KR100659578B1 - Method for manufacturing antistatic hard-coated brightness enhancement optical device and antistatic hard-coated brightness enhancement optical device using thereof - Google Patents

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Abstract

Provided are a method for preparing an antistatic hard coating brightness improving optical device, and an antistatic hard coating optical device prepared by the method which is prevented in the breakage of liquid crystal due to the adhesion of impurities and is improved in scratch resistance. The method comprises the steps of spin coating a solution comprising 100 parts by weight of an antistatic hard coating composition comprising 0.5-30 wt% of an antistatic agent, 0.1-15 wt% of a curing agent, 0.1-3 wt% of a leveling agent and 0.1-15 wt% of a UV absorber and 20-110 parts by weight of a dispersant on a brightness improving film of an optical device under the condition of a rotation velocity of 10-5,000 rpm and a rotation time of 1-500 sec; drying an antistatic hard coating layer by rotating with 20-5,000 rpm at 15-85 deg.C; and curing it with UV rays of 5-40 mL and a rotation velocity of 10-3,000 rpm.

Description

대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자{Method for Manufacturing Antistatic Hard-Coated Brightness enhancement Optical Device and Antistatic Hard-Coated Brightness enhancement Optical Device using thereof}Method for manufacturing antistatic hard coating brightness enhancement optical device and antistatic hard coating brightness enhancement optical device using same {Method for Manufacturing Antistatic Hard-Coated Brightness enhancement Optical Device and Antistatic Hard-Coated Brightness enhancement Optical Device using

도 1은 종래의 대전방지성 하드코팅 투명지지체를 부착한 하드코팅 휘도향상 광학소자의 구성도,1 is a block diagram of a hard coating brightness enhancing optical element to which a conventional antistatic hard coating transparent support is attached,

도 2는 본 발명의 일시시예에 의한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 구성도,2 is a configuration diagram of an antistatic hard coating luminance improvement optical device according to a temporary embodiment of the present invention;

도 3은 실시예 1에서 얻어진 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 투과율을 나타내는 그래프,3 is a graph showing the transmittance of an antistatic hard coating luminance improving optical device obtained in Example 1;

도 4는 실시예 2에서 얻어진 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 투과율을 나타내는 그래프,4 is a graph showing the transmittance of the antistatic hard coating luminance improving optical element obtained in Example 2;

도 5는 비교예 1에서 얻어진 휘도향상 광학소자의 투과율을 나타내는 그래프,5 is a graph showing the transmittance of the luminance improving optical element obtained in Comparative Example 1;

도 6은 비교예 2에서 얻어진 휘도향상 광학소자의 투과율을 나타내는 그래프이다.6 is a graph showing the transmittance of the luminance improving optical element obtained in Comparative Example 2. FIG.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100: 대전방지성 하드코팅층 200: 휘도향상 필름100: antistatic hard coating layer 200: brightness enhancement film

300, 500: 점착제 400: 편광필름300, 500: adhesive 400: polarizing film

600: 액정 셀600: liquid crystal cell

본 발명은 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자에 관한 것으로, 특히 스핀코팅(spin-coating) 방식에 의하여 휘도향상 광학소자에 초박막의 대전방지성 하드 코팅층을 형성하여 정전기에 의해 이물질이 부착되는 것을 방지할 수 있고, 내스크래치성이 우수하면서 초박막의 휘도향상 광학소자를 제조할 수 있는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing an antistatic hard coating luminance improving optical element and an antistatic hard coating luminance improving optical element using the same. In particular, an anti-thinning property of an ultra-thin film is applied to a luminance improving optical element by a spin-coating method. Manufacturing method of antistatic hard coating brightness improving optical device which can prevent foreign matter from adhering to static electricity by forming hard coating layer, and can produce ultra thin film brightness improving optical device with excellent scratch resistance and charging The present invention relates to an optical element for preventing hard coating luminance improvement.

액정 표시장치 등에서, 이미지 형성 시스템은 액정 셀의 양면에 배치된 편광 소자를 반드시 필요로 하고, 일반적으로, 편광판이 거기에 부착된다. 또한, 액정 패널에서, 표시장치의 표시 품질을 향상시키기 위해, 편광판 이외의 다양한 광학 소자가 점점 더 사용되고 있다. 예를 들어, 착색 방지용 위상차판, 액정 표시장치의 시야각을 향상시키는 시야-각 확장 필름, 및 표시장치의 콘트라스트를 증가시키는 휘도 강화 필름 등이 사용된다. 이들 필름을 총칭하여 광학 필름이라 부른다.In liquid crystal displays and the like, an image forming system necessarily requires polarizing elements disposed on both sides of a liquid crystal cell, and generally, a polarizing plate is attached thereto. In addition, in the liquid crystal panel, in order to improve the display quality of the display device, various optical elements other than the polarizing plate are increasingly used. For example, a retardation plate for preventing coloring, a viewing-angle expansion film for improving the viewing angle of the liquid crystal display, a brightness enhancing film for increasing the contrast of the display, and the like are used. These films are collectively called an optical film.

액정 셀에 광학 필름을 부착하는 경우에, 일반적으로 점착제가 사용된다. 또 한, 광학 필름과 액정 셀, 및 광학 필름 사이의 접착에서, 빛의 손실을 감소시키기 위해 점착제를 사용하여 일반적으로 부착된다.When attaching an optical film to a liquid crystal cell, an adhesive is generally used. In addition, in the adhesion between the optical film and the liquid crystal cell, and the optical film, it is generally attached using an adhesive to reduce the loss of light.

이들 광학 필름에서, 광학 필름이 소비자들에게 전달되기 전까지 수송 또는 제조 공정에서의 광학 필름의 표면에 대한 손상 및 오염의 발생을 방지하기 위해, 일반적으로, 표면 보호 필름이 그 표면상에 부착된다. 표면 보호 필름은 광학 필름이 단일 물질의 상태인 단계로부터 부착되고, 어떤 경우에는 LCD 등에 부착된 이후에 박리되고, 다른 경우에는 박리된 이후에 동일하거나 또 다른 표면 보호 필름에 부착된다. 표면 보호 필름의 박리의 경우에 발생하는 정전기가 LCD 패널과 같은 회로를 파괴할 수도 있다는 문제점이 있었다.In these optical films, a surface protective film is generally attached on that surface to prevent the occurrence of damage and contamination to the surface of the optical film in the transportation or manufacturing process until the optical film is delivered to consumers. The surface protection film is attached from the step in which the optical film is in the state of a single material, and in some cases is peeled off after being attached to an LCD or the like, and in other cases it is attached to the same or another surface protection film after peeling off. There was a problem that static electricity generated in the case of peeling of the surface protection film may destroy a circuit such as an LCD panel.

또한, 상기와 같은 액정 표시장치는 자체 발광원을 갖지 않기 때문에 외부에 광원이 설치되어야 하며, 이를 위해 백라이트 어셈블리가 사용된다. 이 백라이트의 휘도를 향상시키기 위해서 휘도향상 필름이 사용되는데, 그러한 예로 DBEF(dual brightness enhancement film)가 주로 사용된다.In addition, since the liquid crystal display device does not have its own light emitting source, a light source must be installed externally, and a backlight assembly is used for this purpose. In order to improve the brightness of this backlight, a brightness enhancement film is used. For example, a dual brightness enhancement film (DBEF) is mainly used.

그러나 상기와 같은 휘도향상 필름은 표면 저항이 높고, 정전기 발생하여 표면에 이물질 등이 부착되기 쉽고 대형 LCD(Liquid Crystal Display)에서 외부 전하에 의해 액정이 깨지는 문제가 있었다. 그리고 표면 경도가 낮아 내스크래치성이 떨어지고, 스크래치(scratch)나 스크래이프(scrape) 등에 의하여 투명성이 손상된다는 문제점이 있었다.However, the luminance-enhanced film as described above has a problem in that the surface resistance is high, the static electricity is generated, and foreign matters are easily attached to the surface, and the liquid crystal is broken by external charge in a large liquid crystal display (LCD). In addition, there is a problem that the surface hardness is low, the scratch resistance is poor, and transparency is damaged by scratches or scrapes.

또한, 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 대전방지성 하드코팅층을 형성하는 경우에 종래에는 점착제를 사용하였다. 도 1은 종래의 액정 셀이 부착된 편광필름 과 휘도향상 필름이 합지된 제품에 대전방지성 하드코팅 투명지지체가 부착된 광학소자의 구성도이다. 도시된 바와 같이, 편광필름(5) 상면은 점착제(6)에 의해 엑정 셀(7)이 부착되고, 하면은 점착제(4)에 의해 휘도향상 필름(3)이 부착되어 있고, 상기 휘도향상 필름(3)에 점착제(2)가 도포되고, 그 위에 대전방지성 하드코팅 투명지지체(1)가 부착된 형태이다. In addition, in the case of forming an antistatic hard coating layer in order to solve the above problems, a conventional adhesive was used. 1 is a configuration diagram of an optical element having an antistatic hard coating transparent support attached to a product in which a polarizing film with a liquid crystal cell and a brightness enhancing film are laminated. As shown, the upper surface of the polarizing film 5 is attached to the crystal cell 7 by the pressure-sensitive adhesive (6), the lower surface is attached to the brightness enhancement film (3) by the pressure-sensitive adhesive (4), the brightness enhancement film The adhesive 2 is apply | coated to (3), and the antistatic hard coating transparent support body 1 is attached on it.

그러나 상기와 같은 종래의 제조방법으로 제조된 대전방지 기능 및 표면경도가 향상된 휘도향상 광학소자는 점착제와 대전방지성 하드코팅 투명지지체의 두께로 인해 그 두께가 두껍다는 문제점이 있었고, 별도로 점착제를 사용하는 단계가 수행되기에 점착제에 대한 비용이 발생하고, 그로 인해 공정이 복잡하다는 문제점이 있었다.However, the brightness improving optical device having improved antistatic function and surface hardness manufactured by the conventional manufacturing method as described above has a problem that its thickness is thick due to the thickness of the adhesive and the antistatic hard coating transparent support, and using an adhesive separately. There is a problem in that the cost for the pressure-sensitive adhesive is carried out to perform the step, thereby the process is complicated.

이에 본 발명은 상기와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 휘도향상 광학소자에 초박막의 대전방지성 하드코팅층을 형성하여 정전기에 의해 이물질이 등이 부착되는 것을 방지할 수 있고, 마찰에 의한 스크래치 등으로 투명성이 손상시키지 않는 충분한 경도를 가질 정도로 내스크래치성이 향상된 초박막의 휘도향상 광학소자를 제조할 수 있는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자를 제공하는데 있다. Accordingly, the present invention has been proposed to solve the above conventional problems, and an object of the present invention is to form an ultra-thin antistatic hard coating layer on the brightness improving optical device to prevent foreign matters from being attached by static electricity. And a method of manufacturing an antistatic hard coating brightness improving optical element capable of manufacturing an ultrathin thin film having improved scratch resistance and having sufficient hardness that does not impair transparency due to friction or the like, and using the same An anti-static hard coating luminance improvement optical device is provided.

이하, 기술적 사상을 중심으로 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the technical spirit.

본 발명에 의한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자 제조방법은 소정 크기로 절단한 휘도향상 광학소자를 스핀코팅(spin-coating) 방식에 의하여 대전방지성 하드코팅층을 코팅하는 스핀코팅단계, 코팅된 대전방지성 하드코팅층을 건조하는 건조단계 그리고 건조한 대전방지성 하드코팅층을 광경화하는 경화단계를 거친다. 이하 살펴본다.Antistatic hard coating luminance improvement optical device manufacturing method according to the present invention is a spin coating step of coating an antistatic hard coating layer by spin-coating (spin-coating) the luminance enhancement optical element cut to a predetermined size, coated charging A drying step of drying the anti-hard coating layer and a curing step of photocuring the dry antistatic hard coating layer. Look below.

본 명세서에서 '휘도향상필름'이란 휘도를 향상시키는 필름으로서 단일 필름으로 구성된 것을 말하며, '휘도향상 광학소자'란 휘도향상필름이 편광필름과 액정 셀(cell)에 부착된 형태의 것을 말한다.In the present specification, the "enhanced brightness film" refers to a film that improves luminance and is composed of a single film, and the "enhanced brightness optical element" refers to a form in which the luminance enhanced film is attached to a polarizing film and a liquid crystal cell.

(1) 스핀코팅단계(1) Spin coating step

본 발명에 의한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법은 종래의 투명지지층을 없애고, 대전방지성 하드코팅층을 보다 박형으로 하기 위하여 스핀코팅을 적용한다.In the method of manufacturing an antistatic hard coating luminance improving optical device according to the present invention, spin coating is applied to remove the conventional transparent support layer and to make the antistatic hard coating layer thinner.

본 발명에서는 휘도향상필름에 직접 스핀코팅 방식으로 적용하지 않고, 편광필름이 결합된 휘도향상필름 위에 대전방지성 하드코팅층을 스핀코팅하여 형성하거나 액정 셀(cell)에 부착된 편광필름 위에 대전방지성 하드코팅층을 스핀코팅하여 형성한다.In the present invention, without applying a direct spin coating method to the brightness enhancement film, it is formed by spin coating an antistatic hard coating layer on the brightness enhancement film combined with a polarizing film or antistatic properties on the polarizing film attached to the liquid crystal cell (cell) The hard coat layer is formed by spin coating.

본 발명의 스핀코팅방식에서 적용되는 회전속도 및 회전시간은 다음과 같다.The rotation speed and rotation time applied in the spin coating method of the present invention are as follows.

본 발명에서 스핀코팅의 회전속도 10rpm 내지 5,000rpm에서 대전방지성 하드 코팅층 조성물을 분산제와 혼합한 용액을 코팅하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 100rpm 내지 4,000rpm이다. 더더욱 바람직한 스핀코팅의 회전속도는 500rpm 내지 3,000rpm이다.In the present invention, it is preferable to coat a solution obtained by mixing the antistatic hard coat layer composition with the dispersant at a rotational speed of 10 rpm to 5,000 rpm, and more preferably 100 rpm to 4,000 rpm. Even more preferred spin coating speeds range from 500 rpm to 3,000 rpm.

스핀코팅의 회전속도가 10rpm보다 작으면, 원하는 소정의 박막을 얻을 수 없음은 물론 휘도향상 광학소자의 표면에 대전방지성 하드코팅층이 고르게 도포되지 못한다. 또한, 5,000rpm보다 크면 높은 원심력으로 인하여 대전방지성 하드코팅층의 중앙부와 바깥 부분에서 두께 차이가 발생한다. 또한, 높은 회전속도를 유지하기 위하여 스핀코팅 장치에 무리가 갈 수 있으며 휘도향상 광학소자 자체의 내구성에 영향을 줄 수 있다.If the rotational speed of the spin coating is less than 10 rpm, the desired predetermined thin film may not be obtained and the antistatic hard coating layer may not be evenly applied to the surface of the optical element of improving brightness. In addition, when greater than 5,000rpm, due to the high centrifugal force, the thickness difference occurs in the center and the outer portion of the antistatic hard coating layer. In addition, in order to maintain a high rotational speed can be difficult to spin coating apparatus and may affect the durability of the brightness enhancement optical element itself.

더불어, 본 발명의 스핀코팅단계에서 회전시간은 1초 내지 500초인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 3초 내지 400초이다. 더더욱 바람직하게는 10초 내지 300초이다. 회전시간은 대전방지성 하드코팅층 조성물과 분산제가 혼합된 용액의 점도, 코팅시키고자 하는 대전방지성 하드코팅층의 두께에 따라서 변할 수 있다.In addition, in the spin coating step of the present invention, the rotation time is preferably 1 second to 500 seconds, more preferably 3 seconds to 400 seconds. Even more preferably, it is 10 to 300 seconds. The rotation time may vary depending on the viscosity of the solution in which the antistatic hard coating layer composition and the dispersant are mixed and the thickness of the antistatic hard coating layer to be coated.

회전시간이 1초 보다 작으면 휘도향상 광학소자에 대전방지성 하드코팅층을 고르게 도포시키는 충분한 시간을 확보하기 힘들고, 500초 보다 크면 경제성이 떨어진다.If the rotation time is less than 1 second, it is difficult to ensure sufficient time to evenly apply the antistatic hard coating layer to the luminance improving optical element, and if it is more than 500 seconds, the economic efficiency is poor.

본 발명에서 사용되는 우레탄아크릴레이트를 포함하는 경화성수지, 대전방지제, 경화제, 레벨링제, 자외선 흡수제로 구성되는 대전방지성 하드코팅층 조성물의 구성과 상기 조성물과 혼합되는 분산제에 대해 각각 살펴보면 다음과 같다.Looking at the composition of the antistatic hard coating layer composition consisting of a curable resin, an antistatic agent, a curing agent, a leveling agent, a UV absorber containing a urethane acrylate used in the present invention and a dispersant mixed with the composition are as follows.

① 경화성수지① Curable resin

본 발명에서 사용하는 경화성수지는 자외선경화를 위하여 광경화성수지를 사용한다.The curable resin used in the present invention uses a photocurable resin for ultraviolet curing.

광경화성수지는 일반적으로 알려진 공지의 수지를 사용한다. 광경화성수지로는 불포화 폴리에스테르 수지, 다관능 아크릴레이트 수지, 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴 수지, 에폭시 아크릴레이트 수지 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.Photocurable resins generally use known resins. As the photocurable resin, unsaturated polyester resins, polyfunctional acrylate resins, urethane acrylates, epoxy acrylic resins, epoxy acrylate resins and the like can be used alone or in combination.

본 발명에서 사용하는 경화성수지는 대전방지성 하드코팅층 조성물 100중량%에 있어서 60중량% 내지 95중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 70중량% 내지 90중량%이다. 경화성수지가 대전방지성 하드코팅층 조성물 100중량%에 있어서 60중량% 보다 작으면 경화에 의한 고경도를 얻기 힘들고, 95중량%보다 크면 상대적으로 경화제와 레벨링제 등의 함량이 적어 원하는 수준의 물리적 물성을 얻기 힘들다.The curable resin used in the present invention is preferably 60% to 95% by weight, more preferably 70% to 90% by weight in 100% by weight of the antistatic hard coating layer composition. When the curable resin is less than 60% by weight in 100% by weight of the antistatic hard coating layer composition, it is difficult to obtain high hardness due to curing, and when the curable resin is greater than 95% by weight, the content of the curing agent and leveling agent is relatively small, and thus the desired physical properties. Hard to get.

본 발명에서 사용가능한 경화성수지는 동일한 작용 효과를 나타낸다면 그 범위 또는 함량은 나열된 수지나 함량에 한정되지 않음은 물론이다. If the curable resin usable in the present invention exhibits the same effect, the range or content is not limited to the listed resins or contents, of course.

본 발명에서 사용하는 경화성수지는 고경도, 투명성 등의 특성을 얻기 위하여 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명에서 사용하는 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지는 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexaacrylte), 테트라메틸올메탄 테트라아크릴레이트(tetramethylolmethane tetraacrylate), 테트라메틸올메탄 트리 아크렐레이트(tetramethylolmethane triacrylate), 트리메탄올프로판 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-hexanediol diacrylate), 1,6-비스(3-아크릴오일옥시-2-하이드록시프로필옥시)헥산[1,6-bis(3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl)hexane] 등과 같은 다관능기 알콜 유도체, 폴리에틸렌 글라이콜 디아크릴레이트(polyethylene glycol diacrylate)와 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(pentaerythritol triacrylate)와 같은 우레탄 아크릴레이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트 우레탄 선행고분자(hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer) 등이 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다.The curable resin used in the present invention more preferably uses an ultraviolet curable polyfunctional acrylate resin in order to obtain properties such as high hardness and transparency. The ultraviolet curable polyfunctional acrylate-based resin used in the present invention may be dipentaerythritol hexaacrylte, tetramethylolmethane tetraacrylate, tetramethylolmethane triacrylate. , Trimethylolpropane triacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane Polyfunctional alcohol derivatives such as [1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl) hexane], urethanes such as polyethylene glycol diacrylate and pentaerythritol triacrylate Acrylate, hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, etc. Or mixed.

전술한 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지는 경화성수지 100중량%에 대하여 10중량% 내지 90중량% 사용하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30중량% 내지 87중량%이다. 더더욱 바람직하게는 50중량% 내지 85중량% 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use 10 weight%-90 weight% of said ultraviolet curable polyfunctional acrylate resin with respect to 100 weight% of curable resin, More preferably, it is 30 weight%-87 weight%. Even more preferably, 50 to 85% by weight is used.

경화성수지 100중량%에서 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지가 10중량% 보다 작으면 절대적인 관능기 수가 적어서 관능기의 결합에 따른 고경도를 얻기 힘들고, 90중량% 보다 많을 때는 경도는 높아지지만 비틀림 방지 및 내화학성이 약해지는 단점이 있다.If the UV-curable polyfunctional acrylate-based resin is less than 10% by weight in 100% by weight of the curable resin, it is difficult to obtain high hardness due to the combination of functional groups because the absolute number of functional groups is small. There is a disadvantage of weak chemical.

② 대전방지제② Antistatic Agent

본 발명에서 사용하는 대전방지제는 전도성 고분자, 금속입자, 무기산화물, 금속산화물 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.The antistatic agent used in the present invention may be used alone or in combination with a conductive polymer, metal particles, inorganic oxides, metal oxides and the like.

본 발명에서 대전방지제로 사용하는 전도성 고분자는 폴리아세틸렌(Polyacetylene), 폴리(p-페닐렌)[Poly(p-phenylene)], 폴리티오펜(Polythiophene), 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)[Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)(PEDOT)], 폴리피롤[Polypyrrole(피리딘중합체)], 폴리(p-페닐렌 설파이드)[Poly(p-phenylene sulfide)], 폴리(p-페닐렌 비닐렌)[Poly(p-phenylene vinylene)], 폴리(티에닐렌 비닐렌[Poly(thienylene vinylene)], 폴리아닐린(Polyaniline) 등을 단독 또는 혼합하여 사용가능하다.The conductive polymer used as an antistatic agent in the present invention is polyacetylene, poly (p-phenylene) [poly (p-phenylene)], polythiophene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene ) [Poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT)], Polypyrrole [Polypyrrole (pyridine polymer)], Poly (p-phenylene sulfide) [Poly (p-phenylene sulfide)], Poly (p-phenylene vinylene ) [Poly (p-phenylene vinylene)], poly (thienylene vinylene), polyaniline (Polyaniline) and the like can be used alone or in combination.

본 발명에서 대전방지제로 사용하는 금속입자는 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 납(Pb), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 티탄(Ti) 등을 단독, 혼합 또는 은(Ag)코팅된 구리(Cu)처럼 다른 금속을 코팅하여 사용한다.Metal particles used as antistatic agents in the present invention are silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), nickel (Ni), chromium (Cr), lead (Pb) , Cobalt (Co), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), tin (Sn), iridium (Ir), palladium (Pd), titanium (Ti) and the like alone, mixed or silver (Ag) coated copper (Cu Coated with other metals like).

본 발명에서는 사용되는 무기산화물은 유기산화물을 제외한 모든 산화물을 무기산화물이라 통칭하며, 본 발명에서는 무기산화물 중에서 금속산화물을 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, the inorganic oxide to be used refers to all oxides except organic oxides as inorganic oxides. In the present invention, it is preferable to use a metal oxide among the inorganic oxides.

금속산화물을 형성하는 금속은 제한이 없으며 나트륨(Na), 마그네슘(Mg), 칼륨(K), 칼슘(Ca), 스칸듐(Sc), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 크롬(Cr), 망간(Mn), 코발트(Co), 철(Fe), 구리(Cu), 아연(Zn), 갈륨(Ga), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu), 루비듐(Rb), 이트륨(Y), 란탄(La), 스트론튬(Sr), 지르코늄(Zr), 니오븀(Nb), 몰리브덴(Mo) 등을 사용할 수 있다. 이들 금속은 하나의 금속이 복수개의 원자가를 가지면서 여러 금속산화물을 형성할 수도 있다. 또한, 2 이상의 금속이 포 함된 다금속산화물을 형성할 수도 있다.Metals forming metal oxides are not limited and include sodium (Na), magnesium (Mg), potassium (K), calcium (Ca), scandium (Sc), titanium (Ti), vanadium (V), chromium (Cr), Manganese (Mn), Cobalt (Co), Iron (Fe), Copper (Cu), Zinc (Zn), Gallium (Ga), Aluminum (Al), Nickel (Ni), Copper (Cu), Rubidium (Rb), Yttrium (Y), lanthanum (La), strontium (Sr), zirconium (Zr), niobium (Nb), molybdenum (Mo) and the like can be used. These metals may form several metal oxides with one metal having a plurality of valences. It is also possible to form a multimetal oxide containing two or more metals.

본 발명에서는 대표적으로 ITO(Indium Tin Oxide), ATO(Antinomy Tin Oxide), SiO2, TiO2, Al2O3, B2O3, CaO, SnO, MgO, SrO, ZnO, ZrO2, Y2O3, La2O3 등의 금속산화물을 단독 또는 혼합하여 사용한다.In the present invention, typically, indium tin oxide (ITO), antinomy tin oxide (ATO), SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , CaO, SnO, MgO, SrO, ZnO, ZrO 2 , Y 2 Metal oxides such as O 3 and La 2 O 3 may be used alone or in combination.

금속산화물의 입자 직경은 0.05㎛ 내지 1㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 내지 0.5㎛이다. 금속산화물의 입자 직경이 0.05㎛보다 작으면 만족스러운 광확산에 의한 대전방지 효과를 얻기 힘들고, 광확산성이 저하되어 화상이 알루미늄 색상으로 변색되는 단점이 있다. 또한 금속산화물의 입자 직경이 1㎛보다 크면 대전방지 하드코팅층의 두께가 두꺼워지며, 도포되는 화면의 배경이 거칠어지기 쉽고 화상 콘트라스트가 악화된다.The particle diameter of the metal oxide is preferably 0.05 µm to 1 µm, more preferably 0.1 µm to 0.5 µm. If the particle diameter of the metal oxide is smaller than 0.05 μm, it is difficult to obtain an antistatic effect due to satisfactory light diffusion, and the light diffusivity is lowered, so that the image is discolored to aluminum color. In addition, when the particle diameter of the metal oxide is larger than 1 µm, the thickness of the antistatic hard coating layer is increased, the background of the screen to be applied is rough, and the image contrast is deteriorated.

대전방지제의 함량은 대전방지 하드코팅층 코팅층 조성물 100중량%에 대하여 0.5중량% 내지 30중량%인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 3중량% 내지 20중량%이다. 더더욱 바람직하게는 7중량% 내지 15중량%이다. 대전방지제의 함량이 0.5중량% 보다 작으면 전도성을 확보하기 힘들고, 30중량% 보다 크면 전도성 효과는 현저하나 양산성 및 경제성이 떨어질 수 있다.The content of the antistatic agent is preferably 0.5% to 30% by weight, and more preferably 3% to 20% by weight, based on 100% by weight of the antistatic hard coating layer coating layer composition. Even more preferably 7% to 15% by weight. If the content of the antistatic agent is less than 0.5% by weight, it is difficult to secure the conductivity, and when the content of the antistatic agent is greater than 30% by weight, the conductive effect is remarkable but mass productivity and economic efficiency may be deteriorated.

③ 경화제③ curing agent

본 발명에서의 경화제는 광경화성수지에 존재하는 관능기의 형태에 따라서 적절히 선택 또는 혼합하여 사용할 수 있으며, 바람직하게는 이소시아네이트계 화 합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 금속 알콕사이드 금속염, 아민 화합물, 히드리진 화합물 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.The curing agent of the present invention may be appropriately selected or mixed according to the form of the functional group present in the photocurable resin, preferably isocyanate compound, epoxy compound, aziridine compound, metal chelate compound, metal alkoxide metal salt, An amine compound, a hydrazine compound, etc. are used individually or in mixture.

본 발명에서의 이소시아네이트계 화합물은 트리메틸렌 디이소시아네이트(trimethylene diisocyanate), 헥사메틸렌 디이소시아네이트(hexamethylene diisocyanate), 이소포론 디이소시아네이트(isophorone diisocyanate), 디페닐메탄 이소시아네이트(diphenylmethane isocyanate), 자이렌 디이소시아네이트(xylene diisocyanate) 등의 방향족 디이소시아네이트계 화합물, 헥사메틸 디이소시아네이트(hexamethyl diisocyanate) 등의 지방족 디이소시아네이트 화합물(aliphatic diisocyanate) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.Isocyanate compounds in the present invention are trimethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, diphenylmethane isocyanate, xylene diisocyanate aromatic diisocyanate compounds such as diisocyanate, aliphatic diisocyanate such as hexamethyl diisocyanate, and the like are used alone or in combination.

또한, 본 발명에서의 에폭시계 화합물은 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르(polyethylene glycol diglycidyl ether), 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether), 트리메틸올 프로판 트리글리시딜 에테르(trimethylol propane triglycidyl ether) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.In addition, the epoxy compound in the present invention is a polyethylene glycol diglycidyl ether (diglycidyl ether), diglycidyl ether (diglycidyl ether), trimethylol propane triglycidyl ether (trimethylol propane triglycidyl ether) and the like alone Or mixed.

본 발명에서의 경화제는 대전방지 하드코팅층 조성물 100중량%에 있어서 0.1중량% 내지 15중량% 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.5중량% 내지 10중량%이다. 더더욱 바람직하게는 1중량% 내지 5중량%이다.It is preferable to use 0.1 to 15 weight% of 100% by weight of the hardening | curing agent in an antistatic hard coating layer composition, More preferably, it is 0.5 to 10 weight%. Even more preferably 1% to 5% by weight.

본 발명에서 경화제는 대전방지성 하드코팅층 조성물의 분자량 또는 사슬 구조를 제어하기 위하여 사용하는 첨가제로서, 전술한 범위에서 경화제를 사용하면 상분리 현상 등을 억제하는 효과가 두드러진다. 경화제의 함량이 0.1중량% 보다 작으면 경화제 기능을 기대하기 힘들고, 15중량% 보다 크면 경화성수지의 함량이 상 대적으로 낮아 경도를 높이기 어렵다.In the present invention, the curing agent is an additive used to control the molecular weight or the chain structure of the antistatic hard coating layer composition. When the curing agent is used in the above-described range, the effect of suppressing phase separation and the like is prominent. If the content of the curing agent is less than 0.1% by weight, it is difficult to expect the function of the curing agent, and when the content of the curing agent is greater than 15% by weight, the content of the curable resin is relatively low, making it difficult to increase the hardness.

④ 레벨링제④ Leveling agent

본 발명에서는 대전방지성 하드코팅층의 표면을 고르게 하기 위하여 하드코팅 조성물에 레벨링제를 혼합하여 사용한다. 레벨링제는 실리콘 수지에 케톤이나 에스테르계 용제를 혼합하여 사용할 수 있다. 본 발명에 의한 레벨링제로는 실리콘 디아크릴레이트나 실리콘 폴리아크릴레이트 화합물을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, to level the surface of the antistatic hard coating layer, a leveling agent is used in the hard coating composition. The leveling agent can be used by mixing a ketone or an ester solvent with a silicone resin. As a leveling agent by this invention, it is preferable to use a silicone diacrylate and a silicone polyacrylate compound individually or in mixture.

레벨링제의 함량은 대전방지성 하드코팅층 조성물 100중량%에 있어서 0.1중량% 내지 3중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람작하게는 0.5중량% 내지 2중량%이다. 레벨링제가 0.1중량%보다 작으면 레벨링 효과를 기대하기 힘들고, 3중량% 보다 클 때는 경도가 약화될 우려가 있다.The content of the leveling agent is preferably 0.1% to 3% by weight, more preferably 0.5% to 2% by weight, based on 100% by weight of the antistatic hard coating layer composition. If the leveling agent is less than 0.1% by weight, it is difficult to expect the leveling effect, and when greater than 3% by weight, the hardness may be weakened.

⑤ 자외선 흡수제⑤ UV absorber

본 발명에서 자외선경화를 위하여 광경화성수지를 사용할 때, 광경화시 발생하는 열화를 방지하고 대전방지성 하드코팅층의 내구성을 향상시키기 위하여 자외선 흡수제를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, when using the photocurable resin for the ultraviolet curing, it is preferable to use a ultraviolet absorber to prevent deterioration generated during photocuring and to improve the durability of the antistatic hard coating layer.

본 발명에서 사용하는 자외선 흡수제는 살리실레이트계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조트라이졸계 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제, 벤조에이트계 자외선 흡수제 등을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.The ultraviolet absorber used in the present invention is preferably used alone or mixed with a salicylate ultraviolet absorber, a benzophenone ultraviolet absorber, a benzotriazole ultraviolet absorber, a cyanoacrylate ultraviolet absorber, and a benzoate ultraviolet absorber. Do.

보다 구체적으로, 자외선 흡수제는 페닐 살리실레이트, p-tert-부틸페닐 살리실레이트, p-옥틸페닐 살리실레이트, 4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 2-히드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논, 비스(2-메톡시-4-히드록시-5-벤조일페닐)메탄, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥톡시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-(3',4',5',6'-테트라히드로프탈이미도메틸)-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸릴-2-일)페놀], 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-[(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀], 및 2-(2'-히드록시-3',5'-di-t-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-에틸헥실-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트, 에틸-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.More specifically, the ultraviolet absorber is phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, 4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy- 4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4 -Hydroxy-5-benzoylphenyl) methane, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5- Chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5-di -tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4'-octoxy Yl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 '-(3', 4 ', 5', 6'-tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2 '-Methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazolyl-2-yl) phenol], 2- (2'-hydroxy-5'-meta Krilloxyphenyl) -2H-benzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6-[(2H-benzotriazol-2-yl) phenol ], And 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amylphenyl) benzotriazole, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate, ethyl 2-cyano-3,3'-diphenyl acrylate or the like is used alone or in combination.

본 발명에서의 자외선 흡수제의 함량은 대전방지성 하드코팅층 조성물 100중량%에 있어서, 0.1중량% 내지 15중량% 사용하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게 는 0.5중량% 내지 10중량%이다. 더더욱 바람직하게는 1중량% 내지 5중량%이다.In the present invention, the content of the ultraviolet absorber is preferably used in an amount of 0.1 wt% to 15 wt%, more preferably 0.5 wt% to 10 wt%, in 100 wt% of the antistatic hard coating layer composition. Even more preferably 1% to 5% by weight.

자외선 흡수제의 함량이 0.1중량% 이하일 때는 자외선 흡수제를 첨가하는 효과가 제대로 실현되지 못하고, 15중량% 이상일 때는 대전방지성 하드코팅층의 물성에 영향을 줄 수 있다.When the content of the ultraviolet absorber is 0.1% by weight or less, the effect of adding the ultraviolet absorber may not be properly realized, and when the content of the ultraviolet absorber is 15% by weight or more, the physical properties of the antistatic hard coating layer may be affected.

⑥ 분산제⑥ Dispersant

본 발명에서는 대전방지성 하드코팅층을 휘도향상 광학소자에 도포하기 위하여 분산제인 유기용매를 사용한다. 본 발명에서는 대전방지성 하드코팅층 조성물이 고르게 분산될 수 있는 유기용매를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, an organic solvent that is a dispersant is used to apply the antistatic hard coating layer to the brightness enhancing optical device. In the present invention, it is preferable to use an organic solvent in which the antistatic hard coating layer composition can be evenly dispersed.

대전방지성 하드코팅층의 도포성, 휘도향상 광학소자와의 부착성, 표면경도 강화기능의 제고 등을 고려하여 유기용매를 선택한다.The organic solvent is selected in consideration of the coating property of the antistatic hard coating layer, the adhesion with the optical element to improve the brightness, and the enhancement of the surface hardness enhancement function.

본 발명에서 사용하는 유기용매는 알콜계의 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올, 이소부탄올 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 알콜, 케톤류의 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 케톤, 아세틸 아세톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 디케톤, 에스테르류의 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 에스테르, 에테르 알콜류의 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올, 그 외에 N-메틸 피롤리돈, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디아세톤 알콜 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다. 또한, 방향족 탄화수소에 해당하는 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수도 있다.The organic solvent used in the present invention is a C1-8 saturated hydrocarbon alcohol such as methanol, isopropanol, butanol, t-butanol, isobutanol and the like, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like of ketones. Saturated hydrocarbon-based diketones having 1 to 8 carbon atoms, such as 1 to 8 saturated hydrocarbon ketones and acetyl acetone, ethyl acetate of esters, ethyl hydrocarbons of 1 to 8 carbon atoms such as butyl acetate, and ethyl alcohols of ether alcohols. Solves, methyl cellosolves, butyl cellosolves, 1-methoxy-2-propanol, and N-methyl pyrrolidone, ethyl cellosolve acetate, diacetone alcohol, and the like are used alone or in combination. Moreover, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc. which correspond to an aromatic hydrocarbon can also be used individually or in mixture.

유기용매는 도포되는 대전방지성 하드코팅층 조성물 100중량부에 대하여 20중량부 내지 110중량부 사용하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 30중량부 내지 80중량부이다. 유기용매의 함량이 대전방지성 하드코팅층 조성물 100중량부에 대하여 20중량부보다 작을 때는 점도가 낮아 휘도향상 광학소자와의 도포성, 부착성 등이 떨어지고, 110중량부보다 클 때는 대전방지성 하드코팅층 조성물에 비하여 지나치게 많은 유기 용매를 사용함으로써 채산성이 떨어진다.The organic solvent is preferably used in an amount of 20 parts by weight to 110 parts by weight, and more preferably 30 parts by weight to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the antistatic hard coating layer composition to be applied. When the content of the organic solvent is less than 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the antistatic hard coating layer composition, the viscosity is low, so that the coating property, adhesion, etc. with the brightness enhancing optical element are deteriorated. It is inferior in profitability by using too much organic solvent compared with a coating layer composition.

본 발명에 의한 대전방지성 하드코팅층의 두께는 2㎛ 내지 20㎛인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 4㎛ 내지 15㎛이다. 더더욱 바람직하게는 5㎛ 내지 10㎛이다. 하드코팅층의 두께가 2㎛ 보다 작을 때는 두께가 지나치게 얇아 내스크래칭성 및 대전방지 기능을 확보하기 힘들고, 20㎛ 보다 클 때는 스핀코팅시 경제성이 떨어지는 단점이 있다.The thickness of the antistatic hard coat layer according to the present invention is preferably 2 µm to 20 µm, more preferably 4 µm to 15 µm. Even more preferred is 5 μm to 10 μm. When the thickness of the hard coating layer is less than 2㎛ the thickness is too thin, it is difficult to secure scratch resistance and antistatic function, when larger than 20㎛ has a disadvantage in economy of spin coating.

(2) 건조단계(2) drying step

건조단계에서는 상기 (1)단계에서 대전방지성 하드코팅층이 균일하게 도포된 광학소자를 건조하는 공정을 수행하게 된다. 즉, 건조단계에서는 스핀코팅단계(1)에서 도포된 용매를 휘발시킨다.In the drying step, a step of drying the optical device coated with the antistatic hard coating layer uniformly in the step (1). That is, in the drying step, the solvent applied in the spin coating step (1) is volatilized.

건조단계에서는 회전공정에 의한 건조를 수행함으로써 대전방지성 하드코팅층 내 잔류하는 용매를 보다 효과적으로 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 결과적으로 대전방지성 하드코팅층 조성물과 분산제와 혼합한 용액이 상기 편광필름과 휘도향 상 필름이 합지된 휘도향상 광학소자 표면에 더욱 쉽게 흡착되어 건조단계를 단시간에 마칠 수 있다.In the drying step, not only the solvent remaining in the antistatic hard coating layer can be more effectively removed by performing the drying process by the rotating process, but the solution mixed with the antistatic hard coating layer composition and the dispersant is the polarizing film and the luminance. The improved film is more easily adsorbed onto the laminated luminance-enhanced optical element surface, thereby completing the drying step in a short time.

건조단계에서 수행하는 건조온도는 15℃ 내지 85℃가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 25℃ 내지 75℃이다. 건조온도가 15℃보다 낮으면 용매를 제거하는데 걸리는 시간이 길어지고, 건조온도가 85℃보다 높으면 대전방지성 하드코팅층의 물성에 영향을 줄 수 있다.The drying temperature performed in the drying step is preferably 15 ℃ to 85 ℃, more preferably 25 ℃ to 75 ℃. If the drying temperature is lower than 15 ℃ it takes a long time to remove the solvent, if the drying temperature is higher than 85 ℃ may affect the properties of the antistatic hard coating layer.

건조단계에서 수행하는 회전속도는 20rpm 내지 5,000rpm으로 용매를 건조하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 50rpm 내지 4,000rpm이다. 더더욱 바람직한 회전속도는 70rpm 내지 3,000rpm이다.The rotational speed performed in the drying step is preferably to dry the solvent at 20rpm to 5,000rpm, more preferably 50rpm to 4,000rpm. Even more preferred rotational speeds are from 70 rpm to 3,000 rpm.

건조단계의 회전속도가 20rpm보다 작으면, 회전에 의한 건조 효과를 충분히 얻기 힘들고, 5,000rpm보다 크면 회전속도 대비 건조 효율이 떨어진다.If the rotational speed of the drying step is less than 20rpm, it is difficult to sufficiently obtain the drying effect by the rotation, if the rotational speed of more than 5,000rpm drying efficiency is lower than the rotational speed.

또한, 건조시간은 15초 내지 300초 정도가 바람직하다. 더 바람직하게는 55초 내지 200초, 더더욱 바람직하게는 60초 내지 100초 이다. 건조시간의 15초 이하이면 건조의 효과가 제대로 나타나지 못하고, 300초 이상의 건조는 물성에 영향을 줄 수 있다.Moreover, as for drying time, about 15 second-about 300 second are preferable. More preferably 55 to 200 seconds, still more preferably 60 to 100 seconds. If the drying time is less than 15 seconds, the effect of drying does not appear properly, and drying for more than 300 seconds may affect the physical properties.

(3) 경화단계(3) curing step

경화단계에서는 스핀코팅단계 및 건조단계를 통하여 형성된 대전방지성 하드코팅층을 경화시킨다.In the curing step, the antistatic hard coating layer formed through the spin coating step and the drying step is cured.

본 발명에서 광경화는 UV경화로 진행하고, UV경화는 5mJ 내지 40mJ 에너지 범위에서 UV경화하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 10mJ 내지 20mJ이다.Photocuring in the present invention proceeds to UV curing, UV curing is preferably UV curing in the energy range of 5mJ to 40mJ, more preferably 10mJ to 20mJ.

UV경화 에너지량이 5mJ보다 작을 때는 충분한 광경화효과를 얻을 수 없고, UV경화 에너지량이 40mJ보다 클 때는 지나친 UV경화로 대전방지성 하드코팅층의 물성에 영향을 줄 수 있다.When the amount of UV curing energy is less than 5mJ, sufficient photocuring effect may not be obtained, and when the amount of UV curing energy is greater than 40mJ, excessive UV curing may affect the properties of the antistatic hard coating layer.

본 발명의 경화단계에서도 스핀코팅단계나 건조단계와 마찬가지로 스핀공정을 통하여 경화단계를 수행할 수 있다. 경화단계에서 수행하는 회전속도는 10rpm 내지 3,000rpm으로 경화하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 50rpm 내지 2,000rpm이다. 더더욱 바람직한 회전속도는 70rpm 내지 1,000rpm이다.In the curing step of the present invention, as in the spin coating step or the drying step, the curing step may be performed through a spin process. Rotational speed carried out in the curing step is preferably cured at 10rpm to 3,000rpm, more preferably 50rpm to 2,000rpm. Even more preferred rotational speeds are from 70 rpm to 1,000 rpm.

경화단계의 회전속도가 10rpm보다 작으면, 회전에 의한 효과를 충분히 얻기 힘들고, 3,000rpm보다 크면 회전속도 대비 경화효율이 떨어진다.If the rotational speed of the curing step is less than 10rpm, it is difficult to obtain the effect by the rotation sufficiently, if the rotational speed is greater than 3,000rpm hardening efficiency compared to the rotational speed.

이처럼 본 발명은 코팅단계, 건조단계 및 경화단계를 하나의 연속된 스핀공정(spin process)을 수행함으로써, 휘도향상 광학소자 표면에 도포된 대전방지성 하드코팅층 조성물이 원심력에 의하여 고르게 효과적으로 도포할 수 있으며, 또한 건조단계 및 경화단계에서도 보다 효과적으로 건조 및 경화할 수 있다.As such, the present invention performs one continuous spin process in the coating step, the drying step, and the curing step, so that the antistatic hard coating layer composition applied to the luminance-enhanced optical element surface can be effectively applied evenly by centrifugal force. In addition, the drying step and the curing step can be dried and cured more effectively.

스핀공정을 통하여 본 발명의 기술적 특징 중의 하나인 초박막을 형성할 수 있다. 휘도향상필름의 내구성이 약하여 휘도향상필름 자체를 회전시키면서 스핀공정을 수행할 수 없으며, 휘도향상필름이 결합된 휘도향상 광학소자를 회전시키면서 스핀공정을 수행한다.Through the spin process, it is possible to form an ultra thin film, which is one of the technical features of the present invention. Since the durability of the brightness enhancement film is weak, the spin process cannot be performed while rotating the brightness enhancement film itself, and the spin process is performed while rotating the brightness enhancement optical element to which the brightness enhancement film is coupled.

이러한 기술적 구성을 바탕으로 본 발명에 의한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자는 수㎚ 내지 수㎛의 다양한 코팅층을 형성할 수 있다. 본 발명에서는 회전속도를 높임으로써 보다 박형의 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자를 구현하는 것이 가능하다.Based on this technical configuration, the antistatic hard coating luminance-enhancing optical device according to the present invention may form various coating layers of several nm to several μm. In the present invention, it is possible to implement a thinner antistatic hard coating luminance improving optical device by increasing the rotation speed.

도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 구성도를 나타낸 것으로서, 도 1의 대전방지성 하드코팅 투명지지체와 점착제를 사용하지 않으므로 인해 두께를 보다 박형으로 구현할 수 있다.Figure 2 shows the configuration of the antistatic hard coating brightness enhancement optical device according to an embodiment of the present invention, because the antistatic hard coating transparent support and the adhesive of Figure 1 can be implemented to be thinner than the thickness have.

본 발명의 보호범위는 본 발명에 의한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자 제조방법은 물론 이를 통하여 만들어지는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자에도 미침은 물론이다. 또한 본 발명에 의한 대전방지 하드코팅 휘도향상 휘도광학소자는 브라운관표시장치(CRT, cathode-ray tube), 액정표시장치(LCD, liquid crystal dispaly), 플라즈마표시장치(PDP, plasma display pannel) 및 유기전계발광 표시장치(OLED, organic light emitting diode)로 이루어진 그룹 중에서 적어도 하나에 적용가능하다.The protection scope of the present invention is, of course, inferior to the antistatic hard coating luminance improving optical device manufacturing method according to the present invention as well as the antistatic hard coating brightness improving optical device made through this. In addition, the antistatic hard coating luminance improvement luminance optical device according to the present invention is a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP, plasma display panel) and organic Applicable to at least one of the group consisting of an organic light emitting diode (OLED).

이하에서는 도면을 바탕으로 본 발명의 바람직한 실시예와 이와 비교되는 비교예를 가지고 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention and comparative examples.

실시예 1Example 1

통상적인 방법에 의하여 편광필름을 제작한 후 3M社의 'DBEF'를 90ㅀ로 합지한 후 가로, 세로 각각 500mm로 자른 뒤 전도성 고분자인 폴리아세틸렌 10중량%, 경화제 3중량%, 레벨링제 1중량%, 자외선 흡수제 3중량% 그리고 나머지는 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지를 포함하여 이루어진 대전방지성 하드코팅층 조성물을 자일렌에 녹여 용액의 형태로 제조한 후, 상기 용액을 DBEF면에 1,000rpm의 회전속도로 20초간 코팅하였다. 그리고 70℃에서 1,000rpm의 회전속도로 1분 동안 건조단계를 수행한 후, 1,000rpm의 회전속도로 15mJ의 자외선으로 광경화시켜서 대전방지성 하드코팅층의 두께를 5㎛로 제조하였다. 자일렌의 중량부는 대전방지성 하드코팅층 조성물 100중량부에 대해서 70중량부의 비로 혼합하였다. After manufacturing a polarizing film by a conventional method, after laminating 3M's 'DBEF' to 90 ㅀ and then cut into 500mm horizontally and vertically, 10% by weight of polyacetylene, 3% by weight of a curing agent, 1 weight of a leveling agent %, UV absorber 3% by weight and the rest of the antistatic hard coating layer composition comprising a UV-curable multi-functional acrylate-based resin in xylene to prepare a solution in the form of a solution, and then the solution at 1000rpm DBEF side Coating was performed for 20 seconds at rotation speed. And after performing a drying step for 1 minute at a rotational speed of 1,000rpm at 70 ℃, by photocuring with ultraviolet light of 15mJ at a rotational speed of 1,000rpm to prepare a thickness of the antistatic hard coating layer to 5㎛. The weight part of xylene was mixed in the ratio of 70 weight part with respect to 100 weight part of antistatic hard coat layer compositions.

실시예 2Example 2

회전속도를 500rpm으로 하여 하드코팅층의 두께를 10㎛로 제조하는 것 외에는 실시예 1과 동일한 조건으로 제조하였다.It was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the thickness of the hard coat layer was 10 μm at a rotational speed of 500 rpm.

비교예 1Comparative Example 1

통상적인 방법에 의해 제조한 편광필름과 휘도향상 필름인 3M社의 DBEF를 합지한 필름을 하드코팅하지 않고 사용하였다.The polarizing film manufactured by the conventional method and the film which laminated | stacked 3M DBEF which is a brightness improving film were used without hard-coating.

비교예 2Comparative Example 2

도 1과 같이 하드코팅된 투명지지체를 부착한 휘도향상 광학소자를 사용하였다.As shown in FIG. 1, a luminance-enhanced optical element having a hard coated transparent support was used.

실시예 및 비교예에서 얻어진 휘도향상 광학소자의 물리적 특성인 밀착성, 연필경○도, 내마모성, 투과율과 광학소자의 두께를 측정한 결과를 [표 1]에 나타 내었다.[Table 1] shows the results of measuring the adhesion, pencil diameter, degree of wear resistance, transmittance and thickness of the optical element, which are physical properties of the luminance-enhanced optical element obtained in Examples and Comparative Examples.

구분division 밀착성Adhesion 표면 저항 (Ω/sq)Surface resistance (Ω / sq) 연필경도Pencil hardness 내마모성Wear resistance 전체 필름 두께 (㎛)Overall film thickness (μm) 투과율Transmittance 실시예 1Example 1 100/100100/100 1.69*e041.69 * e04 2H2H 292292 1.171.17 실시예 2Example 2 100/100100/100 4.81*e044.81 * e04 2H2H 297297 1.061.06 비교예 1Comparative Example 1 -- 3.0*e113.0 * e11 6B6B XX 287287 1.251.25 비교예 2Comparative Example 2 -- 2.9*e112.9 * e11 2H2H 357357 1.231.23

[표 1]에서 측정한 밀착성, 연필경도, 내마모성은 다음과 같은 방법으로 측정하였다.The adhesion, pencil hardness, and wear resistance measured in [Table 1] were measured by the following method.

(밀착성)(Adhesiveness)

휘도향상 광학소자의 대전방지성 하드코팅층(비교예 1에서는 휘도향상 필름, 비교예 2에서는 하드 코팅된 투명지지체)의 표면을 커터에 의해 1㎜ㅧ1㎜의 크로스 해칭을 100개 넣고, 셀로판 점착테이프를 붙인 후, 셀로판점착테이프를 떼냈을 때에 하드코팅이 필름기재에 잔존한 눈의 수를 세었다.The surface of the antistatic hard coating layer of the luminance improving optical element (the luminance improving film in Comparative Example 1 and the transparent support body hard-coated in Comparative Example 2) was put with 100 cross hatchings of 1 mm1 mm by a cutter, and the cellophane adhesive was applied. After the tape was attached, the hard coating counted the number of eyes remaining on the film substrate when the cellophane adhesive tape was removed.

(연필경도)(Pencil hardness)

휘도향상 광학소자의 대전방지성 하드코팅층(비교예 1에서는 휘도향상 필름, 비교예 2에서는 하드 코팅된 투명지지체) 표면의 연필경도는 통상적인 연필긁음 시험기를 이용하여 측정하였다.The pencil hardness of the surface of the antistatic hard coating layer of the luminance improving optical element (the luminance improving film in Comparative Example 1 and the transparent support body hard coated in Comparative Example 2) was measured using a conventional pencil scratch tester.

(내마모성)(Wear resistance)

강면으로 대전방지성 하드코팅층(비교예 1에서는 휘도향상 필름, 비교예 2에서는 하드 코팅된 투명지지체)을 문질러 발라서, 흠집의 상황을 육안으로 관찰하였다.The antistatic hard coating layer (the brightness improving film in Comparative Example 1, the hard support transparent coating in Comparative Example 2) was rubbed with a steel surface, and the scratches were visually observed.

관찰결과 다음과 같이 측정하였다.Observation results were measured as follows.

○ : 흠집 없음○: no scratch

×: 흠집 발생×: scratches

[표 1]에서 보는 바와 같이 스핀코팅 방식에 의하여 코팅된 대전방지성 하드코팅 휘도향상 광학소자의 두께는 투명지지체에 하드코팅층을 코팅한 휘도향상 광학소자(비교예 2)의 두께와 비교할 때 보다 박형의 휘도향상 광학소자을 구현할 수 있다. 또한, 연필경도를 살펴볼 때, 실시예 1, 실시예 2, 비교예 2는 하드코팅 처리되었기에 동일한 연필경도(2H)를 나타내나 비교예 1은 하드코팅 처리되지 않았기에 경도가 낮음(6B)을 알 수 있다. As shown in Table 1, the thickness of the antistatic hard coating luminance improving optical element coated by the spin coating method is higher than that of the luminance improving optical element (Comparative Example 2) coated with the hard coating layer on the transparent support. A thin luminance improvement optical element can be realized. In addition, when looking at the pencil hardness, Example 1, Example 2, Comparative Example 2 shows the same pencil hardness (2H) because the hard coating process, but Comparative Example 1 is not hard coating process, the hardness is low (6B) Able to know.

또한, 상기 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1, 비교예 2에서 얻어진 휘도향상 광학소자의 투과율은 표 1에서 나타난 바와 같이, 그 차이가 미미하다. 이는 대전방지성 하드코팅층을 DBEF 위에 코팅하더라도 투과율 면에서 차이가 없으므로 동일한 용도로 사용될 수 있다는 것을 의미한다. 도 3 내지 도 6에서 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1, 비교예 2에서 얻어진 휘도향상 광학소자의 파장에 따른 투과율 그래프를 나타내었다. 상기의 그래프를 통해 400nm에서 700nm 사이의 파장에 대한 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1, 비교예 2의 투과율이 거의 비슷다는 것을 알 수 있다.In addition, the transmittances of the luminance-enhanced optical elements obtained in Examples 1, 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2, as shown in Table 1, have a slight difference. This means that even if the antistatic hard coating layer is coated on the DBEF, since there is no difference in transmittance, it can be used for the same purpose. 3 to 6 show transmittance graphs according to wavelengths of the luminance-enhanced optical elements obtained in Examples 1, 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2. FIG. It can be seen from the graphs above that the transmittances of Example 1, Example 2, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 for wavelengths between 400 nm and 700 nm are almost the same.

[표 2]는 실시예와 비교예의 색상값을 나타낸 것이다.Table 2 shows the color values of the Examples and Comparative Examples.

항목Item LL aa bb 실시예 1Example 1 11.8311.83 13.7113.71 -17.61-17.61 실시예 2Example 2 11.2711.27 13.7613.76 -18.28-18.28 비교예 1 Comparative Example 1 11.2111.21 13.3913.39 -18.66-18.66 비교예 2Comparative Example 2 11.1111.11 13.1213.12 -18.17-18.17

L, a, b는 색좌표를 나타낸 것으로서, [표 2]에서 보는 바와 같이 실시예와 비교예에서 색상값의 색좌표는 대동소이한 결과를 얻었음을 알 수 있다. 이는 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1, 비교예 2에서 얻어진 휘도향상 광학소자를 투과한 빛은 거의 동일한 색상을 나타냄을 의미한다. 따라서 대전방지성 하드코팅층을 DBEF 표면 위에 스핀코팅 방식을 이용하여 형성하더라도 색상에는 영향이 없다는 것을 의미하는 것이다.L, a, and b represent color coordinates. As shown in [Table 2], it can be seen that the color coordinates of the color values in the examples and the comparative examples have obtained similar results. This means that the light transmitted through the luminance improving optical elements obtained in Examples 1, 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 exhibited almost the same color. Therefore, even if the antistatic hard coating layer is formed on the surface of the DBEF by spin coating, it means that the color is not affected.

이상, 본 발명을 구성을 중심으로 실시예와 비교예를 참조하여 상세하게 설명하였다. 그러나 본 발명의 권리범위는 상기 실시예에 한정되는 것은 아니라 첨부된 특허청구범위내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 가능한 다양한 변형 가능한 범위까지 본 발명의 청구 범위 기저의 범위 내에 있는 것으로 본다.In the above, this invention was demonstrated in detail with reference to an Example and a comparative example centering on a structure. However, the scope of the present invention is not limited to the above embodiments but may be embodied in various forms of embodiments within the appended claims. Without departing from the gist of the invention as claimed in the claims, any person of ordinary skill in the art is deemed to be within the scope of the claims underlying the present invention to the extent possible for various modifications.

또한, 본 발명에서의 바람직한 범위, 더욱 바람직한 범위, 더더욱 바람직한 범위 한정은 그 효과를 더욱 극대화 시키기 위한 것으로서, 한정 범위가 좁혀짐으로써 더욱 만족스러운 기술적 효과를 얻을 수 있다.In addition, the preferred range, more preferred range, and even more preferred range limitation in the present invention is to maximize the effect even more, it is possible to obtain a more satisfactory technical effect by narrowing the limited range.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자는 스핀코팅방식을 이용하여 대전방지성 하드코팅층을 형성함으로써, 정전기에 의해 이물질이 등이 부착되어 액정이 깨지는 것을 방지할 수 있고, 표면 경도를 높여 내스크래 치성을 향상시키는 효과가 있다.As described above, the method of manufacturing an antistatic hard coating luminance improving optical element according to the present invention and the antistatic hard coating luminance improving optical element using the same are formed by using a spin coating method to form an antistatic hard coating layer, As a result, foreign matters may be attached to prevent the liquid crystal from being broken, and the surface hardness may be increased to improve scratch resistance.

또한, 휘도향상 필름 위에 직접 스핀코팅방식을 이용하여 대전방지성 하드코팅층을 형성함으로써 보다 박막의 휘도향상 광학소자를 제조할 수 있는 효과가 있다.In addition, by forming an antistatic hard coating layer by using a direct spin coating method on the brightness enhancement film, there is an effect that can produce a thin film brightness enhancement optical element.

Claims (13)

(a) 회전속도는 10rpm 내지 5000rpm로, 회전시간은 1초 내지 500초로 하는 회전 조건 하에, 경화성 수지, 대전방지제, 경화제, 레벨링제, 자외선 흡수제로 이루어지는 대전방지성 하드코팅층 조성물 100중량%에 있어서, 상기 경화제는 광경화성 수지를 사용하고,(a) 100% by weight of an antistatic hard coating layer composition comprising a curable resin, an antistatic agent, a curing agent, a leveling agent, and an ultraviolet absorber under rotating conditions of a rotational speed of 10 rpm to 5000 rpm and a rotation time of 1 second to 500 seconds. , The curing agent using a photocurable resin, ⅰ) 상기 대전방지제는 0.5중량% 내지 30중량%Iii) 0.5 wt% to 30 wt% of the antistatic agent ⅱ) 상기 경화제는 0.1중량% 내지 15중량%Ii) 0.1% to 15% by weight of the curing agent ⅲ) 상기 레벨링제는 0.1중량% 내지 3중량%Iii) 0.1% to 3% by weight of the leveling agent ⅳ) 상기 자외선 흡수제는 0.1중량% 내지 15 중량%를 포함하여 구성되는 대전방지성 하드코팅층 조성물을 분산제와 혼합하여 녹인 용액을 휘도향상 필름과 편광필름이 합지된 휘도향상 광학소자의 휘도향상 필름 위에 대전방지성 하드코팅층을 코팅하되 상기 분산제의 함량은 대전방지성 하드코팅층 조성물 100중량부에 대하여 20중량부 내지 110중량부의 비로 혼합하여 코팅하는 스핀코팅단계;Iv) the ultraviolet absorber is mixed with a dispersant and the antistatic hard coating layer composition comprising 0.1% to 15% by weight of the solution on the brightness enhancement film of the brightness enhancement film and the brightness enhancement optical film is laminated Coating an antistatic hard coating layer, but the content of the dispersant is a spin coating step of coating by mixing in a ratio of 20 parts by weight to 110 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the antistatic hard coating layer composition; (b) 상기 대전방지성 하드코팅층을 온도는 15℃ 내지 85℃로 하고, 회전속도는 20rpm 내지 5000rpm로 회전시켜 건조하는 건조단계와; 및(b) a drying step of drying the antistatic hard coating layer by rotating the temperature at 15 ° C. to 85 ° C., and rotating the speed at 20 rpm to 5000 rpm; And (c) 상기 대전방지성 하드코팅층을 5mJ 내지 40mJ로 자외선 경화하고, 경화시 회전속도는 10rpm 내지 3,000rpm인 경화단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.(c) UV-curing the antistatic hard coating layer at 5mJ to 40mJ, and during curing, the rotational speed is a manufacturing method of an antistatic hard coating brightness improving optical device, characterized in that it comprises a curing step of 10rpm to 3,000rpm. . 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 (a)단계에서 대전방지제는 전도성 고분자, 금속입자, 무기산화물 중 적어도 하나 이상이 혼합된 것을 사용하는 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.In the step (a), the antistatic agent is a method of manufacturing an antistatic hard coating luminance improvement optical element, characterized in that at least one of a conductive polymer, metal particles, inorganic oxides are mixed. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 전도성 고분자는 폴리아세틸렌(Polyacetylene), 폴리(p-페닐렌)[Poly(p-phenylene)], 폴리티오펜(Polythiophene), 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)[Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)(PEDOT)], 폴리피롤[Polypyrrole(피리딘중합체)], 폴리(p-페닐렌 설파이드)[Poly(p-phenylene sulfide)], 폴리(p-페닐렌 비닐렌)[Poly(p-phenylene vinylene)], 폴리(티에닐렌 비닐렌[Poly(thienylene vinylene)], 폴리아닐린(Polyaniline) 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.The conductive polymer is polyacetylene, poly (p-phenylene) [Poly (p-phenylene)], polythiophene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) [Poly (3,4 -ethylenedioxythiophene) (PEDOT)], polypyrrole [pyridine polymer], poly (p-phenylene sulfide) [poly (p-phenylene sulfide)], poly (p-phenylene vinylene) [Poly (p-phenylene vinylene)], poly (thienylene vinylene), and polyaniline (Polyaniline) at least one of the antistatic hard coating brightness improving optical device manufacturing method. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 금속입자는 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 납(Pb), 코발트(Co), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 티탄(Ti) 중 적어도 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.The metal particles are silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), nickel (Ni), chromium (Cr), lead (Pb), cobalt (Co), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), tin (Sn), iridium (Ir), palladium (Pd), titanium (Ti) at least one of the manufacturing method of the antistatic hard coating brightness enhancement optical element. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 무기산화물은 금속산화물을 사용하되 ITO, ATO, SiO2, TiO2, Al2O3, B2O3, CaO, SnO, MgO, SrO, ZnO, ZrO2, Y2O3, La2O3 중 적어도 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.The inorganic oxide is a metal oxide, but ITO, ATO, SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , CaO, SnO, MgO, SrO, ZnO, ZrO 2 , Y 2 O 3 , La 2 O A method of manufacturing an antistatic hard coating luminance improving optical element, characterized in that at least one of three is used. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 금속화합물은 입경이 0.05㎛ 내지 1㎛인 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.The metal compound has a particle diameter of 0.05㎛ to 1㎛ characterized in that the antistatic hard coating brightness improving optical device manufacturing method. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 대전방지 하드코팅층은 두께가 2㎛ 내지 20㎛가 되게 제조되는 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.The antistatic hard coating layer is a thickness of 2㎛ to 20㎛ manufacturing method of manufacturing an antistatic hard coating brightness improvement optical element, characterized in that. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 분산제는 알콜계의 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올, 이소부탄올 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 알콜, 케톤류의 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 케톤, 아세틸 아세톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 디케톤, 에스테르류의 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 에스테르, 에테르 알콜류의 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올, 그 외에 N-메틸 피롤리돈, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디아세톤 알콜, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.The dispersing agent is a saturated hydrocarbon alcohol having 1 to 8 carbon atoms, such as methanol, isopropanol, butanol, t-butanol, isobutanol, and a saturated carbon alcohol having 1 to 8 carbon atoms such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Saturated hydrocarbon-based diketones having 1 to 8 carbon atoms, such as hydrocarbon ketones and acetyl acetone, saturated hydrocarbon-based esters having 1 to 8 carbon atoms, such as ethyl acetate and butyl acetate of esters, ethyl cellosolves of ether alcohols, and methylcello Solv, butyl cellosolve, 1-methoxy-2-propanol, in addition to N-methyl pyrrolidone, ethyl cellosolve acetate, diacetone alcohol, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene A method of manufacturing an antistatic hard coating brightness improving optical element. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 경화성수지는 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지를 상기 경화성수지 100중량%에 있어서 10중량% 내지 90중량% 사용하는 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.The curable resin is a method of manufacturing an antistatic hard coating brightness-enhancing optical element, characterized in that the ultraviolet curable polyfunctional acrylate-based resin using 10% to 90% by weight in 100% by weight of the curable resin. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 자외선 경화성 다관능기 아크릴레이트계 수지는 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexaacrylte), 테트라메틸올메탄 테트라아크릴레이트(tetramethylolmethane tetraacrylate), 테트라메틸올메탄 트리아크렐레이트(tetramethylolmethane triacrylate), 트리메탄올프로판 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-hexanediol diacrylate), 1,6-비스(3-아크릴오일옥시-2-하이드록시프로필옥시)헥산[1,6-bis(3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl)hexane], 폴리에틸렌 글라이콜 디아크릴레이트(polyethylene glycol diacrylate), 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(pentaerythritol triacrylate)헥사메틸렌 디이소시아네이트 우레탄 선행고분자 (hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer) 중에서 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.The ultraviolet curable polyfunctional acrylate-based resin is dipentaerythritol hexaacrylte, tetramethylolmethane tetraacrylate, tetramethylolmethane triacrylate, trimethanol propane triacrylate Trimethylolpropane triacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane [1,6- bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl) hexane], polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer (hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer) Method for manufacturing an antistatic hard coating brightness improving optical element, characterized in that at least one . 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 (a)단계에서 자외선 흡수제는 페닐 살리실레이트, p-tert-부틸페닐 살리실레이트, p-옥틸페닐 살리실레이트, 4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 2-히드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논, 비스(2-메톡시-4-히드록시-5-벤조일페닐)메탄, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥톡시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-(3',4',5',6'-테트라히드로프탈이미도메틸)-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸릴-2-일)페놀], 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-[(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀], 2-(2'-히드록시-3',5'-di-t-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-에틸헥실-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트, 에틸-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트 중에서 적어도 하나인 것을 특 징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.In step (a), the ultraviolet absorber is phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, 4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzo Phenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydrate Hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy 4-hydroxy-5-benzoylphenyl) methane, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-butylphenyl) benzotria Sol, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl)- 5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5 -Di-tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4'-octoxy Yl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 '-(3', 4 ', 5', 6'-tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2 '-Methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazolyl-2-yl) phenol], 2- (2'-hydroxy-5'-meta Krilloxyphenyl) -2H-benzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6-[(2H-benzotriazol-2-yl) phenol ], 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amylphenyl) benzotriazole, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate, ethyl- A method for manufacturing an antistatic hard coating luminance-enhancing optical element, characterized in that at least one of 2-cyano-3,3'-diphenyl acrylate. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 (a)단계에서 경화제는 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 금속 알콕사이드 금속염, 아민 화합물, 히드리진 화합물 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법.In the step (a), the curing agent is at least one of an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, a metal chelate compound, a metal alkoxide metal salt, an amine compound, a hydride compound, antistatic hard coating brightness improving optical element Manufacturing method. 제 1 항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 의한 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 대전방지 하드코팅 휘도향상 광학소자.An antistatic hard coating luminance improving optical element, which is manufactured by the method for manufacturing an antistatic hard coating luminance improving optical element according to any one of claims 1 to 12.
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