KR20060131504A - 스핀 코팅 장치 - Google Patents

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KR20060131504A
KR20060131504A KR1020050052007A KR20050052007A KR20060131504A KR 20060131504 A KR20060131504 A KR 20060131504A KR 1020050052007 A KR1020050052007 A KR 1020050052007A KR 20050052007 A KR20050052007 A KR 20050052007A KR 20060131504 A KR20060131504 A KR 20060131504A
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spin coating
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KR1020050052007A
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길성진
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삼성전자주식회사
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
    • H—ELECTRICITY
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Abstract

스피너의 센터링의 일치 여부를 정확히 측정하여, 센터링으로 인한 공정 불량을 방지할 수 있는 스피너, 즉, 스핀 코팅 장치를 개시한다. 개시된 본 발명의 스핀 코팅 장치는, 웨이퍼를 지지하는 척, 상기 척의 하단에 설치되어 상기 척 및 웨이퍼를 회전시키는 회전축, 상기 웨이퍼의 가장자리와 소정거리 이격되어 설치되는 위치 감지 센서, 및 상기 웨이퍼의 상태를 표시하는 표시부를 포함한다. 본 발명에 따르면, 위치 감지 센서 및 표시부, 예컨대, CCD 카메라에 의해 웨이퍼의 센터링 이탈 여부를 공정자기 쉽게 모니터링 할 수 있어, 센터링 불량으로 인한 공정 불량 및 수율 저하를 방지할 수 있다.
센터링, 스피너, CCD 카메라

Description

스핀 코팅 장치{Apparatus for spin coating}
도 1은 일반적인 스핀 코팅 장치의 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 스핀 코팅 장치의 단면도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명>
110 : 회전축 120 : 척 130 : 웨이퍼
140 : 위치 감지 센서 150 : CCD 카메라
본 발명은 반도체 코팅 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 센터링(centering) 불량을 감지할 수 있는 스핀 코팅 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 포토레지스트막과 같은 수지 물질은 스핀 코팅 장치, 예컨대 스피터(spinner)에 의해 도포되고 있다.
이와 같은 스피너는 도 1에 도시된 바와 같이 회전축(10)상에 설치되는 척(20)을 포함한다.
상기 척(20)상에 레지스트 물질이 코팅될 웨이퍼를 올려놓은 다음, 웨이퍼상에 레지스트 물질을 도포한다. 다음 회전축(10)을 회전시켜 도포된 레지스트 물질 이 원심력에 의해 점진적으로 웨이퍼(30)의 테두리를 향해 확산시킨다. 이에따라, 웨이퍼(30) 상에 균일한 두께의 레지스트막이 피복된다.
그러나, 상기한 스피너는 지지대가 회전함에 따라 센터링(centering)이 오차 범위 이상으로 벗어날 수 있다. 여기서, 센터링이라 함은 웨이퍼의 중심축선과 척의 중심축선이 오차 범위 이내에서 일치하는 것을 말한다.
센터링이 정확치 않으면 포토레지스트 도포시 웨이퍼의 중심부에 포토레지스트가 적게 도포되어져 웨이퍼의 중심부의 포토레지스트 두께가 설계치 이하가 되는 불량이 발생된다. 또한, 현상시에도 미세한 CD차가 발생될 수 있으며, 웨이퍼 노광시에 웨이퍼 에지 부분의 포토레지스트 불균일하게 제거될 수도 잇다.
종래에는 스피너내에 센터링을 측정하는 수단이 구비되어 있지 않아, 웨이퍼의 센터링 상태를 공정자가 일일이 육안으로 확인하거나 또는 현장에서 작업자의 요령에 의해 임시 방편적인 방법으로 확인하고 있으므로, 공정의 정확도가 떨어지고, 공정 불량으로 인해 수율이 저하되는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 스피너의 센터링의 일치 여부를 정확히 측정하여, 센터링으로 인한 공정 불량을 방지할 수 있는 스핀 코팅 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 목적과 더불어 그의 다른 목적 및 신규한 특징은, 본 명세서의 기재 및 첨부 도면에 의하여 명료해질 것이다. 본원에서 개시된 발명중, 대표적 특징 의 개요를 간단하게 설명하면 다음과 같다.
상기한 본 발명의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 스핀 코팅 장치는, 웨이퍼를 지지하는 척, 상기 척의 하단에 설치되어 상기 척 및 웨이퍼를 회전시키는 회전축, 상기 웨이퍼의 가장자리와 소정거리 이격되어 설치되는 위치 감지 센서, 및 상기 웨이퍼의 상태를 표시하는 표시부를 포함한다.
상기 표시부는 CCD 카메라이고, 상기 표시부는 상기 웨이퍼의 가장자리와 상기 위치 감지 센서간의 거리 변동시 상기 위치 감지 센서의 출력에 따라 웨이퍼의 상태를 촬상한다.
본 발명에 따르면, 위치 감지 센서 및 CCD 카메라에 의해 웨이퍼의 센터링 이탈 여부를 공정자기 쉽게 모니터링 할 수 있어, 센터링 불량으로 인한 공정 불량 및 수율 저하를 방지할 수 있다.
이하 첨부한 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하도록 한다. 그러나, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이며, 도면상에서 동일한 부호로 표시된 요소는 동일한 요소를 의미한다.
도 2는 본 발명에 따른 스핀 코팅 장치의 단면도이다.
스핀 코팅 장치는 도 2에 도시된 바와 같이, 구동원(도시되지 않음)과 연결 된 회전축(110) 및 회전축(110) 상에 놓여지며 웨이퍼(130)를 안착하기 위한 척(120)을 구비한다. 회전축(110)의 내부 중심에는 진공 라인(도시되지 않음)이 구비되어져 있으며, 상기 진공 라인은 척(120)에 진공을 제공하여, 척(120) 상부에 웨이퍼(130)가 진공 흡착되어진다. 또한, 회전축(110)은 상기 구동원에 의해 360°회전되고, 상기 회전축(110)의 구동에 의해 척(120) 상에 위치한 웨이퍼(130)가 360° 회전하게 된다.
이와 같은 스핀 코팅 장치는 웨이퍼(130)의 센터링 이탈을 방지하기 위하여, 웨이퍼가 센터링을 감지하는 위치 감지 센서(140) 및 웨이퍼의 이탈 여부를 지속적으로 촬상하는 표시부 예컨대 CCD 카메라(150)를 포함한다.
상기 위치 감지 센서(140)는 웨이퍼 가장자리에 설치되어, 웨이퍼의 위치, 예컨대 웨이퍼(130)의 가장자리와 상기 센서(140)간의 거리를 감지한다. 웨이퍼(130)가 센터링을 유지하는 경우 상기 위치 감지 센서(140)는 동일한 거리를 감지하게 되고, 일정한 신호를 출력하게 된다. 반면, 웨이퍼(130)가 센터링을 이탈하는 경우, 웨이퍼(130)와 위치 감지 센서(140)간의 거리가 변하게 되고, 이에 따라 상기 위치 감지 센서(140)의 출력 신호가 변화된다.
또한, 표시부 즉, CCD 카메라(150)는 상기 위치 감지 센서(140)의 출력을 입력받으며, 웨이퍼(130)의 가장자리와 상기 위치 감지 센서(140)를 지속적으로 촬상하여, 공정자에게 웨이퍼(130)의 센터링 이탈 여부를 알린다.
본 발명에서는 스핀 코팅 장치에 웨이퍼(130)의 센터링 여부를 감지하는 위치 감지 센서 및 위치 감지 센서로부터 비정상적인 거리(웨이퍼와 위치 감지 센서 간의 거리)가 감지되었을 경우, 웨이퍼의 상태를 표시하는 CCD 카메라를 포함한다. 이에따라, 웨이퍼의 센터링 여부를 공정자가 지속적으로 모니터링 할 수 있으므로, 공정 불량 및 이로 인한 수율 저하를 방지할 수 있다.
본 발명은 스피너 장치에만 국한되는 것은 아니다. 센터링을 요구하는 모든 반도체 제조 장치에 적용할 수 있음은 물론이다.
이상에서 자세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 웨이퍼 가장자리 부근에 웨이퍼의 센터링 이탈 여부를 감지하는 위치 감지 센서 및 이를 촬상, 보고하기 위한 표시부, 예컨대 CCD 카메라를 설치한다.
위치 감지 센서 및 CCD 카메라에 의해 웨이퍼의 센터링 이탈 여부를 공정자기 쉽게 모니터링 할 수 있어, 센터링 불량으로 인한 공정 불량 및 수율 저하를 방지할 수 있다.
이상 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러가지 변형이 가능하다.

Claims (3)

  1. 웨이퍼를 지지하는 척;
    상기 척의 하단에 설치되어 상기 척 및 웨이퍼를 회전시키는 회전축;
    상기 웨이퍼의 가장자리와 소정거리 이격되어 설치되는 위치 감지 센서; 및
    상기 웨이퍼의 상태를 표시하는 표시부를 포함하는 스핀 코팅 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 표시부는 CCD 카메라인 것을 특징으로 하는 스핀 코팅 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 표시부는 상기 웨이퍼의 가장자리와 상기 위치 감지 센서간의 거리 변동시 상기 위치 감지 센서의 출력에 따라 웨이퍼의 상태를 촬상하는 것을 특징으로 하는 스핀 코팅 장치.
KR1020050052007A 2005-06-16 2005-06-16 스핀 코팅 장치 KR20060131504A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101394089B1 (ko) * 2008-08-05 2014-05-13 주식회사 케이씨텍 스핀척 중심 보정 장치 및 방법

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