KR20060079465A - 광 중심축을 용이하게 조절할 수 있는 반도체 검사 광학장치 - Google Patents

광 중심축을 용이하게 조절할 수 있는 반도체 검사 광학장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20060079465A
KR20060079465A KR1020040117669A KR20040117669A KR20060079465A KR 20060079465 A KR20060079465 A KR 20060079465A KR 1020040117669 A KR1020040117669 A KR 1020040117669A KR 20040117669 A KR20040117669 A KR 20040117669A KR 20060079465 A KR20060079465 A KR 20060079465A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
objective lens
axis
optical
adjusting plate
plate
Prior art date
Application number
KR1020040117669A
Other languages
English (en)
Inventor
양대석
Original Assignee
동부일렉트로닉스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동부일렉트로닉스 주식회사 filed Critical 동부일렉트로닉스 주식회사
Priority to KR1020040117669A priority Critical patent/KR20060079465A/ko
Publication of KR20060079465A publication Critical patent/KR20060079465A/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/9501Semiconductor wafers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N2021/0106General arrangement of respective parts

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Optical Head (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 검사 광학 장치에 관한 것으로, 대물렌즈와; 상기 대물렌즈와 상하로 결합되어 상기 대물렌즈의 광 중심축을 제1 방향으로 조절할 수 있는 제1 조절판과; 상기 제1 조절판과 상하로 결합되어 상기 대물렌즈의 광 중심축을 상기 제1 방향과는 직교하는 제2 방향으로 조절할 수 있는 제2 조절판과; 상기 제2 조절판과 상하로 결합되어 상기 대물렌즈를 터릿 하우징에 고정 결합시키는 고정 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 터릿 하우징에 배율이 다른 다수개의 대물렌즈가 고정 결합되는데, 대물렌즈는 대물렌즈의 광 중심축을 X축 및 Y축 방향으로 조정할 수 있는 조절판과 결합된다. 즉, 터릿 하우징에 유동 가능한 대물렌즈가 결합됨으로써 대물렌즈의 광 중심축 얼라인이 틀어져 있는 경우 대물렌즈를 터릿 하우징으로부터 분리할 필요없이 조절판을 적절히 조절함으로써 대물렌즈의 광 중심축을 재조정할 수 있다.
반도체, 광학 장치, 터릿 결합체, 대물렌즈

Description

광 중심축을 용이하게 조절할 수 있는 반도체 검사 광학 장치{SEMICONDUCTOR INSPECTION OPTICAL APPARATUS FOR ALIGNING OPTICAL AXIS EASILY}
도 1은 종래 기술에 따른 반도체 검사 광학 장치의 대물렌즈와 고정 플레이트를 도시한 사시도 및 평면도.
도 2는 종래 기술에 따른 반도체 검사 광학 장치의 터릿 결합체를 도시한 사시도.
도 3은 본 발명의 구현예에 따른 반도체 검사 광학 장치의 대물렌즈와 X축 조절판과 Y축 조절판을 도시한 사시도 및 평면도.
도 4는 본 발명의 구현예에 따른 반도체 검사 광학 장치의 대물렌즈와 조절판과의 결합체를 도시한 사시도.
도 5는 본 발명의 구현예에 따른 반도체 검사 광학 장치의 터릿 결합체를 도시한 사시도.
< 도면의 주요 부호에 대한 설명 >
100; 터릿 결합체 200a; X축 조절판
200b; Y축 조절판 210a; X축 조절 장치
210b; Y축 조절 장치 300; 고정 플레이트
400; 터릿 하우징
본 발명은 반도체 검사 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 광 중심축을용이하게 조절할 수 있는 반도체 검사 광학 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자 제조 공정에서는 실리콘 웨이퍼 상에 산화 공정, 식각 공정, 확산 공정 및 금속 공정 등의 웨이퍼 가공 공정을 반복 진행하여 특정의 회로 패턴을 형성한 후, 후속하는 와이어 본딩 공정 및 몰딩 공정 등으로 반도체 소자를 제작한다.
이러한 웨이퍼 가공 공정시 웨이퍼 상에 형성된 불량 패턴, 막질의 불량 식각, 콘택홀의 불량, 배선의 단락이나 단선 등으로 인해 웨이퍼 상에 다수의 결함이 발생할 수 있다. 이러한 결함이 발생한 웨이퍼는 분석 과정을 통해 골라내게 되는데, 이는 결함이 웨이퍼는 반도체 소자로 제작되는 경우 필연적으로 동작 불량을 야기할 수 있기 때문이다.
웨이퍼 분석 및 검사 과정에는 광학 장치가 사용되는데, 종래에는 도 1에 도시된 바와 같이, 대물렌즈(10)가 고정 플레이트(20)에 스크류(30)에 의해 연결된다. 고정 플레이트(20)에 연결된 대물렌즈(10)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 터릿 하우징(40)에 각 배율별로 고정 결합된다.
그런데, 종래에는 대물렌즈(10)가 터릿 하우징(40)에 한 번 고정되면 분리 이 외에는 다시 조정하기가 불가능하였다. 따라서, 광 중심축 얼라인이 틀어질 경우 대물렌즈(10)를 터릿 하우징(40)에서 분리한 후 다시 터릿 하우징(40)에 연결함으로써 광 중심축 얼라인을 재조정하여야 했다. 이에 따라, 광 중심축 얼라인을 재조정하는데에는 비교적 많은 시간이 필요했으므로 장비의 운용 효율성이 떨어지고 이는 결국 생산량 향상에 악영향을 미치는 문제점이 있었다.
이에 본 발명은 상술한 종래 기술상의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 광 중심축 얼라인에 소요되는 시간을 줄여 장비의 운용 효율성을 향상시킬 수 있는 반도체 검사 광학 장치를 제공함에 있다.
본 발명의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 검사 광학 장치는 대물렌즈를 터릿 하우징에서 분리할 필요없이 광 중심축 얼라인을 재조정할 수 있는 것을 특징으로 한다.
상기 특징을 실현할 수 있는 본 발명의 구현예에 따른 반도체 검사 광학 장치는, 대물렌즈와; 상기 대물렌즈와 상하로 결합되어 상기 대물렌즈의 광 중심축을 제1 방향으로 조절할 수 있는 제1 조절판과; 상기 제1 조절판과 상하로 결합되어 상기 대물렌즈의 광 중심축을 상기 제1 방향과는 직교하는 제2 방향으로 조절할 수 있는 제2 조절판과; 상기 제2 조절판과 상하로 결합되어 상기 대물렌즈를 터릿 하우징에 고정 결합시키는 고정 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 구현예에서 상기 제1 조절판은 상기 대물렌즈의 광 중심축을 상 기 제1 방향으로 조절할 수 있는 나사산이 형성된 긴 막대 형태의 조절 장치를 측면에 구비하고, 상기 제2 조절판은 상기 대물렌즈의 광 중심축을 상기 제2 방향으로 조절할 수 있는 나사산이 형성된 긴 막대 형태의 조절 장치를 측면에 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 구현예에서 상기 대물렌즈는 상기 터릿 하우징에 다수개 고정 결합되고, 상기 다수개의 대물렌즈는 그 배율이 각각 서로 상이하고, 상기 배율이 각각 상이한 다수개의 대물렌즈는 상기 제1 조절판과 상기 제2 조절판에 의해 그 광 중심축이 각각 독립적으로 조절되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 터릿 하우징에 배율이 다른 다수개의 대물렌즈가 고정 결합되는데, 대물렌즈는 대물렌즈의 광 중심축을 X축 및 Y축 방향으로 조정할 수 있는 조절판과 결합된다. 즉, 터릿 하우징에 유동 가능한 대물렌즈가 결합됨으로써 대물렌즈의 광 중심축 얼라인이 틀어져 있는 경우 대물렌즈를 터릿 하우징으로부터 분리할 필요없이 조절판을 적절히 조절함으로써 대물렌즈의 광 중심축을 재조정할 수 있다. 이에 따라, 대물렌즈의 광 중심축 얼라인의 재조정에 소요되는 시간을 줄일 수 있고, 반도체 검사 광학 장치에서 문제가 발생하는 경우 복잡한 작업에 따른 일로 인한 다른 작업상의 실수를 사전에 방지할 수 있다.
이하, 본 발명의 구현예에 따른 반도체 검사 광학 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
구현예
도 3은 본 발명의 구현예에 따른 반도체 검사 광학 장치의 대물렌즈와 X축 조절판과 Y축 조절판을 도시한 사시도 및 평면도이다.
도 3을 참조하면, 본 구현예예의 반도체 검사 광학 장치는 대물렌즈(100)와, 대물렌즈(100)의 광 중심축을 특정 방향, 가령 X축 방향(좌우 방향)으로 조절할 수 있는 X축 조절판(200a)과, 대물렌즈(100)의 광 중심축을 상술한 특정 방향과는 직교하는 방향, 즉 Y축 방향(전후 방향)으로 조절할 수 있는 Y축 조절판(200b)을 포함하여 구성된다.
대물렌즈(100)는 소정의 배율을 가지며, X축 조절판(200a) 및 Y축 조절판(200b)과는 상하로 적층하여 결합된다. X축 조절판(200a)에는 대물렌즈(100)의 광 중심축을 X축으로 재조정 할 수 있는 나사산이 형성되어 있는 긴 막대 형태의 조절 장치(210a)가 구비되어 있다. 유사하게, Y축 조절판(200b)에는 대물렌즈(100)의 광 중심축을 Y축으로 재조정 할 수 있는 나사산이 형성되어 있는 긴 막대 형태의 조절 장치(210b)가 구비되어 있다.
X축 조절판(200a)의 조절 장치(210a)와 Y축 조절판(200b)의 조절 장치(210b)는 각각 독립적으로 동작한다. 따라서, X축 조절판(200a)이 동작하여 대물렌즈(100)의 광 중심축을 X축 방향으로 조절하더라도 Y축 조절판(200b)의 광 중심축 조절에는 영향을 미치지 아니하여 대물렌즈(200)의 광 중심축은 Y축 방향으로는 변화되지 않는다. 유사하게, Y축 조절판(200b)이 동작하여 대물렌즈(100)의 광 중심축을 Y축 방향으로 조절하더라도 X축 조절판(200a)의 광 중심축 조절에는 영향을 미치지 아니하여 대물렌즈(200)의 광 중심축은 X축 방향으로는 변화되지 않는다.
도 4는 본 발명의 구현예에 따른 반도체 검사 광학 장치의 대물렌즈와 조절판과의 결합체를 도시한 사시도이다.
도 4를 참조하면, 대물렌즈(100)는 X축 조절판(200a) 상에 결합되고, X축 조절판(200a)은 Y축 조절판(200b) 상에 결합된다. 그리고, Y축 조절판(200b)은 대물렌즈(100)를 터릿 하우징(도 5의 400)에 고정 결합하기 위한 고정 플레이트(300)에 결합된다. 대물렌즈(100)가 X축 조절판(200a) 상에 장착되면, X축 조절판(200a)의 조절 장치(210a)와 Y축 조절판(200b)의 조절 장치(210b)를 적절히 조정하여 대물렌즈(100)의 광 중심축을 조정한다.
이와 다르게, 대물렌즈(100)가 Y축 조절판(200b) 상에 결합되고, Y축 조절판(200b)이 X축 조절판(200b) 상에 결합될 수 있다. 즉, X축 조절판(200a)과 Y축 조절판(200b)의 상하 적층 결합순서는 임의적이다.
만일, 광학 장치의 사용 중에 여하한 이유에 의해 대물렌즈(100)의 광 중심축이 원래의 위치에서 X축 방향으로 어긋나 있다면 X축 조절판(200a)의 조절 장치(210a)을 동작시켜 대물렌즈(100)의 광 중심축을 원래의 위치로 조정한다. 유사하게, 대물렌즈(100)의 광 중심축이 원래의 위치에서 Y축 방향으로 어긋나 있다면 Y축 조절판(200b)의 조절 장치(210b)를 동작시켜 대물렌즈(100)의 광 중심축을 원래의 위치로 조정한다. 한편, 대물렌즈(100)의 광 중심축이 원래의 위치에서 사선 방향, 즉 X축 및 Y축과의 합의 방향으로 어긋나 있다면 X축 조절판(200a)의 조절 장치(210a)와 Y축 조절판(200b)의 조절 장치(220b)를 모두 동작시켜 대물렌즈(100)의 광 중심축을 원래의 위치로 조정한다.
도 5는 본 발명의 구현예에 따른 반도체 검사 광학 장치의 터릿 결합체를 도시한 사시도이다.
도 5를 참조하면, X축 조절판(200a) 및 Y축 조절판(200b)과 결합된 대물렌즈(100)는 고정 플레이트(300)에 의해 터릿 하우징(400)에 고정 결합된다. 터릿 하우징(400)에 고정 결합된 대물렌즈(100)는 배율에 따라 다수개가 고정 결합될 수 있다. 그리고, 각각의 대물렌즈(100)는 X축 조절판(200a)과 Y축 조절판(200b)에 의해 다른 대물렌즈와는 독립적으로 그 광 중심축이 조절된다.
위와 같이 구성된 반도체 검사 광학 장치는 다음과 같이 동작한다.
반도체 검사 광학 장치를 사용하는 도중에 대물렌즈(100)의 광 중심축이 원래의 위치에서 벗어나면 대물렌즈(100)를 터릿 하우징(400)으로부터 분리할 필요없이 X축 조절판(200a)과 Y축 조절판(200b) 중에서 어느 하나 또는 양자 모두를 동작시켜 대물렌즈(100)의 광 중심축을 원래의 위치로 재조정할 수 있다.
구체적으로, 대물렌즈(200)의 광 중심축이 X축 방향(예, 원래의 광 중심축 위치에서 좌우 방향)으로 벗어나 있으면 X축 조절판(200a)으로 대물렌즈(100)의 광 중심축을 재조정한다. 대물렌즈(200)의 광 중심축이 Y축 방향(예, 원래의 광 중심축 위치에서 전후 방향)으로 벗어나 있으면 Y축 조절판(200b)으로 대물렌즈(100)의 광 중심축을 재조정한다. 대물렌즈(200)의 광 중심축이 X축 및 Y축의 합 방향(예, 원래의 광 중심축 위치에서 사선 방향)으로 벗어나 있으면 X축 조절판(200a)과 Y축 조절판(200b)으로 대물렌즈(100)의 광 중심축을 재조정한다.
지금까지 본 발명의 구체적인 구현예를 도면을 참조로 설명하였지만 이것은 본 발명이 속하는 기술분야에서 평균적 지식을 가진 자가 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것이고 발명의 기술적 범위를 제한하기 위한 것이 아니다. 따라서 본 발명의 기술적 범위는 특허청구범위에 기재된 사항에 의하여 정하여지며, 도면을 참조로 설명한 구현예는 본 발명의 기술적 사상과 범위 내에서 얼마든지 변형하거나 수정할 수 있다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 검사 광학 장치에 의하면, 터릿 하우징에 배율이 다른 다수개의 대물렌즈가 고정 결합되는데, 대물렌즈는 대물렌즈의 광 중심축을 X축 및 Y축 방향으로 조정할 수 있는 조절판과 결합된다. 즉, 터릿 하우징에 유동 가능한 대물렌즈가 결합됨으로써 대물렌즈의 광 중심축 얼라인이 틀어져 있는 경우 대물렌즈를 터릿 하우징으로부터 분리할 필요없이 조절판을 적절히 조절함으로써 대물렌즈의 광 중심축을 재조정할 수 있다.
이에 따라, 대물렌즈의 광 중심축 얼라인의 재조정에 소요되는 시간을 줄일 수 있어서 반도체 검사 광학 장치의 운용 효율성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 게다가, 반도체 검사 광학 장치에서 문제가 발생하는 경우 복잡한 작업에 따른 일로 인한 다른 작업상의 실수를 사전에 방지하여 장치 가동율을 향상시킬 수 있는 효과도 있다.

Claims (3)

  1. 대물렌즈와;
    상기 대물렌즈와 상하로 결합되어 상기 대물렌즈의 광 중심축을 제1 방향으로 조절할 수 있는 제1 조절판과;
    상기 제1 조절판과 상하로 결합되어 상기 대물렌즈의 광 중심축을 상기 제1 방향과는 직교하는 제2 방향으로 조절할 수 있는 제2 조절판과;
    상기 제2 조절판과 상하로 결합되어 상기 대물렌즈를 터릿 하우징에 고정 결합시키는 고정 플레이트;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 조절판은 상기 대물렌즈의 광 중심축을 상기 제1 방향으로 조절할 수 있는 나사산이 형성된 긴 막대 형태의 조절 장치를 측면에 구비하고,
    상기 제2 조절판은 상기 대물렌즈의 광 중심축을 상기 제2 방향으로 조절할 수 있는 나사산이 형성된 긴 막대 형태의 조절 장치를 측면에 구비하는,
    것을 특징으로 하는 광학 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 대물렌즈는 상기 터릿 하우징에 다수개 고정 결합되고,
    상기 다수개의 대물렌즈는 그 배율이 각각 서로 상이하고,
    상기 배율이 각각 상이한 다수개의 대물렌즈는 상기 제1 조절판과 상기 제2 조절판에 의해 그 광 중심축이 각각 독립적으로 조절되는,
    것을 특징으로 하는 광학 장치.
KR1020040117669A 2004-12-31 2004-12-31 광 중심축을 용이하게 조절할 수 있는 반도체 검사 광학장치 KR20060079465A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040117669A KR20060079465A (ko) 2004-12-31 2004-12-31 광 중심축을 용이하게 조절할 수 있는 반도체 검사 광학장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040117669A KR20060079465A (ko) 2004-12-31 2004-12-31 광 중심축을 용이하게 조절할 수 있는 반도체 검사 광학장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060079465A true KR20060079465A (ko) 2006-07-06

Family

ID=37171096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040117669A KR20060079465A (ko) 2004-12-31 2004-12-31 광 중심축을 용이하게 조절할 수 있는 반도체 검사 광학장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060079465A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170023692A (ko) 2015-08-24 2017-03-06 나노스코프시스템즈 주식회사 곡선 터렛

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170023692A (ko) 2015-08-24 2017-03-06 나노스코프시스템즈 주식회사 곡선 터렛

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8294480B2 (en) Inspection apparatus having alignment mechanism
TWI548950B (zh) 微影系統及在該微影系統內處理基板之方法
JP2004503934A (ja) 基板カセットのホルダー及び該ホルダーを備えたデバイス
US20150026953A1 (en) Mechanical Alignment Of Substrates To A Mask
TW201440170A (zh) 固持器、光刻裝置及製造物品的方法
CN116547223A (zh) 薄型光学装置的最小接触保持
KR101360954B1 (ko) 레벨링 성능이 향상된 마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치
KR20060079465A (ko) 광 중심축을 용이하게 조절할 수 있는 반도체 검사 광학장치
JP2006210754A (ja) 露光装置
JP2013058593A (ja) 半導体レーザ素子の製造装置および製造方法
US6043864A (en) Alignment method and apparatus using previous layer calculation data to solve critical alignment problems
TWI776339B (zh) 半導體製程中的光學檢測設備
JP2007317744A (ja) 露光装置および露光装置の自己診断方法
JP3029694B2 (ja) 半導体ウエハ処理装置
US20240038571A1 (en) Vacuum chuck
KR20100029428A (ko) 카세트인덱서 티칭 지그
JPH1197327A (ja) 露光装置のマスク取付機構
KR102021055B1 (ko) 마스크 기판 얼라이너, 이를 구비한 증착장치, 그 제어방법 및 마스크 기판 얼라인 방법
JPH0574681A (ja) 縮小投影露光装置
JPH06334022A (ja) 半導体位置決め方法
JP2015050199A (ja) 基準面を用いて露光対象物を高速位置決めする露光装置
KR20230014321A (ko) 다이 본딩 방법 및 다이 본딩 장치
KR19990079609A (ko) 반도체기판 정렬설비 및 이를 이용한 반도체 기판 정렬방법
KR100871746B1 (ko) 웨이퍼 에지의 디포커스를 방지하는 노광방법
KR200280908Y1 (ko) 스테퍼용 웨이퍼척

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination