KR101192762B1 - Method for Manufacturing Liquid Crystal Display Device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 편광판이 액정 패널에 부착된 후에 발견된 휘점 불량(point defect)을 리페어 할 수 있는 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 제 1 기판 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인 및 데이터 라인을 포함하는 박막 트랜지스터 어레이를 형성하는 단계; 상기 제 1 기판과 대향된 제 2 기판 상에 상기 화소 영역을 제외한 영역에 대응되어 형성된 블랙 매트릭스층 및 상기 화소 영역을 포함하는 영역에 대응되는 형성된 컬러 필터층을 포함한 컬러 필터 어레이를 형성하는 단계; 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하여 액정 패널을 형성하는 단계; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판의 배면에 각각 제 1 편광판 및 제 2 편광판을 형성하는 단계; 상기 액정 패널의 휘점 발생 영역을 검출하는 단계; 상기 휘점 발생 영역에 대응하는 상기 제 1 편광판 및 제 2 편광판 중 어느 한 편광판의 부분을 절단하고 분리하여, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판을 노출시키는 단계; 노출된 상기 기판에 소정 깊이의 마이크로 홀을 형성하는 단계; 상기 마이크로 홀 내에 상기 휘점을 가리는 차광층을 형성하여 리페어하는 단계; 및 리페어된 상기 기판 상에 절단된 상기 편광판을 부착하는 단계를 포함하며, 상기 차광층을 상기 제 1 기판에 형성하는 경우, 상기 차광층은 블랙 안료이며, 상기 차광층을 상기 제 2 기판에 형성하는 경우, 상기 차광층은 블랙 안료 또는 상기 휘점 발생 영역에 대응되는 상기 컬러 필터층의 색상과 동일한 색상의 컬러 필터 패턴 물질이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device that can repair point defects found after a polarizer is attached to a liquid crystal panel, and includes a gate line crossing each other on a first substrate to define a pixel region; Forming a thin film transistor array comprising data lines; Forming a color filter array on a second substrate facing the first substrate, the color filter array including a black matrix layer formed corresponding to a region excluding the pixel region and a color filter layer formed corresponding to a region including the pixel region; Forming a liquid crystal panel by forming a liquid crystal layer between the first and second substrates; Forming a first polarizing plate and a second polarizing plate on the rear surfaces of the first substrate and the second substrate, respectively; Detecting a bright spot generating region of the liquid crystal panel; Cutting and separating portions of any one of the first polarizing plate and the second polarizing plate corresponding to the bright spot generating region to expose one of the first substrate and the second substrate; Forming micro holes of a predetermined depth in the exposed substrate; Forming and repairing a light shielding layer covering the bright point in the micro holes; And attaching the cut polarizing plate on the repaired substrate, wherein when the light blocking layer is formed on the first substrate, the light blocking layer is a black pigment, and the light blocking layer is formed on the second substrate. In one embodiment, the light blocking layer is a color filter pattern material having the same color as the color of the color filter layer corresponding to the black pigment or the bright spot generating region.

휘점 불량(point defect), 리페어(repair), 컬러링(coloring), 마이크로 홀 Point defects, repairs, coloring, micro holes

Description

액정 표시 장치의 제조 방법{Method for Manufacturing Liquid Crystal Display Device}Method for manufacturing liquid crystal display device

도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 나타낸 분해사시도1 is an exploded perspective view showing a general liquid crystal display device

도 2는 일반적인 액정 표시 장치에 있어서, 이물이 발생한 경우 이를 블랙 상태에서 관찰시 발생되는 휘점 불량을 나타낸 평면도FIG. 2 is a plan view illustrating a bright point defect generated when a foreign material is generated when a foreign material is generated in a black state.

도 3은 도 2의 휘점 불량부 및 이의 인접 화소를 나타낸 단면도FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a bright spot failing part of FIG. 2 and an adjacent pixel thereof; FIG.

도 4는 약휘점 빛샘 유형을 나타낸 사진Figure 4 is a photograph showing the weak point light leakage type

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법에 있어서, 리페어 방법을 나타낸 공정 사시도5A and 5B are process perspective views illustrating a repair method in the method of manufacturing a liquid crystal display of the present invention.

도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 공정 단면도6A to 6E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the liquid crystal display of the present invention.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 리페어 방법을 나타낸 공정 단면도7 is a cross-sectional view illustrating a repairing method of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 액정 표시 장치의 리페어 방법이 적용되는 영역을 나타낸 평면도8 is a plan view illustrating a region to which a repair method of the liquid crystal display of the present invention is applied.

*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명*Description of the Related Art [0002]

100 : 제 1 기판 101 : TFT 어레이층100: first substrate 101: TFT array layer

102 : 제 1 배향막 110 : 제 1 편광판102 first alignment layer 110 first polarizing plate

115 : 이물 120 : 제 2 편광판115: foreign material 120: second polarizing plate

140 : 편광판 절단 부위 150 :씰 패턴140: polarizing plate cut portion 150: seal pattern

160 : 액정층 200 : 제 2 기판160: liquid crystal layer 200: second substrate

201 : 블랙 매트릭스층 202 : 컬러 필터층201: black matrix layer 202: color filter layer

203 : 공통 전극 204 : 제 2 배향막203: common electrode 204: second alignment layer

250 : 마이크로 홀 251 : 차광층250: micro hole 251: light shielding layer

252 : 투명 유기막 300 : 액정 패널252: transparent organic film 300: liquid crystal panel

본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로 특히, 편광판이 액정 패널에 부착된 후에 발견된 휘점 불량(point defect)을 리페어 할 수 있는 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a manufacturing method of a liquid crystal display device capable of repairing point defects found after a polarizing plate is attached to a liquid crystal panel.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장비에서 표시 장치로 활용되고 있다.(PDP), Electro Luminescent Display (ELD), Vacuum Fluorescent (VFD), and the like have been developed in recent years in response to the demand for display devices. Display) have been studied, and some of them have already been used as display devices in various devices.

그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 특징 및 장점으 로 인하여 이동형 화상 표시 장치의 용도로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대체하면서 LCD가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 방송 신호를 수신하여 디스플레이하는 텔레비젼 및 컴퓨터의 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.Among them, LCD is currently being used most frequently as a substitute for CRT (Cathode Ray Tube) for mobile image display devices because of its excellent image quality, light weight, thinness, and low power consumption. In addition to the mobile use, various developments have been made for televisions and monitors for receiving and displaying broadcast signals.

이와 같은 액정 표시 장치가 일반적인 화면 표시 장치로서 다양한 부분에 사용되기 위해서는 경량, 박형, 저 소비 전력의 특징을 유지하면서도 고정세, 고휘도, 대면적 등 고품위 화상을 얼마나 구현할 수 있는가에 관건이 걸려 있다고 할 수 있다.In order to use such a liquid crystal display as a general screen display device in various parts, it is a matter of how high quality images such as high definition, high brightness and large area can be realized while maintaining the characteristics of light weight, thinness and low power consumption. Can be.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래의 액정 표시 장치를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a liquid crystal display according to the related art will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 나타낸 분해사시도이다.1 is an exploded perspective view showing a general liquid crystal display.

액정 표시 장치는, 도 1과 같이, 일정 공간을 갖고 합착된 제 1 기판(1) 및 제 2 기판(2)과, 상기 제 1 기판(1)과 제 2 기판(2) 사이에 주입된 액정층(3)으로 구성되어 있다.As shown in FIG. 1, a liquid crystal display device includes a liquid crystal injected between a first substrate 1 and a second substrate 2 bonded to each other with a predetermined space, and between the first substrate 1 and the second substrate 2. It consists of layer (3).

보다 구체적으로 설명하면, 상기 제 1 기판(1)에는 화소 영역(P)을 정의하기 위하여 일정한 간격을 갖고 일방향으로 복수개의 게이트 라인(4)과, 상기 게이트 라인(4)에 수직한 방향으로 일정한 간격을 갖고 복수개의 데이터 라인(5)이 배열된다. 그리고, 상기 각 화소 영역(P)에는 화소 전극(6)이 형성되고, 상기 각 게이트 라인(4)과 데이터 라인(5)이 교차하는 부분에 박막 트랜지스터(T)가 형성되어 상기 게이트 라인(4)에 인가되는 신호에 따라 상기 데이터 라인(5)의 데이터 신호를 상 기 각 화소 전극(6)에 인가한다.In more detail, the first substrate 1 may have a plurality of gate lines 4 in one direction and constant in a direction perpendicular to the gate lines 4 at regular intervals to define the pixel region P. FIG. A plurality of data lines 5 are arranged at intervals. In addition, a pixel electrode 6 is formed in each pixel region P, and a thin film transistor T is formed at a portion where the gate line 4 and the data line 5 cross each other to form the gate line 4. The data signal of the data line 5 is applied to each pixel electrode 6 according to the signal applied to the?

그리고, 상기 제 2 기판(2)에는 상기 화소 영역(P)을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스층(7)이 형성되고, 상기 각 화소 영역에 대응되는 부분에는 색상을 표현하기 위한 R, G, B 컬러 필터층(8)이 형성되고, 상기 컬러 필터층(8)위에는 화상을 구현하기 위한 공통 전극(9)이 형성되어 있다.In addition, a black matrix layer 7 is formed on the second substrate 2 to block light in portions other than the pixel region P, and portions R corresponding to the respective pixel regions are formed to express colors. , G, B color filter layers 8 are formed, and a common electrode 9 for realizing an image is formed on the color filter layers 8.

상기와 같은 액정 표시 장치는 상기 화소 전극(6)과 공통 전극(9) 사이의 전계에 의해 상기 제 1, 제 2 기판(1, 2) 사이에 형성된 액정층(3)의 액정이 배향되고, 상기 액정층(3)의 배향 정도에 따라 액정층(3)을 투과하는 빛의 양을 조절하여 화상을 표현할 수 있다.In the liquid crystal display device as described above, the liquid crystal of the liquid crystal layer 3 formed between the first and second substrates 1 and 2 is aligned by an electric field between the pixel electrode 6 and the common electrode 9, The amount of light passing through the liquid crystal layer 3 may be adjusted according to the degree of alignment of the liquid crystal layer 3 to express an image.

이와 같은 액정 표시 장치를 TN 모드(Twisted Nematic mode) 액정 표시 장치라 하며, 상기 TN 모드 액정 표시 장치 외에 수평 전계를 이용한 횡전계 모드(In-Plane Switching(IPS) mode) 액정 표시 장치가 개발되었다. 상기 횡전계(IPS) 모드 액정 표시 장치는 제 1 기판의 화소 영역에 화소 전극과 공통 전극을 일정한 거리를 갖고 서로 평행하게 형성하여 상기 화소 전극과 공통 전극 사이에 횡 전계(수평 전계)가 발생하도록 하고 상기 횡 전계에 의해 액정층이 배향되도록 한 것이다.Such a liquid crystal display is called a twisted nematic mode liquid crystal display, and in addition to the TN mode liquid crystal display, an in-plane switching (IPS) liquid crystal display using a horizontal electric field has been developed. In the transverse electric field (IPS) mode liquid crystal display, a pixel electrode and a common electrode are formed parallel to each other at a predetermined distance in a pixel area of the first substrate so that a transverse electric field (horizontal electric field) is generated between the pixel electrode and the common electrode. The liquid crystal layer is aligned by the lateral electric field.

이하에는 일반적인 액정 표시 장치에서 휘점이 관찰되는 원인을 살펴본다.Hereinafter, the causes of bright spots observed in a general liquid crystal display will be described.

도 2는 일반적인 액정 표시 장치에 있어서, 이물이 발생한 경우 이를 블랙 상태에서 관찰시 발생되는 휘점 불량을 나타낸 평면도이며, 도 3은 도 2의 휘점 불량부 및 이의 인접 화소를 나타낸 단면도이다.FIG. 2 is a plan view illustrating bright spot defects generated when a foreign material is generated when a foreign substance is generated in a black state, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing bright spot defects and adjacent pixels of FIG. 2.

도 2 및 도 3과 같이, TN 모드로 구현되는 액정 표시 장치는 도 1에 대해 설 명한 바와 같이, 서로 대향된 제 1, 제 2 기판(1, 2)과, 제 1 기판(1)의 매 화소 영역마다 형성된 화소 전극(6)과, 상기 제 2 기판(2) 전면에 형성된 공통 전극(9)을 포함하여 이루어진다. 또한, 제 2 기판(2) 상의 비화소 영역에 대하여는 블랙 매트릭스층(7)이 대응되며, 화소 영역에 대하여서는 컬러 필터층(8)이 대응되어 형성된다. As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the liquid crystal display device implemented in the TN mode includes the first and second substrates 1 and 2 facing each other and the first substrate 1 as described with reference to FIG. 1. And a common electrode 9 formed on the entire surface of the second substrate 2. In addition, the black matrix layer 7 corresponds to the non-pixel region on the second substrate 2, and the color filter layer 8 corresponds to the pixel region.

이와 같이 형성된 TN 모드의 액정 표시 장치의 화소 전극(6) 상부 소정 부위에 전도성의 이물(21)이 남은 경우, 상기 전도성의 이물(21)은 제 2 기판(2)의 공통 전극(9)과 만나게 되며, 이로 인해 해당 부위의 각각 제 1, 제 2 기판(1, 2) 상의 화소 전극(6)과 공통 전극(9)이 서로 도통되게 된다. 이러한 전도성 이물(21)은 금속이나 투명 전극을 식각하는 공정 후 챔버 내에 남아있는 잔류물이 세정 후에도 미처 제거되지 못하여, 제 1 기판(1) 또는 제 2 기판(2) 상에 남아있는 입자들이거나 혹은 공정 중에 제 1 기판(1) 또는 제 2 기판(2) 내부로 떨어지는 입자들이며, 이러한 전도성 이물(21)은 특히, 화소 전극(6)이 형성된 부위에 남아있게 될 경우, 그 상하부의 상기 공통 전극(9)과 화소 전극(6)을 도통시켜, 전도성 이물(21)이 남은 해당 화소 전극(6)과 공통 전극(9)이 항상 쇼트상태로 되는 문제점을 유발한다. When the conductive foreign material 21 remains on a predetermined portion of the pixel electrode 6 of the liquid crystal display of the TN mode formed as described above, the conductive foreign material 21 is formed of the common electrode 9 of the second substrate 2. As a result, the pixel electrode 6 and the common electrode 9 on the first and second substrates 1 and 2 of the corresponding portions are in contact with each other. The conductive foreign material 21 may be particles remaining on the first substrate 1 or the second substrate 2 because residues remaining in the chamber after the process of etching the metal or the transparent electrode may not be removed even after cleaning. Or particles falling into the first substrate 1 or the second substrate 2 during the process, and when the conductive foreign material 21 remains in a portion where the pixel electrode 6 is formed, in particular, the upper and lower portions of the conductive material 21 The conduction of the electrode 9 and the pixel electrode 6 causes a problem that the pixel electrode 6 and the common electrode 9 in which the conductive foreign material 21 remains remain in a short state at all times.

이 경우, 일반적으로 노멀리 화이트(Normally White) 모드로 구동되는 TN 모드의 액정 표시 장치는 상기 화소 전극(6)에 전압 인가 여부에 관계없이, 해당 화소 전극(6) 부위가 항상 화이트(white) 상태를 나타나게 되어, 특히 전압이 인가되는 블랙 상태의 조건에서 휘점으로 관찰되게 된다. 그 밖에도 전기적인 단락이나 단선에 의해서도 휘점이 발생하기도 한다. In this case, in the liquid crystal display of the TN mode, which is generally driven in a normally white mode, regardless of whether or not a voltage is applied to the pixel electrode 6, a portion of the pixel electrode 6 is always white. The state is shown, and in particular, the bright point is observed under the condition of the black state to which voltage is applied. In addition, bright spots may occur due to electric short circuits or disconnections.

한편, 상기 이물(21)이 전도성이 아니거나 혹은 상기 액정 표시 장치가 TN 모드가 아닐 경우에도, 상기 제 1, 제 2 기판(1, 2)이 대향되는 각각의 최상부층에 배향막을 형성하고 이를 러빙시 상기 이물(21)이 남은 부위는 타부위와 달리 배향 처리가 원활하게 이루어지지 못하게 되어, 상기 이물(21) 발생 부위가 빛샘 부위로 관찰되게 된다. 액정 표시 장치에는 이와 같은 불균일 배향영역에 의해 빛샘이 발생하게 되며 이러한 빛샘은 액정(3)의 광투과율을 방해함으로써 휘점으로 나타나게 된다. On the other hand, even when the foreign material 21 is not conductive or the liquid crystal display is not in the TN mode, an alignment layer is formed on the uppermost layer of the first and second substrates 1 and 2 facing each other. Unlike the other parts, the remaining portion of the foreign material 21 during rubbing does not perform an alignment process smoothly, and the foreign material 21 is observed as a light leakage area. In the liquid crystal display, light leakage is generated by such non-uniform alignment regions, and the light leakage appears as bright spots by disturbing the light transmittance of the liquid crystal 3.

일반적으로 높은 그레이(화이트 상태)를 구현하는 경우 빛샘에 의해 일 영역이 어둡게 보이는 것을 암점이라 하고, 낮은 그레이(블랙 상태)를 구현하는 경우 빛샘에 의해 일 영역이 밝게 보이는 것을 휘점이라 한다. 이 때, 사람의 눈은 밝은 상태에서의 암점보다는 상대적으로 어두운 상태에서의 휘점에 민감하게 됨으로써 액정 패널의 양불 판정시 암점보다는 휘점 불량에 더 엄격한 기준을 부여하게 된다. 이에 따라, 휘점 발생에 의한 패널의 불량률을 최소화하기 위한 방안이 요구되고 있다.In general, when a high gray (white state) is implemented, the dark point is that one region is dark due to light leakage, and when a low gray (black state) is implemented, the bright point is shown by the light leakage. In this case, the human eye is sensitive to bright spots in a relatively dark state rather than dark spots in a bright state, thereby imparting stricter criteria to bright spot defects than dark spots when determining whether the liquid crystal panel is poor. Accordingly, a method for minimizing the defective rate of the panel due to bright spots is required.

종래의 액정 표시 장치의 제 1 기판(1)과 제 2 기판(2)의 각 박막에 불량이 발생하면 리워크(rework) 공정을 진행하여 다시 해당 박막의 증착 공정을 진행하거나 또는 레이저 등을 이용하여 해당 부위를 리페어하는 공정을 진행한다.If a defect occurs in each of the thin films of the first substrate 1 and the second substrate 2 of the conventional liquid crystal display device, the rework process is performed and the deposition process of the thin film is performed again, or using a laser or the like. Proceed to repair the site.

그러나, 상술한 리워크 공정을 진행하거나 리페어 공정을 진행함에도 상기 도 2 및 도 3과 같이, 상기 제 1, 제 2 기판(1, 2) 사이에 이물(21)이 안착하여 남아있는 경우가 발생하기도 하며, 이와 같이, 이물(21)이 남은 상태로 제 1, 제 2 기판이 합착된 상태에서는 리워크(rework)가 불가하며, 리페어 또한 용이하지 않은 실정이다. 이를테면, 회로상의 단락이나 단선이라 하더라도 레이저를 이용한 리페어시 리페어가 실패하는 경우가 많다.However, even when the above-described rework process or the repair process is performed, foreign materials 21 may be seated and remain between the first and second substrates 1 and 2, as shown in FIGS. 2 and 3. As described above, in the state in which the first and second substrates are bonded while the foreign material 21 remains, rework is not possible and repair is not easy. For example, even in the case of short circuit or disconnection on a circuit, repair often fails during repair using a laser.

도 4는 약휘점 빛샘 유형을 나타낸 사진이다.Figure 4 is a photograph showing the weak point light leakage type.

도 4는 사분되어 4개의 사진을 나타내고 있다. 좌측 2개의 사진은 컬러를 적용하였을 때를 나타낸 것이며, 우측 2개의 사진은 화이트 상태를 나타낸 것이며, 좌우측 각각에서 하측 사진을 확대한 사진이 상측 사진이다. 이러한 사진들은 각각 화소 영역에 남아있는 이물로 인해 해당 부위의 액정의 배향이 주변과 달라짐으로 인해 나타나는 휘점 불량을 나타낸 것이다.4 is divided into four and four photographs are shown. The left two photographs show the color applied, the right two photographs show the white state, and the enlarged lower photograph on the left and right sides is the upper photograph. Each of these photographs shows a bright point defect caused by the alignment of the liquid crystal in the corresponding region due to the foreign material remaining in the pixel region.

상기와 같은 종래의 액정 표시 장치는 다음과 같은 문제점이 있다.The conventional liquid crystal display as described above has the following problems.

액정 패널 내부의 상하부 기판 사이에 이물이 남아있을 경우, 모드에 따라 정도는 다르지만 상기 이물에 의한 휘점 불량이 발생한다. 액정 패널의 제조 시 상하부 기판의 합착 전 각 기판의 어레이 공정시에 이물이 박막 상에 남은 경우에는 해당 박막을 다시 증착하는 리워크(rework) 공정을 진행하거나 혹은 해당 부위를 리페어하는 등으로 이물을 제거할 수 있다. 그러나, 이러한 공정을 통해서도 제거되지 못하거나 혹은 증착 후 세정 공정 혹은 공정 중에서 기판측으로 떨어진 이물을 남긴채 액정 패널의 상하부 기판이 합착된 경우에는, 종래 이로 인한 휘점 불량에 대한 해결책이 전무한 실정이다.When foreign matter remains between the upper and lower substrates in the liquid crystal panel, the degree of brightness varies due to the foreign matter, depending on the mode. If the foreign material remains on the thin film during the array process of each substrate before the upper and lower substrates are bonded during the manufacturing of the liquid crystal panel, the foreign material may be removed by reworking the thin film or repairing the portion thereof. Can be removed However, when the upper and lower substrates of the liquid crystal panel are bonded while they cannot be removed through such a process or the foreign substances that fall to the substrate side are left in the cleaning process or the process after deposition, there is no solution to the bright spot defect.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로 편광판이 액 정 패널에 부착된 후에 발견된 휘점 불량(point defect)을 리페어 할 수 있는 액정 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 데, 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems and to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device capable of repairing the point defects found after the polarizer is attached to the liquid crystal panel, an object thereof is have.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법은 제 1 기판 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인 및 데이터 라인을 포함하는 박막 트랜지스터 어레이를 형성하는 단계, 상기 제 1 기판과 대향된 제 2 기판 상에 상기 화소 영역을 제외한 영역에 대응되어 형성된 블랙 매트릭스층 및 상기 화소 영역을 포함하는 영역에 대응되는 형성된 컬러 필터층을 포함한 컬러 필터 어레이를 형성하는 단계, 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하여 액정 패널을 형성하는 단계, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판의 배면에 각각 제 1 편광판 및 제 2 편광판을 형성하는 단계, 상기 액정 패널의 휘점 발생 영역을 검출하는 단계, 상기 휘점 발생 영역에 대응하는 상기 제 1 편광판 및 제 2 편광판 중 어느 한 편광판의 부분을 절단하고 분리하여, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판을 노출시키는 단계, 노출된 상기 기판에 소정 깊이의 마이크로 홀을 형성하는 단계, 상기 마이크로 홀 내에 상기 휘점을 가리는 차광층을 형성하여 리페어하는 단계 및 리페어된 상기 기판 상에 절단된 상기 편광판을 부착하는 단계를 포함하며, 상기 차광층을 상기 제 1 기판에 형성하는 경우, 상기 차광층은 블랙 안료이며, 상기 차광층을 상기 제 2 기판에 형성하는 경우, 상기 차광층은 블랙 안료 또는 상기 휘점 발생 영역에 대응되는 상기 컬러 필터층의 색상과 동일한 색상의 컬러 필터 패턴 물질이다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, the method including: forming a thin film transistor array including a gate line and a data line intersecting each other on a first substrate to define a pixel area; Forming a color filter array including a black matrix layer formed corresponding to an area excluding the pixel area and a formed color filter layer corresponding to an area including the pixel area, on a second substrate facing the substrate; Forming a liquid crystal panel by forming a liquid crystal layer between the second substrate, forming a first polarizing plate and a second polarizing plate on the back surface of the first substrate and the second substrate, respectively, and detecting a bright spot generating region of the liquid crystal panel. And cutting a portion of one of the first and second polarizing plates corresponding to the bright spot generating region. Separating and exposing any one of the first substrate and the second substrate, forming micro holes having a predetermined depth in the exposed substrate, and forming a light shielding layer covering the bright point in the micro holes to repair And attaching the cut polarizing plate on the repaired substrate, wherein when the light blocking layer is formed on the first substrate, the light blocking layer is a black pigment, and the light blocking layer is formed on the second substrate. When formed in the light blocking layer is a color filter pattern material of the same color as the color of the color filter layer corresponding to the black pigment or the bright spot generation region.

상기 리페어 하는 단계는 상기 차광층의 형성 후 상기 마이크로 홀 내의 차광층 상에 투명 유기막을 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어진다.The repairing step may further include forming a transparent organic film on the light blocking layer in the micro holes after the formation of the light blocking layer.

상기 차광층은 상기 마이크로 홀의 두께보다 작은 두께이다.The light blocking layer has a thickness smaller than that of the micro holes.

상기 블랙 매트릭스층 상에 상기 편광판의 절단 부위가 지난다.A cut portion of the polarizing plate passes on the black matrix layer.

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상기 편광판의 절단은 레이저를 이용하여 이루어진다.Cutting of the polarizing plate is made using a laser.

상기 마이크로 홀은 마이크로 드릴(micro drill), 밀링 기기(milling machine), 초음파 기기(ultrasonic machine) 및 레이저(laser) 중 어느 하나의 기기를 이용하여 절단된 상기 편광판 하측의 기판을 소정 두께 제거하여 형성한다.The micro holes are formed by removing a predetermined thickness of the substrate under the polarizer cut using one of a micro drill, a milling machine, an ultrasonic machine, and a laser. do.

상기 차광층을 상기 마이크로 홀에 형성하는 단계는 상기 마이크로 홀 저부까지 들어오는 관이 긴 노즐(nozzle)을 이용한다.The forming of the light blocking layer in the micro holes uses a nozzle having a long pipe that enters the bottom of the micro holes.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a manufacturing method of the liquid crystal display of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법에 있어서, 리페어 방법을 나타낸 공정 사시도이다.5A and 5B are process perspective views showing a repair method in the method of manufacturing a liquid crystal display of the present invention.

본 발명의 리페어 방법이 적용되는 액정 표시 장치는 다음과 같이 이루어진다.The liquid crystal display device to which the repair method of the present invention is applied is made as follows.

도 5a와 같이, 본 발명의 리페어 방법이 적용되는 액정 표시 장치는 서로 대향되어 각각 박막 트랜지스터 어레이와 컬러 필터 어레이가 형성된 제 1 기판(100) 과 제 2 기판(200)과, 상기 제 1 기판(100) 및 상기 제 2 기판(200) 사이에 충진된 액정층(160) 및 상기 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(200) 배면에 각각 형성된 제 1 편광판(110) 및 제 2 편광판(120)을 포함하여 이루어진다. 여기서, 상기 제 1, 제 2 편광판(110, 120)을 제외한 구성물을 액정 패널(300)이라 한다.As shown in FIG. 5A, the liquid crystal display device to which the repair method of the present invention is applied includes a first substrate 100 and a second substrate 200 on which the thin film transistor array and the color filter array are formed to face each other, and the first substrate ( The liquid crystal layer 160 filled between the substrate 100 and the second substrate 200, and the first polarizing plate 110 and the second polarizing plate 120 formed on the back surface of the first substrate 100 and the second substrate 200, respectively. ) Here, the components except for the first and second polarizers 110 and 120 are referred to as the liquid crystal panel 300.

이 때, 상기 액정 패널(300) 내부에 이물(115)이 남아있을 경우, 특히 상기 이물이 잔존하는 영역이 화소 영역일 때, 해당 이물(115) 발생 부위가 블랙(black) 상태에서 휘점으로 관찰되는 불량이 발생한다.At this time, when the foreign material 115 remains inside the liquid crystal panel 300, particularly when the region where the foreign material remains is a pixel region, the spot where the foreign material 115 is generated is observed as a bright spot in a black state. The defect which becomes is caused.

본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법에 있어서 이루어지는 리페어(repair) 공정은 이러한 이물(115)을 상기 액정 패널(300)에 상기 제 1, 제 2 편광판(110, 120)을 부착한 후에 발견하였을 때, 이를 리페어할 수 있는 이점이 있다. The repair process performed in the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention is such that the foreign material 115 is found after attaching the first and second polarizing plates 110 and 120 to the liquid crystal panel 300. This has the advantage of repairing it.

도 5b와 같이, 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법에 있어서 이루어지는 리페어 공정은, 이물(115)을 포함하는 부위와 대응되는 제 2 편광판(120)의 부분에 레이저를 조사하여 상기 제 2 편광판(120)의 소정 크기를 절단하여 상기 제 2 기판(200)으로부터 분리한다. 이 경우, 상기 제 2 편광판(120)의 절단 부위(140)는, 분리된 제 2 편광판의 경계선인 것으로, 상기 제 2 기판(200) 상의 내측에 형성된 블랙 매트릭스층(201) 상부를 지난다. 이와 같이, 상기 제 2 편광판(120)의 절단 부위(140)를 블랙 매트릭스층(201) 상에 위치시키는 이유는 차후, 상기 절단된 편광판을 리페어 공정을 진행 후 다시 기판 상부에 대응시켜 부착할 때, 절단 부위가 육안으로 관찰되지 않게 하기 위함이다.As shown in FIG. 5B, in the repair process performed in the method of manufacturing the liquid crystal display device of the present invention, a portion of the second polarizing plate 120 corresponding to a portion including the foreign material 115 is irradiated with a laser to emit the second polarizing plate ( A predetermined size of 120 is cut and separated from the second substrate 200. In this case, the cut portion 140 of the second polarizing plate 120 is a boundary line of the separated second polarizing plate and passes over the black matrix layer 201 formed inside the second substrate 200. As such, the reason for placing the cut portion 140 of the second polarizing plate 120 on the black matrix layer 201 is that, when the cut polarizing plate is subsequently attached to the upper portion of the substrate after the repair process, This is to prevent the cutting site from being visually observed.

도시된 도면은, 상기 제 2 기판(200) 상에 리페어 공정을 진행하는 예를 나 타낸 것으로, 경우에 따라, 이물 발견 후 상기 제 1 기판(100) 배면에 형성된 제 1 편광판(110)을 절단시에는 리페어를 위한 마이크로 홀은 상기 제 1 기판(100) 상에 형성될 수 있다(도 7 참조).The illustrated figure shows an example of performing a repair process on the second substrate 200. In some cases, the first polarizing plate 110 formed on the rear surface of the first substrate 100 is cut after foreign objects are found. In some embodiments, a micro hole for repair may be formed on the first substrate 100 (see FIG. 7).

도 5에서 설명되지 않은 참조 번호 202는 화소 영역 상에 형성되는 컬러 필터층(202)을 나타낸다.Reference numeral 202 not described in FIG. 5 denotes a color filter layer 202 formed on the pixel region.

도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 공정 단면도이다.6A to 6E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the liquid crystal display of the present invention.

먼저, 도 6a와 같이, 서로 대향되어 배치되며, 각각 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 제 1 기판(100, 제 1 기판)과, 컬러 필터 어레이가 형성된 제 2 기판(110, 제 2 기판) 및 상기 제 1, 제 2 기판(100, 110) 사이에 충진된 액정층(130)을 포함하여 이루어진 액정 패널을 준비한다. 여기서, 상기 액정 패널 내의 박막 트랜지스터 어레이와 컬러 필터 어레이를 이루는 구성 요소는 액정 표시 장치의 구현 모드가 TN 모드인지 혹은 IPS 모드인지 등에 따라 달라질 수 있을 것이며, 제시된 도면들에서는 TN 모드를 기준으로 설명한다. First, as shown in FIG. 6A, the first substrate 100 (first substrate) on which the thin film transistor array is formed, the second substrate 110 (second substrate) on which the color filter array is formed, and the first substrate, respectively, are formed. The liquid crystal panel including the liquid crystal layer 130 filled between the second substrates 100 and 110 is prepared. Here, the components constituting the thin film transistor array and the color filter array in the liquid crystal panel may vary depending on whether an implementation mode of the liquid crystal display device is a TN mode or an IPS mode, and the drawings will be described based on the TN mode. .

본 발명의 액정 패널은 서로 대향된 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(200)과, 상기 제 1 기판(100) 상에 소정 부위에 화소 영역을 정의하는 TFT 어레이층(101)과, 상기 제 2 기판(200) 상에 화소 영역을 제외한 영역에 형성된 블랙 매트릭스층(201)과, 상기 화소 영역에 대응하여 소정 색상을 나타내는 컬러 필터가 형성되는 컬러 필터층(202)과, 상기 블랙 매트릭스층(201) 및 컬러 필터층(202)을 포함한 전면에 형성된 공통 전극(203)과, 상기 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(200) 사이에 충 진된 액정층(160)을 포함하여 이루어진다. 여기서, 상기 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 제 1 기판(100) 및 컬러 필터 어레이가 형성된 제 2 기판(200)의 내측 최상부면에는 각각 제 1 배향막(102) 및 제 2 배향막(204)이 형성된다. 그리고, 상기 제 1, 제 2 기판(100, 200)의 외곽 영역에는 씰 패턴(150)이 형성되어 상기 제 1, 제 2 기판(100, 200) 사이의 액정층을 지지하고 보호하여 상기 제 1, 제 2 기판(100, 200)을 합착한다. The liquid crystal panel of the present invention includes a first substrate 100 and a second substrate 200 opposed to each other, a TFT array layer 101 defining pixel regions at predetermined portions on the first substrate 100, and A black matrix layer 201 formed in a region other than the pixel region on the second substrate 200, a color filter layer 202 having a color filter representing a predetermined color corresponding to the pixel region, and the black matrix layer ( 201) and a common electrode 203 formed on the front surface including the color filter layer 202, and the liquid crystal layer 160 filled between the first substrate 100 and the second substrate 200. Here, the first alignment layer 102 and the second alignment layer 204 are formed on the innermost uppermost surface of the first substrate 100 on which the thin film transistor array is formed and the second substrate 200 on which the color filter array is formed. In addition, a seal pattern 150 is formed in an outer region of the first and second substrates 100 and 200 to support and protect the liquid crystal layer between the first and second substrates 100 and 200 so as to protect the first and second liquid crystal layers. The second substrates 100 and 200 are bonded to each other.

여기서, 상기 제 1 기판(100) 상에 형성되는 TFT 어레이층(101)은 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인(미도시)과 데이터 라인(미도시)과, 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부에 형성되는 박막 트랜지스터와, 상기 화소 영역에 형성되는 화소 전극(미도시)을 포함한다.Here, the TFT array layer 101 formed on the first substrate 100 crosses each other and defines a gate line (not shown) and a data line (not shown) that define a pixel region, and the gate line and the data line. A thin film transistor formed at an intersection and a pixel electrode (not shown) formed in the pixel area.

이 때, 상기 컬러 필터층(202)은 적어도 화소 영역(상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차부로 정의되는 영역)을 포함하도록 대응되어 형성되므로, 경우에 따라, 상기 블랙 매트릭스층(201)과 일부 오버랩되거나, 완전히 블랙 매트릭스층(201)을 오버랩하여 형성될 수 있다.In this case, since the color filter layer 202 is formed to correspond to at least a pixel region (a region defined as an intersection of the gate line and the data line), the color filter layer 202 may be partially overlapped with the black matrix layer 201 in some cases. It may be formed by completely overlapping the black matrix layer 201.

이어, 상기 제 1, 제 2 기판(100, 200)의 배면에 각각 제 1 편광판(110) 및 제 2 편광판(120)을 형성한다.Subsequently, a first polarizing plate 110 and a second polarizing plate 120 are formed on the rear surfaces of the first and second substrates 100 and 200, respectively.

이어, 상기 액정 패널(300)의 화소 전극(미도시)과 공통 전극(203)에 각각 전압 신호를 인가하여, 블랙 상태(이 경우, 상기 액정 패널은 노멀리 화이트 모드로, 전압 인가시 블랙 상태를 나타냄)의 조건을 주어, 액정 패널(300)에서 이물(115)에 의한 휘점이 발생되는 부위를 검사한다. Subsequently, a voltage signal is applied to the pixel electrode (not shown) and the common electrode 203 of the liquid crystal panel 300, respectively, so that the black state (in this case, the liquid crystal panel is in a normally white mode and a black state when voltage is applied). ), The site where the bright spots caused by the foreign matter 115 in the liquid crystal panel 300 is inspected.

이 때, 휘점이 관찰되면, 휘점이 발생된 영역을 포함한 부위의 편광판, 도면 상에는 제 2 편광판(120) 상의 소정 부위에 레이저를 조사하여 소정 부위를 절단한다. 여기서, 도 6a와 같이, 레이저에 의해 제 2 편광판이 절단된 후에는 절단되어 분리된 편광판(120b)과 남아있는 편광판(120a)으로 구분되어진다. 여기서, 상기 제 1, 제 2 편광판(110, 120)은 그 수직 단면 구조가 광학 기능을 갖는 광학층 상하로 투명 필름이 보호하는 구조로 이루어져 있으며, 기판과의 접착이 이루어지는 면에 접착층이 더 형성되어 있다. 따라서, 상기 레이저에 의해 편광판이 절단되어 분리될 경우에는, 상기 접착층을 경계로 하여, 분리가 이루어진다.At this time, when the bright spot is observed, the predetermined region on the second polarizing plate 120 is irradiated with a laser on the polarizing plate of the portion including the region where the bright spot is generated, and the predetermined portion is cut. Here, as shown in FIG. 6A, after the second polarizing plate is cut by the laser, the second polarizing plate is cut and divided into the separated polarizing plate 120b and the remaining polarizing plate 120a. Here, the first and second polarizing plates 110 and 120 have a structure in which the vertical cross-sectional structure of the transparent film is protected above and below an optical layer having an optical function, and an adhesive layer is further formed on the surface on which the substrate is bonded. It is. Therefore, when the polarizing plate is cut and separated by the laser, the separation is performed with the adhesive layer as a boundary.

본 발명의 액정 표시 장치의 리페어 방법은 먼저, 도 5b와 같이, 이물(115)을 포함한 영역의 제 2 편광판(120)의 부분을 분리 부위로 정한 다음, 상기 제 2 편광판(120) 상부에 분리 부위의 경계선을 절단 부위(140)가 되도록, 레이저를 가하여, 상기 이물(115)을 포함한 영역의 제 2 편광판(120b)의 부분을 상기 제 2 기판(200) 상부로부터 분리한다. 여기서, 상기 분리된 제 2 편광판(120b)의 크기는 적어도 일 화소 영역의 크기와 같거나 큰 것으로, 일 또는 복수개의 화소 영역에 상당하는 크기일 것이다. 즉, 상기 제 2 편광판(120b)의 절단 부위(140)가 제 2 기판(200) 상에 형성된 블랙 매트릭스층(201)의 상부를 지나므로, 상기 블랙 매트릭스층(201) 사이에 영역에 정의되는 화소 영역 또는 상기 화소 영역의 정수배 이상의 크기를 가질 것이다.In the repairing method of the liquid crystal display of the present invention, first, as shown in FIG. 5B, a portion of the second polarizing plate 120 in the region including the foreign material 115 is defined as a separation site, and then separated on the second polarizing plate 120. A laser is applied so that the boundary of the portion becomes the cut portion 140, and a portion of the second polarizing plate 120b in the region including the foreign material 115 is separated from the upper portion of the second substrate 200. Here, the size of the separated second polarizing plate 120b is equal to or larger than the size of at least one pixel area and may correspond to one or more pixel areas. That is, since the cut portion 140 of the second polarizing plate 120b passes over an upper portion of the black matrix layer 201 formed on the second substrate 200, a region defined between the black matrix layers 201 is defined. The pixel region may have a size greater than or equal to an integer multiple of the pixel region.

도 6b와 같이, 상기 제 2 편광판(120b)이 제거되어 노출된 상기 제 2 기판(200)의 배면으로부터 상기 이물(115)을 가려줄 수 있는 정도의 크기의 수평 단면 으로 소정 깊이의 마이크로 홀(250)을 형성한다.As shown in FIG. 6B, the micro hole having a predetermined depth has a horizontal cross section of a size sufficient to cover the foreign material 115 from the back surface of the second substrate 200 where the second polarizing plate 120b is removed and exposed. 250).

이러한 마이크로 홀(250)은 크기는 상기 이물(115)이 남은 소정의 화소 영역에 상응하는 크기로 형성하거나 혹은 상기 이물(115)이 발생된 부위만에 상응하여 상기 화소 영역의 일부 크기로 형성할 수 있을 것이다. 이 때, 상기 마이크로 홀(250)은 상기 제 2 편광판(120)의 절단 부위(140) 내부에 위치할 것이다.The micro holes 250 may be formed to have a size corresponding to a predetermined pixel area in which the foreign material 115 remains, or may be formed to be a partial size of the pixel area corresponding to only a portion where the foreign material 115 is generated. Could be. In this case, the micro holes 250 may be located inside the cut portion 140 of the second polarizing plate 120.

상기 이물(115)이 발생되는 부위는 전압을 인가하여 블랙 상태의 조건을 주어 액정 패널의 휘점을 검사하는 검사 공정에서 휘점으로 관찰되는 부위로, 이하의 리페어 공정은 상기 이물(115) 발생 부위에 대해 진행된다.The site where the foreign material 115 is generated is a site observed as a bright spot in the inspection process of inspecting the bright spot of the liquid crystal panel by applying a voltage to a black state, and the following repair process is performed on the foreign spot 115 generating site. Proceeds.

상기 마이크로 홀(250)은 상기 제 2 기판(200)의 배면측으로부터 이물(115) 대응되는 부위를 마이크로 드릴(micro drill)(350)을 이용하여, 상기 이물(115)에 의해 유발되는 휘점 발생 부위를 포함할 수 있을 정도의 폭과 소정의 깊이로 뚫어 형성한다. The micro holes 250 generate a bright spot caused by the foreign material 115 by using a micro drill 350 at a portion corresponding to the foreign material 115 from the back side of the second substrate 200. It is formed by drilling a width and a predetermined depth to include the site.

이와 같은 마이크로 홀(250)은 상술한 마이크로 드릴(350)을 이용하거나, 외에, 밀링 기기(milling machine)(미도시), 혹은 레이저(laser)(미도시)나 초음파 기계(ultrasonic machine)(미도시)를 이용하여 상기 제 2 기판(200)의 배면으로부터 소정 깊이 뚫어 형성할 수 있다. 이 경우, 마이크로 홀(250)의 형상은 마이크로 드릴(micro-drilling)을 이용한 경우에는, 상기 마이크로 드릴의 이동 방향이 수직 방향으로, 마이크로 드릴링(micro drilling)을 진행한 후, 마이크로 홀의 단면 형상은 원형에 가까울 것이고, 밀링 기기(milling machine)를 이용한 경우에는, 상기 밀링(milling)의 이동 방향이 상하, 좌우, 전후가 모두가 가능하여, 그 홀의 단면 형상은 임의로 지정 가능할 것이다. 그 외에 레이저나 초음파 기기를 이용한 경우에는, 조사 혹은 투사 영역 및 세기에 따라 두께 및 형상이 결정될 것이다. 상기 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(200)의 두께가 0.5 ~0.7mm일 경우, 상기 마이크로 홀(250)의 두께는 상기 제 2 기판(200) 두께의 반 정도 혹은 그 전후로 한다. 예를 들어, 상기 마이크로 홀(250) 측에서 남는 제 2 기판(200) 두께는 약 0.05mm~0.2mm가 바람직할 것이다. 이 때, 상기 마이크로 홀(250)은 상기 제 1 기판(100) 하부측에 백 라이트 유닛(미도시)이 위치할 경우, 정면 외에 측면으로 빠져나가는 광의 양을 감안하여 그 두께와 폭을 조절하여 형성한다.Such a micro hole 250 uses the above-described micro drill 350 or, in addition, a milling machine (not shown), or a laser (not shown) or an ultrasonic machine (not shown). It can be formed by drilling a predetermined depth from the back surface of the second substrate 200 using a si). In this case, the shape of the micro holes 250 is a micro-drilling, the direction of movement of the micro drill in the vertical direction, after the micro drilling (micro drilling), the cross-sectional shape of the micro holes is When the milling machine is used, the direction of movement of the milling can be up, down, left and right, and the cross-sectional shape of the hole can be arbitrarily designated. In addition, in the case of using a laser or an ultrasonic device, the thickness and shape will be determined according to the irradiation or projection area and intensity. When the thickness of the first substrate 100 and the second substrate 200 is 0.5 to 0.7mm, the thickness of the micro holes 250 is about half or about the thickness of the second substrate 200. For example, the thickness of the second substrate 200 remaining at the side of the micro hole 250 may be about 0.05 mm to 0.2 mm. In this case, when the backlight unit (not shown) is positioned at the lower side of the first substrate 100, the micro holes 250 may adjust the thickness and width in consideration of the amount of light that is emitted to the side of the first substrate 100. Form.

도 6c와 같이, 상기 마이크로 홀(250) 내에는 상기 마이크로 홀(250) 내부로 관이 내려오는 제 1 노즐(nozzle)(미도시)을 이용하여, 상기 마이크로 홀(250) 내부에 해당 이물(115)에 의해 발생되는 휘점을 가려줄 수 있을 정도의 두께로, 상기 이물(115)이 발생된 블랙 안료를 채운다. 이 경우, 상기 블랙 안료는 액상이며, 소정의 경화 공정을 거쳐 경화시켜 차광층(251)으로 형성한다. 이 때, 경화는 상기 블랙 안료 성분의 성질에 따라 공정을 달리 진행한다. 예를 들어, 상기 블랙 안료가 광 경화성 물질일 경우에는, UV(Ultra Violet) 램프를 이용하여, 상기 블랙 안료 형성 부위를 조사하여 경화시키며, 상기 블랙 안료가 열 경화성 물질일 경우에는, 상기 블랙 안료 부위에 열을 가하여, 경화시킨다. 이러한 경화 공정은 상기 블랙 안료가 액상으로 남아있을 경우, 반전이나 이동 등에 상기 마이크로 홀(250)에 채워진 물질이 외부로 빠지거나, 이어 형성되는 투명 유기 물질과 섞여 적절한 휘점 차단 효율이 떨어짐을 방지하기 위함이다.As illustrated in FIG. 6C, a foreign object (not shown) inside the micro hole 250 is used in the micro hole 250 by using a first nozzle (not shown) in which a tube descends into the micro hole 250. The foreign material 115 fills the generated black pigment to a thickness sufficient to cover the bright spot generated by the 115. In this case, the black pigment is a liquid, and cured through a predetermined curing process to form the light shielding layer 251. At this time, the curing proceeds differently depending on the nature of the black pigment component. For example, when the black pigment is a photocurable material, the black pigment forming part is irradiated and cured by using a UV (Ultra Violet) lamp, and when the black pigment is a thermosetting material, the black pigment The site is heated to cure. This curing process is to prevent the fall of the appropriate bright point blocking efficiency when the black pigment remains in the liquid phase, the material filled in the micro-holes 250, such as inversion or movement, fall out, or mixed with the transparent organic material formed subsequently For sake.

여기서, 상기 블랙 안료를 상기 마이크로 홀(250)에 채울 때는 상기 마이크로 홀(250)까지 내려오는 제 1 노즐을 이용하여, 상기 마이크로 홀(250)의 저부로부터 기포나 공동(cavity, 空洞)의 발생없이 상기 이물(115)에 의한 휘점이 충분히 차광될 수 있을 정도의 두께로 형성한다.Here, when the black pigment is filled in the micro holes 250, bubbles or cavities are generated from the bottom of the micro holes 250 by using a first nozzle that descends to the micro holes 250. Without the bright point formed by the foreign material 115 is formed to a thickness enough to be shielded.

이와 같이, 상기 제 1 노즐의 관이 상기 마이크로 홀(250)의 저부 가까이 들어오게 되면, 특히, 상기 마이크로 홀(250) 내 블랙 안료가 경화된 차광층(251) 상에 투명 유기 물질이 채워질 때(도 6d 참조), 상기 투명 유기 물질층이 채워지는 상기 마이크로 홀(250) 내부의 벽면에 상기 블랙 안료가 남지 않게 되어, 상기 투명 물질층을 거쳐 측면을 투과하는 투과광이 손실없이 상부로 전달될 수 있을 것이다.As such, when the tube of the first nozzle comes near the bottom of the micro hole 250, in particular, when the transparent organic material is filled on the light blocking layer 251 where the black pigment in the micro hole 250 is cured. (See FIG. 6D), the black pigment does not remain on the wall inside the micro hole 250 in which the transparent organic material layer is filled, so that transmitted light passing through the transparent material layer and passing through the side surface is transmitted to the upper part without loss. Could be.

한편, 상기 마이크로 홀(250) 저부에 상기 차광층(251)의 형성은, 상기 제 1 노즐을 대체하여, 잉크젯(ink-jet) 장비를 이용하여 상기 마이크로 홀(250) 내에 직접 도팅(dotting)되는 방식으로도 형성될 수 있을 것이다. 혹은 스프레이를 이용하여 상기 마이크로 홀(250) 저부에 블랙 안료를 채워 차광층(251)을 형성할 수도 있고, 혹은 스프레이 또는 노즐을 이용하여 상기 마이크로 홀(250) 입구에 블랙 안료를 분사한 후, 상기 마이크로 홀(250)을 포함한 해당 기판의 주변부를 진공캡(미도시)을 씌워 상기 마이크로 홀(250) 내에서 발생하는 기압차에 의해 상기 블랙 안료가 상기 마이크로 홀(250) 저부까지 내려오게 할 수 있다.On the other hand, the formation of the light blocking layer 251 on the bottom of the micro hole 250, replacing the first nozzle, dotting directly into the micro hole 250 using an ink-jet equipment It can also be shaped in the way that it is. Alternatively, the light blocking layer 251 may be formed by filling a black pigment in the bottom of the micro hole 250 using a spray, or spraying the black pigment at the inlet of the micro hole 250 using a spray or a nozzle. Cover the periphery of the substrate including the micro holes 250 with a vacuum cap (not shown) to cause the black pigment to descend to the bottom of the micro holes 250 due to the pressure difference generated in the micro holes 250. Can be.

도 6d와 같이, 상기 마이크로 홀(250) 내에는 상기 마이크로 홀(250) 내부로 관이 들어오는 제 2 노즐(nozzle)(미도시)을 이용하여, 상기 마이크로 홀(250) 내 부의 상기 차광층(251)이 형성되지 않은 나머지 영역에 투명한 유기 물질을 채운 후 이를 경화시켜 투명 유기막(252)을 형성한다. 이 경우, 상기 투명한 유기 물질은 액상의 물질이며, 광 경화성을 갖는 물질이거나 열 경화성을 갖는 물질이다. 이 때, 상기 제 2 노즐의 관은 상기 제 1 노즐과 비교하여 상기 마이크로 홀(250)의 저부까지 들어올 필요는 없고, 상기 마이크로 홀(250) 내부에 대응되기만 하면, 상기 제 2 노즐의 관을 타고 적절히 투명한 유기 물질이 흘러 상기 마이크로 홀(250)의 내부를 채울 것이다. 이 때, 상기 투명한 유기 물질을 채울 때는 속도 및 양 등을 적절히 조절하여, 기포나 공동(cavity, 空洞)의 발생없이 투명한 유기 물질이 상기 차광층(251)을 제외한 나머지 부위를 채울 수 있도록 한다. As shown in FIG. 6D, the light blocking layer inside the micro holes 250 may be formed by using a second nozzle (not shown) that enters a tube into the micro holes 250. The transparent organic material is filled in the remaining area where the 251 is not formed, and then cured to form the transparent organic film 252. In this case, the transparent organic material is a liquid material, a material having photocurability or a material having thermal curability. In this case, the tube of the second nozzle does not need to enter the bottom of the micro hole 250 as compared with the first nozzle, and as long as it corresponds to the inside of the micro hole 250, the tube of the second nozzle may be closed. Ride appropriately transparent organic material will flow to fill the interior of the micro holes 250. In this case, when filling the transparent organic material, the speed and amount are appropriately adjusted so that the transparent organic material may fill the remaining portions except for the light blocking layer 251 without generation of bubbles or cavities.

이어, 상기 마이크로 홀(250) 내부에, 상기 투명한 유기 물질의 분사 완료 후에는 상기 제 2 노즐의 관을 상기 마이크로 홀(250)로부터 빼낸다.Subsequently, after the injection of the transparent organic material is completed in the micro holes 250, the tube of the second nozzle is removed from the micro holes 250.

한편, 앞서 설명한 바와 같이, 상기 마이크로 홀(250) 내에 상기 투명한 유기 물질의 형성은 상기 제 2 노즐(180)을 대체하여, 잉크젯(ink-jet) 장비를 이용하여 상기 마이크로 홀(250) 내에 직접 도팅(dotting)되는 방식으로도 형성될 수 있을 것이다. Meanwhile, as described above, the formation of the transparent organic material in the micro holes 250 replaces the second nozzle 180 and directly in the micro holes 250 using ink-jet equipment. It may also be formed in a dotting manner.

이와 같이, 투명한 유기 물질은 상기 마이크로 홀(250) 내에 채워진 후, 경화 공정을 거쳐 투명 유기막(252)으로 형성한다. 이러한 경화 공정은 앞서 설명한 바와 같이, 상기 투명한 유기 물질의 성질에 따라 열 경화 또는 광 경화를 진행한다.As such, after the transparent organic material is filled in the micro holes 250, the transparent organic material is formed into the transparent organic layer 252 through a curing process. As described above, the curing process may be thermally cured or photocured according to the properties of the transparent organic material.

이러한 상기 투명 유기막(252)의 두께는 상기 마이크로 홀(250) 내에 차광층 (251)을 어느 정도 두께로 형성한지에 따라 다르게 된다. 즉, 상기 투명 유기막(252)은 상기 마이크로 홀(250) 두께에 차광층(251)이 형성되지 않는 부위를 채우는 정도로 형성되기 때문에, 상기 마이크로 홀(250) 내에 상기 차광층(251)이 모두 채워진다면, 형성되지 않을 수도 있다.The thickness of the transparent organic film 252 is different depending on how thick the light blocking layer 251 is formed in the micro hole 250. That is, since the transparent organic film 252 is formed to fill a portion where the light blocking layer 251 is not formed in the thickness of the micro hole 250, all of the light blocking layers 251 in the micro holes 250 are formed. If filled, it may not be formed.

도 6e와 같이, 차광층(251) 및 투명 유기막(252)이 차례로 형성된 상기 마이크로 홀(250) 상부에 분리된 제 2 편광판(120b)을 다시 부착한다. 이 경우, 상기 편광판의 절단 부위가 블랙 매트릭스(201) 선상을 지나므로, 다시 절단된 편광판(120b)을 다시 부착한다 하더라도 절단 및 부착 부위는 육안으로 관찰되지 않는다.As shown in FIG. 6E, the second polarizing plate 120b separated on the micro holes 250, in which the light blocking layer 251 and the transparent organic layer 252 are sequentially formed, is attached again. In this case, since the cut portion of the polarizing plate passes along the line of the black matrix 201, even if the cut polarizing plate 120b is attached again, the cut and attach portions are not visually observed.

상술한 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법은 제 2 기판에서 이루어지는 리페어 공정을 설명하였다.The manufacturing method of the liquid crystal display device of this invention mentioned above demonstrated the repair process performed on a 2nd board | substrate.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 리페어 방법을 나타낸 공정 단면도이다.7 is a cross-sectional view illustrating a repairing method of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 7과 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 리페어 공정이 하부 기판인 제 1 기판(100) 및 제 1 편광판(210)에 이루어지는 공정을 나타낸다. 이 점을 제외하고는 다른 점에 있어서는 도 5a 내지 도 6e를 근거로 하여 설명한 액정 표시 장치의 리페어 방법과 동일하다.As illustrated in FIG. 7, the manufacturing method of the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention shows a process in which the repair process is performed on the first substrate 100 and the first polarizing plate 210 which are lower substrates. Except for this point, other points are the same as the repair method of the liquid crystal display device described on the basis of Figs. 5A to 6E.

즉, 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 이물(115)이 발생한 영역에 대응되어, 상기 이물(115)을 포함한 제 1 편광판(210)의 소정 부위(210b)를 절단한 후, 노출된 제 1 기판(100)이 배면에 마이크로 홀(250)을 형성하여 리페어를 진행한다. 이 경우, 리페어는 상기 액정 패널을 반전시켜, 제 1 기 판(100)이 상측에 위치한 상태에서 진행되며, 상기 마이크로 홀(250)의 저면에는 블랙 안료 성분의 차광층(251)이 형성되고, 그 상부에는 투명 유기막(252)이 형성된다.That is, the manufacturing method of the liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention corresponds to a region where the foreign material 115 is generated, and cuts a predetermined portion 210b of the first polarizing plate 210 including the foreign material 115. Thereafter, the exposed first substrate 100 forms the micro holes 250 on the back thereof to perform repair. In this case, the repair is performed by inverting the liquid crystal panel so that the first substrate 100 is positioned above, and the light blocking layer 251 of the black pigment component is formed on the bottom of the micro hole 250. The transparent organic film 252 is formed thereon.

여기서 설명되지 않은 부호 210a는, 절단되지 않고 남아있는 제 1 편광판을 의미한다.Reference numeral 210a, which is not described herein, refers to a first polarizing plate that remains uncut.

도 8은 본 발명의 액정 표시 장치의 리페어 방법이 적용되는 영역을 나타낸 평면도이다.8 is a plan view illustrating a region to which a repair method of the liquid crystal display of the present invention is applied.

도 8과 같이, 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법에 있어서, 리페어가 이루어지는 부위를 제 2 기판(200) 상의 영역에서 살펴보면, 소정의 이물이 컬러 필터층(202)이 형성되는 화소 영역에 발생하였을 때, 상기 이물이 발생된 소정의 화소 영역을 포함하는 블랙 매트릭스층(201) 상에서 레이저를 이용한 편광판의 절단이 이루어져, 레이저 조사 후에도 이는 육안으로 관찰이 불가능하여, 리페어를 시감 저하없이 진행할 수 있게 한다.As illustrated in FIG. 8, in the manufacturing method of the liquid crystal display of the present invention, when the repaired portion is examined in the region on the second substrate 200, a predetermined foreign material may be generated in the pixel region where the color filter layer 202 is formed. At this time, the cutting of the polarizing plate using a laser is made on the black matrix layer 201 including the predetermined pixel region where the foreign matter is generated, which is impossible to observe with the naked eye even after laser irradiation, so that the repair can proceed without deterioration of vision. .

한편, 상기 마이크로 홀(250) 내부는, 상기 차광층(251)을 대체하여, 상기 이물(115)이 발생된 부위의 해당 화소 영역에 형성되는 컬러 필터층(202)의 색상과 동일한 색상의 컬러 필터 패턴층을 형성할 수도 있다. 이 경우, 낮은 그레이(블랙 상태)를 구현하는 경우, 상기 이물(115) 대응 부위가 상기 컬러 필터 패턴층의 두께에 의해 하부로부터 투과되는 광이 차단되어 어둡게 보이며, 높은 그레이(화이트 상태)를 구현하는 경우에는 해당 화소 영역의 컬러 필터층의 색상으로 관찰되어, 단순히 이물(115) 대응 부위를 블랙 안료로 대응시켜 리페어하는 방법에 비해, 이 물 부위의 시감 인지가 적게 될 수 있다. 예를 들어, 상기 마이크로 홀(250) 내부에 블랙 안료로만 채운다면, 블랙 상태에서 이물 부위의 휘점의 차단은 이루어질 수 있겠지만, 화이트 상태에서는 상기 마이크로 홀(250) 부위가 그 내부의 블랙 안료로 인해 검은 점으로 관찰될 수 있을 것으로, 컬러 필터 패턴층을 포함한 본 발명의 액정 표시 장치는 이에 대비 현저한 시감 향상을 얻는 효과를 기대할 수 있을 것이다.Meanwhile, a color filter having the same color as that of the color filter layer 202 formed in the pixel area of the portion where the foreign matter 115 is generated is replaced with the light blocking layer 251 inside the micro hole 250. A pattern layer can also be formed. In this case, when the low gray (black state) is realized, the light transmitted from the lower portion is blocked by the thickness of the color filter pattern layer, and the portion corresponding to the foreign material 115 is dark, and the high gray (white state) is realized. In this case, it is observed by the color of the color filter layer of the corresponding pixel region, and compared with the method of simply repairing the corresponding portion of the foreign material 115 by using a black pigment, the perception of visibility of the water portion may be reduced. For example, if only the black pigment is filled into the micro holes 250, the bright spots of foreign matters may be blocked in the black state, but in the white state, the micro holes 250 may be blocked due to the black pigment therein. It may be observed as a black dot, the liquid crystal display device of the present invention including a color filter pattern layer can be expected to have an effect of obtaining a significant improvement in contrast.

이와 같이, 본 발명의 액정 표시 장치와 같이, 이물이 발생한 해당 화소의 컬러 필터층의 색상으로 마이크로 홀 저부를 채우게 되면, 해당 화소 영역은 블랙 상태에서는 광을 정상적으로 차단하게 되며, 화이트 상태에서는 정상 구동과 유사한 효과를 얻을 수 있어, 이물로 인한 휘점 불량을 해소할 수 있을 것이다.As such, when the liquid crystal display device of the present invention fills the bottom of the microhole with the color of the color filter layer of the pixel in which the foreign matter is generated, the pixel region normally blocks light in the black state and normal driving in the white state. A similar effect can be obtained, and the bright point defect caused by foreign matter can be eliminated.

이상에서 설명한 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법은 TN(Twisted Nematic) 모드 뿐만이 아니라, IPS(In-Plane Switching) 모드에도 적용 가능할 것이다. 이 경우에는, 상기 제 1 기판(100) 상의 TFT 어레이층의 화소 영역에 공통 전극과 화소 전극이 서로 교번하여 형성되고, 상기 제 2 기판(200) 상에 공통 전극(203)을 대체하여 오버코트층이 형성될 것이다.The manufacturing method of the liquid crystal display of the present invention described above will be applicable not only to the twisted nematic (TN) mode but also to the in-plane switching (IPS) mode. In this case, the common electrode and the pixel electrode are alternately formed in the pixel region of the TFT array layer on the first substrate 100, and the overcoat layer is replaced with the common electrode 203 on the second substrate 200. Will be formed.

상술한 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법은, 액정 패널에 편광판을 부착한 후에 발견되는 휘점 불량을 리페어할 수 있는 것으로, 모듈 상태에서 휘점 불량의 리페어가 가능하여, 액정 표시 장치 생산의 수율을 향상시킬 수 있게 한다.The manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention described above is capable of repairing a bright spot defect found after attaching a polarizing plate to a liquid crystal panel, so that the bright spot defect can be repaired in a module state, and thus the yield of liquid crystal display device production is improved. To improve.

상기와 같은 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.The manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention as described above has the following effects.

액정 표시 장치의 리페어를 진행함에 있어서, 액정 패널 상에 편광판이 부착한 후에 이물로 인한 휘점이 발견되더라도 이를 리페어가 가능하게 한 것으로, 이물 발생 부위 상측의 편광판을 레이저를 이용하여 소정 부분 절단한 후, 상기 절단된 편광판 하측의 기판에 마이크로 홀을 형성하고, 상기 마이크로 홀 내에 차광층을 형성하여 휘점을 방지하여 리페어가 이루어진다. In the repair of the liquid crystal display device, even if a bright spot due to a foreign material is found after the polarizing plate is attached on the liquid crystal panel, the repair is possible. The polarizing plate on the upper side of the foreign material generating portion is cut by a laser. The micro hole is formed in the substrate under the cut polarizing plate, and a light shielding layer is formed in the micro hole to prevent bright spots.

이러한 리페어 이후, 상기 마이크로 홀 상부에 절단된 편광판을 다시 부착하는 것으로, 상기 리페어시의 레이저 절단 부위가 블랙 매트릭스층 상부에 한하도록 하여, 리페어시의 편광판의 절단이 발생하더라도 다시 부착 후에는 육안 상으로는 인지할 수 없는 정도로 하여, 표시의 손상없이 리페어할 수 있다.After such repair, attaching the cut polarizer to the upper part of the micro-hole again, so that the laser cut portion at the time of repair is limited to the upper part of the black matrix layer. It is possible to repair without damaging the display to an unrecognizable degree.

따라서, 휘점 불량을 개선하여 제품의 특성을 향상시켜 수율을 개선할 수 있다. Therefore, it is possible to improve the yield of the product by improving the bright point defects.

Claims (12)

제 1 기판 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 라인 및 데이터 라인을 포함하는 박막 트랜지스터 어레이를 형성하는 단계;Forming a thin film transistor array on the first substrate, the thin film transistor array including a gate line and a data line crossing each other to define a pixel region; 상기 제 1 기판과 대향된 제 2 기판 상에 상기 화소 영역을 제외한 영역에 대응되어 형성된 블랙 매트릭스층 및 상기 화소 영역을 포함하는 영역에 대응되는 형성된 컬러 필터층을 포함한 컬러 필터 어레이를 형성하는 단계;Forming a color filter array on a second substrate facing the first substrate, the color filter array including a black matrix layer formed corresponding to a region excluding the pixel region and a color filter layer formed corresponding to a region including the pixel region; 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하여 액정 패널을 형성하는 단계;Forming a liquid crystal panel by forming a liquid crystal layer between the first and second substrates; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판의 배면에 각각 제 1 편광판 및 제 2 편광판을 형성하는 단계;Forming a first polarizing plate and a second polarizing plate on the rear surfaces of the first substrate and the second substrate, respectively; 상기 액정 패널의 휘점 발생 영역을 검출하는 단계;Detecting a bright spot generating region of the liquid crystal panel; 상기 휘점 발생 영역에 대응하는 상기 제 1 편광판 및 제 2 편광판 중 어느 한 편광판의 부분을 절단하고 분리하여, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 중 어느 하나의 기판을 노출시키는 단계;Cutting and separating portions of any one of the first polarizing plate and the second polarizing plate corresponding to the bright spot generating region to expose one of the first substrate and the second substrate; 노출된 상기 기판에 소정 깊이의 마이크로 홀을 형성하는 단계; Forming micro holes of a predetermined depth in the exposed substrate; 상기 마이크로 홀 내에 상기 휘점을 가리는 차광층을 형성하여 리페어하는 단계; 및Forming and repairing a light shielding layer covering the bright point in the micro holes; And 리페어된 상기 기판 상에 절단된 상기 편광판을 부착하는 단계를 포함하며,Attaching the cut polarizer to the repaired substrate, 상기 차광층을 상기 제 1 기판에 형성하는 경우, 상기 차광층은 블랙 안료이며, 상기 차광층을 상기 제 2 기판에 형성하는 경우, 상기 차광층은 블랙 안료 또는 상기 휘점 발생 영역에 대응되는 상기 컬러 필터층의 색상과 동일한 색상의 컬러 필터 패턴 물질인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.When the light shielding layer is formed on the first substrate, the light shielding layer is a black pigment, and when the light shielding layer is formed on the second substrate, the light shielding layer is the black pigment or the color corresponding to the bright spot generation region. It is a color filter pattern material of the same color as the color of a filter layer, The manufacturing method of the liquid crystal display device characterized by the above-mentioned. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리페어 하는 단계는 상기 차광층의 형성 후 상기 마이크로 홀 내의 차광층 상에 투명 유기막을 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The repairing method may further include forming a transparent organic layer on the light blocking layer in the micro holes after the formation of the light blocking layer. 제 2항에 있어서,3. The method of claim 2, 상기 차광층은 상기 마이크로 홀의 두께보다 작은 두께인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The light shielding layer is a thickness smaller than the thickness of the micro holes, the manufacturing method of the liquid crystal display device. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 블랙 매트릭스층 상에 상기 편광판의 절단 부위가 지나는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.A cut portion of the polarizing plate passes on the black matrix layer. 삭제delete 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 편광판의 절단은 레이저를 이용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The said polarizing plate is cut | disconnected using a laser, The manufacturing method of the liquid crystal display device characterized by the above-mentioned. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 마이크로 홀은 마이크로 드릴(micro drill), 밀링 기기(milling machine), 초음파 기기(ultrasonic machine) 및 레이저(laser) 중 어느 하나의 기기를 이용하여 절단된 상기 편광판 하측의 기판을 소정 두께 제거하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The micro holes are formed by removing a predetermined thickness of the substrate under the polarizer cut using one of a micro drill, a milling machine, an ultrasonic machine, and a laser. The manufacturing method of the liquid crystal display device characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 차광층을 상기 마이크로 홀에 형성하는 단계는 상기 마이크로 홀 저부까지 들어오는 관이 긴 노즐(nozzle)을 이용하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The forming of the light blocking layer in the micro holes may include a nozzle having an elongated tube entering the bottom of the micro hole.
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