KR20060122609A - Reticle mask blade assembly of exposing apparatus and operating method using the same - Google Patents

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KR20060122609A KR1020050045209A KR20050045209A KR20060122609A KR 20060122609 A KR20060122609 A KR 20060122609A KR 1020050045209 A KR1020050045209 A KR 1020050045209A KR 20050045209 A KR20050045209 A KR 20050045209A KR 20060122609 A KR20060122609 A KR 20060122609A
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Abstract

A reticle mask blade assembly of an exposing apparatus and an operating method using the same are provided to prevent a mis-operation of a stepping motor by using an encoder for measuring an absolute size of an illumination region defined by a reticle mask blade. A reticle mask blade assembly(700) is comprised of a body(400) and a reticle mask blade(500) at a center thereof. The reticle mask blade includes four blades(502,504,506,508). Corner portions of the blades are superposed. The blades are connected to a stepping that is coupled to an encoder. The blades are moved to a predetermined direction by the stepping motor. According to the movement of the blades, an illumination region(510) is defined. The illumination region has a rectangular shape and positioned at a center portion of the body.

Description

노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리 및 이를 이용한 동작방법{Reticle mask blade assembly of exposing apparatus and operating method using the same}Reticle mask blade assembly of exposing apparatus and operating method using the same}

도 1은 일반적인 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리의 개략적인 평면도이다.1 is a schematic plan view of a reticle mask blade assembly of a typical exposure apparatus.

도 2는 도 1의 레티클 마스크 블레이드를 확대하여 도시한 도면이다. FIG. 2 is an enlarged view of the reticle mask blade of FIG. 1.

도 3은 본 발명에 의한 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드를 확대하여 도시한 도면이다. 3 is an enlarged view of the reticle mask blade of the exposure apparatus according to the present invention.

도 4는 본 발명에 의한 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리의 동작 방법을 설명하기 위한 블록도이다. 4 is a block diagram illustrating a method of operating the reticle mask blade assembly of the exposure apparatus according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

700: 레티클 마스크 블레이드 어셈블리 500: 레티클 마스크 블레이드700: reticle mask blade assembly 500: reticle mask blade

502, 504, 506, 508: 블레이드 510: 조명 영역502, 504, 506, 508: Blade 510: Illumination Area

본 발명은 반도체 소자의 제조에 이용되는 노광 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리 및 이를 이용한 동작 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus used for manufacturing a semiconductor device, and more particularly, to a reticle mask blade assembly of the exposure apparatus and an operation method using the same.

일반적으로, 반도체 소자의 제조시에는 다양한 반도체 제조 장치, 예컨대 박막 형성 장치, 이온 주입 장치, 노광 장치, 식각 장치 등이 이용된다. 이중에서 노광 장치는 통상 스텝퍼라는 이름으로 사용되는 장치이다. 상기 노광 장치는 반도체 웨이퍼 상에 형성된 포토레지스트막에 레티클 마스크를 통하여 광을 선택적으로 조사하여 일정한 형태의 패턴을 형성하는 장치이다. 상기 노광 장치에는 상기 레티클 마스크에 전달되는 광의 노광영역(조명영역)을 한정하기 위한 레티클 마스크 블레이드 어셈블리가 포함되어 있다. In general, various semiconductor manufacturing apparatuses such as a thin film forming apparatus, an ion implantation apparatus, an exposure apparatus, an etching apparatus, and the like are used in manufacturing a semiconductor device. Among them, the exposure apparatus is a device usually used under the name of stepper. The exposure apparatus is a device for selectively irradiating light onto a photoresist film formed on a semiconductor wafer through a reticle mask to form a pattern of a predetermined shape. The exposure apparatus includes a reticle mask blade assembly for defining an exposure area (lighting area) of light transmitted to the reticle mask.

도 1은 일반적인 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리의 개략적인 평면도이다. 1 is a schematic plan view of a reticle mask blade assembly of a typical exposure apparatus.

구체적으로, 일반적인 레티클 마스크 블레이드 어셈블리(300)는 바디(100)와, 상기 바디(100)의 중앙 부분에 레티클 마스크 블레이드(200)가 설치되어 있다. 상기 레티클 마스크 블레이드(200) 옆에는 노광 장치에 공기를 주입할 수 있는 공기 주입구(120)가 설치되어 있고, 상기 바디(100)의 주위에는 상기 레티클 마스크 블레이드 어셈블리(300)를 잡고 이동할 수 있는 손잡이(140)가 설치되어 있다. Specifically, the general reticle mask blade assembly 300 has a body 100 and a reticle mask blade 200 is installed in the central portion of the body 100. An air inlet 120 for injecting air into the exposure apparatus is installed next to the reticle mask blade 200, and a handle for holding and moving the reticle mask blade assembly 300 around the body 100. 140 is provided.

도 2는 도 1의 레티클 마스크 블레이드만을 확대하여 도시한 도면이다.FIG. 2 is an enlarged view illustrating only the reticle mask blade of FIG. 1.

구체적으로, 도 2에서 도 1과 동일한 참조번호는 동일한 부재를 나타낸다. 상기 레티클 마스크 블레이드(200)는 4개의 블레이드들(202, 204, 206, 208)을 포함한다. 상기 4개의 블레이드들(202, 204, 206, 208)은 스텝핑 모터(미도시) 및 엔 코더(encoder)를 이용하여 X0 및 X1로 표시한 2 방향과 Y0 및 Y1로 표시한 2 방향으로 이동 및 제어된다. Specifically, in FIG. 2, the same reference numerals as used in FIG. 1 denote the same members. The reticle mask blade 200 includes four blades 202, 204, 206, and 208. The four blades 202, 204, 206, and 208 are moved in two directions indicated by X0 and X1 and two directions indicated by Y0 and Y1 using a stepping motor (not shown) and an encoder. Controlled.

상기 4개의 블레이드들(202, 204, 206, 208)의 이동에 의한 개폐동작에 따라 상기 바디(100)의 중앙 부분에 사각형 모양의 오픈 영역, 즉 조명 영역(210)을 한정한다. 다시 말해, 상기 4개의 블레이드들(202, 204, 206, 208)은 스텝핑 모터(미도시) 및 이에 연결된 엔코더(미도시)를 이용하여 4 방향으로 각각 구동하면서 자기 위치를 파악하여 오픈 영역, 즉 노광 영역(조명 영역, 210)을 한정한다.According to the opening and closing operation by the movement of the four blades 202, 204, 206, and 208, a rectangular open area, that is, an illumination area 210, is defined at the central portion of the body 100. In other words, the four blades 202, 204, 206, and 208 are driven in four directions by using a stepping motor (not shown) and an encoder (not shown) connected thereto, respectively, to determine magnetic positions and thus to open regions, An exposure area (lighting area) 210 is defined.

그런데, 종래 기술의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리(200)는 레티클 마스크 블레이드(200)를 구성하는 4개의 블레이드들((202, 204, 206, 208)에 연결된 스텝핑 모터의 불량이 발생할 경우 노광 장치에서 이를 인식할 없는 문제점이 있다. 다시 말해, 4개의 블레이드들(202, 204, 206, 208)에 연결된 스텝핑 모터가 불량하여 이동 스텝 크기가 바뀌게 되면 노광 영역이 잘못 설정되어 노광 공정 불량이 발생하는 문제점이 있다. However, the reticle mask blade assembly 200 according to the related art recognizes a failure of a stepping motor connected to four blades 202, 204, 206, and 208 constituting the reticle mask blade 200 by an exposure apparatus. In other words, if the stepping motor connected to the four blades 202, 204, 206, and 208 is defective and the moving step size is changed, the exposure area may be set incorrectly, resulting in a poor exposure process. .

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 레티클 마스크 블레이드의 블레이드들에 연결된 스텝핑 모터의 불량이 발생하더라도 이를 인식할 수 있는 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리를 제공하는 데 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a reticle mask blade assembly of an exposure apparatus capable of recognizing a failure of a stepping motor connected to the blades of a reticle mask blade.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 레티클 마스크 블레이드의 블레이드들에 연결된 스텝핑 모터의 불량이 발생하더라도 이를 인식하여 노광 공정 불량을 방지할 수 있는 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리의 동작 방법을 제공하는 데 있다. In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a method of operating a reticle mask blade assembly of an exposure apparatus that can recognize the failure of the stepping motor connected to the blades of the reticle mask blade to prevent the exposure process failure. There is.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리는 바디와, 상기 바디 내에 위치하고, 일측 모서리 부분이 서로 마주치는 복수개의 블레이드들을 스텝핑 모터에 의해 개폐시켜 중앙 부분에 광이 조사될 수 있는 조명 영역(노광 영역)을 한정하는 레티클 마스크 블레이드를 포함한다. 더하여, 본 발명은 상기 레티클 마스크 블레이드의 블레이드들에 의하여 한정되는 조명 영역의 절대적 크기를 측정하여 상기 스텝핑 모터의 오작동을 방지할 수 있는 엔코더를 더 포함한다.In order to achieve the above technical problem, the reticle mask blade assembly of the exposure apparatus of the present invention is a body and a plurality of blades located in the body, one edge portion facing each other by opening and closing by a stepping motor to irradiate light to the central portion A reticle mask blade defining an illumination area (exposure area) that may be. In addition, the present invention further includes an encoder capable of preventing the malfunction of the stepping motor by measuring the absolute size of the illumination area defined by the blades of the reticle mask blade.

또한, 상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리의 동작 방법은 노광 장치의 제어기에 입력된 목표값에 따라 스텝핑 모터를 움직인다. 상기 스텝핑 모터의 움직임에 따라 레티클 마스크 블레이드를 구성하는 복수개의 블레이드들을 구동시켜 조명 영역을 한정하고, 상기 스텝핑 모터에 부착된 제1 엔코더의 제1 펄스 신호를 상기 제어기에 피드백시켜 상기 스텝핑 모터의 이동량을 제어한다. In addition, in order to achieve the above another technical problem, the operation method of the reticle mask blade assembly of the exposure apparatus of the present invention moves the stepping motor according to the target value input to the controller of the exposure apparatus. According to the movement of the stepping motor, the plurality of blades constituting the reticle mask blade are driven to define an illumination area, and the first pulse signal of the first encoder attached to the stepping motor is fed back to the controller to move the amount of the stepping motor. To control.

상기 이동된 블레이드들에 의해 한정된 조명영역의 절대적인 크기를 제2 엔코더로 측정하여 제2 펄스신호를 상기 제어기에 피드백시켜 상기 스텝핑 모터의 이동량이 정상인가를 판단한다. 상기 제2 엔코더로 측정된 상기 스텝핑 모터의 이동량이 정상이 아닐 경우 상기 제어기를 통하여 노광 공정을 중지하여 노광 공정 불량을 방지한다.The absolute size of the illumination area defined by the moved blades is measured by a second encoder, and a second pulse signal is fed back to the controller to determine whether the movement amount of the stepping motor is normal. When the movement amount of the stepping motor measured by the second encoder is not normal, the exposure process is stopped through the controller to prevent the exposure process failure.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 다음에 예시하는 본 발명의 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 상술하는 실시예에 한정되는 것은 아니고, 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 본 발명의 실시예는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되어지는 것이다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention illustrated in the following may be modified in many different forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be implemented in various different forms. The embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.

도 3은 본 발명에 의한 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리를 확대하여 도시한 도면이다. 3 is an enlarged view of the reticle mask blade assembly of the exposure apparatus according to the present invention.

구체적으로, 본 발명에 의한 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리(700)는 바디(400)와, 상기 바디(400)의 중앙 부분에 레티클 마스크 블레이드(500)를 포함한다. 본 발명에 의한 레티클 마스크 블레이드 어셈블리(700)도 도 1에 도시한 공기 주입구(120)나 손잡이(140) 등이 설치되어 있으나, 편의상 생략하였다. Specifically, the reticle mask blade assembly 700 of the exposure apparatus according to the present invention includes a body 400 and a reticle mask blade 500 at a central portion of the body 400. The reticle mask blade assembly 700 according to the present invention is also provided with an air inlet 120 or a handle 140 shown in FIG. 1, but is omitted for convenience.

상기 레티클 마스크 블레이드(500)는 4개의 블레이드들(502, 504, 506, 508)을 포함한다. 상기 4개의 블레이드들(502, 504, 506, 508)의 일측 모서리 부분이 서로 마주치게 접하여 있다. 상기 4개의 블레이드들(502, 504, 506, 508)은 스텝핑 모터(미도시) 및 이에 연결된 제1 엔코더(encoder, 미도시)를 이용하여 X0 및 X1로 표시한 2 방향과 Y0 및 Y1로 표시한 2 방향으로 이동 및 제어된다. 상기 4개의 블레이드들(502, 504, 506, 508)은 상기 스텝핑 모터에 의해 전체 또는 개별적으로 동작될 수 있다. The reticle mask blade 500 includes four blades 502, 504, 506, and 508. One corner portion of the four blades 502, 504, 506, and 508 abut each other. The four blades 502, 504, 506, and 508 are represented by two directions indicated by X0 and X1 and Y0 and Y1 using a stepping motor (not shown) and a first encoder connected thereto. It is moved and controlled in one two directions. The four blades 502, 504, 506, 508 can be operated in whole or individually by the stepping motor.

상기 4개의 블레이드들(502, 504, 506, 508)의 이동에 의한 개폐동작에 따라 상기 바디(400)의 중앙 부분에 사각형 모양의 오픈 영역, 즉 조명 영역(510)을 한 정한다. 다시 말해, 상기 4개의 블레이드들(502, 504, 506, 508)은 스텝핑 모터(미도시) 및 제1 엔코더(미도시)를 이용하여 4 방향으로 각각 구동하면서 자기 위치를 파악하여 오픈 영역, 즉 노광 영역(조명 영역, 510)을 한정한다.According to the opening and closing operation by the movement of the four blades 502, 504, 506, and 508, a rectangular open area, that is, an illumination area 510, is defined at the central portion of the body 400. In other words, the four blades 502, 504, 506, and 508 are driven in four directions by using a stepping motor (not shown) and a first encoder (not shown), respectively, to grasp the magnetic position and to open the region. An exposure area (lighting area) 510 is defined.

그리고, 본 발명의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리(700)는 상기 레티클 마스크 블레이드(500)를 구성하는 블레이드들(502, 504, 506, 508)의 절대적인 위치를 파악할 수 있는 제2 엔코더를 더 구비한다. 상기 제2 엔코더는 상기 블레이드들(502, 504, 506, 508)에 각각 연결된 헤드(602, 604, 606, 608)와 상기 레티클 마스크 블레이드(500) 주위에 설치된 코드 스트립(612, 614, 616, 618)으로 구성된다. 상기 헤드(602, 604, 606, 608)에는 발광소자 및 수광소자 등을 구비하여 상기 코드 스트립(612, 614, 616, 618)을 이용하여 블레이드들(502, 504, 506, 508)의 절대 위치를 측정한다. In addition, the reticle mask blade assembly 700 of the present invention further includes a second encoder capable of determining the absolute positions of the blades 502, 504, 506, and 508 constituting the reticle mask blade 500. The second encoder is a cord strip 612, 614, 616, which is installed around the reticle mask blade 500 and the heads 602, 604, 606, 608 connected to the blades 502, 504, 506, 508, respectively. 618). The heads 602, 604, 606, and 608 include light emitting devices and light receiving devices, and the absolute positions of the blades 502, 504, 506, and 508 using the cord strips 612, 614, 616, and 618. Measure

상기 제2 엔코더의 구성은 엔코더 자체가 다양하게 존재하기 때문에 다양하게 변경할 수 있다. 예컨대, 상기 블레이드들(502, 504, 506, 508)에 각각 헤드(602, 604, 606, 608)를 연결하였으나, 헤드(602, 604, 606, 608)의 숫자는 더 늘릴 수도 있고, 줄일 수 도 있다. 그리고, 상기 코드 스트립(612, 614, 616, 618)도 상기 레티클 마스크 블레이드(500) 주위에 4개 설치하였으나, 두 개만 설치할 수 도 있다. 다만, 상기 제2 엔코더는 상기 블레이드들(502, 504, 506, 508)의 절대적인 위치만 파악할 수 있으면 족하다. The configuration of the second encoder can be variously changed since the encoder itself is present in various ways. For example, although the heads 602, 604, 606, and 608 are connected to the blades 502, 504, 506, and 508, respectively, the number of the heads 602, 604, 606, and 608 may be increased or decreased. There is also. In addition, four cord strips 612, 614, 616, and 618 are also installed around the reticle mask blade 500, but only two may be installed. However, the second encoder needs only to know the absolute positions of the blades 502, 504, 506, and 508.

상기 제2 엔코더는 레티클 마스크 블레이드(500)를 구성하는 4개의 블레이드들(502, 504, 506, 508)에 연결된 스텝핑 모터의 불량이 발생할 경우 노광 장치의 제어기로 통보하는 역할을 수행한다. 상기 제2 엔코더는 4개의 블레이드들(502, 504, 506, 508)의 이동 거리의 절대적 크기를 측정하여 노광 장치의 제어기로 통보한다. 다시 말해, 상기 제2 엔코더는 상기 레티클 마스크 블레이드(500)의 블레이드들(502, 504, 506, 508)에 의하여 한정되는 조명 영역(510)의 절대적 크기를 측정하여 제어기에 통보한다. 따라서, 블레이드들(502, 504, 506, 508)을 이동시키는 스텝핑 모터의 스텝 사이즈 등이 변경되어 오작동을 하더라도 제2 엔코더에서 보내오는 신호에 따라 제어기에서 노광 공정을 중지하여 노광 공정 불량을 방지할 수 있다. The second encoder serves to notify the controller of the exposure apparatus when a failure of the stepping motor connected to the four blades 502, 504, 506, and 508 constituting the reticle mask blade 500 occurs. The second encoder measures the absolute magnitude of the travel distance of the four blades 502, 504, 506, 508 and notifies the controller of the exposure apparatus. In other words, the second encoder measures the absolute size of the illumination area 510 defined by the blades 502, 504, 506, 508 of the reticle mask blade 500 and notifies the controller. Therefore, even if the step size of the stepping motor for moving the blades 502, 504, 506, 508 is changed and malfunctions, the exposure process is stopped in the controller according to a signal from the second encoder to prevent the exposure process failure. Can be.

도 4는 본 발명에 의한 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리의 동작 방법을 설명하기 위한 블록도이다. 4 is a block diagram illustrating a method of operating the reticle mask blade assembly of the exposure apparatus according to the present invention.

구체적으로, 본 발명에 의한 노광 장치의 제어기(800)에 목표값을 입력한다. 상기 제어기(800)에 입력된 목표값에 따라 스텝핑 모터(802)를 움직인다. 상기 스텝핑 모터(802)의 움직임에 따라 레티클 마스크 블레이드(806)를 구성하는 복수개의 블레이드들을 구동시켜 조명 영역을 한정하고, 상기 스텝핑 모터(802)에 부착된 제1 엔코더(804)의 제1 펄스 신호를 상기 제어기(800)에 피드백시켜 상기 스텝핑 모터(802)의 이동량을 제어한다. 상기 스텝핑 모터(802)의 이동량은 결과적으로 레티클 마스크 블레이드(806)를 구성하는 복수개의 블레이드들의 이동거리를 변화시켜 조명 영역을 한정한다. Specifically, a target value is input to the controller 800 of the exposure apparatus according to the present invention. The stepping motor 802 is moved according to the target value input to the controller 800. According to the movement of the stepping motor 802, a plurality of blades constituting the reticle mask blade 806 is defined to define an illumination area, and a first pulse of the first encoder 804 attached to the stepping motor 802 is provided. The signal is fed back to the controller 800 to control the movement amount of the stepping motor 802. The amount of movement of the stepping motor 802 consequently changes the moving distance of the plurality of blades constituting the reticle mask blade 806 to define the illumination area.

그리고, 상기 이동된 블레이드들에 의해 한정된 조명 영역의 절대적인 크기, 즉 블레이드들의 이동거리를 제2 엔코더(808)로 측정하여 제2 펄스신호를 상기 제 어기(800)에 피드백시켜 상기 스텝핑 모터(802)의 이동량이 정상인가를 판단한다. 만약, 레티클 마스크 블레이드(806)를 구성하는 복수개의 블레이드들을 이동시키는 스텝핑 모터(802)의 스텝 사이즈 등이 변경되어 오작동을 하더라도 제2 엔코더(808)에서 보내오는 신호에 따라 제어기에서 노광 공정을 중지하여 노광 공정 불량을 방지한다. The absolute size of the illumination area defined by the moved blades, that is, the moving distance of the blades is measured by the second encoder 808 to feed back a second pulse signal to the controller 800 to feed the stepping motor 802. It is determined whether the amount of movement of the If the step size of the stepping motor 802 for moving the plurality of blades constituting the reticle mask blade 806 is changed and malfunctions, the controller stops the exposure process according to a signal from the second encoder 808. To prevent defects in the exposure process.

상술한 바와 같이 본 발명에 의한 레티클 마스크 블레이드 어셈블리는 레티클 마스크 블레이드에 제2 엔코더를 설치하여 상기 레티클 마스크 블레이드를 구성하는 블레이드들의 이동거리를 절대적으로 측정한다. 이에 따라, 상기 블레이드들에 연결된 스텝핑 모터의 불량이 발생하더라도 이를 인식할 수 있다.As described above, the reticle mask blade assembly according to the present invention measures a moving distance of the blades constituting the reticle mask blade by installing a second encoder on the reticle mask blade. Accordingly, even if a failure of the stepping motor connected to the blades can be recognized.

또한, 본 발명에 의한 레티클 마스크 블레이드에 설치된 제2 엔코더를 이용하여 복수개의 블레이드들을 이동시키는 스텝핑 모터의 스텝 사이즈 등이 변경되어 오작동을 하더라도 제2 엔코더에서 보내오는 신호에 따라 제어기에서 노광 공정을 중지하여 노광 공정 불량을 방지할 수 있다.In addition, even if the step size of the stepping motor for moving the plurality of blades using the second encoder installed in the reticle mask blade according to the present invention is changed and malfunctions, the exposure process is stopped by the controller according to a signal from the second encoder. This can prevent the exposure process failure.

Claims (6)

바디;body; 상기 바디 내에 위치하고, 일측 모서리 부분이 서로 마주치는 복수개의 블레이드들을 스텝핑 모터에 의해 개폐시켜 중앙 부분에 광이 조사될 수 있는 조명 영역(노광 영역)을 한정하는 레티클 마스크 블레이드; 및 A reticle mask blade positioned within the body, the reticle mask blade defining an illumination region (exposure region) in which light may be irradiated to a central portion by opening and closing a plurality of blades facing one another by a stepping motor; And 상기 레티클 마스크 블레이드의 블레이드들에 의하여 한정되는 조명 영역의 절대적 크기를 측정하여 상기 스텝핑 모터의 오작동을 방지할 수 있는 엔코더를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리.And an encoder capable of measuring the absolute size of the illumination area defined by the blades of the reticle mask blade to prevent malfunction of the stepping motor. 제1항에 있어서, 상기 엔코더는 상기 블레이드들에 연결된 헤드와 상기 레티클 마스크 블레이드 주위에 설치된 코드 스트립으로 구성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리. The reticle mask blade assembly of claim 1, wherein the encoder comprises a head connected to the blades and a code strip installed around the reticle mask blade. 제1항에 있어서, 상기 블레이드들은 4개로 이루어지고, 상기 4개의 블레이드들은 일측 모서리 부분들이 접하여 있고 개폐동작에 의해 사각형 모양의 노광 영역을 한정하는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리.The reticle mask blade assembly of claim 1, wherein the blades are formed of four blades, and the four blades are in contact with corner portions of the blades and define a rectangular exposure area by an opening and closing operation. 제3항에 있어서, 상기 4개의 블레이드들은 상기 스텝핑 모터에 의해 전체 또 는 개별적으로 동작되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리.4. The reticle mask blade assembly of claim 3 wherein said four blades are operated in whole or individually by said stepping motor. 제어기의 목표값에 따라 스텝핑 모터를 움직이는 단계;Moving the stepping motor according to a target value of the controller; 상기 스텝핑 모터의 움직임에 따라 레티클 마스크 블레이드를 구성하는 복수개의 블레이드들을 구동시켜 조명 영역을 한정하고, 상기 스텝핑 모터에 부착된 제1 엔코더의 제1 펄스 신호를 상기 제어기에 피드백시켜 상기 스텝핑 모터의 이동량을 제어하는 단계; 및 According to the movement of the stepping motor, the plurality of blades constituting the reticle mask blade are driven to define an illumination area, and the first pulse signal of the first encoder attached to the stepping motor is fed back to the controller to move the amount of the stepping motor. Controlling; And 상기 이동된 블레이드들에 의해 한정된 조명영역의 절대적인 크기를 제2 엔코더로 측정하여 제2 펄스신호를 상기 제어기에 피드백시켜 상기 스텝핑 모터의 이동량이 정상인가를 판단하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리의 동작방법.Measuring the absolute size of the illumination area defined by the moved blades with a second encoder and feeding back a second pulse signal to the controller to determine whether the movement amount of the stepping motor is normal. Method of operation of reticle mask blade assembly of exposure apparatus. 제5항에 있어서, 상기 제2 엔코더로 측정된 상기 스텝핑 모터의 이동량이 정상이 아닐 경우 상기 제어기를 통하여 노광 공정을 중지하여 노광 공정 불량을 방지하는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 레티클 마스크 블레이드 어셈블리의 동작방법. The reticle mask blade assembly of claim 5, wherein if the movement amount of the stepping motor measured by the second encoder is not normal, the exposure process is stopped by the controller to prevent the exposure process failure. How it works.
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