KR20060130861A - Evaporation mask of tft array panel preventing infiltration of photoconductive material - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명에 따른 장치의 사시 구조도1 is a perspective structural diagram of a device according to the invention
도 2는 본 발명에 따른 장치에 있어서, 광도전 물질(304)의 증착이 예비되는 티에프티 어레이(TFT array) 패널(300)에 실리콘 본드가 도포된 상태의 사시도2 is a perspective view of a state in which a silicon bond is applied to a
도 3은 본 발명에 따른 장치의 단면 구조도3 is a cross-sectional structural view of the device according to the invention
*도면의 주요부분에 관한 부호의 설명** Explanation of symbols on main parts of drawings *
100 : 커버 마스크 100: cover mask
200 : 액자 마스크 201 : Edge200: frame mask 201: edge
300 : TFT 패널 301 : 실리콘 본드300
302 : Active area 303 : Electronical control302: Active area 303: Electronical control
304 : 광도전 물질304: photoconductive material
본 발명은 티에프티 어레이 패널(TFT array panel) 상측 액티브(active) 영역을 포위하는 액자형 프레임으로서, 액자 내측의 액티브 영역과 액자 외측의 인액티브(inactive) 영역을 구분시킴으로써, 액티브 영역에 증착되는 광도전물질이 인액티브 영역인 전기적 컨텍트(electrical contact) 부분에 침투되는 것을 차단시키는 액자 마스크(frame mask)와; 상기 인액티브 영역의 상측에 도포되어 상기 액자 마스크를 접합시켜 상기 인액티브 영역(inactive area)에 기체 분자가 스며들지 않게 하는 실리콘 본드와; 상기 액자 마스크의 상측에 위치하여 액티브 영역 전체면을 밀봉시키는 커버 마스크로; 구성되는 것을 특징으로 하는 인액티브 영역에 광도전 물질의 침투를 차단시키는 티에프티 어레이 패널의 광도전층 증착 마스크에 관한 것이다.The present invention relates to a frame type frame surrounding an active area above a TFT array panel, wherein light is deposited in an active area by distinguishing an active area inside a frame from an inactive area outside the frame. A frame mask for blocking the conductive material from penetrating into the inductive region, the electrical contact portion; A silicon bond applied over the inactive area to bond the frame mask to prevent gas molecules from penetrating into the inactive area; A cover mask positioned above the frame mask to seal an entire surface of the active area; It relates to a photoconductive layer deposition mask of a TFT array panel to block the penetration of the photoconductive material in the inactive region, characterized in that configured.
일반적으로 방사선 검출기 패널(radiation detector panel)에 사용되는 상기 티에프티 패널은 패널 자체의 전기적 노이즈뿐만 아니라, 패널과 리드아웃 회로단(readout electronics) 사이의 연결 부위의 전기적 노이즈에 의하여서도 특성에 영향이 미친다. In general, the TFT panel used in a radiation detector panel is not only affected by the electrical noise of the panel itself, but also by the electrical noise of the connection portion between the panel and the readout electronics. Crazy
특히, 티에프티 어레이 패널의 제조에 있어서, 인액티브(inactive) 영역인 전기적 컨텍트(electrical contact)에 광도전물질이 침전된다면 노이즈에 의하여 이미지 형성 특성이 나빠진다.In particular, in the manufacture of the TFT array panel, if the photoconductive material is deposited in the electrical contact, which is an inactive region, the image forming property is deteriorated by noise.
이러한 이유로 광도전 물질의 침전은 방사선 검출기의 성능을 크게 좌우한다. For this reason, deposition of photoconductive material greatly influences the performance of the radiation detector.
현재 티에프티 어레이(TFT array) 위에 광도전물질의 박막 제조를 하기 위하여 열 진공 증착법과 스크린 프린터 법이 가장 일반적으로 사용되고 있다. Currently, thermal vacuum deposition and screen printer methods are most commonly used to fabricate thin films of photoconductive materials on a TFT array.
열 진공 증착 방법은 10-4 Torr 이하의 진공 속에서 증착하고자 하는 물질을 가열하여 기화시켜 기체로 만들어졌을 때 기화된 물질이 패널에 증착되도록 하는 방법으로 박막제조를 위해 널리 이용되는 방법이다. The thermal vacuum deposition method is a method widely used for manufacturing a thin film by vaporizing a material to be deposited in a vacuum of 10 -4 Torr or less so that vaporized material is deposited on a panel.
증착과정에 관해 살펴보면, 고체 또는 액체상태로부터 증발 대상 물질의 상전이를 통한 증기화시켜, 기화된 원자 또는 분자를 가열 보트(boats)로부터 기판으로의 이동시키고, 상기 입자들이 기판에 증착, 기판 표면상에서 증착 입자들의 재배열 또는 결합상태 변화의 과정을 거치게 된다.In the deposition process, vaporization is carried out through the phase transition of the evaporation target material from the solid or liquid state to transfer vaporized atoms or molecules from the heating boats to the substrate, and the particles are deposited on the substrate, on the substrate surface. The process of rearranging or changing the bonding state of the deposited particles.
GE사의 특허번호 6,146,489에 따르면, 티에프티 기판(substrate)은 액티브(active) 영역과 인액티브(inactive) 영역으로 나뉜다. According to GE Patent No. 6,146,489, the TFT substrate is divided into an active region and an inactive region.
검출기 패널의 액티브(active) 영역은 방사선에 따른 전기적 신호를 발생시키는 수많은 픽셀(pixels)로 이루어져 있다. The active area of the detector panel consists of a number of pixels that generate an electrical signal due to radiation.
일반적으로 포토센서 픽셀(photosensor pixels)의 매트릭스(matrix) 배열을 이룬다. 인액티브(inactive) 영역은 복수개의 일렉트릭컬 컨덕터(electrical conductor)로 이루어져 있는데 외부의 회로단과 연결되는 리드아웃 라인(readout line)이다. 인액티브(inactive) 영역은 검출기 패널의 액티브(active) 영역을 둘러싸고 있는 볼록 올라온 접착제 테두리(adhesive rim)를 포함한다. In general, it forms a matrix array of photosensor pixels. The inactive area consists of a plurality of electrical conductors, which are readout lines connected to external circuitry. The inactive area includes a raised adhesive rim surrounding the active area of the detector panel.
특히 이 테두리는 액티브(active) 영역과 인액티브(inactive) 영역을 분리한 다.In particular, this border separates the active and inactive areas.
커버 플레이트(frame plate)는, 증착하려는 물질이 엑티브(active) 면적의 바깥쪽 전기적 컨덕터(electrical conductor) 부분에 영향을 미치는 것을 방지하기 위해서 전기적 컨텍트(electrical contact) 부분 위에 위치하고, 액티브(active) 영역과 전기적 컨텍트(electrical contact) 영역 사이에 접착제(adhesive) 혹은 엑폭시(epoxy)를 발라 안전하게 티에프티 어레이 패널(TFT array panel)을 보호한다.The frame plate is located above the electrical contact portion to prevent the material to be deposited from affecting the outer electrical conductor portion of the active area, and an active region. An adhesive or epoxy is applied between the and electrical contact areas to safely protect the TFT array panel.
상기 접착제를 바름에 있어 컴퓨터로 제어되는 dispenser로 substrate 표면에 발라지게 되며 이는 공정을 복잡하고 어렵게 만드는 것이며, 또한 증착완료 후 커버 플레이트와 티에프티 어레이 패널(TFT array panel) 부위에 접착제가 남아 있어 처리가 곤란하다는 단점을 가지고 있다. The application of the adhesive is applied to the substrate surface with a computer controlled dispenser, which makes the process complicated and difficult, and also the adhesive remains on the cover plate and TFT array panel after the deposition is completed. Has the disadvantage of being difficult.
Clamp frame과 mask는 정밀한 alignment 구멍이 있어 pallet의 pin과 정확하게 고정시킨다. The clamp frame and mask have a precise alignment hole that locks in place with the pins on the pallet.
하지만 pin으로 alignment을 하다보면 티에프티 어레이 패널(TFT array panel)과 금속마스크 (Metal mask)와의 고정이 정확히 수행되지 않을 경우 액티브(Active) 영역 이외의 영역으로 기체분자가 스며들게 되어 정확한 액티브(Active) 영역 형성이 잘되지 않으며, 티에프티 어레이 패널(TFT array panel) 자체에 충격이 전해져 티에프티 어레이 패널(TFT array panel)이 깨어져 버리는 경우가 있다. However, if the alignment is done by pins, if the TFT array panel and the metal mask are not fixed correctly, gas molecules will penetrate into the area other than the active area. The area is not formed well, and an impact is transmitted to the TFT array panel itself, and the TFT array panel may be broken.
더불어 스크린 프린터 방법의 경우 진공증착법에 비해 매우 간단하나 박막제조시 어려움보다 박막제조후 광도전 물질의 특성이 진공 증착법을 이용한 것보다 수배 낮은 것으로 나타난다.In addition, the screen printer method is much simpler than the vacuum deposition method, but the characteristics of the photoconductive material after manufacturing the thin film are several times lower than those using the vacuum deposition method than the difficulty in manufacturing the thin film.
상기와 같은 문제를 해결하기 위하여, 본 발명은 X-선 검출기 패널을 스크린 프린터법으로 제조함에 있어, 티에프티 어레이 패널(TFT array panel)과 광도전층의 다층 접합에 의한 전기적 신호 특성 감쇄 현상을 방지하기 위한 침전법을 사용할 수 있는 증착 마스크를 제공하는 것을 목적으로 한다. In order to solve the above problems, the present invention in the manufacture of the X-ray detector panel by the screen printer method, to prevent the electrical signal characteristics attenuation caused by the multilayer bonding of the TFT array panel and the photoconductive layer. It is an object of the present invention to provide a deposition mask that can use a precipitation method.
더욱 자세하게는, 방사선 검출기의 광도전층(리셉터(Receptor)) 형성시 TFT 패널과 마스크 (Metal mask)와의 고정이 정확히 수행하고, 액티브 영역(Active Area)으로 페이스트가 스며들지 못하게 하는 증착 마스크를 제공하는 것을 목적으로 한다.More specifically, when the photoconductive layer (receptor) of the radiation detector is formed, the fixing of the TFT panel and the metal mask is performed correctly, and a deposition mask is provided to prevent the paste from penetrating into the active area. For the purpose of
또한 침전법으로 박막 제조시, 증발성을 감소시켜 상온에서 12시간 이상 보관함으로써 표면의 균일성을 증가시킬 수 있는 증착 마스크를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, it is an object of the present invention to provide a deposition mask that can increase the uniformity of the surface by reducing evaporation and storing at room temperature for 12 hours or more when the thin film is manufactured by the precipitation method.
본 발명은 상기한 목적을 달성하기 위하여 안출된 것으로써, 티에프티 어레이 패널(TFT array panel) 상측 액티브(active) 영역을 포위하는 액자형 프레임으로서, 액자 내측의 액티브 영역과 액자 외측의 인액티브(inactive) 영역을 구분시킴으로써, 액티브 영역에 증착되는 광도전물질이 인액티브 영역인 전기적 컨텍트(electrical contact) 부분에 침투되는 것을 차단시키는 액자 마스크(frame mask)와; 상기 인액티브 영역의 상측에 도포되어 상기 액자 마스크를 접합시켜 상기 인액티브 영역(inactive area)에 기체 분자가 스며들지 않게 하는 실리콘 본드와; 상 기 액자 마스크의 상측에 위치하여 액티브 영역 전체면을 밀봉시키는 커버 마스크로; 구성되는 것을 특징으로 하는 인액티브 영역에 광도전 물질의 침투를 차단시키는 티에프티 어레이 패널의 광도전층 증착 마스크를 기술적 요지로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to achieve the above object, and is a frame type frame surrounding an active area above a TFT array panel, wherein the active area inside the frame and the inactive outside the frame are inactive. A frame mask to separate the photoconductive material deposited in the active region from penetrating into an electrical contact portion which is an inactive region; A silicon bond applied over the inactive area to bond the frame mask to prevent gas molecules from penetrating into the inactive area; A cover mask positioned on an upper side of the frame mask to seal an entire surface of the active area; The technical subject is the photoconductive layer deposition mask of the TFT array panel which blocks the penetration of the photoconductive material into the inactive region which is configured.
여기서 상기 액자 마스크는, 광도전물질에 접하는 프레임 내측면이 경사면으로 이루어져, 광도전 물질의 침전 완료후 제거시 침전면의 손상없이 들어 올릴 수 있는 것을 특징으로 하는 인액티브 영역에 광도전 물질의 침투를 차단시키는 티에프티 어레이 패널의 광도전층 증착 마스크로 되는 것이 바람직하다.Wherein the frame mask, the inner surface of the frame in contact with the photoconductive material consists of an inclined surface, the photoconductive material infiltrate into the inactive region, characterized in that it can be lifted without damaging the deposition surface when the removal of the photoconductive material after completion of precipitation. It is preferable to be a photoconductive layer deposition mask of the TFT array panel which blocks.
이하 도면과 함께 본 발명의 상세한 설명을 하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 장치의 사시 구조도이고, 도 2는 본 발명에 따른 장치에 있어서, 광도전 물질(304)의 증착이 예비되는 티에프티 어레이(TFT array) 패널(300)에 실리콘 본드가 도포된 상태의 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 장치의 단면 구조도이다.1 is a perspective structural diagram of a device according to the present invention, and FIG. 2 is a silicon bond in a
도면에 도시된 바와 같이 본 발명은 크게 액자 마스크(frame mask)와 실리콘 본드와 커버 마스크로 구성된다.As shown in the figure, the present invention is largely composed of a frame mask, a silicon bond, and a cover mask.
도 1에 도시된 바와 같이 상기 액자 마스크는 티에프티 어레이 패널(TFT array panel) 상측 액티브(active) 영역을 포위하는 액자형 프레임이다.As shown in FIG. 1, the frame mask is a frame frame surrounding an active area above the TFT array panel.
상기 액자 마스크에 의하여 액자 내측의 액티브 영역과 액자 외측의 인액티브(inactive) 영역이 구분된다.The active area inside the frame and the inactive area outside the frame are distinguished by the frame mask.
즉, 상기 액자 마스크는 액티브(active)영역에 침전을 용이하게 하며, 인액 티브(inactive) 영역으로 광도전 물질의 침투를 막는데 사용된다. That is, the frame mask facilitates precipitation in the active area and is used to prevent penetration of the photoconductive material into the inactive area.
본 발명의 상기 액자 마스크는 또한 광도전물질에 접하는 프레임 내측면이 경사면으로 이루어져, 광도전 물질의 침전 완료후 제거할 때, 침전면 측벽의 손상없이 들어 올릴 수 있는 것을 특징으로 한다.The frame mask of the present invention is also characterized in that the inner surface of the frame in contact with the photoconductive material is made of an inclined surface, it can be lifted without damaging the side wall of the deposition surface when removed after the deposition of the photoconductive material.
한편, 상기 인액티브 영역의 상측에는 실리콘 본드를 도포하여, 상기 액자 마스크를 접합시킴으로써, 상기 인액티브 영역(inactive area)에 광도전 물질의 기체 분자가 스며들지 않도록 한다.On the other hand, a silicon bond is applied on the upper side of the inactive region to bond the frame mask so that gas molecules of a photoconductive material do not enter the inactive region.
상기 액자 마스크의 상측에는 커버 마스크를 덮어 상기 액티브 영역을 밀봉시킨다.A cover mask is covered on the upper side of the frame mask to seal the active area.
상기 커버 마스크에 의하여 침전법으로 상온에서 12시간 이상 대기할 수 있게되어, 광도전층 박막의 표면 균일성을 증가 시킬 수 있다.By the cover mask it is possible to stand by at least 12 hours at room temperature by the precipitation method, it is possible to increase the surface uniformity of the photoconductive layer thin film.
이하 도 1, 도3과 함께 본 발명의 구조를 살펴보면, 티에프티 어레이(TFT array) 패널(300) 위에 위치하는 광도전물질(304)이 액티브(active) 영역(302)에만 증착되고 전기적 컨텍트(electrical contact) 부분에는 증착되지 않게 해야 하는 액자 마스크(frame mask)(200), 티에프티 어레이(TFT array) 패널(300)의 인액티브 영역(inactive area)에 페이스트가 스며들지 않게 하기 위한 실리콘 본드(301), 액자 마스크(200) 위에 위치하는 커버 마스크(100)로 구성되어 있다. 1 and 3, the
상기 본 발명에 의하여 티에프티 어레이(TFT array) 패널(300)과 광도전물질(304)의 불규칙한 접합에 의한 전기적 노이즈 현상을 방지하기 위하여 액티브 영역 (302)을 정렬시키는 마스크가 제공된다.According to the present invention, a mask for aligning the
특히 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명은 티에프티 어레이 패널(TFT array panel)(300)과 경계면에서 마스크의 밀착성을 개선시키고, 침전 완료시 티에프티 어레이 패널(TFT array panel)에서 마스크를 분리할 때, 침전면의 손상을 방지하기 위한 액자 마스크(200)의 내측 벽면의 경사면에 특징이 있다. In particular, as shown in FIG. 3, the present invention improves the adhesion of the mask at the interface with the
도 2와 함께 광도전 물질(304)이 증착되는 티에프티 어레이(TFT array) 패널(300)에 대하여 살펴보면, 본 발명은 게이트(Gate) 및 소스 라인(Source Line)의 와이어 본딩(Wire Bonding)을 고려하여 TFT 패널의 인액티브(inactive) 부분에 광도전물질(304)이 유입되지 않게 하기 위해 실리콘 본드(301)를 이용하였다. Referring to the
상기 실리콘 본드(301)를 이용하지 않을 경우 기체 형태의 미세 광도전 물질(304)이 마스크와 티에프티 경계면의 미세한 틈새로 스며들어 티에프티의 노이즈 특성을 떨어뜨린다.When the
이상 설명한 본 발명에 의하여 티에프티 어레이 패널(TFT array panel)와 광도전층의 불규칙한 접합에 의한 전기적 노이즈 현상을 방지함으로써, 방사선 검출기 패널(radiation detector panel)의 제조 공정을 개선시키며, 액티브 영역을 보다 빠르고 정확하게 구분시키는 인액티브 영역에 광도전 물질의 침투를 차단시키는 티에프티 어레이 패널의 광도전층 증착 마스크가 제공되는 이점이 있다.The present invention described above improves the manufacturing process of the radiation detector panel by preventing the electrical noise caused by the irregular bonding of the TFT array panel and the photoconductive layer, thereby making the active area faster. An advantage is provided of a photoconductive layer deposition mask of a TFT array panel that blocks penetration of the photoconductive material in the inactive region to accurately distinguish it.
또한, 티에프티 어레이 패널(TFT array panel)과 마스크 (Metal mask)와의 경계부분에 실리콘 본드를 사용함으로서, 페이스트 형태의 광도전 물질이 티에프티의 인액티브 영역으로 스며드는 현상을 방지할 수 있어 정확한 액티브 영역 형성이 가능하게 되는 증착 마스크가 제공되는 이점이 있다.In addition, the use of silicon bond at the boundary between the TFT array panel and the metal mask prevents the paste-type photoconductive material from penetrating into the inactive area of the TFT. There is an advantage that a deposition mask is provided that enables region formation.
티에프티의 인액티브(inactive) 영역인 전기적 컨텍트(electrical contact) 영역에 광도전 물질이 코팅될 경우, 방사선 검출기의 전기적 노이즈가 심해질 뿐만 아니라 심할 경우 고가의 티에프티 어레이 패널을 사용하지 못한다. When the photoconductive material is coated on the electrical contact region, which is an inactive region of the TFT, the electrical noise of the radiation detector is not only severe, but also the expensive TFT array panel is not used in the severe case.
또한, 침전법으로 상온에서 12시간 이상 대기할 수 있게 됨으로써, 광도전층 표면의 균일성을 증가 시키는 증착 마스크가 제공되는 이점이 있다.In addition, it is possible to stand by at least 12 hours at room temperature by the precipitation method, there is an advantage that the deposition mask for increasing the uniformity of the surface of the photoconductive layer is provided.
그리고 복잡한 제조공정에 의한 제품의 높은 제조 단가를 낮춤으로써 제조비용을 크게 낮출 수 있으며, 이로써 기존의 방사선 검출기 패널(radiation detector panel) 제조 기술의 보편화에 크게 이바지 할 수 있을 것이다. In addition, it is possible to greatly reduce the manufacturing cost by lowering the high manufacturing cost of the product by a complicated manufacturing process, thereby greatly contributing to the generalization of existing radiation detector panel manufacturing technology.
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2005
- 2005-06-09 KR KR1020050049110A patent/KR20060130861A/en not_active Application Discontinuation
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