KR20070035205A - 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자 및 그의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 종래의 웨이퍼 레벨 반도체 소자는 입출력 패드가 형성된 소자 몸체의 상부면이 외부 접속 단자를 통해 기판에 부착되기 때문에, 적층 반도체 소자로서 조립되는 것이 어렵다는 문제점을 갖는다. 이와 같은 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명은 소자 몸체의 일부를 제거하고 금속 배선층을 형성하며 소자 몸체의 하부면에 외부 접속 단자를 형성하여 소자 몸체의 입출력 패드와 접속되는 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자 및 그의 제조 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 소자 몸체의 상부면 뿐 아니라 하부면도 이용하게 됨으로써, 웨이퍼 레벨 반도체 소자로서 구현되는 동시에 적층 반도체 소자로서 용이하게 조립될 수 있다.
접속 구멍, 접속 홈, 단자 홈, 금속 배선층, 외부 접속 단자
Description
도 1 내지 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법에 따른 각 단계를 나타내는 도면들로서,
도 1은 입출력 패드가 형성된 소자 몸체를 나타내는 단면도이고,
도 2는 접속 구멍을 형성하는 단계를 나타내는 단면도이고,
도 3은 접속 홈을 형성하는 단계를 나타내는 단면도이고,
도 4는 단자 홈을 형성하는 단계를 나타내는 단면도이고,
도 5는 보호 피막을 형성하는 단계를 나타내는 단면도이고,
도 6은 금속 배선층을 형성하는 단계를 나타내는 단면도이고,
도 7은 외부 접속 단자를 형성하는 단계를 나타내는 단면도이고,
도 8은 절연층을 형성하는 단계를 나타내는 단면도이며,
도 9는 웨이퍼를 절단하는 단계를 나타내는 단면도이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자를 나타내는 단면도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 웨이퍼 11 : 입출력 패드
12 : 소자 몸체 13 : 칩 절단 영역
21 : 접속 구멍 22 : 접속 홈
23 : 단자 홈 24 : 보호 피막
25 : 금속 배선층 26 : 외부 접속 단자
30 : 절연층 40, 50 : 웨이퍼 레벨 반도체 소자
본 발명은 반도체 소자 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 웨이퍼 레벨 반도체 소자로서 구현되는 동시에, 용이하게 적층할 수 있는 소자 몸체의 하부면을 식각하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
오늘날 전자 산업은 더욱 경량화, 소형화, 고속화, 다기능화되고 높은 신뢰성을 갖는 제품을 저렴하게 제조하는 추세이다. 이와 같은 추세에 따른 중요한 기술 중의 하나가 바로 웨이퍼 레벨 반도체 소자이다. 웨이퍼 레벨 반도체 소자는 반도체 소자 제조 과정을 웨이퍼 상태에서 일괄적으로 진행할 수 있고, 단위 칩 크기의 반도체 소자를 구현할 수 있다는 장점이 있다.
종래의 웨이퍼 레벨 반도체 소자는 입출력 패드와 외부 접속 단자 사이의 연 결이 반도체 소자의 상부면에서 이루어진다. 보다 상세히 설명하면, 입출력 패드가 소자 몸체의 상부면에 형성된다. 소자 몸체의 상부면에는 입출력 패드가 보호되는 동시에 입출력 패드의 일부가 노출되도록 절연층이 형성된다. 노출된 입출력 패드에는 외부 접속 단자가 형성된다.
그런데, 이러한 구조의 웨이퍼 레벨 반도체 소자는 입출력 패드가 형성된 소자 몸체의 상부면이 외부 접속 단자를 통해 기판에 부착되기 때문에, 집적도 향상을 위하여 적층 반도체 소자로서 조립되는 것이 어렵다는 문제점을 갖는다.
따라서, 본 발명의 목적은 웨이퍼 레벨 반도체 소자로서 구현되는 동시에, 적층 반도체 소자로서 용이하게 조립될 수 있는 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자 및 그의 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 다음과 같은 구성의 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법을 제공한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법은, (a) 입출력 패드가형성된 상부면과 상부면에 반대되는 하부면을 갖는 소자 몸체들과, 소자 몸체들을 구분하는 칩 절단 영역이 형성된 웨이퍼를 준비하는 단계와, (b) 소자 몸체의 입출력 패드에 근접한 측부를 관통하도록 접속 구멍을 형성하는 단계와, (c) 접속 구멍 으로부터 연장되도록 소자 몸체의 하부면을 제거하여 접속 홈을 형성하는 단계와, (d) 접속 홈으로부터 연장되도록 소자 몸체의 하부면을 제거하여 단자 홈을 형성하는 단계와, (e) 접속 구멍, 접속 홈 및 단자 홈의 내벽에 절연성 보호 피막을 형성하는 단계와, (f) 입출력 패드와 연결되도록 접속 구멍과 접속 홈 내에 금속 물질을 충전시켜 금속 배선층을 형성하는 단계와, (g) 금속 배선층과 접촉하도록 단자 홈에 외부 접속 단자를 형성하는 단계와, (h) 입출력 패드와 금속 배선층이 보호되도록 외부 접속 단자를 제외한 소자 몸체의 양면에 절연층을 형성하는 단계와, (i) 칩 절단 영역을 따라서 웨이퍼를 절단하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법에 있어서, 외부 접속 단자는 솔더 볼일 수 있다.
본 발명에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법에 있어서, 외부 접속 단자는 금속 범프일 수 있다.
본 발명에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법은, (h) 단계 또는 (i)단계 다음에, (j) 입출력 패드가 노출되도록 입출력 패드 상의 절연층을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.
한편, 본 발명은 다음과 같은 구성의 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자를 제공한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자는, 입출력 패드가 형성된 상부면과 상부면에 반대되는 하부면을 갖고, 입출력 패드에 근접한 측부를 관통하는 접속 구멍, 접속 구멍으로부터 연장되도록 하부면이 제거되어 형성된 접속 홈, 접속 홈으 로부터 연장되도록 하부면이 제거되어 형성된 단자 홈이 형성된 소자 몸체와, 접속 구멍, 접속 홈 및 단자 홈의 내벽에 형성된 절연성 보호 피막과, 입출력 패드와 연결되도록 접속 구멍과 접속 홈 내에 금속 물질을 충전시켜 형성된 금속 배선층과, 금속 배선층과 접촉하도록 단자 홈에 형성된 외부 접속 단자와, 입출력 패드와 금속 배선층이 보호되도록 외부 접속 단자를 제외한 소자 몸체의 양면에 형성된 절연층을 포함한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자에 있어서, 외부 접속 단자는 솔더 볼일 수 있다.
본 발명에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자에 있어서, 외부 접속 단자는 금속 범프일 수 있다.
본 발명에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자는 입출력 패드가 노출되도록 입출력 패드 상의 절연층을 제거할 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1 내지 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법에 따른 각 단계를 나타내는 도면들이다. 한편, 도면을 통틀어 동일한 도면 부호는 동일한 구성 요소를 나타낸다.
본 실시예의 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법은, 도 1에 도시된 바와 같이, 웨이퍼(10)를 준비하는 단계로부터 출발한다. 웨이퍼(10)에는 소자 몸체(12)들과 칩 절단 영역(13)이 형성된다. 소자 몸체(12)는 입출력 패드(11)가 형성된 상 부면과 상부면에 반대되는 하부면을 갖는다. 그리고 칩 절단 영역(13)은 이웃하는 소자 몸체(12)들을 구분한다.
한편, 도시되지는 않았지만, 일반적으로 웨이퍼(10)는 실리콘 소재로 형성된다. 소자 몸체(12)에는 집적된 회로들이 형성되며, 칩 절단 영역(13)에는 집적 회로가 형성되지 않는다. 이 때, 소자 몸체(12)는 칩 절단 영역(13)의 일부를 더 포함할 수 있다.
다음으로, 도 2에 도시된 바와 같이, 접속 구멍(21)을 형성하는 단계가 진행된다. 즉, 레이저 빔(laser beam)을 이용하여 소자 몸체(12)를 관통하도록 소자 몸체(12)에 접속 구멍(21)을 형성한다. 이 때, 입출력 패드(11)의 하부에는 집적 회로가 형성되어 있기 때문에, 접속 구멍(21)을 입출력 패드(11)의 하부로 관통하지 않고, 소자 몸체(12)의 집적 회로가 손상되지 않도록 입출력 패드(11)에 근접한 측부에 형성한다. 이러한 접속 구멍(21)은 소자 몸체(12)가 칩 절단 영역(13)의 일부를 더 포함함에 따라서, 소자 몸체(12)에 형성될 수 있다.
다음으로, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 접속 홈(22) 및 단자 홈(23)을 형성하는 단계가 진행된다. 즉, 레이저 빔을 이용하여 접속 구멍(21)으로부터 연장되도록 소자 몸체(12)의 하부면을 제거하여 접속 홈(22)을 형성한다. 또한, 접속 홈(22)으로부터 연장되도록 소자 몸체(12)의 하부면을 제거하여 단자 홈(23)을 형성한다.
다음으로, 도 5에 도시된 바와 같이, 보호 피막(24)을 형성하는 단계가 진행된다. 즉, 접속 구멍(21), 접속 홈(22) 및 단자 홈(23)의 내벽에 각종 중합체 물질 로 절연성 보호 피막(24)을 형성한다. 이러한 보호 피막(24)은 소자 몸체(12)의 집적 회로를 보호하는 역할을 한다.
다음으로, 도 6에 도시된 바와 같이, 금속 배선층(25)을 형성하는 단계가 진행된다. 즉, 소자 몸체(12) 상부면의 입출력 패드(11)와 연결되도록 접속 구멍(21)과 접속 홈(22) 내에 금속 물질을 충전시켜 금속 배선층(25)을 형성한다. 예컨대, 금속 물질은 도금(plating), 금속 증착(metal deposition) 또는 스크린 프린팅(screen printing) 방법으로 충전된다. 이 때, 금속 물질은 접속 구멍(21) 내에 충전되면서 소자 몸체(12) 상부면에서 입출력 패드(11)와 접촉하도록 소자 몸체(12) 상부면에 일정 높이로 형성된다. 이러한 금속 배선층(25)은 입출력 패드(11)와 접속하여 전기적 신호와 전력을 전송하는 경로로 사용되기 때문에, 전기 전도성이 우수한 물질, 예컨대 구리(Cu)로 형성된다.
한편, 금속 배선층(25)은 소자 몸체(12)의 하부면을 레이저 빔을 이용하여 제거한 접속 구멍(21)과 접속 홈(22)에 형성됨으로써, 소자 몸체(12)로부터 쉽게 분리되지 않으며, 외부로부터 보호될 수 있다.
이어서, 도 7에 도시된 바와 같이, 외부 접속 단자(26)를 형성하는 단계가 진행된다. 즉, 금속 배선층(25)과 접촉하도록 단자 홈(23)에 외부 접속 단자(26)를 형성한다. 이 때, 외부 접속 단자(26)로 솔더 볼(solder ball) 또는 금속 범프(metal bump)가 이용된다.
한편, 이러한 외부 접속 단자(26)는 금속 배선층(25) 상에 접착되지 않고 소자 몸체(12)의 하부면을 레이저 빔을 이용하여 제거한 단자 홈(23)에 형성됨으로 써, 소자 몸체(12)로부터 쉽게 분리되지 않으며, 외부로부터 보호될 수 있다.
계속해서, 도 8에 도시된 바와 같이, 절연층(30)을 형성하는 단계가 진행된다. 즉, 입출력 패드(11)와 금속 배선층(25)이 보호되도록 외부 접속 단자(26)를 제외한 소자 몸체(12)의 양면에 절연층(30)을 형성한다. 이러한 절연층(30)은 보호 피막(24)과 마찬가지로 각종 중합체 물질로 형성된다. 이 때, 칩 절단 영역(13)의 양면에도 절연층(30)이 형성된다.
마지막으로, 도 9에 도시된 바와 같이, 웨이퍼(10)를 절단하는 단계가 진행된다. 즉, 칩 절단 영역(13)을 따라서 웨이퍼(10)를 절단하여, 웨이퍼 레벨 반도체 소자(40)들을 웨이퍼 상태로부터 개별적으로 분리한다.
이상 설명한 단계에 따라 제조된 웨이퍼 레벨 반도체 소자(40)는 절연층(30)에 의해 입출력 패드(11)가 보호되기 때문에, 단일 반도체 소자로서 이용될 수 있다.
한편, 도 10을 참조하여 본 발명의 다른 실시예를 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 웨이퍼 레벨 반도체 소자(50)는 입출력 패드가 노출된 구조를 갖는다. 즉, 입출력 패드(11) 상의 절연층(30)을 제거하여 입출력 패드(11)를 노출시킨다. 이와 같이, 입출력 패드(11)가 노출된 웨이퍼 레벨 반도체 소자(50)는 적층되어 적층 반도체 소자로서 이용될 수 있다. 이 때, 입출력 패드(11) 상의 절연층(30)은 웨이퍼 상태에서 제거될 수도 있고, 개별적으로 분리된 상태에서 제거될 수도 있다.
즉, 본 발명의 제조 방법에 따라 제조된 웨이퍼 레벨 반도체 소자를 2개 이 상 적층하여 적층 반도체 소자를 제조할 수 있다. 예컨대, 2개의 웨이퍼 레벨 반도체 소자가 적층된 적층 반도체 소자는 서로 대응되는 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 입출력 패드와 외부 접속 단자가 서로 연결되어 적층된 구조를 갖는다. 즉, 적층 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 하부면에 형성된 외부 접속 단자가 피적층 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 상부면에 노출된 입출력 패드에 적층 접합된다. 그리고, 적층 반도체 소자의 최하부의 웨이퍼 레벨 반도체 소자에 형성된 외부 접속 단자가 적층 반도체 소자의 외부 접속 단자로 사용된다.
본 발명의 구조를 따르면, 소자 몸체로부터 분리되지 않고 외부로부터 보호될 수 있도록 레이저 빔을 이용하여 소자 몸체의 일부를 제거한 다음 금속 배선층 및 외부 접속 단자를 형성하고 입출력 패드와 접속시켜 소자 몸체 상부면 뿐 아니라 소자 몸체 하부면도 이용할 수 있도록 함으로써, 절연층이 입출력 패드를 보호하는 경우에는 단일 반도체 소자로서 웨이퍼 레벨 반도체 소자를 이용하고, 입출력 패드를 노출시키는 경우에는 다수개의 웨이퍼 레벨 반도체 소자를 적층하여 적층 반도체 소자로서 이용할 수 있다.
Claims (8)
- (a) 입출력 패드가 형성된 상부면과 상기 상부면에 반대되는 하부면을 갖는 소자 몸체들과, 상기 소자 몸체들을 구분하는 칩 절단 영역이 형성된 웨이퍼를 준비하는 단계;(b) 상기 소자 몸체의 상기 입출력 패드에 근접한 측부를 관통하도록 접속 구멍을 형성하는 단계;(c) 상기 접속 구멍으로부터 연장되도록 상기 소자 몸체의 하부면을 제거하여 접속 홈을 형성하는 단계;(d) 상기 접속 홈으로부터 연장되도록 상기 소자 몸체의 하부면을 제거하여 단자 홈을 형성하는 단계;(e) 상기 접속 구멍, 상기 접속 홈 및 상기 단자 홈의 내벽에 절연성 보호 피막을 형성하는 단계;(f) 상기 입출력 패드와 연결되도록 상기 접속 구멍과 상기 접속 홈 내에 금속 물질을 충전시켜 금속 배선층을 형성하는 단계;(g) 상기 금속 배선층과 접촉하도록 상기 단자 홈에 외부 접속 단자를 형성하는 단계;(h) 상기 입출력 패드와 상기 금속 배선층이 보호되도록 상기 외부 접속 단자를 제외한 상기 소자 몸체의 양면에 절연층을 형성하는 단계; 및(i) 상기 칩 절단 영역을 따라서 상기 웨이퍼를 절단하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 외부 접속 단자는 솔더 볼인 것을 특징으로 하는 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 외부 접속 단자는 금속 범프인 것을 특징으로 하는 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 (h) 단계 또는 상기 (i) 단계 다음에,(j) 상기 입출력 패드가 노출되도록 상기 입출력 패드 상의 상기 절연층을 제거하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자의 제조 방법.
- 입출력 패드가 형성된 상부면과 상기 상부면에 반대되는 하부면을 갖고, 상기 입출력 패드에 근접한 측부를 관통하는 접속 구멍, 상기 접속 구멍으로부터 연장되도록 상기 하부면이 제거되어 형성된 접속 홈, 상기 접속 홈으로부터 연장되도록 상기 하부면이 제거되어 형성된 단자 홈이 형성된 소자 몸체;상기 접속 구멍, 상기 접속 홈 및 상기 단자 홈의 내벽에 형성된 절연성 보호 피막;상기 입출력 패드와 연결되도록 상기 접속 구멍과 상기 접속 홈 내에 금속 물질을 충전시켜 형성된 금속 배선층;상기 금속 배선층과 접촉하도록 상기 단자 홈에 형성된 외부 접속 단자; 및상기 입출력 패드와 상기 금속 배선층이 보호되도록 상기 외부 접속 단자를 제외한 상기 소자 몸체의 양면에 형성된 절연층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자.
- 제 5항에 있어서, 상기 외부 접속 단자는 솔더 볼인 것을 특징으로 하는 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자.
- 제 5항에 있어서, 상기 외부 접속 단자는 금속 범프인 것을 특징으로 하는 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자.
- 제 5항에 있어서, 상기 입출력 패드가 노출되도록 상기 입출력 패드 상의 상기 절연층을 제거하는 것을 특징으로 하는 소자 몸체의 하부면을 제거하여 형성된 외부 접속 단자를 갖는 웨이퍼 레벨 반도체 소자.
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Cited By (1)
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-
2005
- 2005-09-27 KR KR1020050089791A patent/KR20070035205A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
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US8450856B2 (en) | 2010-12-16 | 2013-05-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor device and method of forming the same |
US9196505B2 (en) | 2010-12-16 | 2015-11-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor device and method of forming the same |
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