함한 전면에 보호막을 형성하는 단계;
    상기 보호막을 포함한 기판 전면에 오버코트층을 형성하는 단계;
    상기 오버코트층을 패터닝하여 오버코트층 패턴을 형성하되, 상기 오버코트층 패턴은 콘택홀, 제1 및 제2 패드오픈영역이 정의될 영역의 상기 오버코트층은 제거되고, 오버코트층 잔존영역이 정의될 영역에 형성된 상기 오버코트층은 일부 두께만 잔존되도록 형성하는 단계;
    상기 오버코트층 패턴을 마스크로 하여 상기 오버코트층, 보호막, 게이트 절연막을 선택적으로 제거하여 콘택홀, 제1 및 제2 패드오픈영역을 형성하면서 동시에 오버코트층 잔존영역을 정의하는 단계; 및
    상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 접속하는 화소전극 및 상기 제1, 제2 패드오픈영역을 통해 상기 게이트 패드 및 데이터 패드와 접속하는 제1 및 제2 투명도전막을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치의 제조방법.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 오버코트층 패턴은
    상기 오버코트층에 회절 마스크를 정렬한 후 노광 및 현상공정을 수행하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  3. 제2 항에 있어서, 상기 회절 마스크는
    상기 콘택홀 및 상기 제1 및 제2 패드오픈영역에 대응되는 투과부;
    상기 오버코트층 잔존영역에 대응되는 차단부; 및
    상기 오버코트층 잔존영역을 제외한 영역에 대응되는 회절부를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  4. 제1 항에 있어서, 상기 오버코트층은
    감광특성을 가진 유기절연물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  5. 제1 항에 있어서, 상기 오버코트층은
    포토 아크릴물질을 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  6. 제1 항에 있어서, 상기 보호막은
    무기 절연물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  7. 제1 항에 있어서, 상기 보호막을 형성하는 단계 이후에,
    상기 보호막 상부의 소정 부위에 블랙매트릭스 및 컬러필터층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  8. 제1 항에 있어서, 상기 오버코트층 잔존영역은
    비표시영역을 제외한 표시영역으로 정의하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
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