KR20060078945A - Device for pre-alignment of reticle and the method thereof - Google Patents

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KR20060078945A
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Abstract

본 발명은 반도체 제조 공정에서 포토리소그래피 공정에 사용되는 회로 패턴이 형성된 레티클이 노광이 실시될 스테이지에 로딩되기 전에 사전정렬을 실시하는 레티클 사전정렬 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 상기 레티클흡착부에 놓여진 레티클의 정렬마크를 통해 레티클의 위치를 검출하기 위해 웨이팅테이블에 설치되는 발광부; 상기 발광부의 신호를 수신받아 레티클의 위치가 검출되는 수광부; 상기 수광부에서 검출된 레티클 위치 데이터를 송신받아 모터를 구동시키는 제어부; 상기 제어부로부터 명령을 송신받아 레티클을 이동시키는 X축구동모터와 Y축구동모터 및 T축구동모터로 이루어진 모터부; 를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 함으로써, 파티클의 발생을 방지할 수 있는 레티클 사전정렬 장치 및 그 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reticle pre-alignment device and a method for pre-aligning a reticle having a circuit pattern used in a photolithography process in a semiconductor manufacturing process before being loaded onto a stage to be exposed, wherein the reticle is placed on the reticle adsorption unit. A light emitting unit installed in the weighting table to detect the position of the reticle through the alignment mark of the reticle; A light receiving unit receiving a signal of the light emitting unit to detect a position of the reticle; A control unit which receives the reticle position data detected by the light receiving unit and drives the motor; A motor unit comprising an X-axis driving motor, a Y-axis driving motor, and a T-axis driving motor for receiving a command from the controller to move the reticle; By further comprising a, it relates to a reticle pre-alignment apparatus and method that can prevent the generation of particles.

레티클, 사전정렬, 정렬마크Reticle, pre-sort, alignment mark

Description

레티클 사전정렬 장치 및 그 방법{Device for pre-alignment of reticle and the method thereof} Device for pre-alignment of reticle and the method             

도 1은 종래의 웨이퍼 사전정렬장치의 개략적인 구성을 보여주는 사시도,1 is a perspective view showing a schematic configuration of a conventional wafer pre-alignment device;

도 2는 종래의 웨이퍼 사전정렬 방법을 보여주는 흐름도,2 is a flow chart showing a conventional wafer pre-alignment method;

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 레티클 사전정렬 장치의 개략적인 구성을 보여주는 사시도,3 is a perspective view showing a schematic configuration of a reticle pre-alignment device according to an embodiment of the present invention,

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 레티클 사전정렬 방법을 보여주는 흐름도.4 is a flow chart showing a reticle pre-alignment method according to one embodiment of the invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1 : 웨이팅테이블 2 : 가이드핀1: Waiting Table 2: Guide Pin

3, 9 : 레티클흡착부 4 : 선회아암3, 9: reticle adsorption part 4: turning arm

5 : 레티클스테이지 6 : 축소투영렌즈5: Reticle Stage 6: Projection Lens

7 : 웨이퍼 8 : 레티클7: wafer 8: reticle

10 : 수광부 20 : 정렬마크10: light receiver 20: alignment mark

30 : 발광부 40 : 모터부30: light emitting part 40: motor part

41 : X축구동모터 42 : Y축구동모터 41: X axis drive motor 42: Y axis drive motor                 

43 : T축구동모터 41a,42a,43a : 스크류
43: T-axis drive motor 41a, 42a, 43a: screw

본 발명은 레티클 사전정렬 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제조 공정에서 포토리소그래피 공정에 사용되는 회로 패턴이 형성된 레티클이 노광이 실시될 스테이지에 로딩되기 전에 사전정렬을 실시하는 레티클 사전정렬 장치 및 그 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a reticle pre-alignment apparatus and method thereof, and more particularly to a reticle pre-alignment in which a reticle having a circuit pattern used in a photolithography process in a semiconductor manufacturing process is pre-aligned before being loaded onto a stage to be subjected to exposure. An alignment device and a method thereof.

반도체 디바이스의 고집적화로 인하여 회로 패턴들이 더욱 미세화 되어감에 따라 회로 패턴에 영향을 주는 각종 파라메터들의 관리가 더욱 엄격화되고 있다. 특히, 반도체 제조 공정 중에서도 포토 리소그라피 공정은 미세 패턴에 직접적인 영향을 준다.As circuit patterns become finer due to the higher integration of semiconductor devices, management of various parameters affecting the circuit patterns becomes more stringent. In particular, the photolithography process directly affects the fine pattern among semiconductor manufacturing processes.

일반적으로 포토 리소그라피 공정은 웨이퍼 상에 회로 패턴을 형성하기 위하여 웨이퍼 상에 포토 레지스트를 도포하고, 레티클에 형성된 회로 패턴을 전사하기 위하여 도포된 포토 레지스트를 노광하고, 노광된 포토 레지스트를 현상하는 일련의 공정을 수행하게 된다.In general, a photolithography process involves applying a photoresist on a wafer to form a circuit pattern on the wafer, exposing the applied photoresist to transfer the circuit pattern formed on the reticle, and developing a series of exposed photoresists. The process will be carried out.

노광 장치는 웨이퍼를 단계적으로 상하, 좌우 이동시키면서 레티클 상에 형성된 회로 패턴을 프로젝션 렌즈 통하여 축소시켜 웨이퍼 상의 각 샷(shot) 영역에 노광한다. 이와 같은 포토 리소그라피 공정에서의 노광 장치는 레티클 스테이지에 레티클을 얼라인먼트시키고, 웨이퍼 스테이지에 웨이퍼를 얼라인먼트한 다음에 레티클과 웨이퍼를 얼라인먼트시켜서 노광하게 된다. 그러므로 포토 리소그라피 공정에서 레티클과 웨이퍼의 얼라인먼트는 매우 엄격하게 관리되고 있다.The exposure apparatus reduces the circuit pattern formed on the reticle through the projection lens while moving the wafer vertically and horizontally, and exposes each shot area on the wafer. The exposure apparatus in such a photolithography process aligns the reticle with the reticle stage, aligns the wafer with the wafer stage, and then aligns the reticle with the wafer for exposure. Therefore, the alignment of reticles and wafers is very tightly controlled in the photolithography process.

스텝퍼는 일반적으로 웨이퍼 얼라인먼트 좌표계와 레티클 얼라인먼트 좌표계를 이용하여 얼라인먼트 공정을 처리한다. 스텝퍼는 웨이퍼 상의 각 샷 영역에 대응하여 형성된 각 정렬마크의 위치를 검출하여 노광한다.
The stepper generally processes the alignment process using a wafer alignment coordinate system and a reticle alignment coordinate system. The stepper detects and exposes the position of each alignment mark formed corresponding to each shot region on the wafer.

도 1은 종래의 웨이퍼 사전정렬장치의 개략적인 구성을 보여주는 사시도, 도 2는 종래의 웨이퍼 사전정렬 방법을 보여주는 흐름도이다.1 is a perspective view showing a schematic configuration of a conventional wafer pre-alignment apparatus, and FIG. 2 is a flowchart showing a conventional wafer pre-alignment method.

먼저, 카세트에 있는 레티클(8)을 로봇아암에 의해 이동하는데, 이 때 레티클(8)의 페리클(pelicle)면과 글래스(Glass)면에 파티클이 묻어 있는지 여부를 검사하여 허용치를 만족한 경우 웨이팅테이블(Waiting Table)(1)로 이동된다.First, the reticle 8 in the cassette is moved by the robot arm. At this time, the particle is adhered to the particle surface and the glass surface of the reticle 8 to satisfy the tolerance. It moves to the Waiting Table 1.

이 때 웨이팅테이블(Waiting Table)(1)에 있는 가이드핀(2)이 오픈(Open)되는데, 상기 가이드핀(2)이 오픈되면 로봇아암에서 웨이팅테이블(1)로 레티클(8)이 이송되어, 웨이팅테이블(1)상의 레티클흡착부(3)에 의해 진공흡착된다.At this time, the guide pin 2 in the Waiting Table 1 is open. When the guide pin 2 is open, the reticle 8 is transferred from the robot arm to the weighting table 1. The vacuum is sucked by the reticle suction unit 3 on the weighting table 1.

그 후 레티클(8)의 사전정렬(Pre-alignment)을 위해 레티클흡착부(3)의 진공이 오프(Off)되고, 사전정렬을 하기 위해 가이드핀(2)이 클로즈(Close)된다.After that, the vacuum of the reticle adsorption section 3 is turned off for pre-alignment of the reticle 8, and the guide pin 2 is closed for pre-alignment.

사전정렬이 끝나면 선회아암(4)이 상승하여 레티클(8)을 들어올린 후 레티클스테이지(5)방향으로 회전한다. 그 후 선회아암(4)이 하강하고, 레티클흡착부(9)에 진공흡착된 후 레이클 얼라인먼트가 실시된다. After the pre-alignment, the turning arm (4) is raised to lift the reticle (8) and rotate in the direction of the reticle stage (5). After that, the turning arm 4 descends, is vacuum-adsorbed to the reticle adsorption unit 9, and then the laser alignment is performed.                         

이와같은 종래의 레티클 사전정렬장치에 의하면, 가이드핀(2)이 사전정렬을 위해 클로즈(Close)될 때 가이드핀(2)과 레티클(8)의 측면이 접촉하게 되므로 파티클이 발생하여 공정상에 문제를 발생시킨다.
According to the conventional reticle pre-alignment device, when the guide pin (2) is closed for pre-alignment, the side of the guide pin (2) and the reticle (8) is in contact with the particles generated in the process Cause problems.

따라서 본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 본 발명의 레티클 사전정렬 장치 및 그 방법은 레티클 사전정렬시 레티클과 접촉되지 않도록 함으로써 파티클 발생을 방지하여 수율을 향상시킬 수 있는 레티클 사전정렬 장치 및 그 방법을 제공함에 그 목적이 있다.
Therefore, the present invention has been made to solve the above-described problems, the reticle pre-alignment apparatus and method of the present invention is to prevent the occurrence of particles by contacting the reticle during reticle pre-alignment to prevent the occurrence of particles re-arranged pre-alignment It is an object of the present invention to provide an apparatus and a method thereof.

상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 레티클 사전정렬 장치는, 패턴면에 정렬마크가 형성된 레티클을 진공흡착시키기 위해 웨이팅테이블 상부에 다수개 설치된 레티클흡착부를 포함하여 이루어진 레티클 사전정렬 장치에 있어서, 상기 레티클흡착부에 놓여진 레티클의 정렬마크를 통해 레티클의 위치를 검출하기 위해 웨이팅테이블에 설치되는 발광부; 상기 발광부의 신호를 수신받아 레티클의 위치가 검출되는 수광부; 상기 수광부에서 검출된 레티클 위치 데이터를 송신받아 모터를 구동시키는 제어부; 상기 제어부로부터 명령을 송신받아 레티클을 이동시키는 X축구동모터와 Y축구동모터 및 T축구동모터로 이루어진 모터부; 를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다. Reticle pre-alignment apparatus of the present invention for realizing the above object, in the reticle pre-alignment device comprising a plurality of reticle adsorption unit is installed on the weighting table to suction the reticle with the alignment mark formed on the pattern surface A light emitting unit installed in the weighting table to detect the position of the reticle through the alignment mark of the reticle placed on the reticle adsorption unit; A light receiving unit receiving a signal of the light emitting unit to detect a position of the reticle; A control unit which receives the reticle position data detected by the light receiving unit and drives the motor; A motor unit comprising an X-axis driving motor, a Y-axis driving motor, and a T-axis driving motor for receiving a command from the controller to move the reticle; Characterized in that further comprises.                     

또한, 상기 발광부는 발광용 엘이디(LED)인 것을 특징으로 한다.In addition, the light emitting unit is characterized in that the light emitting LED (LED).

또한, 상기 수광부는 씨씨디 카메라인 것을 특징으로 한다.In addition, the light receiver is characterized in that the CD camera.

또한, 상기 X축구동모터와 Y축구동모터 및 T축구동모터는 스크류에 의해 웨이팅테이블과 연결되는 것을 특징으로 한다.In addition, the X-axis drive motor, Y-axis drive motor and T-axis drive motor is characterized in that connected to the weighting table by a screw.

또한, 본 발명의 레티클 사전정렬 방법은, 회로 패턴이 형성된 레티클이 노광이 실시될 스테이지에 로딩되기 전에 행해지는 레티클 사전정렬 방법에 있어서, 웨이팅테이블에 레티클이 이동되는 단계; 상기 웨이팅테이블에 설치된 발광부로부터 정렬마크의 위치 인식을 위해 빛이 발산되는 단계; 상기 발광부로부터 발산된 빛이 수광부에서 감지되는 단계; 상기 수광부에 감지된 신호가 제어부에 송신되는 단계; 상기 제어부에서 모터부에 구동신호가 송신되는 단계; 상기 모터부의 구동에 의해 레티클 위치가 조정되는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the reticle pre-alignment method of the present invention, the reticle pre-alignment method is performed before the reticle on which the circuit pattern is formed is loaded on the stage to be exposed, comprising the steps of: moving the reticle to the weighting table; Emitting light from the light emitting unit installed in the weighting table to recognize the position of the alignment mark; Detecting light emitted from the light emitting unit in the light receiving unit; Transmitting a signal sensed by the light receiver to a controller; Transmitting a driving signal to the motor unit by the controller; Adjusting the reticle position by driving the motor unit; Characterized in that it comprises a.

또한, 상기 모터부의 구동에 의해 레티클 위치가 조정된 후 레티클 위치를 재체크하는 단계; 레티클 위치가 허용범위 이내인 경우에는 사전정렬이 완료되어 레티클 선회아암으로 이동되고, 레티클 위치가 허용범위를 벗어나는 경우에는 제어부에서 모터부로 구동신호를 송신하여 레티클 위치가 조정되는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
The method may further include rechecking the reticle position after the reticle position is adjusted by the driving of the motor unit; When the reticle position is within the allowable range, the pre-alignment is completed and moved to the reticle pivot arm; when the reticle position is out of the allowable range, the control unit transmits a drive signal to the motor unit to adjust the reticle position; It characterized in that it further comprises.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.
Hereinafter, the configuration and operation of the preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 레티클 사전정렬 장치의 개략적인 구성을 보여주는 사시도이다.3 is a perspective view showing a schematic configuration of a reticle pre-alignment device according to an embodiment of the present invention.

패턴(Pattern)면에 정렬마크(Alignment Mark)(20)가 형성된 레티클(8)을 진공흡착시키기 위해 웨이팅테이블(1) 상부에 레티클흡착부(3)가 4곳에 설치된다.Four reticle adsorption parts 3 are provided on the weighting table 1 to vacuum-adsorb the reticle 8 having the alignment mark 20 formed on the pattern surface.

상기 레티클흡착부(3) 상부에는 레티클(8)이 놓여지고, 상기 레티클(8)의 정렬마크(20)를 인식하여 레티클(8)의 위치를 검출하기 위해 웨이팅테이블(1)에 발광부(30)가 설치된다. 상기 발광부(30)는 일례로 발광용 엘이디(LED)가 사용될 수 있다.A reticle 8 is placed on the reticle adsorption unit 3, and a light emitting unit is disposed on the weighting table 1 to detect a position of the reticle 8 by recognizing the alignment mark 20 of the reticle 8. 30) is installed. For example, the light emitting unit 30 may use a light emitting LED.

상기 발광부(30)에서 레티클(8)의 위치검출을 위해 신호가 발산되면, 웨이팅테이블(1)의 상방향으로 소정의 거리만큼 이격된 위치에 설치된 수광부(10)가 상기 신호를 수신받아 제어부(도면에 미도시)에 송신하게 된다. 상기 수광부(10)는 일례로 씨씨디카메라(CCD Camera)가 사용될 수 있다.When the signal is emitted from the light emitting unit 30 to detect the position of the reticle 8, the light receiving unit 10 installed at a position spaced apart by a predetermined distance in the upward direction of the weighting table 1 receives the signal and controls the control unit. (Not shown). The light receiving unit 10 may be a CD camera (CCD Camera), for example.

상기 제어부의 레티클(8)의 위치 신호를 송신받아 레티클(8)을 이동시키는 X축구동모터(41)와 Y축구동모터(42) 및 T축구동모터(43)로 이루어진 모터부(40)가 웨이팅테이블(1)의 측면부에 설치된다.Motor unit 40 consisting of an X-axis drive motor 41 and a Y-axis drive motor 42 and T-axis drive motor 43 for receiving the position signal of the reticle (8) of the control unit to move the reticle (8) Is provided at the side of the weighting table 1.

상기 X축구동모터(41)와 Y축구동모터(42) 및 T축구동모터(43)는 스크류(41a, 42a, 43a)를 회전시켜 레티클(8)을 이동 및 회전시키게 된다.
The X-axis drive motor 41, the Y-axis drive motor 42 and the T-axis drive motor 43 rotates the screws (41a, 42a, 43a) to move and rotate the reticle (8).

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 레티클 사전정렬 방법을 보여주는 흐름도이다. 4 is a flowchart illustrating a reticle pre-alignment method according to an embodiment of the present invention.                     

먼저, 카세트에 있는 레티클(8)을 로봇아암이 이동시키게 된다. 상기 레티클(8)의 패턴(Pattern)면에 파티클(Particle)이 있는지 여부를 검사하게 되는데, 검사 결과 허용치를 만족하는 경우 웨이팅테이블(1)로 레티클(8)을 이동시키게 된다.First, the robot arm moves the reticle 8 in the cassette. It is checked whether there is a particle on the pattern surface of the reticle 8, and when the result of the inspection satisfies the allowable value, the reticle 8 is moved to the weighting table 1.

레티클(8)이 웨이팅테이블(1)의 레티클흡착부(3)에 놓이면 발광부(30)에서 빛이 발산되어 상기 레티클(8)에 표시된 정렬마크(20)를 인식하게 된다.When the reticle 8 is placed on the reticle adsorption unit 3 of the weighting table 1, light is emitted from the light emitting unit 30 to recognize the alignment mark 20 displayed on the reticle 8.

상기 발광부(30)의 신호를 수신받은 수광부(10)는 레티클(8) 정렬마크(20)의 위치 데이터를 제어부에 송신하고, 상기 제어부는 모터부(40) 즉, X축구동모터(41)와 Y축구동모터(42) 및 T축구동모터(43) 각각에 구동신호를 송신하며, 상기 모터부(40)의 구동에 의해 레티클(8) 위치가 조정된다.The light receiving unit 10 receiving the signal of the light emitting unit 30 transmits the position data of the alignment mark 20 of the reticle 8 to the control unit, and the control unit is the motor unit 40, that is, the X-axis driving motor 41. ) And a drive signal to each of the Y-axis drive motor 42 and the T-axis drive motor 43, and the position of the reticle 8 is adjusted by the driving of the motor unit 40.

상기 모터부(40)의 구동에 의해 레티클(8) 위치가 조정된 후 레티클(8) 위치가 정확히 설정되었는지 여부를 재체크(Re-check)하게 된다.After the reticle 8 is adjusted by the driving of the motor unit 40, the reticle 8 is re-checked whether the reticle 8 is correctly set.

만약 재체크 결과 레티클(8) 위치가 허용범위 이내인 경우에는 사전정렬(Pre Alignment)가 완료되어 레티클(8) 선회아암으로 이동되고, 레티클(8) 위치가 허용범위를 벗어나는 경우에는 제어부에서 모터부(40)로 구동신호를 송신하여 레티클(8) 위치가 재조정된다.If the reticle (8) position is within the allowable range as a result of the recheck, the pre-alignment is completed and moved to the reticle (8) pivot arm, and if the reticle (8) position is out of the allowable range, the motor The reticle 8 position is readjusted by sending a drive signal to the unit 40.

이와같은 구성 및 방법에 의해 레티클(8)의 사전정렬을 실시하면 레티클(8)과 접촉되는 부분이 없어 파티클의 발생을 방지할 수 있게 된다.
By pre-aligning the reticle 8 by such a configuration and method, there is no part in contact with the reticle 8, thereby preventing the generation of particles.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 레티클 사전정렬 장치 및 그 방법에 의하면, 레티클 정렬마크의 위치를 인식하여 레티클 사전정렬을 실시하기 위해 발광부와 수광부 및 이로부터 수신한 위치 데이터를 모터부에 송신하여 레티클을 구동함으로써 레티클과 접촉없이 레티클의 사전정렬을 실시할 수 있어 파티클의 발생을 방지하고, 레티클의 틀어짐을 최소한으로 하며, 레티클 스테이지로 이동시 레티클 위치를 안정화하는 한편, 레티클 정렬 시간을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.According to the reticle pre-alignment apparatus and method according to the present invention as described in detail above, in order to perform the reticle pre-alignment by recognizing the position of the reticle alignment mark, the light emitting unit and the light receiving unit and the position data received therefrom By transmitting and driving the reticle, the reticle can be pre-aligned without contact with the reticle, which prevents particle generation, minimizes the distortion of the reticle, stabilizes the reticle position when moving to the reticle stage, and reduces the reticle alignment time. It can be effected.

Claims (6)

패턴면에 정렬마크가 형성된 레티클을 진공흡착시키기 위해 웨이팅테이블 상부에 다수개 설치된 레티클흡착부를 포함하여 이루어진 레티클 사전정렬 장치에 있어서,In the reticle pre-alignment device comprising a plurality of reticle adsorption unit installed on the weighting table for vacuum adsorption of the reticle having the alignment mark formed on the pattern surface, 상기 레티클흡착부에 놓여진 레티클의 정렬마크를 통해 레티클의 위치를 검출하기 위해 웨이팅테이블에 설치되는 발광부;A light emitting unit installed in the weighting table to detect the position of the reticle through the alignment mark of the reticle placed on the reticle adsorption unit; 상기 발광부의 신호를 수신받아 레티클의 위치가 검출되는 수광부;A light receiving unit receiving a signal of the light emitting unit to detect a position of the reticle; 상기 수광부에서 검출된 레티클 위치 데이터를 송신받아 모터를 구동시키는 제어부;A control unit which receives the reticle position data detected by the light receiving unit and drives the motor; 상기 제어부로부터 명령을 송신받아 레티클을 이동시키는 X축구동모터와 Y축구동모터 및 T축구동모터로 이루어진 모터부;A motor unit comprising an X-axis driving motor, a Y-axis driving motor, and a T-axis driving motor for receiving a command from the controller to move the reticle; 를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 레티클 사전정렬 장치.Reticle pre-alignment device characterized in that it further comprises. 제1항에 있어서, 상기 발광부는 발광용 엘이디(LED)인 것을 특징으로 하는 레티클 사전정렬 장치.2. The reticle pre-alignment device according to claim 1, wherein the light emitting part is a light emitting LED. 제1항에 있어서, 상기 수광부는 씨씨디 카메라인 것을 특징으로 하는 레티클 사전정렬 장치.2. The reticle pre-alignment device of claim 1, wherein the light receiver is a CD camera. 제1항에 있어서, 상기 X축구동모터와 Y축구동모터 및 T축구동모터는 스크류에 의해 웨이팅테이블과 연결되는 것을 특징으로 하는 레티클 사전정렬 장치.The reticle pre-alignment apparatus according to claim 1, wherein the X-axis driving motor, the Y-axis driving motor and the T-axis driving motor are connected to the weighting table by screws. 회로 패턴이 형성된 레티클이 노광이 실시될 스테이지에 로딩되기 전에 행해지는 레티클 사전정렬 방법에 있어서,In a reticle pre-alignment method, wherein a reticle on which a circuit pattern is formed is performed before being loaded into a stage to be exposed, 웨이팅테이블에 레티클이 이동되는 단계;Moving the reticle to the weighting table; 상기 웨이팅테이블에 설치된 발광부로부터 정렬마크의 위치 인식을 위해 빛이 발산되는 단계;Emitting light from the light emitting unit installed in the weighting table to recognize the position of the alignment mark; 상기 발광부로부터 발산된 빛이 수광부에서 감지되는 단계;Detecting light emitted from the light emitting unit in the light receiving unit; 상기 수광부에 감지된 신호가 제어부에 송신되는 단계;Transmitting a signal sensed by the light receiver to a controller; 상기 제어부에서 모터부에 구동신호가 송신되는 단계;Transmitting a driving signal to the motor unit by the controller; 상기 모터부의 구동에 의해 레티클 위치가 조정되는 단계;Adjusting the reticle position by driving the motor unit; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 레티클 사전정렬 방법.Reticle pre-sorting method comprising a. 제5항에 있어서, 상기 모터부의 구동에 의해 레티클 위치가 조정된 후 레티 클 위치를 재체크하는 단계;The method of claim 5, further comprising: rechecking the reticle position after the reticle position is adjusted by the driving of the motor unit; 레티클 위치가 허용범위 이내인 경우에는 사전정렬이 완료되어 레티클 선회아암으로 이동되고, 레티클 위치가 허용범위를 벗어나는 경우에는 제어부에서 모터부로 구동신호를 송신하여 레티클 위치가 조정되는 단계;When the reticle position is within the allowable range, the pre-alignment is completed and moved to the reticle pivot arm; when the reticle position is out of the allowable range, the control unit transmits a drive signal to the motor unit to adjust the reticle position; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레티클 사전정렬 방법.Reticle pre-sorting method further comprising.
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