KR20070024234A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

A liquid crystal display device and a fabricating method thereof are provided to repair on-spots generated by conductive particles between upper and lower substrates by forming micro holes at corresponding positions and filling light shielding substances to bottoms of the micro holes, thereby improving visibility. A liquid crystal display device includes first and second substrates facing each other and defined with a plurality of pixel areas at corresponding portions, a plurality of pixel electrodes formed on the pixel areas of the first substrate with a distance from each other, and common electrodes formed on the entire surface of the second substrate. A liquid crystal layer is positioned between the substrates. Some of the pixel electrodes, on which conductive particles(51) remain, have pixel holes formed around the conductive particles by removing the pixel electrodes by a predetermined width. Micro holes(60) are defined on a rear surface of at least one(50) of the substrates at positions corresponding to the conductive particles, and have light shield substance layers(61) formed therein. The pixel electrodes, on which the conductive particles remain, are divided into transparent electrode patterns(56b) in the pixel electrode holes and pixel electrode patterns(57) outside the pixel electrode holes.

Description

액정 표시 장치 및 이의 제조 방법{Liquid Crystal Display Device and Method for Manufacturing the Same}Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 나타낸 분해사시도1 is an exploded perspective view showing a general liquid crystal display device

도 2는 일반적인 액정 표시 장치에 있어서, 전도성 이물이 발생한 경우를 나타낸 평면도2 is a plan view illustrating a case in which a conductive foreign substance occurs in a general liquid crystal display device.

도 3은 도 2의 단면도3 is a cross-sectional view of FIG.

도 4는 도 2의 액정 표시 장치의 온 상태에서의 휘점 불량부와 정상 구동부를 나타낸 개략 단면도4 is a schematic cross-sectional view showing a bright point failing part and a normal driving part in an on state of the liquid crystal display of FIG. 2;

도 5a 및 도 5b는 각각 온휘점 불량이 발생된 액정 표시 장치의 평면도 및 이를 리페어한 본 발명의 액정 표시 장치를 나타낸 평면도5A and 5B are plan views illustrating a liquid crystal display device in which a warm luminance defect is generated and a liquid crystal display device of the present invention, in which the same is repaired.

도 6a 및 도 6b는 각각 리페어 공정이 적용된 본 발명의 액정 표시 장치의 평면도 및 단면도6A and 6B are a plan view and a cross-sectional view of the liquid crystal display of the present invention to which the repair process is applied, respectively.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 액정 표시 장치에 적용되는 리페어 공정을 나타낸 단면도7A to 7C are cross-sectional views illustrating a repair process applied to the liquid crystal display of the present invention.

도 8a 내지 도 8c는 리페어 공정에서 마이크로 홀 형성시 이용되는 드릴 비트의 여러 형상을 나타낸 개략 단면도8A to 8C are schematic cross-sectional views showing various shapes of a drill bit used when forming micro holes in a repair process.

도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 리페어 공정이 적용된 액정 표시 장치 를 나타낸 단면도9 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device to which a repair process according to another exemplary embodiment of the present invention is applied.

*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명** Description of symbols on the main parts of the drawings *

50 : 하부 기판 51 : 전도성 이물50: lower substrate 51: conductive foreign material

56 : 화소 전극 56a : 투명 전극 패턴56 pixel electrode 56a transparent electrode pattern

57 : 화소 전극 홀 60 : 마이크로 홀57: pixel electrode hole 60: micro hole

61 : 블랙 안료층 62 : 투명 안료층61: black pigment layer 62: transparent pigment layer

70 : 상부 기판 71 : 블랙 매트릭스층70 upper substrate 71 black matrix layer

72 : 컬러 필터층 73 : 공통 전극72 color filter layer 73 common electrode

75 : 액정층 81 : 제 1 편광판75 liquid crystal layer 81 first polarizing plate

82 : 제 2 편광판 100 : 하부 기판82: second polarizing plate 100: lower substrate

106 : 화소 전극 106a : 투명 전극 패턴106 pixel electrode 106a transparent electrode pattern

107 : 화소 전극 홀 110 : 상부 기판107: pixel electrode hole 110: upper substrate

111 : 블랙 매트릭스층 112 : 컬러 필터층111 black matrix layer 112 color filter layer

113 : 공통 전극 120 : 마이크로 홀113: common electrode 120: micro hole

121 : 블랙 안료층 130 : 액정층121: black pigment layer 130: liquid crystal layer

141 : 제 1 편광판 142 : 제 2 편광판 141: first polarizing plate 142: second polarizing plate

본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로 특히, 전도성 이물이 상하부 기판 사이에 발생시 이로 인한 영향을 줄이기 위해 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same in order to reduce the effects of the conductive foreign material generated between the upper and lower substrates.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장비에서 표시 장치로 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices is increasing in various forms, and in recent years, liquid crystal display devices (LCDs), plasma display panels (PDPs), electro luminescent displays (ELD), and vacuum fluorescent (VFD) Various flat panel display devices such as displays have been studied, and some of them are already used as display devices in various devices.

그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 특징 및 장점으로 인하여 이동형 화상 표시 장치의 용도로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대체하면서 LCD가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 방송 신호를 수신하여 디스플레이하는 텔레비젼 및 컴퓨터의 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.Among them, LCD is the most widely used as the substitute for CRT (Cathode Ray Tube) for mobile image display device because of its excellent image quality, light weight, thinness, and low power consumption. In addition to the use of the present invention has been developed in various ways such as a television and a computer monitor for receiving and displaying broadcast signals.

이와 같은 액정 표시 장치가 일반적인 화면 표시 장치로서 다양한 부분에 사용되기 위해서는 경량, 박형, 저 소비 전력의 특징을 유지하면서도 고정세, 고휘도, 대면적 등 고품위 화상을 얼마나 구현할 수 있는가에 관건이 걸려 있다고 할 수 있다.In order to use such a liquid crystal display as a general screen display device in various parts, it is a matter of how high quality images such as high definition, high brightness and large area can be realized while maintaining the characteristics of light weight, thinness and low power consumption. Can be.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래의 액정 표시 장치를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a liquid crystal display according to the related art will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 나타낸 분해사시도이다.1 is an exploded perspective view showing a general liquid crystal display.

액정 표시 장치는, 도 1과 같이, 일정 공간을 갖고 합착된 제 1 기판(1) 및 제 2 기판(2)과, 상기 제 1 기판(1)과 제 2 기판(2) 사이에 주입된 액정층(3)으로 구성되어 있다.As shown in FIG. 1, a liquid crystal display device includes a liquid crystal injected between a first substrate 1 and a second substrate 2 bonded to each other with a predetermined space, and between the first substrate 1 and the second substrate 2. It consists of layer (3).

보다 구체적으로 설명하면, 상기 제 1 기판(1)에는 화소 영역(P)을 정의하기 위하여 일정한 간격을 갖고 일방향으로 복수개의 게이트 라인(4)과, 상기 게이트 라인(4)에 수직한 방향으로 일정한 간격을 갖고 복수개의 데이터 라인(5)이 배열된다. 그리고, 상기 각 화소 영역(P)에는 화소 전극(6)이 형성되고, 상기 각 게이트 라인(4)과 데이터 라인(5)이 교차하는 부분에 박막 트랜지스터(T)가 형성되어 상기 게이트 라인(4)에 인가되는 신호에 따라 상기 데이터 라인(5)의 데이터 신호를 상기 각 화소 전극(6)에 인가한다.In more detail, the first substrate 1 may have a plurality of gate lines 4 in one direction and constant in a direction perpendicular to the gate lines 4 at regular intervals to define the pixel region P. FIG. A plurality of data lines 5 are arranged at intervals. In addition, a pixel electrode 6 is formed in each pixel region P, and a thin film transistor T is formed at a portion where the gate line 4 and the data line 5 cross each other to form the gate line 4. A data signal of the data line 5 is applied to each of the pixel electrodes 6 according to a signal applied to the.

그리고, 상기 제 2 기판(2)에는 상기 화소 영역(P)을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스층(7)이 형성되고, 상기 각 화소 영역에 대응되는 부분에는 색상을 표현하기 위한 R, G, B 컬러 필터층(8)이 형성되고, 상기 컬러 필터층(8)위에는 화상을 구현하기 위한 공통 전극(9)이 형성되어 있다.In addition, a black matrix layer 7 is formed on the second substrate 2 to block light in portions other than the pixel region P, and portions R corresponding to the respective pixel regions are formed to express colors. , G, B color filter layers 8 are formed, and a common electrode 9 for realizing an image is formed on the color filter layers 8.

상기와 같은 액정 표시 장치는 상기 화소 전극(6)과 공통 전극(9) 사이의 전계에 의해 상기 제 1, 제 2 기판(1, 2) 사이에 형성된 액정층(3)의 액정이 배향되고, 상기 액정층(3)의 배향 정도에 따라 액정층(3)을 투과하는 빛의 양을 조절하여 화상을 표현할 수 있다.In the liquid crystal display device as described above, the liquid crystal of the liquid crystal layer 3 formed between the first and second substrates 1 and 2 is aligned by an electric field between the pixel electrode 6 and the common electrode 9, The amount of light passing through the liquid crystal layer 3 may be adjusted according to the degree of alignment of the liquid crystal layer 3 to express an image.

이와 같은 액정 표시 장치를 TN 모드(Twisted Nematic mode) 액정 표시 장치라 하며, 상기 TN 모드 액정 표시 장치 외에 수평 전계를 이용한 횡전계 모드(In-Plane Switching(IPS) mode) 액정 표시 장치가 개발되었다. 상기 횡전계(IPS) 모드 액정 표시 장치는 제 1 기판의 화소 영역에 화소 전극과 공통 전극을 일정한 거리를 갖고 서로 평행하게 형성하여 상기 화소 전극과 공통 전극 사이에 횡 전계(수평 전계)가 발생하도록 하고 상기 횡 전계에 의해 액정층이 배향되도록 한 것이다.Such a liquid crystal display is called a twisted nematic mode liquid crystal display, and in addition to the TN mode liquid crystal display, an in-plane switching (IPS) liquid crystal display using a horizontal electric field has been developed. In the transverse electric field (IPS) mode liquid crystal display, a pixel electrode and a common electrode are formed parallel to each other at a predetermined distance in a pixel area of the first substrate so that a transverse electric field (horizontal electric field) is generated between the pixel electrode and the common electrode. The liquid crystal layer is aligned by the lateral electric field.

이하에는 상기 TN 모드에서 특히 온(on)휘점이 관찰되는 원인을 살펴본다.In the following, the cause of the on-point being observed especially in the TN mode will be described.

도 2는 일반적인 액정 표시 장치에 있어서, 전도성 이물이 발생한 경우를 나타낸 평면도이며, 도 3은 도 2의 단면도이고, 도 4는 도 2의 액정 표시 장치의 온 상태에서의 휘점 불량부와 정상 구동부를 나타낸 개략 단면도이다.FIG. 2 is a plan view illustrating a case where conductive foreign matter occurs in a general liquid crystal display, FIG. 3 is a cross-sectional view of FIG. 2, and FIG. 4 is a bright point defect and a normal driving unit in an on state of the liquid crystal display of FIG. 2. It is a schematic sectional drawing shown.

도 2 내지 도 4와 같이, TN 모드의 액정 표시 장치는 도 1에 대해 설명한 바와 같이, 서로 대향된 제 1, 제 2 기판(1, 2)과, 제 1 기판(1)의 매 화소 영역마다 형성된 화소 전극(6)과, 상기 제 2 기판(2) 전면에 형성된 공통 전극(9)을 포함하여 이루어진다. 또한, 제 2 기판(2) 상의 비화소 영역에 대하여는 블랙 매트릭스층(7)이 대응되며, 화소 영역에 대하여서는 컬러 필터층(8)이 대응되어 형성된다. As shown in FIG. 2 to FIG. 4, the liquid crystal display of the TN mode has the first and second substrates 1 and 2 facing each other and the pixel regions of the first substrate 1 as described with reference to FIG. 1. The formed pixel electrode 6 and the common electrode 9 formed on the entire surface of the second substrate 2 are included. In addition, the black matrix layer 7 corresponds to the non-pixel region on the second substrate 2, and the color filter layer 8 corresponds to the pixel region.

이와 같이 형성된 TN 모드의 액정 표시 장치의 화소 전극(6) 상부 소정 부위에 전도성 이물(21)이 남은 경우, 상기 전도성 이물(21)은 상부 기판(2)의 공통 전극(9)과 만나게 되며, 이로 인해 해당 부위의 각각 제 1, 제 2 기판(1, 2) 상의 화소 전극(6)과 공통 전극(9)이 서로 도통되게 된다. 이러한 전도성 이물(21)은 금속이나 투명 전극을 식각하는 공정 후 챔버 내에 남아있는 잔류물이 세정 후에도 미처 제거되지 못하여, 제 1 기판(1) 또는 제 2 기판(2) 상에 남아있는 입자들이거나 셀(cell) 공정 중 셀 주변에서 기판으로 떨어진 전도성 입자들이며, 이러한 전도성 이물(21)은 특히, 화소 전극(6)이 형성된 부위에 남아있게 될 경우, 그 상하부의 상기 공통 전극(9)과 화소 전극(6)을 도통시키는 문제점을 유발한다. When the conductive foreign material 21 remains on a predetermined portion of the pixel electrode 6 of the liquid crystal display of the TN mode formed as described above, the conductive foreign material 21 meets the common electrode 9 of the upper substrate 2. As a result, the pixel electrode 6 and the common electrode 9 on the first and second substrates 1 and 2 of the corresponding portions are electrically connected to each other. The conductive foreign material 21 may be particles remaining on the first substrate 1 or the second substrate 2 because residues remaining in the chamber after the process of etching the metal or the transparent electrode may not be removed even after cleaning. Conductive particles that fall from the periphery of the cell to the substrate during the cell process, and the conductive foreign material 21 is left in the area where the pixel electrode 6 is formed, especially when the common electrode 9 and the pixel above and below the pixel This causes a problem of conducting the electrode 6.

도 4와 같이, 전도성 이물(21)이 남아 제 1, 제 2 기판(1, 2) 상의 화소 전극(6)과 공통 전극(9)을 서로 도통시키는 온휘점(전도성 이물이 남은 해당 화소 전극 전체가 밝게 관찰되는 현상) 불량부와, 정상 구동부를 살펴보면, 온휘점 불량부는 화소 전극(6)과 공통 전극(9)이 쇼트되어 있기 때문에, 두 전극간의 전위차가 없게 된다. 따라서, 두 전극간 위상차가 같아져서 화소 전극(6)에 온(on) 신호가 인가될 때, 전도성 이물이 남은 화소 전극(6)과 그 상부의 공통 전극(9)을 도통시켜, 블랙(black) 상태에서도 전도성 이물(21)이 남은 해당 화소 전극(6) 전체에서 빛이 새는 현상이 발생한다. 이 경우, 상기 TN 모드의 액정 표시 장치는 노멀리 화이트 모드(Normally White mode)로 가정한다. 즉, 화소 전극에 전압 인가 전에는 화이트 상태를 나타내고, 전압 인가시에는 블랙 상태를 나타내게 된다. 이 경우, 도 3 및 도 4는 각각 화소 전극에 전도성 이물없이 정상적으로 온 신호가 인가될 때는, 블랙 상태로 정상적으로 광이 차단되고 있음을 나타내며, 전도성 이물(21)이 남은 화소에서는 해당 화소 영역 전체가 상부의 공통 전극(9)과 쇼트되어, 이 부위의 화소 전극(6)과 공통 전극(9)에 전위차가 없게 되어, 이 화소에서는 광이 투과되어, 해당 화소 전극(6) 전체가 휘점으로 보여짐을 나타낸다. As shown in FIG. 4, the entire luminance point at which the conductive foreign material 21 remains to conduct the pixel electrode 6 and the common electrode 9 on the first and second substrates 1 and 2 to each other (the corresponding pixel electrode in which the conductive foreign material remains) When the defective portion and the normal driving portion are examined, since the pixel electrode 6 and the common electrode 9 are shorted, there is no potential difference between the two electrodes. Therefore, when the on-signal is applied to the pixel electrode 6 because the phase difference between the two electrodes is the same, conductive foreign material conducts the remaining pixel electrode 6 and the common electrode 9 thereon, and thus black. ), Light leaks from the entire pixel electrode 6 in which the conductive foreign material 21 remains. In this case, it is assumed that the liquid crystal display of the TN mode is a normally white mode. That is, the white state is displayed before the voltage is applied to the pixel electrode, and the black state is displayed when the voltage is applied. In this case, FIGS. 3 and 4 show that when the on signal is normally applied to the pixel electrode without a conductive foreign material, the light is normally blocked in a black state. Shorted with the upper common electrode 9, there is no potential difference between the pixel electrode 6 and the common electrode 9 in this region, and light is transmitted through this pixel, so that the entire pixel electrode 6 is seen as a bright spot. Indicates.

한편, 상기 전도성 이물(21)은 화소 전극(6) 상의 소정 부위에 위치한다 하더라도 상기 화소 전극(6)의 각 화소 영역 내에 분리되지 않은 하나의 패턴으로 형성되므로, 전도성 이물(21)이 남은 부분만이 아니라 해당 화소 영역의 화소 전극(6) 전체가 쇼트되어, 해당 화소 전체가 모두 휘점으로 관찰된다.Meanwhile, even when the conductive foreign material 21 is located at a predetermined portion on the pixel electrode 6, the conductive foreign material 21 is formed in a single pattern that is not separated in each pixel area of the pixel electrode 6, so that the conductive foreign material 21 remains. Not only the entire pixel electrode 6 in the pixel region is short-circuited, but the entire pixel is observed with bright spots.

설명하지 않았지만, 횡전계형나 VA 모드의 경우는 일반적으로 노멀리 블랙 모드(Normally Black mode)로 구현하는 것으로, 전압이 인가되지 않은 조건에서는블랙 상태를 나타내고, 전압이 인가되는 조건에서는 화이트 상태를 나타낸다. Although not described, in the case of the transverse electric field type or the VA mode, it is generally implemented in a normally black mode, and shows a black state under a condition where no voltage is applied and a white state under a condition where a voltage is applied. .

횡전계형 모드는 전도성 이물이 상하부 기판 사이에 남아있다 하더라도, 하부 기판측에만 화소 전극과 공통 전극이 서로 교번하여 이격되어 형성되어 있어, 전압이 인가되는 화이트 상태의 조건에서도, 상하부 기판이 쇼트되는 염려가 없고, 또한, 전도성 이물이 남은 부위가 인접하는 전극과 부분적으로 쇼트가 되더라도 이는 국부적인 영역으로, 해당 부위가 등전위로 쇼트되어 부분적인 약휘점으로 나타나, TN 모드에 비해 거의 식별하기 어렵다.In the transverse electric field mode, even if conductive foreign material remains between the upper and lower substrates, the pixel electrode and the common electrode are formed to be alternately spaced apart from each other only on the lower substrate side, so that the upper and lower substrates may be shorted even under the condition of a white state where voltage is applied. In addition, even if the portion where the conductive foreign material remains is partially shorted with the adjacent electrode, this is a localized region, and the portion is shorted at an equipotential and appears as a partial weak point, which is harder to identify than the TN mode.

또한, VA 모드의 경우, 화소 전극이 하부 기판측에, 공통 전극이 상부 기판측에 형성되어, 화이트 상태(on state)에서 상기 상하부 기판 사이의 수직 전계에 의해 구동이 이루어질 경우, 해당 부위의 전도성 이물에 의해 전도성 이물이 남은 해당 화소의 상하부 기판 상의 전극(화소 전극 및 공통 전극)이 서로 쇼트될 수 있다. 이 경우, VA 모드는 노멀리 블랙 모드로, 전도성 이물이 남은 화소는 상하부 기판간에 등전위가 조성되어, 이 부위는 전계인가에 관계없이 항상 블랙 상태를 나타낸다. 이와 같이, 노멀리 블랙 모드의 VA 모드에 있어서, 전도성 이물이 남은 화소는 암점으로 관찰된다.Also, in the VA mode, when the pixel electrode is formed on the lower substrate side and the common electrode is formed on the upper substrate side, and the driving is performed by the vertical electric field between the upper and lower substrates in the white state, the conductivity of the corresponding region is achieved. The foreign material may short the electrodes (a pixel electrode and a common electrode) on the upper and lower substrates of the pixel in which the conductive foreign material remains. In this case, the VA mode is a normally black mode, in which pixels with conductive foreign matter remain in an equipotential between the upper and lower substrates, and this portion always shows a black state regardless of whether an electric field is applied. As described above, in the VA mode of normally black mode, the pixel in which the conductive foreign material remains is observed as a dark spot.

일반적으로, 사용자가 느끼기에는, 밝은 바탕에 일부 부위의 암점보다는 어두운 바탕에 휘점이 훨씬 잘 느껴질 수 있다. 이와 같은 면에서 여러 가지 구동 모드 중, TN 모드의 액정 표시 장치가 전도성 이물이 상하부 기판 사이에 남아있을 경우, 가장 휘점 불량인 심한 구현 모드로 판단할 수 있다.In general, the user may feel that a bright spot on a dark background is much better than a dark spot on a part of the bright background. In this regard, among the various driving modes, when the TN mode liquid crystal display remains between the upper and lower substrates, the TN mode liquid crystal display device may be determined to be the severe implementation mode having the poorest point of brightness.

상기와 같은 종래의 액정 표시 장치는 다음과 같은 문제점이 있다.The conventional liquid crystal display as described above has the following problems.

TN(Twisted Nematic) 모드에 있어서는, 하부 기판에 형성된 소정의 화소전극과 상부 기판에 형성된 공통 전극 사이에 전도성 이물이 남아있을 경우, 전도성 이물로 인해 상기 화소 전극과 공통 전극은 쇼트가 일어나고, 이러한 쇼트로 인해 상기 화소 전극 부위는 공통 전극과 화소 전극간의 전압 값이 같아져, 전압이 인가되는 온(on) 상태의 조건(블랙 상태)에서 전도성 이물이 남은 해당 화소 전극은 그 전체가 빛이 새는 현상이 발생한다.In twisted nematic (TN) mode, when conductive foreign material remains between a predetermined pixel electrode formed on a lower substrate and a common electrode formed on an upper substrate, the pixel electrode and the common electrode are shorted due to the conductive foreign matter. Therefore, the pixel electrode part has the same voltage value between the common electrode and the pixel electrode, so that the corresponding pixel electrode in which the conductive foreign material remains in the on state (black state) under which voltage is applied is leaked in its entirety. This happens.

TN모드와 달리 횡전계(IPS)형이나 VA(Vertical Allignment) 모드에 있어서는 이물이 발생한 부위가 부분적으로 밝게 보이는 것으로, 이물 발생 부위가 그리 큰 부분을 차지하지 않으나, TN 모드의 경우에는 전도성 이물이 화소 전극 상에 남을 때, 해당 화소 전극 전체가 도통되어 휘점이 용이하게 관찰할 수 있어, 사용자에게 시감 저하라는 문제가 상대적으로 다른 구동 모드에 비해 크다.Unlike in the TN mode, in the transverse electric field (IPS) or VA (Vertical Allignment) mode, the foreign body is partially visible. In the TN mode, the conductive foreign material does not occupy a large part. When it remains on the pixel electrode, the entire pixel electrode is turned on so that the bright point can be easily observed, so that the problem of deterioration of visibility for the user is relatively large compared to other driving modes.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로 전도성 이물이 상하부 기판 사이에 발생시 이로 인한 영향을 줄이기 위해 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법을 제공하는 데, 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a liquid crystal display and a method of manufacturing the same in order to reduce the effects caused by conductive foreign matter between the upper and lower substrates to solve the above problems.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정 표시 장치는 각각 서로 대응되는 부위에 복수개의 화소 영역이 정의되며, 서로 대향된 제 1 기판 및 제 2 기판과, 상기 제 1 기판 상에 서로 이격되어 상기 화소 영역에 형성된 복수개의 화소 전극과, 상기 제 2 기판 전면에 형성된 공통 전극과, 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층과, 상기 복수개의 화소 전극들 중 소정의 화소 전극에 남은 전도성 이물과, 상기 전도성 이물 주변부의 상기 화소 전극을 소정 폭 제거하여 화소 전극 홀과, 상기 전도성 이물이 형성된 부위에 대응되어, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 층 적어도 일측 기판 배면측에 배면으로부터 소정 두께로 제거되어 정의된 마이크로 홀 및 상기 마이크로 홀 내부에 형성된 광 차단 물질층을 포함하여 이루어짐에 그 특징이 있다.In the liquid crystal display of the present invention for achieving the above object, a plurality of pixel regions are defined at portions corresponding to each other, and are spaced apart from each other on the first and second substrates facing each other and on the first substrate. A plurality of pixel electrodes formed in the pixel region, a common electrode formed on an entire surface of the second substrate, a liquid crystal layer formed between the first and second substrates, and a conductive remaining on a predetermined pixel electrode among the plurality of pixel electrodes A predetermined width is removed from the foreign material and the pixel electrode in the periphery of the conductive foreign material so as to correspond to a pixel electrode hole and a portion where the conductive foreign material is formed, and a predetermined thickness from a rear surface of at least one substrate back side of the first substrate and the second substrate layer. It is characterized in that it comprises a micro-hole removed and a light blocking material layer formed inside the micro-hole.

상기 전도성 이물이 남은 화소 전극은 상기 화소 전극 홀 내부의 투명 전극 패턴과, 상기 화소 전극 홀 외부의 화소 전극 패턴으로 구분된다.The pixel electrode in which the conductive foreign material remains is divided into a transparent electrode pattern inside the pixel electrode hole and a pixel electrode pattern outside the pixel electrode hole.

상기 제 1 기판 상에 서로 교차하여 상기 화소 영역을 정의하는 게이트 라인 및 데이터 라인 및 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부에 형성된 박막 트랜지스터를 더 포함한다.The semiconductor device may further include a gate line and a data line crossing each other on the first substrate to define the pixel area, and a thin film transistor formed at an intersection of the gate line and the data line.

상기 제 2 기판 상에 상기 화소 영역을 제외한 영역에 대응되어 형성된 블랙 매트릭스층 및 상기 화소 영역에 대응되어 형성된 컬러 필터층을 더 포함한다.The display device further includes a black matrix layer formed on the second substrate to correspond to an area excluding the pixel area, and a color filter layer formed to correspond to the pixel area.

상기 전도성 이물은 공통 전극과 접한다.The conductive foreign material is in contact with the common electrode.

상기 광 차단 물질층은 블랙 안료이다.The light blocking material layer is a black pigment.

상기 광 차단 물질층은 유색 금속이다.The light blocking material layer is colored metal.

광 차단 물질층은 마이크로 홀 저부에 상기 소정 두께보다 작은 제 1 두께로 형성된다.The light blocking material layer is formed at the bottom of the micro hole with a first thickness smaller than the predetermined thickness.

상기 광 차단 물질층을 제외한 나머지 마이크로 홀 내부에 투명 물질이 채워진다.The transparent material is filled in the micro holes except for the light blocking material layer.

상기 투명 물질은 투명 안료이다.The transparent material is a transparent pigment.

상기 제 1, 제 2 기판의 배면에는 각각 제 1, 제2 편광판이 부착된다.First and second polarizing plates are attached to the rear surfaces of the first and second substrates, respectively.

또한, 동일한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법은 서로 대응되는 부위에 복수개의 화소 영역이 정의되며, 상기 각 화소 영역에 화소 전극이 형성된 제 1 기판과, 전면에 공통 전극이 형성된 제 2 기판 및 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 액정층이 형성된 액정 패널을 준비하는 단계와, 상기 액정 패널 내의 화소 전극들에 전도성 이물이 남아있는지를 검사하는 단계와, 상기 전도성 이물이 남은 소정의 화소 전극을 감지시, 상기 해당 화소 전극 중 상기 전도성 이물 주변부를 소정 폭 제거하여 화소 전극 홀을 형성하는 단계와, 상기 전도성 이물에 대응되는, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 중 어느 한 기판의 배면측에 소정 두께의 마이크로 홀을 형성하는 단계 및 상기 마이크로 홀에 광 차단 물질을 채우는 단계를 포함하여 이루어짐에 그 특징이 있다.In addition, in the method of manufacturing the liquid crystal display device of the present invention for achieving the same object, a plurality of pixel regions are defined in portions corresponding to each other, a first substrate having pixel electrodes formed in each of the pixel regions, and a common electrode formed on a front surface thereof. Preparing a liquid crystal panel in which a liquid crystal layer is formed between the formed second substrate and the first and second substrates; inspecting whether conductive foreign substances remain in the pixel electrodes in the liquid crystal panel; Detecting a predetermined pixel electrode to form a pixel electrode hole by removing a predetermined width of the periphery of the conductive foreign material among the corresponding pixel electrodes, and any one of the first substrate and the second substrate corresponding to the conductive foreign material Forming a microhole having a predetermined thickness on the back side of the substrate and filling the light blocking material into the microhole. It is characterized.

상기 광 차단 물질은 상기 마이크로 홀의 저부로부터 상기 소정 두께보다 작은 제 1 두께에 형성된다.The light blocking material is formed at a first thickness smaller than the predetermined thickness from the bottom of the micro hole.

상기 마이크로 홀 내부의 나머지 부위에 투명 물질이 채우는 단계를 더 포함한다.The method may further include filling the remaining portion of the micro hole with a transparent material.

상기 투명 물질은 투명 안료이다.The transparent material is a transparent pigment.

상기 마이크로 홀은 마이크로 드릴, 밀링 기기, 초음파 기기 및 레이저 중 어느 하나의 기기를 이용하여 상기 제 1, 제 2 기판 중 어느 한 기판을 소정 두께 제거하여 형성한다.The micro holes are formed by removing a predetermined thickness of any one of the first and second substrates by using any one of a micro drill, a milling machine, an ultrasonic device, and a laser.

상기 화소 전극 홀은 상기 제 1 기판의 배면측에서 상기 전도성 이물의 주변부로 레이저를 조사하여 조사부위의 화소 전극을 소정 폭 제거하여 형성한다.The pixel electrode hole is formed by irradiating a laser to a peripheral portion of the conductive foreign material from the back side of the first substrate by removing a predetermined width of the pixel electrode at the irradiation site.

상기 광 차단 물질층은 블랙 안료이다.The light blocking material layer is a black pigment.

상기 광 차단 물질층은 유색 금속이다.The light blocking material layer is colored metal.

또한, 동일한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법은 서로 대응되는 부위에 복수개의 화소 영역에 정의되며, 상기 각 화소 영역에 화소 전극이 형성된 제 1 기판과, 전면에 공통 전극이 형성된 제 2 기판 및 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 액정층이 형성된 액정 패널을 준비하는 단계와, 상기 제 1 기판 배면에 제 1 편광판을, 상기 제 2 기판 배면에 제 2 편광판을 부착하는 단계와, 상기 전도성 이물이 남은 소정의 화소 전극을 감지시, 상기 해당 화소 전극 중 상기 전도성 이물 주변부를 소정 폭 제거하여 화소 전극 홀을 형성하는 단계와, 상기 액정 패널 내의 화소 전극들에 전도성 이물이 남아있는지를 검사하는 단계와, 상기 전도성 이물에 대응되는, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 중 어느 한 기판과 이에 부착된 편광판의 배면측에 소정 두께의 마이크로 홀을 형성하는 단계 및 상기 마이크로 홀에 광 차단 물질을 채우는 단계를 포함하여 이루어짐에 또 다른 특징이 있다.In addition, the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention for achieving the same object is defined in a plurality of pixel areas in the areas corresponding to each other, the first substrate formed with a pixel electrode in each pixel area, and the common electrode on the front Preparing a liquid crystal panel in which a liquid crystal layer is formed between the formed second substrate and the first and second substrates, attaching a first polarizing plate to a rear surface of the first substrate, and attaching a second polarizing plate to a rear surface of the second substrate; And detecting a predetermined pixel electrode in which the conductive foreign material remains, forming a pixel electrode hole by removing a predetermined width around the conductive foreign material among the corresponding pixel electrodes, and remaining conductive foreign material in the pixel electrodes in the liquid crystal panel. Inspecting whether there is any one of the first substrate and the second substrate corresponding to the conductive foreign material, and a predetermined surface at a rear side of the polarizer attached thereto. Another feature is that it comprises the step of forming a micro hole of thickness and filling the light blocking material in the micro hole.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a liquid crystal display and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5a 및 도 5b는 각각 온휘점 불량이 발생된 액정 표시 장치의 평면도 및 이를 리페어한 본 발명의 액정 표시 장치를 나타낸 평면도이다.5A and 5B are plan views illustrating a liquid crystal display device in which a warm light point defect is generated and a liquid crystal display device of the present invention, which repairs the same.

노멀리 화이트 모드(Normally White mode)로 구동되는 TN 모드의 액정 표시 장치는, 어레이 공정(박막 트랜지스터 어레이 형성 공정, 컬러 필터 어레이 형성 공정) 중에 발생되거나 혹은 대기중에 남아있는 이물이 완전히 제거되지 않고, 그 중 전도성 이물(51)이 소정의 화소 전극(56) 상에 위치한 경우, 전압이 인가되는 조건(블랙 상태로 표시)에서, 전도성 이물(51) 부위는 상부 기판 상에 형성된 공통 전극(미도시)과 도통될 위험이 있으며, 도통이 일어날 경우, 도 5a와 같이, 전도성 이물(51) 부위만이 아니라 해당 화소 전극(56) 전체가 밝게 보이는 현상이 일어난다.In the TN mode liquid crystal display device driven in the normally white mode, foreign matters generated during the array process (thin film transistor array forming process, color filter array forming process) or remaining in the air are not completely removed. When the conductive foreign material 51 is located on the predetermined pixel electrode 56, under the condition that a voltage is applied (indicated by a black state), the conductive foreign material 51 portion is formed on a common electrode (not shown). ), And when conduction occurs, as shown in FIG. 5A, not only the conductive foreign material 51 but the entire pixel electrode 56 appears bright.

이러한 전도성 이물(51)이 발생한 부위를 리페어한 본 발명의 리페어가 적용된 액정 표시 장치는, 상기 화소 전극의 전도성 이물 주변부를 소정 폭으로 레이저를 이용하여 뚫어주어 상기 전도성 이물 부위를 주위로부터 격리시키고, 격리된 전도성 이물 부위에 대응되는 부위의 기판의 배면측에 마이크로 홀을 형성한 후, 상기 마이크로 홀 내부에 소정의 블랙 안료를 채워, 상기 전도성 이물 부위가 상부 공통 전극과 쇼트되어 발생되는 밝음 현상을 차단하여, 도 5b와 같이, 전압이 인가되는 조건에서 전체 화소가 블랙 상태(black state)로 관찰된다.In the liquid crystal display device to which the repair of the present invention, in which the conductive foreign material 51 is generated, is repaired, a peripheral portion of the conductive foreign material of the pixel electrode is drilled at a predetermined width using a laser to isolate the conductive foreign material area from the surroundings. After forming a micro hole in the back side of the substrate of the portion corresponding to the isolated conductive foreign material portion, and filled with a predetermined black pigment inside the micro hole, the bright foreign phenomenon caused by the conductive foreign material portion is shorted with the upper common electrode By blocking, as shown in FIG. 5B, all pixels are observed in a black state under a condition where a voltage is applied.

이하에서는, 본 발명의 액정 표시 장치에 적용되는 리페어 방법에 대해 자세히 설명한다.Hereinafter, the repair method applied to the liquid crystal display of the present invention will be described in detail.

도 6a 및 도 6b는 각각 리페어 공정이 적용된 본 발명의 액정 표시 장치의 평면도 및 단면도이며, 도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 액정 표시 장치에 적용되는 리페어 공정을 나타낸 단면도이다.6A and 6B are plan and cross-sectional views of a liquid crystal display of the present invention to which a repair process is applied, respectively, and FIGS. 7A to 7C are cross-sectional views illustrating a repair process applied to the liquid crystal display of the present invention.

도 6a 및 도 7a와 같이, 먼저, 박막 트랜지스터 어레이 공정이 완료된 하부 기판(50)과, 컬러 필터 어레이 공정이 완료된 상부 기판(70)을 준비한다. 이 때, 상기 박막 트랜지스터 어레이 공정은, 상기 하부 기판(50) 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인(미도시) 및 데이터 라인(미도시)과, 상기 화소 영역에 대응되어 형성된 화소 전극(56)을 포함하여 이루어진 박막 트랜지스터 어레이의 형성을 의미하며, 상기 컬러 필터 어레이 공정은, 상기 상부 기판(70) 상에 화소 영역을 제외한 영역에 대응되어 형성된 블랙 매트릭스층(71)과, 상기 화소 영역에 대응되어 형성된 컬러 필터층(72) 및 상기 상부 기판(70) 전면에 형성된 공통 전극(73)을 포함하는 컬러 필터 어레이의 형성을 의미한다. 6A and 7A, first, a lower substrate 50 on which a thin film transistor array process is completed and an upper substrate 70 on which a color filter array process is completed are prepared. In this case, the thin film transistor array process includes a gate line (not shown) and a data line (not shown) that cross each other on the lower substrate 50 to define a pixel area, and a pixel electrode formed to correspond to the pixel area. And a black matrix layer 71 formed on the upper substrate 70 to correspond to a region excluding the pixel region, and the pixel. This refers to the formation of a color filter array including a color filter layer 72 formed corresponding to an area and a common electrode 73 formed on the entire upper substrate 70.

한편, 상기 하부 기판(50) 상에는 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부에 박막 트랜지스터(미도시)가 더 형성되며, 상기 게이트 라인과 데이터 라인간의 층간에 게이트 절연막(미도시)이 더 형성되며, 상기 데이터 라인과 화소 전극(56)의 층간에 보호막(미도시)이 더 형성된다.On the other hand, a thin film transistor (not shown) is further formed at the intersection of the gate line and the data line on the lower substrate 50, and a gate insulating film (not shown) is further formed between the layers between the gate line and the data line. A passivation layer (not shown) is further formed between the data line and the pixel electrode 56.

이어, 컬러 필터 어레이가 형성된 상부 기판(70)을 반전한 후, 상기 하부 기판(50)을 이와 대향시킨 후, 이를 합착하여 액정 패널을 형성한다. 이 경우, 합착은 상기 상하부 기판(70, 50)의 외곽부에 씰 패턴(미도시)을 형성하여 이루어진다. 한편, 상기 액정 패널의 상하부 기판(70, 50) 사이에 층에는 액정층(73)이 형성되는데, 이와 같은 액정층(73)은 씰 패턴의 소정의 액정 주입구를 남겨두고, 상하부 기판을 합착한 후, 상기 액정 주입구 측으로 액정을 주입하여 형성하거나, 혹은 상 기 상부 기판(70)을 반전하기 전 액정을 하부 기판(50) 소정 부위에 적하시킨 후, 상기 상하부 기판(70, 50)을 합착시켜, 액정이 액정 패널의 외곽부까지 충진되도록 하여 형성한다.Subsequently, after inverting the upper substrate 70 on which the color filter array is formed, the lower substrate 50 is opposed thereto, and then bonded to form the liquid crystal panel. In this case, the bonding is performed by forming a seal pattern (not shown) on the outer portions of the upper and lower substrates 70 and 50. Meanwhile, a liquid crystal layer 73 is formed in a layer between the upper and lower substrates 70 and 50 of the liquid crystal panel, and the liquid crystal layer 73 leaves a predetermined liquid crystal injection hole of a seal pattern and bonds the upper and lower substrates together. After the liquid crystal is injected into the liquid crystal injection hole, the liquid crystal is dropped into a predetermined portion of the lower substrate 50 before the upper substrate 70 is inverted, and then the upper and lower substrates 70 and 50 are bonded to each other. The liquid crystal is formed to fill the outer portion of the liquid crystal panel.

이와 같이, 형성된 액정 패널 내의 소정 부위에 전도성 이물(51)이 남아있고, 이로 인해 전압이 인가되는 온 상태(블랙 상태)에서 온휘점이 발생하는 문제점을 해결하도록, 본 발명의 액정 표시 장치가 제안된다.As described above, the liquid crystal display device of the present invention is proposed to solve the problem in which the conductive foreign material 51 remains in a predetermined portion of the formed liquid crystal panel, whereby the on luminance point occurs in the on state (black state) to which a voltage is applied. .

상술한 바와 같이, 형성된 액정 패널은 소정의 전압을 인가하는 과정을 통해 상기 액정 패널 내의 화소 전극들에 전도성 이물이 남아있는지를 검사하는 단계를 거친다. 이 경우, 상기 액정 패널은 노멀리 화이트 모드로 형성된 것으로, 전압이 인가되었을 때, 블랙 상태를 나타내어야 할 것으로, 전압 인가시 액정 패널 상의 소정 부위가 휘점으로 관찰시 이 부위에 전도성 이물(51)이 있는 것으로 판단한다. 이와 같이, 전도성 이물(51)에 대한 검사 후, 이로 인한 휘점을 가리워주는 일련의 공정 후 휘점 리페어 공정이라 하며, 이하에서는 이러한 휘점 리페어 공정에 대해 설명한다.As described above, the formed liquid crystal panel is subjected to a step of inspecting whether conductive foreign substances remain in the pixel electrodes in the liquid crystal panel by applying a predetermined voltage. In this case, the liquid crystal panel is formed in a normally white mode, and when the voltage is applied, the liquid crystal panel should be in a black state. I think there is. As described above, after the inspection of the conductive foreign material 51, it is referred to as a series of post-curing point repair processes that cover the resulting bright spots, which will be described below.

이와 같이, 전도성 이물(51)이 발생했을 경우, 도 6a 및 도 7a와 같이, 전도성 이물(51) 부위를 주변으로부터 격리하도록, 하부 기판(50) 측에서 레이저를 이용하여, 상기 전도성 이물(51) 부위 둘레에 소정 폭의 화소 전극 홀(57)을 뚫는다. 이 경우, 상기 홀(57)은 상기 투명 전극 성분만을 태울 정도의 에너지로 레이저를 화소 전극(56)이 형성된 하부 기판(50) 배면측에 조사하여 형성하는 것으로, 이러한 레이저 조사에 의해 전도성 이물(51)이 남은 해당 화소 전극(56)은 전도성 이물 (51)이 남은 투명 전극 패턴(56b)과, 상기 화소 전극홀(57)에 의해 이격되는 화소 전극(56a)으로 구분된다. 상기 화소 전극(56a)은 전압이 인가되는 조건에서 타 화소 전극(56)과 같이, 정상적으로 화소 전압 신호가 인가되며, 상기 투명 전극 패턴(56b)은 전도성 이물(51)의 개재에 의해 상부의 공통 전극(미도시)과 부분적으로 쇼트된다.As such, when the conductive foreign material 51 is generated, as shown in FIGS. 6A and 7A, the conductive foreign material 51 is formed by using a laser on the lower substrate 50 side so as to isolate the conductive foreign material 51 from the surroundings. A pixel electrode hole 57 of a predetermined width is drilled around the region. In this case, the hole 57 is formed by irradiating a laser to the back side of the lower substrate 50 on which the pixel electrode 56 is formed with energy enough to burn only the transparent electrode component. The pixel electrode 56 having the remaining 51 is divided into a transparent electrode pattern 56b having the conductive foreign material 51 remaining therefrom and a pixel electrode 56a spaced apart from the pixel electrode hole 57. Like the other pixel electrode 56, the pixel electrode 56a is normally applied with a pixel voltage signal under the condition that a voltage is applied, and the transparent electrode pattern 56b is formed in the upper part by interposing a conductive foreign material 51. Partially shorted with an electrode (not shown).

이어, 도 6b 및 도 7b와 같이, 상기 하부 기판(50) 배면측에 상기 투명 전극 패턴(56b)을 가리는 정도의 폭으로 마이크로 홀(60)을 형성한다. 이 경우, 상기 마이크로 홀(60)의 폭은 상기 투명 전극 패턴(56b)의 폭과 같거나 이보다 약간 크게 형성한다. 이는, 상기 투명 전극 패턴(56b)은 전도성 이물(51)에 의한 영향으로 상기 공통 전극(73)과 항상 쇼트되어, 화이트 상태를 나타내기 때문이다.6B and 7B, the micro holes 60 are formed on the rear surface of the lower substrate 50 with a width that covers the transparent electrode pattern 56b. In this case, the width of the micro holes 60 is equal to or slightly larger than the width of the transparent electrode pattern 56b. This is because the transparent electrode pattern 56b is always shorted with the common electrode 73 under the influence of the conductive foreign material 51, and thus exhibits a white state.

상기 마이크로 홀(60)은 마이크로 드릴(micro drill), 밀링 기기(milling machine), 혹은 레이저(laser)나 초음파 기계(ultrasonic machine)를 이용하여 상기 하부 기판(50)의 배면으로부터 소정 깊이 뚫어 형성한다. 상기 마이크로 홀(60)은 상기 투명 전극 패턴(56b)을 포함할 수 있을 정도의 크기로 형성한다. 이 경우, 마이크로 홀(60)의 형상은 마이크로 드릴을 이용한 경우에는, 상기 마이크로 드릴의 이동 방향이 수직 방향으로, 마이크로 드릴링(micro drilling)을 진행한 후, 마이크로 홀의 단면 형상은 원형에 가까울 것이고, 밀링(milling ) 기기를 이용한 경우에는, 상기 밀링의 이동 방향이 상하, 좌우, 전후가 모두가 가능하여, 그 홀의 단면 형상은 임의로 지정 가능할 것이다. 그 외에 레이저나 초음파 기기를 이용한 경우에는, 조사 혹은 투사 영역 및 세기에 따라 두께 및 형상이 결정될 것이다.The micro holes 60 are formed by drilling a predetermined depth from the rear surface of the lower substrate 50 using a micro drill, a milling machine, or a laser or an ultrasonic machine. . The micro holes 60 are formed to have a size sufficient to include the transparent electrode pattern 56b. In this case, when the shape of the micro holes 60 is used, the cross direction of the micro holes will be close to a circular shape after the micro drilling is performed in the direction in which the movement direction of the micro drills is vertical. In the case of using a milling machine, the movement direction of the milling can be up, down, left, and right, and the cross section shape of the hole can be arbitrarily designated. In addition, in the case of using a laser or an ultrasonic device, the thickness and shape will be determined according to the irradiation or projection area and intensity.

이와 같이, 상기 하부 기판(50)의 배면으로부터 소정 두께(하부 기판의 표면이 노출되지 않을 정도)로 마이크로 홀(60)을 형성한다. 예를 들어, 상기 하부 기판(50)의 두께가 0.5 ~0.7mm 정도일 경우, 상기 마이크로 홀(60)의 두께는 상기 하부 기판(50) 두께의 반 정도 혹은 그 전후로 한다. 예를 들어, 상기 마이크로 홀(60) 측에서 남는 하부 기판(50) 두께는 약 0.05~0.2mm가 바람직할 것이다. 이 때, 상기 마이크로 홀(60)은 상기 하부 기판(50) 하부측에 백 라이트 유닛(미도시)이 위치할 경우, 정면 외에 측면으로 빠져나가는 광의 양을 감안하여 그 두께와 폭을 조절하여 형성한다.In this way, the micro holes 60 are formed from the rear surface of the lower substrate 50 to a predetermined thickness (so that the surface of the lower substrate is not exposed). For example, when the thickness of the lower substrate 50 is about 0.5 to 0.7 mm, the thickness of the micro holes 60 is about half or about the thickness of the lower substrate 50. For example, the thickness of the lower substrate 50 remaining on the micro hole 60 side may be about 0.05 to 0.2 mm. In this case, when the backlight unit (not shown) is positioned below the lower substrate 50, the micro holes 60 are formed by adjusting the thickness and width of the micro holes 60 in consideration of the amount of light exiting from the front side. do.

이 때, 상기 마이크로 홀(60)이 저부(底部)에 제 1 깊이로 블랙 안료 물질을 채워 경화시켜 블랙 안료층(61)을 형성하고, 이어, 굳혀진 블랙 안료층(61) 상부, 즉, 상기 블랙 안료층(61)을 제외한 상기 마이크로 홀(60) 내부에 투명 안료 물질로 채워 투명 안료층(62)을 형성한다. 이 경우, 상기 투명 안료층(62)의 두께는 상기 마이크로 홀(60)의 깊이에 제 1 깊이를 뺀 값에 해당한다. 이 경우, 전압이 인가되는 조건에서, 상기 전도성 이물(51)이 남은 투명 전극 패턴(56b) 및 그 주변의 화소 전극(56a)에 대하여, 상기 하부 기판(50)을 통과하여 정면으로 투과하는 광은 상기 마이크로 홀(60) 저부의 블랙 안료층(61)에 의해 차단되고, 측면을 투광하는 나머지 광이 마이크로 홀(60) 내의 투명 안료층(62)를 통해 상기 전도성 이물 주변의 화소 전극(56a)을 투과한다. 여기서, 상기 블랙 안료층(61)은 차광성의 성질을 갖는 물질의 여타의 물질로 대체될 수 있으며, 예를 들어, 차광성 유색 금속으로 대체될 수 있을 것이다. 또한, 상기 투명 안료층(62)은 투명성을 갖는 여타의 물질 로 대체될 수 있을 것이다.At this time, the micro holes 60 fill the bottom of the black pigment material to a first depth to cure the black pigment layer 61 to form a black pigment layer 61. The transparent pigment layer 62 is formed in the micro holes 60 except for the black pigment layer 61 by filling with a transparent pigment material. In this case, the thickness of the transparent pigment layer 62 corresponds to the value of the depth of the micro hole 60 minus the first depth. In this case, the light transmitted through the lower substrate 50 to the front of the transparent electrode pattern 56b and the pixel electrode 56a surrounding the conductive foreign material 51 remaining under the condition where the voltage is applied. Is blocked by the black pigment layer 61 at the bottom of the micro hole 60, and the remaining light that transmits the side surface is passed through the transparent pigment layer 62 in the micro hole 60. Through). Here, the black pigment layer 61 may be replaced with other materials of a material having a light-shielding property, for example, may be replaced with a light-shielding colored metal. In addition, the transparent pigment layer 62 may be replaced with other materials having transparency.

여기서, 상기 마이크로 홀(60)에 블랙 안료층(61) 혹은 투명 안료층(62)을 형성시에는 잉크젯 장비를 이용하여 상기 마이크로 홀(60)에 해당 물질(블랙 안료물질 혹은 투명 안료 물질)을 직접 도팅(dotting)하는 방식으로 진행하거나, 혹은 상기 마이크로 홀(60)에 마이크로 홀 내부까지 내려올 수 있는 관이 긴 노즐을 이용하여 해당 물질을 형성할 수 있을 것이다. 후자의 경우, 상기 블랙 안료 물질은 상기 노즐을 마이크로 홀(60) 저부까지 대응되도록 하여, 블랙 안료 물질이 마이크로 홀(60) 측벽에 묻지 않고, 저부에만 형성되도록 한다. 또는 상기 블랙 안료 물질은 스프레이(미도시)를 통해 상기 마이크로 홀(60)에 분무하여 형성될 수도 있다. 이 경우, 상기 스프레이 내부 용기에 상기 블랙 안료 물질을 넣은 후, 상기 마이크로 홀(60)이 형성된 기판의 배면측에 분무하게 되는데, 이러한 공정시 상기 스프레이가 마이크로 홀(60)과 정확히 정렬되도록 하고, 분무되어 상기 기판 상에 남은 블랙 안료 물질은 기판 표면을 닦아내거나 혹은 빨아들어 상기 마이크로 홀(60)내부에만 남기고 상기 기판 표면에서 제거하도록 한다. 또는 도시되지는 않았지만, 상기 블랙 안료층(61)을 상기 마이크로 홀(60)에 형성하는 방법으로, 블랙 안료 물질을 남긴 후 상기 마이크로 홀(60) 주변부를 포함한 상기 기판 배면에 진공캡(미도시)을 씌워 상기 블랙 안료 물질의 외부와 상기 마이크로 홀(60) 내부의 기압차에 의해 상기 블랙 안료 물질이 마이크로 홀(60) 내부에 채워지는 경우도 생각해볼 수 있을 것이다.Here, when the black pigment layer 61 or the transparent pigment layer 62 is formed in the micro holes 60, a corresponding material (black pigment material or transparent pigment material) is applied to the micro holes 60 by using inkjet equipment. Proceeding by the direct dotting (dotting) method, or the tube that can be lowered to the inside of the micro hole in the micro hole 60 may be formed by using a long nozzle. In the latter case, the black pigment material causes the nozzle to correspond to the bottom of the micro holes 60, so that the black pigment material is formed only at the bottom, rather than on the sidewalls of the micro holes 60. Alternatively, the black pigment material may be formed by spraying the micro holes 60 through a spray (not shown). In this case, after the black pigment material is put into the spray inner container, the spray is sprayed on the back side of the substrate on which the micro holes 60 are formed. In this process, the spray is aligned with the micro holes 60 precisely. The black pigment material that is sprayed and left on the substrate is wiped or sucked away from the substrate surface leaving only the inside of the micro holes 60. Alternatively, although not shown, a method of forming the black pigment layer 61 in the micro holes 60 may include a vacuum cap (not shown) on the back surface of the substrate including the periphery of the micro holes 60 after leaving the black pigment material. It may be considered that the black pigment material is filled in the micro holes 60 by the pressure difference between the outside of the black pigment material and the inside of the micro holes 60.

이 경우, 상기 마이크로 홀(60)에 블랙 안료층(61) 및 투명 안료층(62)을 형 성한 후에는, 상기 상부 기판(70) 표면에서 상기 전도성 이물(51) 부위를 관찰하면, 상기 블랙 안료층(61)의 영향으로 항상 블랙 상태로 관찰될 것이다. 이와 같이, 본 발명의 액정 표시 장치는 상기 전도성 이물(51)이 남은 부위를 주위로부터 격리하고, 이를 블로킹하여, 온휘점을 암점 처리하는 방법을 취하고 있다.In this case, after the black pigment layer 61 and the transparent pigment layer 62 are formed in the micro holes 60, when the conductive foreign material 51 is observed on the surface of the upper substrate 70, the black Under the influence of the pigment layer 61 will always be observed in a black state. As described above, the liquid crystal display of the present invention adopts a method of isolating the remaining portion of the conductive foreign material 51 from the surroundings, blocking them, and darkening the warm light point.

도 7c와 같이, 상기 리페어가 이루어진 액정 패널의 상하부 기판(70, 50)의 배면측에 각각 제 1 편광판(81) 및 제 2 편광판(82)을 형성한다.As illustrated in FIG. 7C, first and second polarizing plates 81 and 82 are formed on the rear surfaces of the upper and lower substrates 70 and 50 of the repaired liquid crystal panel.

한편, 상술한 실시예에서, 상기 마이크로 홀(60)은 설명된 바와 같이, 상기 하부 기판(50)의 배면측에 형성될 수 있고, 혹은 상기 전도성 이물(51)에 대응되는 부위의 상부 기판(70)의 배면측에 형성될 수도 있다.On the other hand, in the above-described embodiment, as described above, the micro hole 60 may be formed on the back side of the lower substrate 50, or the upper substrate of the portion corresponding to the conductive foreign material 51 ( 70) may be formed on the back side.

도 8a 내지 도 8c는 리페어 공정에서 마이크로 홀 형성시 이용되는 드릴 비트의 여러 형상을 나타낸 개략 단면도이다.8A to 8C are schematic cross-sectional views showing various shapes of a drill bit used when forming micro holes in a repair process.

도 8a 내지 도 8c는 리페어 공정에서 상기 전도성 이물이 발생된 기판의 배면측에 마이크로 홀을 형성시 이용되는 마이크로 드릴(micro drill)의 비트(bit) 형상의 수직 단면을 나타낸다. 이 경우, 도 8a의 경우에는, 비트(80a)가 갖는 각도(θ1)가 180° 이내인 것을 나타내고, 도 8b의 경우에는, 비트(80b)가 갖는 각도가 180°가 되는 것을 나타내고, 도 8c의 경우에는 비트(80c)가 갖는 각도(θ2)가 180°를 넘게 되는 것을 나타낸다. 8A to 8C illustrate a vertical cross section of a bit shape of a micro drill used when forming micro holes in the back side of the substrate on which the conductive foreign matter is generated in the repair process. In this case, in the case of FIG. 8A, the angle θ 1 of the bit 80a is within 180 °, and in the case of FIG. 8B, the angle of the bit 80b is 180 °, and FIG. In the case of 8c, it indicates that the angle θ 2 of the bit 80c exceeds 180 °.

한편, 마이크로 드릴링은 상기 드릴 비트를 기판면 대비 상기의 드릴 비트를 구비하여, 기판에 형성하고자 하는 홀 형성 부위에 넣었다 뺐다 하여 방아찍듯이 가공하여 소정 깊이의 마이크로 홀을 형성한다.On the other hand, in the micro drilling, the drill bit is provided with the drill bit relative to the substrate surface, and inserted into and removed from the hole forming portion to be formed on the substrate to form a micro hole having a predetermined depth.

이러한 비트의 형상 중, 평탄한 도 8a와 같이, 뽀죡한 드릴 비트(80a)인 경우에는, 가공성 및 글래스 칩(glass chip)의 배출이 용이하나, 마이크로 홀 시작부에 크랙(crack)이 발생할 가능성이 크며, 특정 각도의 시야에서도 완전히 블록킹되게 하려면 더 깊게 뚫어야 하는 난점이 있다.In the shape of such a bit, as shown in FIG. 8A, when the drill bit 80a is flat, the workability and the ejection of the glass chip are easy, but there is a possibility that a crack occurs at the beginning of the micro hole. It is large and requires a deeper drilling to ensure complete blocking even at a certain angle of view.

도 8b와 같이, 평평한 드릴 비트(80b)의 경우에는, 평평한 바닥 형성으로 뾰족한 드릴 비트(8a의 경우) 대비 마이크로 홀 깊이가 작아도 블로킹(blocking)에 유리하다. 그 형상으로 인해, 기판에 대응되는 접촉 부위가 커, 마이크로 홀 시작점에서 드릴 비트가 부러질 가능성이 크고, 글래스 칩 배출이 불리하다.As shown in FIG. 8B, in the case of the flat drill bit 80b, even when the micro hole depth is small compared to the pointed drill bit (in the case of 8a) due to the flat bottom formation, it is advantageous for blocking. Due to its shape, the contact portion corresponding to the substrate is large, the drill bit is likely to be broken at the micro hole starting point, and the glass chip discharge is disadvantageous.

도 8c와 같이, 역각의 드릴 비트(80c)의 경우에는, 평평한 바닥 형성으로 뾰족한 드릴 비트(80a) 대비 마이크로 홀 깊이가 작아도 블록킹에 유리하다. 마이크로 홀 시작점 크랙(crack) 발생 가능성이 낮다. 글래스 칩의 배출 정도는 위의 두 비트의 중간 정도 특성을 가진다.As shown in FIG. 8C, in the case of the reverse drill bit 80c, even if the micro hole depth is small compared to the pointed drill bit 80a due to the flat bottom, it is advantageous for blocking. Micro hole starting point cracks are less likely to occur. The degree of ejection of the glass chip is in the middle of the two bits above.

이와 같이, 마이크로 홀(60)의 형성하고자 하는 높이와 폭에 따라, 드릴 비트의 형상을 변경하여 이용할 수 있으며, 여러 가지 드릴 비트 형상 중, 역각의 드릴 비트(80c)가 마이크로 홀(60)의 저부 중앙부위에 약간 볼록하게 솟아올라, 투명안료층(62)을 통과한 측면광이 통과함이 보다 유리하고, 또한, 작은 깊이로 형성하여도 광의 블로킹(blocking)이 가능하고, 또한, 드릴링(drilling)시 크랙(crack) 발생 가능성이 낮다는 점에서 상술한 2가지 드릴 비트 형상에 비해 유리한 점이 부각된다.In this way, the shape of the drill bit can be changed and used according to the height and width to be formed of the micro hole 60. Among the various drill bit shapes, the reverse drill bit 80c is formed of the micro hole 60. It rises slightly convexly to the bottom center part, and it is more advantageous that the side light passing through the transparent pigment layer 62 passes, and the light can be blocked even when formed at a small depth. Advantages over the two drill bit shapes described above are that they are less likely to cause cracks during drilling.

이러한 마이크로 드릴링은, 소정 폭을 형성시, 한 부위만을 상하 운동을 진행하여, 소정 깊이로 뚫고, 이어, 주변부로 이동하여 다시 상하 운동으로 소정 깊이로 뚫는 것이 아니라, 1회 상하 운동에서 뚫고자 하는 깊이는 약 10㎛~100㎛ 깊이의 제 1 깊이로 정하여, 형성하고자 하는 마이크로 홀 폭 내에서 수평 이동하며, 상기 제 1 깊이(10㎛~100㎛ 깊이)로 뚫으며, 마이크로 홀 폭 내에서 상기 제 1 깊이를 제거를 완료한 후, 다시 제 1 깊이로 들어간 면으로부터 다시 제 1 기판으로 뚫는 동작을 진행함을 반복하여, 소정 깊이의 마이크로 홀 형성을 완성한다. 이를 통해 비트의 손상을 최소화하고, 안정적으로 소정 모양의 마이크로 홀을 마이크로 드릴을 이용하여 형성할 수 있을 것이다.In the micro drilling, when a predetermined width is formed, only one part moves up and down, and drills to a predetermined depth, and then moves to the periphery and drills to a predetermined depth by moving up and down again. The depth is set to a first depth of about 10 μm to 100 μm, horizontally moved within the width of the micro hole to be formed, and drilled to the first depth (10 μm to 100 μm deep), and within the micro hole width. After the removal of the first depth is completed, the operation of punching the first depth back to the first substrate is repeated to complete formation of the micro holes having a predetermined depth. Through this, it is possible to minimize the damage of the bit and stably form a micro hole of a predetermined shape using a micro drill.

도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 리페어 공정이 적용된 액정 표시 장치를 나타낸 단면도이다.9 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device to which a repair process according to another exemplary embodiment of the present invention is applied.

도 9와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 리페어 공정이 이루어진 액정 표시 장치는 리페어 처리가 편광판의 형성 후 이루어짐을 나타내는 것이다.As shown in FIG. 9, the liquid crystal display device having the repair process according to another exemplary embodiment of the present invention indicates that the repair process is performed after the formation of the polarizing plate.

즉, 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치는 서로 대향되어 형성된 하부 기판(100) 및 상부 기판(110)과, 상기 상하부 기판(110, 100) 사이에 충진된 액정층(130)과, 하부 기판(100)에 형성된 화소 전극(106) 상부 소정 부위에 남은 전도성 이물(151)과, 상기 상하부 기판(110, 100)의 배면에 각각 형성된 제 1 편광판(141) 및 제 2 편광판(142)을 포함하여 이루어진다.That is, the liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention may include a lower substrate 100 and an upper substrate 110 formed to face each other, a liquid crystal layer 130 filled between the upper and lower substrates 110 and 100, The conductive foreign material 151 remaining on a predetermined portion of the upper portion of the pixel electrode 106 formed on the lower substrate 100, and the first polarizing plate 141 and the second polarizing plate 142 formed on the rear surfaces of the upper and lower substrates 110 and 100, respectively. It is made, including.

여기서, 상기 하부 기판(100)은, 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인(미도시) 및 데이터 라인(미도시)과, 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교 차부에 형성된 박막 트랜지스터(미도시)와, 상기 화소 영역에 형성된 화소 전극(106)을 포함한다.The lower substrate 100 may include a gate line (not shown) and a data line (not shown) that cross each other to define a pixel area, and a thin film transistor (not shown) formed at an intersection of the gate line and the data line. And a pixel electrode 106 formed in the pixel region.

그리고, 상기 상부 기판(110)은 상기 화소 영역을 제외한 영역에 대응되어 형성된 블랙 매트릭스층(111)과, 상기 화소 영역에 대응되어 형성된 컬러 필터층(112)과, 상기 상부 기판(110) 전면에 형성된 공통 전극(113)을 포함한다.In addition, the upper substrate 110 may include a black matrix layer 111 formed corresponding to an area excluding the pixel area, a color filter layer 112 formed corresponding to the pixel area, and an entire surface of the upper substrate 110. The common electrode 113 is included.

여기서, 상기 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치는, 서로 대향된 상부 기판(110)과, 하부 기판(100) 및 이 사이에 충진된 액정층(130)을 포함하여 액정 패널을 형성 후, 휘점 판단을 하여 상기 액정 패널 내에 전도성 이물이 남아 있는 부위를 관찰하고, 이에 따라 전도성 이물이 관찰되면, 레이저를 이용하여 상기 전도성 이물(151) 주변부에 화소 전극(106)을 소정 폭 제거하여 화소 전극 홀(107)을 형성하여, 전도성 이물(151)이 남은 투명 전극 패턴(106b)과 주변의 화소 전극(106a)으로 나누어 구분한다. 여기서, 상기 화소 전극 홀(107)의 형성을 편광판 형성 전에 한 이유는 레이저 광을 하부 기판(100) 혹은 상부 기판(110)의 배면에서 해당 전도성 이물(151)의 주변부에 투과시킬 때, 편광판이 개재될 경우, 광이 왜곡이 있을 수 있기 때문에 이를 방지하기 위해서이다.Here, the liquid crystal display according to another embodiment of the present invention, after forming the liquid crystal panel including the upper substrate 110 and the lower substrate 100 and the liquid crystal layer 130 filled therebetween facing each other When the conductive foreign matter remains in the liquid crystal panel by observing the bright point, and the conductive foreign material is observed accordingly, the pixel electrode 106 is removed by a predetermined width around the conductive foreign material 151 using a laser to remove the pixel. An electrode hole 107 is formed, and the conductive foreign material 151 is divided into a remaining transparent electrode pattern 106b and a peripheral pixel electrode 106a. The reason for forming the pixel electrode hole 107 before forming the polarizing plate is that the polarizing plate is formed when the laser beam is transmitted to the periphery of the conductive foreign material 151 on the rear surface of the lower substrate 100 or the upper substrate 110. When intervening, this is to prevent this because light may be distorted.

이어, 각각 상부 기판(110)과 하부 기판(100)의 배면에 제 1 편광판(141), 제 2 편광판(142)을 형성한 후, 이후의 리페어 공정을 진행한다. Subsequently, the first polarizing plate 141 and the second polarizing plate 142 are formed on the rear surfaces of the upper substrate 110 and the lower substrate 100, respectively, and then the repair process is performed.

이러한 리페어 공정은 다음과 같다.This repair process is as follows.

상기 전도성 이물(151)에 대응되는 상기 상부 기판(110) 혹은 하부 기판(100)의 해당 부위의 배면에는 소정 깊이의 마이크로 홀(120)이 형성되며, 상기 마 이크로 홀(120) 내부는 차광성의 물질, 예를 들어, 블랙 안료나, 차광성 유색 금속이 채워져 있다. A micro hole 120 having a predetermined depth is formed on a rear surface of the upper substrate 110 or the lower substrate 100 corresponding to the conductive foreign material 151, and the inside of the micro hole 120 has a light shielding property. The substance of, for example, black pigment and light-shielding colored metal is filled.

여기서, 상기 마이크로 홀(120)은 해당 기판에 부착되어 있는 편광판(도시되어 있는 도면에서는 하부 기판(100)에 부착된 제 2 편광판(142))과 함께 해당 기판을 소정 깊이 마이크로 드릴링 등의 방법으로 제거하여 형성한다. 이러한 마이크로 홀(120)의 형성은 앞서 설명한 마이크로 홀 형성에 이용된 방법이 모두 적용될 수 있을 것이다. 다만, 이 경우에는, 상기 해당 마이크로 홀(120) 내부는 모두 차광성 물질(121)로만 채우는 것으로, 이는 상기 마이크로 홀(120) 내부에 블랙 안료/투명 안료의 이중층을 채울 경우, 상기 투명 안료를 통과한 측면광이 편광판을 거치지 않기 때문에, 편광판을 거치지 않은 측면광이 전도성 이물(151)이 발생한 주변 화소 전극(106)의 이상 구동을 일으키는 영향을 끼칠 수 있어, 이를 방지하고자 함이다.Here, the micro holes 120 together with the polarizing plate (the second polarizing plate 142 attached to the lower substrate 100 in the drawing shown) attached to the substrate by a method such as micro drilling a predetermined depth Removed to form. The formation of the micro holes 120 may be applied to all of the methods used for forming the micro holes. In this case, however, the inside of the microhole 120 is filled only with the light-shielding material 121. When the double layer of the black pigment / transparent pigment is filled in the microhole 120, the transparent pigment is filled. Since the side light that passes does not pass through the polarizing plate, the side light that does not pass through the polarizing plate may affect abnormal driving of the peripheral pixel electrode 106 in which the conductive foreign material 151 is generated.

본 발명의 액정 표시 장치는 여러 구동 모드 중 TN(트위스트 네마틱) 모드의 액정 표시 장치에 있어서, 하부 기판의 화소 전극과, 상부 기판의 공통 전극 사이에 전도성 이물이 남아있을 때, 온 상태에서 상하부 기판 상의 공통 전극 및 일 화소 전극을 통전시킴으로 인해 전도성 이물이 남은 해당 화소 전극 전체가 휘점으로 관찰되는 점을 해결하는 데 유용한 발명이다.In the liquid crystal display of the TN (twist nematic) mode among the various driving modes, the liquid crystal display of the present invention is the upper and lower parts in the on state when the conductive foreign material remains between the pixel electrode of the lower substrate and the common electrode of the upper substrate. The present invention is useful for solving the problem that the entire pixel electrode, in which conductive foreign matter remains, is observed as a bright point by energizing the common electrode and one pixel electrode on the substrate.

이를 위해, 전도성 이물이 남은 부분의 화소 전극을 레이저를 이용하여, 섬상으로 격리시켜, 해당 화소 전극 전체가 통전되는 현상을 방지하고, 소정 기판측 배면에 상기 섬상에 대응되는 부위를 블로킹하여 휘점 부위를 가리는 것이다.To this end, the pixel electrode of the portion where the conductive foreign material remains is isolated by using a laser to isolate the pixel electrode, thereby preventing the entire pixel electrode from being energized, and blocking the portion corresponding to the island image on the back side of the predetermined substrate side so as to brighten the site. To cover.

상기와 같은 본 발명의 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.The liquid crystal display of the present invention as described above and a method of manufacturing the same have the following effects.

첫째, TN 모드에 전도성 이물(conductive particle)에 의해 온휘점이 발생하였을 때 전도성 이물 주위의 투명 전극을 레이저로 이용하여 제거하여 부분휘점으로 만든 다음 이 부분만 마이크로 홀(micro hole)을 형성하고, 상기 마이크로 홀 저부에 차광성 물질을 채워 부분휘점 부위를 블로킹하는 리페어를 진행한 액정 표시 장치로, 특히, TN 모드에 다발하는 온 휘점 불량을 방지하여, 사용자에게 시감을 향상시킬 수 있다. 즉, 전도성 이물이 발생된 해당 화소 전극 중 전도성 이물이 남은 해당 부위만을 화소 전극 홀 형성을 통해 주위로부터 이격함으로써, 나머지 화소 전극에서는 정상적으로 전압 인가가 이루어져 정상 온/오프 구동이 가능하고, 화소 전극 홀 내부 전도성 이물 부위만 블로킹되어, 전체적으로 휘도 손실이 적다.First, when a warm point occurs due to a conductive particle in the TN mode, the transparent electrode around the conductive particle is removed using a laser to make a partial bright point, and then only this part forms a micro hole. In the liquid crystal display device in which a light blocking material is filled in the bottom of the micro hole to perform a partial blocking of the partial bright point region, in particular, it is possible to prevent a poor light bright spot caused in the TN mode, thereby improving the user's eyesight. That is, only a portion of the corresponding pixel electrode in which the conductive foreign matter has been generated is spaced apart from the surroundings through the formation of the pixel electrode hole, so that the remaining pixel electrodes are normally applied with voltage, thereby enabling normal on / off driving. Only internal conductive foreign material is blocked, resulting in low luminance loss as a whole.

둘째, 마이크로 홀을 형성시 역각의 드릴 비트를 이용함으로써, 작은 두께로 마이크로 홀을 형성시에도, 부분 휘점 부위의 정면 차광이 가능하고, 드릴 비트의 형상으로 마이크로 홀 저부가 볼록하게 형성되도록 유도되어 투명 안료를 통과하는 측면광이 효과적으로 투과될 수 있어, 광 손실이 적다.Second, by using an inverted drill bit when forming a micro hole, even when forming a micro hole with a small thickness, it is possible to block the front of the partial bright spot portion, and the micro hole bottom is convexly formed in the shape of the drill bit so that it is transparent. Side light passing through the pigment can be effectively transmitted, resulting in less light loss.

셋째, 액정 패널에 편광판이 부착된 상태에서도 리페어가 가능할 수 있다.Third, repair may be possible even when the polarizer is attached to the liquid crystal panel.

넷째, 궁극적으로 블랙 상태에서 휘점이 발생되는 불량 패널을 리페어 처리에 의해 양품화할 수 있어, 액정 패널 생산 수율을 높일 수 있는 효과가 있다.Fourth, the defective panel which ultimately produces a bright point in a black state can be mass-produced by a repair process, and there exists an effect which can improve the liquid-crystal panel production yield.

Claims (25)

각각 서로 대응되는 부위에 복수개의 화소 영역이 정의되며, 서로 대향된 제 1 기판 및 제 2 기판;A plurality of pixel regions defined at portions corresponding to each other, the first substrate and the second substrate facing each other; 상기 제 1 기판 상에 서로 이격되어 상기 화소 영역에 형성된 복수개의 화소 전극;A plurality of pixel electrodes spaced apart from each other on the first substrate and formed in the pixel area; 상기 제 2 기판 전면에 형성된 공통 전극;A common electrode formed on an entire surface of the second substrate; 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층;A liquid crystal layer formed between the first and second substrates; 상기 복수개의 화소 전극들 중 소정의 화소 전극에 남은 이물 주변부의 상기 화소 전극을 소정 폭 제거하여 형성된 화소 전극 홀;A pixel electrode hole formed by removing a predetermined width of the pixel electrode around a foreign material remaining on a predetermined pixel electrode among the plurality of pixel electrodes; 상기 이물이 형성된 부위에 대응되어, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 중 적어도 일측 기판 배면측에 배면으로부터 소정 두께로 제거되어 정의된 마이크로 홀; 및A microhole corresponding to a portion where the foreign material is formed, and defined to be removed to a predetermined thickness from a rear surface at a rear surface of at least one of the first substrate and the second substrate; And 상기 마이크로 홀 내부에 형성된 광 차단 물질층을 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And a light blocking material layer formed inside the micro hole. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 이물은 전도성인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.The foreign material is a liquid crystal display, characterized in that the conductive. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 전도성 이물은 공통 전극과 접하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.The conductive foreign material is in contact with the common electrode. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 이물이 남은 화소 전극은 상기 화소 전극 홀 내부의 투명 전극 패턴과, 상기 화소 전극 홀 외부의 화소 전극 패턴으로 구분되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.The pixel electrode in which the foreign material remains is divided into a transparent electrode pattern inside the pixel electrode hole and a pixel electrode pattern outside the pixel electrode hole. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 기판 상에 On the first substrate 서로 교차하여 상기 화소 영역을 정의하는 게이트 라인과 데이터 라인; 및A gate line and a data line crossing each other to define the pixel area; And 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부에 형성된 박막 트랜지스터를 더 포함한 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And a thin film transistor formed at an intersection of the gate line and the data line. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2 기판 상에 On the second substrate 상기 화소 영역을 제외한 영역에 대응되어 형성된 블랙 매트릭스층; 및A black matrix layer formed corresponding to an area except the pixel area; And 상기 화소 영역에 대응되어 형성된 컬러 필터층을 더 포함한 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And a color filter layer formed corresponding to the pixel area. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광 차단 물질층은 블랙 안료인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And the light blocking material layer is a black pigment. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광 차단 물질층은 유색 금속인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And the light blocking material layer is a colored metal. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 광 차단 물질층은 상기 마이크로 홀 저부로부터 상기 마이크로 홀의 깊이보다 작은 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.The light blocking material layer is formed to have a thickness smaller than the depth of the micro holes from the bottom of the micro holes. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 광 차단 물질층을 제외한 나머지 마이크로 홀 내부에 투명 물질이 채워진 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And a transparent material in the remaining micro holes except for the light blocking material layer. 제 10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 투명 물질은 투명 안료인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And the transparent material is a transparent pigment. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1, 제 2 기판의 배면에는 각각 제 1, 제2 편광판이 부착된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And a first polarizing plate and a second polarizing plate, respectively, attached to the rear surfaces of the first and second substrates. 서로 대응되는 부위에 복수개의 화소 영역에 정의되며, 상기 각 화소 영역에 화소 전극이 형성된 제 1 기판과, 전면에 공통 전극이 형성된 제 2 기판 및 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 액정층이 형성된 액정 패널을 준비하는 단계;A first substrate having pixel electrodes formed on each of the pixel regions, a second substrate having a common electrode formed on a front surface thereof, and a liquid crystal layer formed between the first and second substrates. Preparing a liquid crystal panel; 상기 액정 패널 내의 화소 전극들에 전도성 이물이 남아있는지를 검사하는 단계;Inspecting whether conductive foreign substances remain in the pixel electrodes in the liquid crystal panel; 상기 전도성 이물이 남은 소정의 화소 전극을 감지시, 상기 해당 화소 전극 중 상기 전도성 이물 주변부를 소정 폭 제거하여 화소 전극 홀을 형성하는 단계;Detecting a predetermined pixel electrode in which the conductive foreign material remains, and forming a pixel electrode hole by removing a predetermined width around the conductive foreign material among the corresponding pixel electrodes; 상기 전도성 이물에 대응되는, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 중 어느 한 기판의 배면측으로부터 소정 두께의 마이크로 홀을 형성하는 단계; 및 Forming micro holes having a predetermined thickness from a back side of one of the first and second substrates corresponding to the conductive foreign material; And 상기 마이크로 홀에 광 차단 물질을 채우는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And filling a light blocking material in the micro holes. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 광 차단 물질은 상기 마이크로 홀의 저부로부터 상기 마이크로 홀의 깊이보다 작은 두께로 채워 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And the light blocking material is formed to fill a thickness smaller than a depth of the micro hole from a bottom of the micro hole. 제 14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 마이크로 홀 내부의 나머지 부위에 투명 물질을 채우는 단계를 더 포함 하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And filling a transparent material into the remaining portion of the micro hole. 제 15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 투명 물질은 투명 안료인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And the transparent material is a transparent pigment. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 마이크로 홀은 마이크로 드릴, 밀링 기기, 초음파 기기 및 레이저 중 어느 하나의 기기를 이용하여 상기 제 1, 제 2 기판 중 어느 한 기판을 소정 두께 제거하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The micro holes are formed by removing any one of the first and second substrates by a predetermined thickness by using any one of a micro drill, a milling apparatus, an ultrasonic apparatus, and a laser. . 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 화소 전극 홀은 상기 제 1 기판의 배면측에서 상기 전도성 이물의 주변부로 레이저를 조사하여 조사부위의 화소 전극을 소정 폭 제거하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And the pixel electrode hole is formed by removing a predetermined width of the pixel electrode on the irradiated portion by irradiating a laser to a peripheral portion of the conductive foreign material from the back side of the first substrate. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 광 차단 물질층은 블랙 안료인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And the light blocking material layer is a black pigment. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 광 차단 물질층은 유색 금속인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And the light blocking material layer is a colored metal. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 마이크로 홀에 광 차단 물질을 채우는 단계는 잉크젯 장비를 이용하여 상기 마이크로 홀에 도팅하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The filling of the light blocking material into the micro holes may be performed by dotting the micro holes using ink jet equipment. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 마이크로 홀에 광 차단 물질을 채우는 단계는 상기 마이크로 홀 내부로 관이 들어오는 긴 노즐을 이용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The filling of the light blocking material into the micro holes is performed by using a long nozzle into which a tube enters the inside of the micro hole. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 마이크로 홀에 광차단 물질은 채우는 단계는 스프레이를 이용하여 이루어짐을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein the filling of the light blocking material into the micro holes is performed by using a spray. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 마이크로 홀에 광차단 물질을 채우는 단계는 상기 마이크로 홀 입구 표 면을 덮도록 남긴 후, 상기 마이크로 홀 주변부를 포함한 상기 제 2 기판 배면에 진공캡을 씌워 상기 광차단 물질 외부와 상기 마이크로 홀 내부의 기압차에 의해 상기 광차단 물질이 마이크로 홀 내부에 채워 이루어짐을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.Filling the light blocking material in the micro holes leaves the surface covering the micro hole inlet surface, and then covers the second substrate including the micro hole periphery with a vacuum cap to cover the light blocking material and the inside of the micro hole. The method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein the light blocking material is filled in the micro holes by a pressure difference. 서로 대응되는 부위에 복수개의 화소 영역에 정의되며, 상기 각 화소 영역에 화소 전극이 형성된 제 1 기판과, 전면에 공통 전극이 형성된 제 2 기판 및 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 액정층이 형성된 액정 패널을 준비하는 단계;A first substrate having pixel electrodes formed on each of the pixel regions, a second substrate having a common electrode formed on a front surface thereof, and a liquid crystal layer formed between the first and second substrates. Preparing a liquid crystal panel; 상기 액정 패널 내의 화소 전극들에 전도성 이물이 남아있는지를 검사하는 단계;Inspecting whether conductive foreign substances remain in the pixel electrodes in the liquid crystal panel; 상기 전도성 이물이 남은 소정의 화소 전극을 감지시, 상기 해당 화소 전극 중 상기 전도성 이물 주변부를 소정 폭 제거하여 화소 전극 홀을 형성하는 단계;Detecting a predetermined pixel electrode in which the conductive foreign material remains, and forming a pixel electrode hole by removing a predetermined width around the conductive foreign material among the corresponding pixel electrodes; 상기 제 1 기판과 제 2 기판의 배면에 편광판을 부착하는 단계;Attaching a polarizer to back surfaces of the first substrate and the second substrate; 상기 전도성 이물에 대응되어, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 중 어느 한 기판과 이에 부착된 편광판에 소정 두께의 마이크로 홀을 형성하는 단계; 및 Forming micro holes having a predetermined thickness on one of the first substrate and the second substrate and a polarizer attached thereto corresponding to the conductive foreign material; And 상기 마이크로 홀에 광 차단 물질을 채우는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And filling a light blocking material in the micro holes.
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