KR20060108153A - Anti-reflection film - Google Patents
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Abstract
본 발명은 액정 디스플레이 장치(Liquid Crystal Display)에 사용되는 반사방지필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 대전방지제를 포함한 반사방지층을 포함하여 형성된 반사방지필름에 관한 것이며, 투명기재층; 및 제 1 바인더 수지와 저굴절 물질을 포함하는 저굴절층과, 제 2 바인더 수지와 고굴절 물질 및 대전방지제를 포함하는 고굴절층을 포함하여 이루어진 반사방지층을 포함하는 반사방지필름을 제공함으로써, 대전방지제를 포함한 반사방지층을 형성하여 시인성을 확보하고, 정전기 및 전자파를 차단할 수 있으며, 반사방지층의 층수를 최소화하여 공정을 간소화함으로써 불량을 줄이고 생산성 및 수율을 높일 수 있다.The present invention relates to an antireflection film for use in a liquid crystal display (Liquid Crystal Display), and more particularly, to an antireflection film formed by including an antireflection layer including an antistatic agent, a transparent substrate layer; And an anti-reflection film comprising an anti-reflection layer comprising a low refractive layer comprising a first binder resin and a low refractive material, and a high refractive layer comprising a second binder resin, a high refractive material, and an antistatic agent. Formation of the anti-reflection layer to ensure visibility, can block the static electricity and electromagnetic waves, by minimizing the number of layers of the anti-reflection layer to simplify the process to reduce defects and increase productivity and yield.
액정 디스플레이, 반사방지필름, 대전방지 Liquid crystal display, antireflection film, antistatic
Description
본 발명은 액정 디스플레이 장치(Liquid Crystal Display)에 사용되는 반사방지필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 대전방지제를 포함한 반사방지층을 포함하여 형성된 반사방지필름에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflection film used in a liquid crystal display, and more particularly, to an antireflection film formed by including an antireflection layer including an antistatic agent.
디스플레이 기술이 발달함에 따라 LCD를 비롯하여 CRT의 평면화와 유기 EL 등으로 대표되는 새로운 PDP의 기술이 급속히 발전하고 있다. 이에 발맞추어 화면의 대형화 뿐만아니라 보다 선명한 화면의 요구가 점점 커짐에 따라 외광 반사에 의한 시인성의 저하방지를 위하여 반사방지처리는 필수화되었으며, 시장규모는 날로 증가하고 있다. As display technology develops, new PDP technologies, such as LCD, CRT flattening and organic EL, are rapidly developing. In response to this, as the demand for clearer screens has become larger as well as the size of screens, anti-reflection treatments have become indispensable to prevent deterioration of visibility due to reflection of external light, and the market size is increasing day by day.
종래 반사방지효과를 나타내기 위해서 각종 디스플레이 외곽면에 반사방지물질을 도포하는 방법이 가장 간단하나 이 방법은 디스플레이의 주요 기재인 유리에 대한 접착력이 좋은 수지를 찾기 힘들며, 패널 하나하나에 도포하는 경우 대량생산 측면에서 취약하여 실제 사용하는 예는 극히 적다.In order to show the anti-reflective effect, the method of applying anti-reflective materials to the outer surface of various displays is the simplest, but this method is difficult to find a resin with good adhesion to glass, which is the main substrate of the display. Very few examples are used due to their weakness in mass production.
다른 방법으로는 유리와는 전혀 다른 기재에 반사방지물질을 도포하고 이를 다시 디스플레이 외곽면에 부착함으로써 반사방지효과를 얻어내는 것이다.Alternatively, the antireflective effect can be achieved by applying an antireflective material to a substrate that is completely different from glass and attaching it back to the outside of the display.
이를 위하여 지금까지 가장 많이 사용된 방법은 투명기재필름위에 복수개의 금속산화물층을 화학적 증기 증착 또는 물리적 증기증착에 의해 형성하는 방법이 있는데, 이는 넓은 영역에서의 빛의 반사를 감소시켜 반사방지효과는 탁월하나 증착 공정이 대량생산에서는 불충분한 생산성을 보이므로 최근 그 사용예가 줄어드는 추세이다.To this end, the most widely used method is a method of forming a plurality of metal oxide layers on the transparent substrate by chemical vapor deposition or physical vapor deposition, which reduces the reflection of light in a large area and thus has an antireflection effect. Although it is excellent, the deposition process shows insufficient productivity in mass production, so the use example is decreasing recently.
또한 기존에 제시된 반사방지필름은 3층구조로써 투명필름 위에 저굴절층, 고굴절층 및 하드코팅층을 차례로 적층하는 다층구조였기에 공정상의 문제와 생산성과 수율이 떨어지는 단점이 있다.In addition, the existing anti-reflection film has a three-layer structure is a multi-layer structure in which a low refractive index layer, a high refractive index layer and a hard coating layer is sequentially laminated on the transparent film, there is a disadvantage in the process problem, productivity and yield is low.
한편, 정전기로 인하여 디스플레이 또는 모니터 표면에 먼지 등의 오염물질이 쉽게 부착되고, 디스플레이에서 발생하는 전자파로 인하여 인체 및 다른 실내 전자기기에 영향을 미칠 수 있는 문제점들을 보안하기 위하여 반사방지 기능 뿐만아니라 정전기, 전자파 차폐 기능을 더하기 위한 시도가 계속되고 있다.On the other hand, to prevent problems such as dust and dirt attached to the surface of the display or monitor due to static electricity easily, and to prevent problems that may affect the human body and other indoor electronic devices due to the electromagnetic waves generated from the display, as well as antistatic Attempts have been made to add electromagnetic shielding.
종래 반사방지층의 경우, 반사방지층이 대전방지기능을 갖고 있지 않아 정전기에 노출되고 먼지 등이 쉽게 부착되어 표면이 오염되는 문제가 많아 투명전도성 무기산화물인 ITO층을 별도로 구성하든지 대전방지제를 별도의 층으로 추가하든지 하여 표면층에 대전방지층을 형성시켜 정전기를 방지하는 방법을 사용하고 있다.In the case of the conventional anti-reflection layer, since the anti-reflection layer does not have an antistatic function, it is exposed to static electricity and easily adheres to dust, so that the surface is contaminated, so that an ITO layer, which is a transparent conductive inorganic oxide, is formed separately or an antistatic agent is a separate layer. In addition, the antistatic layer is formed on the surface layer to prevent static electricity.
그러나 층수가 많아질수록 불량이 발생할 확률은 높아질 뿐 아니라 그로 인해 생산성과 수율은 떨어지게 된다. However, as the number of floors increases, not only does the probability of failure occur, but also decreases productivity and yield.
따라서 본 발명은 대전방지제를 포함한 반사방지층을 형성하여 시인성을 확보하고, 정전기 및 전자파를 차단할 수 있는 반사방지필름을 제공하는 데 그 목적이 있다.Therefore, an object of the present invention is to provide an antireflection film that can form an antireflection layer including an antistatic agent to secure visibility and block static electricity and electromagnetic waves.
또한 본 발명은 반사방지층의 층수를 최소화하여 공정을 간소화함으로써 불량을 줄이고 생산성 및 수율을 높일 수 있는 반사방지필름을 제공하는 데 그 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to provide an antireflection film that can reduce defects and increase productivity and yield by simplifying the process by minimizing the number of layers of the antireflection layer.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 투명기재층; 및 제 1 바인더 수지와 저굴절 물질을 포함하는 저굴절층과, 제 2 바인더 수지와 고굴절 물질 및 대전방지제를 포함하는 고굴절층을 포함하여 이루어진 반사방지층을 포함하는 반사방지필름을 제공한다.The present invention for achieving the above object is a transparent substrate layer; And an antireflection layer including a low refractive layer including a first binder resin and a low refractive material, and a high refractive layer including a second binder resin, a high refractive material, and an antistatic agent.
상기 고굴절층의 제 2 바인더 수지는 아크릴계 중합체, 우레탄계 중합체, 에폭시계 중합체 및 규소 중합체 중 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 한다.The second binder resin of the high refractive index layer is characterized in that at least one selected from acrylic polymer, urethane polymer, epoxy polymer and silicon polymer.
상기 고굴절층의 고굴절 물질은 산화지르코늄(ZrO2), 이산화티타늄(TiO2), 인듐주석산화물(ITO: Indium Tin Oxide), 산화아연(ZnO), 산화세륨(CeO), 안티몬(Sb) 및 산화주석(SnO) 중 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 한다.The high refractive material of the high refractive layer is zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), indium tin oxide (ITO: Indium Tin Oxide), zinc oxide (ZnO), cerium oxide (CeO), antimony (Sb) and oxide It is characterized in that at least one selected from tin (SnO).
상기 고굴절층의 고굴절 물질은 상기 제 2 바인더 수지 100중량부에 대하여 5 ~ 60 중량부 포함하는 것을 특징으로 한다.The high refractive material of the high refractive layer is characterized in that it comprises 5 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the second binder resin.
상기 고굴절층의 대전방지제는 산화안티몬(ATO), 인듐주석산화물(ITO), 양이온계, 음이온계, 비이온계 중 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 한다.The antistatic agent of the high refractive index layer is characterized in that at least one selected from antimony oxide (ATO), indium tin oxide (ITO), cationic, anionic, nonionic.
상기 고굴절층의 대전방지제는 상기 제 2 바인더 수지 100중량부에 대하여 0.1 ~ 20중량부 포함하는 것을 특징으로 한다.The antistatic agent of the high refractive index layer is characterized in that it comprises 0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the second binder resin.
상기 저굴절층의 제 1 바인더 수지는 아크릴계 수지, 폴리에스터계 수지, 우레탄계 수지 및 올레핀계 수지 중 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 한다.The first binder resin of the low refractive layer is characterized in that at least one selected from acrylic resin, polyester resin, urethane resin, and olefin resin.
상기 저굴절층의 저굴절 물질은 불소계 물질, 산화규소(SiO2), 플루오르화마그네슘(MgF2), 산화알루미늄(Al2O3) 중 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 한다.The low refractive material of the low refractive layer is characterized in that at least one selected from fluorine-based material, silicon oxide (SiO 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ).
상기 반사방지필름은 제 3 바인더 수지와 광선택적 흡수물질을 포함하는 광선택흡수층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The anti-reflection film further includes a light selective absorbing layer comprising a third binder resin and a light selective absorbing material.
상기 반사방지층은 광개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The anti-reflection layer is characterized in that it further comprises a photoinitiator.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 발명은 투명기재층과 두 층의 반사방지층으로 형성된 반사방지필름에 관한 것이다. The present invention relates to an antireflection film formed of a transparent base layer and two antireflection layers.
상기 반사방지층은 굴절률 1.20 ~ 1.50미만의 저굴절율을 갖는 저굴절층과, 표면경도가 3H이고 굴절률 1.65 ~ 2.70의 고굴절률을 갖는 고굴절층으로 구성된다. 상기 반사방지층은 상기 투명기재층 일면에 적층되는데, 저굴절층과 고굴절층이 순차적으로 적층되거나, 고굴절층과 저굴절층이 순차적으로 적층될 수 있다. The anti-reflection layer is composed of a low refractive index layer having a low refractive index of less than 1.20 ~ 1.50 refractive index, and a high refractive index layer having a surface hardness of 3H and a high refractive index of 1.65 ~ 2.70 refractive index. The anti-reflection layer may be stacked on one surface of the transparent substrate layer, and the low and high refractive layers may be sequentially stacked, or the high and low refractive layers may be sequentially stacked.
상기 투명기재층은 열가소성 수지인 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 트리아 세테이트셀룰로오스(TAC), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리에트설폰(PES) 등을 사용한다. 상기 투명기재층을 구성하는 수지는 광투과율이 80% 이상인 것을 사용하며, 두께는 25 ~ 188㎛인 것이 바람직하다.The transparent substrate layer is a thermoplastic resin polyethylene terephthalate (PET), triacetate cellulose (TAC), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polysulfone (PES) and the like. Resin constituting the transparent base layer is used that the light transmittance is 80% or more, the thickness is preferably 25 ~ 188㎛.
고굴절층은 제 2 바인더 수지로 열경화성 수지인 아크릴계 중합체, 우레탄계 중합체, 에폭시계 중합체 및 규소 중합체 등을 사용한다. 상기 아크릴계 중합체는 폴리올아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트와 같은 경화형 다관능성 단량체를 중합하여 사용하는 것이 바람직하며, 우레탄계 중합체는 멜라민 우레탄을 사용하는 것이 바람직하다.As the high refractive layer, an acrylic polymer, a urethane polymer, an epoxy polymer, a silicon polymer, or the like, which is a thermosetting resin, is used as the second binder resin. The acrylic polymer is preferably used by polymerizing a curable polyfunctional monomer such as polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, and the urethane polymer is preferably melamine urethane.
또한 상기 규소 중합체로는 실란화합물(예컨대, 알킬트리알콕시실란, 테트라알콕시실란) 사이의 가수분해로부터 유도 생성된 화합물 및 활성기를 갖는 실란커플링제를 들 수 있다. 이러한 물질들은 열이나 UV에 의해 경화시 표면경도가 매우 좋아지고 무기미립자의 분산이 가능하여 고굴절층에 포함되는 고굴절 물질의 고른 분산이 가능하기 때문에 일반적으로 많이 사용된다.Moreover, as said silicon polymer, the compound derived from the hydrolysis between silane compounds (for example, alkyltrialkoxysilane, tetraalkoxysilane), and the silane coupling agent which has an active group are mentioned. These materials are generally used because the surface hardness during curing by heat or UV is very good, and the inorganic fine particles can be dispersed and evenly disperse the high refractive material included in the high refractive layer.
상기 고굴절층에 포함되는 고굴절 물질은 굴절률 1.80 ~ 2.80이며, 평균 입경 1 ~ 500㎚인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 사용 가능한 고굴절 물질로는 산화지르코늄(ZrO2), 이산화티타늄(TiO2), 인듐주석산화물(ITO: Indium Tin Oxide), 산화아연(ZnO), 산화세륨(CeO), 안티몬(Sb) 및 산화주석(SnO) 등의 무기 미립자를 사용한다. 상기 무기 미립자는 알루미나, 실리카, 산화지르코늄, 산화철 등의 무기 화합물 또는 폴리올, 알칸올아민, 스테아르산, 실란커플링제 및 티타네이트 커플링제와 같은 유기 화합물을 사용하여 표면 처리할 수 있다. 이러한 무기 미립자의 형태는 정해진 것이 없으며, 구형상, 입방체상, 방추형상, 부정형상이 바람직하다.The high refractive material included in the high refractive layer is a refractive index of 1.80 ~ 2.80, it is preferable to use an average particle diameter of 1 ~ 500nm. High refractive materials that can be used include zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), cerium oxide (CeO), antimony (Sb) and tin oxide Inorganic fine particles such as (SnO) are used. The inorganic fine particles may be surface treated using inorganic compounds such as alumina, silica, zirconium oxide, iron oxide, or organic compounds such as polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. The form of such inorganic fine particles is not fixed, and spherical shape, cube shape, fusiform shape, and irregular shape are preferable.
상기 고굴절 물질은 제 2 바인더 수지 100중량부에 대하여 5 ~ 60 중량부를 함유한다. 5 중량부 미만이면 고굴절률을 나타내지 못하며, 60 중량부 초과이면 액의 분산이 어려우며, 코팅 후 굴절률은 높으나, 코팅층 자체가 과량의 미립자에 의해 헤이즈를 띄며 도막 강도가 나빠진다.The high refractive material contains 5 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the second binder resin. If less than 5 parts by weight does not exhibit a high refractive index, if more than 60 parts by weight it is difficult to disperse the liquid, the refractive index after coating is high, but the coating layer itself hazes by the excess of fine particles and the coating film strength is worse.
또한 고굴절층에는 대전방지제로 산화안티몬(ATO), 인듐주석산화물(ITO), 양이온, 음이온, 비이온계의 계면활성제를 포함한다. 대전방지제는 제 2 바인더 수지 100중량부에 대하여 0.1 ~ 20중량부를 포함함으로서 가장 좋은 대전방지효과를 꾀할 수 있다. In addition, the high refractive layer includes antimony oxide (ATO), indium tin oxide (ITO), a cation, an anion, and a nonionic surfactant as an antistatic agent. The antistatic agent can achieve the best antistatic effect by including 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the second binder resin.
한편, 상기 저굴절층은 제 1 바인더 수지로 아크릴계, 폴리에스터계, 우레탄계, 올레핀계 수지 등을 사용하며, 바람직하게는 우레탄계 또는 폴리에스터계 수지를 사용한다. 이들은 투명기재층에 주로 사용되는 폴리에틸렌테레프탈레이트와 접착력이 우수하고, 하부층에 대한 접착력이 우수하기 때문이다.On the other hand, the low refractive layer is an acrylic, polyester, urethane, olefin resin and the like as the first binder resin, preferably a urethane or polyester resin. This is because they are excellent in adhesion with polyethylene terephthalate mainly used in the transparent base layer, and excellent in adhesion to the underlying layer.
상기 저굴절층에 포함되는 저굴절 물질은 밀착성이나 피막강도를 확보하고 내마찰성을 향상시킬 수 있는 산화규소(SiO2), 플루오르화마그네슘(MgF2), 산화알루미늄(Al2O3), 불소계 물질을 사용한다. 상기 불소계 물질은 굴절률이 1.40~1.41인 것을 사용한다. 이 때 상기 불소계 물질을 단독으로 사용할 경우 도막 형성 능력이 부족하므로 중간 굴절률을 가진 상기 제 1 바인더 수지와 혼합하여 사용하며, 상기 불소계 물질은 상기 제 1 바인더 수지 100 중량부에 대하여 10~300중량부 혼합하는 것이 바람직하다. The low refractive material included in the low refractive layer is silicon oxide (SiO 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), fluorine-based, which can secure adhesion or film strength and improve friction resistance Use substance. The fluorine-based material uses a refractive index of 1.40 ~ 1.41. In this case, when the fluorine-based material is used alone, the ability to form a coating film is insufficient, so that the fluorine-based material is mixed with the first binder resin having an intermediate refractive index. It is preferable to mix.
상기 반사방지층을 구성하는 고굴절층 및 저굴절층은 각 층의 재료를 분산액의 형태로 하며, 이를 위하여 사용되는 분산액의 용매는 메틸에틸케톤, 에탄올, 시클로헥산 등과 같은 유기용매에 분산된 콜로이드 용액으로 사용된다. 상기 콜로이드 용액은 고형분 농도가 0.1~50중량%가 되도록 함이 바람직하며, 고굴절층의 경우엔 고형분 농도가 8~12중량% 되도록 하며, 저굴절층의 경우엔 고형분 농도가 0.1~5중량% 되도록 분산액에 현탁한다. 만약 고형분 농도가 0.1 중량% 미만이면 저굴절층의 생성 자체가 불가능할 뿐만 아니라 균일한 코팅층을 형성하기 어렵고, 50 중량% 초과이면 반사방지효과를 나타내지 못하기 때문이다.The high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the anti-reflection layer are formed in the form of a dispersion in each material of the layer, the solvent of the dispersion used for this is a colloidal solution dispersed in an organic solvent such as methyl ethyl ketone, ethanol, cyclohexane, etc. Used. The colloidal solution is preferably such that the concentration of the solid content is 0.1 to 50% by weight, in the case of the high refractive layer so that the solid concentration is 8 to 12% by weight, in the case of the low refractive layer so that the solid content is 0.1 to 5% by weight. Suspension in dispersion. If the solid content concentration is less than 0.1% by weight, not only the generation of the low refractive index layer itself is impossible, but it is difficult to form a uniform coating layer, and if it exceeds 50% by weight, it does not exhibit an antireflection effect.
고굴절층은 제조된 분산액을 투명기재층 위에 통상적인 코팅방법인 바코팅, 딥코팅, 에어나이프 코팅, 커튼코팅, 롤러코팅, 그라비아 코팅, 및 압출 코팅, 스 프레이 코팅, 콤마 코팅 등의 방법에 의해 하부층을 형성할 수 있고, 형성된 코팅층 위에는 UV광을 조사하여 완성한다. The high refractive index layer is prepared by the conventional coating methods such as bar coating, dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, gravure coating, and extrusion coating, spray coating, comma coating, and the like on the transparent substrate layer. The lower layer can be formed, and the coating layer is completed by irradiating UV light.
고굴절층의 두께는 1 ~ 30㎛이며, 굴절률은 1.65 ~ 2.70이며, 경도는 3H 이상이다. 굴절률이 1.65 미만인 경우 첨가량이 많아도 고굴절층의 굴절률이 낮아 고굴절층의 역할을 하지 못하며, 굴절률이 2.70을 초과할 경우, 제 2 바인더 수지와의 굴절률 차이가 크므로 고굴절층 표면에서 불균일한 빛의 산란이 일어날 수 있다.The thickness of the high refractive layer is 1 to 30 µm, the refractive index is 1.65 to 2.70, and the hardness is 3H or more. If the refractive index is less than 1.65, even if the addition amount is large, the refractive index of the high refractive index layer is low so that it does not act as a high refractive layer. If the refractive index is greater than 2.70, the difference in refractive index with the second binder resin is large, so that the uneven scattering of light on the surface of the high refractive index layer is large. This can happen.
한편, 저굴절층은 그 두께가 70~150㎚ 되도록 함이 바람직하며, 상기 고굴절층 상부에 코팅할 때엔 마이크로그라비아(일본 야쓰시세이키사) 또는 로드그라비아(일본 히라노사)와 같은 음각으로 가공된 미세한 그라비아 코팅방법을 사용하거나 딥 코팅방법을 사용한다.On the other hand, the low refractive index layer is preferably 70 to 150nm in thickness, and when coated on the high refractive layer is processed in the intaglio such as microgravure (Yatsusushi Seiki Co., Ltd.) or road gravure (Japanese Hirano Co., Ltd.) Fine gravure coating method or dip coating method.
상기 그라비아 코팅방법은 가공된 메쉬의 피치 사이즈가 작으면 작을수록 좋은데, 보통 피치간 간격이 1 ~ 10㎛의 것을 사용하며, 딥 코팅방법은 필름을 통째로 혼합액에 담구어 도막을 형성하는 것이므로 배면의 코팅을 방지하기 위하여 배면에는 이형필름 내지는 보호필름을 붙이고 코팅을 실시한다. The smaller the pitch size of the processed mesh, the smaller the better. Usually, the pitch between pitches is used 1 ~ 10㎛, the dip coating method is to soak the film in the mixed solution as a whole to form a coating film In order to prevent coating, a release film or a protective film is attached to the back and the coating is performed.
이렇게 제조된 저굴절층의 굴절률은 1.20 ~ 1.50의 값을 가진다. 1.20 미만의 굴절률은 합성하기도 어려울 뿐만 아니라 실제 고분자 형태로 나온 물질을 아직까지 발견되지 않고 있으므로 실시하기 어려우며, 또한 1.50 초과의 굴절률은 저굴 절층 형성시 실제 저굴절의 효과가 없어 반사방지 효과가 나타나지 않는다.The refractive index of the low refractive index layer thus prepared has a value of 1.20 to 1.50. The refractive index of less than 1.20 is difficult to synthesize, and it is difficult to carry out because no material in the form of actual polymer has been found so far, and the refractive index of more than 1.50 does not show the anti-reflection effect because there is no effective low refractive index when forming the low refractive index layer. .
상기의 저굴절층 및 고굴절층으로 이루어진 반사방지층의 광학적 두께는 The optical thickness of the antireflection layer consisting of the low and high refractive layers is
nd=λ/4(2N+1)nd = λ / 4 (2N + 1)
(n:매질의 굴절률, d:매질의 두께, λ:빛의 파장, N:0,1,2,3…)(n: refractive index of the medium, d: thickness of the medium, λ: wavelength of light, N: 0, 1, 2, 3 ...)
가 되도록 형성한다.It is formed to be.
또한 본 발명의 반사방지필름은 상기 반사방지층이 도포되지 않은 투명기재층의 이면에 제 3 바인더 수지와 광선택적 흡수물질을 포함하는 광선택흡수층을 더 형성할 수 있다.In addition, the anti-reflection film of the present invention may further form a light selective absorbing layer including a third binder resin and a light selective absorbing material on the back surface of the transparent substrate layer on which the antireflective layer is not applied.
상기 광선택흡수층은 광선택적 흡수물질을 유기용매에 용해시킨 후 제 3 바인더 수지에 혼합하여 제조한다. 상기 제 3 바인더 수지는 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리비닐알콜(PVA), 폴리카보네이트(PC), 에틸렌 비닐아세테이트(EVA), 폴리부티랄(PVB)등의 수지가 가능하다. The photo-selective absorbing layer is prepared by dissolving the photo-selective absorbing material in an organic solvent and mixing it with a third binder resin. The third binder resin may be a resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), polyvinyl alcohol (PVA), polycarbonate (PC), ethylene vinyl acetate (EVA), polybutyral (PVB), or the like.
상기 광선택 흡수제로는 대한민국 특허공개번호 제2001-26838호 및 제2001-39727호에 개시되어 있으며, 배위결합을 이루고 있는 유도체로서 금속(M)원자가 옥 타페닐테트라아자포피린 또는 테트라아자포피린 고리에 중심그룹으로 존재하고, 리간드는 물, 할로겐, 암모니아로 이루어진 군으로부터 선택되어 상기 금속(M)원자와 배위결합을 이룬 유도체들이다. 상기 금속(M)원자로는 티타늄(Ti), 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 망간(Mn), 구리(Cu), 팔라듐(Pb), 코발트(Co), 니켈(Ni), 바나듐(v)으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이다.The photoselective absorbents are disclosed in Korean Patent Publication Nos. 2001-26838 and 2001-39727, and as a derivative having a coordinating bond, a metal (M) atom is bound to an octaphenyltetraazaporphyrin or tetraazapophyrin ring. The ligands are derivatives which are coordinated with the metal (M) atom selected from the group consisting of water, halogen and ammonia. The metal (M) reactors include titanium (Ti), magnesium (Mg), zinc (Zn), manganese (Mn), copper (Cu), palladium (Pb), cobalt (Co), nickel (Ni), and vanadium (v). At least one selected from the group consisting of
상기 유기용매로는 메틸에틸케톤, 이소프로필알콜, 자일렌, 톨루엔, 시클로헥산 등을 사용한다.Methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol, xylene, toluene, cyclohexane and the like are used as the organic solvent.
상기 광선택 흡수제는 상기 제 3 바인더 수지 100중량부를 기준으로 하여 0.01 ~ 1.5 중량부 사용한다. 1.5 중량부 초과하면 투과율 저하를 일으키고, 0.01 중량부 미만이면 선택적 흡광기능이 저하되어 효과가 미미하다.The light selective absorbent is used in an amount of 0.01 to 1.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the third binder resin. If it exceeds 1.5 parts by weight, the transmittance decreases, and if it is less than 0.01 parts by weight, the selective light absorption function is lowered and the effect is insignificant.
상기 광선택흡수층은 통상적인 코팅방법인 롤코팅, 다이코팅, 스핀코팅 등의 방법으로 코팅한다. 상기 광선택흡수층의 두께는 1 ~ 25㎛로 함이 바람직하다.The light selective absorption layer is coated by a conventional coating method such as roll coating, die coating, spin coating. The thickness of the light selective absorption layer is preferably 1 to 25㎛.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 대전방지제를 포함한 반사방지층을 형성하여 시인성을 확보하고, 정전기 및 전자파를 차단할 수 있으며, 반사방지층의 층수를 최소화하여 공정을 간소화함으로써 불량을 줄이고 생산성 및 수율을 높일 수 있다.As described above, the present invention forms an antireflection layer including an antistatic agent to secure visibility, block static electricity and electromagnetic waves, and minimizes the number of layers of the antireflection layer to simplify the process, thereby reducing defects and increasing productivity and yield. have.
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100863579B1 (en) * | 2006-08-08 | 2008-10-15 | 주식회사 엘지화학 | Compositions comprising electromagnetic shielding materials and the sheets using the same |
| KR20150017106A (en) * | 2013-08-06 | 2015-02-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | Optical coating structure |
| KR20160054703A (en) * | 2014-11-06 | 2016-05-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | Display Device Including Low Temperature Refractive Layer And Method Of Fabricating The Same |
| KR102539447B1 (en) * | 2022-06-17 | 2023-06-02 | 국민대학교산학협력단 | Method for manufacturing optical filter, optical filter manufactured therefrom and light transmission solar cell module for greenhouse |
-
2005
- 2005-04-12 KR KR1020050030344A patent/KR20060108153A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100863579B1 (en) * | 2006-08-08 | 2008-10-15 | 주식회사 엘지화학 | Compositions comprising electromagnetic shielding materials and the sheets using the same |
| KR20150017106A (en) * | 2013-08-06 | 2015-02-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | Optical coating structure |
| KR20160054703A (en) * | 2014-11-06 | 2016-05-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | Display Device Including Low Temperature Refractive Layer And Method Of Fabricating The Same |
| KR102539447B1 (en) * | 2022-06-17 | 2023-06-02 | 국민대학교산학협력단 | Method for manufacturing optical filter, optical filter manufactured therefrom and light transmission solar cell module for greenhouse |
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