KR20070052220A

KR20070052220A - Cleaning mechanism of rotation roller and cleaning method of rotation roller

Info

Publication number: KR20070052220A
Application number: KR1020060113115A
Authority: KR
Inventors: 츠요시 야마사키; 마사타카 사카이
Original assignee: 동경 엘렉트론 주식회사
Priority date: 2005-11-16
Filing date: 2006-11-16
Publication date: 2007-05-21
Also published as: KR101264937B1

Abstract

본 발명은 회전홀의 세정 기구 및 회전로의 세정방법에 관한 것으로서, 회전 롤 (90)의 최상부의 기점 (P)로부터 회전 방향 (F)로 270˚에서 300˚회전한 위치에 제1의 블럭 (110)이 설치되고 그 후방측에 제 2의 블럭 (130)이 설치된다. 제1의 블럭 (110)에 의해 회전 롤 (90)과의 사이에 협소의 간격 (D)가 형성되어 그 표면 (110a)에 세정액토출구 (111)과 흡인구 (112)가 형성된다. 제2의 블럭 (130)에는 배기구 (131)이 형성된다. 회전 롤 (90)의 하부 측에는 체류부 (141)과 세정액유도부 (142)가 형성된 제3의 블럭 (140)이 설치된다. 세정시에는 회전 롤 (90)을 회전시킨 상태로 세정액토출구 (111)으로부터 간격 (D)에 세정액 (H)가 토출되어 세정액 (H)가 회전 롤 (90)의 표면을 타고 흘러 체류부 (141)로 일단 체류된 후, 세정액유도부 (142)를 통하여 배출되는 회전 롤을 세정하기 위한 세정액의 소비량을 저감하는 기술을 제공한다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning mechanism of a rotary hole and a cleaning method of a rotary furnace, wherein the first block (1) is rotated at a position rotated from 270 to 300 degrees in the rotation direction (F) from the uppermost point (P) of the rotary roll (90). 110 is installed and the second block 130 is installed on the rear side. The first block 110 forms a narrow gap D between the rotary roll 90 and the cleaning liquid discharge port 111 and the suction port 112 on the surface 110a. The exhaust block 131 is formed in the second block 130. On the lower side of the rotary roll 90, a third block 140 in which the retention portion 141 and the cleaning liquid guide portion 142 are formed is provided. At the time of washing | cleaning, the washing | cleaning liquid H is discharged in the space | interval D from the washing | cleaning liquid discharge port 111 in the state which rotated the rotating roll 90, and the washing | cleaning liquid H flows through the surface of the rotating roll 90, and is a retention part 141. After the staying in the ()), it provides a technique for reducing the consumption amount of the cleaning liquid for cleaning the rotary roll discharged through the cleaning liquid guide portion 142.

Description

CLEANING MECHANISM OF ROTATION ROLLER AND CLEANING METHOD OF ROTATION ROLLER}

도 1은 본 실시의 형태에 있어서의 도포 현상 처리 장치의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.1 is a plan view showing an outline of a configuration of a coating and developing treatment apparatus according to the present embodiment.

도 2는 레지스트 도포 처리 유니트의 구성의 개략을 나타내는 종단면의 설명도이다.2 is an explanatory view of a longitudinal section showing an outline of the configuration of a resist coating processing unit.

도 3은 레지스트 도포 처리 유니트의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다. 3 is a plan view schematically illustrating the configuration of a resist coating processing unit.

도 4는 노즐의 설명도이다.4 is an explanatory diagram of a nozzle.

도 5는 회전 롤의 세정기구의 구성의 개략을 나타내는 종단면의 설명도이다. It is explanatory drawing of the longitudinal cross section which shows the outline of the structure of the washing | cleaning mechanism of a rotating roll.

도 6은 회전 롤의 Y방향 정방향측의 측면도이다.It is a side view of the rotating direction of the Y-direction positive side.

도 7은 제1의 블럭의 사시도이다. 7 is a perspective view of the first block.

도 8은 제2의 블럭의 사시도이다.8 is a perspective view of a second block.

도 9는 세정 공정시의 세정액의 흐름을 나타내는 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.It is explanatory drawing of the longitudinal cross section of the washing | cleaning mechanism of the rotating roll which shows the flow of the washing | cleaning liquid at the time of a washing | cleaning process.

도 10은 건조 공정시의 세정액의 흐름을 나타내는 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.It is explanatory drawing of the longitudinal cross section of the washing | cleaning mechanism of the rotating roll which shows the flow of the washing | cleaning liquid at the time of a drying process.

도 11은 세정액토출구를 지그재그 형상으로 배치한 경우의 제1의 블럭의 사 시도이다.Fig. 11 is a trial of the first block when the cleaning liquid discharge port is arranged in a zigzag shape.

도 12는 세정액토출구를 슬릿 형상으로 한 경우의 제1의 블럭의 사시도이다.12 is a perspective view of the first block in the case where the cleaning liquid discharge port is slit-shaped;

도 13은 배기구를 2열로 한 경우의 제2의 블럭의 사시도이다.Fig. 13 is a perspective view of a second block in the case of two exhaust ports.

도 14는 회전 롤의 세정기구의 다른 구성예를 나타내는 종단면의 설명도이다.It is explanatory drawing of the longitudinal cross section which shows the other structural example of the washing | cleaning mechanism of a rotating roll.

도 15는 제1의 블럭과 제2의 블럭을 구비한 세정기구의 구성예를 나타내는 종단면의 설명도이다. 15 is an explanatory view of a longitudinal section showing an example of the configuration of a cleaning mechanism including a first block and a second block.

도 16은 제1의 블럭에 흡인구를 추가하고 체류부를 설치한 세정기구의 구성예를 나타내는 종단면의 설명도이다.It is explanatory drawing of the longitudinal cross section which shows the structural example of the washing | cleaning mechanism which added the suction port to the 1st block and provided the retention part.

도 17은 회전 롤 표면을 세정할 때에 세정액의 토출, 흡인 및 배기의 타이밍을 나타낸 설명도이다.It is explanatory drawing which showed the timing of discharge, suction, and exhaust of a cleaning liquid, when cleaning a rotating roll surface.

**주요부위를 나타내는 도면부호의 설명**** Description of reference numerals indicating major parts **

1 : 도포 현상 처리 장치1: coating and developing apparatus

24 : 레지스트 도포 처리 유니트 24: resist coating processing unit

90 : 회전 롤90: rotating roll

110 : 제1의 블럭 110: first block

111 : 세정액토출구 111: cleaning liquid discharge outlet

112 : 흡인구112: suction port

130 : 제2의 블럭 130: second block

131 : 배기구131: exhaust port

140 : 제3의 블럭 140: third block

141 : 체류부141: Residency Department

142 : 세정액유도부142: cleaning liquid induction part

160 : 배출구160: outlet

H ; 세정액 H; Cleaning solution

G : 유리 기판G: glass substrate

본 발명은, 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에, 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구와 그 회전 롤의 세정 방법에 관한다.This invention relates to the washing | cleaning mechanism of the rotating roll to which the coating liquid is supplied from a nozzle, and the cleaning method of the rotating roll before a coating liquid is discharged from a nozzle to a board | substrate.

예를 들면 액정 디스플레이의 제조 프로세스의 포트리소그래피공정에서는, 유리 기판상으로 레지스트액을 도포해 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포 처리를 하고 있다.For example, in the photolithography step of the manufacturing process of the liquid crystal display, a resist coating process for applying a resist liquid onto a glass substrate to form a resist film is performed.

이 레지스트 도포 처리는 레지스트 도포 처리 유니트로 행해지고 예를 들면 스테이지에 유리 기판이 재치되어 그 유리 기판의 상면을 노즐이 이동하면서 레지스트액을 토출하는 것으로 행해지고 있다. 또, 레지스트 도포 처리 유니트에서는 도포시의 노즐의 토출 상태를 안정시키기 위하여 도포전에 노즐의 선단부를 회전하고 있는 회전 롤의 상부 표면에 접근해 노즐로부터 회전 롤에 레지스트액을 시출하는 처리를 하고 있다.This resist coating process is performed by the resist coating process unit, for example, by placing a glass substrate on a stage, and discharging a resist liquid, moving a nozzle on the upper surface of the glass substrate. Moreover, in the resist coating processing unit, in order to stabilize the discharge state of the nozzle at the time of application | coating, the process of approaching the upper surface of the rotating roll which rotates the front-end | tip part of a nozzle before application | coating and applying a resist liquid from a nozzle to a rotating roll is performed. .

또한 레지스트액으로 더러워진 회전 롤을 그대로 두면 다음의 시출시에 노즐이 더러워지므로, 시출의 종료후에 회전 롤을 세정하는 처리를 하고 있다. 종래부터 이 회전 롤의 세정은 탱크에 저장된 세정액내에 회전 롤의 하부를 침전하고, 회전 롤을 회전시키는 것에 의해 행해지고 있었다(특허 문헌 1 참조).In addition, if the rotary roll soiled with the resist liquid is left as it is, the nozzle becomes dirty at the next start-up, so that the rotary roll is cleaned after the end of the start-up. Conventionally, cleaning of this rotating roll was performed by depositing the lower part of a rotating roll in the washing | cleaning liquid stored in the tank, and rotating a rotating roll (refer patent document 1).

[특허 문헌 1] 일본국 특개평10-76205호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-76205

그렇지만, 상술한 바와 같이 탱크에 세정액을 저장해 회전 롤을 세정하는 경우 용적이 큰 탱크에 세정시에 매회 세정액을 바꿔 넣을 필요가 있으므로 다량의 세정액이 필요하게 되어 있었다. 이 때문에, 레지스트 도포 처리 유니트의 런닝코스트가 높아지고 있었다.However, when the cleaning liquid is stored in the tank and the rotary roll is washed as described above, a large amount of the cleaning liquid is required because the cleaning liquid needs to be changed every time the cleaning is performed in the large volume tank. For this reason, the running cost of the resist coating process unit was high.

본 발명은 관련된 점에 비추어 이루어진 것이고, 회전 롤을 세정하기 위한 세정액의 소비량을 저감해 레지스트 도포 처리 유니트등의 도포 처리 유니트의 런닝 코스트를 저감 하는 것을 그 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the related point, Comprising: It aims at reducing the running cost of coating processing units, such as a resist coating processing unit, by reducing the consumption amount of the cleaning liquid for cleaning a rotating roll.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구로서, 회전 롤의 표면의 일부를 그 표면을 따라 덮고 상기 회전 롤의 표면과의 사이에 간격를 형성하는 커버체와 상기 커버체와 상기 회전 롤의 표면과의 간격에 세정액을 토출하는 세정액토출구를 가지는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is a cleaning mechanism of a rotary roll to which the coating liquid is supplied from the nozzle before the coating liquid is discharged from the nozzle to the substrate, covering a part of the surface of the rotating roll along the surface and the surface of the rotating roll And a cleaning liquid discharge port for discharging the cleaning liquid in a space between the cover body and the cover body and the surface of the rotary roll.

본 발명에 커버체에 의해 회전 롤의 표면에 간격를 형성해 그 간격에 세정액을 토출하므로 더러움이 부착한 회전 롤의 표면에 효율적으로 세정액을 공급할 수 가 있다. 이 결과, 세정액의 소비량을 저감 할 수 있어 도포 처리 유니트의 런닝 코스트도 저감 할 수 있다.In the present invention, since the gap is formed on the surface of the rotating roll by the cover body and the cleaning liquid is discharged at the interval, the cleaning liquid can be efficiently supplied to the surface of the rotating roll with dirt. As a result, the consumption amount of the cleaning liquid can be reduced, and the running cost of the coating processing unit can also be reduced.

상기 세정액 토출구는 상기 커버체에 형성되고 있어도 괜찮다.The cleaning liquid discharge port may be formed in the cover body.

노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 최상부를 회전의 기점으로 하여 회전 롤이 회전 방향으로 3/4 회전한 위치로부터 1회전 하는 위치까지의 사이에, 상기 세정액토출구가 설치되고 있어도 괜찮다.The cleaning liquid discharge port may be provided between the top of the rotating roll supplied with the coating liquid from the nozzle as the starting point of rotation from the position where the rotating roll is rotated 3/4 to one rotation.

상기 회전 롤이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에는 상기 세정액 토출구로부터 회전 롤의 표면을 따라 떨어지는 세정액을 상기 회전 롤의 표면에 있어서 체류시키는 체류 부재가 설치되고 있어도 괜찮다.Between the position where the said rotation roll rotates 1/2 to the position which rotates 3/4, the retention member which stays in the surface of the said rotation roll which wash liquid which falls along the surface of the rotation roll from the said cleaning liquid discharge port may be provided. .

상기 체류 부재는 윗쪽으로부터의 세정액을 받아 체류시키는 체류부와 상기 체류부의 세정액을 회전 롤의 표면을 따라 하부에 흘리는 세정액유도부를 구비하고 있어도 괜찮다.The retention member may include a retention portion for receiving and retaining the cleaning liquid from above and a cleaning liquid guide portion for flowing the cleaning liquid in the retention portion downward along the surface of the rotary roll.

상기 체류부는 체류 부재의 회전롤의 표면측의 상부에 오목형상으로 형성되고 상기 세정액유도부는 상기 회전 롤의 표면을 그 표면을 따라 덮고 그 회전 롤의 표면의 사이에 간격를 형성하고 있어도 괜찮다.The said retention part may be formed in concave shape in the upper part of the surface side of the rotation roll of a retention member, and the said washing | cleaning liquid guide part may cover the surface of the said rotation roll along the surface, and may form the space | interval between the surfaces of the rotation roll.

상기 세정액유도부는 상기 회전 롤의 최하부까지 형성되어 상기 회전 롤의 최하부의 위치에는 세정액의 배출구가 설치되고 있어도 괜찮다.The said washing | cleaning liquid guide part is formed to the lowest part of the said rotary roll, and the discharge port of a washing | cleaning liquid may be provided in the lowest position of the said rotary roll.

상기 배출구에는 세정액을 흡인하기 위한 흡인 장치가 접속되고 있어도 괜찮다.A suction device for sucking the cleaning liquid may be connected to the discharge port.

상기 세정액토출구에서 상기 회전 롤의 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인해 제거하는 흡인구가 설치되고 있어도 괜찮다.A suction port for sucking and removing the cleaning liquid on the surface of the rotating roll may be provided on the rotation direction side of the rotating roll at the cleaning liquid discharge port.

노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 최상부를 회전의 기점으로 해, 회전 롤이 1/4 회전한 위치로부터 1/2 회전하는 위치까지의 사이와 회전 롤이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에 상기 세정액토출구가 설치되고 있어도 괜찮다.The top of the rotary roll supplied with the coating liquid from the nozzle is the starting point of rotation, and the position from the position where the rotary roll is rotated 1/4 to half the rotation and from the position at which the rotary roll is rotated 1/2 The said cleaning liquid discharge port may be provided between the four rotation positions.

상기 세정액토출구는 2 곳에 설치되고 상기 커버체는 상기 회전 롤의 하부측의 적어도 상기 2 곳의 세정액토출구의 사이의 회전 롤의 표면을 덮도록 형성되고 있어도 괜찮다.The said cleaning liquid discharge port may be provided in two places, and the said cover body may be formed so that the surface of the rotating roll between at least two said cleaning liquid discharge ports of the lower side of the said rotary roll may be covered.

상기 2 곳의 세정액토출구의 사이의 커버체에는 세정액의 배출구가 형성되고 있어도 괜찮다.The cleaning body discharge port may be formed in the cover body between the two cleaning liquid discharge ports.

상기 배출구는 상기 회전 롤의 최하부에 대향하는 위치에 형성되고 있어도 좋다.The said discharge port may be formed in the position which opposes the lowest part of the said rotary roll.

상기 회전 롤의 1/2 회전으로부터 3/4 회전까지의 사이에 위치하는 상기 세정액토출구의 다른 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인해 제거하는 흡인구가 설치되고 있어도 괜찮다.A suction port for sucking and removing the cleaning liquid on the surface of the rotating roll may be provided on the other rotational direction side of the cleaning liquid discharge port positioned between one half rotation and three quarter rotation of the rotating roll.

상기 흡인구의 다른 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면을 건조시키기 위한 배기구가 설치되고 있어도 괜찮다.The exhaust port for drying the surface of a rotating roll may be provided in the other rotation direction side of the said suction port.

상기 세정액토출구는 회전 롤의 긴 방향을 따라 상하 2열로 나열하여 형성되 고 상기 2열의 세정액토출구는 서로 지그재그 형상으로 배치되고 있어도 괜찮다.The cleaning liquid ejection openings may be formed in two rows in the vertical direction along the long direction of the rotary roll, and the cleaning liquid ejection openings in the two rows may be arranged in a zigzag shape with each other.

다른 관점에 의한 본 발명은 청구항 9, 15 또는 16중 어느 것의 회전 롤의 세정기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법으로서 세정액토출구로부터 세정액을 공급하면서 회전 롤을 회전시키는 세정 공정과 상기 세정액토출구로부터의 세정액의 공급을 정지하고 상기 세정 공정보다 빠른 속도로 상기 회전 롤을 회전시켜 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인구에 의해 흡인해 제거하는 건조 공정을 가지는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a cleaning method of a rotary roll using the cleaning mechanism of any of the rotating rolls according to any one of claims 9, 15, or 16, and a cleaning step of rotating a rotating roll while supplying a cleaning liquid from a cleaning liquid discharge port and a cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port. And a drying step of stopping the supply of and rotating the rotating roll at a speed faster than the cleaning step to suck and remove the cleaning liquid on the surface of the rotating roll by a suction port.

한층 더 다른 관점에 의한 본 발명은 청구항 9, 15 또는 16의 어느 쪽인가에 기재의 회전 롤의 세정기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법으로서 회전 롤을 회전시키면서, 세정액토출구로부터 세정액을 토출하는 토출 공정과 상기 토출 공정과 같은 속도로 상기 회전 롤을 회전시키면서 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인구에 의해 흡인해 제거하는 흡인 공정을 갖고, 상기 토출 공정과 흡인 공정은 교대로 행해지고 상기 토출 공정에 있어서는 상기 흡인구로부터의 세정액의 흡인은 정지하고, 상기 흡인 공정에 있어서는 상기 세정액토출구로부터의 세정액의 공급은 정지하고 있는 것을 특징으로 한다.According to still another aspect of the present invention, a discharge step of discharging the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port while rotating the rotating roll as a cleaning method of the rotating roll using the cleaning mechanism of the rotating roll according to any one of claims 9, 15 or 16. And a suction step of sucking and removing the cleaning liquid on the surface of the rotary roll by a suction port while rotating the rotary roll at the same speed as the discharge step, wherein the discharge step and the suction step are performed alternately and in the discharge step The suction of the cleaning liquid from the suction port is stopped, and the supply of the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port is stopped in the suction step.

이하, 본 발명의 바람직한 실시의 형태에 대해서 설명한다. 도 1은, 본 실시의 형태에 관련되는 회전 롤의 세정기구가 탑재된 도포 현상 처리 장치 (1)의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described. FIG. 1: is a top view which shows the outline of the structure of the application | coating development apparatus 1 with which the washing | cleaning mechanism of the rotating roll which concerns on this embodiment is mounted.

도포 현상 처리 장치 (1)은 도 1에 나타나는 바와 같이 예를 들면 복수의 유 리 기판 (G)를 카셋트 단위로 외부에 대해서 반입출하기 위한 카셋트 스테이션 (2)와 포트리소그래피공정 중에서 매엽식으로 소정의 처리를 가하는 각종 처리 유니트가 배치된 처리 스테이션 (3)과 처리 스테이션 (3)에 인접해 설치되고 처리 스테이션 (3)과 노광 장치 (4)의 사이에 유리 기판 (G)의 수수를 실시하는 인터페이스 스테이션 (5)를 일체로 접속한 구성을 가지고 있다.As shown in Fig. 1, the coating and developing apparatus 1 is a sheet-fed type in a cassette station 2 and a port lithography step for carrying out a plurality of glass substrates G to the outside in cassette units, for example. An interface that is installed adjacent to the processing station 3 and the processing station 3 on which various processing units to apply processing are disposed, and performs the transfer of the glass substrate G between the processing station 3 and the exposure apparatus 4. It has the structure which connected the station 5 integrally.

카셋트 스테이션 (2)에는 카셋트 재치대 (10)이 설치되고 상기 카셋트 재치대 (10)은 복수의 카셋트 (C)를 X방향(도 1안의 상하 방향)으로 일렬로 재치 자유롭게 되어 있다. 카셋트 스테이션 (2)에는 반송로 (11)상을 X방향을 향해 이동 가능한 기판 반송체 (12)가 설치되고 있다. 기판 반송체 (12)는 카셋트 (C)에 수용된 유리 기판 (G)의 배열 방향(Z방향;수직 방향)으로도 이동 자유롭고, X방향으로 배열된 각 카셋트 (C)내의 유리 기판 (G)에 대해서 선택적으로 액세스 할 수 있다.The cassette mounting base 10 is provided in the cassette station 2, and the cassette mounting base 10 is able to mount a plurality of cassettes C in a line in the X direction (up and down direction in Fig. 1). The cassette station 2 is provided with a substrate carrier 12 capable of moving on the conveying path 11 in the X direction. The substrate carrier 12 is free to move in the arrangement direction (Z direction; vertical direction) of the glass substrate G accommodated in the cassette C, and is attached to the glass substrate G in each cassette C arranged in the X direction. Can optionally be accessed.

기판 반송체 (12)는 Z축 주위의 θ방향으로 회전 가능하고, 후술하는 처리 스테이션 (3)측의 엑시머 UV조사 유니트 (20)이나 제6의 열처리 유니트군 (34)의 각 유니트에 대해서도 액세스 할 수 있다.The substrate carrier 12 is rotatable in the θ direction around the Z axis, and accesses to each unit of the excimer UV irradiation unit 20 and the sixth heat treatment unit group 34 on the processing station 3 side described later. can do.

처리 스테이션 (3)은 예를 들면 Y방향(도 1의 좌우 방향)으로 연장하는 2열의 반송 라인 (A), B를 구비하고 있다. 이 반송 라인 (A, B)에 있어서는 회전자 반송이나 아암에 의한 반송 등에 의해 유리 기판 (G)를 반송할 수 있다. 처리 스테이션 (3)의 정면측인 X방향 부방향측(도 1의 아래 쪽)의 반송 라인 (A)에는 카셋트 스테이션 (2)측으로부터 인터페이스 스테이션 (5) 측에 향하여 차례로 예를 들면 유리 기판 (G)상의 유기물을 제거하는 엑시머 UV조사 유니트 (20), 유리 기판 (G) 를 세정하는 스크러버 세정 유니트 (21), 제1의 열처리 유니트군 (22), 제2의 열처리 유니트군 (23), 유리 기판 (G)에 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 처리 유니트 (24), 유리 기판 (G)를 감압 건조하는 감압 건조 유니트 (25) 및 제3의 열처리 유니트군 (26)이 직선적으로 일렬로 배치되고 있다.The processing station 3 is provided with the conveyance lines A and B of 2 rows which extend in the Y direction (left-right direction of FIG. 1), for example. In this conveyance line (A, B), glass substrate G can be conveyed by rotor conveyance, conveyance by an arm, etc. In the conveyance line A of the X-direction negative direction side (lower side of FIG. 1) which is the front side of the processing station 3, for example, a glass substrate (from a cassette station 2 side toward the interface station 5 side) Excimer UV irradiation unit 20 for removing organic phase on G), scrubber cleaning unit 21 for cleaning glass substrate G, first heat treatment unit group 22, second heat treatment unit group 23, The resist coating processing unit 24 which applies a resist liquid to the glass substrate G, the pressure reduction drying unit 25 which pressure-drys the glass substrate G, and the 3rd heat processing unit group 26 are linearly arrange | positioned It is becoming.

제 1 및 제2의 열처리 유니트군 (22, 23)에는 유리 기판 (G)를 가열하는 복수의 가열 처리 유니트와 유리 기판 (G)를 냉각하는 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다. 제1의 열처리 유니트군 (22)와 제2의 열처리 유니트군 (23)의 사이에는 이 유니트군 (22, 23)간의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (27)이 설치되고 있다. 제3의 열처리 유니트군 (26)에도 동일하게 가열 처리 유니트와 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다.In the first and second heat treatment unit groups 22 and 23, a plurality of heat treatment units for heating the glass substrate G and a cooling treatment unit for cooling the glass substrate G are stacked in multiple stages. Between the 1st heat processing unit group 22 and the 2nd heat processing unit group 23, the conveyance body 27 which conveys the glass substrate G between these unit groups 22 and 23 is provided. . Similarly, the heat treatment unit and the cooling treatment unit are stacked in multiple stages in the third heat treatment unit group 26.

처리 스테이션 (3)의 배후측인 X방향 정방향측(도 1의 윗쪽측)의 반송 라인 (B)에는 인터페이스 스테이션 (5)측으로부터 카셋트 스테이션 (2) 측에 향하여 차례로 예를 들면 제4의 열처리 유니트군 (30), 유리 기판 (G)를 현상 처리하는 현상 처리 유니트 (31), 유리 기판 (G)의 탈색 처리를 실시하는 i선 UV조사 유니트 (32), 제5의 열처리 유니트군 (33) 및 제6의 열처리 유니트군 (34)가 직선 형상으로 일렬로 배치되고 있다.In the conveyance line B of the X direction forward side (upper side of FIG. 1) which is the back side of the processing station 3, for example, 4th heat processing in order from the interface station 5 side to the cassette station 2 side The unit group 30, the developing unit 31 for developing the glass substrate G, the i-ray UV irradiation unit 32 for decolorizing the glass substrate G, the fifth heat treatment unit group 33 ) And the sixth heat treatment unit group 34 are arranged in a line in a straight line.

제4~ 제6의 열처리 유니트군 (30, 33, 34)에는 각각 가열 처리 유니트와 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다. 또, 제5의 열처리 유니트군 (33)과 제6의 열처리 유니트군 (34)의 사이에는, 이 유니트군 (33, 34)간의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (40)이 설치되고 있다.In the fourth to sixth heat treatment unit groups 30, 33, and 34, a heat treatment unit and a cooling treatment unit are stacked in multiple stages, respectively. Moreover, between the 5th heat processing unit group 33 and the 6th heat processing unit group 34, the conveyance body 40 which conveys the glass substrate G between these unit groups 33 and 34 is It is installed.

반송 라인 (A)의 제3의 열처리 유니트군 (26)과 반송 라인 (B)의 제4의 열처리 유니트군 (30)의 사이에는 이 유니트군 (26, 30)간의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (41)이 설치되고 있다. 이 반송체 (41)은 후술 하는 인터페이스 스테이션 (5)의 익스텐션·쿨링 유니트 (60)에 대해서도 유리 기판 (G)를 반송할 수 있다.Transfer of the glass substrate G between these unit groups 26 and 30 between the 3rd heat treatment unit group 26 of the conveyance line A, and the 4th heat treatment unit group 30 of the conveyance line B. The carrier 41 which implements this is provided. This conveyance body 41 can convey glass substrate G also about the extension cooling unit 60 of the interface station 5 mentioned later.

반송 라인 (A)와 반송 라인 (B)의 사이에는 Y방향을 따른 직선적인 공간 (50)이 형성되고 있다. 공간 (50)에는 유리 기판 (G)를 재치해 반송 가능한 셔틀 (51)이 설치되고 있다. 셔틀 (51)은 처리 스테이션 (3)의 카셋트 스테이션 (2)측의 단부로부터 인터페이스 스테이션 (5)측의 단부까지 이동 자유롭고, 처리 스테이션 (3)내의 각 반송체 (27, 40, 41)에 대해서 유리 기판 (G)를 주고 받을 수가 있다.Between the conveyance line A and the conveyance line B, the linear space 50 along a Y direction is formed. In the space 50, the shuttle 51 which mounts and conveys glass substrate G is provided. The shuttle 51 is free to move from the end of the cassette station 2 side of the processing station 3 to the end of the interface station 5 side, and with respect to each carrier 27, 40, 41 in the processing station 3. The glass substrate G can be exchanged.

인터페이스 스테이션 (5)에는 예를 들면 냉각 기능을 갖고 유리 기판 (G)의 수수를 실시하는 익스텐션·쿨링 유니트 (60)과 유리 기판 (G)를 일시적으로 수용하는 버퍼 카셋트 (61)과 외부 장치 블럭 (62)가 설치되고 있다. 외부 장치 블럭 (62)에는 유리 기판 (G)에 생산관리용의 코드를 노광하는 타이틀러와 유리 기판 (G)의 주변부를 노광하는 주변 노광 장치가 설치되고 있다. 인터페이스 스테이션 (5)에는 상기 익스텐션·쿨링유니트 (60), 버퍼 카셋트 (61), 외부 장치 블럭 (62)및 노광 장치 (4)에 대해서 유리 기판 (G)를 반송 가능한 기판 반송체 (63)이 설치되고 있다.The interface station 5 has, for example, an extension / cooling unit 60 having a cooling function and passing the glass substrate G, a buffer cassette 61 temporarily housing the glass substrate G, and an external device block. 62 is provided. The external device block 62 is provided with a titler for exposing the code for production management to the glass substrate G and a peripheral exposure apparatus for exposing the peripheral portion of the glass substrate G. The interface station 5 has a substrate carrier 63 capable of conveying the glass substrate G to the extension cooling unit 60, the buffer cassette 61, the external device block 62, and the exposure apparatus 4. It is installed.

이 도포 현상 처리 장치 (1)에 있어서는 카셋트 스테이션 (2)로부터 반입된 유리 기판 (G)가 세정 처리, 열처리, 레지스트 도포 처리, 건조 처리등을 차례로 실시하면서 반송 라인 (A)를 통하여 인터페이스 스테이션 (5)에 반송된다. 그리고, 유리 기판 (G)가 인터페이스 스테이션 (5)로부터 노광 장치 (4)에 반송되어 노광 장치 (4)로 노광 처리가 종료한 유리 기판 (G)가 열처리, 현상 처리, 열처리등을 실시하면서, 반송 라인 (B)를 통하여 카셋트 스테이션 (2)에 되돌려진다.In this coating and developing apparatus 1, the glass substrate G carried in from the cassette station 2 is subjected to an interface station (via the transfer line A) while sequentially performing cleaning treatment, heat treatment, resist coating treatment, drying treatment, and the like. 5) is returned. And while the glass substrate G conveyed from the interface station 5 to the exposure apparatus 4, and the exposure process was complete | finished by the exposure apparatus 4, while performing heat processing, image development processing, heat processing, etc., It is returned to the cassette station 2 via the conveying line B.

다음에, 회전 롤의 세정기구를 가지는 레지스트 도포 처리 유니트 (24)에 대해서 설명한다.Next, the resist coating process unit 24 which has a washing | cleaning mechanism of a rotating roll is demonstrated.

레지스트 도포 처리 유니트 (24)에는 예를 들면 도 2 및 도 3에 나타나는 바와 같이 반송 라인 (A)를 따른 Y방향으로 긴 스테이지 (70)이 설치되고 있다. 스테이지 (70)의 상면에는 도 3에 나타나는 바와 같이 다수의 가스 분출구 (71)이 형성되고 있다. 스테이지 (70)의 폭방향(X방향)의 양측에는 Y방향으로 연장하는 한 쌍의 제1의 가이드 레일 (72)가 설치되고 있다. 제1의 가이드 레일 (72)에는 유리 기판 (G)의 폭방향의 단부를 보지해 제1의 가이드 레일 (72)상을 이동하는 한 쌍의 보지 아암 (73)이 각각 설치되고 있다. 가스 분출구 (71)로부터 가스를 분출함으로써, 유리 기판 (G)를 부상시켜, 보지 아암 (73)에 의해 그 부상한 유리 기판 (G)의 양단부를 보지해, 유리 기판 (G)를 반송 라인 (A)를 따라 이동시킬 수가 있다.The resist coating processing unit 24 is provided with a stage 70 elongated in the Y direction along the conveying line A, for example, as shown in FIGS. 2 and 3. On the upper surface of the stage 70, a plurality of gas ejection openings 71 are formed as shown in FIG. On both sides of the stage 70 in the width direction (X direction), a pair of first guide rails 72 extending in the Y direction are provided. The 1st guide rail 72 is provided with the pair of holding arm 73 which hold | maintains the edge part of the width direction of the glass substrate G, and moves on the 1st guide rail 72, respectively. By ejecting gas from the gas ejection port 71, the glass substrate G is made to float, the holding arm 73 holds both ends of the floated glass substrate G, and the glass substrate G is conveyed to the conveyance line ( You can move along A).

레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 스테이지 (70)상으로는 유리 기판 (G)에 레지스트액을 토출하는 노즐 (80)이 설치되고 있다. 노즐 (80)은 예를 들면 도 3 및 도 4에 나타나는 바와 같이 X방향을 향해 긴 대략 직방체 형상으로 형성되고 있다. 노즐 (80)은 예를 들면 유리 기판 (G)의 X방향의 폭보다 길게 형성되고 있다. 노즐 (80)의 하단부에는, 도 4에 나타나는 바와 같이 슬릿 형상의 토출구 (80 a)가 형성되고 있다. 노즐 (80)의 상부에는, 레지스트액 공급원 (81)에 통하는 레지스트액공급관 (82)가 접속되고 있다.On the stage 70 of the resist coating processing unit 24, the nozzle 80 which discharges a resist liquid to the glass substrate G is provided. The nozzle 80 is formed in the substantially rectangular parallelepiped shape long toward an X direction, for example as shown to FIG. 3 and FIG. The nozzle 80 is formed longer than the width of the X direction of the glass substrate G, for example. In the lower end part of the nozzle 80, as shown in FIG. 4, the slit-shaped discharge port 80a is formed. The resist liquid supply pipe 82 which connects to the resist liquid supply source 81 is connected to the upper part of the nozzle 80.

도 3에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)의 양측에는 Y방향으로 연장하는 제2의 가이드 레일 (83)이 형성되고 있다. 노즐 (80)은 제2의 가이드 레일 (83)상을 이동하는 노즐 아암 (84)에 의해 보지되고 있다. 노즐 (80)은 노즐 아암 (84)의 구동 기구에 의해 제2의 가이드 레일 (83)을 따라 Y방향으로 이동할 수 있다. 또, 예를 들면 노즐 아암 (84)에는 승강기구가 설치되고 있고 노즐 (80)은 소정의 높이로 승강할 수 있다. 이것에 의해, 노즐 (80)은 유리 기판 (G)에 레지스트액을 토출하는 토출 위치 (E)와 후술하는 회전 롤 (90) 및 대기부 (91)의 사이를 이동할 수 있다.As shown in FIG. 3, the second guide rails 83 extending in the Y direction are formed on both sides of the nozzle 80. The nozzle 80 is held by the nozzle arm 84 moving on the second guide rail 83. The nozzle 80 is movable in the Y direction along the second guide rail 83 by the drive mechanism of the nozzle arm 84. For example, the lifting mechanism is provided in the nozzle arm 84, and the nozzle 80 can raise and lower to a predetermined height. Thereby, the nozzle 80 can move between the discharge position E which discharges a resist liquid to glass substrate G, the rotating roll 90 mentioned later, and the standby part 91.

도 2 및 도 3에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)의 토출 위치 (E)보다 상류측, 즉 노즐 (80)의 토출 위치 (E)의 Y방향 부방향 측에는 노즐 (80)의 시출이 행해지는 회전 롤 (90)이 설치되고 있다. 이 회전 롤 (90)의 최상부에 노즐 (80)의 토출구 (80a)를 근접시켜 회전 롤 (90)을 회전시키면서 레지스트액을 토출하는 것으로, 노즐 (80)의 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태를 정리하여 레지스트액의 토출 상태를 안정시킬 수가 있다.As shown in FIGS. 2 and 3, a rotation in which the nozzle 80 is started upstream from the discharge position E of the nozzle 80, that is, the Y-direction negative direction side of the discharge position E of the nozzle 80 is performed. The roll 90 is provided. The resist liquid in the discharge port 80a of the nozzle 80 is discharged by bringing the discharge port 80a of the nozzle 80 close to the top of the rotary roll 90 and rotating the rotary roll 90. The discharge state of the resist liquid can be stabilized by arranging the adhesion state of the.

회전 롤 (90)의 상류 측에는 노즐 (80)의 대기부 (91)이 설치되고 있다. 이 대기부 (91)에는 예를 들면 노즐 (80)을 세정하는 기능이나 노즐 (80)의 건조를 방지하는 기능이 설치되고 있다.The standby part 91 of the nozzle 80 is provided in the upstream of the rotating roll 90. The standby part 91 is provided with the function which wash | cleans the nozzle 80 and the function which prevents drying of the nozzle 80, for example.

회전 롤 (90)에는 회전 롤 (90)을 세정하는 세정기구 (100)이 설치되고 있다. 이하, 이 회전 롤 (90)의 세정기구 (100)에 대해서 설명한다.The rotary roll 90 is provided with a washing mechanism 100 for washing the rotary roll 90. Hereinafter, the washing | cleaning mechanism 100 of this rotating roll 90 is demonstrated.

회전 롤 (90)은 도 5에 나타나는 바와 같이 반송 라인 (A)의 반송 방향(Y방향 정방향)을 향해 후방주위 (도 5안의 회전 방향 (F))에 회전한다. 회전 롤 (90)의 최상부를 회전의 기점 (P)로 해 회전 롤 (90)이 회전 방향 (F)에 예를 들면 3/4회전한 위치로부터 1회 바꾸는 위치까지의 사이에는 커버체로서의 제1의 블럭 (110)이 설치되고 있다. 제1의 블럭 (110)은 기점 (P)에 대해서 회전 롤 (90)의 예를 들면 270˚~300˚의 구간에 걸쳐서 회전 롤 (90)의 표면을 가리고 있다. 제1의 블럭 (110)은 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 긴 대략 직방체 형상으로 형성되어 도 6에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향의 양단부간에 걸쳐서 형성되고 있다. 도 5에 나타나는 바와 같이 제1의 블럭 (110)의 회전 롤 (90)측의 표면 (110 a)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 원호 형상으로 굴곡해 형성되고 있다. 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)와 회전 롤 (90)의 표면의 사이에는 100 μm~300 μm, 보다 바람직하게는 100μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.As shown in FIG. 5, the rotating roll 90 rotates to the back periphery (rotation direction F in FIG. 5) toward the conveyance direction (Y direction positive direction) of conveyance line A. As shown in FIG. The uppermost part of the rotary roll 90 is made into the starting point P of rotation, and it is made into the cover body between the rotation roll 90 from the position which changed 3 times in the rotation direction F, for example, 3/4 rotation once. 1 block 110 is provided. The first block 110 covers the surface of the rotary roll 90 over a section of the rotary roll 90, for example, 270 ° to 300 ° with respect to the starting point P. FIG. The 1st block 110 is formed in the shape of an elongate substantially rectangular parallelepiped along the longitudinal direction of the rotating roll 90, and is formed across the both ends of the longitudinal direction of the rotating roll 90 as shown in FIG. As shown in FIG. 5, the surface 110a of the rotating roll 90 side of the 1st block 110 is bent and formed in circular arc shape along the surface of the rotating roll 90. As shown in FIG. Between the surface 110a of the 1st block 110 and the surface of the rotary roll 90, the space | interval D of 100 micrometers-300 micrometers, More preferably, 100 micrometers is formed.

제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에는 레지스트액의 용제등의 세정액을 토출하는 세정액토출구 (111)과 세정액을 흡인하는 흡인구 (112)가 형성되고 있다. 흡인구 (112)는 세정액토출구 (111)에서 회전 방향 (F)측 즉 윗쪽 측에 형성되고 있다. 세정액토출구 (111)은 예를 들면 도 7에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 일렬로 복수 나열하여 형성되고 있다. 흡인구 (112)는 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 슬릿 형상으로 형성되고 있다.On the surface 110a of the first block 110, a cleaning liquid discharge port 111 for discharging a cleaning liquid such as a solvent of a resist liquid and a suction port 112 for sucking the cleaning liquid are formed. The suction port 112 is formed on the rotational direction F side, that is, the upper side, in the cleaning liquid discharge port 111. For example, as shown in FIG. 7, the cleaning liquid discharge ports 111 are formed by arranging a plurality of the cleaning liquid outlets in a line along the long direction of the rotary roll 90. The suction port 112 is formed in the slit shape along the longitudinal direction of the rotation roll 90.

세정액토출구 (111)은 도 5에 나타나는 바와 같이 제1의 블럭 (110)내에 형성된 유로 (120)과 그 유로 (120)에 접속된 배관 (121)에 의해 세정액공급 장치 (122)에 접속되고 있다. 이 세정액공급 장치 (122)로부터의 세정액의 공급에 의해, 세정액토출구 (111)로부터 회전 롤 (90)과 제1의 블럭 (110)의 사이의 간격 (D)에 세정액을 토출할 수 있다.As shown in FIG. 5, the cleaning liquid discharge port 111 is connected to the cleaning liquid supply device 122 by a flow path 120 formed in the first block 110 and a pipe 121 connected to the flow path 120. . By supplying the cleaning liquid from the cleaning liquid supply device 122, the cleaning liquid can be discharged from the cleaning liquid discharge port 111 to the space D between the rotary roll 90 and the first block 110.

흡인구 (112)는 제1의 블럭 (110)내에 형성된 유로 (123)과 그 유로 (123)에 접속된 배관 (124)에 의해, 진공 펌프등의 흡인 장치 (125)에 접속되고 있다. 흡인 장치 (125)에 의한 진공흡인에 의해, 흡인구 (112)로부터 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인해 제거할 수 있다.The suction port 112 is connected to a suction device 125 such as a vacuum pump by a flow path 123 formed in the first block 110 and a pipe 124 connected to the flow path 123. By the vacuum suction by the suction apparatus 125, the washing | cleaning liquid of the surface of the rotating roll 90 can be sucked and removed from the suction port 112. As shown in FIG.

제1의 블럭 (110)과 회전 롤 (90)의 최상부의 사이에는, 제2의 블럭 (130)이 설치되고 있다. 제2의 블럭 (130)은 제1의 블럭 (110)과 동일하게 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 긴 대략 직방체 형상을 갖고, 도 6에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향의 양단부 사이에 걸쳐서 형성되고 있다. 도 5에 나타나는 바와 같이 제2의 블럭 (130)의 회전 롤 (90)측의 표면 (130a)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 원호형상으로 굴곡해 형성되고 있다. 예를 들면 제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)와 회전 롤 (90)의 표면의 사이에는 1 mm 이하, 더욱 바람직하게는 300μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.The second block 130 is provided between the first block 110 and the uppermost part of the rotary roll 90. The second block 130 has a substantially rectangular parallelepiped shape along the long direction of the rotary roll 90, similar to the first block 110, and as shown in FIG. 6, the second block 130 has the long direction of the rotary roll 90. It is formed over both ends. As shown in FIG. 5, the surface 130a of the rotating roll 90 side of the 2nd block 130 is formed in the arc shape along the surface of the rotating roll 90. As shown in FIG. For example, the space | interval D of 1 mm or less, More preferably, 300 micrometers is formed between the surface 130a of the 2nd block 130 and the surface of the rotating roll 90. FIG.

제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)에는 회전 롤 (90)의 표면을 건조시키기 위한 배기구 (131)이 형성되고 있다. 배기구 (131)은 도 8에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 슬릿 형상으로 형성되고 있다.The exhaust port 131 for drying the surface of the rotating roll 90 is formed in the surface 130a of the 2nd block 130. As shown in FIG. The exhaust port 131 is formed in the slit shape along the longitudinal direction of the rotating roll 90, as shown in FIG.

배기구 (131)은 도 5에 나타나는 바와 같이 예를 들면 제2의 블럭 (130)내에 형성된 유로 (132)와 그 유로 (132)에 접속된 배기관 (133)에 의해 진공 펌프등의 부압발생 장치 (134)에 접속되고 있다. 부압발생 장치 (134)에 의해 배기구 (131)로부터 회전 롤 (90)의 표면의 환경을 강제적으로 배기해 회전 롤 (90)의 표면을 건조시킬 수가 있다.As illustrated in FIG. 5, the exhaust port 131 is formed of a negative pressure generator such as a vacuum pump by a flow path 132 formed in the second block 130 and an exhaust pipe 133 connected to the flow path 132. 134). The negative pressure generating device 134 can forcibly exhaust the environment of the surface of the rotary roll 90 from the exhaust port 131 to dry the surface of the rotary roll 90.

기점 (P)로부터 회전 롤 (90)이 회전 방향 (F)에 예를 들면 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에는 체류 부재로서의 제3의 블럭 (140)이 설치되고 있다. 제3의 블럭 (140)은 회전 롤 (90)의 예를 들면 180˚~240˚의 구간에 걸쳐서 회전 롤 (90)의 Y방향 정방향측의 하부를 가리도록 형성되고 있다. 제3의 블럭 (140)은 예를 들면 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 긴 길고 가는형상으로 형성되어 도 6에 나타난 바와 같이 회전롤 (90)의 양단부간에 걸쳐 형성되고 있다.A third block 140 as a staying member is provided between the starting point P and the position from which the rotary roll 90 rotates, for example, 1/2 in the rotation direction F to 3/4 rotated, have. The third block 140 is formed so as to cover the lower portion of the rotary roll 90 in the Y-direction forward direction over a section of, for example, 180 ° to 240 °. The third block 140 is formed in a long elongate shape along the long direction of the rotary roll 90, for example, and is formed over both ends of the rotary roll 90 as shown in FIG.

도 5에 나타나는 바와 같이 제3의 블럭 (140)의 회전 롤 (90)측의 표면 (140 a)에는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 떨어지는 세정액을 체류시키는 체류부 (141)과 그 체류부 (141)의 세정액을 회전 롤 (90)의 최하부에 유도하는 세정액유도부 (142)가 형성되고 있다. 체류부 (141)은 표면 (140a)의 상부에 형성되어 아래에 볼록한 굴곡 형상으로 형성되고 있다. 세정액유도부 (142)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 체류부 (141)로부터 회전 롤 (90)의 최하부까지의 회전 롤 (90)의 표면을 가리도록 원호 형상으로 굴곡하고 있다. 세정액유도부 (142)와 회전 롤의 표면의 사이에는 예를 들면 제1의 블럭 (110)과 동일하게 100μm~300μm, 더욱 바람직하게는 100μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.As shown in FIG. 5, the retention part 141 and the retention part which hold | maintain the washing | cleaning liquid falling along the surface of the rotation roll 90 in the surface 140 a of the rotation roll 90 side of the 3rd block 140. FIG. The washing | cleaning liquid guide part 142 which guides the washing | cleaning liquid of 141 to the lowest part of the rotary roll 90 is formed. The retention part 141 is formed in the upper part of the surface 140a, and is formed in the convex curved shape below. The cleaning liquid guide portion 142 is bent in an arc shape so as to cover the surface of the rotary roll 90 from the retention portion 141 to the lowermost portion of the rotary roll 90 along the surface of the rotary roll 90. Between the washing | cleaning liquid guide part 142 and the surface of a rotating roll, the space | interval D of 100 micrometers-300 micrometers, more preferably 100 micrometers is formed similarly to the 1st block 110, for example.

예를 들면 회전 롤 (90)의 최하부를 끼운 제3의 블럭 (140)의 반대측의 위치에는 제4의 블럭 (150)이 설치되고 있다. 제4의 블럭 (150)은 회전 롤 (90)의 Y방 향 부방향측의 하부 부근을 덮도록 형성되고 있다. 제4의 블럭 (150)의 표면 (150a)는 제3의 블럭 (140)의 세정액유도부 (142)와 동일하게 회전 롤 (90)과의 사이에 일정한 간격 (D)가 생기도록 원호 형상으로 형성되고 있다. 또한 제4의 블럭 (150)과 제3의 블럭 (140)은 일체적으로 형성되고 있어도 괜찮다.For example, the 4th block 150 is provided in the position on the opposite side to the 3rd block 140 which fitted the lowest part of the rotary roll 90. As shown in FIG. The fourth block 150 is formed to cover the vicinity of the lower portion of the rotary roll 90 in the Y-direction negative direction side. The surface 150a of the fourth block 150 is formed in the shape of an arc so as to generate a constant distance D between the rotary roll 90 in the same manner as the cleaning liquid guide portion 142 of the third block 140. It is becoming. In addition, the fourth block 150 and the third block 140 may be integrally formed.

제3의 블럭 (140)과 제4의 블럭 (150)의 사이에는 세정액의 배출구 (160)이 슬릿 형상으로 형성되고 있다. 이 배출구 (160)은 배관 (161)를 통해서 진공 펌프등의 흡인 장치 (162)에 접속되고 있다. 이 흡인 장치 (162)에 의한 진공 흡인에 의해, 회전 롤 (90)과 제3의 블럭 (140)의 사이 혹은 회전 롤 (90)과 제4의 블럭 (150)의 사이의 세정액을 배출구 (160)으로부터 흡인해 배출할 수 있다.Between the third block 140 and the fourth block 150, the outlet 160 of the cleaning liquid is formed in a slit shape. The outlet 160 is connected to a suction device 162 such as a vacuum pump through a pipe 161. By vacuum suction by this suction device 162, the cleaning liquid is discharged between the rotary roll 90 and the third block 140 or between the rotary roll 90 and the fourth block 150. ) And can be discharged.

예를 들면 제3의 블럭 (140)과 제4의 블럭 (150)의 아래쪽에는 드레인 팬 (170)이 설치되고 있다. 이 드레인 팬 (170)에 의해, 예를 들면 제3의 블럭 (140)이나 제4의 블럭 (150)으로부터 샌 세정액을 받아 회수할 수가 있다. 드레인 팬 (170)에는, 배액관 (171)이 접속되고 있어 드레인 팬 (170)에 모인 세정액을 배출할 수 있다.For example, the drain pan 170 is provided below the third block 140 and the fourth block 150. By this drain pan 170, for example, the washing liquid leaked from the third block 140 or the fourth block 150 can be received and recovered. The drain pipe 171 is connected to the drain pan 170, and the cleaning liquid collected in the drain pan 170 can be discharged.

또한 세정액공급 장치 (122), 흡인 장치 (125, 162), 부압발생 장치 (134)등의 동작의 제어는 제어부 (180)에 의해 행해지고 있고 세정액토출구 (111)으로부터의 세정액의 토출의 타이밍이나 토출압, 흡인구 (112)나 배출구 (160)으로부터의 흡인의 타이밍이나 흡인압, 배기구 (131)으로부터의 배기의 타이밍이나 배기압 등은 제어부 (180)에 의해 제어되고 있다.In addition, the control of the operations of the cleaning liquid supply device 122, the suction devices 125, 162, the negative pressure generating device 134, and the like is performed by the control unit 180, and the timing and discharge of the cleaning liquid discharge from the cleaning liquid discharge port 111. The timing, the suction pressure, the suction pressure from the suction port 112 and the discharge port 160, the timing of the discharge from the exhaust port 131, the exhaust pressure, and the like are controlled by the controller 180.

다음에, 이상과 같이 구성된 회전 롤 (90)의 세정기구 (100)의 동작을 유리 기판 (G)의 레지스트 도포 처리의 프로세스와 함께 설명한다.Next, the operation | movement of the washing | cleaning mechanism 100 of the rotating roll 90 comprised as mentioned above is demonstrated with the process of the resist coating process of the glass substrate G. As shown in FIG.

먼저, 도 2에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)이 대기부 (91)으로부터 회전 롤 (90)상으로 이동해, 노즐 (80)의 토출구 (80a)가 회전 롤 (90)의 최상부에 근접된다. 회전 롤 (90)은 예를 들면 표면 속도가 30~50 mm/s정도의 제1의 속도로 회전 방향 (F)로 회전되어 노즐 (80)의 토출구 (80a)로부터 회전 롤 (90)의 표면에 레지스트액이 토출되어 레지스트액의 시출이 행해진다. 이렇게 해, 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태가 정돈되어 노즐 (80)의 토출 상태가 안정된다. 또한 이 시출시에는, 세정액토출구 (111)으로부터의 세정액의 토출, 흡인구 (112), 배출구 (160)으로부터의 흡인, 배기구 (131)으로부터의 배기가 어느쪽도 정지되고 있다.First, as shown in FIG. 2, the nozzle 80 moves from the standby part 91 onto the rotating roll 90, and the discharge port 80a of the nozzle 80 approaches the uppermost part of the rotating roll 90. As shown in FIG. The rotary roll 90 is rotated in the rotation direction F at a first speed of, for example, about 30 to 50 mm / s, so that the surface of the rotary roll 90 is discharged from the discharge port 80a of the nozzle 80. The resist liquid is discharged to the application of the resist liquid. In this way, the adhesion state of the resist liquid in the discharge port 80a is ordered, and the discharge state of the nozzle 80 is stabilized. At the time of start-up, both of the discharge of the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port 111, the suction port 112, the suction from the discharge port 160, and the exhaust from the exhaust port 131 are stopped.

노즐 (80)의 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태가 정돈된 후, 노즐 (80)의 토출이 정지되어 노즐 (80)이 소정의 토출 위치 (E)로 이동한다. 노즐 (80)이 토출 위치 (E)로 이동한 후, 유리 기판 (G)가 레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 스테이지 (70)상을 반송 라인 (A)를 따라 이동된다. 유리 기판 (G)가 노즐 (80)의 하부를 통과할 때에, 노즐 (80)으로부터 레지스트액이 토출되어 유리 기판 (G)의 표면의 전면에 레지스트액이 도포된다.After the adhesion state of the resist liquid in the discharge port 80a of the nozzle 80 is trimmed, discharge of the nozzle 80 is stopped and the nozzle 80 moves to the predetermined discharge position E. FIG. After the nozzle 80 moves to the discharge position E, the glass substrate G is moved along the conveyance line A on the stage 70 of the resist coating processing unit 24. When the glass substrate G passes through the lower part of the nozzle 80, the resist liquid is discharged from the nozzle 80, and the resist liquid is apply | coated on the whole surface of the surface of the glass substrate G. As shown in FIG.

한편, 노즐 (80)이 회전 롤 (90)의 최상부로부터 토출 위치 (E) 로 이동한 후, 회전 롤 (90)의 세정이 개시된다. 먼저, 회전 롤 (90)이 시출시의 제1의 속도보다 늦은, 예를 들면 표면 속도가 10~30 mm/s정도( 제1의 속도의 약 0.5배 정도)의 제2의 속도로 회전된다. 이 때, 도 9에 나타나는 바와 같이 세정액토출구 (111) 으로부터 회전 롤 (90)과 제1의 블럭 (110)의 간격 (D)에 레지스트액의 용제인 세정가 토출된다. 토출된 세정액 (H)는 가까운 거리에 있는 회전 롤 (90)의 표면에 고압으로 충돌해 협소의 간격 (D)내에서 높은 압력을 유지한 채로 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐른다. 이 세정액 (H)의 흐름에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 제거된다. 그리고, 세정액 (H)는 회전 롤 (90)이 더러움을 제거하면서, 회전 롤 (90)의 표면을 타고 더 낙하해, 제3의 블럭 (140)의 체류부 (141)으로 일시적으로 체류된다. 이 체류부 (141)에서는 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 세정액 (H)에 용해해 여기에서도 회전 롤 (90)의 표면의 더러움이 제거된다. 체류부 (141)의 세정액 (H)는 이어서 제3의 블럭 (140)의 세정액유도부 (142)에 유입하고 회전 롤 (90)의 표면과 제3의 블럭 (140)의 간격 (D)를 통하여 배출구 (160)으로부터 배출된다.On the other hand, after the nozzle 80 moves to the discharge position E from the top of the rotating roll 90, washing of the rotating roll 90 is started. First, the rotary roll 90 is rotated at a second speed later than the first speed at the time of launching, for example, the surface speed is about 10 to 30 mm / s (about 0.5 times the first speed). . At this time, washing | cleaning which is a solvent of a resist liquid is discharged from the washing | cleaning liquid discharge port 111 to the space | interval D of the rotating roll 90 and the 1st block 110 as shown in FIG. The discharged washing | cleaning liquid H collides with the surface of the rotating roll 90 at a high pressure, and flows along the surface of the rotating roll 90, maintaining high pressure in the narrow space | interval D. In FIG. By the flow of this washing | cleaning liquid H, the resist liquid of the surface of the rotating roll 90 is removed. And the washing | cleaning liquid H falls further on the surface of the rotating roll 90, removing the dirt, and temporarily remains in the retention part 141 of the 3rd block 140. As shown in FIG. In this retention part 141, the resist liquid of the surface of the rotating roll 90 melt | dissolves in the washing | cleaning liquid H, and the dirt of the surface of the rotating roll 90 is removed also here. The cleaning liquid H of the retention portion 141 then flows into the cleaning liquid guide portion 142 of the third block 140 and through the gap D between the surface of the rotary roll 90 and the third block 140. Ejected from outlet 160.

이 세정액 (H)를 토출하는 세정 공정에서는 회전 롤 (90)이 예를 들면 2회 정도 회전된다. 그 후, 세정액토출구 (111)에 의한 세정액 (H)의 토출이 정지되어 흡인구 (112) 및 배출구 (160)으로부터의 흡인과 배기구 (131)으로부터의 배기를 한다. 이 때, 회전 롤 (90)의 회전은 시출시의 제1의 속도와 세정액 토출시의 제2의 속도보다 빠르다, 예를 들면 표면 속도가 40~60 mm/s정도( 제1의 속도의 약 1. 25배 정도)의 제3의 속도로 행해진다. 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 세정액 (H)는 도 10에 나타나는바와 같이 세정액토출구 (111)의 회전 방향 (F)측에 있는 흡인구 (112)에 의해 흡인되고 제거된다. 또, 한층 더 회전 방향 (F)측에 있는 배기구 (131)에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 환경이 강제 배기되어 회전 롤 (90)의 표면이 건조된다. 또, 회전 롤 (90)의 최하부에 있어서도, 배출구 (160)에 의해 흡인되어 회전 롤 (90)에 표면에 부착하고 있는 세정액 (H)가 제거된다. 이렇게 해, 회전 롤 (90)의 표면이 완전하게 건조되면, 흡인구 (112), 배출구 (160)으로부터의 흡인과 배기구 (131)으로부터의 배기가 정지되어 회전 롤 (90)의 건조 공정이 종료한다.In the washing | cleaning process which discharges this washing | cleaning liquid H, the rotating roll 90 is rotated about twice, for example. Thereafter, the discharge of the cleaning liquid H by the cleaning liquid discharge port 111 is stopped to suck suction from the suction port 112 and the discharge port 160 and exhaust the exhaust port 131. At this time, the rotation of the rotary roll 90 is faster than the first speed at the time of start-up and the second speed at the time of discharging the cleaning liquid, for example, the surface speed is about 40 to 60 mm / s (about the first speed). 1. about 25 times). The cleaning liquid H adhering to the surface of the rotary roll 90 is sucked and removed by the suction port 112 on the rotational direction F side of the cleaning liquid discharge port 111 as shown in FIG. 10. Moreover, the environment of the surface of the rotating roll 90 is forcibly exhausted by the exhaust port 131 located in the rotation direction F side further, and the surface of the rotating roll 90 is dried. Moreover, also in the lowest part of the rotating roll 90, the washing | cleaning liquid H attracted by the discharge port 160 and adhering to the surface of the rotating roll 90 is removed. In this way, when the surface of the rotary roll 90 is completely dried, suction from the suction port 112, the discharge port 160, and the exhaust from the exhaust port 131 will be stopped, and the drying process of the rotary roll 90 will be complete | finished. do.

이상의 실시의 형태에 의하면, 제1의 블럭 (110)에 의해 회전 롤 (90)의 표면과의 사이에 협소한 간격 (D)를 형성해, 그 간격 (D)에 세정액토출구 (111)으로부터 세정액 (H)를 토출하도록 했으므로, 세정액 (H)가 가까운 거리로부터 회전 롤 (H)의 표면에 충돌해 그 세정액 (H)가 간격 (D)내를 고압의 상태로 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐르므로 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 효과적으로 세정된다. 세정액 (H)가 회전 롤 (90)의 표면에만 공급될 뿐이므로, 종래와 같이 탱크에 세정액을 저장하는 경우에 비해 세정액 (H)의 소비량을 비약적으로 저감 할 수 있다.According to the above embodiment, the 1st block 110 forms the narrow space | interval D between the surface of the rotating roll 90, and the cleaning liquid (from the cleaning liquid discharge port 111 is formed in the space | interval D). H) was discharged so that the cleaning liquid H collides with the surface of the rotary roll H from a close distance, and the cleaning liquid H is along the surface of the rotary roll 90 in a high pressure state within the gap D. As it flows, the resist liquid on the surface of the rotary roll 90 is effectively cleaned. Since the cleaning liquid H is only supplied to the surface of the rotary roll 90, the consumption amount of the cleaning liquid H can be drastically reduced compared with the case where the cleaning liquid is stored in the tank as in the prior art.

회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)의 3/4회전~1회전까지의 사이에 세정액토출구 (111)을 설치했으므로, 세정액토출구 (111)으로부터 토출된 세정액 (H)는 회전 롤 (90)의 표면을 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)와 역방향으로 흘러 떨어진다. 이 결과, 회전 롤 (90)의 표면에 대한 세정액 (H)의 상대속도가 증가하여 세정액 (H)에 의한 세정 능력을 향상할 수가 있다.Since the washing | cleaning liquid discharge port 111 was provided between 3/4 rotation-1 rotation of the rotation direction F of the rotating roll 90, the washing | cleaning liquid H discharged from the washing | cleaning liquid discharge port 111 is a rotating roll 90 The surface of the rotating roll 90 flows in the reverse direction with the rotation direction (F). As a result, the relative speed of the washing | cleaning liquid H with respect to the surface of the rotating roll 90 increases, and the washing | cleaning ability by the washing | cleaning liquid H can be improved.

또, 제3의 블럭 (140)에 의해 체류부 (141)을 형성했으므로, 체류부 (141)의 세정액 (H)를 일단 체류시켜 그 체류부 (141)에 있어서 레지스트액을 세정액 (H)로용해시킬 수가 있다. 이것에 의해, 회전 롤 (90)의 세정을 한층 더 효과적으로 실시할 수가 있다.Moreover, since the retention part 141 was formed by the 3rd block 140, the retention liquid H of the retention part 141 is once retained, and the resist liquid is retained in the retention part 141 to the cleaning liquid H. Can be dissolved. Thereby, washing | cleaning of the rotating roll 90 can be performed more effectively.

제3의 블럭 (140)의 체류부 (141)의 하부에 세정액유도부 (142)를 형성했으므로 회전 롤 (90)의 표면의 협소한 간격 (D)에 세정액 (H)를 흘려 여기에서도 세정액 (H)에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 세정을 실시할 수가 있다.Since the cleaning liquid induction part 142 was formed in the lower part of the retention part 141 of the 3rd block 140, the washing | cleaning liquid H was flowed in the narrow space | interval D of the surface of the rotating roll 90, and here too, ), The surface of the rotary roll 90 can be cleaned.

세정액유도부 (142)가 회전 롤 (90)의 최하부까지 형성되어 그 회전 롤 (90)의 최하부에 배출구 (160)이 형성되고 있으므로, 회전 롤 (90)의 표면을 세정한 세정액 (H)를 적정하게 배출할 수 있다.Since the cleaning liquid induction part 142 is formed to the lowermost part of the rotary roll 90, and the discharge opening 160 is formed in the lowest part of the rotary roll 90, the cleaning liquid H which cleaned the surface of the rotary roll 90 is titrated. Can be discharged.

세정액토출구 (111)의 윗쪽 측에는 흡인구 (112)가 설치되었으므로 건조시에는 회전 롤 (90)의 표면의 세정액 (H)를 흡인 제거할 수 있다. 또, 흡인구 (112)의 한층 더 윗쪽 측에는 배기구 (131)이 설치되었으므로 세정액 (H)가 제거된 후에 회전 롤 (90)의 표면의 환경을 배기해 회전 롤 (90)의 표면을 건조시킬 수가 있다.Since the suction port 112 is provided on the upper side of the cleaning liquid discharge port 111, the cleaning liquid H on the surface of the rotary roll 90 can be suctioned off at the time of drying. Further, since the exhaust port 131 is provided on the upper side of the suction port 112, after the cleaning liquid H is removed, the environment of the surface of the rotary roll 90 can be exhausted to dry the surface of the rotary roll 90. have.

또, 배출구 (160)에 흡인 장치 (162)가 접속되고 있으므로 세정액유도부 (142) 등에 남는 세정액 (H)를 확실히 배출할 수가 있다.In addition, since the suction device 162 is connected to the discharge port 160, the cleaning liquid H remaining in the cleaning liquid induction part 142 or the like can be reliably discharged.

이상의 실시의 형태에 있어서 세정 공정의 회전 롤 (90)의 회전 속도보다 건조 공정의 회전 롤 (90)의 회전 속도쪽이 높아지도록 했으므로 세정 공정시에는, 회전 롤 (90)의 표면에 충분한 양의 세정액 (H)를 공급하고 건조 공정시에는 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 세정액 (H)를 윗쪽의 흡인구 (112)까지 확실히 운반하여 배출할 수가 있다.In the above embodiment, since the rotational speed of the rotational roll 90 of a drying process became higher than the rotational speed of the rotational roll 90 of a washing | cleaning process, in the case of a washing | cleaning process, a sufficient amount of the surface of the rotating roll 90 is sufficient. In the drying step, the cleaning liquid H is supplied, and the cleaning liquid H attached to the surface of the rotary roll 90 can be reliably transported to the upper suction port 112 and discharged.

이상의 실시의 형태로 기재한 세정액토출구 (111)은 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에 일렬로 형성되고 있지만, 도 11에 나타나는바와 같이 상하 2열로 형성되어 긴 방향을 향해 각 열의 세정액토출구 (111)이 서로 지그재그 형상으로 배치 되어도 괜찮다. 이렇게 하는 것으로, 회전 롤 (90)의 표면에 세정액 (H)가 얼룩 없이 토출되어 회전 롤 (90)의 세정의 보다 효과적으로 행해진다.Although the cleaning liquid discharge ports 111 described in the above embodiments are formed in one line on the surface 110a of the first block 110, as shown in FIG. 11, they are formed in two rows of upper and lower cleaning liquids in each row toward the longitudinal direction. The discharge ports 111 may be arranged in a zigzag shape with each other. By doing in this way, the washing | cleaning liquid H is discharged to the surface of the rotating roll 90 without spot, and washing | cleaning of the rotating roll 90 is performed more effectively.

또, 세정액토출구 (111)은 도 12에 나타나는 바와 같이 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에 예를 들면 회전 롤 (90)보다 긴 슬릿 형상으로 형성되고 있어도 괜찮다. 이 경우, 예를 들면 세정액토출구 (111)의 폭은, O.1mm 정도로 설정된다.Moreover, the cleaning liquid discharge port 111 may be formed in the slit shape longer than the rotating roll 90, for example on the surface 110a of the 1st block 110 as shown in FIG. In this case, for example, the width of the washing liquid discharge port 111 is set to about 0.1 mm.

이상의 실시의 형태로 기재한 세정액토출구 (111)과 흡인구 (112)는 동일한제1의 블럭 (110)에 설치되고 있지만, 다른 블럭에 설치되고 있어도 괜찮다. 또, 세정액토출구 (111), 흡인구 (112) 및 배기구 (131)이 동일한 블럭에 설치되고 있어도 괜찮다.Although the cleaning liquid discharge port 111 and the suction port 112 described in the above embodiments are provided in the same first block 110, they may be provided in other blocks. Moreover, the cleaning liquid discharge port 111, the suction port 112, and the exhaust port 131 may be provided in the same block.

또, 도 13에 나타나는 바와 같이 제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)에는 평행하게 나열하는 2열의 슬릿 형상의 배기구 (131)이 형성되고 있어도 괜찮다. 이 경우, 예를 들면 배기구 (131)의 폭은 1 mm 정도로 설정된다. 2열의 배기구 (131)의 각각의 스타일로 (132)는 제2의 블럭 (130)의 내부에서 합류해 같은 배기관 (133)에 접속되고 있다.As shown in FIG. 13, two rows of slit-shaped exhaust ports 131 arranged in parallel may be formed on the surface 130a of the second block 130. In this case, for example, the width of the exhaust port 131 is set to about 1 mm. Each style 132 of the two rows of exhaust ports 131 joins inside the second block 130 and is connected to the same exhaust pipe 133.

이상의 실시의 형태로 기재한 배출구 (160)은 흡인에 의해 세정액 (H)를 제거하고 있지만 흡인하지 않고 자연 낙하에 의해 세정액 (H)를 배출해도 괜찮다.·The discharge port 160 described in the above embodiment removes the cleaning liquid H by suction, but may remove the cleaning liquid H by natural falling without suction.

이상의 실시의 형태에서는 세정액토출구 (111)을 회전 롤 (90)이 3/4 회전한 위치로부터 1회 회전하는 위치까지의 사이에 설치하고 있지만, 회전 롤 (90)이 1/4회전한 위치로부터 1/2회전하는 위치까지의 사이와 회전 롤 (90)이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에 설치해도 좋다. 이하, 관련된 경우의 일 례를 도 14를 이용해 설명한다.In the above embodiment, the cleaning liquid discharge port 111 is provided between the position where the rotation roll 90 rotates 3/4 to the position where the rotation roll 90 rotates once. You may provide between the position which rotates 1/2, and the position which rotates the rotation roll 90 from the position which rotated 1/2 to 3/4. Hereinafter, an example of a related case is demonstrated using FIG.

회전 롤 (90)의 하부 측에는 그 회전 롤 (90)의 하부측의 표면을 덮는 커버체로서의 플레이트 (200)이 설치된다. 플레이트 (200)은 최상부를 기점 (P)로서 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)의 120˚정도에서 240˚정도까지의 구간을 덮도록 형성되고 있다. 플레이트 (200)은 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 길고 가늘게 형성되어 회전 롤 (90)의 긴 방향의 양단부 사이에 걸쳐서 형성되고 있다. 플레이트 (200)은 회전 롤 (90)의 표면 형상을 따라 원호 형상으로 형성되고 있다. 플레이트 (200)과 회전 롤 (90)의 표면의 사이에는 상기 실시의 형태와 동일하게 100μm~300μm, 더욱 바람직하게는 100μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.On the lower side of the rotary roll 90, the plate 200 as a cover body which covers the surface of the lower side of the rotary roll 90 is provided. The plate 200 is formed so that the uppermost part may cover the section from about 120 degrees to about 240 degrees of the rotation direction F of the rotation roll 90 as a starting point P. FIG. The plate 200 is formed long and thin along the long direction of the rotary roll 90, and is formed between the both ends of the long direction of the rotary roll 90. As shown in FIG. The plate 200 is formed in circular arc shape along the surface shape of the rotary roll 90. The space | interval D of 100 micrometers-300 micrometers, More preferably, 100 micrometers is formed between the plate 200 and the surface of the rotating roll 90 similarly to the said embodiment.

플레이트 (200)의 중앙부 으로서, 회전 롤 (90)의 최하부에 대향하는 위치에는 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따른 슬릿 형상의 배출구 (201)이 형성되고 있다. 플레이트 (200)의 배출구 (201)의 양측에는, 각각 세정액토출구 (202,203)이 형성되고 있다. 세정액토출구 (202,203)은, 배출구 (201)으로부터 예를 들면 30˚정도 떨어진 동일거리의 위치에 형성되고 있다. 세정액토출구 (202,203)은 예를 들면 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따른 슬릿 형상으로 형성되고 있다.As a center part of the plate 200, the slit-shaped discharge port 201 along the longitudinal direction of the rotation roll 90 is formed in the position which opposes the lowest part of the rotation roll 90. As shown in FIG. On both sides of the discharge port 201 of the plate 200, cleaning liquid discharge ports 202 and 203 are formed, respectively. The cleaning liquid discharge ports 202 and 203 are formed at the same distance from the discharge port 201 at, for example, about 30 degrees. The cleaning liquid discharge ports 202 and 203 are formed in a slit shape along the long direction of the rotary roll 90, for example.

세정액토출구(202,203)은 각 공급관 (210)에 의해 세정액공급 장치 (211)에 접속되고 있다. 이 세정액공급 장치 (211)로부터의 세정액의 공급에 의해 세정액토출구 (202,203)으로부터 회전 롤 (90)과 플레이트 (200) 사이의 간격 (D)에 세정액을 토출할 수 있다.The cleaning liquid discharge ports 202 and 203 are connected to the cleaning liquid supply device 211 by respective supply pipes 210. By the supply of the cleaning liquid from the cleaning liquid supply device 211, the cleaning liquid can be discharged from the cleaning liquid discharge ports 202 and 203 to the space D between the rotary roll 90 and the plate 200.

배출구 (201)은 배관 (220)에 의해 진공 펌프등의 흡인 장치 (221)에 접속되 고 있다. 흡인 장치 (221)에 의한 진공 흡인에 의해 흡인구 (201)으로부터 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인해 제거할 수 있다.The discharge port 201 is connected to a suction device 221 such as a vacuum pump by a pipe 220. By the vacuum suction by the suction apparatus 221, the washing | cleaning liquid of the surface of the rotating roll 90 can be sucked and removed from the suction port 201.

플레이트 (200)의 하부에는, 상기 실시의 형태와 동일하게 배액관 (230)을 가지는 드레인 관 (231)이 설치되고 있다.In the lower part of the plate 200, the drain pipe 231 which has the drainage pipe 230 is provided similarly to the said embodiment.

그리고, 회전 롤 (90)을 세정할 때에는 회전 롤 (90)이 상술의 제2의 속도로 회전된 상태로 세정액토출구(202,203)으로부터 회전 롤 (90)의 표면으로 향해 세정액 (H)가 토출되어 플레이트 (200)과 회전 롤 (90)의 간격 (D)에 세정액 (H)가 공급된다. 이 때, 예를 들면 배출구 (201)으로부터 흡인을 해 간격 (D)에 공급된 세정액 (H)는 회전 롤 (90)의 최하부에 위치하는 배출구 (201)으로부터 배출된다. 이 상태로 예를 들면 회전 롤 (90)이 2 회전 정도된 후, 세정액토출구(202,203)으로부터의 세정액 (H)의 토출이 정지된다. 그 후, 예를 들면 회전 롤 (90)의 회전 속도가 제2의 속도로부터 상술의 제3의 속도에 거론되어 배출구 (201)으로부터의 흡인에 의해, 플레이트 (200)과 회전 롤 (90)과의 간격 (D)의 세정액 (H)가 흡인 제거되어 회전 롤 (90)의 표면이 건조된다.When the rotary roll 90 is cleaned, the cleaning liquid H is discharged from the cleaning liquid discharge ports 202 and 203 toward the surface of the rotary roll 90 while the rotary roll 90 is rotated at the second speed described above. The cleaning liquid H is supplied to the gap D between the plate 200 and the rotary roll 90. At this time, for example, the cleaning liquid H sucked from the discharge port 201 and supplied to the gap D is discharged from the discharge port 201 located at the bottom of the rotary roll 90. In this state, for example, after the rotation roll 90 is about two turns, the discharge of the cleaning liquid H from the cleaning liquid discharge ports 202 and 203 is stopped. Then, for example, the rotational speed of the rotary roll 90 is discussed from the second speed to the above-mentioned third speed, and the suction of the discharge port 201 causes the plate 200 and the rotary roll 90 to be separated from each other. The cleaning liquid H at the interval D of the suction is removed by suction, and the surface of the rotary roll 90 is dried.

이 실시의 형태에 있어서도 협소한 간격 (D)에 세정액 (H)가 토출되어 고압의 수류에 의해 회전 롤 (90)의 더러움이 제거되므로, 회전 롤 (90)의 세정이 효과적으로 행해진다. 또, 협소한 간격 (D)에 세정액 (H)를 공급할 뿐이므로, 세정액 (H)의 소비량을 비약적으로 저감 할 수 있다.Also in this embodiment, since the washing | cleaning liquid H is discharged in the narrow space | interval D, and the dirt of the rotating roll 90 is removed by high pressure water flow, the cleaning of the rotating roll 90 is performed effectively. Moreover, since only the washing | cleaning liquid H is supplied to the narrow space | interval D, the consumption amount of the washing | cleaning liquid H can be drastically reduced.

또, 배출구 (201)을 사이에 둔 양측으로 세정액토출구(202,203)이 설치되었으므로, 회전 방향 (F)에 대해서 뒤측의 세정액토출구 (202)로부터 배출구 (201)을 향해 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)와 동일한 방향으로 세정액 (H)가 흐른다. 이 동안 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 레지스트액을 세정액 (H)로 용해시킬 수가 있다. 또, 회전 방향 (F)에 대해서 전방측의 세정액토출구 (203)으로부터 배출구 (201)을 향해 회전 롤 (90)과 역회전의 방향으로 세정액 (H)가 흐르므로, 세정액 (H)와 회전 롤 (90)의 상대속도가 증대해 세정액 (H)가 회전 롤 (90)의 레지스트액을 강제적으로 제거할 수가 있다.In addition, since the cleaning liquid discharge ports 202 and 203 are provided on both sides with the discharge port 201 interposed therebetween, the rotation direction of the rotary roll 90 from the cleaning liquid discharge port 202 on the rear side toward the discharge port 201 with respect to the rotation direction F. The washing liquid H flows in the same direction as in (F). During this time, the resist liquid adhering to the surface of the rotary roll 90 can be dissolved in the cleaning liquid H. Moreover, since the washing | cleaning liquid H flows in the direction of the rotation roll 90 and a reverse rotation from the washing | cleaning liquid discharge port 203 of the front side toward the discharge opening 201 with respect to the rotation direction F, the washing | cleaning liquid H and a rotating roll The relative speed of 90 increases, and the cleaning liquid H can forcibly remove the resist liquid of the rotary roll 90.

배출구 (201)에는 흡인 장치 (221)이 접속되고 있으므로, 플레이트 (200)에 남는 세정액 (H)를 확실히 배출할 수가 있다.Since the suction device 221 is connected to the discharge port 201, the cleaning liquid H remaining in the plate 200 can be reliably discharged.

또, 배출구 (201)을 회전 롤 (90)의 최하부의 위치에 설치했으므로 플레이트 (200)상의 세정액 (H)를 배출하기 쉽다. 또한 상기 실시의 형태에서는 배출구 (201)이 진공 흡인되고 있었지만 자연 낙하에 의해 세정액 (H)를 배출해도 괜찮다.Moreover, since the discharge port 201 was provided in the lowest position of the rotating roll 90, it is easy to discharge the washing | cleaning liquid H on the plate 200. In addition, although the discharge port 201 was vacuum-aspirated in the said embodiment, you may discharge | clean the washing | cleaning liquid H by natural fall.

이상의 실시의 형태에 있어서 플레이트 (200)의 회전 방향 (F)측에, 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인 제거하는 흡인구를 설치해도 좋다. 예를 들면 도 15에 나타나는 바와 같이 예를 들면 플레이트 (200)의 회전 방향 (F)측에, 상술의 실시의 형태와 같은 제1의 블럭 (110)가 설치된다. 이 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에 흡인구 (240)이 형성된다. 흡인구 (240)은 제1의 블럭 (110)내에 형성된 유로 (241)과 그 유로 (241)에 접속된 배관 (242)에 의해, 진공 펌프등의 흡인 장치 (243)에 접속되고 있다. 그리고, 회전 롤 (90)의 건조시에는 상술한 배출구 (201)으로부터의 배출에 아울러 흡인구 (240)으로부터의 흡인에 의해도 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 제거된다. 이렇게 하는 것으로, 회전 롤 (90)의 회전 에 의해 플레이트 (200)의 외측으로 운반되어진 세정액 (H)도 적정하게 제거할 수 있다.In the above embodiment, you may provide the suction port which suction-removes the washing | cleaning liquid of the surface of the rotating roll 90 to the rotation direction F side of the plate 200. For example, as shown in FIG. 15, the 1st block 110 like embodiment mentioned above is provided in the rotation direction F side of the plate 200, for example. A suction port 240 is formed on the surface 110a of the first block 110. The suction port 240 is connected to a suction device 243 such as a vacuum pump by a flow path 241 formed in the first block 110 and a pipe 242 connected to the flow path 241. At the time of drying of the rotary roll 90, the resist liquid on the surface of the rotary roll 90 is also removed by suction from the suction port 240 in addition to the discharge from the discharge port 201 described above. By doing in this way, the washing | cleaning liquid H conveyed to the outer side of the plate 200 by rotation of the rotating roll 90 can also be removed suitably.

또, 플레이트 (200)을 구비한 상술의 실시의 형태에 있어서, 회전 롤 (90)의 표면을 건조시키는 배기구를 설치해도 좋다. 예를 들면, 도 15에 나타내는 상기예 에 있어서, 흡인구 (240)의 한층 더 회전 방향 (F)측에 상술한 실시의 형태와 동일한 제2의 블럭 (130)이 설치된다. 제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)에 배기구 (250)이 형성된다. 배기구 (250)은 제2의 블럭 (130)내에 형성된 유로 (251)과 유로 (251)에 접속된 배관 (252)에 의해 부압발생 장치 (253)에 접속되고 있다. 그리고, 세정 후의 건조시에는 배기구 (250)으로부터 회전 롤 (90)의 표면의 환경을 배기하는 것으로써 회전 롤 (90)의 표면의 건조를 촉진할 수 있다. 이것에 의해 회전 롤 (90)의 건조를 보다 확실히 실시할 수가 있다.Moreover, in the above-mentioned embodiment provided with the plate 200, you may provide the exhaust port which dries the surface of the rotating roll 90. FIG. For example, in the said example shown in FIG. 15, the 2nd block 130 similar to embodiment mentioned above is provided in the rotation direction F side of the suction port 240 further. An exhaust port 250 is formed in the surface 130a of the second block 130. The exhaust port 250 is connected to the negative pressure generating device 253 by a flow path 251 formed in the second block 130 and a pipe 252 connected to the flow path 251. And at the time of drying after washing | cleaning, drying of the surface of the rotating roll 90 can be accelerated | emitted by exhausting the environment of the surface of the rotating roll 90 from the exhaust port 250. FIG. Thereby, drying of the rotating roll 90 can be performed more reliably.

이상의 실시의 형태에서는 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에는 흡인구 (112)가 형성되고 있지만 도 16에 나타나는 바와 같이 한층 더 동일한 표면 (110a)에 세정액을 흡인하는 흡인구 (301)을 형성해도 좋다.In the above embodiment, although the suction port 112 is formed in the surface 110a of the 1st block 110, as shown in FIG. 16, the suction port 301 which suctions a washing | cleaning liquid to the same surface 110a furthermore. May be formed.

흡인구 (301)은 흡인구 (112)의 회전 방향 (F)측 즉 윗쪽측의 표면 (110a)에 형성되고 있다. 흡인구 (301)의 형상은 흡인구 (112)와 동일하게 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 슬릿 형상이 되고 있다.The suction port 301 is formed on the surface 110a of the suction port 112 at the rotational direction F side, that is, the upper side. The suction port 301 has a slit shape along the long direction of the rotary roll 90 in the same manner as the suction port 112.

흡인구 (301)은 제1의 블럭내에 형성된 유로 (302)와 그 유로 (302)에 접속된 배관 (303)에 의해, 흡인 장치 (304)에 접속되고 있다. 흡인 장치 (304)에 의한 진공 흡인에 의해 흡인구 (301)으로부터 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인해 제거할 수 있다. 따라서 흡인 장치 (304)와 흡인 장치 (125)를 동시에 가동시키는 것에 의해, 흡인구 (301)과 흡인구 (112)의 2 곳으로부터 한 번에 다량의 세정액을 흡인할 수가 있다.The suction port 301 is connected to the suction device 304 by a flow path 302 formed in the first block and a pipe 303 connected to the flow path 302. By the vacuum suction by the suction apparatus 304, the washing | cleaning liquid of the surface of the rotating roll 90 can be sucked and removed from the suction port 301. Therefore, by simultaneously operating the suction device 304 and the suction device 125, a large amount of the cleaning liquid can be sucked from two places of the suction port 301 and the suction port 112 at one time.

또 흡인구 (301)의 회전 방향 (F)측의 표면 (110a)에 선단 (305a)를 기울기 아래쪽으로 향해 성형하고, 세정액 (H)를 일시적으로 체류시키는 체류부 (305)를 형성해도 좋다. 이 체류부 (305)에서는 세정액토출구 (111)으로부터 토출된 세정액 (H)의 일부가, 회전 롤 (90)의 표면을 따라 올라 일시적으로 체류된다. 그리고, 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 세정액 (H)에 용해해, 체류부 (305)에서도 회전 롤 (90)의 표면의 더러움이 제거된다.Further, the tip 305a may be molded downward on the inclination downward on the surface 110a on the rotational direction F side of the suction port 301, and a retention portion 305 for temporarily retaining the cleaning liquid H may be formed. In this retention part 305, a part of the cleaning liquid H discharged from the cleaning liquid discharge port 111 rises along the surface of the rotary roll 90, and temporarily stays. And the resist liquid of the surface of the rotating roll 90 melt | dissolves in the washing | cleaning liquid H, and the dirt of the surface of the rotating roll 90 is removed also in the retention part 305. As shown in FIG.

이상과 같이 구성되는 세정기구 (100)을 이용해 다음에 설명하는 방법으로 회전 롤 (90)을 세정해도 괜찮다. 도 17은 회전 롤 (90)의 원주상의 동점 (S)의 수직 방향 위치의 경시 변화와 동점 (S)의 수직 방향 위치에 대응해 세정액토출구 (111)으로부터 세정액 (H)를 토출하는 타이밍, 흡인구 (301),(112) 및 배출구 (160)으로부터 세정액 (H)를 흡인하는 타이밍 및 배기구 (131)으로부터 배기하는 타이밍을 나타낸 설명도이다.You may wash the rotating roll 90 by the method demonstrated below using the washing | cleaning mechanism 100 comprised as mentioned above. 17 is a timing of discharging the cleaning liquid H from the cleaning liquid discharge port 111 in correspondence with the chronological change of the vertical position of the circumferential tie S of the rotary roll 90 and the vertical position of the tie S; It is explanatory drawing which showed the timing which draws in the washing | cleaning liquid H from the suction ports 301, 112, and the discharge port 160, and the timing which exhausts from the exhaust port 131. FIG.

노즐 (80)이 회전 롤 (90)상으로 이동한 후, 회전 롤 (90)은 예를 들면 표면 속도가 30~50 mm/s의 속도로 회전 방향 (F)로 회전된다. 그리고 회전 롤 (90)이 예를 들면 반주 회전하는 동안, 즉 회전 롤 (90)의 표면상의 동점 (S)가 회전 롤 (90)의 최상부로부터 최하부로 이동하는 동안(도 17의 R공정), 노즐 (80)으로부터 회전 롤 (90)의 표면에 레지스트액의 시출이 행해진다. 이 레지스트액의 시출이 종 료하면 회전 롤 (90)의 세정이 개시된다.After the nozzle 80 moves on the rotary roll 90, the rotary roll 90 is rotated in the rotation direction F at a speed of, for example, 30 to 50 mm / s. And while the rotary roll 90 is for example accommodating, that is, while the tie S on the surface of the rotary roll 90 moves from the top of the rotary roll 90 to the bottom (R process in FIG. 17), Application of a resist liquid is performed from the nozzle 80 to the surface of the rotating roll 90. When the application of this resist liquid is finished, cleaning of the rotary roll 90 is started.

먼저 동점 (S)가 회전 롤 (90)의 최하부에 이른 후, 세정액토출구 (111)으로부터 회전 롤 (90)과 제1의 블럭 (110)의 간격 (D)에 세정액 (H)가 토출된다. 이 때 회전 롤 (90)이 레지스트액의 시출시의 속도보다 늦다, 예를 들면 표면 속도 1 0~30 mm/s로 회전된다. 토출된 세정액 (H)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐른다. 이 세정액 (H)의 흐름에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 제거된다. 그리고 동점 (S)가 흡인구 (301)을 통과했을 때 세정액토출구 (111)으로부터의 세정액 (H)의 토출을 멈춘다(도 17의 T1공정).First, the tie point S reaches the lowermost part of the rotary roll 90, and then the cleaning liquid H is discharged from the cleaning liquid discharge port 111 to the space D between the rotary roll 90 and the first block 110. At this time, the rotation roll 90 is slower than the speed | rate at the time of the start of the resist liquid, for example, it rotates by surface speed of 10-30 mm / s. The discharged cleaning liquid H flows along the surface of the rotary roll 90. By the flow of this washing | cleaning liquid H, the resist liquid of the surface of the rotating roll 90 is removed. Then, when the tie point S passes through the suction port 301, the discharge of the cleaning liquid H from the cleaning liquid discharge port 111 is stopped (T1 process in FIG. 17).

동점 (S)가 흡인구 (301)을 통과하면 흡인구 (301), (112) 및 배출구 (160)으로부터 세정액 (H)가 흡인된다. 그리고 동점 (S)가 다시 회전 롤 (90)의 최하부에 이르렀을 때에 이 세정액 (H)의 흡인을 멈춘다 (도 17의 T2공정).When the tie point S passes through the suction port 301, the cleaning liquid H is sucked from the suction ports 301 and 112 and the discharge port 160. And when ties S reach | attain the lowermost part of the rotary roll 90, the suction of this washing | cleaning liquid H is stopped (T2 process of FIG. 17).

그 후, T1 공정에 있어서의 세정액 (H)의 토출과 T2 공정에 있어서의 세정액 (H)의 흡인과 같은 공정으로 세정액 (H)의 토출(도 17의 T3공정)과 세정액 (H)의 흡인(도 17의 T4공정)을 한다.Subsequently, the discharge of the cleaning liquid H (step T3 in FIG. 17) and the cleaning liquid H are performed in the same process as the discharge of the cleaning liquid H in the T1 process and the suction of the cleaning liquid H in the T2 process. (T4 process in FIG. 17) is performed.

이와 같이 T1~T4공정을 해 동점 (S)가 회전 롤 (90)의 최하부에 이르렀을 때 세정액토출구 (111)으로부터 세정액 (H)가 토출된다. 그리고 동점 (S)가 일주 해 다시 회전 롤 (90)의 최하부에 이르렀을 때에 세정액 (H)의 토출을 멈춘다 (도 17의 T5공정).In this way, the cleaning liquid H is discharged from the cleaning liquid discharge port 111 when the kinematic point S reaches the bottom of the rotary roll 90 by performing the steps T1 to T4. Then, when the tie point S rounds and reaches the bottom of the rotary roll 90 again, the discharge of the cleaning liquid H is stopped (T5 process in FIG. 17).

이상의 T1~T5공정의 종료하면 흡인구 (301), (112) 및 배출구 (160)으로부터의 세정액 (H)의 흡인과 배기구 (131)으로부터의 배기가 동시에 행해진다. 이 때, 회전 롤 (90)의 회전은 시출시(R공정)의 속도와 세정액 (H)의 토출·흡인시(T1~T5공정)의 속도보다 빠르다, 예를 들면 표면 속도가 40~60 mm/s의 속도로 행해진다. 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 세정액 (H)는 흡인구 (301),(112) 및 배출구 (160)에 의해 제거되어 한층 더 배기구 (131)에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 환경이 강제 배기되어 회전 롤 (90)의 표면이 건조된다(도 17의 E공정).When the above steps T1 to T5 are completed, suction of the cleaning liquid H from the suction ports 301 and 112 and the discharge port 160 and the discharge from the exhaust port 131 are simultaneously performed. At this time, the rotation of the rotary roll 90 is faster than the speed at the time of start-up (R process) and the speed at the time of discharge and suction of the cleaning liquid H (T1-T5 process), for example, the surface speed is 40-60 mm. at a speed of / s. The cleaning liquid H adhering to the surface of the rotary roll 90 is removed by the suction ports 301 and 112 and the discharge port 160, and further, the environment of the surface of the rotary roll 90 by the exhaust port 131. This forced evacuation causes the surface of the rotary roll 90 to dry (step E in FIG. 17).

발명자들의 지견에 의하면 이상의 회전 롤 (90)의 세정 방법으로 나타나는 바와 같이 세정액 (H)의 토출과 흡인이 교대로 행해지고(T1~T5공정) 간헐적으로 세정액 (H)를 토출한 경우에서도 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 레지스트액을 충분히 세정할 수가 있다. 그리고 세정액 (H)의 토출이 간헐적이므로, 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액을 효율적으로 세정할 수가 있어 회전 롤 (90)의 세정에 사용되는 세정액 (H)의 소비량을 비약적으로 저감 할 수가 있다. 예를 들면, 세정액 (H)를 연속해 토출하는 회전 롤 (90)을 세정하는 경우, 1회의 세정에 사용하는 세정액 (H)의 소비량은 300 ml이었지만 본 세정 방법과 같이 세정액 (H)를 간헐적으로 토출하는 것에 의해 세정액 (H)의 소비량을 67 ml에 억제할 수가 있었다.According to the findings of the inventors, even when the cleaning liquid H is discharged and sucked alternately (T1 to T5 processes) and the cleaning liquid H is discharged intermittently, as shown by the above cleaning method of the rotary roll 90 The resist liquid attached to the surface of 90) can be sufficiently washed. Since the discharge of the cleaning liquid H is intermittent, the resist liquid on the surface of the rotary roll 90 can be efficiently washed, and the consumption amount of the cleaning liquid H used for the cleaning of the rotary roll 90 can be drastically reduced. have. For example, in the case of washing the rotary roll 90 which discharges the cleaning liquid H continuously, the consumption amount of the cleaning liquid H used for one time cleaning was 300 ml, but the cleaning liquid H was intermittently similar to the present cleaning method. By discharging at a rate of 67 ml, the consumption amount of the cleaning liquid H could be suppressed.

이상, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 매우 적합한 실시의 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명에 관련되는 예로 한정되지 않는다. 당업자라면 특허 청구의 범위에 기재된 사상의 범주내 에 있어서, 각종의 변경예 또는 수정예에 상도할 수 있는 것은 분명하고, 그들에 대해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것으로 이해된다. 예를 들면 이상의 실시의 형태로 기재한 세정액토출구 (111)과 제1의 블럭 (110)이나, 세정액토출구 (202,203)과 플레이트 (200)은 회전 롤 (90)의 표면상의 다른 위치에 설치해도 좋다. 또, 제1~ 제4의 블럭 (110, 130, 140, 150)이나, 플레이트 (200)등의 형상은 다른 형상으로서도 좋다. 상기 실시의 형태에서는 본 발명을 레지스트액의 시출이 행해지는 회전 롤의 세정에 대해서 적용하고 있었지만 현상액등의 다른 도포액의 시출이 행해지는 회전 롤의 세정에 적용해도 괜찮다. 또, 세정액 (H)도 용제에 한정되지 않고 순수한 물 등 다른 액체로서도 좋다. 본 발명은 유리 기판 (G) 이외의 FPD(플랫 패널 디스플레이)나 포토마스크용의 마스크에틸클, 반도체 웨이퍼 등의 다른 기판에 도포액을 도포하는 경우에도 적용할 수 있다.As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it is not limited to the example which concerns on this invention. It is apparent to those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the idea described in the claims, and that they naturally belong to the technical scope of the present invention. For example, the cleaning liquid discharge port 111 and the first block 110 described in the above embodiments, or the cleaning liquid discharge ports 202 and 203 and the plate 200 may be provided at different positions on the surface of the rotary roll 90. . Moreover, the shape of the 1st-4th blocks 110, 130, 140, 150, the plate 200, etc. may be another shape. In the above embodiment, the present invention has been applied to the cleaning of the rotary roll in which the application of the resist liquid is carried out. However, the present invention may be applied to the cleaning of the rotary roll in which the application of other coating liquids such as developer is performed. Moreover, the washing | cleaning liquid (H) is not limited to a solvent, It is good also as other liquids, such as pure water. This invention is applicable also when apply | coating a coating liquid to other board | substrates, such as FPD (flat panel display) other than glass substrate G, the mask ethylcle for photomasks, and a semiconductor wafer.

본 발명은 회전 롤을 세정하는 세정액의 소비량을 저감 할 때에 유용하다. This invention is useful when reducing the consumption amount of the washing | cleaning liquid which wash | cleans a rotary roll.

본 발명에 세정액의 소비량을 저감 하고 도포 처리 유니트의 런닝 코스트를 저감 할 수 있다.In the present invention, the consumption of the cleaning liquid can be reduced, and the running cost of the coating processing unit can be reduced.

Claims

As a washing | cleaning mechanism of the rotating roll in which coating liquid is supplied from a nozzle, before a coating liquid is discharged from a nozzle to a board | substrate,

A cover body which covers a part of the surface of the rotating roll along the surface and forms a gap between the surface of the rotating roll;

And a cleaning liquid discharge port for discharging the cleaning liquid at a distance between the cover body and the surface of the rotating roll.

The method according to claim 1,

The cleaning liquid discharge port is formed in the cover body.

The method according to claim 1,

The cleaning liquid discharge port is provided between the position where the rotary roll is rotated 3/4 from the position where the rotary roll is rotated 3/4 in the direction of rotation from the top of the rotary roll to which the coating liquid is supplied from the nozzle. Cleaning mechanism of rotary rolls.

The method according to claim 3,

Between the rotational position of the said rotational roll to the position which rotates 3/4, the retention member which keeps the washing | cleaning liquid which dripping along the surface of the rotational roll from the said cleaning liquid discharge port in the surface of the said rotational roll is provided. The washing | cleaning mechanism of the rotating roll characterized by the above-mentioned.

The method according to claim 4,

And the retention member includes a retention portion for receiving and retaining the cleaning liquid from the upper side and a cleaning liquid guide portion for flowing the cleaning liquid in the retention portion downward along the surface of the rotary roll.

The method according to claim 5,

The said stay part is formed in concave shape in the upper part of the surface side of the rotating roll of a stay member,

And the cleaning liquid guide portion covers the surface of the rotating roll along the surface thereof and forms a gap between the surface of the rotating roll and the surface of the rotating roll.

The method according to claim 5,

The cleaning liquid induction part is formed up to the lowermost part of the rotating roll, and a cleaning liquid discharge mechanism is provided at a position of the lowest part of the rotating roll.

The method according to claim 7,

And a suction device for sucking the cleaning liquid is connected to the discharge port.

The method according to claim 3,

And a suction port for sucking and removing the cleaning liquid on the surface of the rotating roll from the cleaning liquid discharge port on the rotational direction side of the rotating roll.

The method according to claim 1,

The top of the rotating roll supplied with the coating liquid from the nozzle is the starting point of the rotation, from the position in which the rotation roll is rotated 1/4 to the position in which the rotation is rotated 1/2 and from the position in which the rotation roll is rotated 1/2 The washing | cleaning mechanism of the rotating roll characterized by the above-mentioned washing | cleaning liquid discharge opening provided to the rotating position.

The method according to claim 10,

The cleaning liquid discharge port is installed in two places,

And the cover member is formed to cover the surface of the rotary roll between at least two cleaning liquid discharge ports on the lower side of the rotary roll.

The method according to claim 11,

The cleaning mechanism of the rotary roll, characterized in that the outlet of the cleaning liquid is formed in the cover body between the two cleaning liquid discharge ports.

The method according to claim 12,

The discharge port is formed in a position facing the lowermost portion of the rotary roll, the cleaning mechanism of the rotary roll.

The method according to claim 12,

The method according to claim 10,

A rotating roll for suctioning and removing the cleaning liquid on the surface of the rotating roll is provided on the rotation direction side of the cleaning liquid discharge port positioned between one half rotation and three quarter rotation of the rotating roll. Cleaning appliance.

The method according to any one of claims 9 or 15,

And an exhaust port for drying the surface of the rotary roll on the other rotational side of the suction port.

The method according to claim 1,

And the cleaning liquid discharge ports are arranged in two rows in the vertical direction along the longitudinal direction of the rotary roll, and the cleaning liquid discharge ports of the two rows are arranged in a zigzag shape with each other.

As a washing | cleaning method of the rotating roll using the washing | cleaning mechanism of the rotating roll of any one of Claims 9 or 15,

The cleaning step of rotating the rotating roll while supplying the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port and the supply of the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port are stopped, and the rotating roll is rotated at a speed higher than that of the cleaning process to absorb the cleaning liquid on the surface of the rotating roll. It has a drying process which aspirates and removes by a population, The washing | cleaning method of the rotary roll characterized by the above-mentioned.

A discharge step of discharging the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port while rotating the rotary roll, and a suction step of sucking and removing the cleaning liquid on the surface of the rotary roll by a suction port while rotating the rotating roll at the same speed as the discharge step,

In the discharge step, suction of the cleaning liquid from the suction port is stopped.

In the suction step, the supply of the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port is stopped.