KR20060109119A - 판형 열전달 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 내부 에칭 판형 열전달 장치에 대한 것이다. 본 발명의 판형 열전달 장치는, 내부가 밀폐된 판형 케이스; 상기 판형 케이스 내부에 수납되어 액상 작동 유체의 유동 경로를 제공하는 윅; 및 상기 판형 케이스 내에 주입된 작동 유체를 포함하되, 상기 판형 케이스는 평면적으로 분산 배치된 기둥 형상의 돌출 패턴을 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 증기 유동 유로와 지지구조를 제공하는 패턴을 판형 케이스에 일체화하여 형성함으로써 저렴한 비용으로 양산성을 확보할 수 있음은 물론이고, 스크린 메쉬를 채용하는 종래의 경우보다 증기가 유동할 수 있는 공간을 증가시켜 열전달 성능을 대폭 향상시킬 수 있다.

Description

판형 열전달 장치{Flat type heat transfer device}

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.

도1은 종래기술에 따른 판형 열전달 장치의 단면도이다.

도2는 도1의 A 부분에 대한 확대 단면도이다.

도3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 판형 열전달 장치의 단면도이다.

도4는 도3의 Ⅰ-Ⅰ'선에 따른 단면도이다.

도5는 도4의 Ⅱ-Ⅱ'선에 따른 단면도이다.

도6은 샘플1의 판형 케이스를 구성하는 상부판의 설계도이다.

도7은 종래의 판형 열전달 장치와 본 발명의 판형 열전달 장치의 열전달 성능을 비교 분석한 그래프이다.

본 발명은 전자장비에 사용되는 냉각장치의 구조에 대한 것으로서, 보다 상 세하게는 히트파이프의 작동원리를 사용하는 판형 열전달 장치의 내부 구조에 대한 것이다.

최근 각종 전자장비가 소형화되고 경량화됨에 따라 내부의 프로세서에서 발생되는 열을 효과적으로 발산할 수 있는 다양한 냉각모듈이 개발되고 있다. 냉각모듈의 구성 부품 중 널리 사용되는 부품으로는 히트파이프를 들 수 있다. 히트파이트는 열원에서 발생하는 열을 열량의 손실 없이 빠른 시간 안에 냉각부로 전달한다. 그리고, 냉각부에 결합된 열 교환기를 이용하여 히트파이프를 통해 전달된 열을 외부로 방출시킴으로써 열원의 온도를 적정하게 유지한다.

그런데, 히트파이프는 뛰어난 열전달 특성에도 불구하고 기구적 측면에서 높이의 제약이 있어 내부 공간이 협소한 전자제품에서는 사용하기가 곤란한 단점이 있다. 또한, 히트파이프는 그 형상의 특성상 방열 표면적이 작기 때문에 방열의 효율성을 높이기 위해서는 별도의 열교환기(예컨대, 핀)를 병행하여 사용해야 한다는 단점이 있다. 이 외에도 히트 파이프는 형상적 한계로 인해 일반적으로 판형의 형상을 가지는 열원(예컨대, 프로세서)에 직접 접촉시킬 수 없으므로 히트파이프와 열원 사이에 일종의 완충판인 플레이트 - 일반적으로 구리 플레이트 -를 사용해야 하는 한계가 있다.

판형 열전달 장치는 위와 같은 히트파이프의 단점을 극복하기 위해 개발된 부품이다. 판형 열전달 장치는 히트파이프의 작동원리를 그대로 이용하되, 히트파이프와는 달리 그 형상이 판형인 것이 특징이다. 따라서, 열적으로 문제가 발생하는 부위에 적당한 방법으로 직접 부착하여 효과적으로 열을 이송/확산할 수 있다. 또 넓은 방열 면적을 가지면서도 형상의 제약이 없고 박형으로 제작할 수 있다는 이점이 있다.

도1은 종래의 판형 열전달 장치의 구조에 대한 일예를 보여주는 단면도이다.

도면을 참조하면, 종래의 판형 열전달 장치는 판형 케이스(10), 윅(20) 및 스크린 메쉬(30)로 구성된다. 상기 판형 케이스(10)는 금속 재질로 이루어지며 그 내부는 진공 상태로 밀폐된다. 판형 케이스(10)의 일면은 열원(40)과 밀착되어 열원(40)에서 발생된 열을 케이스(10) 내부로 전달한다. 그리고 상기 판형 케이스(10)의 다른 면에는 냉각 핀(50)을 설치하여 열원(40)으로부터 전달된 열을 외부로 발산시킨다. 또 상기 냉각 핀(50)의 상부에는 열의 효과적인 발산을 위해 냉각 팬(60)이 설치되는 것이 일반적이다. 이하에서는, 설명의 편의를 위해 열원(40)의 상부는 증발부로, 냉각 핀(50)의 하부는 응축부라고 칭한다.

상기 윅(20)은 다공질의 모세관 구조를 가진다. 그리고, 모세관 구조의 다공 내에는 작동 유체가 주입되어 있다. 작동 유체는 판형 열전달 장치가 작동되는 과정에서 증발부에서 기화된 후 증기압 차에 의해 응축부로 확산한다(화살표 ① 참조). 그리고, 확산된 증기는 응축부에서 응결된 다음, 열원(40)의 근처로 회귀한다(화살표 ② 참조).이 때, 상기 윅(20)은 작동 유체가 이동할 수 있는 액체 유동 유로를 제공한다. 작동 유체의 유동은 모세관 현상에 의해 이루어진다.

상기 스크린 메쉬(30)는 증발부에서 기화된 작동 유체가 압력차에 의해 응축부로 이동하는데 있어서 증기 확산 유로를 제공한다. 나아가, 상기 스크린 메쉬(30)는 내부가 진공으로 유지되는 판형 케이스(10)를 기계적으로 지지함으로써 케 이스(10)가 변형 또는 왜곡되는 것을 방지한다.

도2는 도1의 A 부분을 확대하여 도시한 단면도이다.

도면에 도시된 바와 같이, 상기 스크린 메쉬(30)는 종선 와이어(30a)와 횡선 와이어(30b)가 상하로 교번되면서 직조된 구조를 가진다. 따라서, 와이어 사이에 일정한 공간(70)이 확보되는데, 이 공간이 바로 증기 확산 유로의 기능을 수행한다. 즉, 열원(40)으로부터 전달된 열에 의해 기화된 작동 유체는 증기압 차에 의해 상기 증기 확산 유로를 통해 증발부에서 응축부로 이동하게 되는 것이다. 그리고, 확산된 작동 유체는 응축부에서 응결되면서 열을 방출하고 윅(20)의 내부로 흡수된 후 모세관 현상에 의해 다시 증발부로 이동한다.

그런데, 위와 같은 구조를 가지는 판형 열전달 장치는, 스크린 메쉬(30)에 의해 확보되는 증기 확산 유로(70)의 공간이 협소하여 기화된 작동 유체가 확산할 때 증기 유동 저항이 크다는 문제가 있다. 증기 유동 저항이 크면, 기화된 작동 유체가 증발부에서 응축부로 확산되는 과정에서 열손실이 유발되어 열전달 성능을 저하시킨다. 뿐만 아니라, 스크린 메쉬(20)의 두께는 1.2mm 이상이 되면, 부피가 증가하여 극박 소형화 추세에 있는 전자장비의 냉각모듈에는 적용하기 어려운 한계도 있다.

한편, 판형 열전달 장치 내에 증기 확산 유로와 케이스의 지지 구조를 마련하기 위한 다른 방법으로는, 지지구조 및 중공층을 별도의 레이어로 제작하여 케이스 사이에 삽입하는 방법, 케이스 자체에 기계적인 소성가공을 하여 증기 유로와 지지구조를 형성하는 방법이 있다.

그런데, 기둥 형상의 지지 구조와 중공층을 가진 별도의 레이어를 케이스 사이에 삽입하는 방식은, 레이어의 가공자체가 어려울 뿐만 아니라 레이어와 케이스 사이의 접합과 레이어의 위치 선정 등의 어려움으로 인해 양산성 확보가 어렵고 제조 비용이 증가하는 문제점이 있다.

또한, 케이스 자체에 소성가공을 하여 증기 확산 유로와 케이스 지지 구조를 형성하는 방식은, 판형 열전달 장치의 무게를 줄일 수 있고 그 구조가 간단하여 제작공정을 단순화시킬 수 있는 장점은 있다. 하지만, 프레스 등을 이용한 소성가공은 지지구조의 높이가 재료 높이의 1.5-2 배를 넘을 수 없고, 폭 또한 두꺼워져 증기 확산 유로의 면적이 감소하는 등 가공 범위가 상당히 제한적이다. 이는 박형의 판형 열전달 장치에 있어 큰 단점으로 작용할 수 있다.

따라서, 본 발명은 상술한 종래기술의 문제를 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 증기 유동 저항을 최소화하여 열전달 성능을 향상시키고 케이스 내의 진공에 의한 케이스의 변형이나 함몰을 방지할 수 있는 구조를 가진 판형 열전달 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 판형 열전달 장치는, 내부가 밀폐된 판형 케이스; 상기 판형 케이스 내부에 수납되어 액상 작동 유체의 유동 경로를 제공하는 윅; 및 상기 판형 케이스 내에 주입된 작동 유체를 포함하되, 상기 판형 케이스는 평면적으로 분산 배치된 기둥 형상의 돌출 패턴을 구비하는 것 을 특징으로 한다.

바람직하게, 상기 판형 케이스의 돌출 패턴은 에칭 가공에 의해 형성된다. 더욱 바람직하게 상기 에칭 가공은 습식 에칭 가공이다. 그리고, 상기 돌출 패턴의 끝단은 상기 윅의 외부 표면과 접한다.

바람직하게, 상기 돌출 패턴은 X 및 Y 방향으로 균일한 간격을 두고 이격된 격자형으로 배열된다.

바람직하게, 인접하는 돌출 패턴의 간격은 0.05 내지 10mm 이다.

본 발명에 있어서, 상기 윅은 스크린 메쉬인 것이 바람직하다. 이러한 경우, 상기 스크린 메쉬의 직조 와이어 직경은 0.019 내지 0.18mm 이고, 메쉬수는 ASTM 사양 E-11-95를 기준으로 60 내지 250인 것이 바람직하다.

바람직하게, 상기 돌출 패턴 사이에 존재하는 공간의 단면적은 스크린 메쉬의 기공 단면적보다 크다.

이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니 므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.

도3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 판형 열전달 장치의 단면도이고, 도4는 도3의 Ⅰ-Ⅰ'선에 따른 단면도이고, 도5는 도4의 Ⅱ-Ⅱ'선에 따른 단면도이다.

도3 내지 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 판형 열전달 장치는, 내부가 밀폐되고 열원(90)에 밀착되게 설치되는 판형 케이스(100); 상기 판형 케이스(100) 내부에 수납되어 액상 작동 유체의 유동 경로를 제공하는 윅(110); 및 상기 판형 케이스(100) 내에 주입된 작동 유체를 포함하되, 상기 판형 케이스(100)는 평면적으로 분산 배치된 기둥 형상의 돌출 패턴(120)을 구비한다. 이 때, 상기 돌출 패턴(120)은 윅(110)의 상부 표면과 접하는 것이 바람직하다.

인접한 돌출 패턴(120) 사이에는 일정한 공간(130)이 형성된다. 이 공간은 기화된 작동 유체가 확산하는 경로를 제공한다. 이하, 이러한 경로를 증기 확산 유로로 칭한다. 따라서, 열원(90)으로부터 발생된 열에 의해 윅(110)에 함습된 작동 유체가 기화되면, 증기 확산 유로(130)를 통해 사방으로 확산한다(도4의 화살표 ③ 참조).

상기 돌출 패턴(120)은 증기 확산 유로(130)를 형성함과 동시에, 내부가 진공으로 유지되는 판형 케이스(100)를 기계적으로 지지한다. 이에 따라, 판형 케이스(100)의 변형이나 함몰이 효과적으로 방지된다.

위와 같이, 상기 돌출 패턴(120)은 증기 확산 유로(130)를 형성함과 동시에 케이스(100)의 지지 구조까지도 형성한다. 이러한 점을 감안하여, 상기 돌출 패턴(120)은 X 및 Y 방향으로 균일한 간격을 두고 격자형으로 배열하는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 증기 확산 유로(130)의 폭(W)은 0.05 내지 10mm 사이가 되도록 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게, 상기 증기 확산 유로(130)의 폭(W)은 1 내지 3mm 사이가 되게 한다.

한편, 상기 돌출 패턴(120)은 종래의 금속가공방법 어느 것으로도 형성될 수 있으나, 습식 에칭법에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 상기 습식 에칭 가공은 일반적으로 반도체 직접회로 및 금속표면 상에 여러 가지 패턴을 형성하고자 할 때 사용되는 기술이다. 이하 상기 습식 에칭 가공법에 대하여 자세히 살펴본다.

상기 돌출 패턴(120)의 형성을 위해서는, 먼저 판형 케이스(100)의 상부판을 구성할 금속 기판 위에 감광액(Photo-resist)을 도포한다. 그리고, 준비된 포토 마스크를 통하여 자외선에 노출시킨 후 현상한다. 그러면, 돌출 패턴(120)을 형성할 자리에만 선별적으로 에칭 블락킹막이 형성된다. 그런 다음, 에칭(식각)공정에서 기판 전면을 침식액에 노출시키면 에칭 블락킹막의 하부에 있는 금속 기판을 제외한 나머지 부분이 일정하게 식각되어 금속 기판의 전면에는 원하는 돌출 패턴(120)이 형성된다. 이처럼 돌출 패턴(120)을 형성하면, 증기 확산 유로와 케이스 지지 구조를 일체화하여 저렴한 비용으로 한번에 형성할 수 있다.

본 발명은 에칭 가공의 구체적인 방식에 한정되지 않는다. 따라서, 돌출 패턴(120)은 마이크론 단위 이하까지 초 정밀한 가공이 가능한 건식 에칭법에 의해서도 형성 가능하다.

뿐만 아니라, 전통적인 기계적 가공이나 MEMS(Micro-Electro-Mechanical System)가공 기술에 의할 수 있음은 물론이다.

상기 돌출 패턴(120)에 의해 형성되는 증기 확산 유로(130)는 종래의 판형 열전달 장치에서 스크린 메쉬에 의해 형성되는 증기 확산 유로보다 공간이 더 넓다. 따라서, 증기 유동 저항이 감소하여 열전달 성능이 증가되는 효과가 있다. 또한 제조 공정의 단순화를 통해 제품 가격을 인하할 수 있고 임의의 형상 제작에 제약이 없으며 다양한 크기의 지지구조를 형성 가능하고 대량생산이 가능하며 극세 구조의 형상도 자유롭게 구현할 수 있는 장점이 있다.

상기 윅(100)은 스크린 메쉬인 것이 바람직하다. 스크린 메쉬는 응축부에서 응결된 액상 작동 유체가 증발부로 이동할 수 있도록 액체 유동 유로를 제공한다. 이러한 스크린 메쉬의 기능을 감안하여 메쉬의 직조 와이어 직경은 바람직하게 0.019 내지 0.18mm이다. 그리고, 메쉬수는 ASTM 사양 E-11-95를 기준으로 바람직하게 60 내지 250, 더욱 바람직하게 80 내지 150이다.

본 발명에서, 돌출 패턴(120)에 의해 형성되는 증기 확산 유로(130)의 단면적은 그 기능상 스크린 메쉬에 의해 형성되는 기공의 단면적(도2의 70 참조)보다 큰 것이 바람직하다.

상기 작동 유체로는 물, 프레온계 냉매, 암모니아, 아세탄, 메탄올 및 에탄올로 구성된 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 혼합액이 사용될 수 있다.

<실험예>

도1에 도시된 구조를 갖는 종래의 판형 열전달 장치와 도3에 도시된 구조를 갖는 판형 열전달 장치의 열전달 성능을 서로 비교해 보았다. 이를 위해, 2개의 샘플을 준비하였다. 샘플1은 도3에 도시된 구조를 갖도록 제작하였고, 샘플2는 도1에 도시된 구조를 갖도록 제작하였다.

샘플1의 경우, 순도가 99% 이상이고 직경이 0.12mm인 구리 와이어로 직조된 메쉬 수 100의 스크린 메쉬 한 겹을 윅으로 사용하였다. 도6은 판형 케이스의 상부판을 구성하는 기판의 각종 수치를 보여준다. 도면에서 단위는 mm이다. 상부판은 두께가 0.6mm이고 에칭 가공을 통해 피치가 2mm인 돌출 패턴을 하부면에 형성한 동판을 사용하였다. 판형 케이스의 하부판은 두께 0.2mm인 압연 동박을 사용하였다.

샘플1의 제작을 위해 스크린 메쉬를 사이에 두고 상부판과 하부판을 결합시켰다. 그런 다음, 케이스 내부를 8.0×10^-4Pa 이하로 감압한 후 증류수를 충진한 후 최종 밀봉하였다. 샘플1의 두께는 1.0mm이고, 가로 및 세로의 길이는 각각 50mm 및 120mm이다.

샘플2는 샘플1과 달리 '조밀 스크린 메쉬/성긴 스크린 메쉬/조밀 스크린 메쉬'의 형태로 적층된 구조물을 판형 케이스 안에 수납하였다. 여기서, 조밀 스크린 메쉬는 윅으로 기능한다. 상기 조밀 스크린 메쉬는 순도가 99% 이상이고 직경이 0.12mm인 구리 와이어로 직조되고 메쉬 수가 100인 코퍼스크린(copper screen)메쉬를 사용하였고, 상기 성긴 스크린 메쉬는 순도가 99% 이상이고 직경이 0.38mm인 구리 와이어로 직조되고 메쉬 수가 14인 메쉬를 사용하였다. 샘플2의 상부판과 하부 판은 각각 두께가 0.2mm인 압연 동판을 사용하였다. 샘플2의 두께는 1.6mm이고, 가로 및 세로의 길이는 각각 50mm 및 120mm이다. 샘플2의 경우도 메쉬 구조물을 사이에 두고 상부판과 하부판을 결합시킨 후 케이스 내부를 8.0×10^-4Pa 이하로 감압한 후 증류수를 충진한 후 최종 밀봉하였다.

위와 같이 샘플1 및 2를 준비한 후, 다음과 같은 방법으로 열전달 성능 실험을 수행하였다. 실험은 ±2℃의 오차 범위 내로 온도 조절이 가능한 간이 항온실 내에서 외부 온도를 25℃로 설정하고 수행하였다.

먼저, 샘플1 및 2 각각에 열원을 부착하였다. 그런 다음, 파워 서플라이어를 통하여 열원에 입력 전력(Q_in)을 인가하였다. 입력 전력은 25W에서 35W까지 5W씩 증가 시키면서 실험을 수행하였다. 각 입력 전력의 경우에 대하여 열전대와 연결된 데이터 로거를 통하여 온도를 측정하여 열원의 표면에 부착한 열전대의 온도 변화가 ±0.05 ℃이내로 3분 이상 지속되면 정상 상태로 간주하고, 이 때부터 200초간 5개의 위치에 장착된 각각의 열전대로부터 200개의 온도 데이터를 측정하였다.

이와 같이 측정된 데이터를 컴퓨터를 사용하여 수집하여 각각의 온도의 평균값을 실험 결과로 사용하였다. 총열저항은 아래 수학식에 의해 구해졌으며, T_h 와 T_a는 각각 열원의 표면 중앙부 온도와 항온실 외부 온도이다. 실험에 열원으로 사용된 히트 블록의 크기는 12Χ12mm² 이며, 열교환부는 냉각 핀과 팬을 사용하여 강제 냉각 하였다.

<수학식>

도7은 실험 결과를 나타낸 그래프이다. 도7에서 볼 수 있는 바와 같이, 샘플1은 25~35W 에서 총 열저항 0.82~0.8℃/W로써 샘플2에 비해 낮은 열저항을 가지는 것으로 확인되었다. 따라서, 샘플1이 동일한 입력 전력과 유효 열전달 길이에 대해 샘플2보다 우수한 열전달 성능을 보임을 알 수 있다. 이는 종래의 스크린 메쉬를 사용하여 증기 확산 유로 및 케이스 지지 구조를 형성한 경우보다 상대적으로 증가된 증기 유로 공간을 확보함으로써, 증발부에서 발생된 증기가 응축부까지 유동 저항 없이 원활하게 이동할 수 있었기 때문인 것으로 해석할 수 있다.

이상에서는 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세하게 설명하였다. 하지만, 본 발명의 실시예들은 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 다양한 변형이나 응용이 가능하며, 본 발명에 따른 기술적 사상의 범위는 하기되는 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.

본 발명에 따르면, 증기 유동 유로와 지지구조를 제공하는 패턴을 판형 케이스에 일체화하여 형성함으로써 저렴한 비용으로 양산성을 확보할 수 있음은 물론이고, 스크린 메쉬를 채용하는 종래의 경우보다 증기가 유동할 수 있는 공간을 증가 시켜 열전달 성능을 대폭 향상시킬 수 있다.

Claims (10)

1. 내부가 밀폐된 판형 케이스;

   상기 판형 케이스 내부에 수납되어 액상 작동 유체의 유동 경로를 제공하는 윅; 및

   상기 판형 케이스 내에 주입된 작동 유체를 포함하되,

   상기 판형 케이스는 평면적으로 분산 배치된 기둥 형상의 돌출 패턴을 구비하는 것을 특징으로 하는 판형 열전달 장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 판형 케이스에 평면적으로 분산 배치된 기둥 형상의 돌출 패턴은 에칭가공에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 판형 열전달 장치.
3. 제2항에 있어서,

   상기 에칭 가공은 습식 에칭 가공임을 특징으로 하는 판형 열전달 장치.
4. 제1항에 있어서,

   상기 돌출 패턴의 끝단은 상기 윅의 외부 표면과 접하는 것을 특징으로 하는 판형 열전달 장치.
5. 제1항에 있어서,

   상기 돌출 패턴은 X 및 Y 방향으로 균일한 간격을 두고 이격된 격자형으로 배열되는 것을 특징으로 하는 판형 열전달 장치.
6. 제1항에 있어서,

   인접하는 돌출 패턴의 간격은 0.05 내지 10mm 임을 특징으로 하는 판형 열전달 장치.
7. 제1항에 있어서,

   상기 윅은 스크린 메쉬임을 특징으로 하는 판형 열전달 장치.
8. 제7항에 있어서,

   상기 스크린 메쉬의 직조 와이어 직경은 0.019 내지 0.18mm 임을 특징으로 하는 판형 열전달 장치.
9. 제7항에 있어서,

   상기 스크린 메쉬의 메쉬수는 ASTM 사양 E-11-95를 기준으로 60 내지 250임을 특징으로 하는 판형 열전달 장치.
10. 제7항에 있어서,

    돌출 패턴 사이에 존재하는 공간의 단면적이 스크린 메쉬의 기공 단면적보다 큰 것을 특징으로 하는 판형 열전달 장치.

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