KR20070039728A - High efficiency led and led package of using uv epoxy, and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 고효율의 발광다이오드와 패키지 및 그 제조방법에 관한 발명으로, 반도체로 형성된 광발생부, 반사부 및 UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성하는 광적출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율의 발광다이오드에 관한 발명 및 반도체층으로 형성된 광발생부를 형성하는 단계, 반사판을 형성하는 단계, UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계 및, 광적출을 위한 구조물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드의 제조방법에 관한 발명이다.The present invention relates to a high-efficiency light emitting diode, a package, and a manufacturing method thereof, comprising a light generating part formed of a semiconductor, a reflecting part, and a light extracting part forming a structure using a UV curable epoxy. Invention regarding a diode and forming a light generating part formed of a semiconductor layer, forming a reflecting plate, applying a UV curable epoxy, and forming a structure for light extraction, high efficiency light emitting diodes The invention relates to a manufacturing method.

그리고 패키지틀과 반도체 광발생부 및 UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성하는 광적출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율의 발광다이오드 패키지에 관한 발명 및 발광다이오드와 패키지틀을 연결하는 단계, 패키지틀 내부에 UV 경화형 에폭시를 채우고 경화하는 단계, UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계, 및 광적출을 위한 구조물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드 패키지의 제조방법에 관한 발명이다.And a light extracting portion for forming a structure using a package frame, a semiconductor light generating portion, and a UV curable epoxy to form a structure, and connecting the light emitting diode and the package frame to the inside of the package frame. The present invention relates to a method of manufacturing a high-efficiency light emitting diode package, comprising the steps of filling and curing a UV curable epoxy, applying a UV curable epoxy, and forming a structure for light extraction.

이와 같은 고효율의 발광다이오드, 패키지 및 그 제조방법은 UV 경화형 에폭시를 이용함으로써, 저가의 장비와 단순한 공정으로 대량생산이 용이하고, 특성이 뛰어난 새로운 형태의 광적출층을 쉽게 구현할 수 있어서 고효율의 발광다이오드 및 패키지를 보다 용이하게 제조할 수 있다.Such highly efficient light emitting diodes, packages, and manufacturing methods thereof are made of UV-curable epoxy, which enables easy mass production with low-cost equipment and simple processes, and easily realizes a new type of light extraction layer with excellent characteristics. Diodes and packages can be manufactured more easily.

발광다이오드, 발광다이오드 패키지, 광적출, UV 경화형 에폭시, pn접합 다이오드 Light Emitting Diode, Light Emitting Diode Package, Photo Extraction, UV Curing Epoxy, Pn Junction Diode

Description

고효율의 발광다이오드 및 패키지와 그 제조방법{High efficiency LED and LED package of using UV epoxy, and manufacturing method thereof}High efficiency LED and LED package of using UV epoxy, and manufacturing method

도 1은 GaN LED성장 중에 표면에 요철을 형성하여 광 추출효율을 개선시킨 종래 기술을 설명하기 위한 도면,1 is a view for explaining a conventional technology that improves the light extraction efficiency by forming irregularities on the surface during the growth of GaN LED,

도 2는 종래의 역피라미드형의 적출구조를 갖는 발광다이오드를 나타낸 도면,2 is a view showing a light emitting diode having a conventional reverse pyramid type extraction structure;

도 3은 종래의 사진식각 방법을 이용하여 표면에 구조물을 형성한 발광다이오드를 나타낸 도면,3 is a view showing a light emitting diode in which a structure is formed on a surface by using a conventional photolithography method;

도 4는 종래의 다이오드 내부에 적출구조를 형성하는 발광다이오드를 나타낸 도면,4 is a view showing a light emitting diode forming an extraction structure inside a conventional diode;

도 5는 종래의 dicing saw등으로 적출구조를 형성하는 발광다이오드를 나타낸 도면,5 is a view showing a light emitting diode forming an extraction structure using a conventional dicing saw, etc.

도 6은 일반적인 수지 수납형 발광다이오드 패키지의 구조와, 그로부터 빛이 방출되는 패턴을 나타낸 도면,6 is a view showing a structure of a general resin storage type light emitting diode package and a pattern from which light is emitted;

도 7은 본 발명의 제1실시예로서, UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물이 형성된 고효율 발광다이오드의 구조를 나타낸 도면,7 is a view showing the structure of a high-efficiency light emitting diode in which a structure is formed using a UV-curable epoxy as a first embodiment of the present invention;

도 8은 본 발명의 제2실시예로, 광적출부가 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에 폭시로 형성된 고효율 발광다이오드의 구조를 나타낸 도면,8 is a view showing a structure of a high-efficiency light emitting diode in which a light extraction portion is formed of a UV curable epoxy powder mixed with a fluorescent material according to a second embodiment of the present invention;

도 9a 내지 도 9d는 본 발명의 고효율 발광다이오드 제조방법의 제1실시예로서, UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성하는 공정의 흐름을 예시한 도면,9A to 9D illustrate a flow of a process of forming a structure using a UV curable epoxy as a first embodiment of the method of manufacturing a high efficiency light emitting diode of the present invention;

도 10a 내지 도 10e는 본 발명의 고효율 발광다이오드 제조방법의 제2실시예로서, 광적출부를 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시로 형성하는 공정의 흐름을 예시한 도면,10A to 10E illustrate a flow of a process of forming a light extraction part from a UV curable epoxy mixed with a fluorescent material as a second embodiment of the method of manufacturing a high efficiency light emitting diode of the present invention;

도 11a는 본 발명의 고효율 발광다이오드 패키지의 제1실시예로서, UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성한 패키지의 구조를 나타낸 도면,11A is a view showing the structure of a package in which a structure is formed using a UV curable epoxy as a first embodiment of the high-efficiency light emitting diode package of the present invention;

도 11b는 본 발명의 고효율 발광다이오드 패키지의 제2실시예로서, 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시로 광적출부를 형성한 구조를 나타낸 도면,11B is a view showing a structure in which a light extraction part is formed of a UV-curable epoxy mixed with a fluorescent material as a second embodiment of the high-efficiency LED package of the present invention;

도 12는 본 발명의 고효율 발광다이오드 패키지의 제3실시예로서 패키지 내부의 발광다이오드와 패키지 외부의 수지 표면에 모두 UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성한 구조를 나타낸 도면,12 is a view showing a structure in which a structure is formed by using a UV curable epoxy on both a light emitting diode inside a package and a resin surface outside the package as a third embodiment of the high-efficiency light emitting diode package of the present invention;

도 13a 내지 도 13d는 본 발명의 고효율 발광다이오드 패키지 제조방법의 제1실시예로서, UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성하는 공정의 흐름을 예시하는 도면이다.13A to 13D are views illustrating a flow of a process of forming a structure using a UV curable epoxy as a first embodiment of the method of manufacturing a high efficiency LED package of the present invention.

본 발명은 고효율의 발광다이오드와 패키지 및 그 제조방법에 관한 발명으 로, 보다 상세하게는 내부에서 전반사되어 밖으로 빠져 나오지 못하는 광의 적출 효율을 높이기 위하여 다이오드의 일면 또는 패키지의 발광부에 구조물을 저가의 장비와 단순한 공정으로 용이하게 형성할 수 있게 하는 고효율의 발광다이오드와 패키지 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a high-efficiency light emitting diode, a package, and a method of manufacturing the same. More particularly, in order to increase the extraction efficiency of light that is totally internally reflected and cannot escape from the inside, The present invention relates to a highly efficient light emitting diode, a package, and a method of manufacturing the same, which can be easily formed by using equipment and a simple process.

발광다이오드(LED: Light Emitting Diode)는 전류를 흘리면 전자가 에너지 레벨이 높은 곳에서 낮은 곳으로 이동하며 특정한 파장의 빛을 내는 반도체 소자를 말한다. LED는 컴퓨터 본체에서 하드디스크가 돌아갈 때 깜빡이는 작은 녹색 불빛이나 도심의 빌딩 위에 설치된 대형 전광판, 핸드폰의 반짝이는 불빛을 내는 등 다양한 응용분야에서 광원으로써 사용된다.Light emitting diodes (LEDs) are semiconductor devices that move electrons from a high energy level to a low one when a current flows, and emits light of a specific wavelength. LEDs are used as light sources in a variety of applications, such as small green lights that flash when the hard disk spins on the computer body, large billboards on city buildings, and twinkling lights on cell phones.

반도체에 전압을 가할 때 발생되는 이러한 발광현상은 전기 루미네선스(전기장발광)라고 하며, 1923년 탄화규소 결정의 발광 관측으로부터 알려져, 1923년에 비소화갈륨 pn 접합에서의 고효율 발광이 발견되면서부터 그 연구가 활발하게 진행되어, 1960년대 말에 실용화되기에 이르렀다. This luminescence generated when a voltage is applied to a semiconductor is called electric luminescence (electroluminescence), and it is known from the observation of emission of silicon carbide crystals in 1923, and since 1923, high efficiency emission at gallium arsenide pn junction was discovered. The research was vigorously advanced to practical use in the late 1960s.

발광다이오드에 적합한 재료로는 ① 발광파장이 가시(可視) 또는 근적외영역(近赤外領域)에 존재할 것, ② 발광효율이 높을 것, ③ p-n접합의 제작이 가능할 것 등의 조건을 만족시키는 것으로서 주로 비소화갈륨 GaAs, 인화갈륨 GaP, 갈륨-비소-인 GaAs1-x Px, 갈륨-알루미늄-비소 Ga1 - xAlxAs, 인화인듐 InP, 인듐-갈륨-인 ln1-xGaxP 등 3B 및 5B족인 2원소 또는 3원소 화합물 반도체가 사용되고 있는데, 2B, 6B족이나 4A, 4B족인 것에 대하여도 연구가 진행되고 있다.Suitable materials for the light emitting diode include ① the light emission wavelength in the visible or near-infrared region, ② high luminous efficiency, and ③ production of pn junctions. Gallium arsenide GaAs, gallium phosphide GaP, gallium-arsenic-phosphorus GaAs 1-x P x , gallium-aluminum-arsenic Ga 1 - x Al x As, indium phosphide InP, indium-gallium-phosphor ln 1-x Ga Although the 2 element or 3 element compound semiconductor which is 3B and 5B groups, such as xP, is used, the research is also progressing about 2B, 6B group, 4A, and 4B group.

질화갈륨 반도체는(GaN)는 3.4eV의 밴드갭을 갖고 있고 화학적으로 매우 안정하여 단단한 반도체 물질 중에 하나이며, 비소(As), 수은(Hg) 같은 환경 유해물질을 포함하지 않기 때문에 환경 친화적인 물질이다. GaN is one of the hardest semiconductor materials that has a bandgap of 3.4 eV and is chemically very stable and does not contain environmentally harmful substances such as arsenic (As) and mercury (Hg). to be.

또한, 질화갈륨 반도체는 전자 친화력이 강하여 광학적 특성은 물론, 전자 이동도, 전자포화 속도 및 전계파괴 전압 특성이 우수하여 광. 전자 소자응용에 많은 관심을 불러 일으키고 있는 반도체 물질이다.In addition, gallium nitride semiconductors have a strong electron affinity, which is excellent in optical properties as well as electron mobility, electron saturation speed and field breakdown voltage characteristics. It is a semiconductor material that has attracted much attention in electronic device applications.

특히, 최근 질화갈륨 반도체(GaN)가 청색및 근자외선 영역의 광을 방출할 수 있다는 사실이 알려져, 이를 이용한 청색 LED 및 색변환형 백색 LED가 실용화 되어 산업 전반에 큰 파장을 일으키고 있다.In particular, it is known that gallium nitride semiconductor (GaN) can emit light in the blue and near-ultraviolet region, and blue LED and color conversion type white LED using the same have become a practical wavelength in the industry.

이처럼 질화갈륨 반도체 소자의 발전으로 전체 가시광 영역에서의 고휘도 발광 다이오드(LED)의 구현이 가능해지면서 광원으로 사용하기 위한 고휘도의 백색 발광 다이오드(LED)가 개발되기 시작하였다. As a result of the development of gallium nitride semiconductor devices, high brightness light emitting diodes (LEDs) are realized in the entire visible light region, and high brightness white light emitting diodes (LEDs) for use as light sources have begun to be developed.

백색 발광 다이오드(LED) 램프를 구현하기 위하여 고휘도 RGB(Red Green Blue) 발광 다이오드(LED)들의 조합, 다층구조나 웨이퍼 접합(Wafer Fusion) 등을 통한 단일칩 발광 다이오드(LED) 구현, 고휘도 청색 발광 다이오드(LED)와 황색 형광체(Phosphor)의 조합, (형광등과 유사한 방식으로) 자외선 발광 다이오드(LED)를 사용하여 형광체(Phosphor)를 여기시키는 방식 등이 개발되어 다양한 응용분야가 기대되고 있다. Combination of high-brightness RGB (Red Green Blue) light-emitting diodes (LEDs), single-chip light-emitting diodes (LEDs) through multi-layer structure or wafer fusion, and high-brightness blue light emission A combination of a diode (LED) and a yellow phosphor (Phosphor), a method of exciting a phosphor (Phosphor) using an ultraviolet light emitting diode (LED) (in a manner similar to a fluorescent lamp) has been developed, and various applications are expected.

LED의 발광기구는 크게 나누어 ① 자유 캐리어의 재결합에 의한 것과, ② 불순물 발광중심에서의 재결합에 의한 것이 있다. ①에서 발광파장은 대략 ch/Eg(c는 광속, h는 플랑크 상수, Eg는 금지띠의 밴드폭)와 같으며, 비소화갈륨의 경우에는 약 900nm인 근적외광이 된다. 갈륨 비소 인에서는 인의 함유량 증가에 따라 Eg가 증가하므로 가시발광 다이오드가 된다. The light emitting mechanism of LED is largely divided by (1) by recombination of free carrier and (2) by recombination at impurity emission center. The emission wavelength at (1) is approximately equal to ch / Eg (c is the luminous flux, h is Planck's constant, and Eg is the band width of the forbidden band). In the case of gallium arsenide, it becomes near infrared light of about 900 nm. In gallium arsenic phosphor, Eg increases with increasing phosphorus content, making it a visible light emitting diode.

한편, ②에서는 발광파장은 반도체에 첨가되는 불순물의 종류에 따라 다르다. 인화갈륨인 경우, 아연 및 산소 원자가 관여하는 발광은 적색(파장 700nm)이고, 질소 원자가 관여하는 발광은 녹색(파장 550nm)이다. 발광 다이오드는 종래의 광원(光源)에 비해 소형이고, 수명은 길며, 전기에너지가 빛에너지로 직접 변환되기 때문에 전력이 적게 들고 효율이 좋다. On the other hand, in (2), the light emission wavelength varies depending on the type of impurities added to the semiconductor. In the case of gallium phosphide, light emission involving zinc and oxygen atoms is red (wavelength 700 nm), and light emission involving nitrogen atoms is green (wavelength 550 nm). The light emitting diode is smaller in size than the conventional light source, has a long lifetime, and has low power and good efficiency because electrical energy is directly converted into light energy.

이러한 LED의 성능을 나타내는 지표는 여러 가지가 있지만, 발광효율(%), 외부 양자 효율(%)등은 LED의 성능을 나타내는 중요한 파라미터이다. Although there are various indicators indicating the performance of such LEDs, the luminous efficiency (%), the external quantum efficiency (%), etc. are important parameters indicating the performance of the LED.

이하 본 발명과 관련된 문제점인 광적출효율(Extraction efficiency)에 대해서 살펴보면, 적출효율(%)은 LED에 주입된 전자와 LED밖으로 방출되는 광자의 비에 의하여 결정되며 추출효율이 높을수록 밝은 LED를 의미한다. LED의 적출효율은 칩의 모양이나 표면형태, 칩의 구조, 패키징 형태에 의하여 많은 영향을 받기 때문에 LED를 설계할 때 세심한 주의를 필요로 한다.Looking at the extraction efficiency (Extraction efficiency) which is a problem associated with the present invention, the extraction efficiency (%) is determined by the ratio of electrons injected into the LED and the photons emitted out of the LED, the higher the extraction efficiency means a brighter LED do. Extraction efficiency of LED is highly influenced by chip shape, surface shape, chip structure, and packaging type, so it requires careful attention when designing LED.

발광다이오드를 구성하는 물질간 굴절률 차이 때문에 물질의 경계면에서 전반사가 일어날 수 있다. 한편 발광다이오드 내부에서 발생한 빛은 모든 방향으로 방사되는데 경계면에서 임계각 이상으로 입사되는 빛들은 발광 다이오드 밖으로 빠져나가지 못한다. 따라서 발광 다이오드 내부에서 발생한 빛의 상당량이 발광다이오드 밖으로 빠져 나오지 못한다.Due to the difference in refractive index between the materials constituting the light emitting diode, total reflection may occur at the interface of the materials. On the other hand, the light generated inside the light emitting diode is radiated in all directions, and light incident above the critical angle at the interface does not escape the light emitting diode. Therefore, a considerable amount of light generated inside the light emitting diode does not escape the light emitting diode.

그러므로 발광다이오드 내부에서 발생한 빛을 효율적으로 밖으로 빠져 나오게 하기 위해 발광다이오드 내에 광적출층을 형성한다. 광적출층은 경계면에서 입사각을 작게 만들어 가급적 많은 양의 빛이 빠져 나갈 수 있게 해준다.Therefore, a light extraction layer is formed in the light emitting diode in order to efficiently exit the light generated inside the light emitting diode. The light extraction layer reduces the angle of incidence at the interface so that as much light can escape as possible.

첨부한 도 1에서는 GaN LED성장 중에 표면에 요철을 형성하여 광 추출효율을 개선시킨 경우이다. 도 1 (a)의 AFM 사진에서 보는 바와 같이, 에피표면 위에 수백 nm 크기로 요철표면(roughness surface)을 형성한 것을 알 수 있으며, 도 2 (b)의 TEM사진에서 표면요철 구조는 V shape의 형태를 갖고 있음을 알 수 있다.In FIG. 1, when the GaN LED is grown, irregularities are formed on the surface to improve light extraction efficiency. As shown in the AFM image of FIG. 1 (a), it can be seen that a roughness surface was formed on the epi surface by several hundred nm in size. In the TEM image of FIG. It can be seen that it has a form.

도 1 (c)는 요철표면이 광적출에 미치는 효과를 설명하고 있으며 표면의 요철이 광의 임계각을 변화시켜 보다 용이하게 광을 적출할 수 있도록 도와줌을 알 수 있다. 이와 같이 표면에 요철을 형성한 GaN LED는 평탄한 표면을 갖는 GaN LED보다 2배 정도의 개선된 발광효율 특성을 나타낸다.1 (c) illustrates the effect of the uneven surface on the light extraction, and it can be seen that the uneven surface of the surface helps to extract light more easily by changing the critical angle of the light. As such, GaN LEDs having irregularities on the surface exhibit improved light emission efficiency characteristics of about twice that of GaN LEDs having flat surfaces.

그러나 이러한 광적출을 위한 구조물을 형성하는 방법에 있어서, 복잡한 공정과 LED소자에 특성 변화 때문에 광적출효율을 개선하기 위한 노력에 많은 어려움이 나타났다.However, in the method of forming a structure for light extraction, a lot of difficulties appear in the effort to improve the light extraction efficiency because of the complex process and the characteristics change in the LED device.

이하 더욱 자세히 살펴보면, 첨부한 도 2에서 도시한 바와 같이 칩의 모양을 역피라미드 형태로 만드는 경우(미국 특허 6,229,160)인데, 종래의 발광 다이오드처럼 그 구조는 활성층(13)과 반도체층(12), 반사판(11), 기판으로 이루어져 있다.In more detail, as shown in the accompanying FIG. 2, the shape of the chip is in the form of inverted pyramid (US Pat. No. 6,229,160), which has a structure like the active light emitting diode 13 and the semiconductor layer 12, The reflecting plate 11 consists of a board | substrate.

활성층(13)에서 방사된 빛은(16) 역피라미드형으로 이루어져 있기 때문에 측벽(15)에서 반사되어 입사각이 작아져 내부 반사율이 작아짐으로, 더 많은 빛이 발광다이오드 외부로 빠져나갈 수 있다. 그러나, 이러한 구조는 반사각과 적층 구조 의 기울기(β)에 대한 정확한 계산을 통한 구조형성의 어려움으로 인하여 공정이 복잡하여 제작이 어렵다.Since the light emitted from the active layer 13 is formed of the inverse pyramid type 16, the light is reflected from the sidewall 15 and thus the incident angle is decreased, thereby reducing the internal reflectance, thereby allowing more light to escape to the outside of the light emitting diode. However, such a structure is difficult to fabricate due to the complicated process due to the difficulty of forming the structure through accurate calculation of the reflection angle and the slope (β) of the laminated structure.

그리고 발광다이오드 층을 형성한 뒤 상기 발광다이오드 상부 층에 홈을 내거나(미국특허 6,258,618), 첨부한 도 3에서 나타낸 바와 같이 구조물을 형성하여(미국특허 6,657,236) 난반사를 유도하는 방법도 있다. There is also a method of inducing diffuse reflection by forming a light emitting diode layer and then forming a groove in the upper layer of the light emitting diode (US Pat. No. 6,258,618) or forming a structure as shown in FIG. 3 (US Pat. No. 6,657,236).

그러나 이러한 구조물들은 전극 형성에 영향을 주어 발광다이오드의 전기 광학적 효율을 떨어뜨리는 단점이 있다.However, these structures have a disadvantage of affecting the electrode formation to reduce the electro-optic efficiency of the light emitting diode.

또한 이 방법은 도 3에서 나타낸 바와같이 광적출 구조물(39)을 형성하는 공정에 있어서, 반도체층(14)위에 spreading layer를 형성하여, 화학기상증착법(CVD)이나 스퍼터링(sputtering)에 의해 반도체층을 증착하고 난후, 포토레지스트를 다시 도포하여, 사진식각(photolithography) 방법으로 구조물(39)을 형성하기 때문에, 공정이 어렵고 고가의 장비가 필요하다는 문제점이 있다.In addition, in the process of forming the light extraction structure 39 as shown in FIG. 3, this method forms a spreading layer on the semiconductor layer 14, and the semiconductor layer by chemical vapor deposition (CVD) or sputtering. After the deposition, the photoresist is again applied to form the structure 39 by a photolithography method, and thus, a process is difficult and expensive equipment is required.

첨부한 도 4에서는 발광다이오드 내부에 난반사 층(45)을 형성하는 것인데(대한민국 특허출원 10-2004-700976), 내부 난반사층에 의해 결정 성장에 영향을 주어 역시 발광다이오드의 전기 광학적 효율을 떨어뜨린다.In FIG. 4, the diffuse reflection layer 45 is formed inside the light emitting diode (Korean Patent Application No. 10-2004-700976), which affects crystal growth by the internal diffuse reflection layer, which also lowers the electro-optic efficiency of the light emitting diode. .

그리고 첨부한 도 5에서 나타낸 바와 같이 기판을 식각하거나 dicing saw등으로 구조물 형성(texturing)하여 광적출효율을 높이는 방법이 있으나, 이 또한 dicing saw machine등의 고가의 장비가 필요하다.As shown in FIG. 5, there is a method of increasing light extraction efficiency by etching a substrate or forming a structure with a dicing saw or the like, but this also requires expensive equipment such as a dicing saw machine.

이처럼 광 적출효율을 개선하기 위해 다양한 방법으로 구조물을 형성하거나 난반사 층을 만드는 시도를 해오고 있으나, 고가의 장비와 복잡한 공정, 특성의 변 화 때문에 대량생산이 어렵다는 문제점이 있다.As such, attempts have been made to form structures or diffuse reflection layers in various ways to improve light extraction efficiency, but there are problems that mass production is difficult due to expensive equipment, complicated processes, and changes in characteristics.

그리고 첨부한 도 6에 나타난 바와 같이 일반적인 발광다이오드 패키지도 역시 다이오드(LED)에서 방사된 빛이 전반사로 인하여 빛이 패키지 내부에 갇힘으로써, 광 적출효율이 저하 되어 이를 해결하려는 노력이 다각도로 진행되고 있지만 상술한 바와 같이 복잡한 공정과 비용면에서 많은 문제점이 있다.In addition, as shown in FIG. 6, a general light emitting diode package is also trapped inside the package due to total reflection of light emitted from a diode (LED). However, as described above, there are many problems in terms of complicated process and cost.

상술한 문제점을 해결하기 위해 본 발명은, 광 적출효율을 개선하기 위한 광적출층을 UV 경화형 에폭시를 이용하여 형성함으로써, 고가의 장비 복잡한 공정등의 문제점을 해결하여 저가의 장비와 단순한 공정으로 제조되는 특성이 뛰어난 고효율의 발광다이오드와 패키지 및 그 제조방법을 제공 하는데 있다.In order to solve the above problems, the present invention, by forming a light extraction layer to improve the light extraction efficiency using a UV-curable epoxy, to solve the problems of expensive equipment complex process, such as low-cost equipment and simple manufacturing process The present invention provides a highly efficient light emitting diode, a package, and a method of manufacturing the same.

이와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명의 제 1특징에 따른 고효율 발광다이오드는 반도체로 형성된 광발생부와, 발생된 광을 수집하기 위한 반사부 및, 상기 수집되어 방사된 광을 적출하기 위해 UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성하는 광적출부를 포함한다.In order to achieve the above object, the high-efficiency light emitting diode according to the first aspect of the present invention is a light generating unit formed of a semiconductor, a reflecting unit for collecting the generated light, and a UV curable type to extract the collected light. It includes a light extraction portion to form a structure using the epoxy.

또한 상기 광발생부는 P형 또는 N형의 제1 반도체층과, 제 1반도체층위에 형성된 활성층 및 상기 활성층 위에 형성된 제1 반도체층과 반대 극성의 제2 반도체층을 포함하는 것이 바람직하고, 나아가 상기 반사부는 금속박막으로 형성된 것을 특징으로 하는 것일 수 있다.In addition, the light generating unit preferably includes a P-type or N-type first semiconductor layer, an active layer formed on the first semiconductor layer, and a second semiconductor layer of opposite polarity to the first semiconductor layer formed on the active layer. The reflector may be formed of a metal thin film.

나아가 상기 광적출부는 UV 경화형 에폭시로 도포되어 경화된(curing) 제1층 과 상기 경화된 제 1층위에 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시로 도포되어 구조물을 형성하는 것일 수 있다.Furthermore, the light extraction portion may be coated with a UV curable epoxy to form a structure by applying a cured first layer and a UV curable epoxy mixed with a fluorescent material on the cured first layer.

더하여 상기 광적출부는 UV 경화형 에폭시가 도포된 층에 패턴화된 마스크를 통하여 UV를 조사하는 단계와, 상기 UV가 조사된 에폭시층에 용제(solvant)를 이용하여 식각하는 단계를 포함하는 방법으로 형성된 것일 수 있다.In addition, the light extraction portion is formed by a method comprising the steps of irradiating UV through a patterned mask on the UV-curable epoxy coated layer, and etching the UV-irradiated epoxy layer using a solvent (solvant) It may be.

한편 본 발명의 제 2특징에 따른 고효율 발광다이오드 제조방법은 투명기판 위에 반도체층으로 구성된 광발생부를 형성하는 단계, 상기 투명기판 위에 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계 및 도포된 에폭시 층에 광적출을 위한 구조물을 형성하는 단계를 포함한다.On the other hand, the method of manufacturing a high efficiency light emitting diode according to the second aspect of the present invention comprises the steps of forming a light generating unit consisting of a semiconductor layer on a transparent substrate, applying a UV curable epoxy on the transparent substrate and for light extraction on the applied epoxy layer Forming a structure.

또한 상기 반도체층을 형성하는 단계는 p형 또는 n형의 제1반도체층을 형성하는 단계, 상기 제1반도체층 위에 활성층을 형성하는 단계, 활성층 위에 상기 제1반도체층과 반대 극성의 제 2반도체층을 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.The forming of the semiconductor layer may include forming a p-type or n-type first semiconductor layer, forming an active layer on the first semiconductor layer, and a second semiconductor having a polarity opposite to that of the first semiconductor layer on the active layer. It is preferred to include the step of forming a layer.

그리고 상기 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계는 스핀코팅(spin coating) 또는 로울러 방법(roller method)으로 하는 것일 수 있으며, 상기 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계는 도포된 에폭시를 UV로 경화(curing)하여 제1층을 형성하는 단계와, 그 제1층위에 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시를 도포하여 제 2층을 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.The applying of the UV curable epoxy may be performed by spin coating or roller method. The applying of the UV curable epoxy may be performed by curing the applied epoxy with UV. It is preferable to include the step of forming a layer, and forming a second layer by applying a UV-curable epoxy mixed with a fluorescent material on the first layer.

더하여 상기 구조물을 형성하는 단계는 UV 경화형 에폭시가 도포된 층에 패턴화된 마스크를 통하여 UV를 조사하는 단계와, UV가 조사된 에폭시층에 용제 (solvant)를 이용하여 식각하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the forming of the structure may include irradiating UV through a patterned mask on the UV-curable epoxy-coated layer, and etching the UV-irradiated epoxy layer using a solvent. desirable.

그리고 본 발명의 제 3특징에 따른 고효율 발광다이오드 패키지는 리드프레임이 부착되어 있는 패키지틀과, 발광다이오드로 형성된 광발생부 및, 상기 광발생부에서 방사된 광을 적출하기 위해 UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성하는 광적출부를 포함한다.The high-efficiency light emitting diode package according to the third aspect of the present invention uses a package frame to which a lead frame is attached, a light generating portion formed of the light emitting diode, and a UV curable epoxy to extract light emitted from the light generating portion. It includes a light extraction portion to form a structure.

더 나아가, 상기 패키지틀 내부에는 UV 경화형 에폭시로 채워진 것일 수 있고, 바람직하게는 상기 광적출부는 UV 경화형 에폭시로 도포되어 경화된(curing) 제1층과 상기 경화된 제 1층위에 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시로 도포되어 형성하는 제2층 및, 상기 도포된 제 2층위에 광적출을 위한 구조물을 포함하는 것도 가능하다.Furthermore, the inside of the package may be filled with a UV curable epoxy, and preferably, the light extracting part is coated with a UV curable epoxy, and a fluorescent material is mixed on the cured first layer and the cured first layer. It is also possible to include a structure for light extraction on the second layer formed by applying and forming a UV-curable epoxy.

그리고 상기 광적출부는 UV 경화형 에폭시가 도포된 층에 패턴화된 마스크를 통하여 UV를 조사하는 단계와, 상기 UV가 조사된 에폭시층에 용제(solvant)를 이용하여 식각하는 단계를 포함하는 방법으로 형성된 것일 수 있다.And the light extraction portion is formed by a method comprising the step of irradiating UV through a patterned mask on the UV-curable epoxy coating layer, and etching the solvent on the UV-irradiated epoxy layer (solvant) It may be.

또한 상기 다이오드는 UV 경화형 에폭시를 이용하여 다이오드 일면에 구조물을 형성하는 광적출부가 형성된 다이오드인 것일 수 있다. In addition, the diode may be a diode formed with a light extraction portion forming a structure on one surface of the diode using a UV curable epoxy.

본 발명의 제 4특징에 따른 발광다이오드 패키지의 제조방법은 패키지틀 내부에 있는 리드프레임 위에 발광다이오드를 부착하고 금속와이어로 연결하는 단계, 패키지틀 내부에 UV 경화형 에폭시를 채우고 경화하는 단계, 상기 UV 경화형 에폭시가 채워진 틀 상층에 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계 및, 상기 도포된 에폭시층에 광적출을 위한 구조물을 형성하는 단계를 포함한다.According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a light emitting diode package, the method comprising: attaching a light emitting diode to a lead frame in a package frame and connecting the light emitting diode with a metal wire; filling and curing the UV curable epoxy in the package frame; And applying a UV curable epoxy on the upper frame of the curable epoxy, and forming a structure for light extraction on the applied epoxy layer.

또한 바람직하게는 상기 발광다이오드는 UV 경화형 에폭시를 이용하여 다이오드 일면에 구조물을 형성하는 광적출부가 형성된 다이오드인 것일 수 있다.Also preferably, the light emitting diode may be a diode in which a light extraction part for forming a structure is formed on one surface of the diode using a UV curable epoxy.

더불어 상기 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계는 스핀코팅(spin coating) 또는 로울러 방법(roller method)으로 하는 것일 수 있고, 바람직하게는 상기 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계는 도포된 에폭시를 UV로 경화(curing)하여 제1층을 형성하는 단계와, 상기 제1층위에 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시를 도포하여 제 2층을 형성하는 단계를 포함하는 것일 수 있다.In addition, the step of applying the UV-curable epoxy may be to spin coating (spin coating) or roller method (roller method), preferably, the step of applying the UV-curable epoxy curing the applied epoxy with UV (curing) ) To form a first layer, and to form a second layer by applying a UV-curable epoxy mixed with a fluorescent material on the first layer.

그리고 상기 구조물을 형성하는 단계는 상기 UV 경화형 에폭시가 도포된 층에 패턴화된 마스크를 통하여 UV를 조사하는 단계와, 상기 UV가 조사된 에폭시층에 용제(solvant)를 이용하여 식각하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.The forming of the structure may include irradiating UV through a patterned mask on the UV-curable epoxy-coated layer, and etching the UV-irradiated epoxy layer using a solvent. It is desirable to.

이하에서는, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 고효율 발광다이오드, 패키지 및 그 제조방법의 바람직한 실시예에 관하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in more detail with respect to a preferred embodiment of a high-efficiency light emitting diode, a package and a manufacturing method according to the present invention.

본 발명의 제 1실시예로서, 첨부한 도 7은 UV 경화형 에폭시를 이용하여 광적출을 위한 구조물이 형성된 고효율 발광다이오드의 구조를 나타낸 도면이다.As a first embodiment of the present invention, FIG. 7 is a view showing the structure of a high-efficiency light emitting diode having a structure for light extraction using a UV curable epoxy.

반도체로 형성된 광발생부(20,30,40)와 발생된 광을 수집하기 위한 반사부(50) 및, 이러한 수집되어 방사된 광을 적출하기 위해 UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물(70)을 형성하는 광적출부로 구성된다. The structure 70 is formed by using the light generating units 20, 30, and 40 formed of a semiconductor, a reflecting unit 50 for collecting the generated light, and UV curable epoxy to extract the collected and emitted light. It consists of a light extraction part.

UV 경화형 에폭시란 에폭시 수지를 주원료로 하는 것으로, 자외선 조사장치등으로부터 나오는 자외선의 화학작용에 의하여 비교적 단시간에 경화되는 수지를 말한다. UV curable epoxy is an epoxy resin as a main raw material, and refers to a resin that is cured in a relatively short time by the chemical action of ultraviolet rays emitted from an ultraviolet irradiation device or the like.

이러한 UV 경화형 에폭시 수지의 장점을 살펴보면, 단시간에 경화가 됨으로 생산성을 향상시키고, 경화시 BAKING이 필요없으므로 에너지 낭비가 적다. 또한 무용제형이므로 환경오염방지 및 1회 도장으로 후막도장이 가능하며, 열처리가 곤란한 물질에 응용이 가능할 뿐만 아니라 액형이므로 취급하기가 용이하다.Looking at the advantages of such a UV-curable epoxy resin, hardening in a short time to improve productivity, and does not require BAKING during curing, less energy waste. In addition, since it is a solvent-free type, it is possible to coat a thick film by preventing environmental pollution and coating once, and it is not only applicable to a material that is difficult to heat treatment, but also easy to handle since it is a liquid type.

그러므로 UV 경화형 에폭시를 본 발명과 관련하여 사진식각(photolithography) 방법등에 사용함으로써, 광적출을 위한 구조물을 형성하는데 있어서, 다이오드 자체의 전기광학적 특성의 변화 없이 공정을 단순화 시키고 저가의 장비로 제조할 수 있게 된다.Therefore, by using the UV-curable epoxy in the photolithography method and the like in connection with the present invention, in forming the structure for the light extraction, it is possible to simplify the process without changing the electro-optic properties of the diode itself and to manufacture with low-cost equipment Will be.

상기 UV 경화형 에폭시는 Norland 사의 NOA60 계열, SummersThe UV curable epoxy is Norland's NOA60 series, Summers

Optical 사의 J-91 등을 사용할 수 있고, 이 외에도 빛을 투과시킬 수 있는 통상의 UV curable epoxy는 모두 사용 가능하다.Optical J-91, etc. can be used, and in addition to this, any conventional UV curable epoxy that can transmit light can be used.

또한 위의 광발생부(20,30,40)는 P형 또는 N형의 제1반도체층(20)과, 제1반도체층(20)위에 형성된 활성층(30) 및 그 활성층(30)위에 제1반도체층(20)과 반대극성의 제 2반도체층(40)으로 구성된다. In addition, the light generating units 20, 30, and 40 are formed on the first semiconductor layer 20 of the P type or the N type, the active layer 30 formed on the first semiconductor layer 20, and the active layer 30 on the active layer 30. It consists of the 1 semiconductor layer 20 and the 2nd semiconductor layer 40 of opposite polarity.

이러한 P-N 접합다이오드를 형성하고 활성층(30)에서 D-N(donor-acceptor) 리컴비네이션(recombination)에 의해 빛의 발광을 유도하는 것이어서 활성층의 도핑물질 또는 도핑방법에 따라 광발생 효율을 더욱더 높일 수 있다. Forming such a P-N junction diode and inducing light emission by D-N (donor-acceptor) recombination in the active layer 30 can further increase the light generation efficiency according to the doping material or the doping method of the active layer.

그리고 위 반사부(50) 반사율이 매우 높은 금속박막으로 형성되는 것이 바람직 한다. 이는 방사된 광을 한쪽 일면으로 수집하게 함으로써 적출효율을 높이고, 또한 금속막을 사용함으로써 반도체층(40) 전면에 전류를 균일하게 전달하는 전극의 역할도 함께 할 수 있게 하기 위함이다.And it is preferable that the reflector 50 is formed of a metal thin film having a very high reflectance. This is to increase the extraction efficiency by collecting the emitted light to one side, and also to serve as an electrode that uniformly transmits the current to the entire surface of the semiconductor layer 40 by using a metal film.

또다른 발명의 실시예로 첨부한 도 8에서는 구조물 자체에 형광물질이 혼합되어 새로운 파장의 LED로서 작용하는 것을 나타내고 있다.In FIG. 8 attached as another embodiment of the present invention, the fluorescent material is mixed with the structure itself, and thus acts as a new wavelength LED.

투명기판위에 UV 경화형 에폭시(70)가 도포되어 경화(curing)된 제1층과 경화된 제1층(70)위에 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시(80)로 도포되어 구조물을 형성하도록 한다. The UV curable epoxy 70 is applied on the transparent substrate to form a structure by applying the cured first layer and the UV curable epoxy 80 mixed with fluorescent material on the cured first layer 70.

이는 광발생부에서 나온 빛이 위의 형광체에 흡수되고, 상기 형광체는 광발생부에서 나온 빛과 다른 파장의 빛을 방출하게 하여, 다양한 파장의 빛을 방출 가능하게 한다. 특히, 백색 LED로도 작용하는 것이 가능하다.This allows the light emitted from the light generator to be absorbed by the above phosphor, and the phosphor emits light of a different wavelength from the light emitted from the light generator, thereby enabling the emission of light of various wavelengths. In particular, it is possible to act as a white LED.

그리고 위의 구조물을 형성하는 방법으로는 도 9c내지 도 9d에서 나타낸 바와 같이 UV에 의한 사진식각(photolithography) 방법으로 형성하는데, 구체적으로는 UV 경화형 에폭시가 도포된층(111)에 패턴화된 포토마스크(112)를 통하여 UV(113)를 조사하고, UV(113)가 조사된 에폭시층(111)에 용제(solvant)에 의하여 식각함으로써 구조물이 형성된다. And the method of forming the above structure is formed by a photolithography method by UV, as shown in Figure 9c to 9d, specifically, a patterned photo on the layer 111 coated UV curable epoxy The structure is formed by irradiating the UV 113 through the mask 112 and etching the solvent on the epoxy layer 111 irradiated with the UV 113 by a solvent.

여기서 에폭시를 제거하는 용제(solvant)는 일반적으로 아세톤, 에탄올, 메탄올등일 수 있고, 그 이외에도 본 발명에 적용되는 UV 경화형 에폭시의 전용용제를 사용할 수 있다.Herein, the solvent for removing the epoxy may be acetone, ethanol, methanol, or the like. In addition, a solvent for UV curing epoxy applied to the present invention may be used.

UV 경화형 에폭시를 도포하는 방법에 따라 도포된층(111)의 두께를 조절할 수 있고, UV 경화형 에폭시의 두께와 패턴의 간격, UV 조사량을 적절하게 조절하면 여러 가지 다양한 형태의 패턴을 형성할 수 있다.The thickness of the coated layer 111 may be adjusted according to a method of applying a UV curable epoxy, and various types of patterns may be formed by appropriately adjusting the thickness of the UV curable epoxy, the spacing of the pattern, and the amount of UV irradiation. .

이러한 패턴의 형성에 있어서, 포토마스크(112)를 통하여 빛이 통과할 때 마스크 edge부분에서의 회절현상으로 인하여 정확하게 수직으로 조사되지 않지만 오히려 방사된 빛의 입사각을 줄일 수 있는 곡률을 가진 구조물을 더욱 용이하게 형성 할 수 있다.In the formation of such a pattern, a structure having a curvature which is not irradiated vertically precisely due to the diffraction phenomenon at the edge of the mask when light passes through the photomask 112 but rather reduces the incident angle of the emitted light. It can be easily formed.

그러므로 UV 경화형 에폭시의 두께와 UV 조사량, 시간등을 적절히 조절하게 되면 다이오드의 전기광학적 특성의 변화없이 최적의 광적출 구조를 가지는 다양한 모양의 구조를 형성할 수 있다는 장점이 있다.Therefore, if the thickness, UV irradiation amount, time, etc. of the UV-curable epoxy is appropriately controlled, there is an advantage that various shapes having an optimal light extraction structure can be formed without changing the electro-optic properties of the diode.

본 발명의 제 2실시예로서, 첨부한 도 9a 내지 도 9d는 UV 경화형 에폭시를 이용하여 광적출 구조를 형성한 고효율 발광다이오드의 제조방법에 관한 공정을 나타낸 것이다.As a second embodiment of the present invention, FIGS. 9A to 9D show a process related to a method of manufacturing a high efficiency light emitting diode in which a light extraction structure is formed using a UV curable epoxy.

도 9a에서 투명기판(110)위에 반도체층으로 구성된 광발생부(120,130,140)를 형성하는 단계후, 위의 반도체층 상부에 반사판(150)을 형성하고, 도 9b에서 나타낸 바와 같이 다시 투명기판(110) 위에 UV 경화형 에폭시층(111)을 형성한 뒤, 도 9c의 UV 경화형 에폭시를 이용한 구조물을 형성하는 방법으로 도 9d에서와 같은 광적출 구조가 형성된 고효율이 발광 다이오드가 제조된다.9A, after forming the light generating units 120, 130, and 140 formed of the semiconductor layer on the transparent substrate 110, the reflective plate 150 is formed on the upper semiconductor layer, and the transparent substrate 110 is again formed as shown in FIG. 9B. After the UV curable epoxy layer 111 is formed on the substrate, a light emitting diode having a high light extraction structure as shown in FIG. 9D is manufactured by forming a structure using the UV curable epoxy of FIG. 9C.

UV 경화형 에폭시는 Norland 사의 NOA60 계열, Summers Optical사의 J-91 등을 사용할 수 있고, 이 외에도 빛을 투과시킬 수 있는 통상의 UV curable epoxy는 모두 사용 가능하다The UV curable epoxy can be used with NOA60 series of Norland, J-91 of Summers Optical, etc. In addition to this, all UV curable epoxy that can transmit light can be used.

여기서 에폭시를 제거하는 용제(solvant)는 일반적으로 아세톤, 에탄올, 메 탄올등일 수 있고, 그 이외에도 본 발명에 적용되는 UV 경화형 에폭시의 전용용제를 사용할 수 있다.Here, the solvent for removing the epoxy (solvant) may generally be acetone, ethanol, methanol, and the like, in addition to that can be used a solvent exclusive of the UV curable epoxy applied to the present invention.

UV 경화형 에폭시를 도포하는 방법에 따라 도포된층(111)의 두께를 조절할 수 있고, UV 경화형 에폭시의 두께와 패턴의 간격, UV 조사량을 적절하게 조절하면 여러 가지 다양한 형태의 패턴을 형성할 수 있다The thickness of the coated layer 111 may be adjusted according to a method of applying a UV curable epoxy, and various types of patterns may be formed by appropriately adjusting the thickness of the UV curable epoxy, the spacing of the pattern, and the amount of UV irradiation.

상기 UV 경화형 에폭시를 사용함으로써, 광적출을 위한 구조물을 형성하는데 있어서, 다이오드의 전기광학적 특성의 변화 없이 공정을 단순화 시키고 저가의 장비로 제조할 수 있게 된다.By using the UV-curable epoxy, in forming a structure for light extraction, it is possible to simplify the process and to manufacture a low-cost equipment without changing the electro-optical properties of the diode.

위의 반도체층을 형성하는 단계는 도 9a의 투명기판(110) 위에 p형 또는 n형의 제1반도체층(120)을 형성하고, 그 반도체층(120) 위에 활성층(130)을 형성한후 상기 활성층(130) 위에 제1반도체층(120)과 반대 극성의 제2반도체층(140)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. In the forming of the semiconductor layer, the p-type or n-type first semiconductor layer 120 is formed on the transparent substrate 110 of FIG. 9A, and the active layer 130 is formed on the semiconductor layer 120. And forming a second semiconductor layer 140 of opposite polarity to the first semiconductor layer 120 on the active layer 130.

이는 p-n 접합 다이오드를 형성하고 활성층(130)에서 D-N(donor-acceptor) 리컴비네이션(recombination)에 의해 빛의 발광을 유도하는 것이어서 활성층의 도핑물질 또는 도핑방법에 따라 광발생 효율을 더욱더 높일 수 있게 하기 위함이다.This is to form a pn junction diode and induce light emission by DN (donor-acceptor) recombination in the active layer 130 to further increase the light generation efficiency according to the doping material or the doping method of the active layer. For sake.

또한 반도체층과 활성층을 통해 전류를 인가할 수 있도록 제2반도체층(140)과 활성층(130) 일부를 식각하여 상기 제1반도체층(120)이 드러나도록 함으로써, 노출된 제1반도체층(120) 상부와 상기 반사판(150) 상부의 일부에 전극(160)을 형성 하도록 할 수 있다.In addition, the first semiconductor layer 120 is exposed by etching part of the second semiconductor layer 140 and the active layer 130 so that current can be applied through the semiconductor layer and the active layer, thereby exposing the exposed first semiconductor layer 120. The electrode 160 may be formed on an upper portion and a portion of the upper portion of the reflective plate 150.

그리고 도 9b에서 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계는 스핀코팅(spin coating) 또는 로울러 방법(roller method)으로 형성할 수 있는데, 스핀 속도에 따라 UV 경화형 에폭시의 두께를 용이하게 조절할 수 있다.In addition, the step of applying the UV curable epoxy in Figure 9b can be formed by spin coating (spin coating) or roller method (roller method), it is possible to easily adjust the thickness of the UV curable epoxy according to the spin speed.

더하여 또 다른 실시예로서 첨부한 도 10a 내지 도 10e는 형광물질을 혼합한 UV 경화형 에폭시를 이용하여 광적출 구조물을 형성한 고효율 발광다이오드 제조방법의 공정을 도시한 것이다.In addition, Figure 10a to 10e attached as another embodiment shows a process of manufacturing a high efficiency light emitting diode manufacturing a light extraction structure using a UV-curable epoxy mixed with a fluorescent material.

더욱더 자세히는 도 10a에서 투명기판(210) 위에 UV 경화형 에폭시(211)를 도포하고, 도 10b에서 도포된 UV 경화형 에폭시층(211)에 UV(213)를 조하하여 경화(curing) 시킨후 도 10c에서 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시(214)를 도포한다.In more detail, the UV curable epoxy 211 is coated on the transparent substrate 210 in FIG. 10A, and the UV curable epoxy layer 211 is cured by applying UV 213 to the UV curable epoxy layer 211 coated in FIG. 10B. In the UV-curable epoxy 214 mixed with a fluorescent material is applied.

도 10d에서는 이러한 UV 경화형 에폭시층(214)에 패턴화된 포토마스크(212)를 통하여 UV(213)를 조사한 후, 용제(solvant)로 식각하게 되면, 도 10e에서와 같이 광적출을 위한 구조물(215)이 형성된다.In FIG. 10D, the UV-curable epoxy layer 214 is irradiated with UV 213 through a patterned photomask 212, and then etched with a solvent to form a structure for light extraction, as shown in FIG. 10E. 215 is formed.

그렇게 하여 광발생부에서 나온 빛이 위의 형광체에 흡수되고, 상기 형광체는 광발생부에서 나온 빛과 다른 파장의 빛을 방출하게 하여, 다양한 파장의 빛을 방출 가능하게 한다. 특히, 백색 LED로도 작용하는 것이 가능하여 선택적이고 효율적인 고효율 발광다이오를 제조할 수 있다.In this way, the light emitted from the photo-generator is absorbed by the above phosphor, and the phosphor emits light of a different wavelength from the light emitted from the photo-generator, which makes it possible to emit light of various wavelengths. In particular, it is possible to act as a white LED, thereby producing a selective and efficient high efficiency light emitting diode.

또한 자외선 발광장치로 저가의 UV 형광등을 이용하는 것도 가능하고, Mask 패턴 역시 정교할 필요가 없으므로 저가의 포토마스크(212)로 용이하게 패턴을 형성할 수 있다.In addition, it is also possible to use a low-cost UV fluorescent lamp as an ultraviolet light emitting device, and since the mask pattern does not need to be elaborate, the low-cost photomask 212 can easily form a pattern.

본 발명의 제 3실시예로서, 첨부한 도 11a는 광적출을 위해 UV 경화형 에폭 시를 이용하여 구조물을 형성한 고효율의 발광다이오드 패키지의 구조를 나타낸 도면이다.As a third embodiment of the present invention, FIG. 11A is a view illustrating a structure of a high-efficiency light emitting diode package in which a structure is formed using a UV curable epoxy for light extraction.

구체적으로, 리드프레임(320)이 부착되어 있는 패키지틀(310)과 발광다이오드(330)로 형성된 광발생부 및, 이 광발생부에서 방사된 광을 적출하기 위해 UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성하는 광적출부(360)로 구성된다.Specifically, the light generating unit formed of the package frame 310 and the light emitting diode 330 to which the lead frame 320 is attached, and the structure using a UV curable epoxy to extract light emitted from the light generating unit It consists of the light extraction part 360 to form.

이렇게 UV 경화형 에폭시를 이용하면, 저가의 장비와 공정으로 구조물을 용이하게 형성할 수 있고, 이 구조물은 방사된 빛의 입사각을 작게 함으로써, 전반사 되어 패기지틀(310) 내부에서 빠져 나오지 못하는 것을 방지하여 광적출효율을 효과적으로 높일 수 있게 된다.By using the UV-curable epoxy, it is possible to easily form the structure with low-cost equipment and processes, by reducing the incident angle of the emitted light, the structure is totally reflected to prevent the escape from the inside of the package 310 It is possible to effectively increase the light extraction efficiency.

그리고 도 11a에서 패키지틀(310) 내부에는 UV 경화형 에폭시로 채워질 수 있는데, 이것은 발광다이오드(330)과 리드프레임(320)이 본딩와이어(350)로 연결되어 있기 때문에 UV 경화형 에폭시로 감싸서 안정적으로 보호 하게 된다. In addition, the package frame 310 may be filled with a UV curable epoxy in FIG. 11A. Since the light emitting diode 330 and the lead frame 320 are connected to the bonding wire 350, the UV cure epoxy may be wrapped and protected with UV curable epoxy. Done.

더 나아가 도 11b에서 상기 광적출부(360)는 UV 경화형 에폭시로 도포되어 경화된(curing) 제1층(360)과 경화된 제1층(360)위에 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시로 도포되어 구조물(361)을 형성할 수 있다.Furthermore, in FIG. 11B, the light extracting part 360 is coated with a UV curable epoxy and a UV curable epoxy mixed with a fluorescent material on the cured first layer 360 and the cured first layer 360. To form the structure 361.

이렇게 하여 광발생부에서 나온 빛이 위의 형광체에 흡수되고, 상기 형광체는 광발생부에서 나온 빛과 다른 파장의 빛을 방출하게 하여, 다양한 파장의 빛을 방출 가능하게 한다. 특히, 백색 LED로도 작용하는 것이 가능하게 된다.In this way, the light emitted from the photo-generator is absorbed by the above phosphor, and the phosphor emits light of a different wavelength from the light emitted from the photo-generator, thereby enabling the emission of light of various wavelengths. In particular, it becomes possible to act as a white LED.

이러한 광적출부의 구조물(360)은 UV 경화형 에폭시가 도포된 층에 패턴화된 마스크를 통하여 UV를 조사하고, UV가 조사된 에폭시층에 용제(solvant)를 이용하 여 식각하여 형성하는 방법으로 이루어 질 수 있다.The structure 360 of the light extraction part may be formed by irradiating UV through a patterned mask on a UV-curable epoxy-coated layer, and etching the UV-etched epoxy layer using a solvent. Can be.

여기서, 자외선 발광장치로는 저가의 UV 형광등을 이용하는 것도 가능하고, Mask 패턴 역시 정교할 필요가 없으므로 저가의 포토마스크(212)로 용이하게 패턴을 형성할 수 있으며, 광적출효율(Extraction efficiency)을 높일 수 있는 다양한 구조물을 형성할 수 있다.In this case, it is also possible to use a low-cost UV fluorescent lamp as an ultraviolet light emitting device, and since the mask pattern does not need to be elaborated, the pattern can be easily formed with a low-cost photomask 212, and the extraction efficiency is improved. Various structures can be formed that can be increased.

또한 첨부한 도 12에서 나타낸 바와 같이 광발생부가 UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성한 고효율 발광다이오드(313)로 구성됨으로써, 2중으로 광 적출효율을 높일 수 있는 발광다이오드 패키지가 된다.In addition, as shown in FIG. 12, the light generating unit is composed of a high-efficiency light emitting diode 313 in which a structure is formed using a UV-curable epoxy, thereby forming a light emitting diode package capable of increasing light extraction efficiency in twofold.

본 발명의 제 4실시예로서, 첨부한 도 13a 내지 도 13d는 UV 경화형 에폭시를 이용하여 광적출을 위한 구조물을 형성한 고효율 발광다이오드 패키지의 제조방법에 관한 공정을 나타낸 것이다.As a fourth embodiment of the present invention, FIGS. 13A to 13D illustrate a process related to a method of manufacturing a high-efficiency light emitting diode package in which a structure for light extraction is formed using a UV curable epoxy.

더욱 자세히는, 도 13a에서 나타낸 바와 같이 패키지틀(401) 내부에 있는 리드프래임(402) 위에 발광다이오드(403)를 부착하고 금속와이어(405)로 연결하고, 상기 패키지틀(401) 내부에 UV 경화형 에폭시(404)를 채워서 경화된 에폭시층(400)을 형성하여 구조물이 형성 가능하도록 한다.More specifically, as shown in FIG. 13A, the light emitting diode 403 is attached to the lead frame 402 in the package frame 401, connected to the metal wire 405, and UV inside the package frame 401. By filling the curable epoxy 404 to form a cured epoxy layer 400 to enable the structure can be formed.

도 13b에서 상기 경화된 에폭시층(400)에 UV 경화형 에폭시를 도포하고, 이러한 도포는 스핀코팅(spin coating) 또는 로울러 방법(roller method)으로 할 수 있다. 이것은 스핀 속도에 따라 UV 경화형 에폭시의 두께를 용이하게 조절할 수 있다.In FIG. 13B, a UV curable epoxy is coated on the cured epoxy layer 400, and the coating may be performed by spin coating or a roller method. This can easily control the thickness of the UV curable epoxy according to the spin speed.

또한 도 11b에 나타난 바와 같이 위의 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계는 도포된 에폭시를 UV로 경화(curing)하여 제1층(360)을 형성하고 그 위에 형괄물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시를 도포하여 구조물(360)이 형성 가능하도록 할 수 있다. 이로 인하여 백색 LED 패키지 및 다양한 파장의 빛을 발생할 수 있는 고효율 발광다이오드 패키지를 제조 할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 11B, the step of applying the UV curable epoxy may be performed by curing the applied epoxy with UV to form a first layer 360, and then applying a UV curable epoxy mixed with a broadening material thereon. The structure 360 may be formable. As a result, a white LED package and a highly efficient light emitting diode package capable of generating light of various wavelengths can be manufactured.

그리고 나서 도 13c에 나타난 바와 같이 UV 경화형 에폭시 층(410)에 패턴화된 포토 마스크(460)을 통하여(blocking) UV(430)를 조사한 후, 이 조사된 UV 경화형 에폭시층(410)에 용제(solvant)를 이용하여 식각함으로써, 도 13d의 광적출을 위한 구조물(460)을 저가의 장비와 단순한 공정으로 형성 할 수 있다.13C is then irradiated with UV 430 through a patterned photo mask 460 to the UV curable epoxy layer 410, and then a solvent ( By etching using a solvant), the structure 460 for light extraction of FIG. 13D can be formed with low cost equipment and a simple process.

이와 함께 도 12에서와 같이 패키지틀 내부에 있는 발광다이오드를 UV 경화형 에폭시를 이용하여 광적출을 위한 구조물이 형성된 발광다이오드(313)로 사용 함으로써, 이중으로 광적출 구조가 되어 더욱더 높은 광 적출효율을 가진 고효율 발광다이오드 패키지를 제조 할 수 있다. In addition, as shown in Figure 12 by using a light emitting diode in the package frame as a light emitting diode 313 formed a structure for light extraction by using a UV-curable epoxy, double light extraction structure to achieve a higher light extraction efficiency High efficiency LED package can be manufactured.

이상의 설명에서 본 발명은 특정의 실시 예와 관련하여 도시 및 설명하였지만, 특허청구범위에 의해 나타난 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 한도내에서 다양한 개조 및 변화가 가능하다는 것을 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 쉽게 알 수 있을 것이다.While the invention has been shown and described in connection with specific embodiments thereof, it is well known in the art that various modifications and changes can be made without departing from the spirit and scope of the invention as indicated by the claims. Anyone who owns it can easily find out.

이상에서 설명한 바와 같이, UV 경화형 에폭시를 이용하여 광적출을 위한 구조물을 형성한 고효율의 발광다이오드, 패키지 및 그 제조방법을 제공하면, 저가의 장비와 단순한 공정으로 대량생산이 용이하고, 새로운 형태의 광적출층을 쉽게 구 현할 수 있어서 특성이 뛰어난 고효율의 발광다이오드 및 패키지를 보다 용이하게 제조할 수 있다.As described above, by providing a highly efficient light emitting diode, a package, and a method of manufacturing the same, a structure for light extraction using a UV-curable epoxy, mass production is easy with low-cost equipment and a simple process, Since the light extraction layer can be easily implemented, a highly efficient light emitting diode and a package having excellent characteristics can be more easily manufactured.

Claims (20)

발광다이오드에 있어서,In the light emitting diode, 반도체로 형성된 광발생부;A light generator formed of a semiconductor; 발생된 광을 수집하기 위한 반사부; 및,A reflector for collecting the generated light; And, 상기 수집되어 방사된 광을 적출하기 위해 UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성하는 광적출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율의 발광다이오드.A light emitting diode having high efficiency comprising a light extraction unit to form a structure using a UV-curable epoxy to extract the collected and emitted light. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광발생부는 P형 또는 N형의 제1 반도체층;The photo-generator includes a first semiconductor layer of P type or N type; 제 1반도체층위에 형성된 활성층; 및,An active layer formed on the first semiconductor layer; And, 상기 활성층 위에 형성된 제1 반도체층과 반대 극성의 제2 반도체층을 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광 다이오드.And a second semiconductor layer having a polarity opposite to that of the first semiconductor layer formed on the active layer. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 반사부는 금속박막으로 형성된 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드.The reflector is a high efficiency light emitting diode, characterized in that formed of a metal thin film. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광적출부는 UV 경화형 에폭시로 도포되어 경화된(curing) 제1층과,The light extraction portion is coated with a UV curable epoxy cured (curing) first layer, 상기 경화된 제 1층위에 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시로 도포되어 구조물이 형성된 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율의 발광다이오드.A high-efficiency light emitting diode comprising a structure formed by applying a UV-curable epoxy mixed with a fluorescent material on the cured first layer. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광적출부는 UV 경화형 에폭시가 도포된 층에 패턴화된 마스크를 통하여 UV를 조사하는 단계와, Irradiating UV through the patterned mask on the UV-curable epoxy-coated layer; 상기 UV가 조사된 에폭시층에 용제(solvant)를 이용하여 식각함으로써 구조물을 형성하는 단계를 포함하는 방법으로 형성된 것을 특징으로 하는 고효율 발광 다이오드.A high efficiency light emitting diode, characterized in that formed by a method comprising the step of forming a structure by etching using a solvent (solvant) to the UV-irradiated epoxy layer. 발광다이오드의 제조방법에 있어서,In the manufacturing method of the light emitting diode, 투명기판위에 반도체층으로 구성된 광발생부를 형성하는 단계;Forming a light generating unit including a semiconductor layer on the transparent substrate; 상기 제2반도체층 상부에 반사판을 형성하는 단계;Forming a reflector on the second semiconductor layer; 상기 투명기판 위에 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계; 및, Applying a UV curable epoxy on the transparent substrate; And, 상기 도포된 에폭시 층에 광적출을 위한 구조물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드의 제조방법.Forming a structure for light extraction on the applied epoxy layer comprising the step of forming a high efficiency light emitting diode. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 반도체층을 형성하는 단계는 투명기판 위에 p형 또는 n형의 제1반도체층을 형성하는 단계;The forming of the semiconductor layer may include forming a p-type or n-type first semiconductor layer on the transparent substrate; 상기 제1반도체층 위에 활성층을 형성하는 단계; 및,Forming an active layer on the first semiconductor layer; And, 상기 활성층 위에 상기 제1반도체층과 반대 극성의 제 2반도체층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드 제조방법.And forming a second semiconductor layer having a polarity opposite to that of the first semiconductor layer on the active layer. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계는 스핀코팅(spin coating) 또는 로울러 방법(roller method)으로 하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드의 제조방법.The step of applying the UV-curable epoxy is a method of manufacturing a high efficiency light emitting diode, characterized in that by spin coating (roller method) or a roller method (roller method). 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계는 도포된 에폭시를 UV로 경화(curing)하여 제1층을 형성하는 단계와,The coating of the UV curable epoxy may include forming a first layer by curing the applied epoxy with UV. 상기 제1층위에 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시를 도포하여 제 2층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드 제조방법. And forming a second layer by applying a UV-curable epoxy mixed with a fluorescent material on the first layer. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 구조물을 형성하는 단계는 상기 UV 경화형 에폭시가 도포된 층에 패턴화된 마스크를 통하여 UV를 조사하는 단계와,The forming of the structure may include irradiating UV through a patterned mask on the UV-curable epoxy-coated layer; 상기 UV가 조사된 에폭시층에 용제(solvant)를 이용하여 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드의 제조방법.Method for producing a high-efficiency light emitting diode comprising the step of etching by using a solvent (solvant) to the UV-irradiated epoxy layer. 발광다이오드 패키지에 있어서,In the light emitting diode package, 리드프레임이 부착되어 있는 패키지틀;A package frame to which a lead frame is attached; 발광다이오드로 형성된 광발생부; 및,A light generator formed of a light emitting diode; And, 상기 광발생부에서 방사된 광을 적출하기 위해 UV 경화형 에폭시를 이용하여 구조물을 형성하는 광적출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율의 발광다이오드 패키지.A high efficiency light emitting diode package comprising a light extraction unit for forming a structure using a UV-curable epoxy to extract light emitted from the light generating unit. 제 11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 패키지틀 내부에는 UV 경화형 에폭시로 채워진 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드 패키지.High efficiency light emitting diode package, characterized in that the inside of the package is filled with a UV curable epoxy. 제 11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 광적출부는 UV 경화형 에폭시로 도포되어 경화된(curing) 제1층과,The light extraction portion is coated with a UV curable epoxy cured (curing) first layer, 상기 경화된 제 1층위에 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시로 도포되어 구조물을 형성하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율의 발광다이오드 패키지.A high-efficiency light emitting diode package comprising applying a UV-curable epoxy mixed with a fluorescent material on the cured first layer to form a structure. 제 11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 광적출부는 UV 경화형 에폭시가 도포된 층에 패턴화된 마스크를 통하여 UV를 조사하는 단계와, Irradiating UV through the patterned mask on the UV-curable epoxy-coated layer; 상기 UV가 조사된 에폭시층에 용제(solvant)를 이용하여 식각하는 단계를 포함하는 방법으로 형성된 고효율 발광다이오드 패키지.A high-efficiency light emitting diode package formed by the method comprising the step of etching using a solvent (solvant) to the UV-irradiated epoxy layer. 제 11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 발광다이오드는 UV 경화형 에폭시를 이용하여 다이오드 일면에 구조물을 형성하는 광적출부가 형성된 다이오드인 것을 특징으로 하는 고효율의 발광다이오드 패키지.The light emitting diode is a high-efficiency light emitting diode package, characterized in that the diode is formed with a light extraction portion forming a structure on one surface of the diode using a UV curable epoxy. 발광다이오드 패키지의 제조방법에 있어서,In the method of manufacturing a light emitting diode package, 패키지틀 내부에 있는 리드프레임 위에 발광다이오드를 부착하고 금속와이어로 연결하는 단계;Attaching a light emitting diode to a lead frame in the package frame and connecting the metal wire with a metal wire; 패키지틀 내부에 UV 경화형 에폭시를 채우고 경화하는 단계;Filling and curing the UV curable epoxy in the package; 상기 경화된 UV 경화형 에폭시층에 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계, 및, Applying a UV curable epoxy to the cured UV curable epoxy layer, and 상기 도포된 에폭시층에 광적출을 위한 구조물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드 패키지의 제조방법.The method of manufacturing a high-efficiency light emitting diode package comprising the step of forming a structure for light extraction on the applied epoxy layer. 제 16항에 있어서,The method of claim 16, 상기 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계는 스핀코팅(spin coating) 또는 로울러 방법(roller method)으로 하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드 패키 지의 제조방법.The step of applying the UV curable epoxy is a method of manufacturing a high-efficiency light emitting diode package, characterized in that the spin coating (spin coating) or roller method (roller method). 제 16항에 있어서,The method of claim 16, 상기 UV 경화형 에폭시를 도포하는 단계는 도포된 에폭시를 UV로 경화(curing)하여 제1층을 형성하는 단계와,The coating of the UV curable epoxy may include forming a first layer by curing the applied epoxy with UV. 상기 제1층위에 형광물질이 혼합된 UV 경화형 에폭시를 도포하여 제 2층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드 패키지의 제조방법. And forming a second layer by applying a UV-curable epoxy mixed with a fluorescent material on the first layer. 제 16항에 있어서,The method of claim 16, 상기 구조물을 형성하는 단계는 상기 UV 경화형 에폭시가 도포된 층에 패턴화된 마스크를 통하여 UV를 조사하는 단계와,The forming of the structure may include irradiating UV through a patterned mask on the UV-curable epoxy-coated layer; 상기 UV가 조사된 에폭시층에 용제(solvant)를 이용하여 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고효율 발광다이오드 패키지의 제조방법.Method of manufacturing a high-efficiency light emitting diode package, characterized in that it comprises the step of etching by using a solvent (solvant) to the UV-irradiated epoxy layer. 제 16항에 있어서,The method of claim 16, 상기 발광다이오드는 UV 경화형 에폭시를 이용하여 다이오드 일면에 구조물을 형성하는 광적출부가 형성된 다이오드인 것을 특징으로 하는 고효율의 발광다이오드 패키지의 제조방법.The light emitting diode is a method of manufacturing a high-efficiency light-emitting diode package, characterized in that the diode formed with a light extraction portion forming a structure on one surface of the diode using a UV curable epoxy.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110084774A (en) * 2010-01-18 2011-07-26 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device, light emitting device package, and fabrication method of lgithe emitting device
KR101105691B1 (en) * 2009-12-16 2012-01-17 한국광기술원 LED package and Method of wafer-level molding for thereof
US9537068B2 (en) 2013-01-23 2017-01-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Light emitting device package

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3931936B2 (en) 1998-05-11 2007-06-20 セイコーエプソン株式会社 Microlens array substrate, method for manufacturing the same, and display device
JP2003298115A (en) 2002-04-05 2003-10-17 Citizen Electronics Co Ltd Light emitting diode
KR100558134B1 (en) * 2003-04-04 2006-03-10 삼성전기주식회사 AlGaInN LIGHT EMITTING DIODE
JP4452464B2 (en) 2003-08-08 2010-04-21 スタンレー電気株式会社 Light emitting diode

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101105691B1 (en) * 2009-12-16 2012-01-17 한국광기술원 LED package and Method of wafer-level molding for thereof
KR20110084774A (en) * 2010-01-18 2011-07-26 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device, light emitting device package, and fabrication method of lgithe emitting device
US9537068B2 (en) 2013-01-23 2017-01-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Light emitting device package

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KR100742987B1 (en) 2007-07-26

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