JP2955079B2 - Manufacturing method of liquid crystal display device - Google Patents

Manufacturing method of liquid crystal display device

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JP2955079B2
JP2955079B2 JP3252319A JP25231991A JP2955079B2 JP 2955079 B2 JP2955079 B2 JP 2955079B2 JP 3252319 A JP3252319 A JP 3252319A JP 25231991 A JP25231991 A JP 25231991A JP 2955079 B2 JP2955079 B2 JP 2955079B2
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display device
recess
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修 宮崎
敏男 前田
和也 吉村
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Consejo Superior de Investigaciones Cientificas CSIC
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、不良画素の輝点などの
欠陥を修正する液晶表示装置の製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display equipment to correct defects such as bright spot defective pixel.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、画像をスクリーンに拡大投影する
プロジェクション装置において液晶表示パネルが用いら
れている。このプロジェクション装置では、表示用画素
がマトリクス状に配列された透過形液晶パネルの一方表
面から表示用照明光を照射し、他方表面から出射する出
射光をスクリーン上に拡大投影して画像表示を行う。
2. Description of the Related Art In recent years, a liquid crystal display panel has been used in a projection apparatus for enlarging and projecting an image on a screen. In this projection device, display illumination light is emitted from one surface of a transmissive liquid crystal panel in which display pixels are arranged in a matrix, and emission light emitted from the other surface is enlarged and projected on a screen to display an image. .

【0003】前述のプロジェクション装置に使用される
液晶パネルの一例としてアクティブマトリクス駆動方式
の液晶パネルがある。この液晶パネルは、貼合わされる
一対のガラスなどから成る透光性基板のうちの一方の基
板上にマトリクス状に配設される画素電極にTFT(薄
膜トランジスタ)を接続し、該TFTのスイッチング動
作によって各画素電極の選択および非選択を行って表示
動作を行う。このため、単純マトリクス駆動方式の欠点
である非選択時のクロストークが発生せず、高画質の表
示画面を実現できる。
An example of a liquid crystal panel used in the above-mentioned projection device is an active matrix driving type liquid crystal panel. In this liquid crystal panel, a TFT (thin film transistor) is connected to a pixel electrode arranged in a matrix on one of a pair of translucent substrates made of glass or the like to be bonded, and a switching operation of the TFT is performed. The display operation is performed by selecting and non-selecting each pixel electrode. For this reason, crosstalk during non-selection, which is a drawback of the simple matrix driving method, does not occur, and a high-quality display screen can be realized.

【0004】前記TFTは、基板上にゲート電極、ソー
ス電極およびドレイン電極などを積層した多層構造であ
るため、これらの金属薄膜を基板上に積層する工程と、
該金属薄膜をパターニングする工程とが繰返し行われ
る。このため、欠陥のない完全なTFTを作成するため
には、各製造工程において各種設定条件を維持、管理す
るために多大な努力を要する。
Since the TFT has a multilayer structure in which a gate electrode, a source electrode, a drain electrode and the like are laminated on a substrate, a step of laminating these metal thin films on the substrate,
The step of patterning the metal thin film is repeatedly performed. Therefore, in order to produce a complete TFT without defects, a great effort is required to maintain and manage various setting conditions in each manufacturing process.

【0005】したがって、場合によっては正常なTFT
特性が得られていない欠陥TFTが発生することもあ
り、欠陥が修復可能なものはその欠陥内容によってそれ
ぞれの修正技術を用いて修復が図られる。このようなT
FTの欠陥の一例として、回路形成パターン上での修復
ができず、表示駆動した場合に、TFTに接続された画
素電極に相当する画素が輝点となって表示画面上で認識
されるいわゆる輝点欠陥がある。
Therefore, in some cases, a normal TFT
In some cases, defective TFTs for which characteristics have not been obtained may occur, and repairable defects can be repaired using the respective repair techniques depending on the content of the defect. Such a T
As an example of a defect of the FT, when a display cannot be repaired on a circuit formation pattern and a display is driven, a pixel corresponding to a pixel electrode connected to the TFT becomes a bright point and is recognized on a display screen as a bright spot. There are point defects.

【0006】前述のような不良絵素の発生を防止するた
めに、従来ではたとえば各画素電極に2本の配線を接続
しておき、1本の配線が破損しても表示に影響は生じな
いようにしている。また、各画素を2つに分割して複数
の電極で1画素を表示し、1つの電極に電圧を印加する
ことはできない場合には残りの電極で画素の表示を行っ
ている。
In order to prevent the occurrence of defective picture elements as described above, conventionally, for example, two wirings are connected to each pixel electrode, and even if one wiring is broken, the display is not affected. Like that. In addition, each pixel is divided into two, and one pixel is displayed by a plurality of electrodes. When a voltage cannot be applied to one electrode, the pixel is displayed by the remaining electrodes.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】各画素に2本の配線を
接続したり、1画素を2つに分割して複数の電極で1画
素を表示するような液晶表示装置では、駆動回路が複雑
になり、回路の設計および製造が困難であるという問題
がある。また、回路が複雑になり、配線数が増加するた
め、配線を形成する面積を増加しなければならず、各電
極面積が縮小され、表示の輝度が低下するという問題が
ある。
In a liquid crystal display device in which two wirings are connected to each pixel or one pixel is divided into two to display one pixel with a plurality of electrodes, the driving circuit is complicated. And it is difficult to design and manufacture the circuit. In addition, since the circuit becomes complicated and the number of wirings increases, the area in which the wirings are formed must be increased, and the area of each electrode is reduced, and there is a problem in that the display brightness is reduced.

【0008】また、複数の電極で1画素を表示する場合
には、表示を行う駆動回路に負担が掛かるという問題が
ある。
In addition, when one pixel is displayed by a plurality of electrodes, there is a problem that a load is applied to a driving circuit for performing display.

【0009】さらに、上述のような従来技術を用いるこ
とによっても、各画素に接続されている2本の配線のい
ずれもが破損した場合、1画素を表示する複数の電極の
それぞれに接続されている各配線が破損した場合には、
輝点の発生を防ぐことができない。
Further, even when the conventional technique as described above is used, if any of the two wirings connected to each pixel is broken, the wiring is connected to each of a plurality of electrodes for displaying one pixel. If any of the wiring
The generation of bright spots cannot be prevented.

【0010】本発明の目的は、不良画素に対応する領域
からの光の漏れを防止し、表示品位が向上する液晶表示
装置およびその製造方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which prevents light from leaking from a region corresponding to a defective pixel and improves display quality, and a method of manufacturing the same.

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】発明は、一対の透光性
基板間に液晶層を介在し、複数の画素がマトリクス状に
形成される液晶表示装置の製造方法において、前記一対
の透光性基板のうち少なくとも一方基板の液晶層とは反
対側表面に被覆手段を形成し、入射光および出射光の光
路上であり、かつ、前記一方基板の被覆手段形成面側で
あって、不良画素に対応する領域に凹所を形成し、前記
凹所に遮光性樹脂を充填し、前記被覆手段を剥離するこ
とを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal layer is interposed between a pair of light transmitting substrates and a plurality of pixels are formed in a matrix. Coating means is formed on at least one surface of the non-conductive substrate on the side opposite to the liquid crystal layer, on the optical path of incident light and outgoing light, and on the side of the one substrate on which the coating means is formed; Forming a recess in a region corresponding to the above, filling the recess with a light-blocking resin, and peeling off the covering means.

【0013】[0013]

【作用】本発明に従えば、不良画素に対応する領域から
漏れる光は、入射光および出射光の光路上であって不良
画素に対応する領域に設けられる遮光手段によって遮光
される。したがって、不良画素に対応する領域から光の
漏れを防止することができ、表示品位を格段に向上する
ことができる。特に本発明に従えば、前記一対の透光性
基板の少なくとも一方に、遮光手段を設け、すなわち一
方基板または他方基板の両者またはいずれかに、上述の
ように遮光手段を設けるので、この遮光手段と不良画素
に対応する領域との距離を短くすることができる。これ
によって視角を斜め方向にした場合でも、遮光手段によ
って不良画素に対応する領域を通過した光を遮断するこ
とができ、漏れ光として認識されることはない。
According to the present invention, the light leaking from the area corresponding to the defective pixel is shielded by the light shielding means provided on the optical path of the incident light and the emitted light and provided in the area corresponding to the defective pixel. Therefore, it is possible to prevent light from leaking from the region corresponding to the defective pixel, and it is possible to significantly improve display quality. In particular, according to the present invention, at least one of the pair of light-transmitting substrates is provided with a light-shielding means, that is, the light-shielding means is provided on one or both of the substrates, as described above. The distance between the pixel and the area corresponding to the defective pixel can be reduced. As a result, even when the viewing angle is inclined, the light that has passed through the area corresponding to the defective pixel can be blocked by the light blocking means, and is not recognized as leakage light.

【0014】また本発明に従えば、液晶表示素子を構成
する一対の透光性基板のうち少なくとも一方基板の液晶
層とは反対側表面に被覆手段を形成し、前記被覆手段形
成面であって不良画素に対応する領域に凹所を形成し、
該凹所に遮光性樹脂を充填し、最後に被覆手段を剥離さ
せて液晶表示装置が形成される。これによって、不良画
素に対応する領域から漏れる光は、不良画素に対応する
領域に設けられた凹所内に充填される遮光性樹脂によっ
て遮光される。したがって、不良画素に対応する領域か
らの光の漏れを防止することができ、液晶表示装置の表
示品位を向上させることができる。
According to the invention, a coating means is formed on a surface of at least one of the pair of translucent substrates constituting the liquid crystal display element, the surface being opposite to the liquid crystal layer. Forming a recess in the area corresponding to the defective pixel,
The concave portion is filled with a light-shielding resin, and finally, the covering means is peeled off to form a liquid crystal display device. Thus, light leaking from the area corresponding to the defective pixel is shielded by the light-shielding resin filled in the recess provided in the area corresponding to the defective pixel. Therefore, light leakage from a region corresponding to the defective pixel can be prevented, and the display quality of the liquid crystal display device can be improved.

【0015】また、凹所に遮光性樹脂を充填したときに
凹所の周辺に樹脂が溢れ、その溢れた樹脂を除去すると
きに、前記被覆手段の厚み分だけ樹脂が余分に充填され
ているため、被覆手段の厚みを調節することによって、
凹所に充填される樹脂の厚みが中心部分で薄くならない
ように除去することができ、また基板表面から盛上った
状態に前記遮光性樹脂の厚みを調節することができる。
When the recess is filled with the light-shielding resin, the resin overflows around the recess, and when the overflowed resin is removed, the resin is excessively filled by the thickness of the covering means. Therefore, by adjusting the thickness of the coating means,
The resin filled in the recess can be removed so that the thickness of the resin does not become thin at the center, and the thickness of the light-shielding resin can be adjusted so as to rise from the substrate surface.

【0016】[0016]

【実施例】図1は、本発明の一実施例である液晶表示装
置1の構成を示す断面図である。液晶表示装置1は、ガ
ラスなどから成る透光性を有する透明基板2,3を対向
して配置し、透明基板2の透明基板3に対向する表面に
は、ITO(インジウム錫酸化物)などから成る1枚の
全面電極4が形成され、さらにその表面にはポリイミド
などの樹脂から成る配向膜5が形成される。また、透明
基板3の透明基板2に対向する表面には矩形状の画素電
極6が複数個、マトリクス状に配置され、さらにその表
面には配向膜7が形成される。
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a liquid crystal display device 1 according to one embodiment of the present invention. The liquid crystal display device 1 has transparent substrates 2 and 3 made of glass or the like having a light-transmitting property disposed facing each other, and a surface of the transparent substrate 2 facing the transparent substrate 3 is made of ITO (indium tin oxide) or the like. A single full-surface electrode 4 is formed, and an alignment film 5 made of a resin such as polyimide is formed on the surface. On the surface of the transparent substrate 3 facing the transparent substrate 2, a plurality of rectangular pixel electrodes 6 are arranged in a matrix, and an alignment film 7 is formed on the surface.

【0017】透明基板2,3は、電極4,6がそれぞれ
形成された表面が対向するように配置され、基板間に液
晶層8を介在して構成される。前記画素電極6には、そ
れぞれ図示しないTFTが接続されている。
The transparent substrates 2 and 3 are arranged so that the surfaces on which the electrodes 4 and 6 are formed face each other, and are configured with a liquid crystal layer 8 interposed between the substrates. Each of the pixel electrodes 6 is connected to a TFT (not shown).

【0018】液晶表示装置1においては、全面電極4と
画素電極6とが重なり合う領域が画素領域とされる。本
実施例では、画素電極6aは、配線の断線、あるいはT
FTの特性不良などによって、対応する液晶層8に正常
な駆動電圧を印加することができず、画素電極6aを含
む領域A1は不良画素領域となる。該不良画素領域A1
は、画素電極6aへの電圧の印加/無印加にかかわら
ず、光を透過する表示しか行うことができない。したが
って、周囲の画素電極6に電圧が印加された場合、周囲
の画素領域は光を遮断するけれども、不良画素領域A1
では光を透過するため輝点となり、表示品位が低下す
る。本発明では、図1に示すように、不良画素領域A1
に、遮光手段9を設けることによって、不良画素領域A
1を光が透過せず、輝点となることが防止される。
In the liquid crystal display device 1, a region where the full-surface electrode 4 and the pixel electrode 6 overlap is defined as a pixel region. In this embodiment, the pixel electrode 6a is connected to the line disconnection or T
A normal drive voltage cannot be applied to the corresponding liquid crystal layer 8 due to the FT characteristic failure or the like, and the region A1 including the pixel electrode 6a becomes a defective pixel region. The defective pixel area A1
Can perform only light-transmitting display irrespective of application / non-application of a voltage to the pixel electrode 6a. Therefore, when a voltage is applied to the surrounding pixel electrode 6, the surrounding pixel area blocks light but the defective pixel area A1
In this case, since light is transmitted, it becomes a bright point, and the display quality is reduced. In the present invention, as shown in FIG.
In addition, by providing the light shielding means 9, the defective pixel area A
1 does not transmit light, and is prevented from becoming a bright spot.

【0019】遮光手段9は、基板3上に形成してもよい
し、また基板2,3の両方に形成してもよい。
The light shielding means 9 may be formed on the substrate 3 or on both the substrates 2 and 3.

【0020】図2は、液晶表示装置1の利用例を説明す
るための図である。ここでは液晶表示装置1を、いわゆ
る投影形表示装置の表示パネルとして使用している。図
示しない光源からの光源光11は、コンデンサレンズ1
2を介して表示パネルである液晶表示装置1の透明基板
2側から入射し、透明基板3側からの出射光は投影レン
ズ13を介して図示しないスクリーンに照射される。こ
れによって液晶表示装置1に表示された画像がスクリー
ン上に拡大投影される。
FIG. 2 is a diagram for explaining an example of use of the liquid crystal display device 1. Here, the liquid crystal display device 1 is used as a display panel of a so-called projection display device. Light source light 11 from a light source (not shown) is
2, the light enters from the transparent substrate 2 side of the liquid crystal display device 1 as a display panel, and the light emitted from the transparent substrate 3 side is applied to a screen (not shown) via the projection lens 13. Thereby, the image displayed on the liquid crystal display device 1 is enlarged and projected on the screen.

【0021】このとき不良画素領域A1への入射光の光
路上には図1に示すように遮光手段9が設けられ、入射
光は遮光される。したがって、不良画素領域A1からの
出射光14がスクリーン上に照射されることはなく、拡
大投影された画像において輝点として表示されることは
ない。
At this time, as shown in FIG. 1, a light shielding means 9 is provided on the optical path of the light incident on the defective pixel area A1, and the incident light is shielded. Therefore, the emitted light 14 from the defective pixel area A1 is not irradiated on the screen, and is not displayed as a bright spot in the enlarged and projected image.

【0022】このように、投影形表示装置では液晶表示
装置1においては小さな輝点であっても、画像が拡大さ
れるため前記輝点もスクリーン上では拡大されて表示さ
れる。したがって、本発明のように不良画素領域A1に
対応する領域に遮光手段9を設け、入射光を遮断するこ
とによって、前記輝点の拡大表示を防止することができ
る。これによって、画像の表示品位が格段に向上する。
As described above, in the projection display device, even if the bright spot is a small bright spot in the liquid crystal display device 1, the image is enlarged, so that the bright spot is also enlarged and displayed on the screen. Therefore, by providing the light shielding means 9 in the area corresponding to the defective pixel area A1 and blocking incident light as in the present invention, it is possible to prevent the bright spot from being enlarged and displayed. As a result, the display quality of the image is significantly improved.

【0023】図3は、液晶表示装置1の平面図である。
前記遮光手段9は、図3(1)に示すように、画素電極
6aを覆う正方形である。該遮光手段9は、縦150μ
m、横150μm、深さ100μmに選ばれる。また、
図3(2)に示すように、円形であってもよいし、また
その他の形状であっても画素電極6aを含む形状であれ
ばいかなる形状であってもよい。
FIG. 3 is a plan view of the liquid crystal display device 1.
The light shielding means 9 is a square covering the pixel electrode 6a, as shown in FIG. The light shielding means 9 has a height of 150 μm.
m, 150 μm in width and 100 μm in depth. Also,
As shown in FIG. 3B, the shape may be a circle, or any other shape as long as the shape includes the pixel electrode 6a.

【0024】図4は、液晶表示装置1の製造工程を説明
する工程図であり、図5は液晶表示装置1の製造方法を
説明するための断面図である。本実施例では、図5
(1)に示すように、透明基板2側に遮光手段9を形成
する場合を説明する。
FIG. 4 is a process diagram for explaining a manufacturing process of the liquid crystal display device 1, and FIG. 5 is a sectional view for explaining a method for manufacturing the liquid crystal display device 1. In this embodiment, FIG.
The case where the light shielding means 9 is formed on the transparent substrate 2 side as shown in (1) will be described.

【0025】工程a1では、図5(2)に示すように、
透明基板2のほぼ全面にわたって被覆部材16が形成さ
れる。本実施例では、被覆部材16として、厚さ50μ
m程度のセロファンテープを用い、透明基板2の表面に
接着剤などを用いて貼付ける。
In step a1, as shown in FIG.
The covering member 16 is formed over substantially the entire surface of the transparent substrate 2. In this embodiment, the covering member 16 has a thickness of 50 μm.
A cellophane tape of about m is adhered to the surface of the transparent substrate 2 using an adhesive or the like.

【0026】工程a2では、図5(3)に示すように、
エキシマレーザなどを照射することによって、凹所17
を形成する。凹所17は、たとえば縦150μm、横1
50μm、深さ100μmに選ばれる。
In step a2, as shown in FIG.
By irradiating an excimer laser or the like,
To form The recess 17 has a length of 150 μm and a width of 1 μm, for example.
It is selected to be 50 μm and depth 100 μm.

【0027】工程a3では、図5(4)に示すように、
たとえば紫外線硬化形樹脂を含むインク18を凹所17
内に充填する。その後、工程a4では、図5(5)に示
すように、被覆部材16上に溢れ出たインク18を拭き
取る。工程a5では、被覆部材16を剥離し、その後紫
外線を照射して前記インク18を固めることによって遮
光手段9を形成する。
In step a3, as shown in FIG.
For example, the ink 18 containing the ultraviolet curable resin is
Fill inside. Then, in step a4, as shown in FIG. 5 (5), the ink 18 overflowing onto the covering member 16 is wiped off. In step a5, the light shielding means 9 is formed by peeling off the covering member 16 and thereafter irradiating ultraviolet rays to solidify the ink 18.

【0028】被覆部材16の材質としては、各種粘着テ
ープ、ホトレジスト材、ガラス、金属などが利用できる
が、加工対象物に対するエキシマレーザのエネルギに対
応したものを選択する必要がある。
As the material of the covering member 16, various adhesive tapes, photoresist materials, glass, metals and the like can be used, but it is necessary to select a material corresponding to the energy of the excimer laser for the workpiece.

【0029】図6は、本発明の他の実施例を説明するた
めの図である。被覆部材16の厚みを調整することによ
って、インク拭き取り時のインク18の厚みを調整する
ことができる。したがって、図6(1)に示すように、
透明基板2の表面と均一となるような厚みにすることも
可能であり、また比較的被覆部材16の厚みを大きく選
ぶことによって、図6(2)に示すように、透明基板2
の表面から盛上った形に形成することも可能である。
FIG. 6 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention. By adjusting the thickness of the covering member 16, the thickness of the ink 18 at the time of wiping the ink can be adjusted. Therefore, as shown in FIG.
The thickness of the transparent substrate 2 can be made uniform so as to be uniform with the surface of the transparent substrate 2, and by selecting the thickness of the covering member 16 relatively large, as shown in FIG.
It is also possible to form a shape that rises from the surface of the substrate.

【0030】図7および図8は、本発明における比較例
を説明するための図である。図7では、前記紫外線硬化
形樹脂を含むインク18を、直接透明基板2の不良画素
領域A1上に塗布している。この図7に示す比較例で
は、透明基板2の表面の汚れを拭き取るなどの外的要因
によって遮光手段9が剥がれやすく、かつ膜厚はインク
18の表面張力によって決定されるので、調整すること
が難しく、また膜全体の厚さを均一にすることも困難で
ある。
FIGS. 7 and 8 are views for explaining a comparative example in the present invention. In FIG. 7, the ink 18 containing the ultraviolet curable resin is applied directly on the defective pixel area A1 of the transparent substrate 2. In the comparative example shown in FIG. 7, the light-shielding means 9 is easily peeled off by an external factor such as wiping off the surface of the transparent substrate 2 and the film thickness is determined by the surface tension of the ink 18. It is difficult, and it is also difficult to make the thickness of the entire film uniform.

【0031】図8では、透明基板2上に被覆部材16を
形成せずに直接凹所を形成し、該凹所に前記紫外線硬化
形樹脂を含むインク18を充填している。図8に示す比
較例では、充填するインク量が少なすぎると図8(1)
に示すように凹所に充分インク18を充填することがで
きないため、比較的インク量を多くして凹所に充填する
必要がある。この場合、図8(2)に示すように、凹所
からインク18が溢れ出てしまうため拭き取る必要があ
る。このとき、図8(3)に示すように凹所の中心部分
のインク18も同時に拭き取られてしまうため、前述の
図6に示すように、基板表面と均一あるいは基板表面よ
りも盛上げて遮光手段9を形成することは非常に困難で
あり、充分な膜厚を確保することができない。
In FIG. 8, a recess is formed directly on the transparent substrate 2 without forming the covering member 16, and the recess is filled with the ink 18 containing the ultraviolet curing resin. In the comparative example shown in FIG. 8, if the amount of ink to be filled is too small, FIG.
As shown in (1), since the ink cannot be sufficiently filled in the recess, it is necessary to fill the recess with a relatively large amount of ink. In this case, as shown in FIG. 8 (2), the ink 18 overflows from the recess and must be wiped. At this time, as shown in FIG. 8 (3), the ink 18 at the center of the recess is also wiped off at the same time. Therefore, as shown in FIG. It is very difficult to form the means 9, and a sufficient film thickness cannot be secured.

【0032】なお凹所の大きさは、液晶表示装置の画素
に対応して決定されるため、通常数十μm〜百数十μm
角に選ばれる。
Since the size of the recess is determined according to the pixel of the liquid crystal display device, it is usually several tens μm to one hundred and several tens μm.
Chosen as a corner.

【0033】図9は、凹所17の形成に用いられる凹所
形成装置30の側面図である。レーザ発振器31から出
射されたレーザビーム32は、不良画素領域A1上に形
成する凹所17の外形サイズが拡大された形状のパター
ンが形成されているスリットパターン33を通り、紫外
線反射ミラー34で反射された後、レンズ35を経て載
置台36上に載置された液晶表示装置1の不良画素領域
A1に集光されて照射される。
FIG. 9 is a side view of the recess forming apparatus 30 used for forming the recess 17. The laser beam 32 emitted from the laser oscillator 31 passes through a slit pattern 33 in which a pattern having a shape in which the outer size of the recess 17 formed on the defective pixel area A1 is enlarged is formed, and is reflected by an ultraviolet reflecting mirror. After that, the light is condensed on the defective pixel area A1 of the liquid crystal display device 1 mounted on the mounting table 36 via the lens 35 and irradiated.

【0034】レーザビーム32は、スリットパターン3
3を介して縮小スリット露光するため、不良画素領域A
1の位置に精度よく照射される。また、遮断片6を方形
の不良画素領域A1に対応する形状に形成することは困
難だけれども、スリットパターン33を用いることによ
って、凹所17を方形に形成することができ、形成領域
を小さくすることができる。また、載置台36は、たと
えば水平面内においてX−Y直交2軸方向に移動可能に
なっており、該載置台36の移動によってレーザビーム
32を所望の不良画素領域A1に照射することができ
る。
The laser beam 32 has a slit pattern 3
3, the defective pixel area A
The position 1 is precisely irradiated. Although it is difficult to form the blocking piece 6 in a shape corresponding to the rectangular defective pixel area A1, the use of the slit pattern 33 allows the concave portion 17 to be formed in a rectangular shape, thereby reducing the formation area. be able to. Further, the mounting table 36 is movable in, for example, two XY orthogonal directions in a horizontal plane, and the movement of the mounting table 36 can irradiate the laser beam 32 to a desired defective pixel area A1.

【0035】図10は本発明に用いられる遮光手段設置
装置20を示す図であり、図10(1)は後述する図1
1の工程b1を示す図であり、図10(2)は図11の
工程b5を示す図である。
FIG. 10 is a view showing a light shielding means installation device 20 used in the present invention, and FIG.
FIG. 10B is a view illustrating a step b1 of FIG. 1, and FIG. 10B is a view illustrating a step b5 of FIG.

【0036】フレーム49によって水平に設置されてい
るレール40の下面側に、レール40に沿って摺動する
摺動部材41が設置されている。摺動部材41のレール
40での摺動範囲は、レール40に設置されている2つ
のストッパ42a,42bによって規定される。
A sliding member 41 that slides along the rail 40 is provided on the lower surface side of the rail 40 horizontally installed by the frame 49. The sliding range of the sliding member 41 on the rail 40 is defined by two stoppers 42a and 42b installed on the rail 40.

【0037】摺動部材41には図10の下方に向かって
支持部材43が設置されており、支持部材43には図1
0の上下方向に摺動自在に摺動片44が設置されてい
る。摺動片44には図10の下方に向かって針45が設
置されている。
A support member 43 is installed on the sliding member 41 downward in FIG.
A sliding piece 44 is provided so as to be slidable in the up-down direction. A needle 45 is provided on the sliding piece 44 in a downward direction in FIG.

【0038】摺動部材41にバネ46の一端が接続され
ており、バネ46の他端は摺動片44に接続されてい
る。摺動片44は、バネ46によって摺動部材41方向
にバネ付勢されている。
One end of a spring 46 is connected to the sliding member 41, and the other end of the spring 46 is connected to a sliding piece 44. The sliding piece 44 is biased by a spring 46 toward the sliding member 41.

【0039】前述の構造の図10の下方には、台48が
設置されている。台48上には遮光手段9となるインク
18の入った容器47と、不良画素領域A1を有する液
晶表示装置1とが設置されている。インク18は紫外線
硬化樹脂を含み、紫外線照射処理前は液体である。
A table 48 is provided below the structure shown in FIG. On the table 48, a container 47 containing the ink 18 serving as the light shielding means 9 and the liquid crystal display device 1 having the defective pixel area A1 are installed. The ink 18 contains an ultraviolet curable resin, and is a liquid before the ultraviolet irradiation treatment.

【0040】摺動部材41をストッパ42aと接触さ
せ、摺動片44を降下させてインク18が針45に付着
する位置に、容器47は設置されている。また、摺動部
材41をストッパ42bと接触させ、摺動片44を降下
させて針45が接触する位置Pに不良画素領域A1がく
るように、液晶表示素子1が設置されている。
The container 47 is provided at a position where the sliding member 41 is brought into contact with the stopper 42a, the sliding piece 44 is lowered, and the ink 18 adheres to the needle 45. Further, the liquid crystal display element 1 is arranged such that the sliding member 41 is brought into contact with the stopper 42b, the sliding piece 44 is lowered, and the defective pixel area A1 is located at the position P where the needle 45 contacts.

【0041】図11は、図10に示した遮断片設置装置
20を用いて、遮光手段9を設置する工程を説明する工
程図である。工程b1では、図10(1)に示すよう
に、摺動部材41をストッパ42aに接触する位置に摺
動させる。この位置では、針45がインク18上に位置
する。工程b2では、摺動片44を降下して針45の先
端にインク18を付着させる。
FIG. 11 is a process diagram illustrating a process of installing the light shielding means 9 using the shielding piece installation device 20 shown in FIG. In step b1, as shown in FIG. 10A, the sliding member 41 is slid to a position where it contacts the stopper 42a. In this position, the needle 45 is located on the ink 18. In step b2, the ink is attached to the tip of the needle 45 by descending the sliding piece 44.

【0042】工程b3では、ストッパ42bに摺動部材
41を接触させて、摺動片44を降下したときに針45
が接触する位置Pに、液晶表示装置1の不良画素領域A
1がくるように液晶表示装置1を位置決めする。
In step b3, the sliding member 41 is brought into contact with the stopper 42b, and the needle 45 is moved when the sliding piece 44 is lowered.
A defective pixel region A of the liquid crystal display device 1
The liquid crystal display device 1 is positioned so that 1 comes.

【0043】工程b4では、摺動部材41をストッパ4
2bに接触するまで摺動させ、工程b5では、図10
(2)に示すように、摺動片44を降下させて不良画素
領域A1上に針45の先端を接触させ、インク18を付
着する。
In step b4, the sliding member 41 is
2b until it comes into contact with it.
As shown in (2), the sliding piece 44 is lowered to bring the tip of the needle 45 into contact with the defective pixel area A1, and the ink 18 is attached.

【0044】その後、インク18に紫外線を照射して硬
化させる。インク18は硬化するとともに液晶表示装置
1上に固着される。
Thereafter, the ink 18 is irradiated with ultraviolet rays to be cured. The ink 18 is cured and fixed on the liquid crystal display device 1.

【0045】形成される遮光手段9の大きさは、針45
の先端形状や太さ、容器47内のインク18の膜厚など
によって任意に選ばれる。
The size of the light shielding means 9 to be formed is
Arbitrarily selected depending on the tip shape and thickness of the ink, the thickness of the ink 18 in the container 47, and the like.

【0046】以上のように本実施例によれば、不良画素
領域A1を透過する光の光路を遮断することによって、
不良画素からの光の漏れを防止することができ、表示品
位を向上することができる。
As described above, according to the present embodiment, by blocking the optical path of the light passing through the defective pixel area A1,
Light leakage from defective pixels can be prevented, and display quality can be improved.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、不良画素
に対応する領域から漏れる光は、入射光および出射光の
光路上であって不良画素に対応する領域に設けられる遮
光手段によって遮光される。したがって、不良画素に対
応する領域から光の漏れを防止することができ、表示品
位を格段に向上することができる。また、本発明によれ
ば、凹所に形成される遮光性樹脂の厚みを厚くすること
ができ十分な遮光性が得られる。
As described above, according to the present invention, the light leaking from the area corresponding to the defective pixel is shielded by the light shielding means provided in the area corresponding to the defective pixel on the optical path of the incident light and the output light. Is done. Therefore, it is possible to prevent light from leaking from the region corresponding to the defective pixel, and it is possible to significantly improve display quality. According to the present invention,
For example, increase the thickness of the light-shielding resin formed in the recess
And a sufficient light-shielding property can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例である液晶表示装置1の構成
を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display device 1 according to an embodiment of the present invention.

【図2】液晶表示装置1の利用例を説明するための図で
ある。
FIG. 2 is a diagram for explaining a usage example of the liquid crystal display device 1.

【図3】液晶表示装置1の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the liquid crystal display device 1.

【図4】液晶表示装置1の製造方法を説明するための工
程図である。
FIG. 4 is a process chart for explaining a method for manufacturing the liquid crystal display device 1.

【図5】液晶表示装置1の製造方法を説明するための断
面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the liquid crystal display device 1.

【図6】本発明の他の実施例を説明するための図であ
る。
FIG. 6 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention.

【図7】本発明における比較例を説明するための図であ
る。
FIG. 7 is a diagram for explaining a comparative example in the present invention.

【図8】本発明における比較例を説明するための図であ
る。
FIG. 8 is a diagram for explaining a comparative example in the present invention.

【図9】凹所形成装置30の側面図である。9 is a side view of the recess forming device 30. FIG.

【図10】遮光手段設置装置20の側面図である。FIG. 10 is a side view of the light shielding means installation device 20.

【図11】遮光手段の形成方法を説明する工程図であ
る。
FIG. 11 is a process diagram illustrating a method of forming a light shielding unit.

【符号の説明】 1 液晶表示装置 2,3 透明基板 4 全面電極 5,7 配向膜 6 画素電極 8 液晶層 9 遮光手段 16 被覆部材 17 凹所 A1 不良画素領域[Description of Signs] 1 Liquid crystal display device 2, 3 Transparent substrate 4 Full surface electrode 5, 7 Alignment film 6 Pixel electrode 8 Liquid crystal layer 9 Light shielding means 16 Covering member 17 Depression A1 Defective pixel area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉村 和也 大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャー プ株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−187532(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Kazuya Yoshimura 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi Inside Sharpe Co., Ltd. (56) References JP-A-1-187532 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一対の透光性基板間に液晶層を介在し、
複数の画素がマトリクス状に形成される液晶表示装置の
製造方法において、 前記一対の透光性基板のうち少なくとも一方基板の液晶
層とは反対側表面に被覆手段を形成し、 入射光および出射光の光路上であり、かつ、前記一方基
板の被覆手段形成面側であって、不良画素に対応する領
域に凹所を形成し、 前記凹所に遮光性樹脂を充填し、 前記被覆手段を剥離することを特徴とする液晶表示装置
の製造方法。
A liquid crystal layer is interposed between a pair of translucent substrates,
A liquid crystal display device in which a plurality of pixels are formed in a matrix
In the manufacturing method, a liquid crystal of at least one of the pair of translucent substrates is used.
Forming a coating means on the surface opposite to the layer, on the optical path of the incident light and the emitted light, and
The area corresponding to defective pixels on the side of the plate where the coating means is formed
A liquid crystal display device , wherein a recess is formed in a region, a light shielding resin is filled in the recess, and the covering means is peeled off.
Manufacturing method.
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