KR20060097711A - 칼라 필터의 직접 영상을 위한 시스템 및 방법 - Google Patents
칼라 필터의 직접 영상을 위한 시스템 및 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20060097711A KR20060097711A KR1020067005430A KR20067005430A KR20060097711A KR 20060097711 A KR20060097711 A KR 20060097711A KR 1020067005430 A KR1020067005430 A KR 1020067005430A KR 20067005430 A KR20067005430 A KR 20067005430A KR 20060097711 A KR20060097711 A KR 20060097711A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- laser beam
- panel
- pattern
- scanner
- scan direction
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
광감지 표면으로 스트라이프(stripe)의 레이저 직접 영상을 위한 시스템 및 방법이 광 감지 표면으로 레이저 광선 비임을 스캔함을 포함한다. 스트라이프 패턴은 펄스 레이저를 사용함으로써 노출되어지며, 추가 스트라이프 영역을 노출시키기 위해 상기 펄스 전달을 동기화 기킴으로써 노출되어진다. 선택적으로, 한 레이저가 회전된 패널위로 스캔되며, 병진이동 속도, 스캔닝 속도 그리고 회전 속도가 조정되어 스트라이프 각각을 노출시키고, 스트라이프 사이 영역들은 노출을 피할 수 있도록 한다.
Description
본 발명은 본원 명세서에서 참고로 인용되어 지는, 2003년 9월 22일자로 출원된 미국 가 특허 출원 제 60/503,887호에 관련한 것이다. 본 발명은 광감지 표면에서의 직접 영상 패턴을 위한 시스템 및 방법에 대한 것이며, 특히 평판 패널 디스플레이 기판 칼라 필터 패턴의 직접 영상에 대한 것이다.
TFT (박막 트랜지스터) 디스플레이와 같은 박판 디스플레이는 칼라 영상을 디스프레이 하기 위해 칼라 필터를 사용한다. 상기 칼라 필터는 빨강, 그린 그리고 블루의 세 칼라 각각을 포함한다. 상기 칼라 필터는 스트라이프 패턴인 고정 패턴으로 배열된다. 칼라 필터 각각은 패널상의 일정 픽셀에서 겹쳐진다. 상기 칼라 필터에 의해 기여된 위치 그리고 칼라에 따라 선택된 픽셀을 통하여 광선을 통과 시킴으로써 디스플레이에서 한 칼라 영상이 형성된다.
일반적으로, 포토 리소그래픽 처리가 사용되어 평판 디스플레이상에서 칼라 필터를 형성시키도록 한다. 적절히 다이(dye)된 광 감지 필터 재료가 바람직한 필터 패턴인, 스트라이프 패턴으로 선택적으로 배치되어 디벨로프된다. 대개, 상기 필터 재료의 노출되지 않은 부분은 제거되어, 칼라 필터만이 필요한 위치에 남아 있도록 한다. 마스크가 사용되어 상기 포토 감지 필터 재료 어느 부분이 노출되어질 것인지를 결정하도록 한다.
본원 발명은 평판 디스플레이에서 칼라 필터를 형성하기 위한 개선된 시스템 그리고 방법론을 제공하고자 하는 것이다.
본원 발명은 또한 스트립 패턴을 형성시키기 위해 광감지 재료를 선택적으로 노출시키기 위해 레이저 직접 영상 시스템 및 방법론, 특히 디지털 시스템 및 방법론을 사용하고자 하는 것이다.
본원 발명의 한 특징에 따라, 한 레이저 직접 영상 시스템은 상기 광감지 재료의 스트립 부분을 노출시키기 위해 상기 레이저의 에너지 사용을 최적으로 하도록 배치된다. 상기 최적화는 노출되어질 스트립의 위치로 상기 펄스의 전달을 타이밍함으로써 한 펄스 레이저를 사용하는 때 달성된다. 레이저 파워를 최적으로 하기 위한 또 다른 방법론은 상기 레이저를 온 및 오프로 변조시키지 않고 계속해서 각 스트립이 스캔될 수 있도록, 스캔닝중의 운반을 참작하도록 상기 스캔너를 기준으로 한 패널이 스캔될 수 있도록 방향을 정하는 것이다. 상기 스트라이프(가느다란 띠)의 방향 정하기, 스캔닝의 속도 그리고 노출되어질 패널과 상기 스캔너사이의 상대적인 운동 속도는 제 1 스트라이프의 스캐닝이 끝나는 때, 상기 레이저 광선이 되돌아 가서 노출되어질 다음의 스트라이프를 스캔하도록 조정이 되어 진다. 노출되어질 중간 부분은 자동으로 스킵된다.
본원 발명의 또다른 특징에 따라, 한 레이저 직접 영상 시스템은 한 광선을 한 스캔 방향으로 스캔하는 스캔너, 그리고 상기 스캔된 광선을 크로스 스캔 방향으로 편향시키는 편향기를 포함한다. 상기 크로스 스캔 방향으로 편향시킴은 상기 크로스 스캔 방향으로의 운반을 보상하도록 노출된 한 패널의 운반으로 조정된다. 적절한 편향기로는 음향-광학 편향기가 있으며, 이 같은 편향기에서 레이저 비임이 상기 변조기에서 한 음파 주파수의 함수로 편향된다.
본원 발명의 한 실시 예에 따라 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템 및 방법이 제공되며, 이는 레이저 비임을 출력시키는 레이저 비임 소스; 패널을 지지하는 지지 표면, 이때 상기 패널은 그 위에 형성된 패턴 엘리먼트 어레이를 포함하고, 상기 패널이 상기 패턴위에 놓여지는 광 감지 재료를 더욱 포함하는 바의 상기 지지 표면; 상기 광 감지 표면을 가로질러 한 스캔 경로를 따라 다수의 경로로 레이저 광선을 스캔하여 광 감지 재료의 일부를 노출시키도록 하는 스캔너; 그리고 상기 패널 그리고 스캔너사이의 상호 각도 방향 조정을 제공하여 상기 패널에서의 패턴 엘리먼트 열이 상기 패널과 스캔너가 서로 고정 위치관계로 있게 되는 때 상기 스캔 경로와 교차하도록 하는 회전기를 포함한다.
다양한 실시 예가 하나 또는 둘 이상의 다음 특징을 포함한다.
한 운반기가 크로스 스캔 방향으로 상기 스캔너와 패널사이 상호 상대적 병진 운동을 제공하도록 동작되며, 상기 크로스 스캔 방향은 상기 스캔 경로와 상호 교차된다.
상기 크로스 스캔 방향은 상기 스캔 경로를 가로지르게 된다.
상기 패널 회전기는 상기 패널을 정렬하여, 패턴 엘리먼트의 열이 상호 상대적인 병진 운동중 상기 유효 스캔 방향에 평행을 이루도록 한다.
상기 패널 회전기는 패널을 회전시키어, 상기 레이저 비임의 통과중 상기 레이저 비임이 패턴 엘리먼트 단일 열의 패턴 엘리먼트와 겹쳐지는 광 감지 표면 일부를 노출시킬 수 있도록 한다.
상호 상대적인 병진 운동 속도는 스캔닝 속도와 조정되어, 상기 레이저 비임의 각 경로에서 뒤이은 패턴 엘리먼트열의 패턴 엘리먼트와 겹쳐지는 광감지 표면이 상기 레이저 비임 각 경로에서 노출되어지도록 한다.
상기 레이저 비임 소스는 다수의 일시적으로 분리된 레이저 펄스에 의해 정해진 펄스된 레이저 비임을 출력시키며, 펄스 각각이 상기 광감지 표면의 겹쳐지는 한 부분을 노출시킨다. 선택에 따라, 상기 레이저 비임은 연속 파 레이저 비임이다.
상기 회전기는 상기 스캔너와 상관관계로 상기 패널을 회전시킨다. 선택적으로, 상기 스캔너는 상기 패널을 지지하는 지지 구조와 상관관계로 회전된다.
본원 발명의 또다른 실시 예에 따라, 한 패턴을 광 감지 표면으로 영상을 맺게 하기 위한 시스템이 제공되며, 이는 일시적으로 분리된 레이저 펄스 시퀀스에 의해 만들어지는 레이저 비임을 출력시키는 레이저 비임 소스; 그리고 한 스캔 방향으로 광감지 표면을 가로질러 상기 레이저 비임을 스캔닝하는 스캔너를 포함하며, 상기 스캔닝 및 레이저 펄스 시퀀스가 동기화되어, 영상되어질 한 패턴의 스캔 방향으로 레이저 펄스 각각을 한 비-연속 위치로 전달하도록 하는 시스템이 제공된다.
다양한 실시 예는 하나 또는 둘 이상의 다음의 특징을 포함한다.
상기 레이저 비임 소스는 Q-스위치 펄스 레이저이다.
상기 스캔너는 회전 폴리곤(rotating polygon)이다.
한 운반기가 상기 스캔너와 상기 광감지 표면사이 상호 상대적 병진운동을 제공한다.
한 시스템 제어기가 상기 레이저 비임을 규정하는 펄스의 펄스 속도, 상기 상호 상대적 병진 운동 속도, 그리고 스캔닝 속도 중 하나 이상을 제어한다.
상기 스캔너는 제 1 스캔내 펄스들을 노출될 제 1 열로 전달시키도록 하고, 그리고 제 2 스캔내 펄스들을 상기 노출될 제 1 열과 연속인 노출될 제 2 열로 전달하도록 동작된다.
상기 스캔너는 한 스트라이프를 형성시키기 위해 한 추가 영역을 노출시키도록 각 펄스를 전달시킨다.
영상되어질 상기 패턴은 한 평판 디스플레이에서 칼라 필터 스트라이프 패턴으로 구성된다.
본원 발명의 또다른 실시 예에 따라, 한 패턴을 광감지 표면으로 영상시키기 위한 한 시스템 및 방법이 제공되며, 이는 한 레이저 비임을 출력시키는 레이저 비임 소스; 한 스캔 방향으로 광감지 표면을 가로질러 상기 레이저 비임을 스캔닝하는 스캔너; 상기 스캔 방향을 가로지르는 크로스 스캔 방향으로 상기 스캔너와 광감지 표면사이 상호 상대적인 병진 운동을 제공하는 운반기; 그리고 상기 레이저 비임이 상기 스캔 방향으로 스캔되는 때 상기 상호 상대적 병진운동과 동기되어 상기 크로스 스캔 방향으로 레이저 비임을 편향시키는 레이저 비임 편향기를 포함한다.
하기에서는 첨부도면을 참조하여 본원 발명을 상세히 설명한다.
도 1은 본원 발명의 실시 예에 따라 광감지 재료내 스트립(strip)을 노출시키기 위한 도식적 도면.
도 2는 본원 발명의 다른 실시 예에 따라 광감지 재료내 스트립(strip)을 노출시키기 위한 도식적 도면.
도 3은 본원 발명의 또다른 실시 예에 따라 광감지 재료내 스트립(strip)을 노출시키기 위한 도식적 도면.
도 1에서는, 본 발명의 실시 예에 따라 광감지 재료내 스트립 패턴을 노출시키기 위한 시스템(10)에 대한 블록도가 도시된다. 본원 명세서에서 설명된 시스템 및 방법론은 적절한 광감지 재료내 스트립 패턴의 노출이 생각될 수 있기도 하지만, 평판 디스플레이의 일부인 칼라 필터 스트립을 생산하는 데 특히 적합하다.
평판 디스플레이는 픽셀 어레이를 포함한다. 한 칼라 필터가 상기 픽셀 각각과 연결된다. 한 영상이 상기 픽셀들로부터 광선을 선택적으로 출력시킴으로써 상기 패턴에 디스플레이되며, 픽셀 각각은 그 위치와 칼라에 따라 선택된다.
대개, 칼라 필터는 스트립으로 배치되며 칼라 필터 스트립 각각이 디스플레이 패털(12)에서 픽셀들의 열(또는 행)과 겹쳐진다. 상기 필터들은 다이(dye)된 광 감지 재료를 적절히 노출시킴으로써 생산된다.
본 발명의 한 실시 예에 따라, 레이저 직접 영상 기술이 사용되어 광감지 재료를 노출시키도록 한다. 본원 발명은 가령 레이저 직접 영상 시스템 DP(상표) 시리즈와 같은 스캔닝 레이저 직접 영상 장비(scanning laser direct imaging equipment)를 적절히 적용함으로써 수행될 수 있는 데, 상기 영상 장비는 Orbotech Ltd.(Yavne, Israel)에서 구입될 수 있다.
도 1에서 도시된 바와 같이, 본원 발명에 따라, 시스템(10)은 펄스 된 레이저 비임(22)을 출력시키는 펄스 된 레이저(20)를 포함한다. 펄스 된 레이저 비임(22)은 연속 비임이 아닌 일시적 분리 레이저 펄스(24) 시퀀스에 의해 규정된다. 가령 펄스 된 레이저 비임을 제공하기 위한 적절한 레이저는 California, U.S.A.에 소재하는 Coherent, Inc. 및 Spectra, Inc.를 포함하는 여러 레이저 공급처로부터 입수될 수 있는 Q-스위치 다이오드 펌프(Q-switch diode pumped) 고체 상태 레이저를 포함한다.
상기 레이저 펄스(24)는 적절한 프리스캔 광학 장치(26)를 통과하고, 다수의 면(30)을 갖는 회전 폴리곤과 같은 스캔너(28)에 충돌하도록 방향이 정해진다. 프리스캔 광학 장치(26)는 레이저 펄스(24) 각각이 패널(12)에서 필요한 크기와 형상을 갖는 부분을 노출시키도록, 레이저 비임(22)을 적절히 형성시키도록 선택된 다수의 렌즈(도시되지 않음)를 포함한다. 스캔너는 패널(12)상의 각기 다른 위치로 레이저 펄스 각각을 전달시킨다. 상기 레이저 펄스(24) 경로 각각은 점선으로 표시된다.
상기 스캔너 폴리건(28)이 화살표(32) 방향(스캔 방향)으로 회전함에 따라, 비임(22)이 상기 폴리건의 면(30) 하나에 충돌하며, 상기 비임을 스캔닝 광학 장치(34)를 통과하게 한다. 대개 스캔닝 광학장치(34)는 f-쎄타 스캔 렌즈 그리고 다른 광학적 엘리먼트(도시되지 않음)을 포함한다. 상기 폴리곤이 회전함에 따라, 비임(22)은 화살표(36)에 의해 표시된 스캔 방향으로 한 스캔 경로를 따라 스캔된다.
노출되어질 패턴에 해당하는 패턴 데이터(40)는 시스템 제어기(42)로 공급된다. 시스템 제어기(42)는 상기 스캔너(28) 폴리곤 회전 속도, 스캔너(28)와 상대적인 패널(12)의 상호 병진 이동 그리고 레이저 펄스 발생을 관리하는 클록을 제어한다. 도 1은 스캔너(28)가 고정되어 있는 동안 패널(12)을 화살표(46) 방향(크로스 스캔 방향)으로 이동시키는 병진 이동기를 도시하고 있으나, 실제 시스템 디자인은 반대로 스킨너(28)가 이동되는 동안 패널(12)이 고정 유지되도록 될 수 있기도 하다.
도 1에서는 펄스 발생기(50)에 의해 출력된 타이밍 신호(48)가 도시된다. 이들 타이밍 신호들은 레이저 비임(22)의 레이저 펄스(24)에 해당된다. 본원 발명에 따라, 레이저 펄스(24)가 스캔너(28) 폴리곤 회전과 동기되어, 레이저 펄스(24)가 패널(12)에서의 광감지 재료 추가 부분을 노출시키어 노출 영역(60)을 형성시키도록 한다. 스캔너(28) 연속 회전과 컴비네이션으로 레이저 펄스(24)들 사이 일시적 분리가 있기 때문에, 상기 노출된 영역(60) 각각은 다른 노출된 영역(60)과는 상호 비-연속적이다. 펄스 비임의 고유한 온-오프 변조, 즉 상기 비임이 "오프"인때 펄스들 사이의 시간은 상기 비임(22)을 한 노출 영역(60)으로부터 다음 노출 영역으 로 이동시키도록 사용된다.
스갠 경로가 끝나면, 즉 레이저 비임(22)이 스캔되어질 한 주기(swath) 끝에 도달하면(이는 패널 전 주기일 수도 있으나 그렇지 아니할 수도 있다), 스캔너(28) 폴리건 다음 면이 즉시 레이저 비임(22)을 스캔 경로의 시작으로 되돌리기 위한 장소로 회전하여진다. 레이저 비임(22)은 다시 상기 스캔 경로를 따라 스캔된다. 가령 패널 운반기(44)에 의해 제공된 패널(12)과 스캔너(28)사이의 상호 상대적인 병진운동 때문에, 이전에 스캔된 위치에 인접한, 패널(12)상의 새로운 위치가 이제 스캔된다. 따라서 스캔 경로 각각은 이전의 스캔 경로와 연속적이며, 이에 의해 노출된 영역(60) 각각으로 추가의 부분을 발생시키어 상기 노출 영역을 크로스 스캔 방향으로 한 스트립(strip)으로서 연장할 수 있도록 한다.
이제 도 2를 참고하면, 이는 본원 발명의 또 다른 실시 예에 따라 광감지 재료내 스트립 패턴을 노출시키기 위한 시스템의 블록도를 도시한 것이다. 상기 광감지 재료는 평판 디스플레이와 같은 패널(112)에서 칼라 필터를 만드는 데 적합한 다이 필터 재료를 포함한다. 상기 다이 필터 재료는 패널(112)에 이미 형성된 픽셀 패턴(113)위에 올려 놓여진다. 비록 시스템(110)과 시스템(10) 모두가 비-인접 스트립 패턴을 노출시키기 위해 레이저 직접 영상기를 광학적으로 사용하도록 구성되기는 하였으나, 시스템(110)은 스트립 각각을 연속적으로 노출시키는 반면, 시스템(10)은 스트립 각각에 추가의 영역을 노출시킨다.
도 2에서 도시된 바와 같이, 시스템(110)은 레이저 비임(122)을 출력시키는 레이저(120)를 포함하며, 상기 레이저 비임은 가령 Q-스위치 다이오드 펌프 고체 상태 레이저(California U.S.A.소재 Coherent, Inc. 및 Spectra Inc.를 포함하는 여러 레이저 공급자로부터 구입될 수 있다)에 의해 제공된 연속파 레이저 비임 또는 펄스 레이저 비임일 수 있다. 본원 발명의 실시 예에 따라, 펄스 레이저가 사용되는 때, 하기 설명되는 바와 같이 시스템 디자인(부분 크기, 스캔닝 속도, 그리고 상호 병진 운동 속도)은 상기 펄스 각각에 의해 노출된 부분이 서로 하나 이상의 다른 부분과 겹쳐져서 연속 스트립 노출을 보장할 수 있도록 할 필요가 있다.
레이저 비임(122)은 적당한 프리-스캔 광학장치(126)를 통과하며 다수의 면(130)을 갖는 회전 폴리곤과 같은 한 스캔너(128)에 충돌하도록 방향이 정하여 진다. 프리-스캔 광학장치(126)는 다수의 렌즈(도시되지 않음)를 포함하며, 이는 패널(112)에 연속 스트립을 노출시키기위해 레이저 비임(122)을 형성시키도록 선택된다.
상기 스캔너(128) 폴리곤이 화살표(32) 방향(상기 스캔 방향)으로 회전 하는 때, 비임(122)이 상기 폴리곤의 한 면(130)에 충돌하며, 상기 광선 비임이 스캔닝 광학 장치(134)를 통과하게 한다. 일반적으로, 스캔닝 광학 장치(134)는 f-쎄타 스캔 렌즈 그리고 다른 광학 엘리먼트(도시되지 않음)를 포함한다. 상기 폴리곤이 회전하는 때, 비임(122)은 화살표(136)에 의해 표시된 수직 스캔 방향으로 한 스캔 경로를 따라 스캔된다.
스캔닝중에, 패널(112) 그리고 스캔너(128)는 화살표(146)에 의해 표시된 크로스 스캔 방향으로 가령 한 병진운동기(144)에 의해 상호 상대적으로 병진운동된다. 스캔닝중에 상호 상대적인 병진운동 때문에 상기 스캔닝의 실제 방향은 화살표 (148)로 표시된 바와 같이 다소 비틀려 진다.
본원 발명의 한 특징에 따라, 회전기(150)는 스캔닝중 패널(112)과 스캔너(128)사이 상호 각도 오프셋을 만든다. 따라서, 패널(112)과 스캔너(128)의 상호 상대적 병진운동이 없게되면, 패턴내 패턴 엘리먼트 열(113)이 스캔 방향(136)에 해당하는 축과 교차한다. 패널(112)과 스캔너(128)사이 상호 상대적인 병진이동이 있게되면, 상기 실제 스캔 방향은 패턴 엘리먼트 열(113) 오리엔테이션과 매치하며, 이에의해 영역(160)의 연속 노출을 용이하게 한다.
도 2에서는, 노출되어질 패턴에 해당하는 패턴 데이터(140)가 시스템 제어기(142)로 공급된다. 시스템 제어기(142)는 스캔너(128)의 폴리곤 회전 속도, 스캔너(128)와 상대적인 패널(112)의 상호 병진 운동, 그리고 스캔너(128)와 상대적인 패널(112)의 회전 오리엔테이션 가운데 하나 이상을 제어한다.
도 2가 패널(112)을 화살표(146) 방향(크로스 스캔 방향)으로 패널(112)을 이동시키는 병진운동기(144)를 도시하고 있으나, 실제 시스템 디자인은 패널(112)이 고정되고 스캔너(128)가 이동될 수 있도록 될 수 있다. 상기 병진운동기는 가령 패널(112)이 공기 쿠션위에서 지지되거나, 패널(112)을 지지하는 지지 테이블을 이동시키도록 동작되는 동안, 패널(112)을 직접 이동시키도록 동작될 수 있다.
또한, 도 2에서는 패널(112)을 회전시키도록 동작하는 회전기(150)를 도시한다. 본원 발명의 실시 예에 따라 회전기(150)는 패널(112)에 직접 작용하도록 동작하거나, 패널(112)을 지지하는 지지 테이블(도시되지 않음) 직접 작용할 수 있으며, 혹은 패널(112)과 관련하여 스캔너(128)를 회전시키고, 패널(112)은 고정될 수 있기도 하다. 상기 회전기는 패널이 시스템(128)위에 올려져 있다면 동작될 수 있으며, 혹은 가령 픽크 및 위치 타입 로더(loader)의 일부로서, 시스템(110)에 올려 놓기 전에 패널(112)을 회전 시킬 수 있기도 하다.
시스템(110)은 한 스캔 경로가 끝나면, 즉 레이저 비임(122)이 스캔되어질 한 주기의 끝에 도달하는 때, 스캔너(128)내 폴리곤 다음 면이 상기 스캔 경로 시작으로 레이저 비임(122)을 즉시 되보내 도록 하기 위한 위치로 회전된다. 시스템 제어기(142)는 상기 병진 운동 속도 그리고 스캔닝 속도와 함께 패널(112)과 스캔너(128)의 적절한 상대적인 각도 오리엔테이션을 결정하여, 스캔 경로 각각이 노출되어질 스트라이프 영역(160)에 해당될 수 있으며 스트라이프들 사이 영역을 스킵할 수 있도록 한다.
이제 도 3에서는, 본 발명에 따라 광감지 재료내 스트립 패턴을 노출시키기 위한 도면이 도시된다. 상기 광감지 재료는 평판 디스플레이와 같은 패널(112)에 칼라 필터를 만들기위해 적합한 다이(dye) 필터 재료를 포함한다. 상기 다이 필터 재료는 앞서 패널(112)에 형성된 픽셀 패턴(113)위에 겹쳐진다.
도 3에서 도시된 실시 예에서, 시스템(210)은 크로스 스캔 방향으로 비임(122)을 편향시키도록 동작하는 시스템 제어기(142)와 연결되어 있는 광학적 크로스 스캔 편향기(370)를 포함한다는 것을 제외하고는 모든 면에서 시스템(110)과 동일하다. 따라서 본원 발명에 따라, 시스템 제어(142)는 비임(122) 편향 각도를 제어하여 패널(112)과 스캔너(128)사이 상호 상대적인 병진 운동을 보상하도록 한다. 편향기(370)에 의해 제공된 상기 보상은 도 2와 관련하여 상기에서 설명된 바의 패 널(112) 그리고 스캔너(128) 사이 상호 상대적인 회전을 대신하여 또는 그에 추가하여 있게 된다.
편향기(370)는 레이저 광선 비임(122)을 편향시키기 위해 한 음향파를 사용하는 음향 광학 편향기이다. 상기 편향의 크기는 당업자에게 알려진 바와 같이 편향기(370) 음향파 주파수를 변경시킴으로써 제어된다.
Claims (46)
- 레이저 비임을 출력시키는 레이저 비임 소스;패널을 지지하는 지지 표면, 이때 상기 패널은 그 위에 형성된 패턴 엘리먼트 어레이를 포함하고, 상기 패널이 상기 패턴위에 놓여지는 광 감지 재료를 더욱 포함하는 바의 상기 지지 표면;상기 광 감지 표면을 가로질러 한 스캔 경로를 따라 다수의 경로로 레이저 광선을 스캔하여 광 감지 재료의 일부를 노출시키도록 하는 스캔너; 그리고상기 패널 그리고 스캔너사이의 상호 각도 방향 조정(오리엔테이션)을 제공하여 상기 패널에서의 패턴 엘리먼트 열이 상기 패널과 스캔너가 서로 고정 위치관계로 있게 되는 때 상기 스캔 경로와 교차하도록 하는 회전기를 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 1항에 있어서, 한 운반기가 크로스 스캔 방향으로 상기 스캔너와 패널사이 상호 상대적 병진 운동을 제공하도록 동작되는 한 운반기를 더욱 포함하며, 상기 크로스 스캔 방향은 상기 스캔 경로와 교차하는 것임을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 2항에 있어서, 상기 크로스 스캔 방향은 상기 스캔 경로를 가로지르는 것임을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 2항에 있어서, 상기 패널 회전기는 상기 패널을 정렬하여, 패턴 엘리먼트의 열이 상호 상대적인 병진 운동중 상기 스캔 경로 방향에 평행을 이루도록 됨을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 1항에 있어서, 상기 패널 회전기는 패널을 회전시키어, 상기 레이저 비임의 통과중 상기 레이저 비임이 패턴 엘리먼트 단일 열의 패턴 엘리먼트와 겹쳐지는 광 감지 표면 일부를 노출시킬 수 있도록 함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 5항에 있어서, 상기 스캔너와 패널사이 상호 상대적인 병진운동을 제공하도록 동작되는 한 운반기를 더욱 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 6항에 있어서, 상호 상대적인 병진 운동 속도는 스캔닝 속도와 조정되어, 상기 레이저 비임의 통과시 뒤이은 패턴 엘리먼트열의 패턴 엘리먼트와 겹쳐지는 광감지 표면 일부가 노출될 수 있도록 함을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 7항에 있어서, 상기 뒤이은 패턴 엘리먼트 열이 하나 이상의 중간 패턴 엘리먼트 열에 의해 이전 패턴 엘리먼트 열로부터 분리됨을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 1항에 있어서, 상기 레이저 비임 소스는 다수의 일시적으로 분리된 레이저 펄스에 의해 정해진 펄스된 레이저 비임을 출력시킴을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 9항에 있어서, 상기 펄스 각각이 상기 광감지 표면의 일 부분을 노출시킴을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 10항에 있어서, 상기 광감지 표면 두 부분 이상이 상호 겹쳐지게 됨을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 1항에 있어서, 상기 레이저 비임 소스가 한 연속 파 레이저 비임을 출력함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 1항에 있어서, 상기 회전기가 상기 스캔너와 상관관계로 상기 패널을 회전시키도록 동작됨을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 1항에 있어서, 상기 회전기가 상기 패널을 지지하는 지지구조와 상관관계로 상기 스캔너를 회전시키도록 동작됨을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 레이저 비임을 출력시키고;패널을 지지하며, 이때 상기 패널은 그 위에 형성된 패턴 엘리먼트 어레이를 포함하고, 상기 패널이 상기 패턴위에 놓여지는 광 감지 재료를 더욱 포함하며;상기 광 감지 표면을 가로질러 한 스캔 경로를 따라 다수의 경로로 레이저 광선을 스캔하여 광 감지 재료의 일부를 노출시키도록 하고; 그리고상기 패널 그리고 스캔너사이의 상호 각도 방향 조정(오리엔테이션)을 제공하여 상기 패널에서의 패턴 엘리먼트 열이 상기 패널과 스캔너가 서로 고정 위치관계로 있게 되는 때 상기 스캔 경로와 교차하도록 함을 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 15항에 있어서, 크로스 스캔 방향으로 상기 스캔너와 패널사이 상호 상대적 병진 운동을 제공하도록 함을 더욱 포함하며, 상기 크로스 스캔 방향은 상기 스캔 경로와 교차하는 것임을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 16항에 있어서, 상기 크로스 스캔 방향은 상기 스캔 경로를 가로지르는 것임을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 16항에 있어서, 상기 상호 각도 방향 조정을 제공하는 것이 상기 패널을 정렬하여, 패턴 엘리먼트의 열이 상호 상대적인 병진 운동중 상기 스캔 경로 방향에 평행을 이루도록 함을 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 15항에 있어서, 상기 상호 각도 방향 조정을 제공하는 것이 상기 패널을 정렬하여, 상기 레이저 비임의 통과중 상기 레이저 비임이 패턴 엘리먼트 단일 열의 패턴 엘리먼트와 겹쳐지는 광 감지 표면 일부를 노출시킬 수 있도록 함을 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 19항에 있어서, 상기 스캔너와 패널사이 상호 상대적인 병진운동을 제공함을 더욱 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 20항에 있어서, 상기 상호 상대적인 병진 운동 속도와 스캔닝 속도를 조정함을 더욱 포함하여, 상기 레이저 비임의 통과시 뒤이은 패턴 엘리먼트열의 패턴 엘리먼트와 겹쳐지는 광감지 표면 일부가 노출될 수 있도록 함을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 21항에 있어서, 상기 뒤이은 패턴 엘리먼트 열이 하나 이상의 중간 패턴 엘리먼트 열에 의해 이전 패턴 엘리먼트 열로부터 분리됨을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 15항에 있어서, 상기 레이저 비임 소스가 펄스된 레이저 비임을 출력시킴을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 23항에 있어서, 상기 펄스 각각이 상기 광감지 표면의 일 부분을 노출시킴을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 24항에 있어서, 상기 광감지 표면 두 부분 이상이 상호 겹쳐지게 됨을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 15항에 있어서, 상기 레이저 비임 소스가 한 연속 파 레이저 비임을 출력함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 15항에 있어서, 상기 회전기가 상기 스캔너와 상관관계로 상기 패널을 회전시키도록 동작됨을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 15항에 있어서, 상기 회전기가 상기 패널을 지지하는 지지구조와 상관관계로 상기 스캔너를 회전시키도록 동작됨을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 일시적으로 분리된 레이저 펄스 시퀀스에 의해 만들어지는 레이저 비임을 출력시키는 레이저 비임 소스; 그리고한 스캔 방향으로 광감지 표면을 가로질러 상기 레이저 비임을 스캔닝하는 스캔너를 포함하며;상기 스캔닝 및 레이저 펄스 시퀀스가 동기화되어, 영상되어질 한 패턴의 스캔 방향으로 레이저 펄스 각각을 한 비-연속 위치로 전달하도록 함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 29항에 있어서, 상기 레이저 비임 소스가 Q-스위치 펄스 레이저임을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 29항에 있어서, 상기 스캔너는 회전 폴리곤(rotating polygon)임을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 29항에 있어서, 한 운반기가 상기 스캔너와 상기 광감지 표면사이 상호 상대적 병진운동을 제공함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 32항에 있어서, 상기 레이저 비임을 규정하는 펄스의 펄스 속도, 상기 상호 상대적 병진 운동 속도, 그리고 스캔닝 속도 중 하나 이상을 제어하는 한 시스템 제어기를 더욱 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 32항에 있어서, 상기 스캔너가 제 1 스캔내 펄스들을 노출될 제 1 열로 전달시키도록 하고, 그리고 제 2 스캔내 펄스들을 상기 노출될 제 1 열과 연속인 노출될 제 2 열로 전달하도록 동작됨을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 34항에 있어서, 상기 스캔너가 한 스트라이프(stripe)를 형성시키기 위해 한 추가 영역을 노출시키도록 각 펄스를 전달시킴을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 제 29항에 있어서, 상기 영상되어질 상기 패턴이 한 평판 디스플레이에서 칼라 필터 스트라이프 패턴으로 구성됨을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 일시적으로 분리된 레이저 펄스 시퀀스에 의해 만들어지는 레이저 비임을 출력시키고;한 스캔 방향으로 광감지 표면을 가로질러 상기 레이저 비임을 스캔닝하며; 그리고상기 스캔닝 및 레이저 펄스 시퀀스를 동기화하여, 영상되어질 한 패턴의 스캔 방향으로 레이저 펄스 각각을 한 비-연속 위치로 전달하도록 함을 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 37항에 있어서, 상기 레이저 비임을 출력시키는 것이 Q-스위치 펄스 레이저로부터 출력시킴을 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 37항에 있어서, 상기 스캔닝이 회전 폴리곤(rotating polygon)으로 부터 레이저를 반사시키는 것임을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 37항에 있어서, 한 스캔너와 상기 광감지 표면사이 상호 상대적 병진운동을 제공함을 더욱 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 40항에 있어서, 상기 레이저 비임을 규정하는 펄스의 펄스 속도, 상기 상호 상대적 병진 운동 속도, 그리고 스캔닝 속도 중 하나 이상을 제어함을 더욱 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 40항에 있어서, 상기 스캔닝이 제 1 스캔내 펄스들을 노출될 제 1 열로 전달시키고, 그리고 제 2 스캔내 펄스들을 상기 노출될 제 1 열과 연속인 노출될 제 2 열로 전달함을 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 42항에 있어서, 상기 스캔닝이 한 스트라이프(stripe)를 형성시키기 위해 한 추가 영역을 노출시키도록 각 펄스를 전달시킴을 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 제 37항에 있어서, 상기 영상되어질 상기 패턴이 한 평판 디스플레이에서 칼라 필터 스트라이프 패턴으로 구성됨을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법.
- 한 레이저 비임을 출력시키는 레이저 비임 소스;한 스캔 방향으로 광감지 표면을 가로질러 상기 레이저 비임을 스캔닝하는 스캔너; 상기 스캔 방향을 가로지르는 크로스 스캔 방향으로 상기 스캔너와 광감지 표면사이 상호 상대적인 병진 운동을 제공하는 운반기; 그리고상기 레이저 비임이 상기 스캔 방향으로 스캔되는 때 상기 상호 상대적 병진운동과 동기되어 상기 크로스 스캔 방향으로 레이저 비임을 편향시키는 레이저 비임 편향기를 포함함을 특징으로하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 시스템.
- 한 레이저 비임을 출력시키고;한 스캔 방향으로 광감지 표면을 가로질러 상기 레이저 비임을 스캔닝하며;상기 스캔 방향을 가로지르는 크로스 스캔 방향으로 상기 스캔너와 광감지 표면사이 상호 상대적인 병진 운동을 제공하고; 그리고상기 레이저 비임이 상기 스캔 방향으로 스캔되는 때 상기 상호 상대적 병진운동과 동기되어 상기 크로스 스캔 방향으로 레이저 비임을 편향시킴을 포함함을 특징으로 하는 광 감지 표면으로 패턴을 영상시키기 위한 방법..
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US50388703P | 2003-09-22 | 2003-09-22 | |
US60/503,887 | 2003-09-22 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060097711A true KR20060097711A (ko) | 2006-09-14 |
Family
ID=34375412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020067005430A KR20060097711A (ko) | 2003-09-22 | 2004-09-22 | 칼라 필터의 직접 영상을 위한 시스템 및 방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007506136A (ko) |
KR (1) | KR20060097711A (ko) |
TW (1) | TWI249083B (ko) |
WO (1) | WO2005029178A2 (ko) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013061363A (ja) * | 2010-01-22 | 2013-04-04 | Panasonic Corp | 描画装置 |
TWI400549B (zh) | 2010-06-01 | 2013-07-01 | Prime View Int Co Ltd | 彩色電泳顯示裝置之製造方法 |
CN102645809B (zh) * | 2011-02-22 | 2015-05-13 | 元太科技工业股份有限公司 | 彩色电泳显示装置的制造方法 |
US10149390B2 (en) | 2012-08-27 | 2018-12-04 | Mycronic AB | Maskless writing of a workpiece using a plurality of exposures having different focal planes using multiple DMDs |
WO2014140047A2 (en) * | 2013-03-12 | 2014-09-18 | Micronic Mydata AB | Method and device for writing photomasks with reduced mura errors |
TWI674484B (zh) * | 2014-04-01 | 2019-10-11 | 日商尼康股份有限公司 | 基板處理方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6624433B2 (en) * | 1994-02-22 | 2003-09-23 | Nikon Corporation | Method and apparatus for positioning substrate and the like |
JP3757430B2 (ja) * | 1994-02-22 | 2006-03-22 | 株式会社ニコン | 基板の位置決め装置及び露光装置 |
JPH08236419A (ja) * | 1995-02-24 | 1996-09-13 | Nikon Corp | 位置決め方法 |
US5853924A (en) * | 1994-12-26 | 1998-12-29 | Alps Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing color filters |
SE9800665D0 (sv) * | 1998-03-02 | 1998-03-02 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method for projection printing using a micromirror SLM |
US6552779B2 (en) * | 2000-05-25 | 2003-04-22 | Ball Semiconductor, Inc. | Flying image of a maskless exposure system |
US6560248B1 (en) * | 2000-06-08 | 2003-05-06 | Mania Barco Nv | System, method and article of manufacture for improved laser direct imaging a printed circuit board utilizing a mode locked laser and scophony operation |
WO2002054837A2 (en) * | 2001-01-04 | 2002-07-11 | Laser Imaging Systems Gmbh & Co. Kg | Direct pattern writer |
-
2004
- 2004-09-22 JP JP2006526809A patent/JP2007506136A/ja active Pending
- 2004-09-22 KR KR1020067005430A patent/KR20060097711A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-09-22 WO PCT/IL2004/000882 patent/WO2005029178A2/en active Application Filing
- 2004-10-06 TW TW093130239A patent/TWI249083B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI249083B (en) | 2006-02-11 |
WO2005029178A8 (en) | 2006-04-13 |
WO2005029178A2 (en) | 2005-03-31 |
JP2007506136A (ja) | 2007-03-15 |
WO2005029178A3 (en) | 2006-09-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100524002B1 (ko) | 패턴 묘화장치 및 패턴 묘화방법 | |
CN103329041B (zh) | 光学修剪的系统和方法 | |
US6674415B2 (en) | Image display device | |
KR101963488B1 (ko) | 패턴 묘화 장치, 패턴 묘화 방법, 디바이스 제조 방법, 레이저 광원 장치, 빔 주사 장치 및 빔 주사 방법 | |
US20090066926A1 (en) | Image forming method and apparatus | |
JPH06100829B2 (ja) | 大面積光源用の光変調器 | |
JP2004518168A (ja) | インターレース光ビーム走査式の光ビームディスプレイ | |
EP0485166A2 (en) | Flying spot scanners | |
JPH0527086B2 (ko) | ||
EP0463102B1 (en) | System for plotting or scanning graphic images | |
US6753898B2 (en) | Method and apparatus for high speed digitized exposure | |
KR20060097711A (ko) | 칼라 필터의 직접 영상을 위한 시스템 및 방법 | |
WO1997028002A1 (en) | High resolution imaging system and method of imaging using the same | |
JP2004326076A (ja) | パターン描画装置 | |
US7126624B2 (en) | Image recording method and image recording apparatus | |
DE60042850D1 (de) | Rasteranzeige mit geschalteter zuführung und distortionskorrektur | |
US6590632B2 (en) | Image recording method and image recording apparatus | |
KR101094468B1 (ko) | 노광 패턴 형성 방법 | |
JP2704080B2 (ja) | 立体画像記録方法および立体画像記録装置 | |
JP2000180779A (ja) | プロジェクタ装置 | |
JP6870755B2 (ja) | パターン描画方法 | |
JP2005010468A (ja) | パターン描画装置およびパターン描画方法 | |
US6700597B2 (en) | Two dimensional scanning image recording method and image recording apparatus with two-dimensionally disposed light source elements | |
JP2788770B2 (ja) | レーザ表示装置 | |
JP2017107036A (ja) | パターン描画装置、およびパターン描画方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |