KR20070050531A - Method for manufacturing antistatic light-diffusion optical devices and antistatic light-diffusion optical devices using thereof - Google Patents

Method for manufacturing antistatic light-diffusion optical devices and antistatic light-diffusion optical devices using thereof Download PDF

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Abstract

본 발명은 대전방지 확산 코팅 광학소자의 제조방법을 제공하기 위한 것으로, LCD셀에 점착제에 의해 부착된 편광필름 상면으로 스핀 코팅(spin-coating) 방식을 이용하여 대전방지층을 형성하고, 그 대전방지 코팅층 위에 확산 코팅층을 형성함으로써, 대전방지 기능과 광확산 기능 동시에 수행할 수 있다.The present invention is to provide a method for manufacturing an antistatic diffusion coating optical element, to form an antistatic layer using a spin-coating method on the upper surface of the polarizing film attached by a pressure-sensitive adhesive to the LCD cell, the antistatic By forming the diffusion coating layer on the coating layer, it can be performed simultaneously with the antistatic function and the light diffusion function.

Description

대전방지 확산 코팅 광학소자의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 확산 코팅 광학소자{Method for Manufacturing Antistatic Light-Diffusion Optical Devices and Antistatic Light-Diffusion Optical Devices using thereof}Method for manufacturing antistatic diffusion coating optical device and antistatic diffusion coating optical device using same {Method for Manufacturing Antistatic Light-Diffusion Optical Devices and Antistatic Light-Diffusion Optical Devices using

도 1은 도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 대전방지 확산 광학소자의 구성도,1 is a block diagram of an antistatic diffusion optical device according to an embodiment of the present invention,

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예 1, 2, 3에서 얻어진 광학소자의 투과율 그래프,2 is a graph showing transmittances of optical elements obtained in preferred embodiments 1, 2, and 3 of the present invention;

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예 4, 5, 6에서 얻어진 광학소자의 투과율 그래프,3 is a graph showing transmittances of optical elements obtained in preferred embodiments 4, 5, and 6 of the present invention;

도 4는 비교예 1에서 얻어진 광학소자의 투과율 그래프이다.4 is a graph showing transmittance of the optical device obtained in Comparative Example 1. FIG.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100: LCD셀 200: 점착제100: LCD cell 200: adhesive

300: 편광필름 400: 대전방지층300: polarizing film 400: antistatic layer

500: 확산 코팅층500: diffusion coating layer

본 발명은 대전방지 확산 코팅 광학소자의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 확산 코팅 광학소자에 관한 것으로, 특히 LCD셀에 점착제에 의해 부착된 편광필름 위에 스핀 코팅(spin-coating) 방식을 이용하여 대전방지층을 형성하고, 그 대전방지 코팅층 위에 확산 코팅층을 형성함으로써, 대전방지 기능과 광확산 기능을 동시에 갖는 대전방지 확산 광학소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing an antistatic diffusion coating optical device and an antistatic diffusion coating optical device using the same, in particular an antistatic layer using a spin-coating method on a polarizing film attached by an adhesive to an LCD cell The present invention relates to an antistatic diffusion optical device having an antistatic function and a light diffusion function at the same time, and forming a diffusion coating layer on the antistatic coating layer, and a method of manufacturing the same.

일반적으로, 핸드폰, 노트북, 모니터, 냉장고, 에어컨, 세탁기 등의 가전 제품에는 다양한 기능을 표시하기 위해서 광원과 확산 필름 등의 디스플레이 부분들이 필요하며, 이러한 디스플레이 부분들에 대해서는 백색을 비롯한 다양한 색상의 광원이 요구되고 있다.In general, home appliances such as mobile phones, laptops, monitors, refrigerators, air conditioners and washing machines require display parts such as a light source and a diffusion film to display various functions. For these display parts, light sources of various colors including white are used. This is required.

또한, 상기의 디스플레이는 정전기에 의해 표면에 이물질이 부착되거나 액정을 깨뜨리는 등의 문제를 발생시키기에 정전기 발생을 방지하는 기능을 갖는 필름이나 광학소자가 요구되고 있었다. In addition, the above display requires a film or an optical element having a function of preventing the generation of static electricity, since a problem such as adhesion of foreign matter to the surface or breaking of the liquid crystal is caused by static electricity.

따라서, 종래에는 이러한 다양한 디스플레이 부분들에 대해서, 광원의 광을 균일하게 확산시킴으로써 시인성을 높이기 위한 광확산 필름들이 개발되어 있으며, 이러한 광확산 필름들에는 폴리메틸메타크릴레이트 수지와 폴리카보네이트 수지 등의 광투과성 수지로 이루어진 필름 기재 중에 광확산제를 분산시킨 필름을 이용한 것, 폴리메타크릴레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리메틸메타크릴레이트 수지 등의 광투과성 수지로 이루어진 필름 기재의 표면에 직접 요철을 형성한 것, 확산제를 광투과성 수지 중에 배합 분산시킨 조성물을 필름 기재 상에 도포하여 광확산층을 형성시킨 광확산 필름 등이 알려져 있다.Therefore, conventionally, for these various display parts, light diffusing films have been developed to increase visibility by uniformly diffusing light of a light source, and such light diffusing films include polymethyl methacrylate resin and polycarbonate resin. Unevenness is directly applied to the surface of the film substrate made of a light-transmitting resin, such as a polydisperse resin, a polymethacrylate resin, a polycarbonate resin, a polymethyl methacrylate resin, or the like. The light-diffusion film etc. which formed and formed the light-diffusion layer by apply | coating and disperse | distributing the formed thing and the composition which mix | blended and disperse | distributed the dispersing agent in light transmitting resin are known.

또한, 종래에는 대전방지 기능을 하는 대전방지층을 편광필름 위에 점착제를 사용하여 부착하는 기술이 알려져 있었다.In addition, conventionally, a technique for attaching an antistatic layer having an antistatic function on a polarizing film using an adhesive is known.

그러나 상기와 같은 종래의 기술은 각각의 편광필름 위에 대전방지 기능을 하는 대전방지층과 광학산 기능을 하는 확산 코팅층이 별개로 부착된 광학소자가 존재하기는 하였으나 두 기능을 함께 수행하는 광학소자가 존재하지 않았다는 문제점이 있었다.However, in the conventional technology as described above, although an optical device having an antistatic function and an anti-acid diffusion coating layer separately attached to each polarizing film exist, optical devices that perform both functions exist. There was a problem that did not.

또한, 상기의 두 기능을 동시에 수행하기 위해서는 편광필름 위에 대전방지 기능을 하는 대전방지층과 광확산 기능을 하는 광확산층을 점착제에 의해 부착하는 방식을 택하는 방식을 사용했으므로 제조공정이 복잡하고 광학소자의 두께가 두꺼워진다는 문제점이 있었다.In addition, in order to perform the above two functions at the same time using the method of attaching the antistatic layer and the light diffusing layer to the light diffusion function to the antistatic function on the polarizing film by the adhesive, the manufacturing process is complicated and the optical device There was a problem that the thickness of the thickened.

이에 본 발명은 상기와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 LCD셀에 부착된 편광필름 위에 스핀 코팅(Spin Coating)방식을 이용하여 대전방지층을 형성하고, 그 대전방지층 위에 확산 코팅층을 형성함으로써, 정전기 발생을 방지함과 더불어 선명한 화상을 구현할 수 있는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 확산 광학소자를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been proposed to solve the above conventional problems, and an object of the present invention is to form an antistatic layer by using a spin coating method on the polarizing film attached to the LCD cell, the charging The present invention provides a method of manufacturing an antistatic diffusion optical device capable of preventing static electricity and realizing a clear image by forming a diffusion coating layer on the prevention layer, and an antistatic diffusion optical device using the same.

이하, 기술적 사상을 중심으로 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the technical spirit.

본 발명에 따른 대전방지 확산 광학소자는 LCD셀 크기에 맞게 소정크기로 절 단되어 LCD셀에 부착된 편광필름 위에 스핀 코팅 코팅방식을 이용하여 대전방지층을 형성하는 단계와 상기 대전방지층 위에 확산 코팅층을 형성하는 단계를 거쳐 제조된다.Antistatic diffusion optical device according to the present invention is cut to a predetermined size to fit the size of the LCD cell to form an antistatic layer using a spin coating coating method on the polarizing film attached to the LCD cell and the diffusion coating layer on the antistatic layer It is prepared through the step of forming.

이하, 각 단계에 대해서 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, each step will be described in detail.

(1) 대전방지층 형성단계(1) Antistatic layer forming step

1) 대전방지층 코팅단계1) Antistatic layer coating step

대전방지층은 경화성 수지, 대전방지제, 경화제, 레벨링제, 자외선 흡수제(경화성 수지로 광경화성수지를 사용하는 경우에 사용됨)로 구성되는 대전방지 코팅 조성물을 분산제와 혼합하여 용액의 형태로 제조한 다음 소정크기로 절단되어 LCD셀에 부착된 편광필름 위에 스핀 코팅방식을 통해 코팅함으로써 수행된다.The antistatic layer is prepared in the form of a solution by mixing an antistatic coating composition composed of a curable resin, an antistatic agent, a curing agent, a leveling agent, and an ultraviolet absorber (used when using a photocurable resin as the curable resin) with a dispersant. It is carried out by coating through a spin coating method on the polarizing film cut to size and attached to the LCD cell.

본 발명에서 사용되는 편광필름은 통상의 방법으로 제작된 것을 소정크기로 절단하여 사용한다.The polarizing film used in the present invention is used by cutting to a predetermined size produced by a conventional method.

본 발명의 스핀 코팅방식에서 적용되는 회전속도 및 회전시간은 다음과 같다.The rotation speed and rotation time applied in the spin coating method of the present invention are as follows.

본 발명에서 스핀 코팅의 회전속도 50rpm 내지 5,000rpm에서 대전방지 코팅 조성물을 분산제와 혼합한 용액을 코팅하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 100rpm 내지 4,000rpm이다. 더더욱 바람직한 스핀 코팅의 회전속도는 500rpm 내지 3,000rpm이다.In the present invention, it is preferable to coat the solution obtained by mixing the antistatic coating composition with the dispersant at a rotational speed of 50 rpm to 5,000 rpm, more preferably 100 rpm to 4,000 rpm. Even more preferred spin speeds range from 500 rpm to 3,000 rpm.

스핀 코팅의 회전속도가 50rpm보다 작으면, 원하는 소정의 박막을 얻을 수 없음은 물론 LCD셀에 부착된 편광필름 표면에 대전방지층이 고르게 도포되지 못한다. 또한, 5,000rpm보다 크면 높은 원심력으로 인하여 대전방지층의 중앙부와 바깥 부분에서 두께 차이가 발생한다. 또한, 높은 회전속도를 유지하기 위하여 스핀 코팅 장치에 무리가 갈 수 있으며 편광필름 자체의 내구성에 영향을 줄 수 있다.If the rotation speed of the spin coating is less than 50rpm, the desired predetermined thin film may not be obtained and the antistatic layer may not be evenly applied to the surface of the polarizing film attached to the LCD cell. In addition, if greater than 5,000rpm due to the high centrifugal force difference in thickness in the center and the outer portion of the antistatic layer occurs. In addition, in order to maintain a high rotational speed can be difficult to spin coating apparatus and affect the durability of the polarizing film itself.

더불어, 본 발명의 스핀 코팅단계에서 회전시간은 10초 내지 500초인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30초 내지 400초이다. 더더욱 바람직하게는 60초 내지 300초이다. 회전시간은 대전방지 코팅 조성물과 분산제가 혼합된 용액의 점도, 코팅시키고자 하는 대전방지층의 두께에 따라서 변할 수 있다.In addition, the spin time in the spin coating step of the present invention is preferably 10 seconds to 500 seconds, more preferably 30 seconds to 400 seconds. Even more preferably 60 to 300 seconds. The rotation time may vary depending on the viscosity of the solution in which the antistatic coating composition and the dispersant are mixed and the thickness of the antistatic layer to be coated.

회전시간이 10초 보다 작으면 편광필름에 대전방지층을 고르게 도포시키는 충분한 시간을 확보하기 힘들고, 500초 보다 크면 경제성이 떨어진다.If the rotation time is less than 10 seconds, it is difficult to secure sufficient time for evenly applying the antistatic layer to the polarizing film, and if it is more than 500 seconds, the economical efficiency is low.

본 발명에서 사용되는 경화성 수지, 대전방지제, 경화제, 레벨링제, 자외선 흡수제로 구성되는 대전방지 코팅 조성물의 구성과 상기 조성물과 혼합되는 분산제에 대해 각각 살펴보면 다음과 같다.Looking at the composition of the antistatic coating composition consisting of a curable resin, an antistatic agent, a curing agent, a leveling agent, a UV absorber used in the present invention and a dispersant mixed with the composition are as follows.

① 경화성 수지① curable resin

본 발명에서 사용하는 경화성수지는 열경화성수지 또는 광경화성수지 중 적어도 하나를 사용한다.The curable resin used in the present invention uses at least one of a thermosetting resin or a photocurable resin.

열경화성수지와 광경화성수지는 일반적으로 알려진 공지의 수지를 사용한다. 열경화성수지 중에서 축중합형 수지로는 페놀수지, 요소수지, 멜라민수지 등이 있 으며, 첨가중합형 수지로는 에폭시수지, 폴리에스테르수지 등이 있다. 본 발명에서는 이들을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 광경화성수지로는 일반적으로 UV경화성수지를 사용한다. 광경화성수지로는 불포화 폴리에스테르 수지, 다관능 아크릴레이트 수지, 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴 수지, 에폭시 아크릴레이트 수지 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 본 발명에서 사용가능한 경화성수지는 동일한 작용 효과를 나타낸다면 그 범위가 상기 나열된 수지에 한정되지 않음은 물론이다.Thermosetting resins and photocurable resins generally use known resins. Among the thermosetting resins, polycondensation type resins include phenol resins, urea resins, melamine resins, and epoxy resins, polyester resins, and the like. In this invention, these can be used individually or in mixture. As the photocurable resin, UV curable resin is generally used. As the photocurable resin, unsaturated polyester resins, polyfunctional acrylate resins, urethane acrylates, epoxy acrylic resins, epoxy acrylate resins and the like can be used alone or in combination. Curable resins usable in the present invention are of course not limited to the resins listed above as long as they exhibit the same effect.

본 발명에서 사용가능한 경화성수지는 동일한 작용 효과를 나타낸다면 그 범위 또는 함량은 나열된 수지나 함량에 한정되지 않음은 물론이다.If the curable resin usable in the present invention exhibits the same effect, the range or content is not limited to the listed resins or contents, of course.

본 발명에서는 열경화성수지만으로 경화성수지를 구성하는 것이 가능하지만, 광경화성수지도 함께 사용할 수 있다. 대전방지 효과는 물론 고경도 및 투명성 등의 물성도 함께 가지기 위해서는, 본 발명에서 사용하는 광경화성수지는 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명에서 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지는 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexaacrylte), 테트라메틸올메탄 테트라아크릴레이트(tetramethylolmethane tetraacrylate), 테트라메틸올메탄 트리아크렐레이트(tetramethylolmethane triacrylate), 트리메탄올프로판 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-hexanediol diacrylate), 1,6-비스(3-아크릴오일옥시-2-하이드록시프로필옥시)헥산[1,6-bis(3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl)hexane] 등과 같은 다관능기 알콜 유도체, 폴리에틸 렌 글라이콜 디아크릴레이트(polyethylene glycol diacrylate)와 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(pentaerythritol triacrylate)와 같은 우레탄 아크릴레이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트 우레탄 선행고분자(hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer) 등이 단독 또는 혼합하여 사용한다.In the present invention, the curable resin can be composed of only the thermosetting resin, but the photocurable resin can also be used together. In order to have not only an antistatic effect but also physical properties, such as high hardness and transparency, it is more preferable that the photocurable resin used by this invention uses an ultraviolet curable polyfunctional group acrylate resin. In the present invention, the ultraviolet curable polyfunctional acrylate-based resin is dipentaerythritol hexaacrylte, tetramethylolmethane tetraacrylate, tetramethylolmethane triacrylate, trimethanol Propane triacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane [1, Polyfunctional alcohol derivatives such as 6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl) hexane] and urethane acrylics such as polyethylene glycol diacrylate and pentaerythritol triacrylate Acrylate, hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, etc. Use it.

전술한 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지는 경화성수지 100중량%에 있어서 10중량% 내지 90중량% 사용하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30중량% 내지 87중량%이다. 더더욱 바람직하게는 50중량% 내지 85중량% 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use 10 weight%-90 weight% of said ultraviolet curable polyfunctional acrylate-type resin in 100 weight% of curable resin, More preferably, it is 30 weight%-87 weight%. Even more preferably, 50 to 85% by weight is used.

경화성수지 100중량%에 있어서 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지가 10중량% 보다 작으면 절대적인 관능기 수가 적어서 관능기의 결합에 따른 고경도를 얻기 힘들고, 90중량% 보다 많을 때는 경도는 높아지지만 후술할 대전방지제와 혼합성이 떨어지는 단점이 있다.When the UV-curable polyfunctional acrylate resin is less than 10% by weight in 100% by weight of the curable resin, it is difficult to obtain high hardness due to the combination of functional groups because the absolute number of functional groups is small, and when it is more than 90% by weight, the hardness becomes high, but will be described later. It has the disadvantage of poor compatibility with the inhibitor.

② 대전방지제② Antistatic Agent

본 발명에서 사용하는 대전방지제는 전도성 고분자, 금속입자, 무기산화물, 금속산화물 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.The antistatic agent used in the present invention may be used alone or in combination with a conductive polymer, metal particles, inorganic oxides, metal oxides and the like.

본 발명에서 대전방지제로 사용하는 전도성 고분자는 폴리아세틸렌(Polyacetylene), 폴리(p-페닐렌)[Poly(p-phenylene)], 폴리티오펜(Polythiophene), 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)[Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)(PEDOT)], 폴리피롤[Polypyrrole(피리딘중합체)], 폴리(p- 페닐렌 설파이드)[Poly(p-phenylene sulfide)], 폴리(p-페닐렌 비닐렌)[Poly(p-phenylene vinylene)], 폴리(티에닐렌 비닐렌[Poly(thienylene vinylene)], 폴리아닐린(Polyaniline) 등을 단독 또는 혼합하여 사용가능하다.The conductive polymer used as an antistatic agent in the present invention is polyacetylene, poly (p-phenylene) [poly (p-phenylene)], polythiophene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene ) [Poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT)], polypyrrole [Polypyrrole (pyridine polymer)], poly (p-phenylene sulfide) [Poly (p-phenylene sulfide)], poly (p-phenylene vinylene ) [Poly (p-phenylene vinylene)], poly (thienylene vinylene), polyaniline (Polyaniline) and the like can be used alone or in combination.

본 발명에서 대전방지제로 사용하는 금속입자는 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 납(Pb), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 티탄(Ti) 등을 단독, 혼합 또는 은(Ag) 코팅된 구리(Cu)처럼 다른 금속을 코팅하여 사용한다.Metal particles used as antistatic agents in the present invention are silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), nickel (Ni), chromium (Cr), lead (Pb) , Cobalt (Co), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), tin (Sn), iridium (Ir), palladium (Pd), titanium (Ti) and the like alone, mixed or silver (Ag) coated copper (Cu Coated with other metals like).

본 발명에서는 사용되는 무기산화물은 유기산화물을 제외한 모든 산화물을 무기산화물이라 통칭하며, 본 발명에서는 무기산화물 중에서 금속산화물을 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, the inorganic oxide to be used refers to all oxides except organic oxides as inorganic oxides. In the present invention, it is preferable to use a metal oxide among the inorganic oxides.

금속산화물을 형성하는 금속은 제한이 없으며 나트륨(Na), 마그네슘(Mg), 칼륨(K), 칼슘(Ca), 스칸듐(Sc), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 크롬(Cr), 망간(Mn), 코발트(Co), 철(Fe), 구리(Cu), 아연(Zn), 갈륨(Ga), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu), 루비듐(Rb), 이트륨(Y), 란탄(La), 스트론튬(Sr), 지르코늄(Zr), 니오븀(Nb), 몰리브덴(Mo) 등을 사용할 수 있다. 이들 금속은 하나의 금속이 복수개의 원자가를 가지면서 여러 금속산화물을 형성할 수도 있다. 또한, 2 이상의 금속이 포함된 다금속산화물을 형성할 수도 있다.Metals forming metal oxides are not limited and include sodium (Na), magnesium (Mg), potassium (K), calcium (Ca), scandium (Sc), titanium (Ti), vanadium (V), chromium (Cr), Manganese (Mn), Cobalt (Co), Iron (Fe), Copper (Cu), Zinc (Zn), Gallium (Ga), Aluminum (Al), Nickel (Ni), Copper (Cu), Rubidium (Rb), Yttrium (Y), lanthanum (La), strontium (Sr), zirconium (Zr), niobium (Nb), molybdenum (Mo) and the like can be used. These metals may form several metal oxides with one metal having a plurality of valences. It is also possible to form a multimetal oxide containing two or more metals.

본 발명에서는 대표적으로 ITO(Indium Tin Oxide), ATO(Antinomy Tin Oxide), SiO2, TiO2, Al2O3, B2O3, CaO, SnO, MgO, SrO, ZnO, ZrO2, Y2O3, La2O3 등의 금속산화물을 단독 또는 혼합하여 사용한다.In the present invention, typically, indium tin oxide (ITO), antinomy tin oxide (ATO), SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , CaO, SnO, MgO, SrO, ZnO, ZrO 2 , Y 2 Metal oxides such as O 3 and La 2 O 3 may be used alone or in combination.

금속산화물의 입자 직경은 0.1㎛ 내지 1㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5㎛ 내지 0.7㎛이다. 금속산화물의 입자 직경이 0.1㎛보다 작으면 만족스러운 광확산에 의한 대전방지 효과를 얻기 힘들고, 광확산성이 저하되어 화상이 알루미늄 색상으로 변색되는 단점이 있다. 또한 금속산화물의 입자 직경이 1㎛보다 크면 도포되는 화면의 배경이 거칠어지기 쉽고 화상 콘트라스트가 악화된다.The particle diameter of the metal oxide is preferably 0.1 µm to 1 µm, more preferably 0.5 µm to 0.7 µm. If the particle diameter of the metal oxide is less than 0.1 μm, it is difficult to obtain an antistatic effect due to satisfactory light diffusion, and the light diffusion property is lowered, so that the image is discolored to aluminum color. In addition, when the particle diameter of the metal oxide is larger than 1 µm, the background of the screen to be applied is likely to be rough and the image contrast is deteriorated.

대전방지제의 함량은 대전방지 코팅 조성물 100중량%에 대하여 0.5중량% 내지 30중량%인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 3중량% 내지 20중량%이다. 더더욱 바람직하게는 7중량% 내지 15중량%이다. 대전방지제의 함량이 0.5중량% 보다 작으면 전도성을 확보하기 힘들고, 30중량% 보다 크면 전도성 효과는 현저하나 투명도가 낮아지고, 양산성 및 경제성이 떨어질 수 있다.The content of the antistatic agent is preferably 0.5% to 30% by weight, more preferably 3% to 20% by weight based on 100% by weight of the antistatic coating composition. Even more preferably 7% to 15% by weight. If the content of the antistatic agent is less than 0.5% by weight, it is difficult to secure the conductivity, when the content of more than 30% by weight, the conductive effect is remarkable, but the transparency is lowered, the mass productivity and economic efficiency may be lowered.

③ 경화제③ curing agent

본 발명에서의 경화제는 열경화성수지 또는 광경화성수지에 존재하는 관능기의 형태에 따라서 적절히 선택 및 혼합하여 사용할 수 있으며, 바람직하게는 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 금속 알콕사이드 금속염, 아민 화합물, 히드리진 화합물 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.The curing agent in the present invention can be selected and mixed as appropriate depending on the form of the functional group present in the thermosetting resin or photocurable resin, preferably isocyanate compound, epoxy compound, aziridine compound, metal chelate compound, metal alkoxide Metal salts, amine compounds, hydrazine compounds and the like are used alone or in combination.

본 발명에서의 이소시아네이트계 화합물은 트리메틸렌 디이소시아네이트(trimethylene diisocyanate), 헥사메틸렌 디이소시아네이트(hexamethylene diisocyanate), 이소포론 디이소시아네이트(isophorone diisocyanate), 디페닐메탄 이소시아네이트(diphenylmethane isocyanate), 자이렌 디이소시아네이트(xylene diisocyanate) 등의 방향족 디이소시아네이트계 화합물, 헥사메틸 디이소시아네이트(hexamethyl diisocyanate) 등의 지방족 디이소시아네이트 화합물(aliphatic diisocyanate) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.Isocyanate compounds in the present invention are trimethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, diphenylmethane isocyanate, xylene diisocyanate aromatic diisocyanate compounds such as diisocyanate, aliphatic diisocyanate such as hexamethyl diisocyanate, and the like are used alone or in combination.

또한, 본 발명에서의 에폭시계 화합물은 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르(polyethylene glycol diglycidyl ether), 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether), 트리메틸올 프로판 트리글리시딜 에테르(trimethylol propane triglycidyl ether) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.In addition, the epoxy compound in the present invention is a polyethylene glycol diglycidyl ether (diglycidyl ether), diglycidyl ether (diglycidyl ether), trimethylol propane triglycidyl ether (trimethylol propane triglycidyl ether) and the like alone Or mixed.

본 발명에서의 경화제는 대전방지 코팅 조성물 100중량%에 대하여 0.5중량% 내지 15중량% 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1중량% 내지 10중량%이다. 더더욱 바람직하게는 3중량% 내지 5중량%이다.It is preferable to use 0.5 to 15 weight% with respect to 100 weight% of antistatic coating compositions, More preferably, the hardening | curing agent in this invention is 1 to 10 weight%. Even more preferably 3% to 5% by weight.

본 발명에서 경화제는 대전방지층 조성물의 분자량 또는 사슬 구조를 제어하기 위하여 사용하는 첨가제로서, 전술한 범위에서 경화제를 사용하면 상 분리 현상 등을 억제하는 효과가 두드러진다. 경화제의 함량이 0.5중량% 보다 작으면 경화제 기능을 기대하기 힘들고, 15중량% 보다 크면 경화성수지의 함량이 상대적으로 낮아 경도를 높이기 어렵다.In the present invention, the curing agent is an additive used to control the molecular weight or the chain structure of the antistatic layer composition. When the curing agent is used in the above-described range, the effect of suppressing phase separation and the like is prominent. If the content of the curing agent is less than 0.5% by weight, it is difficult to expect the function of the curing agent, and when the content of the curing agent is greater than 15% by weight, the content of the curable resin is relatively low, making it difficult to increase the hardness.

④ 레벨링제④ Leveling agent

본 발명에서는 대전방지층의 표면을 고르게 하기 위하여 레벨링제를 사용한 다. 레벨링제는 실리콘계 수지에 케톤이나 에스테르계 용제를 혼합하여 사용할 수 있다. 본 발명에 의한 레벨링제로는 실리콘 디아크릴레이트나 실리콘 폴리아크릴레이트 화합물을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, a leveling agent is used to even the surface of the antistatic layer. The leveling agent can be used by mixing a ketone or an ester solvent with silicone resin. As a leveling agent by this invention, it is preferable to use a silicone diacrylate and a silicone polyacrylate compound individually or in mixture.

레벨링제의 함량은 대전방지 코팅 조성물 100중량%에 있어서 0.1중량% 내지 3중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5중량% 내지 2중량%이다. 레벨링제가 0.1중량%보다 작으면 레벨링 효과를 기대하기 힘들고, 3중량% 보다 클 때는 본 발명에 의한 대전방지층의 표면 경도가 약화될 우려가 있다.The content of the leveling agent is preferably 0.1% to 3% by weight, more preferably 0.5% to 2% by weight based on 100% by weight of the antistatic coating composition. If the leveling agent is less than 0.1% by weight, it is difficult to expect the leveling effect, and when it is greater than 3% by weight, the surface hardness of the antistatic layer according to the present invention may be weakened.

또한, 불소계 수지와 실리콘계 수지를 함께 사용할 때 레벨링제의 함량은 불소계 수지만 사용할 때의 레벨링제 함량의 70% 내지 80%만을 사용한다. 실리콘계 수지 자체가 레벨링제 역할을 하기 때문이다.In addition, when the fluorine-based resin and the silicone-based resin are used together, the content of the leveling agent is only 70% to 80% of the leveling agent content when using the fluorine-based resin. This is because the silicone resin itself acts as a leveling agent.

⑤ 자외선 흡수제⑤ UV absorber

본 발명에서 자외선경화를 위하여 광경화성수지를 사용할 때, 광경화시 발생하는 열화를 방지하고 대전방지층의 내구성을 향상시키기 위하여 자외선 흡수제를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, when using the photocurable resin for ultraviolet curing, it is preferable to use an ultraviolet absorber to prevent degradation caused during photocuring and to improve the durability of the antistatic layer.

본 발명에서 사용하는 자외선 흡수제는 살리실레이트계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조트라이졸계 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제, 벤조에이트계 자외선 흡수제 등을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.The ultraviolet absorber used in the present invention is preferably used alone or mixed with a salicylate ultraviolet absorber, a benzophenone ultraviolet absorber, a benzotriazole ultraviolet absorber, a cyanoacrylate ultraviolet absorber, and a benzoate ultraviolet absorber. Do.

보다 구체적으로, 자외선 흡수제는 페닐 살리실레이트, p-tert-부틸페닐 살리실레 이트, p-옥틸페닐 살리실레이트, 4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 2-히드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논, 비스(2-메톡시-4-히드록시-5-벤조일페닐)메탄, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥톡시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-(3',4',5',6'-테트라히드로프탈이미도메틸)-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸릴-2-일)페놀], 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-[(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀], 및 2-(2'-히드록시-3',5'-di-t-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-에틸헥실-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트, 에틸-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.More specifically, the ultraviolet absorber is phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, 4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy- 4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4 -Hydroxy-5-benzoylphenyl) methane, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5- Chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5-di -tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4'-octoxy Phenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 '-(3', 4 ', 5', 6'-tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2 '-Methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazolyl-2-yl) phenol], 2- (2'-hydroxy-5'-meta Krilloxyphenyl) -2H-benzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6-[(2H-benzotriazol-2-yl) phenol ], And 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amylphenyl) benzotriazole, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate, ethyl 2-cyano-3,3'-diphenyl acrylate or the like is used alone or in combination.

본 발명에서의 자외선 흡수제의 함량은 대전방지 코팅 조성물 100중량%에 있어서, 0.1중량% 내지 10중량% 사용하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.5중량% 내지 5중량%이다. In the present invention, the content of the ultraviolet absorber is preferably used in an amount of 0.1 wt% to 10 wt%, more preferably 0.5 wt% to 5 wt%, in 100 wt% of the antistatic coating composition.

자외선 흡수제의 함량이 0.1중량% 이하일 때는 자외선 흡수제를 첨가하는 효 과가 제대로 실현되지 못하고, 10중량% 이상일 때는 대전방지층의 물성에 영향을 줄 수 있다.When the content of the ultraviolet absorber is 0.1% by weight or less, the effect of adding the ultraviolet absorber may not be realized properly, and when the content of the ultraviolet absorber is 10% by weight or more, the properties of the antistatic layer may be affected.

⑥ 분산제⑥ Dispersant

본 발명에서는 대전방지층을 투명지지체 위에 도포하기 위하여 분산제를 사용한다. 본 발명에서는 대전방지 코팅 조성물이 고르게 분산될 수 있는 유기용매를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, a dispersant is used to apply the antistatic layer on the transparent support. In the present invention, it is preferable to use an organic solvent in which the antistatic coating composition can be evenly dispersed.

대전방지층의 도포성, 투명지지체와의 부착성, 대전방지 기능의 제고 등을 고려하여 유기용매를 사용한다.An organic solvent is used in consideration of the coating property of the antistatic layer, the adhesion to the transparent support, and the improvement of the antistatic function.

본 발명에서 사용하는 유기용매는 알콜계의 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올, 이소부탄올 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 알콜, 케톤류의 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 케톤, 아세틸 아세톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 디케톤, 에스테르류의 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 에스테르, 에테르 알콜류의 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올, 그 외에 N-메틸 피롤리돈, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디아세톤 알콜 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다. 또한, 방향족 탄화수소에 해당하는 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수도 있다.The organic solvent used in the present invention is a C1-8 saturated hydrocarbon alcohol such as methanol, isopropanol, butanol, t-butanol, isobutanol and the like, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like of ketones. Saturated hydrocarbon-based diketones having 1 to 8 carbon atoms, such as 1 to 8 saturated hydrocarbon ketones and acetyl acetone, ethyl acetate of esters, ethyl hydrocarbons of 1 to 8 carbon atoms such as butyl acetate, and ethyl alcohols of ether alcohols. Solves, methyl cellosolves, butyl cellosolves, 1-methoxy-2-propanol, and N-methyl pyrrolidone, ethyl cellosolve acetate, diacetone alcohol, and the like are used alone or in combination. Moreover, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc. which correspond to an aromatic hydrocarbon can also be used individually or in mixture.

유기용매는 도포되는 대전방지 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부 내지 150중량부 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 50중량부 내지 80중량 부이다. 유기용매의 함량이 대전방지 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부보다 작을 때는 점도가 낮아 투명지지체와의 도포성, 부착성 등이 떨어지고, 140중량부보다 클 때는 대전방지 코팅 조성물에 비하여 지나치게 많은 유기 용매를 사용함으로써 채산성이 떨어진다.The organic solvent is preferably used 30 parts by weight to 150 parts by weight, more preferably 50 parts by weight to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the antistatic coating composition to be applied. When the content of the organic solvent is less than 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the antistatic coating composition, the viscosity is low, resulting in poor applicability, adhesion, etc. with the transparent support. By using an organic solvent, profitability is inferior.

2) 건조단계2) drying step

상기 1)단계의 과정을 거쳐 형성된 대전방지층은 건조하는 공정을 거치게 된다.The antistatic layer formed through the process of step 1) is subjected to a drying process.

이는 상기 대전방지층 코팅단계에서 투명지지체 상에 함유된 용매를 제거하기 위해 수행된다. 건조온도는 20℃ 내지 75℃로 수행하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 25℃ 내지 45℃ 이다. 온도가 20℃ 이하이면 건조가 제대로 이루어지지 않고 건조시간이 길어지는 문제점이 있다. 또한 건조온도가 75℃ 이상에서는 물성이 변할 여지가 있으며, 그 이상의 온도 상승은 경제성이 떨어진다. This is performed to remove the solvent contained on the transparent support in the antistatic layer coating step. The drying temperature is preferably carried out at 20 ℃ to 75 ℃. More preferably, it is 25 degreeC-45 degreeC. If the temperature is 20 ℃ or less there is a problem that the drying is not made properly and the drying time is long. In addition, when the drying temperature is 75 ℃ or more, there is a possibility that the physical properties are changed, and further increase in temperature is less economical.

또한, 건조시간은 45초 내지 70초 정도가 바람직하다. 더 바람직하게는 55초 내지 65초, 더더욱 바람직하게는 58초 내지 62초 이다. 건조시간의 45초 이하이면 건조의 효과가 제대로 나타나지 못하고, 70초 이상의 건조는 물성에 영향을 줄 수 있다.In addition, the drying time is preferably about 45 seconds to about 70 seconds. More preferably 55 to 65 seconds, still more preferably 58 to 62 seconds. If the drying time is less than 45 seconds, the effect of drying does not appear properly, and drying for more than 70 seconds may affect the physical properties.

3) 경화단계3) curing step

경화단계에서는 대전방지층 코팅단계 및 건조단계를 통하여 형성된 대전방지 층을 경화시킨다. 대전방지 코팅 조성물에서 베이스수지가 열경화성 수지만으로 구성되는 경우는 열경화만을 수행하며, 열경화성수지와 광경화성수지가 함께 사용되는 경우는 열경화를 먼저한 후에 광경화하는 것이 바람직하다. 광경화는 UV경화하는 것이 바람직하다. 필요에 따라서 경화성수지가 광경화성수지만으로 구성되는 경우는 광경화만을 수행할 수 있다.In the curing step, the antistatic layer formed through the antistatic layer coating step and the drying step is cured. When the base resin is composed of only the thermosetting resin in the antistatic coating composition, only the thermosetting is performed, and when the thermosetting resin and the photocurable resin are used together, it is preferable to perform the photocuring after the thermosetting first. Photocuring is preferably UV curing. If necessary, when the curable resin is composed of only photocurable resins, only photocuring can be performed.

1) 열경화성수지와 광경화성수지를 함께 사용한 경우1) In case of using thermosetting resin and photosetting resin together

대전방지 코팅 조성물이 열경화성수지와 광경화성수지로 이루어진 경우, 열경화공정을 먼저 수행한다. 열경화공정의 온도 조건은 40℃ 내지 80℃ 범위가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 50℃ 내지 70℃이다. 열경화 온도가 40℃보다 작으면 열경화하기 충분하지 않으며, 80℃보다 크면 대전방지 코팅 조성물의 물성에 영향을 미칠 수 있다.When the antistatic coating composition consists of a thermosetting resin and a photocurable resin, a thermosetting process is first performed. The temperature condition of the thermosetting step is preferably in the range of 40 ° C to 80 ° C, more preferably 50 ° C to 70 ° C. If the thermal curing temperature is less than 40 ℃ is not enough to heat the curing, greater than 80 ℃ may affect the properties of the antistatic coating composition.

열경화 시간은 10초 내지 5분이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1분 내지 3분이다. 열경화 시간은 열경화 온도 조건에 대응하여 변화시킬 수 있다. 열경화 시간이 10초보다 작으면 열경화 온도가 높더라도 충분한 열경화 효과를 확보하기 힘들고, 열경화 시간이 5분을 초과하면 생산성이 떨어짐은 물론 물성에 영향을 줄 수 있다.The heat curing time is preferably 10 seconds to 5 minutes, more preferably 1 minute to 3 minutes. The thermosetting time can be changed corresponding to the thermosetting temperature conditions. If the thermal curing time is less than 10 seconds, even if the thermal curing temperature is high, it is difficult to secure a sufficient thermal curing effect, and if the thermal curing time exceeds 5 minutes, productivity may decrease and may affect physical properties.

열경화공정 후 광경화공정을 수행한다. 본 발명에서 광경화는 UV경화로 진행하고, UV경화는 5mJ 내지 40mJ 에너지 범위에서 UV경화하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10mJ 내지 20mJ이다.The photocuring process is performed after the thermosetting process. Photocuring in the present invention proceeds to UV curing, UV curing is preferably UV curing in the energy range of 5mJ to 40mJ, more preferably 10mJ to 20mJ.

UV경화 에너지량이 5mJ보다 작을 때는 충분한 광경화효과를 얻을 수 없고, UV경화 에너지량이 40mJ보다 클 때는 지나친 UV경화로 염료의 물성에 영향을 줄 수 있다.When the amount of UV curing energy is less than 5mJ, sufficient photocuring effect is not obtained, and when the amount of UV curing energy is larger than 40mJ, excessive UV curing may affect the physical properties of the dye.

2) 열경화성수지만을 사용한 경우2) When only thermosetting resin is used

열경화성수지만으로 베이스수지가 이루어진 경우, 열경화온도는 광경화성수지를 함께 사용하는 경우보다 더 높은 온도로 진행한다. 이 때 온도 조건은 70℃ 내지 140℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 80℃ 내지 120℃이다.When the base resin is made of only the thermosetting resin, the thermosetting temperature proceeds to a higher temperature than when using the photosetting resin together. At this time, it is preferable that temperature conditions are 70 degreeC-140 degreeC, More preferably, it is 80 degreeC-120 degreeC.

열경화 온도가 70℃보다 작으면 열경화성수지를 충분히 경화시키지 못하고, 140℃보다 크면 대전방지 코팅 조성물의 물성 및 내구성에 영향을 미칠 수 있다.If the thermosetting temperature is less than 70 ℃ does not sufficiently cure the thermosetting resin, if it is greater than 140 ℃ may affect the properties and durability of the antistatic coating composition.

경화성수지로 열경화성수지만을 사용하는 경우, 경화 시간은 광경화성수지를 함께 사용하는 경우보다 오래 경화하는 것이 바람직하다. 경화시간은 30초 내지 15분이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1분 내지 10분이다.When only the thermosetting resin is used as the curable resin, the curing time is preferably longer than when using the photocurable resin together. The curing time is preferably 30 seconds to 15 minutes, more preferably 1 minute to 10 minutes.

경화 시간은 경화 온도에 대응하여 상대적으로 결정되며, 열경화성수지만을 사용하는 경우 경화 시간이 30초 보다 짧으면, 충분한 열경화 효과를 얻을 수 없으며, 15분 보다 길면 열경화성수지는 충분히 경화시킬 수 있으나 대전방지 기능을 떨어뜨릴 수 있다.The curing time is determined in correspondence with the curing temperature. When using only a thermosetting resin, if the curing time is shorter than 30 seconds, sufficient thermosetting effect cannot be obtained. If the curing time is longer than 15 minutes, the thermosetting resin can be sufficiently cured. You can drop protection.

상기의 과정을 거쳐 형성된 대전방지층은 그 두께가 1㎛ 내지 3㎛인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 1.5㎛ 내지 2㎛ 이다. 이는 두께가 1㎛ 보다 작으면 대전방지 기능을 수행하기가 어렵고, 3㎛ 보다 크면 그 두께가 두꺼워지기 때문이다.The antistatic layer formed through the above process preferably has a thickness of 1 μm to 3 μm. More preferably, they are 1.5 micrometers-2 micrometers. This is because if the thickness is less than 1 μm, it is difficult to perform the antistatic function, and if the thickness is larger than 3 μm, the thickness becomes thick.

(2) 확산 코팅층 형성단계(2) diffusion coating layer forming step

1) 확산 코팅층 코팅단계1) Diffusion coating layer coating step

확산 코팅층 코팅단계는 바인던수지, 경화제, 광확산 미립자, 레벨링제, 자외선 흡수제(바인더수지로 광경화성수지를 사용하는 경우에 사용됨)로 이루어지는 확산 코팅 조성물을 분산제와 혼합하여 용액의 형태로 제조한 후, 대전방지층이 코팅된 편광필름 위에 스핀) 코팅방식을 이용하여 코팅을 수행함으로써 이루어진다.The diffusion coating layer coating step is prepared in the form of a solution by mixing a diffusion coating composition consisting of a binder resin, a curing agent, a light diffusing fine particle, a leveling agent, and an ultraviolet absorber (used when using a photocurable resin as a binder resin) with a dispersant. Thereafter, the antistatic layer is formed by performing a coating using a spin coating method on the coated polarizing film.

본 발명의 스핀 코팅방식에서 적용되는 회전속도 및 회전시간은 다음과 같다.The rotation speed and rotation time applied in the spin coating method of the present invention are as follows.

본 발명에서 스핀 코팅의 회전속도 50rpm 내지 5,000rpm에서 확산 코팅 조성물을 분산제와 혼합한 용액을 코팅하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 100rpm 내지 4,000rpm이다. 더더욱 바람직한 스핀 코팅의 회전속도는 500rpm 내지 3,000rpm이다.In the present invention, it is preferable to coat a solution obtained by mixing the diffusion coating composition with the dispersant at a rotational speed of 50 rpm to 5,000 rpm, more preferably 100 rpm to 4,000 rpm. Even more preferred spin speeds range from 500 rpm to 3,000 rpm.

스핀 코팅의 회전속도가 50rpm보다 작으면, 원하는 소정의 박막을 얻을 수 없음은 물론 대전방지층 표면에 확산 코팅층이 고르게 도포되지 못한다. 또한, 5,000rpm보다 크면 높은 원심력으로 인하여 대전방지층의 중앙부와 바깥 부분에서 두께 차이가 발생한다. 또한, 높은 회전속도를 유지하기 위하여 스핀 코팅 장치에 무리가 갈 수 있으며 편광필름 자체의 내구성에 영향을 줄 수 있다.If the rotational speed of the spin coating is less than 50 rpm, the desired predetermined thin film may not be obtained and the diffusion coating layer may not be evenly applied to the surface of the antistatic layer. In addition, if greater than 5,000rpm due to the high centrifugal force difference in thickness in the center and the outer portion of the antistatic layer occurs. In addition, in order to maintain a high rotational speed can be difficult to spin coating apparatus and affect the durability of the polarizing film itself.

더불어, 본 발명의 스핀 코팅단계에서 회전시간은 10초 내지 500초인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30초 내지 400초이다. 더더욱 바람직하게는 60초 내지 300초이다. 회전시간은 대전방지 코팅 조성물과 분산제가 혼합된 용액의 점도, 코팅시키고자 하는 대전방지층의 두께에 따라서 변할 수 있다.In addition, the spin time in the spin coating step of the present invention is preferably 10 seconds to 500 seconds, more preferably 30 seconds to 400 seconds. Even more preferably 60 to 300 seconds. The rotation time may vary depending on the viscosity of the solution in which the antistatic coating composition and the dispersant are mixed and the thickness of the antistatic layer to be coated.

회전시간이 10초 보다 작으면 대전방지층이 코팅된 편광필름에 확산 코팅층을 고르게 도포시키는 충분한 시간을 확보하기 힘들고, 500초 보다 크면 경제성이 떨어진다.If the rotation time is less than 10 seconds, it is difficult to ensure sufficient time to evenly apply the diffusion coating layer to the antistatic layer coated polarizing film, if greater than 500 seconds is less economical.

본 발명에서 사용되는 바인던수지, 경화제, 광확산 미립자, 레벨링제, 자외선 흡수제로 구성되는 확산 코팅 코팅 조성물의 구성과 상기 조성물과 혼합되는 분산제에 대해 각각 살펴보면 다음과 같다.Looking at the composition of the dispersion coating coating composition consisting of the binder resin, the curing agent, the light diffusing fine particles, the leveling agent, the ultraviolet absorber used in the present invention and the dispersant mixed with the composition are as follows.

① 바인더수지① Binder Resin

본 발명에서 사용하는 바인더수지는 대전방지층과의 접착성이 좋으며 광확산 역할을 해주는 광확산 미립자들과의 상용성이 좋은 수지를 바인더수지로서 사용한다.The binder resin used in the present invention uses a resin having good adhesion to the antistatic layer and good compatibility with the light diffusing fine particles, which serve as light diffusion, as the binder resin.

일예로는 불포화폴리에스터, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시 에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 중합체 혹은 공중합체 혹은 삼원 공중합체 등의 아크릴계, 우레 탄계 등의 광경화수지가 있고, 에폭시계, 멜라민계 등의 열경화성수지를 사용할 수 있으며, 내열성, 내마모성, 접착성을 높이기 위하여 후술하는 경화제를 사용하여 수지의 피막을 단단하게 하여 사용할 수 있다. 이때 사용되는 수지는 광투과도가 높은 것이 좋으며 특히 확산 코팅층을 구성하기 때문에 대전방지층과의 접착력이 중요하다.Examples include unsaturated polyesters, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, normal butyl methacrylate, normal butyl methyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl methacrylate, hydride Hydroxypropyl methacrylate, hydroxy ethyl acrylate, acrylamide, metyrol acrylamide, glycidyl methacrylate, ethyl acrylate, isobutyl acrylate, normal butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate polymer or air There are photo-curable resins such as acrylic or urethane-based copolymers such as copolymers or terpolymers, and thermosetting resins such as epoxy and melamine-based resins can be used, and in order to improve heat resistance, abrasion resistance, and adhesion, The film can be hardened and used. At this time, the resin used is preferably a high light transmittance, in particular, because it constitutes a diffusion coating layer, the adhesion to the antistatic layer is important.

② 경화제② hardener

본 발명에서의 경화제는 열경화성수지 또는 광경화성수지에 존재하는 관능기의 형태에 따라서 적절히 선택 및 혼합하여 사용할 수 있으며, 바람직하게는 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 금속 알콕사이드 금속염, 아민 화합물, 히드리진 화합물 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.The curing agent in the present invention can be selected and mixed as appropriate depending on the form of the functional group present in the thermosetting resin or photocurable resin, preferably isocyanate compound, epoxy compound, aziridine compound, metal chelate compound, metal alkoxide Metal salts, amine compounds, hydrazine compounds and the like are used alone or in combination.

본 발명에서의 이소시아네이트계 화합물은 디페닐메탄 이소시아네이트(diphenylmethane isocyanate), 자이렌 디이소시아네이트(xylene diisocyanate) 등의 방향족 디이소시아네이트계 화합물, 헥사메틸 디이소시아네이트(hexamethyl diisocyanate) 등의 지방족 디이소시아네이트 화합물(aliphatic diisocyanate) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.The isocyanate compound in the present invention is an aliphatic diisocyanate compound such as aromatic diisocyanate compound such as diphenylmethane isocyanate, xylene diisocyanate, and hexamethyl diisocyanate. ) May be used alone or in combination.

또한, 본 발명에서의 에폭시계 화합물은 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르(polyethylene glycol diglycidyl ether), 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether), 트리메틸올 프로판 트리글리시딜 에테르(trimethylol propane triglycidyl ether) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.In addition, the epoxy compound in the present invention is a polyethylene glycol diglycidyl ether (diglycidyl ether), diglycidyl ether (diglycidyl ether), trimethylol propane triglycidyl ether (trimethylol propane triglycidyl ether) and the like alone Or mixed.

본 발명에서의 경화제는 확산 코팅 조성물 100중량%에 대하여 0.3중량% 내지 10중량% 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명에서 경화제는 확산 코팅 조성물의 분자량 또는 사슬 구조를 제어하기 위하여 사용하는 첨가제로서 전술한 범위에서 경화제를 사용하면 상 분리 현상 등을 억제하는 효과가 두드러진다.The curing agent of the present invention is preferably used 0.3% to 10% by weight relative to 100% by weight of the diffusion coating composition. In the present invention, the curing agent is an additive used to control the molecular weight or chain structure of the diffusion coating composition, the use of the curing agent in the above-described range is prominent in the effect of suppressing the phase separation phenomenon.

③ 광확산 미립자③ light diffusing fine particles

본 발명에서의 광확산 미립자는 주로 고분자 비드를 사용한다. 그러한 예로는 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 에폭시 수지 등의 유기계의 투명 또는 백색 안료를 사용한다.The light-diffusion fine particles in the present invention mainly use polymer beads. Examples thereof include organic transparent or white pigments such as acrylic resins, styrene resins, and epoxy resins.

또한 아크릴계 고분자를 점착 조성물의 주성분으로 하는 경우 광확산에 필요한 굴절율 및 확산 정도를 만족하는 고분자 비드가 바람직하다. 고분자 비드로는 멜라민 비드(굴절율 : 1.57), 아크릴 비드(굴절율:1.47), 아크릴-스티렌 비드(굴절율 : 1.54), 폴리카보네이트 비드, 폴리에틸렌 비드, 염화비닐 비드 등이 있다.In addition, when the acrylic polymer is the main component of the adhesive composition, polymer beads satisfying the refractive index and the degree of diffusion required for light diffusion are preferable. The polymer beads include melamine beads (refractive index: 1.57), acrylic beads (refractive index: 1.47), acrylic-styrene beads (refractive index: 1.54), polycarbonate beads, polyethylene beads, vinyl chloride beads, and the like.

본 발명에서 아크릴계 비드, 스티렌계 비드 또는 무기계 비드는 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.In the present invention, acrylic beads, styrene beads or inorganic beads may be used alone or in combination.

본 발명에서 사용하는 아크릴계 비드는 에틸 아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 아밀 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 옥틸 아크릴레이트, 사이클로 헥실 아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 사이클로 헥실 메타크릴레이트, 벤질 헥실 메타크릴레이트, 사이클로 헥실 메타크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이 트, 벤질 메카크릴레이트, 비닐 아세테이트, 스티렌, 아크릴로니트릴, 아크릴산, 메타크릴산, 무수말레인산, 이타콘산, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, N-메틸올아크릴아미드, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 글리시딜아미드, 라우릴아크릴레이트, 에톡시디에틸렌클리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 테트라히드로푸릴아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리틀테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 트리메틸올프로판아크릴산벤조에이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트, n-스테아릴메타아크릴레이트, 시클로헥실메타아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴메타아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타아크릴레이트, 글리세린디메타아크릴레이트, 글리세린디메타아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트의 단량체 또는 올리고머를 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.Acrylic beads used in the present invention are ethyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, cyclohexyl acrylate, benzyl acrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl meta Methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methyl acrylate, methyl methacrylate, benzyl methacrylate, vinyl acetate, styrene, acrylonitrile, Acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, itaconic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, N-methylol acrylamide, acrylamide, methacrylamide, glycy Dilamide, lauryl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol Colacrylate, phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofuryl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy acrylate, neo Pentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane acrylate 8, 2-ethylhexyl methacrylate, n-stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, glycerin dimethacrylate Agent, glycerin dimethacrylate acrylate hexamethylene diisocyanate, pentaerythritol triacrylate is preferably a monomer or oligomer of hexamethylene diisocyanate used alone or in combination.

또한, 본 발명에서 사용하는 스티렌계 비드는 스티렌, α-메틸스티렌, α-에틸스티렌, o-에틸스티렌, p-에틸스티렌, 2,4-디메틸스티렌 또는 비닐 톨루엔을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.In addition, the styrene beads used in the present invention may be used alone or in combination with styrene, α-methylstyrene, α-ethylstyrene, o-ethylstyrene, p-ethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene or vinyl toluene. desirable.

광확산 미립자의 함량은 확산 코팅 조성물 100중량%에 대하여 1중량% 내지 20중량%인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 2중량% 내지 10중량%이다. 광확산 미립자의 함량이 1중량% 보다 작으면 광확산 효과를 기대하기 어렵고, 20중량% 보다 크면 광확산 미립자가 과도하여 투과율을 감소시킬 수 있다.The content of the light diffusing fine particles is preferably 1% by weight to 20% by weight with respect to 100% by weight of the diffusion coating composition, more preferably 2% by weight to 10% by weight. When the content of the light diffusing fine particles is less than 1% by weight, it is difficult to expect a light diffusing effect, and when the content of the light diffusing fine particles is greater than 20% by weight, the light diffusing fine particles may be excessively reduced to reduce the transmittance.

본 발명에서 사용하는 광확산 미립자를 통하여 분산성이 우수하고 균일하고 높은 광확산성을 갖는 필름을 얻을 수 있다. 또한 광확산 미립자의 형상은 구상 또는 침상인 것이 바람직하다.Through the light diffusing fine particles used in the present invention, a film having excellent dispersibility and uniformity and high light diffusivity can be obtained. In addition, the shape of the light diffusing fine particles is preferably spherical or acicular.

광확산 미립자의 입자 직경은 0.3㎛ 내지 4㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5㎛ 내지 2㎛이다. 더더욱 바람직하게는 1㎛ 내지 1.5㎛이다. 광확산 미립자의 입자 직경이 0.3㎛보다 작으면 만족스러운 광확산 효과를 얻기가 힘들고, 광확산성이 저하되어 화상이 알루미늄 색상으로 변색되는 단점이 있다. 또한 광확산 미립자의 입자 직경이 4㎛보다 크면 화면의 배경이 거칠어지기 쉽고 화상 콘트라스트가 악화된다.As for the particle diameter of light-diffusion microparticles | fine-particles, 0.3 micrometer-4 micrometers are preferable, More preferably, they are 0.5 micrometer-2 micrometers. Even more preferably 1 µm to 1.5 µm. If the particle diameter of the light-diffusion fine particles is smaller than 0.3 μm, it is difficult to obtain a satisfactory light-diffusion effect, and the light-diffusion is deteriorated and the image is discolored to aluminum color. In addition, when the particle diameter of the light-diffusion fine particles is larger than 4 µm, the background of the screen is rough and the image contrast is deteriorated.

본 발명에서 광확산 미립자의 굴절율은 확산 코팅 조성물의 굴절율에 대하여 0.01 내지 0.4 의 차이를 가지는 것이 바람직하다. 보다 바람직한 굴절율 차이는 0.07 내지 0.3이다. 굴절율 차이가 0.01 보다 작으면 광확산이 이루어지지 않고 굴절율차가 0.4보다 크면 내부 산란이 지나치게 크고 전체 광선 투과율이 악화되는 문제가 있다. 또한, 광확산 미립자의 굴절율은 대전방지 코팅 조성물의 굴절율보다 낮아야 굴절율 조정이 용이하고 생산성이 향상된다.In the present invention, the refractive index of the light diffusing fine particles preferably has a difference of 0.01 to 0.4 with respect to the refractive index of the diffusion coating composition. More preferable refractive index difference is 0.07-0.3. If the difference in refractive index is less than 0.01, light diffusion does not occur and if the difference in refractive index is greater than 0.4, the internal scattering may be excessively large and the total light transmittance may deteriorate. In addition, the refractive index of the light diffusing fine particles must be lower than the refractive index of the antistatic coating composition to easily adjust the refractive index and improve productivity.

④ 레벨링제④ Leveling agent

본 발명에서는 확산 코팅층의 표면을 고르게 하기 위하여 레벨링제를 사용한다. 레벨링제는 실리콘계 수지에 케톤이나 에스테르계 용제를 혼합하여 사용할 수 있다. 본 발명에 의한 레벨링제로는 실리콘 디아크릴레이트나 실리콘 폴리아크릴레이트 화합물을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, a leveling agent is used to even the surface of the diffusion coating layer. The leveling agent can be used by mixing a ketone or an ester solvent with silicone resin. As a leveling agent by this invention, it is preferable to use a silicone diacrylate and a silicone polyacrylate compound individually or in mixture.

레벨링제의 함량은 확산 코팅 조성물 100중량%에 있어서 0.1중량% 내지 3중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5중량% 내지 2중량%이다. 레벨링제가 0.1중량%보다 작으면 레벨링 효과를 기대하기 힘들고, 3중량% 보다 클 때는 본 발명에 의한 확산 코팅층의 표면 경도가 약화될 우려가 있다.The content of the leveling agent is preferably 0.1% to 3% by weight, more preferably 0.5% to 2% by weight based on 100% by weight of the diffusion coating composition. If the leveling agent is less than 0.1% by weight, it is difficult to expect the leveling effect, and when the leveling agent is greater than 3% by weight, the surface hardness of the diffusion coating layer according to the present invention may be weakened.

또한, 불소계 수지와 실리콘계 수지를 함께 사용할 때 레벨링제의 함량은 불소계 수지만 사용할 때의 레벨링제 함량의 70% 내지 80%만을 사용한다. 실리콘계 수지 자체가 레벨링제 역할을 하기 때문이다.In addition, when the fluorine-based resin and the silicone-based resin are used together, the content of the leveling agent is only 70% to 80% of the leveling agent content when using the fluorine-based resin. This is because the silicone resin itself acts as a leveling agent.

⑤ 자외선 흡수제⑤ UV absorber

본 발명에서 자외선경화를 위하여 광경화성수지를 사용할 때, 광경화시 발생하는 열화를 방지하고 대전방지층의 내구성을 향상시키기 위하여 자외선 흡수제를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, when using the photocurable resin for ultraviolet curing, it is preferable to use an ultraviolet absorber to prevent degradation caused during photocuring and to improve the durability of the antistatic layer.

본 발명에서 사용하는 자외선 흡수제는 살리실레이트계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조트라이졸계 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제, 벤조에이트계 자외선 흡수제 등을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.The ultraviolet absorber used in the present invention is preferably used alone or mixed with a salicylate ultraviolet absorber, a benzophenone ultraviolet absorber, a benzotriazole ultraviolet absorber, a cyanoacrylate ultraviolet absorber, and a benzoate ultraviolet absorber. Do.

보다 구체적으로, 자외선 흡수제는 페닐 살리실레이트, p-tert-부틸페닐 살리실레이트, p-옥틸페닐 살리실레이트, 4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 2-히드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논, 비스(2-메톡시-4-히드록시-5-벤조일페닐)메탄, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥톡시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-(3',4',5',6'-테트라히드로프탈이미도메틸)-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸릴-2-일)페놀], 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-[(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀], 및 2-(2'-히드록시-3',5'-di-t-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-에틸헥실-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트, 에틸-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.More specifically, the ultraviolet absorber is phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, 4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy- 4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4 -Hydroxy-5-benzoylphenyl) methane, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5- Chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5-di -tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4'-octoxy Yl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 '-(3', 4 ', 5', 6'-tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2 '-Methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazolyl-2-yl) phenol], 2- (2'-hydroxy-5'-meta Krilloxyphenyl) -2H-benzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6-[(2H-benzotriazol-2-yl) phenol ], And 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amylphenyl) benzotriazole, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate, ethyl 2-cyano-3,3'-diphenyl acrylate or the like is used alone or in combination.

본 발명에서의 자외선 흡수제의 함량은 확산 코팅 조성물 100중량%에 있어서, 0.1중량% 내지 10중량% 사용하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.5중량% 내지 5중량%이다.The content of the ultraviolet absorbent in the present invention is preferably used in an amount of 0.1% to 10% by weight, more preferably 0.5% to 5% by weight in 100% by weight of the diffusion coating composition.

자외선 흡수제의 함량이 0.1중량% 이하일 때는 자외선 흡수제를 첨가하는 효과가 제대로 실현되지 못하고, 10중량% 이상일 때는 확산 코팅층의 물성에 영향을 줄 수 있다.When the content of the UV absorber is 0.1% by weight or less, the effect of adding the UV absorber may not be realized properly, and when the content of the UV absorber is 10% by weight or more, the physical properties of the diffusion coating layer may be affected.

⑥ 분산제⑥ Dispersant

본 발명에서는 확산 코팅층을 대전방지층 위에 도포하기 위하여 분산제를 사용한다. 본 발명에서는 확산 코팅 조성물이 고르게 분산될 수 있는 유기용매를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, a dispersant is used to apply the diffusion coating layer on the antistatic layer. In the present invention, it is preferable to use an organic solvent in which the diffusion coating composition can be evenly dispersed.

확산 코팅층의 도포성, 대전방지층과의 부착성, 광확산 기능의 제고 등을 고려하여 유기용매를 사용한다.An organic solvent is used in consideration of the coating property of the diffusion coating layer, the adhesion with the antistatic layer, the enhancement of the light diffusion function, and the like.

본 발명에서 사용하는 유기용매는 알콜계의 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올, 이소부탄올 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 알콜, 케톤류의 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 케톤, 아세틸 아세톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 디케톤, 에스테르류의 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 에스테르, 에테르 알콜류의 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올, 그 외에 N-메틸 피롤리돈, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디아세톤 알콜 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다. 또한, 방향족 탄화수소에 해당하는 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수도 있다.The organic solvent used in the present invention is a C1-8 saturated hydrocarbon alcohol such as methanol, isopropanol, butanol, t-butanol, isobutanol and the like, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like of ketones. Saturated hydrocarbon-based diketones having 1 to 8 carbon atoms, such as 1 to 8 saturated hydrocarbon ketones and acetyl acetone, ethyl acetate of esters, ethyl hydrocarbons of 1 to 8 carbon atoms such as butyl acetate, and ethyl alcohols of ether alcohols. Solves, methyl cellosolves, butyl cellosolves, 1-methoxy-2-propanol, and N-methyl pyrrolidone, ethyl cellosolve acetate, diacetone alcohol, and the like are used alone or in combination. Moreover, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc. which correspond to an aromatic hydrocarbon can also be used individually or in mixture.

유기용매는 도포되는 확산 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부 내지 150중량부 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 50중량부 내지 80중량부이다. 유기용매의 함량이 확산 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부보다 작을 때는 점도가 낮아 대전방지층과의 도포성, 부착성 등이 떨어지고, 150중량부보다 클 때는 확산 코팅 조성물에 비하여 지나치게 많은 유기 용매를 사용함으로써 채산성이 떨어진다.The organic solvent is preferably used in an amount of 30 parts by weight to 150 parts by weight, and more preferably 50 parts by weight to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the diffusion coating composition to be applied. When the content of the organic solvent is less than 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the diffusion coating composition, the viscosity is low, resulting in poor applicability and adhesion to the antistatic layer. Profitability is inferior by using

2) 건조단계2) drying step

상기 1)단계의 과정을 거쳐 형성된 확산 코팅층은 건조하는 공정을 거치게 된다.The diffusion coating layer formed through the process of step 1) is subjected to a drying process.

이는 상기 확산 코팅층 코팅단계에서 대전방지층 상에 함유된 용매를 제거하기 위해 수행된다. 건조온도는 20℃ 내지 75℃로 수행하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 25℃ 내지 45℃ 이다. 온도가 20℃ 이하이면 건조가 제대로 이루어지지 않고 건조시간이 길어지는 문제점이 있다. 또한 건조온도가 75℃ 이상에서는 물성이 변할 여지가 있으며, 그 이상의 온도 상승은 경제성이 떨어진다. This is carried out to remove the solvent contained on the antistatic layer in the coating step of the diffusion coating layer. The drying temperature is preferably carried out at 20 ℃ to 75 ℃. More preferably, it is 25 degreeC-45 degreeC. If the temperature is 20 ℃ or less there is a problem that the drying is not made properly and the drying time is long. In addition, when the drying temperature is 75 ℃ or more, there is a possibility that the physical properties are changed, and further increase in temperature is less economical.

또한, 건조시간은 45초 내지 70초 정도가 바람직하다. 더 바람직하게는 55초 내지 65초, 더더욱 바람직하게는 58초 내지 62초 이다. 건조시간의 45초 이하이면 건조의 효과가 제대로 나타나지 못하고, 70초 이상의 건조는 물성에 영향을 줄 수 있다.In addition, the drying time is preferably about 45 seconds to about 70 seconds. More preferably 55 to 65 seconds, still more preferably 58 to 62 seconds. If the drying time is less than 45 seconds, the effect of drying does not appear properly, and drying for more than 70 seconds may affect the physical properties.

3) 경화단계3) curing step

본 발명에 의한 경화단계는 통상적으로 사용되는 경화방식을 사용한다.The curing step according to the present invention uses a curing method commonly used.

본 발명에 의한 확산 코팅 조성물에서는 열경화성수지 또는 광경화성수지가 포함되어 있으므로, 경화단계에서는 열경화 또는 UV경화를 수행한다. 열경화와 UV경화는 순차적으로 진행할 수도 있으며, 동시에 진행할 수도 있다. 또한, 경화 방식의 차이에 따라서 경화성수지 그리고 경화제가 달라질 수 있으며, 그 범위는 본 발명에서 구체적으로 언급한 경화성수지 그리고 경화제에 한정되지 않는다.In the diffusion coating composition according to the present invention, since the thermosetting resin or the photocurable resin is included, the curing step is performed by thermosetting or UV curing. Thermal curing and UV curing may proceed sequentially or simultaneously. In addition, the curable resin and the curing agent may vary according to the difference in the curing method, the range is not limited to the curable resin and the curing agent specifically mentioned in the present invention.

상기의 과정을 거쳐 형성된 확산 코팅층은 그 두께가 3㎛ 내지 5㎛인 것이 바람직하다. 두께가 3㎛ 보다 작으면 광학산 기능을 나타내기가 어렵고, 그 두께가 5㎛ 보다 크면 그 두께가 두꺼워진다는 단점이 있다.The diffusion coating layer formed through the above process preferably has a thickness of 3 μm to 5 μm. If the thickness is smaller than 3 μm, it is difficult to exhibit the optical acid function. If the thickness is larger than 5 μm, the thickness becomes thick.

상기의 단계(대전방지층 형성단계, 확산 코팅층 형성단계)를 거쳐 제조된 대전방지 확산 광학소자는 도 1에 도시된 바와 같다.An antistatic diffusion optical device manufactured through the above steps (antistatic layer forming step, diffusion coating layer forming step) is as shown in FIG. 1.

도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 대전방지 확산 광학소자는 편광필름(300)이 LCD셀(100)에 점착제(200) 의해 부착된 상태에서, 상기 편광필름(300) 위에 대전방지 기능을 수행하는 대전방지층(400)이 코팅되고, 상기 대전방지층(400) 위에 광확산 기능을 수행하는 확산 코팅층(500)이 코팅되어 적층된 형태이다.As shown, the antistatic diffusion optical device according to the present invention performs an antistatic function on the polarizing film 300 in a state in which the polarizing film 300 is attached to the LCD cell 100 by the adhesive 200. An antistatic layer 400 is coated, and a diffusion coating layer 500 that performs a light diffusion function on the antistatic layer 400 is coated and laminated.

한편, 대전방지 확산 광학소자는 스핀 코팅방식을 이용하여 편광필름 위에 확산 코팅층을 형성한 후, 확산 코팅층 위에 스핀 코팅방식을 이용하여 대전방지층을 형성할 수 있다. 즉 대전방지층과 확산 코팅층을 형성하는 순서를 바꿔도 그 수행하는 기능은 동일하다.Meanwhile, the antistatic diffusion optical device may form a diffusion coating layer on the polarizing film using a spin coating method, and then form an antistatic layer on the diffusion coating layer using a spin coating method. That is, even if the order of forming the antistatic layer and the diffusion coating layer is reversed, the function to perform the same.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예와 이와 비교되는 비교예를 가지고 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with preferred examples of the present invention and comparative examples.

실시예 1Example 1

<대전방지층 형성 단계><Antistatic layer forming step>

통상적인 방법에 편광필름을 제작한 후, 가로, 세로 500mm으로 자른 뒤 연속식 회전 코팅기에서 편광필름을 LCD셀에 점착제를 이용하여 부착시킨다. 상기 편광필름의 투명지지체면에 전도성 고분자인 폴리아세틸렌 10중량%, 경화제 3중량%, 레벨링제 1중량%, 그리고 경화성 수지로 페놀수지를 포함하여 이루어진 대전방지 코팅 조성물을 자일렌에 녹여 용액의 형태로 제조한 후 스핀 코팅방식으로 코팅시킨다. 이 때의 회전속도는 1000rpm으로 하고, 회전시간은 20초 동안 수행하였다. 또한, 자일렌의 중량은 대전방지 코팅 조성물 100중량부에 대해서 80중량부의 비로 혼합하였다. 대전방지층을 코팅한 후, 건조온도 상온에서 60초간 건조공정을 수행하고, 70℃에서 1분간 열경화시켜 두께 1㎛의 대전방지층을 형성하였다.After manufacturing a polarizing film in a conventional method, cut to 500mm horizontally and vertically, and then attach the polarizing film to the LCD cell using a pressure-sensitive adhesive in a continuous rotary coating machine. 10% by weight of polyacetylene, 3% by weight of curing agent, 1% by weight of leveling agent, and an antistatic coating composition comprising phenolic resin as a curable resin on xylene in the form of a solution on the transparent support surface of the polarizing film After the manufacture of the coating by spin coating method. At this time, the rotation speed was set to 1000 rpm, and the rotation time was performed for 20 seconds. In addition, the weight of xylene was mixed in a ratio of 80 parts by weight relative to 100 parts by weight of the antistatic coating composition. After coating the antistatic layer, the drying process was carried out for 60 seconds at a drying temperature at room temperature, and thermoset at 70 ℃ for 1 minute to form an antistatic layer having a thickness of 1㎛.

<확산 코팅층 형성 단계><Diffusion coating layer forming step>

경화제 4중량%, 아크릴계 비드 2.5중량%, 레벨링제 1.5중량%, 페닐 살리실레이트와 p-tert-부틸페닐 살리실레이트를 혼합한 자외선 흡수제를 5중량%, 그리고 바인더수지로 메틸메타크릴레이트 수지를 포함하여 이루어진 확산 코팅 조성물을 자일렌에 녹여 용액의 형태로 제조한 후, 대전방지층이 코팅된 광학소자 위에 연속식 회전 코팅기에서 코팅, 건조, 자외선 경화하여 두께 5㎛의 확산 코팅층을 얻었 다. 회전속도 및 회전시간은 대전방지층 형성단계와 동일한 조건으로 하였다. 건조온도 상온에서 60초간 건조공정을 수행하고, 경화는 15mJ의 에너지로 2분간 자외선 경화하는 공정을 수행하였다. 4% by weight of curing agent, 2.5% by weight of acrylic beads, 1.5% by weight of leveling agent, 5% by weight of ultraviolet absorber mixed with phenyl salicylate and p-tert-butylphenyl salicylate, and methyl methacrylate resin as binder resin After dissolving a diffusion coating composition comprising a in xylene was prepared in the form of a solution, the coating on the antistatic layer coated optical element in a continuous rotary coating machine, dried, UV cured to obtain a diffusion coating layer of 5㎛ thickness. Rotational speed and rotation time were the same as the antistatic layer forming step. The drying process was carried out for 60 seconds at room temperature drying, the curing was performed for 2 minutes UV curing with energy of 15mJ.

실시예 2Example 2

확산 코팅층 형성단계에서 아크릴계 비드를 5중량%를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건으로 수행하여 대전방지 확산 광학소자를 제조하였다.An antistatic diffusion optical device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that 5 wt% of the acrylic beads was used in the diffusion coating layer formation step.

실시예 3Example 3

확산 코팅층 형성단계에서 아크릴계 비드를 10중량%를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건으로 수행하여 대전방지 확산 광학소자를 제조하였다.An antistatic diffusion optical device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that 10 wt% of the acrylic beads was used in the diffusion coating layer formation step.

실시예 4Example 4

<대전방지층 형성 단계><Antistatic layer forming step>

통상적인 방법에 편광필름을 제작한 후, 가로, 세로 500mm으로 자른 뒤 연속식 회전 코팅기에서 편광필름을 LCD셀에 점착제를 이용하여 부착시킨다. 상기 편광필름의 투명지지체면에 전도성 고분자인 폴리아세틸렌 10중량%, 경화제 3중량%, 레벨링제 1중량%, 그리고 경화성 수지로 페놀수지를 포함하여 이루어진 대전방지 코팅 조성물을 자일렌에 녹여 용액의 형태로 제조한 후 스핀 코팅방식으로 코팅시킨다. 이 때의 회전속도는 500rpm으로 하고, 회전시간은 20초 동안 수행하였다. 또한, 자일렌의 중량은 대전방지 코팅 조성물 100중량부에 대해서 80중량부의 비로 혼합하였다. 대전방지층을 코팅한 후, 건조온도 상온에서 60초간 건조공정을 수행하고, 80℃에서 1분간 열경화시켜 두께 2㎛의 대전방지층을 형성하였다.After manufacturing a polarizing film in a conventional method, cut to 500mm horizontally and vertically, and then attach the polarizing film to the LCD cell using a pressure-sensitive adhesive in a continuous rotary coating machine. 10% by weight of polyacetylene, 3% by weight of curing agent, 1% by weight of leveling agent, and an antistatic coating composition comprising phenolic resin as a curable resin on xylene in the form of a solution on the transparent support surface of the polarizing film After the manufacture of the coating by spin coating method. At this time, the rotation speed was set to 500 rpm, and the rotation time was performed for 20 seconds. In addition, the weight of xylene was mixed in a ratio of 80 parts by weight relative to 100 parts by weight of the antistatic coating composition. After coating the antistatic layer, the drying process was carried out for 60 seconds at a drying temperature at room temperature, and thermoset at 80 ℃ for 1 minute to form an antistatic layer having a thickness of 2㎛.

<확산 코팅층 형성 단계><Diffusion coating layer forming step>

경화제 4중량%, 아크릴계 비드 2.5중량%, 레벨링제 1.5중량%, 페닐 살리실레이트와 p-tert-부틸페닐 살리실레이트를 혼합한 자외선 흡수제를 5중량%, 그리고 바인더수지로 메틸메타크릴레이트 수지를 포함하여 이루어진 확산 코팅 조성물을 자일렌에 녹여 용액의 형태로 제조한 후, 대전방지층이 코팅된 광학소자 위에 연속식 회전 코팅기에서 코팅, 건조, 자외선 경화하여 두께 5㎛의 확산 코팅층을 얻었다. 회전속도 및 회전시간은 대전방지층 형성단계와 동일한 조건으로 하였다. 건조온도 상온에서 60초간 건조공정을 수행하고, 경화는 15mJ의 에너지로 2분간 자외선 경화하는 공정을 수행하였다.4% by weight of curing agent, 2.5% by weight of acrylic beads, 1.5% by weight of leveling agent, 5% by weight of ultraviolet absorber mixed with phenyl salicylate and p-tert-butylphenyl salicylate, and methyl methacrylate resin as binder resin After dissolving a diffusion coating composition comprising a xylene in the form of a solution, and then coated on a continuous rotary coating machine on an antistatic layer is coated, dried, UV cured to obtain a diffusion coating layer of 5㎛ thickness. Rotational speed and rotation time were the same as the antistatic layer forming step. The drying process was carried out for 60 seconds at room temperature drying, the curing was performed for 2 minutes UV curing with energy of 15mJ.

실시예 5Example 5

확산 코팅층 형성단계에서 아크릴계 비드를 5중량%를 사용한 것을 제외하고는 실시예 4과 동일한 조건으로 수행하여 대전방지 확산 광학소자를 제조하였다.An antistatic diffusion optical device was manufactured in the same manner as in Example 4, except that 5 wt% of the acrylic beads was used in the diffusion coating layer formation step.

실시예 6Example 6

확산 코팅층 형성단계에서 아크릴계 비드를 10중량%를 사용한 것을 제외하고는 실시예 4과 동일한 조건으로 수행하여 대전방지 확산 광학소자를 제조하였다.An antistatic diffusion optical device was manufactured in the same manner as in Example 4, except that 10 wt% of the acrylic beads was used in the diffusion coating layer formation step.

비교예 1Comparative Example 1

실리카 입자에 비해 고정세한 표시화질을 저하시키는 물성을 개선한 다이니폰페인트사 'ASAGSR2' 필름을 사용하여 광학소자를 제작하였다.An optical device was manufactured using a Dinipon Paint 'ASAGSR2' film, which improved physical properties of high resolution display quality compared to silica particles.

실시예 및 비교예에서 얻어진 대전방지 확산 광학소자의 광학적, 물리적 특성인 투과도, 헤이즈(Haze), 투명도, 접착성, 표면저항을 측정한 결과를 [표 1]에 나타내었다.Table 1 shows the results of measuring optical transmittance, haze, transparency, adhesion, and surface resistance of the antistatic diffusion optical devices obtained in Examples and Comparative Examples.

투과도 (%)Permeability (%) Haze (%)Haze (%) 투명도 (%)Transparency (%) 접착성Adhesive 표면 저항 ( Ω/㎠)Surface resistance (Ω / ㎠) 실시예 1Example 1 30.30 30.30 3434 93.893.8 100/100100/100 1.14*e091.14 * e09 실시예 2Example 2 16.80 16.80 66.166.1 84.184.1 100/100100/100 1.18*e091.18 * e09 실시예 3Example 3 5.94 5.94 91.491.4 60.460.4 100/100100/100 1.49*e091.49 * e09 실시예 4Example 4 27.70 27.70 36.336.3 9393 100/100100/100 3.69*e083.69 * e08 실시예 5Example 5 15.46 15.46 67.367.3 84.184.1 100/100100/100 3.19*e083.19 * e08 실시예 6Example 6 5.98 5.98 90.890.8 61.561.5 100/100100/100 2.42*e082.42 * e08 비교예 1Comparative Example 1 26.8726.87 41.641.6 62.062.0 100/100100/100 3.26*e093.26 * e09

상기 표 1에 나타난 바와 같이, 투과도는 실시예 1, 실시예4, 비교예 1은 비슷한 투과도를 나타낸다. 이는 확산 방지층에 혼합되는 아크릴계 비드의 양이 비슷하기 때문이다. 그리고 실시예 2, 실시예3의 투과도가 실시예 1 비해 떨어지는 것은 확산 방지층에 혼합되는 아크릴계 비드의 양이 증가되었기 때문이다. 또한, 실시예 5, 실시예 6이 실시예 4에 비해 떨어지는 이유도 동일하다. As shown in Table 1, the transmittances of Example 1, Example 4, and Comparative Example 1 shows a similar transmittance. This is because the amount of acrylic beads mixed in the diffusion barrier layer is similar. In addition, the transmittance of Examples 2 and 3 is lower than that of Example 1 because the amount of acrylic beads mixed in the diffusion barrier layer is increased. Moreover, the reason why Example 5 and Example 6 fall compared with Example 4 is also the same.

또한, 아크릴계 비드의 양에 따라 상기의 표 1에 기재된 바와 같이, 투과도와 헤이즈(Haze) 값이 결정된다. 즉, 아크릴계 비드의 양이 많을수록 투명도는 낮아지고, 헤이즈 값은 올라간다. In addition, as described in Table 1 above, permeability and haze value are determined according to the amount of acrylic beads. In other words, the greater the amount of acrylic beads, the lower the transparency and the higher the haze value.

또한, 대전방지 기능이 추가된 실시예 1 내지 실시예 6은 비교예 1에 비해 표면저항이 낮다. In addition, Example 1 to Example 6 to which the antistatic function is added has a lower surface resistance than Comparative Example 1.

다시 말해 투과도, 헤이즈, 투명도는 확산 코팅층에 포함되어 있는 아크릴계 비드의 양에 관계되고, 표면저항은 대전방지층과 관계된다.In other words, the transmittance, haze, and transparency are related to the amount of acrylic beads contained in the diffusion coating layer, and the surface resistance is related to the antistatic layer.

한편, 상기 실시예 1 내지 실시예 6에서 얻어진 광학소자와 비교예 1에서 얻어진 광학소자에 대해서 파장에 따른 투과율에 대한 그래프를 도 2 내지 도 4에 도시하였다. 상기 도 2 내지 도 4에 도시된 그래프도 표 1과 마찬가지로 아크릴계 비드의 양이 많아질수록 투과율이 낮아지는 경향을 보인다.2 to 4 show graphs of transmittance according to wavelengths of the optical elements obtained in Examples 1 to 6 and the optical elements obtained in Comparative Example 1. FIG. As shown in Table 1, the graph shown in FIGS. 2 to 4 also shows a tendency that the transmittance decreases as the amount of acrylic beads increases.

이상, 본 발명을 구성을 중심으로 실시예와 비교예를 참조하여 상세하게 설명하였다. 그러나 본 발명의 권리범위는 상기 실시예에 한정되는 것은 아니라 첨부된 특허청구범위내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 가능한 다양한 변형 가능한 범위까지 본 발명의 청구 범위 기저의 범위 내에 있는 것으로 본다.In the above, this invention was demonstrated in detail with reference to an Example and a comparative example centering on a structure. However, the scope of the present invention is not limited to the above embodiments but may be embodied in various forms of embodiments within the appended claims. Without departing from the gist of the invention as claimed in the claims, any person of ordinary skill in the art is deemed to be within the scope of the claims underlying the present invention to the extent possible for various modifications.

또한, 본 발명에서의 바람직한 범위, 더욱 바람직한 범위, 더더욱 바람직한 범위 한정은 그 효과를 더욱 극대화 시키기 위한 것으로서, 한정 범위가 좁혀짐으로써 더욱 만족스러운 기술적 효과를 얻을 수 있다.In addition, the preferred range, more preferred range, and even more preferred range limitation in the present invention is to maximize the effect even more, it is possible to obtain a more satisfactory technical effect by narrowing the limited range.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의한 대전방지 확산 광학소자의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 확산 광학소자는 편광필름이 부착된 광학소자 위에 스핀 코팅방식을 이용하여 대전방지층을 형성하고, 그 대전방지층 위에 확산 코팅층을 형성함으로써, 정전기 발생을 방지함과 더불어 선명한 화상을 구현할 수 있다는 장점이 있다.As described above, the method for manufacturing an antistatic diffusion optical device according to the present invention and the antistatic diffusion optical device using the same form an antistatic layer using a spin coating method on an optical device with a polarizing film, and the antistatic layer thereof By forming a diffusion coating layer thereon, there is an advantage in that a clear image can be realized while preventing static electricity.

또한, 대전방지층과 확산 코팅층을 하나의 광학소자로 형성함으로써, 박막의 광학소자를 구현할 수 있다는 장점이 있다. In addition, by forming the antistatic layer and the diffusion coating layer as a single optical element, there is an advantage that the optical element of the thin film can be implemented.

Claims (19)

(a) 회전속도는 50rpm 내지 5,000rpm로, 회전시간은 10초 내지 500초로 하는 회전 조건 하에, 경화성 수지, 대전방지제, 경화제, 레벨링제를 포함하여 이루어지는 대전방지 코팅 조성물 100중량%에 있어서, (a) 100% by weight of an antistatic coating composition comprising a curable resin, an antistatic agent, a curing agent, and a leveling agent under rotation conditions of a rotation speed of 50 rpm to 5,000 rpm and a rotation time of 10 seconds to 500 seconds, ⅰ) 상기 대전방지제는 0.5중량% 내지 30중량%Iii) 0.5 wt% to 30 wt% of the antistatic agent ⅱ) 상기 경화제는 0.5중량% 내지 15중량%Ii) 0.5% to 15% by weight of the curing agent ⅲ) 상기 레벨링제는 0.1중량% 내지 3중량%를 포함하여 구성되는 대전방지 코팅 조성물을 분산제와 혼합하여 녹인 용액을 LCD셀 위에 부착된 편광필름 위에 스핀 코팅방식을 이용하여 코팅하되 상기 분산제의 함량은 대전방지 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부 내지 150중량부의 비로 혼합하여 대전방지층을 코팅하고 건조, 경화하여 대전방지층을 형성하는 대전방지층 형성단계와;Iii) The leveling agent is coated by using a spin coating method on the polarizing film attached to the LCD cell by dissolving the antistatic coating composition comprising 0.1% by weight to 3% by weight with a dispersant, the content of the dispersant An antistatic layer forming step of mixing the antistatic layer by mixing in an amount of 30 parts by weight to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silver antistatic coating composition to form an antistatic layer by drying and curing; (b) 회전속도는 50rpm 내지 5,000rpm로, 회전시간은 10초 내지 500초로 하는 회전 조건 하에, 바인더수지, 경화제, 광확산 미립자, 레벨링제를 포함하여 이루어지는 확산 코팅 조성물 100중량%에 있어서,(b) 100% by weight of the diffusion coating composition comprising a binder resin, a curing agent, a light diffusing fine particle, and a leveling agent under rotation conditions of a rotational speed of 50 rpm to 5,000 rpm and a rotation time of 10 seconds to 500 seconds. ⅰ) 상기 경화제는 0.3중량% 내지 10중량%Iii) 0.3 wt% to 10 wt% of the curing agent ⅱ) 상기 광확산 미립자는 1중량% 내지 20중량%Ii) 1% to 20% by weight of the light diffusing fine particles ⅲ) 상기 레벨링제는 0.1중량% 내지 3중량%를 포함하여 구성되는 확산 코팅 조성물을 분산제와 혼합하여 녹인 용액을 상기 대전방지층 위에 스핀 코팅방식을 이용하여 코팅하되 상기 분산제의 함량은 대전방지 코팅 조성물 100중량부에 대하 여 30중량부 내지 150중량부의 비로 혼합하여 확산 코팅층을 코팅하고 건조, 경화하여 확산 코팅층을 형성하는 확산 코팅층 형성단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.Iii) the leveling agent is coated by using a spin coating method on the antistatic layer by dissolving the diffusion coating composition comprising 0.1% by weight to 3% by weight with a dispersant, the content of the dispersant is an antistatic coating composition A method for manufacturing an antistatic diffusion optical device, characterized in that it comprises a diffusion coating layer forming step of mixing in a ratio of 30 parts by weight to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight to coat the diffusion coating layer, drying, curing to form a diffusion coating layer. . (a) 회전속도는 50rpm 내지 5,000rpm로, 회전시간은 10초 내지 500초로 하는 회전 조건 하에, 바인더수지, 경화제, 광확산 미립자, 레벨링제를 포함하여 이루어지는 확산 코팅 조성물 100중량%에 있어서,(a) 100% by weight of the diffusion coating composition comprising a binder resin, a curing agent, a light diffusing fine particle, and a leveling agent under rotational conditions of 50 to 5,000 rpm and a rotation time of 10 to 500 seconds. ⅰ) 상기 경화제는 0.3중량% 내지 10중량%Iii) 0.3 wt% to 10 wt% of the curing agent ⅱ) 상기 광확산 미립자는 1중량% 내지 20중량%Ii) 1% to 20% by weight of the light diffusing fine particles ⅲ) 상기 레벨링제는 0.1중량% 내지 3중량%를 포함하여 구성되는 확산 코팅 조성물을 분산제와 혼합하여 녹인 용액을 LCD셀 위에 부착된 편광필름 위에 스핀 코팅방식을 이용하여 코팅하되 상기 분산제의 함량은 대전방지 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부 내지 150중량부의 비로 혼합하여 확산 코팅층을 코팅하고 건조, 경화하여 확산 코팅층을 형성하는 확산 코팅층 형성단계;Iii) The leveling agent is coated by using a spin coating method on the polarizing film attached to the LCD cell by dissolving the diffusion coating composition comprising 0.1% to 3% by weight with a dispersant, the content of the dispersant is A diffusion coating layer forming step of mixing a diffusion coating layer by mixing in a ratio of 30 parts by weight to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of an antistatic coating composition to form a diffusion coating layer; (b) 회전속도는 50rpm 내지 5,000rpm로, 회전시간은 10초 내지 500초로 하는 회전 조건 하에, 경화성 수지, 대전방지제, 경화제, 레벨링제를 포함하여 이루어지는 대전방지성 하드코팅층 조성물 100중량%에 있어서, (b) 100% by weight of an antistatic hard coating layer composition comprising a curable resin, an antistatic agent, a curing agent, and a leveling agent under rotation conditions of a rotational speed of 50 rpm to 5,000 rpm and a rotation time of 10 seconds to 500 seconds. , ⅰ) 상기 대전방지제는 0.5중량% 내지 30중량%Iii) 0.5 wt% to 30 wt% of the antistatic agent ⅱ) 상기 경화제는 0.5중량% 내지 15중량%Ii) 0.5% to 15% by weight of the curing agent ⅲ) 상기 레벨링제는 0.1중량% 내지 3중량%를 포함하여 구성되는 대전방지 코팅 조성물을 분산제와 혼합하여 녹인 용액을 상기 확산 코팅층 위에 스핀 코팅방식을 이용하여 코팅하되 상기 분산제의 함량은 대전방지 코팅 조성물 100중량부에 대하여 30중량부 내지 150중량부의 비로 혼합하여 대전방지층을 코팅하고 건조, 경화하여 대전방지층을 형성하는 대전방지층 형성단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.Iii) the leveling agent is coated with a solution of the antistatic coating composition comprising 0.1% by weight to 3% by weight with a dispersant by spin coating method on the diffusion coating layer, the content of the dispersant is antistatic coating Method for producing an antistatic diffusion optical device, characterized in that it comprises a step of forming an antistatic layer by mixing in a ratio of 30 parts by weight to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the composition to coat the antistatic layer, dried, and cured to form an antistatic layer . 제 1 항에 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 경화성수지 또는 바인던수지는 열경화성수지 또는 광경화성수지 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The curable resin or the binder resin is a method of manufacturing an antistatic diffusion optical device, characterized in that at least one of a thermosetting resin or a photocurable resin. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 경화성수지 또는 바인던수지에 광경화성수지가 포함되는 경우는 상기 대전방지 코팅 조성물 또는 확산 코팅 조성물에 자외선 흡수제가 더 포함되어 구성되되, 상기 자외선 흡수제의 함량은 대전방지 코팅 조성물 또는 확산 코팅 조성물 100중량% 있어서, 0.1중량% 내지 10중량%인 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.When the photocurable resin is included in the curable resin or the binder resin, the antistatic coating composition or the diffusion coating composition further includes an ultraviolet absorber, and the content of the ultraviolet absorbent is the antistatic coating composition or the diffusion coating composition 100 Method for producing an antistatic diffusion optical device, characterized in that in the weight%, 0.1% to 10% by weight. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 대전방지층 형성단계에서 대전방지제는 전도성 고분자, 금속입자 중 적어도 하나 이상이 혼합된 것을 사용하는 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소 자의 제조방법.In the antistatic layer forming step, the antistatic agent is a method of manufacturing an antistatic diffusion optical element, characterized in that at least one of a conductive polymer, a metal particle is mixed. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 전도성 고분자는 폴리아세틸렌(Polyacetylene), 폴리(p-페닐렌)[Poly(p-phenylene)], 폴리티오펜(Polythiophene), 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)[Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)(PEDOT)], 폴리피롤[Polypyrrole(피리딘중합체)], 폴리(p-페닐렌 설파이드)[Poly(p-phenylene sulfide)], 폴리(p-페닐렌 비닐렌)[Poly(p-phenylene vinylene)], 폴리(티에닐렌 비닐렌[Poly(thienylene vinylene)], 폴리아닐린(Polyaniline) 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The conductive polymer is polyacetylene, poly (p-phenylene) [Poly (p-phenylene)], polythiophene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) [Poly (3,4 -ethylenedioxythiophene) (PEDOT)], polypyrrole [pyridine polymer], poly (p-phenylene sulfide) [poly (p-phenylene sulfide)], poly (p-phenylene vinylene) [Poly (p-phenylene vinylene)], poly (thienylene vinylene), and polyaniline (Polyaniline). 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 금속입자는 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 납(Pb), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 티탄(Ti) 중 적어도 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The metal particles are silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), nickel (Ni), chromium (Cr), lead (Pb), cobalt (Co), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), tin (Sn), iridium (Ir), palladium (Pd), titanium (Ti) at least one of the manufacturing method of the antistatic diffusion optical device. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 금속화합물은 입경이 0.05㎛ 내지 1㎛인 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The metal compound has a particle diameter of 0.05㎛ to 1㎛ manufacturing method of the antistatic diffusion optical device. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 대전방지층 두께가 1㎛ 내지 3㎛가 되게 제조되는 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.Method for producing an antistatic diffusion optical device, characterized in that the antistatic layer thickness is made to 1㎛ to 3㎛. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 광확산 미립자는 아크릴계 비드, 스티렌계 비드 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The light diffusing fine particles are at least one of acrylic beads and styrene beads, the manufacturing method of the antistatic diffusion optical device. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 아크릴계 비드는 에틸 아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 아밀 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 옥틸 아크릴레이트, 사이클로 헥실 아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 사이클로 헥실 메타크릴레이트, 벤질 헥실 메타크릴레이트, 사이클로 헥실 메타크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 벤질 메카크릴레이트, 비닐 아세테이트, 스티렌, 아크릴로니트릴, 아크릴산, 메타크릴산, 무수말레인산, 이타콘산, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, N-메틸올아크릴아미드, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 글리시딜아미드, 라우릴아크릴레이트, 에톡시디에틸렌클리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 테트라히드로푸릴아크릴레이트, 이 소보닐아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리틀테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 트리메틸올프로판아크릴산벤조에이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트, n-스테아릴메타아크릴레이트, 시클로헥실메타아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴메타아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타아크릴레이트, 글리세린디메타아크릴레이트, 글리세린디메타아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트의 단량체 또는 올리고머를 단독 또는 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The acrylic beads are ethyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, cyclohexyl acrylate, benzyl acrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclo Hexyl methacrylate, benzyl hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methyl acrylate, methyl methacrylate, benzyl methacrylate, vinyl acetate, styrene, acrylonitrile, acrylic acid, methacrylic acid , Maleic anhydride, itaconic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, N-methylol acrylamide, acrylamide, methacrylamide, glycidylamide, lauryl Acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, Oxyethyl acrylate, tetrahydrofuryl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy acrylate, neopentyl glycol diacryl Rate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane acrylate benzoate, 2- Ethylhexyl methacrylate, n-stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 1,6- Hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, glycerin dimethacrylate, glycerin di The method of other acrylate hexamethylene diisocyanate, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate monomer or antistatic diffusion optical element characterized in that the oligomer used alone or in combination. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 스티렌계 비드는 스티렌, α-메틸스티렌, α-에틸스티렌, o-에틸스티렌, p-에틸스티렌, 2,4-디메틸스티렌 또는 비닐 톨루엔을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The styrene beads are antistatic diffusion, characterized in that used alone or in combination with styrene, α-methylstyrene, α-ethylstyrene, o-ethylstyrene, p-ethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene or vinyl toluene Method of manufacturing optical element. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 광확산 미립자의 형상은 구상 또는 침상인 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The shape of the light diffusing fine particles is a spherical or needle-like manufacturing method of the antistatic diffusion optical element. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 광확산 미립자는 입자 직경이 0.3㎛ 내지 4㎛인 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The light diffusing fine particles have a particle diameter of 0.3㎛ to 4㎛ manufacturing method of the antistatic diffusion optical device. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 광확산 미립자는 굴절율이 상기 대전방지 코팅 조성물의 굴절율보다 0.01 내지 0.4 작은 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The light diffusing fine particles have a refractive index of 0.01 to 0.4 less than the refractive index of the antistatic coating composition, characterized in that the manufacturing method of the antistatic diffusion optical device. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 확산 코팅층은 두께가 3㎛ 내지 5㎛인 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The diffusion coating layer is a method of manufacturing an antistatic diffusion optical device, characterized in that the thickness of 3㎛ 5㎛. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 분산제는 알콜계의 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올, 이소부탄올 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 알콜, 케톤류의 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 케톤, 아세틸 아세톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 디케톤, 에스테르류의 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 에스테르, 에테르 알콜류의 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올, 그 외 에 N-메틸 피롤리돈, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디아세톤 알콜, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The dispersant is a saturated hydrocarbon alcohol having 1 to 8 carbon atoms, such as methanol, isopropanol, butanol, t-butanol, and isobutanol, and a saturated hydrocarbon having 1 to 8 carbon atoms such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Saturated hydrocarbon-based diketones having 1 to 8 carbon atoms such as hydrocarbon ketones and acetyl acetone, saturated hydrocarbon-based esters having 1 to 8 carbon atoms such as ethyl acetate and butyl acetate of esters, ethyl cellosolves of ether alcohols, and methylcello Sorb, butyl cellosolve, 1-methoxy-2-propanol, and at least one of N-methyl pyrrolidone, ethyl cellosolve acetate, diacetone alcohol, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene A method of manufacturing an antistatic diffusion optical device, characterized in that. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 자외선 흡수제는 페닐 살리실레이트, p-tert-부틸페닐 살리실레이트, p-옥틸페닐 살리실레이트, 4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 2-히드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논, 비스(2-메톡시-4-히드록시-5-벤조일페닐)메탄, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥톡시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-(3',4',5',6'-테트라히드로프탈이미도메틸)-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸릴-2-일)페놀], 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-[(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀], 2-(2'-히드록시-3',5'-di-t-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-에틸헥실-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이 트, 에틸-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트 중에서 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지 확산 광학소자의 제조방법.The ultraviolet absorber is phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, 4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydride Hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-meth Methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy -5-benzoylphenyl) methane, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotria Sol, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5-di-tert- Amylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4'-octoxyphenyl) benzoate Azole, 2- (2'-hydroxy-3 '-(3', 4 ', 5', 6'-tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2- (2'-hydroxy-5'-methacryloxyphenyl) -2H-benzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6-[(2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amylphenyl) benzotriazole, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate, ethyl-2-cya A method for manufacturing an antistatic diffusion optical device, characterized in that at least one of no-3,3'-diphenyl acrylate. 제 4 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 의한 대전방지 확산 광학소자의 제조방법으로 제조되는 대전방지 확산 광학소자.An antistatic diffusion optical device manufactured by the method of manufacturing an antistatic diffusion optical device according to any one of claims 4 to 18.
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