KR20070028193A - 스핀 챔버 세정장치 - Google Patents

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KR20070028193A
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이채갑
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동부일렉트로닉스 주식회사
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Abstract

본 발명은 세정이 이루어지는 여러 개의 스핀 챔버 사이에 튐 방지벽을 설치하여 웨이퍼 세정시 발생하는 케미컬의 튐 현상으로 발생하는 웨이퍼 손상을 줄여주는 튐 방지벽을 설치한 스핀 챔버 세정장치에 관한 것이다.
반도체 제조공정 중 에칭공정 후 남은 메탈 라인에 존제하는 폴리머 잔유물을 제거하기 위하여 사용되는 여러 가지 세정장치 중 낱장 웨이퍼 스핀 챔버 세정장치가 있다.
종래 스핀 챔버 세정장치는 장치고장에 의하여 케미컬 튐 현상이 발생하여 주변 챔버 내의 웨이퍼 또는 로봇암 위의 웨이퍼 표면에 묻어 웨이퍼 손상을 가져오는 문제가 있었다.
본 발명은 스핀 챔버 사이에 튐 방지벽을 설치하여 케미컬이 스핀 챔버 외부로 튀는 것을 방지하고, 스핀 챔버 내부에 누출감지센서를 부착하여 케미컬의 누출을 감지하여 케미컬 누출로 인한 웨이퍼 손상을 방지하는 장점이 있다.
튐 방지벽, 누출감지링

Description

스핀 챔버 세정장치 {Spin chamber cleaning device }
도 1은 종래 스핀 챔버 세정장치의 배치도
도 2은 본 발명에 따른 튐 방지벽의 사시도
도 3는 본 발명에 따른 튐 방지벽이 설치된 스핀 챔버 세정장치
도 4은 본 발명에 따른 누출감지링의 사시도
도 5는 본 발명에 따른 누출감지링이 설치된 스핀 챔버의 사시도
<도면의 주요부분의 부호설명>
1: 로드/언로드 스테이션 2: 로봇암
10: 스핀 챔버 11: 척
12: 드스펜서(Dispenser) 20: 튐 방지벽
21: 측면벽 22: 전면벽
23: 웨이퍼 반출입구 30: 누출감지링
100: 스핀 챔버 세정장치
본 발명은 반도체 제조공정에 사용되는 스핀 챔버 세정장치에 관한 것으로 서, 더욱 상세하게는 세정이 이루어지는 여러 개의 챔버 사이에 튐 방지벽을 설치하여 웨이퍼 세정시 발생하는 케미컬의 튐 현상으로 발생하는 웨이퍼 손상을 줄여주는 튐 방지벽을 설치한 스핀 챔버 세정장치에 관한 것이다.
반도체 제조공정 중 에칭공정 후 남은 메탈 라인에 존제하는 폴리머 잔유물을 제거하기 위하여 여러 가지 세정방법이 사용된다.
몇 가지 세정방법을 소개하면 배치(Bath)타입의 용기에 웨이퍼를 투입하여 처리하는 방법, 스핀 챔버에 25매 정도의 웨이퍼를 투입 스프레이 노즐(Spray Nozzle)을 이용 처리하는 방법, 낱장의 웨이퍼를 스핀 챔버에 투입 디스펜스(Dispense)를 이용 처리하는 방법이 있다.
본 발명의 대상의 장비는 낱장 웨이퍼 스핀 챔버 세정장치이다.
도 1은 종래 스핀 챔버 세정장치의 배치도로서, 스핀 챔버 세정장치(100)는 로드/언로드 스테이션(1, Load/Unload Station), 로봇암(2), 스핀 챔버(10)들로 구성되어 있다.
상기 로드/언로드 스테이션(1)은 공정진행 중 웨이퍼를 잠시 보관하는 장소로서, 로봇암(2)에 의하여 스핀 챔버(10)로 이송된다.
상기 스핀 챔버(10)는 케미컬 처리, 린스(Rinse), 건조가 차례로 이루어지는 장소이다.
종래 스핀 챔버 세정장치(100)는 장치고장에 의하여 케미컬 튐 현상이 발생하여 주변 스핀 챔버(10) 내의 웨이퍼 또는 로봇암(2) 위의 웨이퍼 표면에 묻어 웨 이퍼 손상을 가져오는 문제가 있었다.
본 발명은 상기 문제를 개선하기 위하여 안출한 것으로서, 스핀 챔버 사이에 튐 방지벽을 설치하여 케미컬이 챔버 외부로 튀는 것을 방지하고, 스핀 챔버 내부에 누출감지센서를 부착하여 케미컬의 누출을 감지함으로써 케미컬 누출로 인한 웨이퍼 손상을 방지하는 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 스핀 챔버 사이에 튐 방지벽을 설치하고, 스핀 챔버 내부에 누출감지센서를 부착한 것을 특징으로 한다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 예시도면에 의거하여 상세히 설명한다.
도 2은 본 발명에 따른 튐 방지벽의 사시도로서, 튐 방지벽(20)은 측면벽(21)과 전면벽(22)으로 이루어져 있다.
상기 튐 방지벽(20)은 4개의 스핀 챔버(10)가 들어갈 수 있는 구조이며 후면은 개방된 구조를 이루고 있다. 측면벽(21)은 스핀 챔버 내부의 케미컬이 공정 진행 중 튀지 않도록, 충분한 높이가 있어야 한다. 전면벽(22)은 일부가 절개된 모양을 이루고 있는데, 이곳은 웨이퍼가 이동할 수 있는 웨이퍼 반출입구(23)이다. 상 기 웨이퍼 반출입구(23)를 통해 로봇암이 웨이퍼를 이송하게 된다.
상기 튐 방지벽(20)은 케미컬이 튀어 외부의 웨이퍼에 손상을 주지 않는 목적이라면 다양한 형태의 변형이 가능하다.
도 3는 본 발명에 따른 튐 방지벽(20)이 설치된 스핀 챔버 세정장치(100)의 배치도로서, 튐 방지벽(20) 사에에 4개의 스핀 챔버(10)가 배치되어 있는 형태를 보여준다.
도 4은 본 발명에 따른 누출감지링의 사시도이다.
누출감지링(30)은 누출감지센서의 일부분으로 누출감지센서는 누출감지링(30), 제어부(미도시), 표시장치(미도시)로 되어 있다.
상기 누출감지링(30)은 원형의 형태로 원형의 스핀 챔버(10)의 상부 가장자리에 설치된다. 누출감지링(30)은 링에 케미컬이 접촉하는 경우 이를 전기적 신호로 전환하여 제어부에 전달하게 되고 제어부는 표시장치에 케미컬이 누출되고 있음을 작업자에게 알리게 된다. 제어부가 설치되는 위치는 특별한 제한이 없으나 표시장치는 작업자가 쉽게 볼 수 있는 곳에 설치한다. 표시장치는 특별한 경고음으로 작업자에게 케미컬이 누출되고 있음을 경고할 수 있다.
도 5는 본 발명에 따른 누출감지링이 설치된 스핀 챔버의 사시도로서, 스핀 챔버(10) 상부 가장자리에 누출감지링(30)이 부착된 모습을 볼 수 있다. 상기 누출 감지링(30)은 가장자리에서 중심으로 여러 개 설치할 경우 케미컬의 누출을 보다 빠르게 감지할 수 있게 된다.
케미컬이 스핀 챔버(10) 외부로 튈 경우 특정한 방향이 없이 사방으로 튄다. 이때, 스핀 챔버(10) 상부에 원형의 누출감지링(30)을 설치하면 케미컬이 상부벽을 따라 흘러 누출감지링(30)에 접촉하게 되고 케미컬의 누출은 쉽게 감지된다.
상기한 바와 같이 본 발명은 스핀 챔버 사이에 튐 방지벽과 누출감지센서를 설치하여 케미컬로 인한 웨이퍼의 손상을 방지하고, 케미컬의 누출을 쉽게 감지하는 효과가 있다.

Claims (3)

  1. 세정공정 진행 전·후 웨이퍼를 보관하는 로드·언로드 스테이션, 상기 로드·언로드 스테이션에서 공정챔버로 웨이퍼를 이송하는 로봇암, 상기 로봇암으로 부터 이송된 웨이퍼를 각각의 스핀 챔버로 이동하며 세정하는 다수의 스핀 챔버로 이루어진 스핀 챔버 세정장치에 있어서,
    상기 스핀 챔버 사이에 튐 방지벽을 설치한 것을 특징으로 하는 스핀 챔버 세정장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 튐 방지벽은 스핀 챔버 사이에 설치된 측면벽, 로봇암이 공정챔버의 웨이퍼를 이송할 수 있도록 웨이퍼 반출입구가 설치된 전면벽으로 이루어진 것을 특징으로 하는 스핀 챔버 세정장치.
  3. 제 1항 또는 2항에 있어서,
    상기 스핀 챔버 상부에 누출감지센서를 부착한 것을 특징으로 하는 스핀 챔버 세정장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI383445B (zh) * 2008-12-12 2013-01-21 Grand Plastic Technology Co Ltd 具有氣泡阻斷環之清洗蝕刻機台

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