KR20070024816A - 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법 - Google Patents

레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20070024816A
KR20070024816A KR1020050080340A KR20050080340A KR20070024816A KR 20070024816 A KR20070024816 A KR 20070024816A KR 1020050080340 A KR1020050080340 A KR 1020050080340A KR 20050080340 A KR20050080340 A KR 20050080340A KR 20070024816 A KR20070024816 A KR 20070024816A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
donor film
substrate
transfer
laser
layer
Prior art date
Application number
KR1020050080340A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100700827B1 (ko
Inventor
노석원
강태민
김진수
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020050080340A priority Critical patent/KR100700827B1/ko
Priority to JP2006061329A priority patent/JP2007062354A/ja
Priority to US11/510,372 priority patent/US7718341B2/en
Priority to TW095131694A priority patent/TWI331482B/zh
Publication of KR20070024816A publication Critical patent/KR20070024816A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100700827B1 publication Critical patent/KR100700827B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/18Deposition of organic active material using non-liquid printing techniques, e.g. thermal transfer printing from a donor sheet
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/40Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
    • H10K71/421Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour using coherent electromagnetic radiation, e.g. laser annealing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12044OLED

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

본 발명은 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 일측면에 따른 레이저 레이저 열전사 장치는 전사층이 수용되는 어셉터기판, 및 상기 어셉터기판 상에 제공되는 전사층을 구비하며 영구자석을 포함하는 도너필름이 순차적으로 이송되어 적층되며, 상기 도너필름의 영구자석과 자기력을 형성하는 전자석이 포함된 기판스테이지; 상기 도너필름에 레이저를 조사하는 레이저 발진기; 및 적어도 상기 기판스테이지를 내부에 포함하는 챔버를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
레이저 열전사법, 라미네이팅, 도너필름, 영구자석,전자석

Description

레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법{Laser induced thermal imaging appratus and preparing method of organic light emitting device using the same}
도 1은 종래기술에 따른 레이저 열전사 장치의 부분단면도.
도 2a 내지 도 2d는 본 발명의 일측면에 따른 레이저 열전사 도너필름의 단면도.
도 3은 본 발명의 다른 측면에 따른 레이저 열전사 장치의 구조도.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 일실시예에 따른 기판스테이지의 평면도.
도 5는 본 발명에 따른 레이저 열전사 장치에 적용된 레이저 발진기의 개략도.
도 6a 내지 도 6h는 본 발명의 또 다른 측면에 따른 유기발광소자의 제조방법을 설명하는 단면도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
200, 300, 400, 500 : 도너필름 600 : 레이저 발진기
610 : 챔버 620 : 기판스테이지
625 : 전자석 621, 623 : 장착홈
670 : 도너필름 680 : 어셉터기판
본 발명은 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 어셉터기판과 도너필름을 자력에 의해 라미네이팅하는 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 적용분야는 특정 산업분야에 한정되는 것은 아니고, 다양하게 적용될 수 있지만, 유기발광소자 제작시 유기 발광층등을 형성하는 데 유용할 것으로 예상된다. 유기발광소자는 제 1 전극과 제 2 전극사이에 발광층을 형성하고, 전극 사이에 전압을 인가함으로써, 발광층에서 정공과 전자가 합쳐짐으로써 자체발광하는 소자이다. 이하에서는 유기발광소자에 사용되는 레이저 열전사 도너필름과 이를 이용한 레이저 열전사법 및 장치를 기준으로 본 발명의 종래기술 및 본 발명의 구성등이 설명될 것이나 이에 한정되는 것은 아니다.
레이저 열전사법은 기재기판, 광열변환층, 및 전사층을 포함하는 도너기판에 레이저를 조사시켜 기재기판을 통과한 레이저를 광열변환층에서 열로 변화시켜 광열변환층을 변형팽창시킴으로써, 인접한 전사층을 변형팽창시켜, 어셉터기판에 전사층이 접착되어 전사되게 하는 방법이다.
레이저 열전사법을 실시할 경우, 전사가 이루어지는 챔버 내부는 발광소자 형성시의 증착공정과 동조되도록 하기위하여 진공상태가 이루어지는 것이 바람직하나, 종래에 진공상태에서 행하여 지는 경우 도너기판과 어셉터기판 사이에 이물질 이나 공간이 생기게 되어 전사층의 전사가 잘 이루어지지 않는 문제점이 있다. 따라서, 레이저 열전사법에 있어서, 도너기판과 어셉터기판을 라미네이팅시키는 방법은 중요한 의미를 가지며 이를 해결하기 위한 여러가지 방안이 연구되고 있다.
도 1은 상술한 문제점을 해결하기 위한 종래기술에 따른 레이저 열전사 장치의 부분단면도이다. 이에 따르면, 레이저 열전사 장치(10)는 챔버(11) 내부에 위치하는 기판스테이지(12) 및 챔버(11) 상부에 위치한 레이저 조사장치(13)를 포함하여 구성된다.
기판스테이지(12)는 챔버(11)로 도입되는 어셉터기판(14)과 도너필름(15)을 각각 순차적으로 위치시키기위한 스테이지이다.
이 때, 어셉터기판(14)과 도너필름(15)이 그 사이에 이물질이나 공간없이 라미네이팅되게 하기 위하여, 이 경우 레이저 열전사가 이루어지는 챔버(11)내부를 진공으로 유지하지 않고, 기판스테이지(12) 하부에 호스(16)를 연결하여 진공펌프(P)로 빨아들여서, 어셉터기판(14)과 도너필름(15)을 합착시킨다.
그러나 이러한 종래기술에 있어서도 어셉터기판(14)과 도너필름(15) 사이의 이물질(1)과 공간이 발생하는 것을 완전히 방지하지 못하고, 더욱이 챔버(11) 내부의 진공상태를 유지하지 못하게 됨으로써, 제품의 신뢰성과 수명에 좋지 못한 영향을 미치는 것으로 알려져 있다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 레이저 열전사가 진공상태에서 이루어지면서도, 어셉터기판과 도너기판사이에 이물질이나 공간이 생기지 않게 하는 레이저 열전사 도너필름과 이를 이용한 레이저 열전사법 및 장치를 제공한다.
본 발명의 일측면은 기재기판과 전사층 사이에 광열변환층을 포함하는 레이저 열전사용 도너필름에 있어서, 도너필름 내에는 영구자석이 포함되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 측면에 따른 열전사장치는 전사층이 수용되는 어셉터기판, 및 어셉터기판 상에 제공되는 전사층을 구비하며 영구자석을 포함하는 도너필름이 순차적으로 이송되어 적층되며, 도너필름의 영구자석과 자기력을 형성하는 전자석이 포함된 기판스테이지; 도너필름에 레이저를 조사하는 레이저 발진기; 및 적어도 기판스테이지를 내부에 포함하는 챔버를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 측면에 따르면 전사층을 구비하는 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 전사층을 어셉터기판에 전사시키는 레이저 열전사법에 있어서, 적어도 하나의 전자석을 내장한 기판스테이지 상에 상기 어셉터기판을 위치시키는 어셉터기판 이송단계; 상기 어셉터기판 상에 제 항 내지 제 항 중 어느 한 항의 레이저 열전사 도너필름을 위치시키는 도너필름 이송단계; 상기 기판스테이지의 전자석에 전력을 인가하여 상기 도너필름과 상기 어셉터기판을 접합하는 라미네이팅단계; 및 상기 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 어셉터기판에 상기 전사층을 전사하는 전사단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면 레이저 열전사법에 의해 제1 전극과 제 2 전극 사이의 발광층이 형성되는 유기발광소자의 제조방법에 있어서, 적어도 하나의 전자석을 포함하는 기판스테이지 상에 화소정의영역이 형성된 어셉터기판을 위치시키는 어셉터기판 이송단계; 상기 어셉터기판 상에 영구자석을 포함하고 발광층을 구비한 도너필름을 이송시키는 도너필름 이송단계; 상기 기판스테이지의 전자석에 전력을 인가하여 상기 도너필름과 상기 어셉터기판을 접합하는 라미네이팅단계; 및 상기 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 어셉터기판의 상기 화소정의영역에 상기 유기발광층을 전사하는 전사단계를 포함하여 제조되는 것을 특징으로 한다.
이하에서는 본 발명의 여러 측면을 도면을 참조하면서 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
먼저 본 발명의 일측면으로서, 영구자석이 포함되는 레이저 열전사 도너필름을 설명한다. 도너필름은 어셉터기판에 전사될 전사층이 구비된 필름으로, 순차적으로 적층된 기재기판, 광열변환층, 및 전사층을 포함하여 구성된다. 이 때, 성능향상을 위해 광열변환층과 전사층 사이에 버퍼층 및 층간막(inter layer)등이 더 포함될 수 있다.
이 때, 레이저 열전사 도너필름에는 영구자석이 포함된다. 이 경우, 도너필름을 이루는 여러 층들 사이로 적어도 하나의 영구자석층이 형성되거나, 미세입자로 구성되는 영구자석이 여러 층들 중 적어도 하나에 포함될 수 있다.
도 2a는 본 발명의 일실시예에 따른 레이저 열전사 도너필름의 단면도이다. 이에 따르면, 도너필름은 기재기판(210) 상에 순차적으로 적층된 광열변환층(220), 영구자석층(230), 버퍼층(240), 층간막(250), 및 전사층(260)으로 구성된다.
기재기판(210)은 도너필름의 지지체 역할을 수행하는 기판으로서, 투명성 고분자로 이루어지며, 두께는 10 내지 500㎛가 바람직하다. 이 때, 폴리에스테르, 폴리아크릴, 폴리에폭시, 폴리에틸렌, 폴리스티렌등이 투명성 고분자로서 사용될 수 있으나 이에 제한되지 않는다.
광열변환층(220)은 레이저광을 흡수하여 열로 변환시키는 광흡수성 물질로 이루어지는 층으로서, 광열변환층(220)의 두께는 사용되는 광흡수성 물질 및 형성방법에 따라 다르나 금속 또는 금속의 산화물등으로 이루어지는 경우에는 진공증착법, 전자빔증착법, 또는 스퍼터링으로 100 내지 5000Å로, 유기막으로 형성되는 경우에는 압출, 그래비아, 스핀, 나이프 코팅법으로 0.1 내지 2㎛로 형성되는 것이 바람직하다.
광열변환층(220)의 두께가 상기 범위보다 얇게 형성되는 경우에는 에너지 흡수율이 낮아 광열변환되는 에너지 양이 작아 팽창 압력이 낮아지게 되고, 상기 범위보다 두껍게 형성되는 경우에는 도너필름과 어셉터기판 사이에서 발생하는 단차에 의한 에지 오픈 불량이 발생할 수 있다.
금속 또는 금속의 산화물등으로 이루어지는 광흡수성 물질로는 광학농도가 0.1 내지 0.4인 것으로, 알루미늄, 은, 크롬, 텅스텐, 주석, 니켈, 티타늄, 코발트, 아연, 금 구리, 텅스텐, 몰리브덴, 납 및 그 산화물이 있다.
또한, 유기막으로 이루어지는 광합성 물질로는 카본블랙, 흑연 또는 적외선 염료가 첨가된 고분자가 있다. 이 때, 고분자 결합수지를 형성하는 물질로는 예시적으로 아크릴 (메타)아크릴레이트 올리고머, 에스테르 (메타)아크릴레이트 올리고 머, 에폭시 (메타)아크릴레이트 올리고머, 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머 등과 같은 (메타)아크릴레이트 올리고머, 또는 상기 올리고머 (메타)아크릴레이트 모노머의 혼합물이 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.
영구자석층(230)은 후술할 레이저 열전사 장치의 기판스테이지에 설치될 전자석과 서로 자기력을 형성하도록 하기위해 삽입되는 층으로서, 알리코자석(Alnico Magnet), 페라이트자석(Ferrite Magnet), 희토류자석, 고무자석, 플라스틱자석등이 사용될 수 있다.
버퍼층(buffer layer; 240)은 전사층의 전사특성향상 및 전사 후의 디바이스수명향상을 위해 도입되는 층으로서, 금속산화물, 금속황화물 또는 비금속 무기화합물이나 고분자 또는 저분자 유기물이 사용될 수 있다. 이 때, 두께는 0.01 내지 2㎛ 로 형성하는 것이 바람직하다.
중간삽입층(inter layer; 250)은 광열변환층을 보호하기 위한 것으로서 높은 열저항을 가지는 것이 바람직하며 유기 또는 무기막으로 구성될 수 있다.
전사층(260)은 도너필름으로부터 분리되어 어셉터기판에 전사되는 층으로서, 유기발광소자 제작에 이용되는 경우 발광층을 형성하기 위해서는 고분자 또는 저분자 유기발광물질로 이루어질 수 있다. 또한, 전자수송층(ETL), 전자주입층(EIL), 정공수송층(HTL), 정공주입층(HIL)을 형성하기 위해서는 각각에 적합한 재료로 이루어질 수 있다. 이 때, 각 전사층의 재료는 한정적이지 않으며, 당업자가 용이하게 추고할 수 있는 어떠한 재료도 가능하며, 압출, 그래비아, 스핀, 나이프코팅, 진공증착, CVD등의 방법으로 형성가능하다.
전술한 바와 같이 영구자석층(230)을 도너필름(200)에 삽입시킴으로써, 도너필름은 자성을 지니게 되어, 어셉터기판 상부에 위치될 때 전자석이 내장된 레이저 전사 장치의 기판스테이지와 상호 자기적 인력을 형성한다. 따라서, 도너필름과 어셉터기판도 자력에 의해 밀착되게 하는 효과가 있다.
도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 열전사 도너필름의 단면도이다. 이에 따르면, 도 2a에서 영구자석층(230)이 광열변환층(220)과 버퍼층(240) 사이에 형성된 것과 달리, 영구자석층(320)이 광열변환층(330)과 기재기판(310) 사이에 형성되어 있다. 이외의 점에서는 도 2a와 동일하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
도 2c는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 열전사 도너필름의 단면도이다. 이에 따르면, 도 2a 및 도 2b에서 영구자석이 하나의 층을 이루면서 형성된 것과 달리, 영구자석이 기재기판(410)에 미세입자로 분산되어 있다.
즉, 본 실시예에서 도너필름(400)은 기재기판(410)을 이루는 투명성 고분자 내에 영구자석을 미세한 분말로 형성하여 분산시킴으로써 자성을 가지게 된다. 이 때, 영구자석은 나노파티클로 형성할 수 있다.
도 2d는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 열전사 도너필름의 단면도이다. 이에 따르면, 도 2c에서 영구자석의 미세입자가 기재기판(410) 상에 분산되는 것과 달리, 미세 영구자석 입자가 버퍼층(530)에 분산된다. 이로써, 도 2c의 도너필름과 동일한 효과를 발휘할 수 있음을 당업자는 양지할 것이다.
다음으로, 본 발명의 다른 측면으로 레이저 열전사 장치를 도면을 참조하면 서 설명한다. 본 발명의 일측면에 따른 레이저 열전사 장치는 전술한 레이저 열전사 도너필름이 유용하게 이용되게 하기 위해서 고안된 레이저 열전사 장치이나, 반드시 전술한 도너필름만이 사용되는 것으로 제한되는 것은 아니다.
도 3은 일실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 구조도이다. 이에 따르면, 레이저 열전사 장치는 챔버(610), 기판스테이지(620), 레이저 발진기(630)를 포함하여 구성된다.
챔버(610)는 통상의 레이저 열전사 장치에서 사용되는 챔버를 사용할 수 있고, 챔버(610) 외부에는 영구자석을 포함하는 도너필름(미도시) 및 어셉터기판(미도시)을 챔버 내부로 이송하기 위한 로봇팔등의 이송수단(미도시)이 구비된다.
기판스테이지(620)는 챔버(610)의 저면에 위치하며, 기판스테이지(620)에는 적어도 하나의 전자석(625)이 포함되어 있다. 이 때, 전자석은 하나의 큰 평면자석이거나 복수 개가 배열는 형태일 수 있다. 전자석(625)이 배치되는 유형에는 제한이 없으나, 라미네이팅을 보다 유리하게 수행하기 위해서는 동심원형 또는 가로 및 세로의 복수 열로 형성되는 것이 바람직하다. 도 4a 및 도 4b는 각각 기판스테이지(620) 내부에 전자석(625)이 동심원 및 복수의 열로 형성된 것을 보이는 투시평면도로서, 도시되지는 않았으나 각 전자석에는 전력을 인가하는 배선이 형성될 것이다.
한편, 기판스테이지(620)는 이동되기 위한 구동수단(미도시)을 더 구비할 수 있다. 예컨데, 레이저가 세로방향으로 조사될 경우, 가로방향으로 기판스테이지를 이동시키는 구동수단을 더 구비할 수 있다.
또한, 기판스테이지(620)는 어셉터기판 및 도너필름을 수납하여 장착시키는 각각의 장착수단을 구비할 수 있다. 장착수단은 이송수단에 의해 챔버내로 이송되어온 어셉터기판이 기판스테이지의 정해진 위치에 정확히 장착되도록 한다.
본 실시예에서, 장착수단은 관통홀(641, 651), 가이드바(643, 653), 이동플레이트(645, 655), 지지대(647, 657), 및 장착홈(621, 623)을 포함하여 구성될 수 있다. 이 때, 가이드바(643, 653)는 이동플레이트(645, 655) 및 지지대(647, 657)와 동반하여 상승 또는 하강운동하는데, 가이드바(643, 653)가 관통홀(641, 651)을 통과하여 상승하면서 어셉터기판을 수용하고, 하강하면서 어셉터기판을 장착홈(621, 623)에 안착시키게 되는 구조이다. 이 때, 어셉터기판 및 도너필름의 정확한 안착을 위해 장착홈은 벽면이 비스듬하게 형성되는 것이 바람직하다.
레이저 발진기(630)는 챔버의 외부 또는 내부에 설치될 수 있으며, 레이저가 상부에서 비춰질 수 있도록 설치되는 것이 바람직하다. 또한, 레이저 발진기의 개략적이 구성도인 도 5에 따르면, 본 실시예에서 레이저 발진기는 CW ND:YAG 레이저(1604nm)를 사용하고, 2개의 갈바노미터 스캐너(631, 633)를 구비하며, 스캔렌즈(635) 및 실린더렌즈(636)를 구비하나 이에 제한되는 것은 아니다.
이하에서는 도 6a 내지 도 6h를 참조하면서 본 발명의 다른 측면으로서 전술한 도너필름 및 레이저 열전사 장치를 이용하여 도너필름의 전사층을 어셉터기판에 전사하는 레이저 열전사법의 일실시예를 설명한다. 유기발광소자의 제작에 적용된 본 실시예에서 레이저 열전사법은 어셉터기판 이송단계, 도너필름 이송단계, 라미네이팅 단계 및 전사단계를 포함한다.
어셉터기판 이송단계는 레이저 열전사 장치의 챔버(610) 내로 어셉터기판(670)을 위치시키는 단계로서, 이 때 어셉터기판(670)은 로봇팔(690)등의 이송수단으로 챔버(610)내로 이송될 수 있다(도 6a). 챔버(610)내로 이송된 어셉터기판(670)은 관통홀을 통해 상승한 가이드바(643) 의해 받쳐진다(도 6b). 어셉터기판(670)을 받친 가이드바(643)는 다시 하강하면서, 어셉터기판(670)을 기판스테이지(620)의 장착홈(621)상에 정확하게 위치시킨다(도 6c).
도너필름 이송단계는 어셉터기판 이송단계에서와 마찬가지로, 로봇팔(690)등의 이송수단으로 챔버(610)내로 이송된다(도 6d). 이 때, 도너필름(680)은 이송시에 필름트레이(681)에 의해 이송되는 것이 바람직하다. 챔버(610)내로 이송된 도너필름(680)은 관통홀(651)을 통해 상승한 가이드바(653)에 의해 받쳐진다(도 6e). 도너필름(680)을 받친 가이드바(653)는 다시 하강하면서, 도너필름(680)을 기판스테이지(620)의 장착홈(623)상에 정확하게 위치시킨다(도 6f).
라미네이팅 단계는 기판스테이지(620)의 전자석(625)에 적절한 전력을 인가하여, 도너필름(680)에 포함된 영구자석이 기판스테이지의 전자석과 자기적 인력을 형성함으로써, 도너필름(680)과 어셉터기판(670)사이가 접합되도록 하는 단계이다. 이 때, 챔버(610) 내부는 진공상태를 유지하므로, 도너필름(680)과 어셉터기판(670) 사이에는 이물질이나 공간이 생기는 것을 극소화하여, 전사효율이 높아진다(도 6g).
도너기판(680)과 어셉터기판(670)의 라미네이팅은 기판스테이지에 내장된 전자석의 형상에 따라서, 다양한 방법으로 이루어질 수 있다. 예컨데, 기판스테이지 의 전자석이 도 4a와 같이 동심원상으로 배치될 경우, 가장 내부에 있는 동심원을 이루는 전자석에 먼저 전력을 인가하고, 그 상태에서 다음 외부에 있는 동심원을 이루는 전자석에 전력을 인가하고, 그 상태에서 다시 그 외부에 있는 동심원을 이루는 전자석에 전력을 인가함으로써 도너기판과 어셉터기판 사이의 이물질이나 공간이 생성되는 것을 극소화하면서 라미네이팅할 수 있다.
또한, 기판스테이지의 전자석이 도 4b와 같이 가로 및 세로로 다수의 열을 형성하면서 배치될 경우, 레이저가 조사되는 전자석 또는 그 열의 전자석에만 전력을 인가하여, 레이저가 조사되는 부분에만 연속적으로 국소적인 라미네이팅이 이루어지게 함으로써 보다 이물질이나 공간이 생성되는 것을 줄이면서 라미네이팅할 수 있다.
전사단계는 어셉터기판(670)과 라미네이팅된 도너필름(680) 상에 레이저조사장치에서 레이저를 조사하여 도너필름(680)에 형성된 유기발광층을 어셉터기판의 화소정의영역에 전사하는 단계이다. 레이저를 조사할 경우, 도너필름(680)의 광열변환층이 부풀어 오르게 되고, 이에 따라, 인접한 유기발광층도 어셉터기판 방향으로 부풀어 오르게 되어 유기발광층이 어셉터기판에 접촉하게 됨으로서 전사가 이루어진다(도 6h).
본 발명은 실시예들을 기준으로 주로 설명되어졌으나, 발명의 요지와 범위를 벗어나지 않고 많은 다른 가능한 수정과 변형이 이루어 질 수 있다. 예컨데, 도너필름에 영구자석을 포함시키는 방법으로써, 추가의 유기층 또는 무기층을 더 형성하고 그 사이의 어느 한 곳에 영구자석을 포함시키는 것 또는 전자석을 내장하는 기판플레이트의 형상, 모양, 위치등의 변경하는 것등은 당업자가 용이하게 도출할 수 있는 변경일 것이다.
본 발명에 따른 레이저 열전사 도너필름과 이를 이용하는 레이저 열전사 방법 및 장치에 따르면, 도너필름과 어셉터기판을 그 사이에 이물질이나 빈공간없이 라미네이팅할 수 있는 효과가 있다. 또한, 진공상태에서도 도너필름과 어셉터기판 사이의 라미네이팅이 이루어지므로, 이전 공정이 진공상태를 필요로 하는 경우에 전공정을 모두 진공에서 행할 수 있는 효과가 있다.
전술한 발명에 대한 권리범위는 이하의 청구범위에서 정해지는 것으로써, 명세서 본문의 기재에 구속되지 않으며, 청구범위의 균등범위에 속하는 변형과 변경은 모두 본 발명의 범위에 속할 것이다.

Claims (20)

  1. 기재기판과 전사층 사이에 광열변환층을 포함하는 레이저 열전사용 도너필름에 있어서,
    상기 도너필름 내에는 영구자석이 포함되는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 도너필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 광열변환층과 전사층 사이에는 버퍼층이 더 포함되는 유기발광소자 제작용 레이저 열전사 도너필름.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 전사층 사이에는 층간막이 더 포함되는 유기발광소자 제작용 레이저 열전사 도너필름.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 영구자석은 상기 기재기판과 상기 전사층 사이의 적어도 어느 한 곳에 영구자석층을 이루면서 포함되는 레이저 열전사 도너필름.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 영구자석은 상기 기재기판과 상기 광열변환층 사이에 영구자석층을 이루면서 포함되는 레이저 열전사 도너필름.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 영구자석은 상기 도너필름을 구성하는 적어도 하나의 층에 미세입자로 포함되는 레이저 열전사 도너필름.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 영구자석은 상기 도너필름의 기재기판에 미세입자로 포함되는 레이저 열전사 도너필름.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 미세입자는 나노파티클인 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 도너필름.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레이저 열전사 도너필름의 전사층은 유기발광소자의 발광층을 형성하는 레이저 열전사 도너필름.
  10. 전사층이 수용되는 어셉터기판, 및 상기 어셉터기판 상에 제공되는 전사층을 구비하며 영구자석을 포함하는 도너필름이 순차적으로 이송되어 적층되며, 상기 도 너필름의 영구자석과 자기력을 형성하는 전자석이 포함된 기판스테이지;
    상기 도너필름에 레이저를 조사하는 레이저 발진기; 및
    적어도 상기 기판스테이지를 내부에 포함하는 챔버를 포함하여 구성되는 레이저 열전사 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 전자석은 상기 기판스테이지에 동심원을 이루면서 내장된 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 전자석은 상기 기판스테이지에 가로 및 세로의 행과 열을 이루면서 내장된 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 장치.
  13. 제 10 항에 있어서,
    상기 레이저 열전사 장치에는 상기 어셉터기판 및 도너필름을 수납하여 기판스테이지 상에 위치시키는 어셉터기판 장착수단 및 도너필름 장착수단이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 장치.
  14. 전사층을 구비하는 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 전사층을 어셉터기판에 전사시키는 레이저 열전사법에 있어서,
    적어도 하나의 전자석을 내장한 기판스테이지 상에 상기 어셉터기판을 위치시키는 어셉터기판 이송단계;
    상기 어셉터기판 상에 제 항 내지 제 항 중 어느 한 항의 레이저 열전사 도너필름을 위치시키는 도너필름 이송단계;
    상기 기판스테이지의 전자석에 전력을 인가하여 상기 도너필름과 상기 어셉터기판을 접합하는 라미네이팅단계; 및
    상기 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 어셉터기판에 상기 전사층을 전사하는 전사단계를 포함하는 레이저 열전사법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 라미네이팅하는 단계는 동심원을 이루며 형성된 전자석에 내부에서 외부방향으로 순차적으로 전력을 인가시켜, 상기 도너필름과 상기 어셉터기판을 내부에서부터 외부로 라미네이팅하는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사법.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 라미네이팅하는 단계는 가로 및 세로로 열을 이루며 형성된 전자석에 조사되는 레이저의 경로에 따라 순차적으로 전력을 인가시켜, 상기 도너필름과 상기 어셉터기판을 라미네이팅하는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사법.
  17. 제 14 항에 있어서,
    상기 도너필름을 위치시키는 단계에서 상기 도너필름은 필름트레이에 장착되어 위치되는 것을 특징으로하는 레이저 열전사법.
  18. 레이저 열전사법에 의해 제1 전극과 제 2 전극 사이의 발광층이 형성되는 유기발광소자의 제조방법에 있어서,
    적어도 하나의 전자석을 포함하는 기판스테이지 상에 화소정의영역이 형성된 어셉터기판을 위치시키는 어셉터기판 이송단계;
    상기 어셉터기판 상에 영구자석을 포함하고 발광층을 구비한 도너필름을 이송시키는 도너필름 이송단계;
    상기 기판스테이지의 전자석에 전력을 인가하여 상기 도너필름과 상기 어셉터기판을 접합하는 라미네이팅단계; 및
    상기 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 어셉터기판의 상기 화소정의영역에 상기 유기발광층을 전사하는 전사단계를 포함하여 제조되는 유기발광소자의 제조방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 라미네이팅하는 단계는 동심원을 이루며 형성된 전자석에 내부에서 외부방향으로 순차적으로 전력을 인가시켜, 상기 도너필름과 상기 어셉터기판을 내부에서부터 외부로 라미네이팅하는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사법.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 라미네이팅하는 단계는 가로 및 세로로 열을 이루며 형성된 전자석에 조사되는 레이저의 경로에 따라 순차적으로 전력을 인가시켜, 상기 도너필름과 상기 어셉터기판을 라미네이팅하는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사법.
KR1020050080340A 2005-08-30 2005-08-30 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법 KR100700827B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050080340A KR100700827B1 (ko) 2005-08-30 2005-08-30 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법
JP2006061329A JP2007062354A (ja) 2005-08-30 2006-03-07 レーザ熱転写ドナーフィルム、レーザ熱転写装置、レーザ熱転写法及び有機発光素子の製造方法
US11/510,372 US7718341B2 (en) 2005-08-30 2006-08-24 Laser induced thermal imaging apparatus and manufacturing method of organic light emitting diode using the same
TW095131694A TWI331482B (en) 2005-08-30 2006-08-29 Laser induced thermal imaging apparatus and manufacturing method of organic light emitting diode using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050080340A KR100700827B1 (ko) 2005-08-30 2005-08-30 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070024816A true KR20070024816A (ko) 2007-03-08
KR100700827B1 KR100700827B1 (ko) 2007-03-27

Family

ID=38099150

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050080340A KR100700827B1 (ko) 2005-08-30 2005-08-30 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100700827B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140104063A (ko) 2013-02-15 2014-08-28 도레이첨단소재 주식회사 전사특성이 우수한 레이저광 열전사용 도너필름 및 그의 제조방법

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5725989A (en) * 1996-04-15 1998-03-10 Chang; Jeffrey C. Laser addressable thermal transfer imaging element with an interlayer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140104063A (ko) 2013-02-15 2014-08-28 도레이첨단소재 주식회사 전사특성이 우수한 레이저광 열전사용 도너필름 및 그의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR100700827B1 (ko) 2007-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8268657B2 (en) Laser induced thermal imaging apparatus
US7666570B2 (en) Laser induced thermal imaging method and fabricating method of organic light-emitting diode using the same
CN101186160B (zh) 激光诱导热成像装置、方法和制造有机发光二极管的方法
KR20200129751A (ko) 마이크로 led 흡착체 및 이를 이용한 마이크로 led 디스플레이 제작 방법 및 마이크로 led 디스플레이
KR100700827B1 (ko) 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법
KR100700828B1 (ko) 레이저 열전사법 및 이를 이용한 유기 발광소자의 제조방법
JP2007062354A (ja) レーザ熱転写ドナーフィルム、レーザ熱転写装置、レーザ熱転写法及び有機発光素子の製造方法
KR100700841B1 (ko) 레이저 열 전사 장치 및 이를 이용한 레이저 열 전사법
CN100460214C (zh) 用于激光诱导热成像的膜供体装置及制造电子装置的方法
KR100745335B1 (ko) 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법
CN100548708C (zh) 激光感应热成像装置和使用其制造有机发光二极管的方法
CN100542827C (zh) 激光诱导热成像设备及使用其制造电子装置的方法
US20050087749A1 (en) Electroluminescent multilayer optical information storage medium with integrated readout and composition of matter for use therein
KR102130114B1 (ko) 기판 얼라인 기구와 이를 구비한 증착장치
CN100577440C (zh) 具有晒版器件的激光诱导热成像装置
KR100700833B1 (ko) 레이저 열 전사 장치 및 이를 이용한 레이저 열 전사법
JP4615473B2 (ja) レーザ熱転写装置及びこれを利用したレーザ熱転写法
KR100700837B1 (ko) 레이저 열 전사 장치 및 그 장치를 이용한 레이저 열 전사법
KR100719681B1 (ko) 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의제조방법
CN100540326C (zh) 有机发光显示器件的制造方法
KR100700842B1 (ko) 레이저 열 전사 장치 및 도너필름을 이용한 레이저 열전사법
KR100700835B1 (ko) 레이저 열 전사법 및 도너필름을 이용한 유기 전계 발광소자의 제조방법
JP4642684B2 (ja) レーザ熱転写装置及びその装置を利用したレーザ熱転写法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130228

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140303

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150227

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180302

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190304

Year of fee payment: 13