KR20070016995A - 세정 장치 및 이에 이용되는 미스트 발생장치 - Google Patents

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다카시 미야유티
히로유키 후지이
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마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 피세정물로서의 욕조 내 또는 욕실 전체에 세제 성분을 포함한 미스트를 주입하기 위한 미스트 발생 장치를 배치한 세정 장치이다. 이들 피세정물에 대해, 무화(霧化)한 고농도의 세제액을 주입, 충만시키고, 그 세제액의 화학력을 이용하여 피세정물의 세정을 행함으로써, 소량의 물과 전력으로 피세정물의 세정을 행할 수 있다.

Description

세정 장치 및 이에 이용되는 미스트 발생장치{CLEANING APPARATUS AND MIST GENERATOR FOR THE SAME}
도 1은 본 발명의 실시 형태 1에 있어서의 욕조의 세정 장치를 도시한 단면도,
도 2는 도 1에 도시한 세정 장치의 미스트 발생 장치의 확대 단면도,
도 3은 본 발명의 실시 형태 2에 있어서의 욕실의 세정 장치를 도시한 사시도,
도 4는 종래의 욕실의 세정 시스템의 사시도이다.
본 발명은, 욕조나 욕조가 설치된 욕실 내를 세정하기 위한 세정 장치 및 이에 이용되는 미스트 발생장치에 관한 것이다.
종래의 욕실에서 욕조를 세정하는 경우에는, 세제액을 이용하여 사람이 욕조 표면을 문질러 얼룩을 제거하는 방법이 일반적이다.
또, 자동적으로 욕조나 세면장을 세정할 수 있도록 하는 세정 시스템도 제안되어 있다. 예를 들면, 일본국 공개 특허 공보 특개평10-216068호 공보에 개시되 는 바와 같은 욕실의 세정 시스템이 있다. 즉, 도 4에 도시하는 바와 같이, 이 세정 시스템은, 욕실(101) 내에 설치된 욕조(102)에 대해, 세제를 산포(散布)하기 위해 펌프(세제 분무 수단)(103)을 이용하여, 세제 노즐(세제 분무 수단)(104)로부터 세제를 욕실에 전체적으로 산포한다. 이에 따라, 욕조(102)의 얼룩을 뜨게 한다. 그 후에, 방수 노즐(산수(散水) 수단)(105)로부터, 상수(上水)를 샤워로서 산수하여, 얼룩과 세제 성분을 씻어내는 구성이다.
그렇지만, 상기와 같은 종래의 구성에서는, 세제액을 분무하기 위한 펌프(103)나, 얼룩이나 세제 성분을 씻어내기 위한 상수를 분사하기 위한 방수 노즐(105)이 필요하다.
또한 상기와 같은 세정 시스템에 있어서, 욕조 내 또는 욕실 전체에 세제액이나 상수를 빈틈없이 분사하기 위해서는, 다음과 같은 장치가 필요하다. 즉, 분사를 위해 세제액이나 상수에 압력을 가하기 위한 펌프나, 욕실 전체에 세제액이나 상수를 분사하기 위해 분사구를 이동 및 회전시키는 구동 장치나, 각 장치를 위한 배관 등이 필요하게 된다. 또, 이들 장치의 제어도 복잡해지게 된다.
또, 펌프(103)는, 분무구로부터 상당히 큰 입경(粒徑)의 세제액을 분사하기 때문에, 그 세제액은 비산의 방향성을 가져, 욕조 내 또는 욕실 전체에 빈틈없이 분무하는 것이 어렵다는 과제도 있었다.
본 발명의 세정 장치는, 욕실에 설치된 욕조 속에 세제 성분을 포함한 무 (霧)(이하, 미스트라고 한다)를 주입하기 위한 미스트 발생 장치를 구비한 것이다.
이 구성에 의해, 욕조 속에 무화한 고농도의 세제액을 주입하여, 그 세제액의 화학력을 이용하여 욕조의 세정을 행한다. 그 결과, 소량의 물과 전력으로 욕조의 세정을 행할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 관하여, 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 이 실시 형태에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
(실시 형태 1)
도 1은 본 발명의 실시 형태 1에 있어서의 욕조의 세정 장치를 도시한 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시한 세정 장치의 미스트 발생 장치의 확대 단면도이다.
도 1 및 도 2에서, 미스트 발생 장치(20)는, 욕실(1) 내에 설치된 욕조(2)에 연통(連通)되어 있다. 미스트 발생 장치(20)는, 무화 장치(8), 미스트 발생부(6), 및 미스트 발생부(6)의 개구부를 덮음과 동시에 사용자가 세제를 투입하기 위한 투입 덮개(10)를 포함한다. 미스트 발생 장치(20)가 욕조(2)를 충만하도록 하는 양의 미스트를 발생한다. 본 실시 형태 1의 세정 장치는, 미스트 발생 장치(20)에 서 세제 성분을 포함한 미스트(7)를 발생시켜, 욕조(2)에 대해 그 미스트(7)를 주입하도록 구성되어 있다.
미스트 발생 장치(20)의 구체적 구성은 다음과 같다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 미스트 발생부(6)의 저부에 무화 장치(8)를 배치한다. 무화 장치(8)의 위에는 저액부(貯液部)(9)가 설치되어, 세제액을 저장해 둔다. 미스트 발생부(6)의 천정면에는 투입 덮개(10)가 설치되어 있다. 세제액을 만들기 위해서는, 사용자가, 투입 덮개(10)를 열어, 그곳을 통해 저액부(9)로 세제를 투입한다.
세제액을 만들어 그것을 무화하기 위해서는, 세제액을 적정한 수위로 하는 것이 필요하다. 그렇기 때문에, 본 실시 형태 1의 세정 장치는, 상수로부터 분기하여 자동적으로 상수를 공급하기 위한 급수 밸브(11)와 수위 센서(도시하지 않음)를 배치하여, 저액부(9)에 적정한 양의 물을 공급한다.
무화 장치(8)는, 액체(8a)를 봉입한 용기(8b)와, 그 용기(8b)의 저면부에 배치되며, 초음파 진동자로 이루어진 무화용 진동자(8c)로 구성되어 있다. 무화용 진동자(8c)와 대향하는 용기(8b)의 천정면(8d)은, 무화용 진동자(8c)가 구동되었을 때에, 액체(8a)를 통해 무화용 진동자(8c)로부터 전파된 진동에 의해 진동하는 진동면이 된다. 천정면(8d)은, 세제액의 성분에 대해 영향을 받지 않는 물질이며, 또한 진동하기 쉬운 수지에 의해 형성된다.
상기 구성에 있어서의 미스트 발생 장치(20)에 의해, 미스트 발생부(6)에서 세제분을 포함한 미스트(7)를 발생하기 위한 동작 및 작용에 대해 설명한다.
우선, 사용자는 투입 덮개(10)를 열어 세제를 투입한다. 미스트 발생 장치(20)의 전원을 켜고, 동작이 개시되면, 급수 밸브(11)와 수위 센서에 의해 적정한 수위의 세제액을 만든다.
다음에, 무화용 진동자(8c)를 구동하면, 무화용 진동자(8c)의 진동이 액체(8a)를 통해 천정면(8d)에 전파된다. 그러면, 천정면(8d)이 진동하여, 용기(8b) 외측의 무화용 액체, 즉, 천정면(8d) 상의 세제액이 무화되어 세제 성분을 포함한 미스트(7)를 발생한다.
여기서, 세제는, 욕조용 세제를 적당히 선택하면 된다. 또, 표백을 행하고자 할 경우에 있어서는, 표백제를 이용해도 상관없다.
또, 세제 성분을 포함한 미스트(7)로서 비산 및 부유(浮遊)시키기 위해, 세제를 소량의 상수로써 희석한다. 따라서, 가령 세제액의 농도가 본래 권장되어 있는 농도보다 짙은 것을 사용하였다 하더라도, 사용하는 세제량이 극단으로 증가하는 경우는 없으며, 취급하기 어려운 것도 없다. 또, 고농도의 세제액은 세정에 대해서도 유효한 것이 많다. 여기서, 세제액은, 무화가 가능하면 세제의 원액을 이용해도 상관없다.
본 실시 형태 1에 의하면, 무화 장치(8)의 무화용 진동자(8c) 상측이, 용기(8b) 내에 봉입된 액체(8a)에 접촉될 뿐이며, 무화용 진동자(8c)의 표면이 세제액과 직접 접촉하는 일은 없다. 세제액에 면하는 천정면(8d)은, 여러 가지 화학 성분에 대해 문제가 없는 재료로 구성한다. 이에 따라, 무화용 진동자(8c)가 고장나거나, 무화용 진동자(8c)의 동작에 영향을 주어 무화량의 현저한 저하를 초래하거나 하는 일 없이, 무화 장치(8)는 장기간에 걸쳐 안정되게 그 기능을 다할 수 있다.
또, 세제액에 사용하는 물로서, 우물물 등의 매우 경도가 높은 물을 사용하는 경우에 있어서도, 무화용 진동자(8c)의 표면에 무기질분이 부착되거나, 그 동작에 영향을 주는 일이 없다. 무화 장치(8)가 세제액의 무화를 장기간에 걸쳐 안정적으로 행할 수 있다.
다음에, 욕조(2) 주변의 구성에 대해 설명한다. 욕조(2)에 연통시켜 미스트 발생 장치(20)를 배치하고 있다. 미스트 발생 장치(20)의 미스트 발생부(6)는, 급수 밸브(11)에 연결되어 있다. 또, 세제 성분이 포함된 미스트(7)를 분무한 후에, 얼룩을 씻어내기 위한 샤워를 분사하는 급수 분사부(12)도 설치되어 있다.
급수 분사부(12)는, 상수도로부터 분기함과 동시에, 그 분사를 제어하기 위한 분사용 급수 밸브(12a)와, 욕조(2)에 대해 상수를 분사하기 위한 분사 노즐(12b) 및 그 배관을 구비하고 있다. 무화 장치(8)나 급수 분사부(12)를 제어하기위한 제어부(13)도 배치되어 있다.
상기 구성에 의한 본 실시 형태 1에 있어서의 세정 장치에 대해, 그 동작 및 작용을 설명한다.
우선, 욕조(2)의 세정을 행하는 경우, 사용자가 미스트 발생 장치(20)의 투입 덮개(10)를 열어, 소정량의 세제를 투입한다. 세제를 투입한 후에 무화 장치(8)를 구동하여, 미스트 발생부(6)에 세제 성분을 포함한 미스트(7)를 발생시킨다. 이 때의 세제 성분을 포함한 미스트(7)의 발생량은, 욕조(2)를 충분히 충만시킬 능력을 지닌 양으로 하고 있다. 피세정물인 욕조(2)의 모든 부분에 세제 성분이 포함된 미스트(7)를 부착시킨다. 세제 성분을 포함한 매우 가벼운 미스트라도, 서서히 침강하기 때문에, 항상 욕조(2) 내에 세제 성분을 포함한 미스트(7)를 충만시켜 두도록, 간헐적으로 무화 장치(8)를 구동해 둔다. 욕조(2)의 용적이 큰 경우에는, 미스트 발생 장치(20) 내부에 팬(미도시)을 설치하여, 이 팬에 의해, 발생시킨 세제 성분을 포함한 미스트(7)를 욕조(2) 내에 힘있게 송출시키면, 욕조(2) 내의 전체에 미치지 않는 곳 없이 이르게 하여, 세정하고자 하는 부분에 부착시킬 수 있다. 그리고, 세제 성분이 욕조(2)의 얼룩에 작용하여, 얼룩이 욕조(2)에서 떠오를 때까지 방치해 둔다.
다음은, 떠오른 얼룩을, 샤워의 분사에 의해 씻어낼 필요가 있다. 욕조(2)의 적소에 복수 배치하고 있는 급수 분사부(12)를 이용하여, 욕조(2) 내에 상수를 분사하여 얼룩을 씻어낸다. 이렇게 해서, 간단히 욕조(2) 내의 세정을 행할 수 있다.
또, 제어부(13)에 예약 기능을 탑재함으로써, 소정의 시각에 욕조(2)의 청소를 자동적으로 행할 수 있다. 미리 필요 회수의 세제액 양을 미스트 발생부(6)에 저장해 두고, 통상, 사용자가 욕조를 사용하는 시간 후의 소정의 시각에 무화 장치(8)나 급수 분사부(12)를 동작시킨다. 이에 따라, 수고할 필요도 없이, 항상 욕조(2)를 청소하여, 깨끗한 상태로 유지할 수 있다.
여기서, 욕조(2)의 세정에 대하여, 전자동으로서의 세정 장치를 설명하고 있지만, 욕조(2)의 세정에서 어려운 것은, 사람이 세제를 이용하여 욕조(2) 내를 문질러 세정하는 것이다. 따라서, 본 발명의 세정 장치에 있어서, 세제 성분이 포함된 미스트(7)를 발생시켜 욕조(2) 내의 얼룩을 떠오르게 하는 동작까지를 행하도록 설정하여도 된다. 그 경우에서도, 그 후에는 사람이 상수의 샤워를 분사하는 것만으로 간단히 욕조(2) 내를 세정할 수 있기 때문에 충분히 가치가 있다. 또, 얼룩을 씻어내기 위한 급수 분사부(12)는, 전체를 잘 세정하기 위해서는 구성이 복잡해지기 때문에, 이와 같이 세제 성분이 포함된 미스트(7)를 발생시키는 기능만을 갖는 세정 장치 쪽이, 보다 저렴하고 간단하게 구성할 수 있다.
이상과 같이, 본 실시 형태 1의 세정 장치는, 욕조(2) 속에 충분히 충만하는 세제 성분을 포함한 미스트(7)를 주입하도록 미스트 발생 장치(20)를 배치한 것으로, 욕조(2) 내의 얼룩에 대해, 세제 성분을 포함한 미스트 형상의 세제분으로서의 미스트(7)를 부착시킨 후, 방치하여, 세제의 화학 작용에 의해 얼룩이 뜬 상태에서, 급수 분사부(12)에 의해 욕조(2) 내의 얼룩을 씻어냄으로써, 간단히 세정을 행할 수 있다.
또한, 세제 성분을 포함한 미스트(7)의 입경은, 발명자들이 실험에 의해 확인한 바에 따르면, 2 ~ 3 ㎛ 정도를 분포의 중심으로 한 0.1 ~ 50 ㎛의 범위의 입경으로 한 경우가, 세정 효과에 있어서 적합하였다.
(실시 형태 2)
도 3은 본 발명의 실시 형태 2에 있어서의 욕실의 세정 장치를 도시한 사시도이다.
도 3에서, 미스트 발생 장치(20)에서 세제 성분을 포함한 미스트를 발생시켜, 그 미스트를 욕조가 설치된 욕실(14) 내에 주입할 수 있도록 구성되어 있다. 그리고, 미스트 발생 장치(20)는, 욕실(14)을 충만하는 양의 미스트를 발생한다.
미스트 발생 장치(20)의 구체적 구성은, 상기 실시 형태 1과 동일한 것이다. 단, 세정을 하는 공간은, 실시 형태 1에 있어서의 욕조(2)에 비해 매우 넓다. 따라서, 실시 형태 1에 있어서의 무화 장치(8)에 상당하는 실시 형태 2의 무화 장치의 능력은, 실시 형태 1의 그것에 비해 큰 것으로 하고 있다.
또, 세제 성분을 포함한 미스트는, 상술한 바와 같이 침강하기 때문에, 욕 실(14) 내의 전체에 빈틈없이 부착하기 위해 순환팬(도시하지 않음)을 이용하고 있다.
또, 급수 분사부(12) 및 제어 장치(도시하지 않음)도, 실시 형태 1과 동일한 구성이다. 급수 분사부(12)는, 광범위한 부분을 세정하기 위해 분사 노즐의 수량을 적정화 하거나, 또는 이동 가능하게 함으로써, 욕실(14) 내의 얼룩을 효율적으로 씻어낼 수 있다.
본 실시 형태 2의 구성에 의한 세정의 동작 및 작용은, 실시 형태 1의 그것들과 동일하므로 설명을 생략한다.
이상과 같이, 본 실시 형태 2에 있어서는, 욕실(14) 속에 충분히 충만하는 양의 세제 성분을 포함한 미스트를 주입하도록 무화 장치를 배치한 것이다. 욕실(14) 내의 얼룩에 대해, 세제 성분을 포함한 미스트가 부착된 후, 방치하고, 세제의 화학 작용에 의해 얼룩이 뜬 상태에서, 급수 분사부(12)에 의해 욕실(14) 내의 얼룩을 씻어냄으로써, 간단히 세정을 행할 수 있다.
이상의 설명에 근거하여 본 발명의 세정 장치에 대해, 그 작용 및 효과를 정리하면 다음과 같다.
본 발명의 세정 장치는, 욕조 또는 욕실 전체에 세제 성분을 포함한 미스트를 주입하기 위한 미스트 발생 장치를 구비한 것으로, 피세정물로서의 욕조 속, 또는 욕실 전체에, 세제 성분을 포함한 미스트를 주입하여, 충만시킴으로써, 욕조나 욕실 전체에 미스트를 부착시킨다. 그리고, 소정 시간 방치해 두면 세제의 화학력에 의해, 욕조나 욕실에 부착되어 있는 얼룩이 떠올라, 피세정물로부터 벗겨지기 쉽게 된다. 그 상태에서, 상수의 샤워를 분사함으로써 떠오른 얼룩을 벗겨 제거할 수 있다.
여기서, 세제 성분을 포함한 입경이 매우 작은 미스트는, 얼룩에 대해 부착할 때에, 그 얼룩에 대해 구멍을 내어가면서, 얼룩 내부에 세제 성분을 주입할 수 있다. 따라서, 얼룩과 피세정물과의 경계에 세제 성분을 유효하게 작용시킬 수 있기 때문에, 통상의 세제액을 분사하는 것보다 얼룩을 떠오르게 한다는 효과가 크다. 특히, 막이 된 기름 얼룩에 대해서는, 매우 효과가 있다.
이 세제 성분을 포함한 미스트는, 공중에 부유 가능하고, 충만시키는 것만으로 욕조 또는 욕실 전체에 미치지 않는 곳 없이 이르게 할 수 있는, 2 ~ 3 ㎛ 정도를 분포의 중심으로 한 0.1 ~ 50 ㎛ 범위의 입경으로 하였기 때문에, 소량의 세제액을 무화용 진동자인 초음파 진동자로 무화시킴으로써 발생할 수 있다.
따라서, 미스트 자신의 형성에 필요한 소량의 물로 실시 가능하며, 펌프와 세제 노즐을 포함한 순환경로 전체에 채운 세제액을 펌프로 압송하여 분무하는 종래의 세정 시스템과 같이, 대량의 물을 사용하지 않고도, 또, 가열하지 않아도, 또한, 세정하고자 하는 부분에 분사구를 이동 및 회전시키는 구동장치가 불필요하고, 그에 따라서 제어장치도 간편한 것으로 가능하므로, 매우 소량의 전력에 의해 세정을 행할 수 있다.
즉, 종래의 세정 시스템과 같이, 세정하고자 하는 부분을 조준하여 세제액을 분사할 필요가 없고, 세정하고자 하는 욕조 또는 욕실 내에 세제 성분을 포함한 미스트를 충만시켜 방치해 두면 되므로, 장치가 간단하고, 사용하는 물 및 전력이 적 어도 가능한 것이다.
이상으로부터 명백히 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 세정 장치는, 욕실 내에 설치된 욕조 속에 세제 성분을 포함한 미스트를 주입하기 위한 미스트 발생 장치를 배치한 것으로, 소량의 세제액을 초음파 진동자로 무화시킴으로써 세제 성분을 포함한 미스트를 발생시켜, 욕조 내에 주입할 수 있다. 그 세제액의 화학력을 이용하여 욕조 내의 세정을 행함으로써, 소량의 물과 전력으로 피세정물의 세정을 행할 수 있다.
또, 세제 성분을 포함한 미스트가 욕조를 충만하는 양을 발생하는 미스트 발생 장치를 배치한 것에서는, 욕조 내 전체에 걸쳐 세정하기 위해, 그 속을 충분히 충만시키는 것이 유효하기 때문에, 효율적으로 욕조 내의 세정을 행할 수 있다.
또, 세제 성분을 포함한 미스트가 욕실 전체를 충만하도록 하는 양을 발생하는 무화 장치를 배치한 것에서는, 욕실 내 전체에 걸쳐 세정하기 위해, 그 속을 충분히 충만시키는 것이 유효하기 때문에, 효율적으로 욕실 전체의 세정을 행할 수 있다.
또, 세제 성분을 포함한 미스트를 충만시킨 후에, 샤워를 분사하기 위한 급수 분사부를 갖는 것에서는, 세제 성분을 포함한 미스트에 의해, 욕조 또는 욕실내전체로부터 얼룩을 띄운 후, 샤워의 분사에 의해 얼룩을 간단히 벗길 수 있다.
소정의 시각에 세제 성분을 포함한 미스트를 욕조 속, 또는 욕실 전체에 주입하도록 무화 장치를 배치한 것은, 예를 들면, 매일 밤, 맨 마지막 사람이 입욕한 후의 소정 시간에, 미스트 발생 장치를 구동하면, 사람이 없을 때에 세제 성분이 포함된 미스트를 이용하여, 욕조 내 또는 욕실 전체의 얼룩을 띄워 둘 수 있다. 이것은, 세제 성분이 포함된 미스트는 매우 가볍기 때문에, 사람이 움직이는 것만으로 그 부유 상태가 변하여, 필요한 얼룩이 있는 장소의 세제 성분이 포함된 미스트가 없어지는 것을 막을 수 있다. 또, 매일 확실히 세정함으로써, 욕조 내 또는 욕실 전체를 항상 깨끗한 상태로 유지할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 미스트 발생 장치는, 세제액을 진동시키기 위한 무화용 진동자와, 무화용 진동자의 진동면 측에 액체를 봉입한 용기를 포함하고, 봉입한 액체와 용기를 통해 용기 외측의 무화용 액체를 무화하도록 구성한 것으로, 무화용 진동자가, 직접, 세제액에 접촉하지 않도록 함으로써, 여러 가지 세제액의 사용이나 우물물 등의 사용에 있어서도, 무화용 진동자의 표면에 세제의 특정한 성분이나 무기질분이 직접 부착하는 일이 없다. 그 결과, 무화의 동작에 영향을 주는 일 없이, 본래의 목적인 세제액의 무화를 장기간에 걸쳐 안정적으로 행할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 세정 장치는, 피세정물로서의 욕조 또는 욕실 속에 세제 성분을 포함한 미스트를 주입하는 무화 장치를 배치한 것으로, 피세정물을 간단히 세정할 수 있기 때문에, 욕조 또는 욕실에 널리 적용할 수 있다.

Claims (10)

  1. 욕실 또는 욕실 내에 설치된 욕조 속에 세제 성분을 포함한 미스트를 주입하기 위한 미스트 발생 장치를 구비한 세정 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 미스트 발생 장치는, 세제액을 진동시킴으로써 상기 미스트를 발생하는, 세정장치
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 미스트 발생 장치는, 상기 욕조를 충만하는 양의 상기 미스트를 발생하는, 세정 장치.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 미스트 발생 장치는, 상기 욕실 내의 전체를 충만하는 양의 상기 미스트를 발생하는, 세정 장치.
  5. 청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,
    상기 미스트 발생 장치는, 소정의 시각에 상기 미스트를 주입하는, 세정 장치.
  6. 청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,
    상기 미스트를 충만시킨 후에 샤워를 분사하기 위한 급수 분사부를 더 구비한 세정 장치.
  7. 청구항 2 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 미스트 발생 장치는,
    무화용 진동자와,
    상기 무화용 진동자의 진동면 측에 액체를 봉입한 용기를 구비하고,
    상기 무화용 진동자는, 상기 봉입한 액체와 상기 용기를 통해, 상기 용기 외측의 세제액을 무화하는, 세정 장치.
  8. 세제액을 진동시키기 위한 무화용 진동자와,
    상기 무화용 진동자의 진동면 측에 액체를 봉입한 용기를 포함하며,
    상기 무화용 진동자는, 상기 봉입한 액체와 상기 용기를 통해, 상기 용기 외측의 상기 세제액을 진동시킴으로써 세제 성분을 포함한 미스트를 발생시켜, 이를 욕실 또는 욕실 내에 설치된 욕조 속에 주입하는, 미스트 발생 장치.
  9. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 미스트의 입경은, 2 ~ 3 ㎛ 정도를 분포의 중심으로 한 0.1 ~ 50 ㎛ 범 위의 입경인, 세정장치.
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 미스트의 입경은, 2 ~ 3 ㎛ 정도를 분포의 중심으로 한 0.1 ~ 50 ㎛ 범위의 입경인, 미스트 발생 장치.
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