KR20070005514A - 액정 장치 및 그 제조 방법 및 전자기기 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 제품 비용의 절감 등을 도모할 수 있는 R, G, B 및 W의 각 색을 이용한 멀티갭 구조를 갖는 반투과 반사형 액정 장치 등을 제공하기 위한 것으로, 본 발명의 액정 장치는 컬러 필터 기판과 소자 기판이 밀봉재를 통해 접합되고, 그 내부에 액정이 밀봉되어 이루어진다. 본 발명의 특징을 이루는 컬러 필터 기판은 R, G, B 및 W(투명)의 2행 2열의 각 서브 화소 영역을 하나의 화소 영역으로서 구성되고, 그 화소 영역이 행렬 형상으로 복수 배치된 유효 표시 영역을 갖는다. R, G, B의 각 서브 화소 영역은 투과 영역 및 반사 영역을 갖는다. R, G, B의 각 서브 화소 영역에는 각 색에 대응하는 착색층이 마련된다. 특히, 이 컬러 필터 기판은 R, G 및 B의 각 반사 영역의 각 착색층 상에 대응하는 위치 및 W(투명)의 서브 화소 영역에 대응하는 위치에 각기 동일한 공정에서 동시에 형성된 동일한 투명 수지 재료로 이루어지는 셀 두께 조정용 절연층이 마련되어 있다. 이에 따라, R, G, B의 각 서브 화소 영역에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를, 또한 W의 서브 화소 영역에 셀 두께 조정용 셀 두께 조정층을 각기 동시에 형성할 수 있다. 이에 따라, 공정의 삭감을 도모할 수 있어, 액정 장치의 제품 비용을 감소시킬 수 있다.
Description
도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 액정 장치의 구성을 모식적으로 나타내는 평면도,
도 2는 실시예 1의 R, G, B 및 W를 포함하는 하나의 화소 구성을 나타내는 평면도,
도 3은 실시예 1의 R, G, B의 각 서브 화소의 구성을 나타내는 평면도,
도 4는 도 3에서의 A-A'선 및 B-B'선 부분 단면도,
도 5는 도 3에서의 B-B'선 부분 단면도,
도 6은 도 2에서의 C-C'선 부분 단면도,
도 7은 실시예 2의 R, G, B 및 W를 포함하는 하나의 화소 구성을 나타내는 평면도,
도 8은 실시예 2의 R, G, B의 각 서브 화소의 구성을 나타내는 평면도,
도 9는 도 8에서의 D-D'선 및 E-E'선 부분 단면도,
도 10은 도 7에서의 F-F'선 부분 단면도,
도 11은 실시예 1의 액정 장치를 변형한 구성을 나타내는 부분 단면도,
도 12는 실시예 2의 액정 장치를 변형한 구성을 나타내는 부분 단면도,
도 13은 R, G, B 및 W를 포함하는 하나의 화소 구성의 각종 변형예를 나타내는 평면도,
도 14는 R, G, B 및 W를 포함하는 하나의 화소 구성의 각종 변형예를 나타내는 평면도,
도 15는 실시예 1 및 2의 액정 장치의 제조 방법을 나타내는 흐름도,
도 16은 실시예 1의 컬러 필터 기판의 제조 방법을 나타내는 흐름도,
도 17은 실시예 1에 따른 컬러 필터 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도,
도 18은 실시예 1에 따른 컬러 필터 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도,
도 19는 실시예 1에 따른 컬러 필터 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도,
도 20은 실시예 1에 따른 컬러 필터 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도,
도 21은 실시예 1에 따른 컬러 필터 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도,
도 22는 실시예 2의 컬러 필터 기판의 제조 방법을 나타내는 흐름도,
도 23은 실시예 2에 따른 컬러 필터 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도,
도 24는 실시예 2에 따른 컬러 필터 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도,
도 25는 실시예 2에 따른 컬러 필터 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도,
도 26은 변형예에 따른 컬러 필터 기판의 제조 공정 등을 나타내는 단면도,
도 27은 본 발명의 액정 장치를 적용한 전자기기의 회로 블럭도,
도 28은 본 발명의 액정 장치를 적용한 전자기기의 예를 나타내는 도면이다.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
4 : 액정층 5 : 반사 전극
6 : 착색층 8 : 공통 전극
10 : 화소 전극 18 : 셀 두께 조정용 절연층
21 : TFT 소자 32 : 소스선
33 : 게이트선 62 : 데이터선
63 : TFD 소자 64 : 주사 전극
65 : 반사층 70, 75, 76, 79 : 마스크
40 : 드라이버 IC 41 : FPC
91, 93 : 소자 기판 92, 94, 96 : 컬러 필터 기판
100, 200 : 액정 장치
본 발명은 각종 정보의 표시에 이용하는데 적합한 액정 장치 및 전자기기에 관한 것이다.
종래로부터, 액정 장치, 유기 전계 발광 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 및 필드 에미션 표시 장치 등의 각종 전기 광학 장치가 알려져 있다.
이러한 전기 광학 장치의 일례인, 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT) 등의 스위칭 소자를 이용한 액티브 매트릭스 방식의 액정 장치는 고화질 및 고속 응답성 등의 이점을 갖기 때문에, 텔레비전이나 휴대 정보 단말 등에 이용되고 있다.
그와 같은 액정 장치는 화소 전극, TFT 소자, 복수의 주사선(게이트선), 복수의 신호선(소스선) 및 드라이버 IC 등의 형성 또는 실장되는 소자 기판과, R(적색), G(녹색), B(청색) 등의 삼색의 컬러 필터나 대향 전극 등이 형성되는 대향 기판이 프레임 형상의 밀봉재를 통해 접합되고, 양 기판 사이에 액정이 주입 밀봉되어 이루어진다.
최근, 이러한 종류의 액정 장치로서, R, G, B의 3색에 더하여, W(백)의 1색을 더 마련해서, 4색용 화소를 하나의 도트로서 영상을 표시하는 구성을 갖는 액정 장치가 알려져 있다(예컨대, 특허 문헌 1을 참조). 이에 따라, 광 효율을 높이고, 색 재현성을 유지하면서 휘도 및 전력 효율의 향상이 도모되고 있다. 또, 이 특허 문헌 1에 의하면, 백색용 화소에는, 별도의 색 필터는 마련되지 않는다.
(특허 문헌 1) 일본 공개 특허 공보 제2004-102292호
본 발명은 이상의 점을 감안하여 이루어진 것으로, 제품 비용의 절감 등을 도모할 수 있는 R, G, B 및 W(투명)의 각 색을 이용한 멀티갭 구조를 갖는 반투과 반사형 액정 장치 및 그 제조 방법 및 전자기기를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명의 다른 관점에서는, W의 색에 대응하는 표시 화소 및 상기 W의 색과는 다른 1색에 대응하는 표시 화소를 갖고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소는 투과 영역 및 반사 영역을 구비하며, 또한 상기 W의 상기 표시 화소는 투과 영역만 구비하는 액정 장치에 있어서, 기판과, 상기 기판에 대향하여 배치되어 이루어지는 대향 기판과, 상기 기판 또는 상기 대향 기판의 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소에 구비되어 이루어지는 착색층과, 상기 기판 또는 상기 대향 기판에 마련되어 이루어지고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역 및 상기 W의 상기 투과 영역에 구비되어 이루어지는 셀 두께 조정층과, 상기 기판과 상기 대향 기판 사이에 유지되어 이루어지고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 두께는, 상기 셀 두께 조정층의 두께에 따라, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 대응하는 두께보다 두꺼운 액정층을 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 다른 형태에서는, 적어도 W의 색에 대응하는 표시 화소 및 상기 W의 색과는 다른 1색에 대응하는 표시 화소를 갖고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 및 상기 W의 상기 표시 화소는, 각각 투과 영역 및 반사 영역을 구비하는 액정 장치에 있어서, 기판과, 상기 기판에 대향하여 배치되어 이루어지는 대향 기판과, 상기 기판 또는 상기 대향 기판의 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소에 구비되어 이루어지는 착색층과, 상기 기판 또는 상기 대향 기판에 마련되어 이루어지고, 또한 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 적어도 상기 반사 영역, 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역 및 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 구비되고, 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에서의 두께가 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에서의 두께보다 두꺼운 셀 두께 조정층과, 상기 기판과 상기 대향 기판 사이에 유지되어 이루어지고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 및 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 두께는, 상기 셀 두께 조정층의 두께에 따라, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 및 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 대응하는 두께보다 두꺼운 액정층을 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 다른 형태에서는, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 및 상기 W의 상기 표시 화소에는, 각각 동일한 재료로 이루어지는 상기 셀 두께 조정층이 마련되는 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 다른 형태에서는, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층의 두께는 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층의 두께와 동일한 두께로 설정되어 있는 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 다른 형태에서는, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께는 상기 W의 상기 투과 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께와 동일한 두께로 설정되어 있는 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 다른 형태에서는, 상기 투과 영역에 대응하는 상기 착색층의 두께는 상기 반사 영역에 대응하는 상기 착색층의 두께보다 두꺼운 것을 특징 으로 한다.
상기한 액정 장치의 다른 형태에서는, 상기 기판 및 상기 대향 기판 중 어느 한쪽의 상기 반사 영역에 대응하는 위치에는, 광을 반사하는 기능을 갖는 반사층이 마련되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 하나의 관점에서는, R, G, B 및 W의 각 색에 대응하는 복수의 표시 화소를 갖는 액정 장치는 기판과, 상기 기판에 액정층을 개재하여 대향 배치된 대향 기판을 구비하고, 상기 R, G, B의 상기 표시 화소는 각각 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 또한 상기 W의 상기 표시 화소는 투과 영역만 갖고, 상기 R, G, B의 상기 투과 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께는 상기 R, G, B의 상기 반사 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께보다 두껍게 설정되어 있고, 상기 R, G, B의 상기 반사 영역 및 상기 W의 상기 투과 영역에는 셀 두께 조정층이 마련된다.
상기한 액정 장치는 R, G, B 및 W의 각 색에 대응하는 복수의 표시 화소를 갖고, 또한, 기판과 그 기판에 액정층을 개재하여 대향 배치된 대향 기판을 구비하여 구성된다.
그리고, R, G, B의 표시 화소는 각각 투과형 표시를 행하는 투과 영역 및 반사형 표시를 행하는 반사 영역을 갖는 한편, W의 표시 화소는 투과형 표시를 행하는 투과 영역만 갖는다. 이 때문에, R, G, B 및 W의 각 색에 대응하는 표시 화소를 갖는 반투과 반사형 액정 장치를 구성하고 있다.
또한, 이 액정 장치에서는, R, G, B의 각 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께는 R, G, B의 각 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정되어 있 고, 투과 영역과 반사 영역에서 최적의 광학 특성으로 설정된 구조, 이른바 멀티갭 구조를 갖는다.
여기서, 일반적으로, R, G, B 및 W의 각 색에 대응하는 표시 화소를 갖는 액정 장치에서는, R, G, B의 각 표시 화소에, W의 표시 화소를 부가하는 것으로, 고휘도 및 고콘트라스트를 실현하고 있다. 그런데, W의 표시 화소에는 색재가 없기 때문에, R, G, B의 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께(셀 두께)와, W의 표시 화소의 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께(셀 두께)를 동일하게 설정하기 위해서는, W의 표시 화소에 대응하는 위치에 셀 두께 조정용 투명 수지층을 마련해야 한다. 또한, 멀티갭 구조를 갖는 반투과 반사형의 전기 광학 장치에서는, 통상, 투과 영역과 반사 영역에서 광학 특성을 균일하게 하기 위해, 반사 영역에 멀티갭용 수지층이 형성되어 있고, 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께는 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정되어 있다.
이러한 멀티갭 구조를 갖는 반투과 반사형 액정 장치에 있어서, R, G, B 및 W의 각 색에 대응하는 표시 화소를 갖도록 구성한 경우(이하, 비교예라 함)에는, W의 표시 화소에 대응하는 위치에 셀 두께 조정용 투명 수지층과, 그 투명 수지층과는 다른 재료로 이루어지는 멀티갭용 수지층을 R, G, B의 각 표시 화소의 각 반사 영역에 별개로 마련해야 하고, 그 만큼 공정이 증가하며, 이것에 기인하여 액정 장치의 제품 비용이 증가하게 된다.
이 점, 상기한 액정 장치에서는, 특히, R, G, B의 반사 영역 및 W의 투과 영역에는, 예컨대, 투명성을 갖는 수지 재료 등으로 이루어지는 셀 두께 조정층이 마 련된다. 여기서, W에 대응하는 표시 화소는 적색, 청색, 황색을 띠더라도 좋고, 또한, 소위 CIE 색도도(色度圖)에 있어, (x, y)=(0.3∼0.4, 0.3∼0.4)의 범위에 포함되는 것이 바람직하다.
바람직한 예에서는, 상기 R, G, B의 상기 반사 영역 및 상기 W의 상기 투과 영역에는, 각각 동일한 재료로 이루어지는 셀 두께 조정층이 마련되는 것이 바람직하다. 즉, 이 액정 장치의 제조 과정에서, R, G, B의 반사 영역에 마련되는 셀 두께 조정층과, W의 투과 영역에 마련되는 셀 두께 조정층은 동일한 공정 및 재료로 동시에 형성된다. 이에 따라, R, G, B의 각 표시 화소에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를, 또한, W의 표시 화소에 셀 두께 조정용 셀 두께 조정층을 각기 동시에 형성할 수 있다. 그 결과, 비교예와 비교하여 공정의 삭감을 도모할 수 있고, 이에 따라 액정 장치의 제품 비용을 감소시킬 수 있다.
본 발명의 다른 관점에서는, R, G, B 및 W의 각 색에 대응하는 복수의 표시 화소를 갖는 액정 장치는 기판과, 상기 기판에 액정층을 개재하여 대향 배치된 대향 기판을 구비하고, 상기 R, G, B 및 W의 상기 표시 화소는 각각 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 상기 R, G, B의 적어도 상기 반사 영역, 상기 W의 상기 투과 영역 및 상기 W의 반사 영역에는 셀 두께 조정층이 마련되고, 또한 상기 W의 상기 반사 영역에서의 상기 셀 두께 조정층의 두께는 상기 W의 상기 투과 영역에서의 상기 셀 두께 조정층의 두께보다 두껍고, 상기 R, G, B 및 W의 상기 투과 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께는, 상기 셀 두께 조정층의 두께에 따라, 상기 R, G, B의 상기 반사 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께보다 두껍게 설정되어 있다.
상기한 액정 장치는 R, G, B 및 W의 각 색에 대응하는 표시 화소를 갖고, 또한, 그 기판에 액정층을 개재하여 대향 배치된 대향 기판을 구비하여 구성된다. 그리고, R, G, B 및 W의 표시 화소는 각각 투과 영역 및 반사 영역을 갖고 있다. 이 때문에, R, G, B 및 W의 각 색에 대응하는 표시 화소를 갖는 반투과 반사형 전기 광학 장치를 구성하고 있다.
또한, 이 액정 장치에서는, 특히, R, G, B의 적어도 반사 영역, W의 투과 영역 및 W의 반사 영역에는 셀 두께 조정층이 마련되어 있고, 또한, W의 반사 영역에서의 셀 두께 조정층의 두께는 W의 투과 영역에서의 셀 두께 조정층의 두께보다 두껍고, R, G, B 및 W의 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께는, 셀 두께 조정층의 두께에 따라서, R, G, B의 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정되어 있다. 여기서, W에 대응하는 표시 화소는 적색, 청색, 황색을 띠더라도 좋고, 또한, 이른바 CIE 색도도에 있어, (x, y)=(0.3∼0.4, 0.3∼0.4)의 범위에 포함되는 것이 바람직하다.
바람직한 예에서는, 상기 R, G, B 및 W의 상기 반사 영역 및 상기 투과 영역에는, 각각 동일한 재료로 이루어지는 셀 두께 조정층이 마련되는 것이 바람직하다. 즉, 이 액정 장치의 제조 과정에서, R, G, B의 적어도 반사 영역(또는 반사 영역 및 투과 영역의 양쪽)에 마련되는 셀 두께 조정층과, W의 투과 영역 및 반사 영역에 마련되는 셀 두께 조정층은 동일한 공정 및 동일한 재료에 의해 동시에 형성되어 있다. 이에 따라, 이 액정 장치의 제조 과정에서, R, G, B 및 W의 각 표시 화소에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를 각기 동시에 형성할 수 있다. 그 결과, 상 기한 비교예와 비교하여 공정의 삭감을 도모할 수 있고, 이에 따라 액정 장치의 제품 비용을 감소시킬 수 있다.
상기한 액정 장치의 일 형태에서는, 상기 R, G, B의 상기 반사 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층의 두께는 투명한 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층의 두께와 동일한 크기로 설정되어 있는 것이 바람직하다.
상기한 액정 장치의 다른 형태에서는, 상기 R, G, B의 상기 투과 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께는 상기 W의 상기 투과 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께와 동일한 크기로 설정되어 있다. 이에 따라, R, G, B의 각 투과 영역과, W의 투과 영역에서 적절한 광학 특성으로 설정할 수 있다.
상기한 액정 장치의 다른 형태에서는, 상기 R, G, B의 상기 표시 화소에 대응하는 위치에는, R, G, B에 대응하는 착색층이 각각 마련되어 있고, 상기 투과 영역에 대응하는 상기 R, G, B의 상기 착색층의 두께는 상기 R, G, B의 상기 반사 영역에 마련된 상기 착색층의 두께보다 두껍다.
이 형태에서는, R, G, B의 각 표시 화소에 대응하는 위치에는, R, G, B에 대응하는 착색층이 각각 마련된다. 그리고, 투과 영역에 대응하는 R, G, B의 착색층의 두께는, R, G, B의 반사 영역에 마련된 착색층의 두께보다 두껍다. 이에 따라, R, G, B의 각 반사 영역과, R, G, B의 각 투과 영역에서 적절한 광학 특성으로 설정할 수 있다. 바람직한 예에서는, 투과 영역에 대응하는 R, G, B의 각 착색층의 두께는 R, G, B의 각 반사 영역에 마련된 착색층의 두께의 약 2배 정도로 할 수 있다.
상기한 액정 장치의 다른 형태에서는, 상기 기판 및 상기 대향 기판 중 어느 한쪽의 상기 반사 영역에 대응하는 위치에는, 광을 반사하는 기능을 갖는 반사층이 마련된다. 이에 따라, 반사 영역에서 반사형 표시를 행할 수 있다.
본 발명의 다른 관점에서는, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 색에 대응하는 표시 화소를 갖는 액정 장치는 기판과, 상기 기판에 액정층을 사이에 두고 대향 배치된 대향 기판을 구비하고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소는 각각 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 또한 상기 W의 상기 표시 화소는 투과 영역만 갖고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께는 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소의 상기 반사 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께보다 두껍게 설정되어 있고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소의 상기 반사 영역 및 상기 W의 상기 투과 영역에는 셀 두께 조정층이 마련된다.
상기한 액정 장치는 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 색에 대응하는 복수의 표시 화소를 갖고, 또한 기판과, 그 기판에 액정층을 개재하여 대향 배치된 대향 기판을 구비하여 구성된다.
그리고, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소는 각각 투과형 표시를 행하는 투과 영역, 및 반사형 표시를 행하는 반사 영역을 갖는 한편, W의 표시 화소는 투과형 표시를 행하는 투과 영역만 갖는다. 이 때문에, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 색에 대응하는 표시 화소를 갖는 반투과 반사형 액정 장치를 구성하고 있다.
또한, 이 액정 장치에서는, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 각 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께는, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 각 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정되어 있고, 투과 영역과 반사 영역에서 최적의 광학 특성으로 설정된 구조, 이른바 멀티갭 구조를 갖는다.
특히, 이 액정 장치에서는, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 반사 영역 및 W의 투과 영역에는, 예컨대, 투명성을 갖는 수지 재료 등으로 이루어지는 셀 두께 조정층이 마련된다. 여기서, W에 대응하는 표시 화소는 적색, 청색, 황색을 띠더라도 좋고, 또한, 이른바 CIE 색도도에서, (x, y)=(0.3∼0.4, 0.3∼0.4)의 범위 내에 포함되는 것이 바람직하다.
즉, 이 액정 장치의 제조 과정에서, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 각 반사 영역에 마련되는 셀 두께 조정층과, W의 투과 영역에 마련되는 셀 두께 조정층은, 동일한 공정에서 동일한 재료에 의해 동시에 형성되어 있다. 이에 따라, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를, 또한, W의 표시 화소에 셀 두께 조정용 셀 두께 조정층을 각기 동시에 형성할 수 있다. 그 결과, 상기한 비교예와 비교하여 공정의 삭감을 도모할 수 있고, 이에 따라 액정 장치의 제품 비용 을 감소시킬 수 있다.
본 발명의 다른 관점에서는, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 색에 대응하는 표시 화소를 갖는 액정 장치는 기판과, 상기 기판에 액정층을 개재하여 대향 배치된 대향 기판을 구비하고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소 및 W의 상기 표시 화소는 각각 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소의 적어도 상기 반사 영역, 상기 W의 상기 투과 영역 및 상기 W의 반사 영역에는, 셀 두께 조정층이 마련되고, 또한 상기 W의 상기 반사 영역에서의 상기 셀 두께 조정층의 두께는, 상기 W의 상기 투과 영역에서의 상기 셀 두께 조정층의 두께보다 두껍고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소의 상기 투과 영역 및 W의 상기 투과 영역의 각각에 대응하는 상기 액정층의 두께는, 상기 셀 두께 조정층의 두께에 따라, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소의 상기 반사 영역의 각각에 대응하는 상기 액정층의 두께보다 두껍게 설정되어 있다.
상기한 액정 장치는 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 색에 대응하는 표시 화소를 갖고, 또한, 그 기판에 액정층을 사이에 두고 대향 배치된 대향 기판을 구비하여 구성된다. 그리고, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 표시 화소는 각각 투과 영역 및 반사 영역을 갖고 있다. 이 때문에, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 색에 대응하는 표시 화소를 갖는 반투과 반사형 전기 광학 장치를 구성하고 있다.
또한, 이 액정 장치에서는, 특히, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 적어도 반사 영역, W의 투과 영역 및 W의 반사 영역에는 셀 두께 조정층이 마련되어 있고, 또한, W의 반사 영역에서의 셀 두께 조정층의 두께는 W의 투과 영역에서의 셀 두께 조정층의 두께보다 두껍고, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 각 투과 영역 및 W의 투과 영역의 각각에 대응하는 액정층의 두께는 셀 두께 조정층의 두께에 따라, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 반사 영역 각각에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정되어 있다. 여기서, W에 대응하는 표시 화소는 적색, 청색, 황색을 띠더라도 좋고, 또한, 이른바 CIE 색도도에 있어, (x, y)=(0.3∼0.4, 0.3∼0.4)의 범위 내에 포함되는 것이 바람직하다.
즉, 이 액정 장치의 제조 과정에서, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 적어도 반사 영역(또는 반사 영역 및 투과 영역의 양쪽)에 마련되는 셀 두께 조정층과, W의 투과 영역 및 반사 영역에 마련되는 셀 두께 조정층은, 동일한 공정에서 동일한 재료로 동시에 형성되어 있다. 이에 따라, 이 액정 장치의 제조 과정에서, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 표시 화소에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를 각기 동시에 형성할 수 있다. 그 결과, 상기한 비교예와 비교하여 공정의 삭감을 도모할 수 있고, 이에 따라 액정 장치의 제품 비용을 감소시킬 수 있다.
또한, 상기한 액정 장치를 표시부로서 구비하는 전자기기를 구성할 수 있다.
본 발명의 다른 관점에서는, 적어도 W에 대응하는 표시 화소 및 상기 W의 색과는 다른 1색에 대응하는 표시 화소를 갖고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소는 투과 영역 및 반사 영역을 구비하고, 또한 상기 W의 상기 표시 화소는 적어도 투과 영역을 구비하고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께는 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정된 액정 장치의 제조 방법으로서, 기재 상에 있어, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소에, 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과, 상기 기재 상에 있어, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역 및 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에, 투명 재료로 이루어지는 셀 두께 조정층을 동시에 형성하는 셀 두께 조정층 형성 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 일 형태에서는, 상기 W의 상기 표시 화소는 상기 반사 영역을 구비하고 있지 않은 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 일 형태에서는, 상기 W의 상기 표시 화소는 반사 영역을 구비하고, 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께는 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍고, 상기 셀 두께 조정층 형성 공정은, 상기 기재 상에 있어, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역, 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역 및 상기 반사 영역에, 상기 셀 두께 조정층을 동시에 형성하는 것을 특 징으로 한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 일 형태에서는, 상기 착색층 형성 공정은 상기 반사 영역에 위치하는 상기 착색층에 개구를 형성하는 것을 특징으로 한다.
상기 셀 두께 조정층 형성 공정은 상기 셀 두께 조정층을 상기 착색층과 동일한 두께로 형성하는 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 일 형태에서는, 상기 셀 두께 조정층 형성 공정은, 상기 W의 상기 표시 화소 및 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 착색층 상에 레지스트를 도포하는 레지스트 도포 공정과, 광을 완전히 투과하는 완전 노광 영역 및 상기 광을 완전히 차광하는 완전 차광 영역을 포함하는 제 1 마스크를 통해 상기 레지스트에 대하여 1회 노광한 후, 현상 및 에칭 처리를 실시하는 제 1 노광 공정과, 상기 레지스트 도포 공정을 재차 실시한 후에, 상기 완전 노광 영역 및 상기 완전 차광 영역을 포함하고, 상기 제 1 마스크와 구성이 다른 제 2 마스크를 통해 상기 레지스트에 대하여 1회 노광한 후, 현상 및 에칭 처리를 실시하는 제 2 노광 공정을 포함하는 층 두께 조정 공정을 갖고, 상기 층 두께 조정 공정은, 적어도 상기 W의 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층과, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에서의 상기 착색층의 두께를 동일하게 설정하는 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 일 형태에서는, 상기 셀 두께 조정층 형성 공정은, 상기 W의 상기 표시 화소 및 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 착색층 상에 레지스트를 도포하는 레지스트 도포 공정과, 광을 완전히 투과하는 완 전 노광 영역, 상기 광을 완전히 차광하는 완전 차광 영역 및 반투과막으로 이루어지는 하프톤 노광 영역을 포함하는 마스크를 통해 상기 레지스트에 대하여 적어도 1회 노광한 후에, 현상 및 에칭 처리를 실시하는 하프톤 노광 공정을 포함하는 층 두께 조정 공정을 갖고, 상기 층 두께 조정 공정은, 적어도 상기 W의 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층과, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에서의 상기 착색층의 두께를 동일하게 설정하는 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 일 형태에서는, 상기 착색층 형성 공정과, 상기 셀 두께 조정층 형성 공정 사이에, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 착색층 상에 보호막을 형성하는 보호막 형성 공정을 갖고, 상기 셀 두께 조정층 형성 공정은 상기 W의 상기 표시 화소 및 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 표시 영역에서의 상기 보호막 상에 상기 셀 두께 조정층을 형성하며, 상기 층 두께 조정 공정은 적어도 상기 W의 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층과, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에서의 상기 착색층의 두께를 동일하게 설정하는 것을 특징으로 한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 일 형태에서는, 상기 착색층 형성 공정의 전(前) 공정으로서, 상기 기재 상에 있어, 상기 반사 영역에 반사층을 형성하는 반사층 형성 공정을 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 관점에서는, R, G, B의 각 색에 각각 대응하는 복수의 표시 화소 내에 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 아울러 W에 대응하는 표시 화소 내에 투과 영역만 갖고, 또한, 상기 R, G, B의 상기 투과 영역에 대응하는 액정층의 두 께가 상기 R, G, B의 상기 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정된 액정 장치의 제조 방법은, 기재 상에 있어, 상기 R, G, B의 상기 각 색에 대응하는 상기 표시 화소가 형성되어야 할 영역에, 상기 R, G, B의 상기 각 색을 갖는 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과, 상기 기재 상에 있어, 상기 R, G, B의 상기 반사 영역 및 상기 W의 상기 투과 영역이 형성되어야 할 영역에, 투명 재료로 이루어지는 셀 두께 조정층을 동시에 형성하는 셀 두께 조정층 형성 공정을 구비한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법은, R, G, B의 각 색에 각각 대응하는 표시 화소 내에 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 아울러 W에 대응하는 표시 화소 내에 투과 영역만 갖고, 또한, R, G, B의 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께가, R, G, B의 상기 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정된 멀티갭 구조를 갖는 액정 장치의 제조 방법이다.
이 액정 장치의 제조 방법은, 우선, 착색층 형성 공정에 의해, 유리나 석영 등의 재료로 이루어지는 기재 상에 있어, R, G, B의 각 색에 각각 대응하는 복수의 표시 화소가 형성되어야 할 영역에, R, G, B의 각 색을 갖는 착색층이 형성된다. 다음에, 셀 두께 조정층 형성 공정에 의해, 기재 상에 있어, R, G, B의 반사 영역 및 W의 투과 영역이 형성되어야 할 영역에, 투명 재료(예컨대, 투명성을 갖는 수지 재료 등)로 이루어지는 셀 두께 조정층이 동시에 형성된다.
이에 따라, R, G, B의 각 표시 화소에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를, 또한, W의 표시 화소에 셀 두께 조정용의 셀 두께 조정층을 각기 동시에 형성할 수 있다. 따라서, 상기한 비교예에 따른 액정 장치의 제조 방법과 비교하여, 공정의 삭감을 도모할 수 있어, 액정 장치의 제품 비용을 감소시킬 수 있다.
본 발명의 다른 관점에서는, R, G, B 및 W의 각 색에 각각 대응하는 복수의 표시 화소 내에 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 또한, 상기 R, G, B 및 W의 상기 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께가 상기 R, G, B 및 W의 상기 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정된 액정 장치의 제조 방법은, 기재 상에 있어, 상기 R, G, B의 상기 각 색에 대응하는 상기 표시 화소가 형성되어야 할 영역에, 상기 R, G, B의 상기 각 색을 갖는 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과, 상기 기재 상에 있어, 상기 R, G, B의 상기 반사 영역 및 상기 W의 상기 투과 영역 및 상기 반사 영역이 형성되어야 할 영역에, 투명 재료로 이루어지는 셀 두께 조정층을 동시에 형성하는 셀 두께 조정층 형성 공정을 구비한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법은 R, G, B 및 W의 각 색에 각각 대응하는 복수의 표시 화소 내에 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 또한, R, G, B 및 W의 각 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께가 R, G, B 및 W의 각 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정된 멀티갭 구조를 갖는 액정 장치의 제조 방법이다.
이 액정 장치의 제조 방법은, 우선, 착색층 형성 공정에 의해, 유리나 석영 등의 재료로 이루어지는 기재 상에 있어, R, G, B의 각 색에 대응하는 표시 화소가 형성되어야 할 영역에, R, G, B의 각 색을 갖는 착색층이 형성된다. 다음에, 셀 두께 조정층 형성 공정에 의해, 기재 상에 있어, R, G, B의 각 반사 영역 및 투명의 투과 영역 및 반사 영역이 형성되어야 할 영역에, 투명 재료(예컨대, 투명성을 갖는 수지 재료 등)로 이루어지는 셀 두께 조정층이 동시에 형성된다.
이에 따라, R, G, B 및 W의 각 표시 화소에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를 각기 동시에 형성할 수 있다. 따라서, 상기한 비교예에 따른 액정 장치의 제조 방법과 비교하여, 공정의 삭감을 도모할 수 있어, 액정 장치의 제품 비용을 감소시킬 수 있다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 일 형태에서는, 상기 착색층 형성 공정은 상기 반사 영역에 위치하는 상기 R, G, B의 상기 착색층의 각각에 개구를 형성한다. 이에 따라, R, G, B의 각 반사 영역과, R, G, B의 각 투과 영역에서 적절한 광학 특성으로 설정할 수 있다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 다른 형태에서는, 상기 셀 두께 조정층 형성 공정은 상기 셀 두께 조정층을 상기 R, G, B의 상기 착색층과 동일한 두께로 형성할 수 있다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 다른 형태에서는, 상기 셀 두께 조정층 형성 공정은 상기 셀 두께 조정층의 두께가 상기 R, G, B의 상기 착색층의 두께보다 두꺼운 경우에, 적어도 상기 R, G, B의 상기 반사 영역, 및 상기 W의 상기 투과 영역 및/또는 상기 반사 영역의 각각에 형성된 상기 셀 두께 조정층의 위 및 상기 R, G, B의 상기 투과 영역에 형성된 상기 R, G, B의 상기 착색층의 위에 레지스트를 도포하는 레지스트 도포 공정과, 광을 완전히 투과하는 완전 노광 영역 및 상기 광을 완전히 차광하는 완전 차광 영역을 포함하는 제 1 마스크를 통해 상기 레지스트에 대하여 1회 노광한 후, 현상 및 에칭 처리를 실시하는 제 1 노광 공정과, 상기 레지스트 도포 공정을 재차 실시한 후에, 상기 완전 노광 영역 및 상기 완전 차광 영역을 포함하여, 상기 제 1 마스크와 구성이 다른 제 2 마스크를 통해 상기 레지스트에 대하여 1회 노광한 후, 현상 및 에칭 처리를 실시하는 제 2 노광 공정을 포함하는 층 두께 조정 공정을 갖고, 상기 층 두께 조정 공정은, 적어도 상기 W의 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층과, 상기 R, G, B의 상기 투과 영역의 상기 착색층의 두께를 동일하게 설정한다.
이 형태에서는, 셀 두께 조정층 형성 공정은 층 두께 조정 공정을 갖는다. 그리고, 층 두께 조정 공정은 레지스트 도포 공정과, 제 1 노광 공정과, 제 2 노광 공정을 포함하고 있다. 우선, 레지스트 도포 공정은 상기 셀 두께 조정층의 두께가 상기 R, G, B의 상기 착색층의 두께보다 두꺼운 경우에, 적어도 R, G, B의 각 반사 영역 및 W의 투과 영역 및/또는 반사 영역의 각각에 형성된 셀 두께 조정층의 위 및 R, G, B의 각 투과 영역에 형성된 R, G, B의 각 착색층의 위에 레지스트(감광성 수지)를 도포한다.
다음에, 제 1 노광 공정은 광(자외선이나 i선 등의 광, 이하 동일)을 완전히 투과하는 완전 노광 영역 및 광을 완전히 차광하는 완전 차광 영역을 포함하는 제 1 마스크를 통해, 레지스트에 대하여 1회 노광한 후, 현상 및 에칭 처리를 실시한다.
다음에, 제 2 노광 공정은 레지스트 도포 공정을 재차 실시한 후에, 완전 노광 영역 및 완전 차광 영역을 포함하여, 제 1 마스크와 구성이 다른 제 2 마스크를 통해, 레지스트(감광성 수지)에 대하여 1회 노광한 후, 현상 및 에칭 처리를 실시한다. 이들 일련의 공정(2중 노광 방법)에 의해, 층 두께 조정 공정은 적어도 W의 투과 영역에 마련된 셀 두께 조정층과, R, G, B의 각 투과 영역의 착색층의 두께를 동일하게 설정한다. 이에 따라, R, G, B의 각 투과 영역과, W의 투과 영역에서 적절한 광학 특성으로 설정할 수 있다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 다른 형태에서는, 상기 셀 두께 조정층 형성 공정은, 상기 셀 두께 조정층의 두께가 상기 R, G, B의 상기 착색층의 두께보다 큰 경우에, 적어도 상기 R, G, B의 상기 반사 영역, 및 상기 W의 상기 투과 영역 및/또는 상기 반사 영역 각각에 형성된 상기 셀 두께 조정층의 위 및 상기 R, G, B의 상기 투과 영역에 형성된 상기 R, G, B의 상기 착색층의 위에 레지스트를 도포하는 레지스트 도포 공정과, 광을 완전히 투과하는 완전 노광 영역, 상기 광을 완전히 차광하는 완전 차광 영역 및 반투과막으로 이루어지는 하프톤 노광 영역을 포함하는 마스크를 통해 상기 레지스트에 대하여 적어도 1회 노광한 후에, 현상 및 에칭 처리를 실시하는 하프톤 노광 공정을 포함하는 층 두께 조정 공정을 갖고, 상기 층 두께 조정 공정은 적어도 상기 W의 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층과, 상기 R, G, B의 상기 투과 영역의 상기 착색층의 두께를 동일하게 설정한다.
이 형태에서는, 셀 두께 조정층 형성 공정은 층 두께 조정 공정을 갖는다. 그리고, 층 두께 조정 공정은 레지스트 도포 공정과 하프톤 노광 공정을 포함하고 있다.
우선, 레지스트 도포 공정은 상기 셀 두께 조정층의 두께가 상기 R, G, B의 상기 착색층의 두께보다 큰 경우에, 적어도 R, G, B의 각 반사 영역 및 W의 투과 영역 및/또는 반사 영역 각각에 형성된 셀 두께 조정층의 위 및 R, G, B의 각 투과 영역에 형성된 R, G, B의 각 착색층의 위에 레지스트(감광성 수지)를 도포한다.
다음에, 하프톤 노광 공정은 광을 완전히 투과하는 완전 노광 영역, 광을 완전히 차광하는 완전 차광 영역 및 반투과막으로 이루어지는 하프톤 노광 영역을 포함하는 마스크를 통해, 레지스트에 대하여 적어도 1회 노광한 후에, 현상 및 에칭 처리를 실시한다. 이들 일련의 공정(하프톤 노광 방법)에 의해, 층 두께 조정 공정은 적어도 W의 투과 영역에 마련된 셀 두께 조정층과, R, G, B의 각 투과 영역의 각 착색층의 두께를 동일하게 설정한다. 이에 따라, R, G, B의 각 투과 영역과 W의 투과 영역에서 적절한 광학 특성으로 설정할 수 있다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 다른 형태에서는, 상기 착색층 형성 공정의 전 공정으로서, 상기 기재 상에, 상기 R, G, B의 상기 반사 영역에 반사층을 형성하는 반사층 형성 공정을 갖는다. 이에 따라, R, G, B의 반사 영역에서 각 색에 대응한 반사형 표시를 행할 수 있다.
상기한 액정 장치의 제조 방법의 다른 형태에서는, 상기 착색층 형성 공정의 전 공정으로서, 상기 기재 상에, 상기 R, G, B의 상기 반사 영역 및 상기 W의 상기 반사 영역에 반사층을 형성하는 반사층 형성 공정을 갖는다. 이에 따라, R, G, B 및 W의 각 반사 영역에서 각 색에 대응한 반사형 표시를 행할 수 있다.
본 발명의 다른 관점에서는, 1색에 대응하는 표시 화소 내 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 내에 각각 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 또한 W에 대응하는 표시 화소 내에 투과 영역만 갖고, 또한, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소의 상기 투과 영역의 각각에 대응하는 액정층의 두께가 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소의 상기 반사 영역의 각각에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정된 액정 장치의 제조 방법은, 기재 상에 있어, 상기 1색 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 표시 화소가 형성되어야 할 영역에, 상기 1색 또는 상기 복수색을 갖는 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과, 상기 기재 상에 있어, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소의 상기 반사 영역의 각각 및 상기 W의 상기 투과 영역이 형성되어야 할 영역에, 투명 재료로 이루어지는 셀 두께 조정층을 동시에 형성하는 셀 두께 조정층 형성 공정을 구비한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법은, 1색에 대응하는 표시 화소 내 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 내에 각각 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 또한 W에 대응하는 표시 화소 내에 투과 영역만 갖고, 또한, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 투과 영역의 각각에 대응하는 액정층의 두께가 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 반사 영역 각각에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정된 멀티갭 구조를 갖는 액정 장치의 제조 방법이다.
이 액정 장치의 제조 방법은, 우선, 착색층 형성 공정에 의해, 유리나 석영 등의 재료로 이루어지는 기재 상에 있어, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소가 형성되어야 할 영역에, 1색 또는 복수색을 갖는 착색 층이 형성된다. 다음에, 셀 두께 조정층 형성 공정에 의해, 기재 상에 있어, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 반사 영역 각각 및 W의 투과 영역이 형성되어야 할 영역에, 투명 재료(예컨대, 투명성을 갖는 수지 재료 등)로 이루어지는 셀 두께 조정층이 동시에 형성된다.
이에 따라, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 각각에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를, 또한, W의 표시 화소에 셀 두께 조정용 셀 두께 조정층을 각기 동시에 형성할 수 있다. 따라서, 상기한 비교예에 관한 액정 장치의 제조 방법과 비교하여, 공정의 삭감을 도모할 수 있어, 액정 장치의 제품 비용을 감소시킬 수 있다.
본 발명의 다른 관점에서는, 1색에 대응하는 표시 화소 내 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 내 및 W의 색에 대응하는 표시 화소 내에 각각 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 또한, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소 및 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역의 각각에 대응하는 액정층의 두께가 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소 및 W의 상기 표시 화소의 상기 반사 영역의 각각에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정된 액정 장치의 제조 방법은, 기재 상에 있어, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소가 형성되어야 할 영역에, 상기 1색 또는 상기 복수색을 갖는 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과, 상기 기재 상에 있어, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 또는 상기 복수색에 대응하는 상기 복수의 표시 화소의 상 기 반사 영역의 각각 및 상기 W의 상기 투과 영역 및 상기 반사 영역이 형성되어야 할 영역에, 투명 재료로 이루어지는 셀 두께 조정층을 동시에 형성하는 셀 두께 조정층 형성 공정을 포함한다.
상기한 액정 장치의 제조 방법은, 1색에 대응하는 표시 화소 내 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 내 및 W의 색에 대응하는 표시 화소 내에 각각 투과 영역 및 반사 영역을 갖고, 또한, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 표시 화소의 투과 영역 각각에 대응하는 액정층의 두께가 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 표시 화소의 반사 영역의 각각에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정된 멀티갭 구조를 갖는 액정 장치의 제조 방법이다.
이 액정 장치의 제조 방법은, 우선, 착색층 형성 공정에 의해, 유리나 석영 등의 재료로 이루어지는 기재 상에 있어, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소가 형성되어야 할 영역에, 1색 또는 복수색을 갖는 착색층이 형성된다. 다음에, 셀 두께 조정층 형성 공정에 의해, 기재 상에 있어, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소의 반사 영역의 각각, 및 W의 투과 영역 및 반사 영역이 형성되어야 할 영역에, 투명 재료(예컨대, 투명성을 갖는 수지 재료 등)로 이루어지는 셀 두께 조정층이 동시에 형성된다.
이에 따라, 1색에 대응하는 표시 화소 또는 복수색에 대응하는 복수의 표시 화소 및 W의 표시 화소에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를 각기 동시에 형성할 수 있다. 따라서, 상기한 비교예에 따른 액정 장치의 제조 방법과 비교하여, 공정의 삭감을 도모할 수 있어, 액정 장치의 제품 비용을 감소시킬 수 있다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 실시하기 위한 최선의 형태에 대하여 설명한다. 또한, 이하의 각종 실시예는 본 발명을 전기 광학 장치의 일례로서의 액정 장치에 적용한 것이다.
[실시예 1]
실시예 1은 본 발명을 3 단자 소자의 일례로서의 a-Si형 TFT(Thin Film Transistor) 소자를 이용한 액티브 매트릭스 구동 방식의 액정 장치에 적용한다.
(액정 장치의 구성)
우선, 도 1 내지 도 5를 참조하여, 본 발명의 실시예 1에 따른 액정 장치(100)의 구성 등에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 액정 장치(100)의 개략 구성을 모식적으로 나타내는 평면도이다. 도 1에서는, 지면 앞쪽(관찰쪽)에 컬러 필터 기판(92)이, 또한, 지면 안쪽에 소자 기판(91)이 각기 배치되어 있다. 또, 도 1에서는, 지면 세로 방향(열 방향)을 Y방향, 또한, 지면 가로 방향(행 방향)을 X방향이라고 규정한다. 또한, 도 1에서, R(적색), G(녹색), B(청색), W(투명)에 대응하는 각 영역은 하나의 서브 화소 영역 SG를 나타내고, 또한 R, G, B, W에 대응하는 2행2열의 서브 화소 영역 SG는 하나의 화소 영역 AG를 나타내고 있다.
본 발명에 있어서, 화소 영역 AG는 R, G, B, W로 구성되어 있고, 종래 자주 이용되던 R, G, B로 하나의 화소 영역을 구성하는 것과는 다르다. 그 때문에, 본 발명에서는, 종래와는 다른 렌더링(rendering) 기술을 이용하여 표시를 행하고 있다. 렌더링은 임의의 하나의 화소 영역 AG에서 RGB 각 색의 색 층을 각각 구비한 서브 화소 영역 SG에 인가되는 계조 신호를, 그 화소 영역 AG 내의 서브 화소 영역 SG뿐만 아니라, 그 화소 영역 AG 주변의 동일 색상의 서브 화소 영역 SG에도 중첩시켜 인가한다고 하는 화상 처리 기술을 이용하는 것이다. 즉, 하나의 화소 영역 AG(표시 화소)에서의 RGB의 각 색의 서브 화소 영역 SG(서브 화소)는 하나의 표시 화소 주변의 표시 화소에서의 동일 색상의 서브 화소에도, 하나의 표시 화소 내의 서브 화소의 표시에 기여하는 계조 신호를 중첩하여 인가함으로써 표시를 실행하는 것이다.
이에 따라, 실제의 화소수보다 높은 해상도를 시인할 수 있어, 예컨대, QVGA(Quarter Video Graphics Array) 규격에 대응하는 화면 표시 해상도를 갖는 액정 장치를 이용한 경우에, VGA(Video Graphics Array) 규격에 대응하는 화면 표시해상도를 실현할 수 있다.
액정 장치(100)는 소자 기판(91)과, 그 소자 기판(91)에 대향하여 배치되는 컬러 필터 기판(92)이 프레임 형상의 밀봉재(5)를 통해 접합되고, 그 밀봉재(5)의 안쪽에 액정이 주입 밀봉되어 액정층(4)이 형성되어 이루어진다.
여기에, 액정 장치(100)는 R, G, B, W의 4색을 이용하여 구성되는 컬러 표시용 액정 장치이고, 또한 스위칭 소자로서 a-Si형 TFT 소자를 이용한 액티브 매트릭 스 구동 방식의 액정 장치이다. 또한, 액정 장치(100)는 R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG 내에 투과 영역 및 반사 영역을 갖는 반투과 반사형 액정 장치이며, 당해 투과 영역과 당해 반사 영역에서 액정층(4)의 두께가 다른 멀티갭 구조를 갖는 액정 장치이다.
우선, 소자 기판(91)의 평면 구성에 대하여 설명한다. 소자 기판(91)의 내면 상에는, 주로, 복수의 소스선(32), 복수의 게이트선(33), 복수의 a-Si형 TFT 소자(21), 복수의 화소 전극(10), 드라이버 IC(40), 외부 접속용 배선(35) 및 FPC(Flexible Printed Circuit)(41) 등이 형성 또는 실장되어 있다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 소자 기판(91)은 컬러 필터 기판(92)의 1변 쪽으로부터 바깥쪽으로 돌출하여 이루어지는 돌출 영역(31)을 갖고 있고, 그 돌출 영역(31) 상에는, 드라이버 IC(40)가 실장되어 있다. 드라이버 IC(40)의 입력측 단자(도시 생략)는 복수의 외부 접속용 배선(35)의 일단 쪽과 전기적으로 접속되어 있고, 또한 복수의 외부 접속용 배선(35)의 타단 쪽은 FPC와 전기적으로 접속되어 있다. 각 소스선(32)은 Y방향으로 연장하도록 또한 X방향으로 적절한 간격을 두고 형성되어 있고, 각 소스선(32)의 일단 쪽은 드라이버 IC(40)의 출력측 단자(도시 생략)에 전기적으로 접속되어 있다.
각 게이트선(33)은 Y방향으로 연장하도록 형성된 제 1 배선(33a)과, 그 제 1 배선(33a)의 종단부로부터 X방향으로 연장하도록 형성된 제 2 배선(33b)을 구비하고 있다. 각 게이트선(33)의 제 2 배선(33b)은 각 소스선(32)과 교차하는 방향, 즉 X방향으로 연장하도록 또한 Y방향으로 적절한 간격을 두고 형성되어 있고, 각 게이트선(33)의 제 1 배선(33a)의 일단 쪽은 드라이버 IC(40)의 출력 쪽 단자(도시 생략)에 전기적으로 접속되어 있다. 각 소스선(32)과 각 게이트선(33)의 제 2 배선(33b)의 교차에 대응하는 위치에는 TFT 소자(21)가 마련되어 있고, 각 TFT 소자(21)는 각 소스선(32), 각 게이트선(33) 및 각 화소 전극(10) 등에 전기적으로 접속되어 있다. 각 TFT 소자(21) 및 각 화소 전극(10)은 각 서브 화소 영역 SG에 대응하는 위치에 마련된다. 각 화소 전극(10)은, 예컨대 ITO(Indium-Tin Oxide) 등의 투명 도전 재료에 의해 형성되어 있다.
하나의 화소 영역 AG가 X방향 및 Y방향으로 복수개, 매트릭스 형상으로 나열된 영역이 유효 표시 영역 V(2점쇄선에 의해 둘러싸이는 영역)이다. 이 유효 표시 영역 V에, 문자, 숫자, 도형 등의 화상이 표시된다. 또, 유효 표시 영역 V의 바깥쪽의 영역은 표시에 기여하지 않는 프레임 영역(38)으로 되어있다. 또한, 각 소스선(32), 각 게이트선(33), 각 TFT 소자(21), 및 각 화소 전극(10) 등의 내면 상에는 도시하지 않은 배향막이 형성되어 있다.
다음에, 컬러 필터 기판(92)의 평면 구성에 대하여 설명한다. 컬러 필터 기판(92)은 차광층(일반적으로 「블랙 매트릭스」라고 불리고, 이하에서는, 간단히 「BM」이라고 약기함), R, G, B 3색의 착색층(6R, 6G, 6B) 및 공통 전극(8) 등을 갖는다. 또, 이하의 설명에서, 색과 관계없이 착색층을 가리키는 경우는 단지 「착색층(6)」이라 기재하고, 색을 구별하여 착색층을 가리키는 경우는 「착색층(6R)」 등으로 기재한다. BM은 각 서브 화소 영역 SG를 구획하는 위치에 형성되어 있다. 도 1에서 W에 대응하는 각 서브 화소 영역 SG에는, 착색층은 특별히 마련되지 않는다. 공통 전극(8)은, 화소 전극과 마찬가지로, ITO 등의 투명 도전 재료로 이루어지고, 컬러 필터 기판(92)의 대략 일면에 걸쳐 형성되어 있다. 공통 전극(8)은 밀봉재(5)의 코너 영역 E1에서 배선(15)의 일단 쪽과 전기적으로 접속되어 있고, 또한 당해 배선(15)의 타단 쪽은 드라이버 IC(40)의 COM에 대응하는 출력 단자와 전기적으로 접속되어 있다.
이상의 구성을 갖는 액정 장치(100)에서는, 전자기기 등과 접속된 FPC(41) 쪽으로부터의 신호 및 전력 등에 근거하여, 드라이버 IC(40)에 의해, G1, G2, …, Gm-1, Gm(m은 자연수)의 순서로 게이트선(33)이 순차 배타적으로 1개씩 선택되고, 또한 선택된 게이트선(33)에는, 선택 전압의 게이트 신호가 공급되는 한편, 다른 비선택 게이트선(33)에는, 비선택 전압의 게이트 신호가 공급된다. 그리고, 드라이버 IC(40)는 선택된 게이트선(33)에 대응하는 위치에 있는 화소 전극(10)에 대응하고, 표시 내용에 따른 소스 신호를, 각각 대응하는 S1, S2, …, Sn-1, Sn(n은 자연수)의 소스선(32) 및 TFT 소자(21)를 통해 공급한다. 그 결과, 액정층(4)의 표시 상태가, 비표시 상태 또는 중간 표시 상태로 전환되어, 액정층(4)의 배향 상태가 제어되게 된다.
(화소 구성)
다음에, 도 2 등을 참조하여, 하나의 화소 영역 AG의 구성에 대하여 설명한다. 도 2는 도 1에서의 하나의 화소 영역 AG(파선으로 둘러싸인 부분)에 대응하는 부분 확대 평면도이다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 하나의 화소 영역 AG는 R, G, B, W에 대응하는, 2행2열의 서브 화소 영역 SG를 구비하여 구성된다. 또한, R, G, B에 대응하는 각 서브 화소 영역 SG는 투과형 표시가 행해지는 투과 영역 E10과, 반사형 표시가 행해지는 반사 영역 E11을 구비하여 구성된다. 이에 대하여, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG는 투과 영역 E10만을 구비하여 구성되고, 반사 영역 E11은 갖지 않는다.
다음에, 도 3을 참조하여, 도 2에서의 R, G, B에 대응하는 각 서브 화소 영역 SG의 구성을, 반사 영역 E11의 구성과 투과 영역 E10의 구성으로 나눠 설명한다.
도 3(a)는 R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에 대응하는 소자 기판(91)의 구성을 나타내는 부분 확대 평면도이다. 한편, 도 3(b)는 도 3(a)의 소자 기판(91)과 대향 배치되는, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에 대응하는 컬러 필터 기판(92)의 구성을 나타내는 부분 확대 평면도이다. 도 4(a)는 도 3(a) 및 (b)에서의 A-A'선 부분 단면도이며, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 액정 장치(100)의 단면 구성을 나타낸다. 한편, 도 4(b)는 도 3(a) 및 (b)에서의 B-B'선 부분 단면도이며, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에 대응하는 액정 장치(100)의 단면 구성을 나타낸다.
우선, R, G, B의 하나의 서브 화소 영역 SG 내에서의 반사 영역 E11의 구성에 대하여 설명한다.
유리나 석영 등의 재료에 의해 형성된 하부 기판(1) 상에는, 게이트선(33)이 형성되어 있다. 도 3(a)에서, 게이트선(33)의 요소인 제 2 배선(33b)은 X방향으로 연장하는 본선 부분(33ba)과, 그 본선 부분(33ba)으로부터 Y방향으로 구부러지도록 분기하는 지선 부분(33bb)을 갖는다. 하부 기판(1) 및 게이트선(33) 상에는, 절연성을 갖는 게이트 절연층(50)이 형성되어 있다. 게이트 절연층(50) 상으로서, 또한, 게이트선(33)의 지선 부분(33bb)과 평면적으로 겹치는 위치에는, TFT 소자(21)의 요소인 a-Si층(52)이 마련된다. 소스선(32)은, 게이트 절연층(50) 상에, 게이트선(33)과 교차하는 방향으로 연장하도록 형성되어 있다.
소스선(32)은, 도 3(a)에 나타내는 바와 같이, Y방향으로 연장하는 본선 부분(32a)과, 그 본선 부분(32a)으로부터 X방향으로 구부러지도록 분기하는 지선 부분(32b)을 갖는다. 소스선(32)의 지선 부분(32b)의 일부분은 a-Si층(52)의 일단 쪽의 일부분 상에 형성되어 있다. a-Si층(52)의 타단 쪽의 일부분 상 및 게이트 절연층(50) 상에는, 금속 등으로 이루어지는 유지 용량 전극(16)이 형성되어 있다. 이 때문에, a-Si층(52)은 소스선(32) 및 유지 용량 전극(16)에 각기 전기적으로 접속되어 있다. 그리고, a-Si층(52)에 대응하는 위치에는, 그 층을 요소로서 포함하는 TFT 소자(21)가 형성되어 있다.
소스선(32), 유지 용량 전극(16) 및 게이트 절연층(50) 등의 위에는, 절연성을 갖는 패시베이션층(반응 방지층)(51)이 형성되어 있다. 패시베이션층(51)은 유지 용량 전극(16)과 평면적으로 겹치는 위치에 콘택트 홀(개구)(51a)을 갖는다. 패시베이션층(51) 상에는, 수지 재료 등으로 이루어지는 수지층(17)이 형성되어 있다. 수지층(17)의 표면상에는, 광을 산란시키는 기능을 갖는 미세한 요철이 복수 형성되어 있다. 수지층(17)은 패시베이션층(51)의 콘택트 홀(51a)에 대응하는 위치에 콘택트 홀(17a)을 갖는다. 수지층(17) 상에는, Al(알루미늄) 등에 의해 형성되어 반사 기능을 갖는 반사 전극(5)이 형성되어 있다. 반사 전극(5)은 미세한 요철을 복수 갖는 수지층(17) 상에 형성되어 있기 때문에, 당해 반사 전극(5)은 그 미세한 복수의 요철을 반영한 형상으로 형성되어 있다. 콘택트 홀(51a, 17a)에 대응하는 반사 전극(5)의 위치에는, 광을 투과시키는 투과 개구 영역(80)이 형성되어 있다. 반사 전극(5) 상에는, 화소 전극(10)이 형성되어 있다.
또한, 하부 기판(1)의 외면상에는, 위상차판(13)(1/4파장판)이 배치되어 있고, 또한 위상차판(13)의 외면상에는 편광판(14)이 배치되어 있다. 또한, 편광판(14)의 외면상에는, 조명 장치로서의 백 라이트(15)가 배치되어 있다. 백 라이트(15)는, 예컨대, LED(Light Emitting Diode) 등과 같은 점 형상 광원이나, 냉음극 형광관 등과 같은 선 형상 광원과 도광판을 조합시킨 것 등이 바람직하다.
한편, R, G, B의 하나의 서브 화소 영역 SG 내에서의 반사 영역 E11에 대응하는 컬러 필터 기판(92)의 구성은 다음과 같다.
하부 기판(1)과 동일한 재료에 의해 이루어지는 상부 기판(2) 상에 있어, 또한, 반사 영역 E11에 대응하는 위치에는, R, G, B의 착색층(6)이 형성되어 있다. 각 착색층(6)의 두께는 d3으로 설정되어 있다. 착색층(6)은 투과 영역 E10과 반사 영역 E11에서 균일한 색을 표시시키는 기능을 갖는 개구(6a)를 갖는다. 서로 인접하여 착색층(6)을 구획하는 위치에는, BM이 형성되어 있다. 착색층(6) 상에는, 수지 재료 등으로 이루어지는 셀 두께 조정용 절연층(18)이 형성되어 있다. 셀 두께 조정용 절연층(18)은, 후술하는 바와 같이, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께(셀의 두께)와, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 액정층(4)의 두께를 최적의 값으로 설정하고, 그 양자의 영역에서 광학 특성을 균일하게 설정하는 기능, 이른바 멀티갭 구조를 갖는 기능과, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께와, W의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)에 대응하는 액정층(4)의 두께를 동일하게 설정하고, 그 양자의 영역에서 광학 특성을 동일하게 설정하는 기능을 겸하고 있다. 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께는 각 착색층(6)의 두께 d3과 동일한 값으로 설정되어 있다. 셀 두께 조정용 절연층(18) 등의 위에는, 공통 전극(8)이 형성되어 있다.
또한, 상부 기판(2)의 외면상에는, 위상차판(11)(1/4파장판)이 배치되어 있고, 또한 위상차판(11)의 외면상에는 편광판(12)이 배치되어 있다.
이상에서 기술한 반사 영역 E11에 대응하는 소자 기판(91)과, 당해 반사 영역 E11에 대응하는 컬러 필터 기판(92)은 액정층(4)을 개재하여 대향하고 있다. 그리고, 반사 영역 E11에 대응하는 액정층(4)의 두께는 d2로 설정되어 있다.
그런데, 이상의 구성을 갖는 반사 영역 E11에서 반사형 표시가 이루어지는 경우, 액정 장치(100)에 입사된 외광은, 도 4(a) 및 (b)에 나타내는 경로 R을 따라 진행한다. 즉, 액정 장치(100)에 입사된 외광은 반사 전극(5)에 의해 반사되어 관찰자에게 도달된다. 이 경우, 그 외광은 R, G, B의 각 착색층(6), 공통 전극(8) 및 화소 전극(10) 등이 형성되어 있는 영역을 통과하고, 그 화소 전극(10)의 아래쪽에 위치하는 반사 전극(5)에 의해 반사되어, 재차, 화소 전극(10), 공통 전극(8) 및 착색층(6) 등을 통과함으로써 소정의 색상 및 밝기를 나타낸다. 이와 같이 하여, 소망의 컬러 표시 화상이 관찰자에 의해 시인된다.
다음에, R, G, B의 하나의 서브 화소 영역 SG 내에서의 투과 영역 E10의 구성에 대하여 설명한다.
하부 기판(1) 상에는, 도 4(b)에 나타내는 바와 같이, 게이트 절연층(50)이 형성되어 있다. 게이트 절연층(50) 상에는, 패시베이션층(51)이 형성되어 있다. 패시베이션층(51) 상에는, 수지층(17)이 형성되어 있다. 상기한 바와 같이, 반사 영역 E11에 형성된 수지층(17)은 그 표면상에 미세한 요철이 형성되어 있는데 대하여, 투과 영역 E10에 형성된 수지층(15)은 그 표면상에 미세한 요철은 형성되지 않는다. 즉, 투과 영역 E10에 형성된 수지층(17)의 표면은 대략 평탄성을 갖도록 형성되어 있다. 수지층(17) 상에는, 화소 전극(10)이 형성되어 있다. 또한, 하부 기판(1)의 외면상에는 위상차판(13)이 배치되어 있고, 또한 위상차판(13)의 외면상에는 편광판(14)이 배치되어 있다. 또한, 편광판(14)의 외면상에는 백 라이트(15)가 배치되어 있다.
한편, R, G, B 하나의 서브 화소 영역 SG 내에서의 투과 영역 E10에 대응하는 컬러 필터 기판(92)의 구성은 다음과 같다. 상부 기판(2) 상에는, R, G, B의 착색층(6)이 형성되어 있다. 그 각 착색층(6) 상에는, 공통 전극(8)이 형성되어 있다. 또한, 상부 기판(2)의 외면상에는 위상차판(11)이 배치되어 있고, 또한 위상차판(11)의 외면상에는 편광판(12)이 배치되어 있다.
이상에서 기술한 투과 영역 E10에 대응하는 소자 기판(91)과, 당해 투과 영 역 E10에 대응하는 컬러 필터 기판(92)은 액정층(4)을 개재하여 대향하고 있다. 또한, 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께 d1은 반사 영역 E11에 대응하는 액정층(4)의 두께 d2보다 크게 설정되어 있고, 이른바 멀티갭 구조를 이루고 있다.
그런데, 이상의 구성을 갖는 투과 영역 E10에서 투과형 표시가 이루어지는 경우, 백 라이트(15)로부터 출사된 조명광은, 도 4(b)에 나타내는 경로 T를 따라 진행하여, 게이트 절연층(50), 패시베이션층(51), 화소 전극(10) 및 착색층(6) 등을 통과하여 관찰자에게 도달된다. 이 경우, 그 조명광은 R, G, B의 착색층(6)을 투과함으로써 소정의 색상 및 밝기를 나타낸다. 이와 같이 하여, 소망의 컬러 표시 화상이 관찰자에 의해 시인된다.
다음에, 도 5를 참조하여, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG의 구성에 대하여 설명한다.
도 5는 도 2에서의 C-C'선 부분 단면도이며, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG를 포함하는 단면 구성을 나타낸다. 또, 도 5에서는, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG의 단면 구성과, R, G, B에 대응하는 서브 화소 영역 SG의 단면 구성이 상이한 부분의 이해를 용이하게 하기 위해, 그 3색 중, G에 대응하는 서브 화소 영역 SG의 단면 구성도 나타낸다. 또한, 도 5에서, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG를 SG(W)라고, 또한, G에 대응하는 서브 화소 영역 SG를 SG(G)라고 각각 약기한다. 또한, 이하에서는, 상기에서 설명한 요소에 대해서는 동일한 부호를 부여하여, 그 설명은 간략화 또는 생략한다.
우선, W의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 소자 기판(91)의 구성에 대하여, G 의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 소자 기판(91)의 구성과 대비하여 설명한다.
그 양자의 구성을 대비하여 이해되도록, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG에서는, 수지층(17)과 화소 전극(10) 사이에는 반사 전극(5)은 마련되지 않는다. 또한, 그 밖의 구성에 대해서는, 양자는 거의 마찬가지이다. 이 때문에, W의 서브 화소 영역 SG는 투과 영역 E10만 갖는 구성으로 되어있다. 한편, W의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 컬러 필터 기판(92)의 구성은 다음과 같다. 상부 기판(2) 상에는, 셀 두께 조정용 절연층(18)이 소정 두께 d3으로 형성되어 있고, 또한 그 셀 두께 조정용 절연층(18) 상에는, 공통 전극(8)이 형성되어 있다. 또, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG에는, 상기한 바와 같이, 백색의 색재를 이용한 착색층은 마련되지 않는다.
이상에서 기술한 W의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 소자 기판(91)과, 당해 투과 영역 E10에 대응하는 컬러 필터 기판(92)은 액정층(4)을 개재하여 대향하고 있다. 그리고, W의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 액정층(4)의 두께는 R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께 d1(≒d2+d3)과 동일한 값으로 설정되어 있다.
또, W의 서브 화소 영역 SG에서의 투과형 표시가 행해지는 원리는 상기와 거의 마찬가지이다. 즉, W의 서브 화소 영역 SG에서 투과형 표시가 이루어지는 경우, 백 라이트(15)로부터 출사된 조명광은, 도 5에 나타내는 경로 T를 따라 진행하고, 게이트 절연층(50), 패시베이션층(51), 화소 전극(10), 공통 전극(8) 및 셀 두께 조정용 절연층(18) 등을 통과하여 관찰자에게 도달된다. 이 경우, 그 조명광은 상기한 요소를 투과함으로써 소정의 밝기를 나타낸다. 이에 따라, 고휘도 및 고콘트라스트의 향상이 도모되고 있다.
다음에, 본 발명의 실시예 1에 따른 액정 장치(100)의 작용 효과에 대하여 설명한다.
일반적으로, R, G, B 및 W(투명)의 각 색에 대응하는 표시 화소를 갖는 액정 장치에서는, R, G, B의 각 표시 화소에, W의 표시 화소를 부가하는 것으로, 고휘도 및 고콘트라스트를 실현하고 있다. 그런데, W의 표시 화소에는 색재가 없기 때문에, R, G, B의 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께(셀 두께)와, W의 표시 화소의 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께(셀 두께)를 동일하게 설정하기 위해서는, W의 표시 화소에 대응하는 위치에 셀 두께 조정용 투명 수지층을 마련해야 한다. 또한, 멀티갭 구조를 갖는 반투과 반사형 액정 장치에서는, 통상, 투과 영역과 반사 영역에서 광학 특성을 균일하게 하기 위해, 반사 영역에 멀티갭용 수지층이 형성되어 있고, 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께가, 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정되어 있다.
이러한 멀티갭 구조를 갖는 반투과 반사형 액정 장치에 있어서, R, G, B 및 W(투명)의 각 색에 대응하는 표시 화소를 갖도록 구성한 경우(이하, 비교예라고 함)에는, W의 표시 화소에 대응하는 위치에 셀 두께 조정용 투명 수지층과, 그 투명 수지층과 다른 재료로 이루어지는 멀티갭용 수지층을 R, G, B의 각 표시 화소의 각 반사 영역에 별개로 마련해야 하므로, 그 만큼 공정이 증가하고, 이것에 기인하여 액정 장치의 제품 비용이 증가하게 된다.
이 때문에, 실시예 1에 따른 액정 장치(100)에서는, 특히, R, G, B의 반사 영역 E11, 및 W(투명)의 투과 영역 E10에는, 동일한 투명 재료(예컨대, 투명 수지 재료)로 이루어지는 셀 두께 조정용 절연층(18)이 마련된다. 즉, 이 액정 장치(100)의 제조 과정에서, R, G, B의 각 반사 영역 E11에서의 각 착색층(6) 상에 마련되는 셀 두께 조정용 절연층(18)과, W(투명)의 투과 영역 E10에 마련되는 셀 두께 조정용 절연층(18)은 동일한 공정에 의해 동일한 투명 재료로 동시에 형성되어 있다. 이에 따라, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를, 또한, W의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)에 셀 두께 조정용 셀 두께 조정용 절연층(18)을 각기 동시에 형성할 수 있다. 그 결과, 상기한 비교예와 비교하여 공정의 삭감을 도모할 수 있어, 이에 따라 액정 장치(100)의 제품 비용을 감소시킬 수 있다.
상기한 바와 같이, R, G, B 및 W의 각 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께 d1과, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 액정층(4)의 두께 d2와, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께 d3과, W의 각 투과 영역 E10에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께 d3과, 각 착색층(6)의 두께 d3의 관계는 d1≒d2+d3으로 되도록 설정되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 두께 d1을 4㎛에 설정하고, 또한, 두께 d2를 2㎛로 설정한 경우에는, 두께 d3은 약 2㎛로 설정되어 있는 것이 바람직하다.
[실시예 2]
실시예 2는, 본 발명을, 2 단자 소자의 일례로서의 TFD(Thin Film Diode) 소자를 이용한 액티브 매트릭스 구동 방식의 액정 장치에 적용한다.
(액정 장치의 구성)
다음에, 본 발명의 실시예 2에 따른 액정 장치(200)의 구성에 대하여 설명한다. 또, 이하에서, 실시예 1과 동일한 요소에 대해서는 동일한 부호를 부여하고, 그 설명은 간략화 또는 생략한다.
도 6은 실시예 2에 따른 액정 장치(200)의 개략 구성을 모식적으로 나타내는 평면도이다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 액정 장치(200)는 소자 기판(93)과, 그 소자 기판(93)에 대향하여 배치되는 컬러 필터 기판(94)이 복수의 금속 입자 등의 도통 부재(7)가 혼입된 프레임 형상의 밀봉재(5)를 통해 접합되고, 그 밀봉재(5)의 안쪽에 액정이 주입 밀봉되어 액정층(4)이 형성되어 이루어진다. 도 6에서는, 지면 앞쪽(관찰쪽)에 소자 기판(93)이, 또한, 지면 안쪽에 컬러 필터 기판(94)이 각기 배치되어 있고, 그 양 기판의 배치는 실시예 1과 반대로 되어 있다.
여기에, 액정 장치(200)는 R, G, B, W의 4색을 이용하여 구성되는 컬러 표시용의 액정 장치이고, 또한 스위칭 소자로서 TFD 소자를 이용한 액티브 매트릭스 구동 방식의 액정 장치이다. 또한, 액정 장치(200)는 R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG 내에 투과 영역 및 반사 영역을 갖는 반투과 반사형 액정 장치이고, 또한 당해 투과 영역과 당해 반사 영역에서 액정층(4)의 두께가 다른 멀티갭 구조를 갖는 액 정 장치이다.
우선, 소자 기판(93)의 평면 구성에 대하여 설명한다. 소자 기판(93)은, 주로, 복수의 데이터선(62), 복수의 TFD 소자(63), 복수의 화소 전극(10), 복수의 레이아웃 배선(61), Y 드라이버 IC(67), 복수의 X 드라이버 IC(66), 복수의 외부 접속용 배선(35) 및 FPC(41)를 구비하고 있다.
복수의 데이터선(62)은 Y방향으로 연장하는 직선 형상의 배선이며, 돌출 영역(31)으로부터 유효 표시 영역 V에 걸쳐 형성되어 있다. 각 데이터선(62)은 X방향으로 일정한 간격을 두고 형성되어 있다. 또한, 각 데이터선(62)은 대응하는 각 TFD 소자(63)에 접속되어 있고, 각 TFD 소자(63)는 대응하는 각 화소 전극(10)에 접속되어 있다. 이 때문에, 각 데이터선(62)과 각 화소 전극(10)은 각 TFD 소자(63)를 통해 전기적으로 접속되어 있다.
복수의 레이아웃 배선(61)은 Y방향으로 연장하는 본선 부분(61a)과, 그 본선 부분(61a)에 대하여 X방향으로 대략 직각으로 구부려진 굴곡 부분(61b)으로 구성되어 있다. 각 본선 부분(61a)은 프레임 영역(38) 내를 돌출 영역(31)으로부터 Y방향으로 연장하도록 형성되어 있다. 또한, 각 본선 부분(61a)은 각 데이터선(62)에 대하여 대략 평행하고, 또한, 일정한 간격을 두고 형성되어 있다. 각 굴곡 부분(61b)은 프레임 영역(38) 내에서, 좌우에 위치하는 밀봉재(5) 내까지 X방향으로 연장하고 있다. 그리고, 그 굴곡 부분(61b)의 종단부는 밀봉재(5) 내에서 도통 부재(7)에 전기적으로 접속되어 있다.
소자 기판(93)의 돌출 영역(31) 상에는, Y 드라이버 IC(67) 및 복수의 X 드 라이버 IC(66)가 실장되어 있다. 또한, 돌출 영역(31) 상에는, 복수의 외부 접속용 배선(35)이 형성되어 있다.
각 X 드라이버 IC(66)의 입력 쪽은 외부 접속용 배선(35)의 일단 쪽에 전기적으로 접속되어 있는 한편, 각 X 드라이버 IC(66)의 출력 쪽은 각 레이아웃 배선(61)의 일단 쪽에 전기적으로 접속되어 있다. 이에 따라, 각 X 드라이버 IC(66)는 각 레이아웃 배선(61)에 주사 신호를 출력하는 것이 가능해지고 있다.
Y 드라이버 IC(67)의 입력 쪽은 외부 접속용 배선(35)의 일단 쪽에 전기적으로 접속되어 있는 한편, Y 드라이버 IC(67)의 출력 쪽은 각 데이터선(62)의 일단 쪽에 전기적으로 접속되어 있다. 이에 따라, Y 드라이버 IC(67)는 각 데이터선(62)에 데이터 신호를 출력하는 것이 가능해지고 있다.
FPC(41)는 후술하는 전자기기 및 복수의 외부 접속용 배선(35)의 타단 쪽에 전기적으로 접속되어 있다.
이상의 구성을 갖는 소자 기판(93)에서는, 예컨대, 휴대 전화나 정보 단말 등의 전자기기로부터 FPC(41), Y 드라이버 IC(67) 및 각 X 드라이버 IC(66) 등을 통해, 각 데이터선(62)에 데이터 신호를, 또한, 각 레이아웃 배선(61)에 주사 신호를 각기 출력한다.
다음에, 컬러 필터 기판(94)의 평면 구성에 대하여 설명한다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 컬러 필터 기판(94)은 주로, R, G, B의 각 착색층(6), 스트라이프형상을 갖는 주사 전극(64) 등을 구비하여 구성된다.
각 착색층(6)은 화소 전극(10)에 대응하는 위치에 형성되어 있다. Y방향으 로 서로 인접하는 착색층(6) 사이에는, R, G, B의 각 착색층(6) 중, 임의의 2색을 겹쳐 형성한 차광층(67)(도 9(a) 등을 참조)이 형성되어 있는 한편, X방향으로 서로 인접하는 착색층(6) 사이에는, R, G, B의 각 착색층(6) 중, 임의의 3색을 겹쳐 형성한 차광층(68)(도 9(b) 등을 참조)이 형성되어 있다. 각 주사 전극(64)은 X방향으로 연장하고 또한 Y방향으로 일정한 간격을 두고 형성되어 있다. 각 주사 전극(64)의 좌단부 혹은 우단부는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 밀봉재(5) 내까지 연장하고 있고, 또한, 그 밀봉재(5) 내에 혼입된 복수의 도통 부재(7)와 전기적으로 접속되어 있다.
이상에 설명한, 컬러 필터 기판(94)과 소자 기판(93)이 밀봉재(5)를 통해 접합된 상태가 도 6에 도시되어 있다. 도시한 바와 같이, 컬러 필터 기판(94)의 각 주사 전극(64)은 소자 기판(93)의 각 데이터선(62)에 대하여 교차하고 있고, 또한, X방향으로 열을 이루는 복수의 화소 전극(10)과 평면적으로 겹쳐 있다. 이와 같이, 주사 전극(64)과 각 화소 전극(10)이 겹치는 영역이 하나의 서브 화소 영역 SG를 구성하고 있다.
또한, 컬러 필터 기판(94)의 각 주사 전극(64)과, 소자 기판(93)의 각 레이아웃 배선(61)은, 도시한 바와 같이, 좌변(200a) 쪽과 우변(200b) 쪽 사이에서 교대로 겹쳐 있고, 각 주사 전극(64)과 각 레이아웃 배선(61)은 밀봉재(5) 내의 도통 부재(7)를 통해 상하 도통되어 있다. 즉, 컬러 필터 기판(94)의 각 주사 전극(64)과 소자 기판(93)의 각 레이아웃 배선(61)의 도통은, 도시한 바와 같이, 좌변(200a) 쪽과 우변(200b) 쪽 사이에서 교대로 실현되고 있다. 이 때문에, 컬러 필터 기판(94)의 각 주사 전극(64)은 소자 기판(93)의 각 레이아웃 배선(61)을 통해, 지면 좌우에 각기 위치하는 각 X 드라이버 IC(66)에 전기적으로 접속되어 있다.
이상의 구성을 갖는 액정 장치(200)에서는, 전자기기와 접속된 FPC(41) 쪽으로부터의 신호 및 전력 등에 근거하여, 각 X 드라이버 IC(66)에 의해, 각 레이아웃 배선(61)을 통해 각 주사 전극(64)이 순차 배타적으로 1개씩 선택되고, 또한 선택된 주사 전극(64)에는, 선택 전압의 주사 신호가 공급되는 한편, 다른 비선택의 주사 전극(64)에는, 비선택 전압의 주사 신호가 공급된다. 그리고, Y 드라이버 IC(67)는 선택된 주사 전극(64)에 대응하는 위치에 있는 화소 전극(10)에 대하여, 표시 내용에 따른 데이터 신호를 각각 대응하는 데이터선(62) 및 TFD 소자(63)를 통해 공급한다. 그 결과, 액정층(4)의 표시 상태는 비표시 상태 또는 중간 표시 상태로 전환되어, 액정층(4)의 배향 상태가 제어되게 된다.
(화소 구성)
다음에, 도 7 등을 참조하여, 하나의 화소 영역 AG의 구성에 대하여 설명한다. 도 7은 도 6에서의 하나의 화소 영역 AG(파선으로써 둘러싸인 부분)에 대응하는 부분 확대 평면도이다.
도 7에 나타내는 바와 같이, 하나의 화소 영역 AG는 R, G, B, W에 대응하는, 2행2열의 서브 화소 영역 SG를 구비하여 구성된다. 또한, R, G, B에 대응하는 각 서브 화소 영역 SG는 투과형 표시가 행해지는 투과 영역 E10과, 반사형 표시가 행 해지는 반사 영역 E11을 구비하여 구성된다. 이에 대하여, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG는 투과 영역 E10만을 구비하여 구성되고, 반사 영역 E11은 갖지 않는다.
다음에, 도 8을 참조하여, 도 7에서의 R, G, B에 대응하는 각 서브 화소 영역 SG의 구성에 대하여 설명한다.
도 8(a)는 R, G, B의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 소자 기판(93)의 구성을 나타내는 부분 확대 평면도이다. 한편, 도 8(b)는 R, G, B의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 컬러 필터 기판(94)의 구성을 나타내는 부분 확대 평면도이다. 도 9(a)는 도 8(a)에서의 D-D'선 부분 단면도이며, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 액정 장치(200)의 단면 구성을 나타낸다. 도 9(b)는 도 8(a)에서의 E-E'선 부분 단면도이며, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에 대응하는 액정 장치(200)의 단면 구성을 나타낸다.
우선, R, G, B의 하나의 서브 화소 영역 SG 내에 대응하는 소자 기판(93)의 구성에 대하여 설명한다. 유리 등으로 이루어지는 하부 기판(81) 상에는, 데이터선(62), TFD 소자(63) 및 화소 전극(10) 등이 형성되어 있다. 데이터선(62)은, 도 8에 나타내는 바와 같이, 서브 화소 영역 SG의 우단 부근에서, Y방향으로 연장하도록 형성되어 있다. TFD 소자(63)는 서브 화소 영역 SG의 코너 위치 부근에 마련된다. 화소 전극(10)은 서브 화소 영역 SG 내에 마련되어 있고, TFD 소자(63)와 전기적으로 접속되어 있다. 이 때문에, 데이터선(62)은 TFD 소자(63)를 통해 화소 전극(10)에 전기적으로 접속되어 있다. 또, 화소 전극(10) 등의 위에는, 도시하지 않은 배향막이 형성되어 있다.
다음에, 하나의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 컬러 필터 기판(94)의 구성에 대하여, 투과 영역 E10과 반사 영역 E11로 나눠 설명한다.
우선, R, G, B의 하나의 서브 화소 영역 SG 내에서의 반사 영역 E11의 구성에 대하여 설명한다.
유리 등으로 이루어지는 상부 기판(82) 상에는, 수지층(17)이 형성되어 있다. 수지층(17)의 표면 상에는, 광을 산란시키는 기능을 갖는 복수의 미세한 요철이 형성되어 있다. 수지층(17) 상에는, Al 등으로 이루어지는 반사층(65)이 형성되어 있다. 이 때문에, 반사층(65)은 수지층(17)의 복수의 미세한 요철을 반영한 형상으로 형성되어 있다. 반사층(65) 상에는, R, G, B의 각 착색층(6)이 형성되어 있다. R, G, B의 각 착색층(6)은 투과 영역 E10과 반사 영역 E11에서 균일한 색을 표시하는 기능을 갖는 개구(6a)를 갖는다. 또한, 도 8(b)에서, 서브 화소 영역 SG와 파선 영역 E30으로 구획된 영역은 R, G, B의 착색층(6) 중 임의의 2색의 착색층(6)이 서로 겹쳐진 차광층(67)이 형성된 영역과, 임의의 3색의 착색층(6)이 서로 겹쳐진 차광층(68)이 형성된 영역을 포함하고 있다. 개구(6a) 내에 위치하는 반사층(65) 및 착색층(6) 상에는, 절연성을 갖는 보호층(19)이 형성되어 있다. 이 보호층(19)은 컬러 필터 기판(94)의 제조 공정 중에 사용되는 약제 등에 의한 부식이나 오염으로부터, 착색층(6)을 보호하는 기능을 갖는다. 수지층(17) 상에서 보호층(19) 상까지의 거리는 d7로 설정되어 있다. 보호층(19) 상에는, 셀 두께 조정용 절연층(18)이 형성되어 있다. 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께는 d7로 설정되어 있다. 셀 두께 조정용 절연층(18) 상에는, 주사 전극(64)이 형성되어 있다. 또, 주사 전극(64) 상에는, 도시하지 않은 배향막이 형성되어 있다.
또한, 하부 기판(81)의 외면상에는, 위상차판(13)이 배치되어 있고, 또한 위상차판(13)의 외면상에는 편광판(14)이 배치되어 있다. 또한, 편광판(14)의 외면상에는 백 라이트(15)가 배치되어 있다.
이상에서 기술한 반사 영역 E11에 대응하는 소자 기판(93)과, 당해 반사 영역 E11에 대응하는 컬러 필터 기판(94)은 액정층(4)을 개재하여 대향하고 있다. 그리고, 반사 영역 E11에 대응하는 액정층(4)의 두께는 d6으로 설정되어 있다.
그런데, 이상의 구성을 갖는 반사 영역 E11에서 반사형 표시가 이루어지는 경우, 액정 장치(200)에 입사된 외광은, 도 9(a) 및 (b)에 나타내는 경로 R을 따라 진행한다. 즉, 액정 장치(200)에 입사된 외광은 반사층(65)에 의해 반사되어 관찰자에게 도달된다. 이 경우, 그 외광은 화소 전극(10), 셀 두께 조정용 절연층(18) 및 R, G, B의 각 착색층(6) 등이 형성되어 있는 영역을 통과하고, 그 각 착색층(6)의 아래쪽에 위치하는 반사층(65) 및 각 개구(6a) 내에 위치하는 반사층(65)에 의해 반사되고, 재차, 각 착색층(6), 셀 두께 조정용 절연층(18) 및 화소 전극(10) 등을 통과함으로써 소정의 색상 및 밝기를 나타낸다. 이와 같이 하여, 소망의 컬러 표시 화상이 관찰자에 의해 시인된다.
다음에, R, G, B의 하나의 서브 화소 영역 SG 내에서의 투과 영역 E10의 구성에 대하여 설명한다.
도 9(b)에 나타내는 바와 같이, 하부 기판(81) 상에는, 수지층(17)이 형성되 어 있고, 또한 그 수지층(17) 상에는, 광을 투과시키는 투과 개구 영역(85) 등이 형성되어 있다. 그리고, 투과 개구 영역(85) 내에 위치하는 수지층(17) 상에는, R, G, B의 착색층(6) 등이 형성되어 있다. R, G, B의 착색층(6) 상에는, 보호층(19)이 형성되어 있다. 또한, 보호층(19) 상에는, 주사 전극(64)이 형성되어 있다. 또, 주사 전극(64) 상에는, 도시하지 않은 배향막이 형성되어 있다.
또한, 하부 기판(81)의 외면상에는, 위상차판(13)이 배치되어 있고, 또한 위상차판(13)의 외면상에는 편광판(14)이 배치되어 있다. 또한, 편광판(14)의 외면상에는 백 라이트(15)가 배치되어 있다. 한편, 상부 기판(82) 상에는, 화소 전극(10)이 형성되어 있다. 또, 화소 전극(10) 위에는, 도시하지 않은 배향막이 형성되어 있다.
이상에서 기술한 투과 영역 E10에 대응하는 소자 기판(93)과, 당해 투과 영역 E10에 대응하는 컬러 필터 기판(94)은 액정층(4)을 개재하여 대향하고 있다. 또한, 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께 d5(≒d6+d7)는 반사 영역 E11에 대응하는 액정층(4)의 두께 d6보다 크게 설정되어 있고, 이른바 멀티갭 구조를 이루고 있다.
그런데, 이상의 구성을 갖는 투과 영역 E10에서 투과형 표시가 이루어지는 경우, 백 라이트(15)로부터 출사된 조명광은, 도 9(b)에 나타내는 경로 T를 따라 진행하여, 수지층(17), 착색층(6), 보호층(19), 주사 전극(64) 및 화소 전극(10) 등을 통과하여 관찰자에게 도달된다. 이 경우, 그 조명광은 R, G, B의 착색층(6)을 투과함으로써 소정 색상 및 밝기를 나타낸다. 이와 같이 하여, 소망의 컬러 표 시 화상이 관찰자에 의해 시인된다.
다음에, 도 10을 참조하여, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG의 구성에 대하여 설명한다.
도 10은 도 7에서의 F-F'선 부분 단면도이며, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG를 포함하는 단면 구성을 나타낸다. 또, 도 10에서는, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG의 단면 구성과, R, G, B에 대응하는 서브 화소 영역 SG의 단면 구성의 상이한 부분의 이해를 용이하게 하기 위해, 그 3색 중, G에 대응하는 서브 화소 영역 SG의 단면 구성도 나타낸다. 또한, 도 10에서, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG를 SG(W)로, 또한, G에 대응하는 서브 화소 영역 SG를 SG(G)로 각각 약기한다. 또한, 이하에서는, 상기에서 설명한 요소에 대해서는 동일한 부호를 부여하고, 그 설명은 간략화 또는 생략한다.
우선, W의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 컬러 필터 기판(94)의 구성에 대하여 설명한다. 하부 기판(81) 상에는 수지층(17) 등이 형성되어 있다. 투과 영역 E10에 형성된 수지층(17)의 표면은 대략 평탄성을 갖도록 형성되어 있다. 수지층(17) 상에는 셀 두께 조정용 절연층(18) 등이 형성되어 있다. 셀 두께 조정용 절연층(18) 상에는 주사 전극(64)이 형성되어 있다. 또, 주사 전극(64) 위에는, 도시하지 않은 배향막이 형성되어 있다. 이 때문에, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG는 투과 영역 E10만 갖는 구성으로 되어있다. 또, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG에는, 백색의 색재를 이용한 착색층은 마련되지 않는다. 한편, W에 대응하는 서브 화소 영역 SG에 대응하는 소자 기판(93)의 구성은 R, G, B의 서브 화소 영역 SG 에 대응하는 소자 기판(93)의 구성과 마찬가지다.
이상에 기술한 W의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 소자 기판(93)과, 당해 투과 영역 E10에 대응하는 컬러 필터 기판(94)은 액정층(4)을 개재하여 대향하고 있다. 그리고, W의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 액정층(4)의 두께는 R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께 d5와 동일한 값으로 설정되어 있다.
또, W의 서브 화소 영역 SG에서의 투과형 표시가 행해지는 원리는 상기와 대략 마찬가지이다. 즉, W의 서브 화소 영역 SG에서 투과형 표시가 이루어지는 경우, 백 라이트(15)로부터 출사된 조명광은, 도 10에 나타내는 경로 T를 따라 진행하고, 수지층(17), 셀 두께 조정용 절연층(18), 주사 전극(64) 및 화소 전극(10) 등을 통과하여 관찰자에게 도달된다. 이 경우, 그 조명광은 상기한 요소를 투과함으로써 소정의 밝기를 나타낸다. 이에 따라, 고휘도 및 고콘트라스트의 향상이 도모되고 있다.
다음에, 본 발명의 실시예 2에 따른 액정 장치(200)의 작용 효과에 대하여 설명하면, 실시예 2에 따른 액정 장치(200)는 상기한 실시예 1과 마찬가지의 작용 효과를 나타낸다.
즉, 이 액정 장치(200)에서는, 특히, R, G, B의 반사 영역 E11 및 W(투명)의 투과 영역 E10에는, 동일한 투명 재료(예컨대, 투명 수지 재료)로 이루어지는 셀 두께 조정용 절연층(18)이 마련된다. 즉, 이 액정 장치(200)의 제조 과정에서, R, G, B의 각 반사 영역 E11에서의 각 보호층(19) 상에 마련되는 셀 두께 조정용 절연층(18)과, W(투명)의 투과 영역 E10에 마련되는 셀 두께 조정용 절연층(18)은 동일 한 공정, 동일한 투명 재료에 의해 동시에 형성되어 있다. 이에 따라, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에 대응하는 위치에 멀티갭 구조를, 또한, W의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)에 셀 두께 조정용의 셀 두께 조정용 절연층(18)을 각기 동시에 형성할 수 있다. 그 결과, 상기한 비교예와 비교하여 공정의 삭감을 도모할 수 있고, 그에 따라 액정 장치(100)의 제품 비용을 감소시킬 수 있다.
상기한 바와 같이, R, G, B 및 W의 각 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께 d5와, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 액정층(4)의 두께 d6과, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18) 및 W의 각 투과 영역 E10에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께 d7의 관계는, d5≒d6+d7로 되도록 설정되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 두께 d5를 4㎛로 설정하고, 또한, 두께 d6을 2㎛로 설정한 경우에는, 두께 d7은 약 2㎛로 설정되어 있는 것이 바람직하다.
[변형예]
상기한 실시예 1에서는, 컬러 필터 기판(92) 쪽의 R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에 있어서, 투과 영역 E10과 반사 영역 E11에서 균일한 색을 표시하기 위해, 반사 영역 E11에 형성되는 착색층(6)에 개구(6a)를 마련하도록 구성했다. 이것에 한하지 않고, 본 발명에서는, 착색층(6)에 개구(6a)를 마련하는 것이 아니라, 투과 영역 E10에 형성되는 착색층(6)의 두께를, 반사 영역 E11에 형성되는 착색층(6)의 두께보다 두껍게 하는 것에 의해, 상기와 마찬가지의 작용 효과를 얻도록 하여도 상관없다.
이러한 구성에 대하여, 도 11을 참조하여 간단히 설명한다. 도 11은 도 5에 대응하는 단면도이지만, G의 서브 화소 영역 SG를 착안하여 알 수 있는 바와 같이, 투과 영역 E10에 형성된 착색층(6)의 두께와, 반사 영역 E11에 형성된 착색층(6)의 두께가 각기 다르다.
즉, 도 11에 나타내는 바와 같이, 착색층(6G)에 대응하는 서브 화소 영역 SG에 착안한 경우, 그 투과 영역 E10 및 반사 영역 E11의 구성은 다음과 같이 되어있다. 우선, 투과 영역 E10에서는, 상부 기판(2) 상에 착색층(6G)이 형성되어 있고, 또한 그 착색층(6G) 상에 공통 전극(8)이 형성되어 있다. 한편, 반사 영역 E11에서는, 상부 기판(2) 상에 수지 재료로 이루어지는 수지층(20)이 형성되어 있고, 그 수지층(20) 상에는 착색층(6G)이 형성되어 있으며, 또한, 그 착색층(6G) 상에는 셀 두께 조정용 절연층(18)이 형성되어 있다. 또한, 셀 두께 조정용 절연층(18) 상에는 공통 전극(8)이 형성되어 있다. 그리고, 투과 영역 E10에 형성된 착색층(6G)의 두께는 d8로, 또한, 반사 영역 E11에 형성된 착색층(6G)의 두께는 d9(<d8)로 설정되어 있다. 바람직한 예에서는, 투과 영역 E10에 형성된 착색층(6G)의 두께 d8은 반사 영역 E11에 형성된 착색층(6G)의 두께 d9의 약 2배로 설정되어 있는 것이 바람직하다.
이러한 구성에서 투과형 표시를 행하는 경우, 백 라이트(15)로부터 출사된 조명광은 경로 T를 따라 투과 영역 E10의 착색층(6G)을 1회 통과하는데 대하여, 반사형 표시를 행하는 경우, 외광은 경로 R을 따라 반사 영역 E11의 착색층(6G)을 우 선 1회 통과하고, 계속해서, 그 통과한 외광은 착색층(6G)의 아래쪽에 배치된 반사 전극(5)에 의해 반사되어 재차 경로 R을 따라 착색층(6G)을 1회 더 통과하기 때문에, 그 광은 착색층(6G)을 총 2회 통과하는 것으로 된다. 즉, 반사형 표시를 행하는 경우에는, 투과형 표시를 행하는 경우와 비교하여, 광이 착색층(6G)을 1회 더 통과한다.
이 때문에, 투과 영역 E10에 형성된 착색층(6G)의 두께 d8이 반사 영역 E11에 형성된 착색층(6G)의 두께 d9에 대하여 약 2배로 설정되어 있는 경우에는, 투과 영역 E10과 반사 영역 E11에서 동일한 길이만큼 광이 통과하는 것으로 되므로, 그 양자의 영역에서는 균일한 색을 표시하는 것이 가능해진다. 또, 여기서는, 특히 설명을 생략하지만, 물론, R 및 B의 각 서브 화소 영역 SG의 구성도 상기한 변형예와 마찬가지의 구성으로 할 수 있다.
또한, 실시예 2도 실시예 1과 마찬가지로, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에서, 투과 영역 E10과 반사 영역 E11에서 균일한 색을 표시하기 때문에, 반사 영역 E11에 형성되는 착색층(6)에 개구(6a)를 마련하도록 구성하고 있었다.
이 구성에 한하지 않고, 본 발명에서는, 실시예 2도, 상기한 변형예와 동일한 구성을 채용할 수 있다. 이 점에 대하여, 도 12를 참조하여 간단히 설명한다. 도 12는 도 10에 대응하는 단면도이지만, G의 서브 화소 영역 SG를 착안하여 알 수 있는 바와 같이, 투과 영역 E10에 형성되는 착색층(6)의 두께와, 반사 영역 E11에 형성되는 착색층(6)의 두께가 각기 다르다.
즉, 도 12에 나타내는 바와 같이, 착색층(6G)에 대응하는 서브 화소 영역 SG 에 착안한 경우, 그 투과 영역 E10 및 반사 영역 E11의 구성은 다음과 같게 되어있다. 우선, 투과 영역 E10에서는, 하부 기판(81) 상에 착색층(6G)이 형성되어 있고, 그 착색층(6G) 상에는 보호층(19)이 형성되어 있으며, 또한, 그 보호층(19) 상에는 주사 전극(64)이 형성되어 있다. 한편, 반사 영역 E11에서는, 하부 기판(81) 상에 수지층(17)이 형성되어 있고, 또한 그 수지층(17) 상에는 반사층(65)이 형성되어 있다. 또한, 그 반사층(65) 상에는 착색층(6G)이 형성되어 있고, 또한 그 착색층(6G) 상에는 보호층(19)이 형성되어 있다. 또한, 그 보호층(19) 상에는, 셀 두께 조정용 절연층(18)이 형성되어 있고, 또한 그 셀 두께 조정용 절연층(18) 상에는 주사 전극(64)이 형성되어 있다.
그리고, 투과 영역 E10에 형성된 착색층(6G)의 두께는 d10으로, 한편, 반사 영역 E11에 형성된 착색층(6G)의 두께는 d11(<d10)로 설정되어 있다. 바람직한 예에서는, 투과 영역 E10에 형성된 착색층(6G)의 두께 d10은 반사 영역 E11에 형성된 착색층(6G)의 두께 d11의 약 2배로 설정되어 있는 것이 바람직하다. 이에 따라, 상기한 원리와 마찬가지의 방법으로, 투과 영역 E10 및 반사 영역 E11을 각기 광이 통과함으로써, 투과 영역 E10과 반사 영역 E11에서 균일한 색을 표시하는 것이 가능해진다. 또, R 및 B의 각 서브 화소 영역 SG의 구성도, 물론, 상기한 변형예와 마찬가지의 구성으로 할 수 있다.
또한, 상기한 실시예 1 및 2(상기한 각 변형예도 포함함)에서는, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에는 투과 영역 E10 및 반사 영역 E11을 각기 마련하는 한편, W의 서브 화소 영역 SG에는 투과 영역 E10만 마련하도록 구성했다. 이것에 한정되 지 않고, 본 발명에서는, 실시예 1 및 2에 있어서, W의 서브 화소 영역 SG의 구성도, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG의 구성과 마찬가지로, 투과 영역 E10 및 반사 영역 E11을 각기 마련하도록 하여도 상관없다. 이러한 구성을 채용한 하나의 화소 영역 AG의 평면적인 구성을 도 13(a) 및 (b)에 각기 나타낸다. 여기서, 도 13(a)는 실시예 1에 대한, 도 2에 대응하는 부분 평면도이며, W의 서브 화소 영역 SG 내에 투과 영역 E10과 반사 영역 E11을 마련한 구성도를 나타내고 있다. 한편, 도 13(b)는 실시예 2에 대한 도 7에 대응하는 부분 평면도이며, W의 서브 화소 영역 SG 내에 투과 영역 E10과 반사 영역 E11을 마련한 구성도를 나타내고 있다.
또, 이 경우, 실시예 1(상기한 변형예를 포함함)에서는, 소자 기판(91) 쪽에서, W의 반사 영역 E11에 대응하는, 수지층(17)과 화소 전극(10) 사이에 반사 전극(5)을 마련해야 한다. 한편, 실시예 2(상기한 변형예를 포함함)에서는, 컬러 필터 기판(94)에서, W의 반사 영역 E11의 수지층(17)과 셀 두께 조정용 절연층(18) 사이에 반사층(65)을 마련해야 한다.
또한, 실시예 1 및 2에서는, R, G, B, W의 착색층(6)을 포함하는 2행2열의 서브 화소 영역 SG에 의해 하나의 화소 영역 AG를 구성했지만, 이것에 한하지 않고, 본 발명에서는, 도 14(a)에 나타내는 바와 같이, R, G, B, W의 착색층(6)을 포함하는 1행4열의 서브 화소 영역 SG(모두 동일한 면적)에 의해 하나의 화소 영역 AG를 구성하도록 하여도 상관없다. 또, 이 때, R, G, B, W의 배열 순서는 도 14(a)의 구성에 한정되지 않고, 필요에 따라 그 배열 순서는 적절히 변경 가능하다. 또한, 상기한 바와 같이, W를 하나의 화소 영역 AG 내에 마련하면, 휘도가 향 상되는 반면, 고휘도에서의 색농도가 저하하는 경우가 있다. 따라서, 휘도를 향상시키면서 색농도의 저하를 방지하기 위해서는, 도 14(b)에 나타내는 바와 같이, W의 서브 화소 영역 SG의 면적을, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG의 면적에 비하여, 상대적으로 작아지도록 설정하는 것이 효과적이다. 또한, 본 발명에서는, R, G, B, W의 착색층(6)을 포함하는 하나의 화소 영역 SG의 구성은 상기한 구성에 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지의 변경이 가능하다.
또한, 본 발명에서는, 상기한 실시예 1 및 2에서, 셀 두께 조정용 절연층(18)은 R, G, B의 각 착색층(6)의 보호막을 겸하는 경우가 있으므로, R, G, B의 각 투과 영역의 착색층(6) 상에는, 그 셀 두께 조정용 절연층(18)을 박육부로서 남기더라도 상관없다.
또한, 본 발명에서는, 상기한 실시예 1 및 2에 있어서, 셀 두께 조정용 절연층(18)과 착색층을 동일한 기판에 배치했지만, 이것에 한하지 않고, 본 발명에서는, 셀 두께 조정용 절연층(18)과 착색층(6)을 별도의 기판에 배치하여도 상관없다. 구체적으로는, 스위칭 소자가 마련되어 이루어지는 기판에 셀 두께 조정용 절연층(18)을 배치하고, 그 기판과 대향하는 기판에 착색층(6)을 배치하여도 좋다. 이 때, 셀 두께 조정용 절연층(18) 상에 반사 전극(5) 또는 반사층(65)을 배치하여도 좋다. 요는, 셀 두께 조정용 절연층(18)에 의해, R, G, B의 각 착색층(6)을 구비하는 표시 화소에 있어서의 투과 영역과, 착색층을 구비하지 않는 W의 표시 화소에 있어서의 투과 영역 사이에서 액정층의 두께가 크게 다른 것을 방지할 수 있으 면 좋은 것이다.
[액정 장치의 제조 방법]
다음에, 상기한 본 발명의 실시예 1 및 2에 따른 액정 장치(100, 200)의 제조 방법 등에 대하여 설명한다.
(실시예 1에 따른 액정 장치의 제조 방법)
우선, 도 15 내지 도 21을 참조하여, 실시예 1에 따른 액정 장치(100)의 제조 방법에 대하여 설명한다. 도 15는 실시예 1 및 2에 따른 액정 장치(100, 200)의 제조 방법을 나타내는 흐름도이다. 도 16은 실시예 1에 따른 컬러 필터 기판(92)의 제조 방법을 나타내는 흐름도이다. 도 17 내지 도 21은 도 15에서의 공정 S1에 대응하는 각 공정도를 나타낸다. 도 17 내지 도 21에서, SG(W)는 W(투명)에 대응하는 서브 화소 영역 SG를, 또한, SG(G)은 G(녹색)에 대응하는 서브 화소 영역 SG를 각기 나타내고 있다. 또한, E10은 투과 영역으로 되는 영역을, 또한, E11은 반사 영역으로 되는 영역을 각기 나타내고 있다. 또, 이하에서는, 도 5에 표시되는 컬러 필터 기판(92)의 단면 구성을 일례로 하여 설명한다.
우선, 상기한 컬러 필터 기판(92)을 제작한다(공정 S1). 이 컬러 필터 기판(92)은 공정 P1 내지 공정 P6을 거치는 것에 의해 제작된다.
구체적으로는, 우선, 유리나 석영 등의 재료로 이루어지는 상부 기판(2)을 준비하고, 이어서, 포토리소그래피 기술을 이용하여, 그 상부 기판(2) 상에, 예컨 대 흑색 수지 재료로 이루어지는 BM을 성막하고, 그 후 에칭 처리를 실시한다. 이에 따라, 도 17(a)에 나타내는 바와 같이, 서브 화소 영역 SG의 주위에 프레임 형상을 갖도록 BM을 형성한다(공정 P1).
다음에, R, G, B의 각 착색층(6)을 형성한다(공정 P2). 구체적으로는, 도 17(b)에 나타내는 바와 같이, R, G, B의 각 착색층(6)을, 상기한 도 1 등의 배열 패턴이 되도록 각 서브 화소 영역 SG 내에 포토리소그래피 기술을 이용하여 형성한다. 이 때, 각 착색층(6)의 두께는 d3으로 설정된다. 바람직한 예에서는, 각 착색층(6)의 두께 d3은 약 2㎛로 설정되는 것이 바람직하다. 또한, 이 때, 반사 영역 E11에 대응하는 각 착색층(6R, 6G, 6B)에는 투과 영역 E10과 반사 영역 E11로 균일한 색을 표시하는 기능을 갖는 개구(6a)가 마련된다. 또한, 이 때, W의 서브 화소 영역 SG에 형성된 착색층(6)은 모두 에칭 처리에 의해 제거된다.
다음에, 셀 두께 조정용 절연층을 형성한다(공정 P3). 구체적으로는, 상부 기판(2)의 일부, BM 및 착색층(6) 위에 일면에 걸쳐 투명 수지 재료 등으로 이루어지는 셀 두께 조정용 절연층(18)을 성막하고, 그 후 에칭 처리를 실시한다. 이 때, 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께는, 착색층(6)과 동일한 두께 d3으로 설정된다. 이에 따라, 본 제조 방법에 의해 액정 장치(100)가 제조되었을 때에, W의 투과 영역 E10의 액정층(4)의 두께와, R, G, B의 각 투과 영역 E10의 액정층(4)의 두께를 동일하게 설정할 수 있고, 또한 R, G, B의 각 투과 영역 E10의 액정층(4)의 두께와, R, G, B의 각 반사 영역 E11의 액정층(4)의 두께를 최적의 두께로 설정할 수 있다.
특히, 이 공정에서는, W의 서브 화소 영역 SG 및 R, G, B의 각 반사 영역 E11에, 각기 동일한 투명 수지 재료로 이루어지는 셀 두께 조정용 절연층(18)을 동시에 형성하도록 하고 있다. 따라서, W의 서브 화소 영역 SG와, R, G, B의 각 반사 영역 E11과 대하여, 각각, 셀 두께 조정용 절연층(18)을 독립적으로 형성하는 것과 같은 공정을 갖는 제조 방법(비교예)과 비교한 경우, 그 만큼 공정의 삭감을 도모할 수 있다. 그 결과, 본 제조 방법에 의해 제조되는 액정 장치(100)의 제품 비용의 절감을 도모할 수 있다.
그러나, 프로세스 상의 이유 등에 의해, 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께가 상기한 각 착색층(6)의 두께보다 두껍게 형성되는 경우가 있다.
이러한 경우, W(투명)의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)에 대응하는 액정층(4)의 두께는 R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께와 동일하지 않게 되어, 그 양자의 영역에서는 광학 특성에 편차가 발생하게 된다.
그래서, 이러한 경우에는, 다음 공정으로서의 공정 P4를 실행함으로써, W의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께와, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 각 착색층(6)의 두께를 동일하게 한다. 또, 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께와, 각 착색층(6)의 두께가 동일한 두께로 설정되어 있는 경우에는, 물론, 공정 P4를 실행할 필요는 없다. 또한, 공정 P4는 공정 P3의 다음 공정으로서가 아니라, 공정 P3에 포함되도록 하여도 상관없다.
여기서, 도 19 및 도 20을 참조하여, 공정 P4에 대하여 설명한다. 상기한 바와 같이, 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께가 각 착색층(6)의 두께보다 두꺼운 경우에는, 상기한 불량을 해소하기 위해, 공정 P4에서, 레지스트 도포 공정, 예비건조(프리베이크) 공정, 노광 공정, 현상 공정 및 에칭 공정을 포함하는 포토리소그래피 기술에 의해, 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께와, 각 착색층(6)의 두께를 일치시킨다. 이 때 노광 방법으로는, 예컨대, 2중 노광 방법, 혹은, 하프톤 노광 방법을 이용하는 것이 바람직하다. 여기서, 「2중 노광 방법」이란, 구성이 다른 두 종류의 마스크(70, 75)를 이용하여, 상기한 공정에서 제작된 기판에 대하여 1회씩 노광(총 2회의 노광)을 실시하는 방법을 말한다. 한편, 「하프톤 노광 방법」이란, 투명막과 비교해서 광투과율이 낮은 반투과막을 일부에 포함하는 마스크(76)를 이용하여, 상기한 공정에서 제작된 기판에 대하여 1회만 노광을 실시하는 방법을 말한다.
우선, 도 19를 참조하여, 2중 노광 방법에 의해, W의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께와, 각 착색층(6)의 두께를 동일하게 설정하는 방법에 대하여 설명한다. 또, 이하에서는, 포토리소그래피 기술에 있어서, 노광 공정 이외의 각 공정에 대한 설명은 생략 또는 간략화한다.
상기한 바와 같이, 마스크(70)와 마스크(75)의 구성은 각각 다르다. 마스크(70)는 상기한 기판에 대하여 1회 째로 노광할 때에 이용되는 한편, 마스크(75)는 상기한 기판에 대하여 2회 째로 노광할 때에 이용된다. 또, 도 19(a) 및 (b)에 표시되는 복수의 화살표는 UV(자외선) 또는 i선 등의 광의 진행 방향을 나타내고 있다.
우선, 도 19(a)에서, 상기한 공정 P3에서 제작된 기판 상에, 셀 두께 조정용 절연층(18)으로 되어야 할 감광성 수지(레지스트)(18x)를 도포한다. 이 때, 예컨대, R, G, B의 각 착색층(6)의 두께를 d20으로 한 경우, 레지스트(18)는 소정의 두께 d21(=2×d20)만큼 도포된다. 이어서, 상기한 기판상의 소정 위치에 배치된 마스크(70)를 통하여 1회 째의 노광을 실시하고, 그 후, 현상, 에칭 처리를 실시하여, 소정 영역의 불필요한 레지스트(18x)를 제거한다. 또, 이 때 이용하는 레지스트(18x)는 마스크에 의해 차광된 영역의 레지스트가 경화되는 한편, 마스크에 의해 노광된 영역의 레지스트 등이 제거되는 포지티브형 레지스트를 이용하는 것이 바람직하다.
여기서, 마스크(70)는, 도 19(a)에 나타내는 바와 같이, 왼쪽으로부터 순서대로, 광을 완전히 통과시키는 개구가 형성된 완전 노광 영역(SG(W)의 영역에 대응하는 위치에 배치됨)과, 광을 완전히 차광하는 재료로 이루어지는 완전 차광 영역(SG(G), SG(R), SG(B)의 각 반사 영역 E11에 대응하는 위치에 배치됨)과, 완전 노광 영역(SG(G), SG(R), SG(B)의 각 투과 영역 E10에 대응하는 위치에 배치됨)을 구비하여 구성된다.
이에 따라, 마스크(70)에 의해 완전 노광된, R, G, B의 각 투과 영역 E10의 각 착색층(6) 상에 형성된 영역 E50에 대응하는 레지스트(18x)(두께 d20에 상당) 및 W의 서브 화소 영역 SG의 영역 E51에 대응하는 레지스트(18x)(두께 d20에 상당)가 각기 제거되는 한편, 마스크(70)에 의해 완전 차광된, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 레지스트(18x)는 제거되지 않고 잔존한다.
계속해서, 마스크(75)를 이용하여 2회 째의 노광을 실시한다. 우선, 도 19(b)에 나타내는 바와 같이, 상기한 기판상의 소정 위치에 마스크(75)를 배치하여, 그 마스크(75)를 통하여 2회 째의 노광을 실시하고, 그 후, 현상, 에칭 처리를 실시하여 불필요한 레지스트 등을 제거한다.
여기서, 마스크(75)는, 도 19(b)에 나타내는 바와 같이, 왼쪽으로부터 순서대로, 완전 차광 영역(SG(W)의 영역에 대응하는 위치에 배치됨)과, 마찬가지로 완전 차광 영역(SG(G), SG(R), SG(B)의 각 반사 영역 E11에 대응하는 위치에 배치됨)과, 완전 노광 영역(SG(G), SG(R), SG(B)의 각 투과 영역 E10에 대응하는 위치에 배치됨)을 구비하여 구성된다.
이에 따라, 마스크(75)에 의해 완전 노광된, R, G, B의 각 투과 영역 E10의 영역 E52에 대응하는 레지스트(18x)(두께 d21에 상당)는 완전히 제거되는 한편, 마스크(75)에 의해 완전 차광된, W의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 레지스트(18x) 및 R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 레지스트(18x)는 제거되지 않고 잔존한다.
이상에서 기술한 2중 노광 방법을 채용함으로써, 도 18에 표시되는 기판과 대략 동일한 상태, 즉, W의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께와, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 각 착색층(6)의 두께를 동일하게 설정할 수 있다. 이에 따라, W(투명)의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)에 대응하는 액정층(4)의 두께와, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께를 동일하게 설정할 수 있어, 그 양자의 영역에서 광학 특성을 동일하게 설정하는 것이 가능해진다.
다음에, 도 20을 참조하여, 2중 노광 방법 대신, 하프톤 노광 방법에 의해, W의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께와, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 각 착색층(6)의 두께를 동일한 두께로 설정하는 방법에 대하여 설명한다.
우선, 도 20에 나타내는 바와 같이, 상기한 공정 P3에서 제작된 기판에, 레지스트(18x)를 도포한다. 이 때, 예컨대, R, G, B의 각 착색층(6)의 두께를 d20으로 한 경우, 레지스트(18)는 소정의 두께 d21(=2×d20)만큼 도포된다. 이어서, 상기한 기판상의 소정 위치에 배치된 마스크(76)를 통하여 노광을 1회만 실시하고, 그 후, 그 기판에 대하여 현상, 에칭 처리를 실시하여 불필요한 레지스트 등을 제거한다.
여기서, 마스크(76)는, 도 20에 나타내는 바와 같이, 왼쪽으로부터 순서대로, 투명막과 비교해서 광투과율이 낮은 반투과막에 의해 이루어지는 하프톤 노광 영역(SG(W)의 영역에 대응하는 위치에 배치됨)과, 완전 차광 영역(SG(G), SG(R), SG(B)의 각 반사 영역 E11에 대응하는 위치에 배치됨)과, 완전 노광 영역(SG(G), SG(R), SG(B)의 각 투과 영역 E10에 대응하는 위치에 배치됨)을 구비하여 구성된다.
이에 따라, 마스크(76)에 의해 하프톤 노광된 W의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)의 영역 E54에 대응하는 레지스트(18x)는 소정 두께 d20만큼 에칭에 의해 제거되어, 그 두께가 얇아지도록 형성되고, 또한, 마스크(76)에 의해 완전 차광된 R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 레지스트(18x)는 제거되지 않고 잔존하며, 또한, 마스크(76)에 의해 완전 노광된, R, G, B의 각 투과 영역 E10의 영역 E53에 대응하는 레지스트(18x)(두께 d21에 상당)는 완전히 제거된다.
이상에서 기술한 하프톤 노광 방법을 채용함으로써, 상기한 2중 노광 방법과 마찬가지로, W(투명)의 서브 화소 영역 SG(투과 영역 E10)에 대응하는 액정층(4)의 두께와, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께를 동일하게 설정할 수 있어, 그 양자의 영역에서 광학 특성을 동일하게 할 수 있다.
다음에, 도 21에 나타내는 바와 같이, 셀 두께 조정용 절연층(18) 및 각 착색층(6) 등의 위에, ITO 등으로 이루어지는 공통 전극(8)을 형성하고, 또한 그 공통 전극(8) 상에 도시하지 않은 배향막을 형성하며(공정 P5), 계속해서, 그 밖의 구성 요소, 예컨대, 상부 기판(2)의 외면 쪽에 위상차판(11) 및 편광판(12) 등을 부착한다(공정 P6). 이와 같이 하여, 도 5 등에 나타내어지는, 실시예 1의 컬러 필터 기판(92)이 제작된다.
다음에, 도 15로 되돌아가, 도 5 등에 표시되는 실시예 1의 소자 기판(91)을 주지의 방법에 의해 제작한다(공정 S2). 계속해서, 컬러 필터 기판(92)과 소자 기판(91)을 도시하지 않은 프레임 형상의 밀봉재(5)를 통해 접합하고, 그 밀봉재(5)에 마련된 개구를 통하여, 그 양 기판의 내부에 액정을 주입 밀봉하며, 또한, 수지 재료 등을 이용하여 그 개구를 밀봉 처리한다(공정 S3). 그 외, 필요한 요소를 부착하는 것에 의해(공정 S4), 도 1 및 도 5 등에 나타내는, 실시예 1의 액정 장 치(100)가 제작된다.
(실시예 2에 따른 액정 장치의 제조 방법)
다음에, 도 15, 도 22 내지 도 25 등을 참조하여, 실시예 2에 따른 액정 장치(200)의 제조 방법에 대하여 설명한다. 도 22는 실시예 2에 따른 컬러 필터 기판(94)의 제조 방법을 나타내는 흐름도이다. 도 23 내지 도 25는 도 15에서의 공정 S1에 대응하는 각 공정도를 나타낸다. 도 23 내지 도 25에서, SG(W)는 W에 대응하는 서브 화소 영역 SG를, 또한, SG(G)은 G에 대응하는 서브 화소 영역 SG를 각기 나타내고 있다. 또한, E10은 투과 영역으로 되는 영역을, 또한, E11은 반사 영역으로 되는 영역을 각기 나타내고 있다. 또, 이하에서는, 도 10에 표시되는 컬러 필터 기판(94)의 단면 구성을 일례로 하여 설명한다.
우선, 상기한 컬러 필터 기판(94)을 제작한다(공정 S1). 이 컬러 필터 기판(94)은 공정 R1 내지 공정 R8을 거치는 것에 의해 제작된다.
구체적으로는, 우선, 유리나 석영 등의 재료로 이루어지는 하부 기판(81)을 준비하고, 이어서, 포토리소그래피 기술을 이용하여, 그 하부 기판(81) 상에, 수지 재료 등으로 이루어지는 수지층(17)을 성막하며, 계속해서, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에 대응하는 수지층(17)의 표면에 에칭 처리 등을 행함으로써, 그 표면상에 미세한 복수의 요철을 형성한다(공정 R1).
다음에, 반사층(65)을 형성한다(공정 R2). 구체적으로는, R, G, B의 각 반사 영역 E11 등에 대응하는 수지층(17) 상에, Al 등을 성막하고, 계속해서, R, G, B의 각 투과 영역 E10 등에 대응하는 수지층(17) 상에 성막된 반사층(65)의 일부분을 에칭에 의해 제거한다. 이에 따라, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 광을 투과시키는 기능을 갖는 투과 개구 영역(85)이 형성되고, 또한 적어도 R, G, B의 각 반사 영역 E11에 반사층(65)이 형성된다.
다음에, 주지의 방법으로써, R, G, B의 각 착색층(6)을 형성한다(공정 R3). 이 때, 예컨대, 착색층(6B), 착색층(6R), 착색층(6G)의 순서로, 그들이 형성되어야 할 서브 화소 영역 SG에, 당해 각 착색층(6R, 6G, 6B)을 형성한다. 또, 각 착색층(6R, 6G, 6B)의 형성 순서에 특별한 한정은 없다. 이 때, 동시에, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 착색층(6)에는 투과 영역 E10과 반사 영역 E11에서 균일한 색을 표시하는 기능을 갖는 개구(6a)가 형성되고, 또한 각 착색층(6)을 구획하는 영역에는, 착색층(6R, 6G, 6B) 중, 임의의 2색이 겹쳐진 차광층(67), 및 3색의 착색층(6R, 6G, 6B)이 겹쳐진 차광층(68)이 형성된다(도 8(b) 참조).
다음에, 주지의 방법으로써, 아크릴 수지 등으로 이루어지는 보호층(19)을, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에 대응하는 위치에 형성한다(공정 R4). 이 때, 수지층(17) 상으로부터 보호층(19) 상까지의 거리는 d7로 설정된다.
다음에, 셀 두께 조정용 절연층(18)을 형성한다(공정 R5). 구체적으로는, 실시예 1의 컬러 필터 기판(92)과 마찬가지의 방법에 의해, W의 서브 화소 영역 SG에 대응하는 수지층(17) 및 R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에 대응하는 보호층(19) 상에 투명 수지 재료로 이루어지는 셀 두께 조정용 절연층(18)을 성막하고, 그 후, 그 기판에 대하여 에칭 처리를 실시한다. 이 때, 셀 두께 조정용 절연 층(18)의 두께는 d7로 설정된다. 이에 따라, 본 제조 방법에 의해 액정 장치(100)가 제조되었을 때에, W의 투과 영역 E10의 액정층(4)의 두께와, R, G, B의 각 투과 영역 E10의 액정층(4)의 두께를 동일하게 설정할 수 있고, 또한 R, G, B의 각 투과 영역 E10의 액정층(4)의 두께와, R, G, B의 각 반사 영역 E11의 액정층(4)의 두께를 최적의 두께로 설정할 수 있다.
특히, 이 공정에서는, W의 서브 화소 영역 SG 및 R, G, B의 각 반사 영역 E11에, 각기 동일한 투명 수지 재료로 이루어지는 셀 두께 조정용 절연층(18)을 동시에 형성하도록 하고 있다. 따라서, W의 서브 화소 영역 SG와, R, G, B의 각 반사 영역 E11과 대하여, 셀 두께 조정용 절연층(18)을 독립적으로 형성하는 것과 같은 공정을 갖는 제조 방법(비교예)과 비교한 경우, 그 만큼 공정의 삭감을 도모할 수 있다. 그 결과, 본 제조 방법에 의해 제조되는 액정 장치의 제품 비용의 삭감을 도모할 수 있다. 또한, 필요에 따라, 상기한 실시예 1에 따른 컬러 필터 기판(92)의 제작 방법과 마찬가지의 취지로, 셀 두께 조정용 절연층(18)의 층 두께를 조정하는 공정을 실행할 수 있다(공정 R6). 또, 공정 R6은 공정 R5의 다음 공정으로서가 아니라, 공정 R5에 포함되도록 하여도 상관없다.
다음에, 수지층(17) 및 셀 두께 조정용 절연층(18) 등의 위에, ITO 등으로 이루어지는 스트라이프 형상의 주사 전극(64)을 형성하고, 계속해서, 그 주사 전극(64) 등의 위에 도시하지 않은 배향막을 형성한다(공정 R7). 계속해서, 그 밖의 구성 요소, 예컨대, 하부 기판(81)의 외면 쪽에 위상차판(13), 편광판(14) 및 백 라이트(15) 등을 부착한다(공정 R8). 이와 같이 하여, 도 10 등에 표시되는, 실시 예 2의 컬러 필터 기판(94)이 제작된다.
다음에, 도 15로 되돌아가, 도 10 등에 표시되는 실시예 2의 소자 기판(93)을 주지의 방법에 의해 제작한다(공정 S2). 계속해서, 컬러 필터 기판(94)과 소자 기판(93)을, 도시하지 않은 복수의 도통 부재(7)가 혼입된, 프레임 형상의 밀봉재(5)를 통해 접합하고, 그 밀봉재(5)에 마련된 개구를 통하여, 그 양 기판의 내부에 액정을 주입 밀봉하며, 또한, 그 개구를 수지 재료 등을 이용하여 밀봉 처리한다(공정 S3). 그 외, 필요한 요소를 부착하는 것에 의해(공정 S4), 도 6 및 도 10 등에 표시되는 실시예 2의 액정 장치(200)가 제작된다.
[컬러 필터 기판의 제조 방법(변형예)]
다음에, 도 12에 나타내는 변형예의 구성에 유사한 구성을 갖는 컬러 필터 기판(96)의 제조 방법에 대하여 설명한다.
컬러 필터 기판(96)은 도 12에 나타내는 구성과 대략 마찬가지이지만, 또한, 도 12의 구성에서, W의 서브 화소 영역 SG에 투과 영역 E10 및 반사 영역 E11을 갖고 구성된다(즉, 도 13(b)에 대응하는 구성을 포함함). 도 26(a)는 그 컬러 필터 기판(96)의 구성을 나타내는 부분 단면도이다.
우선, 도 26(a)을 참조하여, 컬러 필터 기판(96)의 구성에 대하여 간단히 설명한다. 또, 이하에서는, 상기에서 설명한 요소와 동일한 요소에 대해서는 동일한 부호를 부여하고, 그 설명은 생략 또는 간략화한다.
도시한 바와 같이, 컬러 필터 기판(96)은 R, G, B, W의 각 서브 화소 영역 SG는 각각, 투과 영역 E10 및 반사 영역 E11을 갖고 구성된다. W의 반사 영역 E11에 대응하는 하부 기판(81) 상 및 R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 하부 기판(81) 상에는, 각각 Al 등으로 이루어지는 반사층(71)이 형성되어 있다. 그리고, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 하부 기판(81) 상 및 R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 각 반사층(71) 상에는, 각각, 착색층(6R, 6G, 6B)이 형성되어 있다. 이 때문에, 도시한 바와 같이, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 각 착색층(6)의 두께는, 각 반사층(71) 상에 형성된 착색층(6)의 두께보다 두껍게 설정되어 있다. 또한, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 각 착색층(6) 상 및 W의 투과 영역 E10에 대응하는 하부 기판(81) 상 및 W의 반사 영역 E11에 대응하는 반사층(71) 상에는, 각각, 동일한 재료로 이루어지는 셀 두께 조정용 절연층(18)이 형성되어 있다. 도시를 생략하지만, 이러한 구성을 갖는 컬러 필터 기판(96)에서는, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께는 W의 투과 영역 E10에 대응하는 액정층(4)의 두께와 동일하게 설정되어 있고, 또한 R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 액정층(4)의 두께는 W의 반사 영역 E11에 대응하는 액정층(4)의 두께와 동일하게 설정되어 있다.
계속해서, 도 26(b) 및 (c)을 참조하여, 이러한 구성을 갖는 컬러 필터 기판(96)의 제조 방법에 대하여 간략화하여 설명한다. 또, 여기서는, 도 16의 공정 P3 및 P4, 혹은 도 22의 공정 R5 및 R6에 상당하는 공정에 대해서만 설명한다.
컬러 필터 기판(96)은 공정 T1과, 그 다음 공정으로서의 공정 T2 등을 통해 제조된다. 우선, 도 26(b)에서 셀 두께 조정용 절연층(18)을 제거한 구성을 갖는 기판을 주지의 방법에 의해 제조하고, 계속해서, 그 기판상에 셀 두께 조정용 절연층(18)을 일정한 두께로 성막한다(공정 T1).
다음에, 도 26(c)에 나타내는 바와 같이, 포토리소그래피 기술에 있어 하프톤 노광 방법 등을 실시하고, 불필요한 셀 두께 조정용 절연층(18)을 제거한다. 이 때 이용되는 마스크(79)는 왼쪽으로부터 순서대로, 완전 노광(R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 위치에 배치됨)과, 하프톤 노광(R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는 위치에 배치됨)과, 동일하게 하프톤 노광(W의 투과 영역 E10에 대응하는 위치에 배치됨)과, 완전 차광(W의 반사 영역 E11에 대응하는 위치에 배치됨)을 구비하여 구성된다.
이에 따라, R, G, B의 각 서브 화소 영역 SG에서, 영역 E50(갈고리 형상의 영역)에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)은 제거되고, 영역 E51(파선 부분으로 둘러싸인 영역)에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)은 잔류하며, 또한, W의 투과 영역 E10에서, 영역 E52(파선 부분으로 둘러싸인 영역)에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)은 제거되고, 또한 W의 서브 화소 영역 SG에서, 영역 E53에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)은 잔류한다. 이와 같이 하여, 상기한 구성을 갖는 컬러 필터 기판(96)이 제조된다.
이 제조 방법에서는, R, G, B의 각 투과 영역 E10에 대응하는 착색층(6)의 두께와, W의 각 투과 영역 E10에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께는 동일하게 설정되는 것이 바람직하고, 또한, R, G, B의 각 반사 영역 E11에 대응하는, 착색층(6) 및 셀 두께 조정용 절연층(18)을 포함하는 두께와, W의 각 반사 영역 E11에 대응하는 셀 두께 조정용 절연층(18)의 두께는 동일하게 설정되는 것이 바람직하다.
이에 따라, 상기한 실시예 1 및 2의 액정 장치에 있어서의 본 발명의 작용 효과를 얻을 수 있다. 또, 이 예에서는, 하프톤 노광 방법을 이용하여 컬러 필터 기판(96)을 제작하도록 했지만, 이것에 한하지 않고, 본 발명에서는, 2중 노광 방법을 이용하여 컬러 필터 기판(96)을 제작하도록 하여도 물론 상관없다.
[전자기기]
다음에, 본 발명에 따른 실시예 1 및 2(상기한 각종 변형예를 포함함, 이하 마찬가지)의 액정 장치(100) 또는 액정 장치(200)을 전자기기의 표시 장치로서 이용하는 경우의 실시예에 대하여 설명한다.
도 27은 본 실시예의 전체 구성을 나타내는 개략 구성도이다. 여기에 나타내는 전자기기는 상기한 액정 장치(100) 또는 액정 장치(200) 등과, 이것을 제어하는 제어 수단(410)을 갖는다. 여기서는, 액정 장치(100) 또는 액정 장치(200) 등을, 패널 구조체(403)와, 반도체 IC 등으로 구성되는 구동 회로(402)로 개념적으로 나누어 나타내고 있다. 또한, 제어 수단(410)은 표시 정보 출력원(411)과, 표시 정보 처리 회로(412)와, 전원 회로(413)와, 타이밍 생성기(414)를 갖는다.
표시 정보 출력원(411)은 ROM(Read Only Memory)이나 RAM(Random Access Memory) 등으로 이루어지는 메모리와, 자기 기록 디스크나 광 기록 디스크 등으로 이루어지는 스토리지 유닛과, 디지털 화상 신호를 동조 출력하는 동조 회로를 구비 하고, 타이밍 생성기(414)에 의해 생성된 각종 클럭 신호에 근거하여, 소정 포맷의 화상 신호 등의 형태로 표시 정보를 표시 정보 처리 회로(412)에 공급하도록 구성되어 있다.
표시 정보 처리 회로(412)는 직렬-병렬 변환 회로, 증폭·반전 회로, 로테이션 회로, 감마 보정 회로, 클램프 회로 등의 주지의 각종 회로를 구비하고, 입력된 표시 정보의 처리를 실행하여, 그 화상 정보를 클럭 신호 CLK와 함께 구동 회로(402)로 공급한다. 구동 회로(402)는 주사선 구동 회로, 데이터선 구동 회로 및 검사 회로를 포함한다. 또한, 전원 회로(413)는 상술한 각 구성 요소에 각각 소정 전압을 공급한다.
다음에, 본 발명의 실시예 1 및 2(상기의 각종 변형예를 포함함)의 액정 장치(100) 또는 액정 장치(200)를 적용 가능한 전자기기의 구체예에 대하여 도 28을 참조하여 설명한다.
우선, 본 발명의 실시예 1 및 2(상기한 각종 변형예를 포함함, 이하 마찬가지)의 액정 장치(100) 또는 액정 장치(200) 등을, 휴대형 퍼스널 컴퓨터(이른바 노트북 컴퓨터)의 표시부에 적용한 예에 대하여 설명한다. 도 28(a)는 이 퍼스널 컴퓨터의 구성을 나타내는 사시도이다. 동 도면에 나타내는 바와 같이, 퍼스널 컴퓨터(710)는 키보드(711)를 구비한 본체부(712)와, 본 발명에 따른 액정 장치를 패널로서 적용한 표시부(713)를 구비하고 있다.
계속해서, 본 발명의 실시예 1 및 2(상기한 각종 변형예를 포함함)의 액정 장치(100) 또는 액정 장치(200) 등을, 휴대 전화기의 표시부에 적용한 예에 대하여 설명한다. 도 28(b)는 이 휴대 전화기의 구성을 나타내는 사시도이다. 동 도면에 나타내는 바와 같이, 휴대 전화기(720)는 복수의 조작 버튼(721) 외에, 수화구(722), 송화구(723)와 함께, 본 발명의 실시예 1 내지 3에 따른 액정 장치를 적용한 표시부(724)를 구비한다.
또, 본 발명의 실시예 1 및 2(상기한 각종 변형예를 포함함)의 액정 장치(100) 또는 액정 장치(200) 등을 적용 가능한 전자기기로서는, 도 28(a)에 나타내는 퍼스널 컴퓨터나, 도 28(b)에 나타내는 휴대 전화기 외에도, 액정 텔레비전, 뷰파인더형·모니터 직시형 비디오 테이프 레코더, 카 네비게이션 장치, 호출기, 전자 수첩, 전자 계산기, 워드 프로세서, 워크 스테이션, 화상 전화, POS단말, 디지털 스틸 카메라 등을 들 수 있다.
본 발명에 의하면, 제품 비용의 절감 등을 도모할 수 있는 R, G, B 및 W(투명)의 각 색을 이용한 멀티갭 구조를 갖는 반투과 반사형 액정 장치 및 그 제조 방법 및 전자기기를 제공할 수 있다.
Claims (17)
- 적어도 W의 색에 대응하는 표시 화소 및 상기 W의 색과는 다른 1색에 대응하는 표시 화소를 갖고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소는 투과 영역 및 반사 영역을 구비하고, 또한 상기 W의 상기 표시 화소는 투과 영역만 구비하는 액정 장치에 있어서,기판과,상기 기판에 대향하여 배치되어 이루어지는 대향 기판과,상기 기판 또는 상기 대향 기판의 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소에 구비되어 이루어지는 착색층과,상기 기판 또는 상기 대향 기판에 마련되어 이루어지고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역 및 상기 W의 상기 투과 영역에 구비되어 이루어지는 셀 두께 조정층과,상기 기판과 상기 대향 기판 사이에 유지되어 이루어지고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 두께는, 상기 셀 두께 조정층의 두께에 따라, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 대응하는 두께보다 두꺼운 액정층을 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 장치.
- 적어도 W의 색에 대응하는 표시 화소 및 상기 W의 색과는 다른 1색에 대응하는 표시 화소를 갖고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 및 상기 W의 상기 표시 화소는 각각 투과 영역 및 반사 영역을 구비하는 액정 장치에 있어서,기판과,상기 기판에 대향하여 배치되어 이루어지는 대향 기판과,상기 기판 또는 상기 대향 기판의 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소에 구비되어 이루어지는 착색층과,상기 기판 또는 상기 대향 기판에 마련되어 이루어지고, 또한 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 적어도 상기 반사 영역, 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역 및 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 구비되고, 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에서의 두께가 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에서의 두께보다 두꺼운 셀 두께 조정층과,상기 기판과 상기 대향 기판 사이에 유지되어 이루어지고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 및 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 두께는, 상기 셀 두께 조정층의 두께에 따라, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 및 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 대응하는 두께보다 두꺼운 액정층을 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소 및 상기 W의 상기 표시 화소에는, 각각동일한 재료로 이루어지는 상기 셀 두께 조정층이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층의 두께는 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층의 두께와 동일한 두께로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께는 상기 W의 상기 투과 영역에 대응하는 상기 액정층의 두께와 동일한 두께로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 투과 영역에 대응하는 상기 착색층의 두께는 상기 반사 영역에 대응하는 상기 착색층의 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 하는 액정 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 기판 및 상기 대향 기판 중 어느 한쪽의 상기 반사 영역에 대응하는 위치에는, 광을 반사하는 기능을 갖는 반사층이 마련되는 것을 특징으로 하는 액정 장치.
- 청구항 1 또는 2에 기재된 액정 장치를 표시부로서 구비하는 것을 특징으로 하는 전자기기.
- 적어도 W의 색에 대응하는 표시 화소 및 상기 W의 색과는 다른 1색에 대응하는 표시 화소를 갖고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소는 투과 영역 및 반사 영역을 구비하고, 또한 상기 W의 상기 표시 화소는 적어도 투과 영역을 구비하고, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께 가 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍게 설정된 액정 장치의 제조 방법으로서,기재 상에서, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소에 착색층을 형성하는 착색층 형성 공정과,상기 기재 상에서, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역 및 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에, 투명 재료로 이루어지는 셀 두께 조정층을 동시에 형성하는 셀 두께 조정층 형성 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 W의 상기 표시 화소는 상기 반사 영역을 구비하고 있지 않은 것을 특징으로 하는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 W의 상기 표시 화소는 반사 영역을 구비하고,상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에 대응하는 액정층의 두께는 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 반사 영역에 대응하는 액정층의 두께보다 두껍고,상기 셀 두께 조정층 형성 공정은, 상기 기재 상에서, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 영역과, 상기 W의 상기 표시 화소의 상기 투과 영역 및 상기 반사 영역에 상기 셀 두께 조정층을 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 착색층 형성 공정은 상기 반사 영역에 위치하는 상기 착색층에 개구를 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 셀 두께 조정층 형성 공정은 상기 셀 두께 조정층을 상기 착색층과 동일한 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 셀 두께 조정층 형성 공정은,상기 W의 상기 표시 화소 및 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 착색층 상에 레지스트를 도포하는 레지스트 도포 공정과,광을 완전히 투과하는 완전 노광 영역 및 상기 광을 완전히 차광하는 완전 차광 영역을 포함하는 제 1 마스크를 통해 상기 레지스트에 대하여 1회 노광한 후, 현상 및 에칭 처리를 실시하는 제 1 노광 공정과,상기 레지스트 도포 공정을 재차 실시한 후에, 상기 완전 노광 영역 및 상기 완전 차광 영역을 포함하고, 상기 제 1 마스크와 구성이 다른 제 2 마스크를 통해 상기 레지스트에 대하여 1회 노광한 후, 현상 및 에칭 처리를 실시하는 제 2 노광 공정을 포함하는 층두께 조정 공정을 갖고,상기 층두께 조정 공정은 적어도 상기 W의 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층과, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에서의 상기 착색층의 두께를 동일하게 설정하는 것을 특징으로 하는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 셀 두께 조정층 형성 공정은,상기 W의 상기 표시 화소 및 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 착색층 상에 레지스트를 도포하는 레지스트 도포 공정과,광을 완전히 투과하는 완전 노광 영역, 상기 광을 완전히 차광하는 완전 차광 영역 및 반투과막으로 이루어지는 하프톤 노광 영역을 포함하는 마스크를 통해 상기 레지스트에 대하여 적어도 1회 노광한 후에, 현상 및 에칭 처리를 실시하는 하프톤 노광 공정을 포함하는 층두께 조정 공정을 갖고,상기 층두께 조정 공정은 적어도 상기 W의 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층과, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에서의 상기 착색층의 두께를 동일하게 설정하는 것을 특징으로 하는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 착색층 형성 공정과 상기 셀 두께 조정층 형성 공정 사이에, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 착색층 상에 보호막을 형성하는 보호막 형성 공정을 더 갖고,상기 셀 두께 조정층 형성 공정은,상기 W의 상기 표시 화소 및 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 반사 표시 영역에서의 상기 보호막 상에 상기 셀 두께 조정층을 형성하고,상기 셀 두께 조정층 형성 공정은 적어도 상기 W의 상기 투과 영역에 마련된 상기 셀 두께 조정층과, 상기 1색에 대응하는 상기 표시 화소의 상기 투과 영역에서의 상기 착색층의 두께를 동일하게 설정하는 것을 특징으로 하는 액정 장치의 제조 방법.
- 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 착색층 형성 공정의 전(前) 공정으로서,상기 기재 상에서, 상기 반사 영역에 반사층을 형성하는 반사층 형성 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 액정 장치의 제조 방법.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20130064486A (ko) * | 2011-12-08 | 2013-06-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광투과율 제어가 가능한 표시장치 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4501899B2 (ja) * | 2005-07-06 | 2010-07-14 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶表示装置および電子機器 |
| JP4197000B2 (ja) * | 2005-07-07 | 2008-12-17 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 電気光学装置および電子機器 |
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| WO2012074011A1 (ja) * | 2010-12-01 | 2012-06-07 | シャープ株式会社 | 液晶パネル、液晶表示装置 |
| CN102879947B (zh) * | 2012-09-27 | 2015-10-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩色滤光片及其制造方法,半透半反式液晶显示装置 |
| JP6744774B2 (ja) * | 2016-07-07 | 2020-08-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置およびその作製方法、表示モジュールならびに電子機器 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4050119B2 (ja) * | 2001-10-02 | 2008-02-20 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| CN1324363C (zh) | 2002-05-04 | 2007-07-04 | 三星电子株式会社 | 液晶显示器及其滤色片阵列板 |
| US6888604B2 (en) | 2002-08-14 | 2005-05-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display |
| TW200405082A (en) | 2002-09-11 | 2004-04-01 | Samsung Electronics Co Ltd | Four color liquid crystal display and driving device and method thereof |
| KR101066410B1 (ko) * | 2003-11-14 | 2011-09-21 | 삼성전자주식회사 | 어레이 기판, 그 제조방법 및 이를 갖는 액정 표시 장치 |
| TWI285288B (en) * | 2004-04-27 | 2007-08-11 | Au Optronics Corp | Liquid crystal panel and liquid crystal display |
| US7573551B2 (en) * | 2004-05-21 | 2009-08-11 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Transflective liquid crystal display device and color liquid crystal display device |
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2009
- 2009-01-30 US US12/363,068 patent/US8411237B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20130064486A (ko) * | 2011-12-08 | 2013-06-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광투과율 제어가 가능한 표시장치 |
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| Publication number | Publication date |
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