상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 용융아연도금강판은,
난도금 성분을 포함하는 소재강판과 용융아연도금층의 사이에 0.1~1㎛ 두께의 철산화물층이 존재하고,
상기 철산화물층은 10000배율로 관찰한 기공율(porosity)이 5~30%로 이루어진다.
본 발명에 따르면, 10000배율로 관찰한 상기 기공의 크기는 0.2~1㎛가 바람직하다. 또한, 상기 철산화물층은 우수타이트계(FeO)가 바람직하다. 본 발명에 적용될 수 있는 강판은 난도금 성분이 포함된 것이면 모두 적용될 수 있으며, 그 예로는 Si, Mn, P, Cr 등이 포함된 강이다. 구체적으로 예를 들면 , 상기 Si의 함량은 0.01~3.0중량%이고, 상기 Mn의 함량은 0.01~3.0중량%일 수 있다. 본 발명은 소둔열처리를 하는 냉연강판에 적용되는 것이 바람직하다. 본 발명에서 용융아연도금층은 합금화 용융아연도금층도 포함되는 것이다.
또한, 본 발명의 용융아연도금강판의 제조방법은, 난도금 성분을 포함하는 소재강판을 로내 산소 농도가 1.0~21vol%인 조건에서 산화 열처리하여 마그네타이트의 철산화물을 형성하는 단계,
상기 산화 열처리한 강판을 수소농도가 5~20vol%인 환원분위기에서 열처리하여 우수타이트의 철산화물층을 형성하는 단계,
상기 열처리한 강판을 용융아연도금하는 단계를 포함하여 이루어진다.
본 발명에 따르면, 상기 산화열처리에서는 0.2~2㎛ 두께의 철산화물을 잔존시키고, 상기 환원분위기에서 열처리는 강판의 표층에 두께가 0.1~1㎛이고 10000배율로 관찰한 기공율(porosity)이 5~30%인 철산화물층이 잔존하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 10000배율로 관찰한 상기 기공의 크기는 0.2~1㎛가 바람직하다. 또한, 상기 용융아연도금처리한 강판은 합금화열처리가 추가로 행해질 수 있 다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명자들은 산화환원법을 난도금재의 생산에 적용하기 위한 연구와 실험과정에서 아연도금층과 강판의 사이에 철산화층이 잔존하는 경우에 도리어 도금부착성이 개선되는 새로운 사실을 확인하였다. 즉, 10000배의 고배율로 철산화물층을 관찰한 결과, 도금부착성이 우수한 제품에서는 철산화물층에 미세한 기공이 잔존하는데, 이 미세기공의 잠금효과(locking)에 의해 아연도금층의 부착성이 개선되는 것이다. 이러한 철산화물층의 미세기공은 저배율로는 관찰하기 어려운 것이었다.
따라서, 본 발명자들은 아연도금 부착성에 긍정적인 영향을 미치는 철산화물층의 특성을 면밀하게 분석하고 그러한 철산화물층을 확보하기 위한 방안에 대해 집중적인 연구를 진행한 결과 다음과 같은 결론에 이르게 되었다.
본 발명에서 철산화물층에서 미세기공의 잠금효과는 철산화물층의 두께, 미세기공의 조건 및 철산화물층의 상(phase)이 적절히 만족할 때 발휘된다. 이러한 조건을 만족하는 철산화물층은 산화환원법에 의해 확보할 수 있으며, 적절한 산화환원열처리 공정의 제어로 얻어질 수 있다는 것이다. 이를 구체적으로 설명한다.
[1] 철산화물층의 조건
본 발명에서는 강판의 표층에 철산화물층을 의도적으로 형성하여 Si 등의 표면농화를 적극적으로 차단하여 아연도금층의 젖음성을 확보하는 것과 함께, 상기 철산화물층의 미세기공에 의한 잠금효과에 의해 아연도금 부착성을 확보하는데 특징이 있다. 이를 위해서는 아연도금층의 잠금효과를 확보하면서 철산화물층 자체의 부착특성을 확보하는 것이 중요하다.
미세기공에 의한 잠금효과는 철산화물층의 두께와 기공율이 중요한 영향을 미친다. 나아가, 철산화물층의 기공이 크기가 0.2~1㎛로 될 때 도금부착성은 보다 확실하게 확보될 수 있다. 1㎛ 초과의 기공의 경우에는 기공의 주변에 취약한 헤마타이트상(Fe2O3)이 존재하여 도금층이 쉽게 박리될 수 있다. 또한, 철산화물층의 상은 우수타이트(FeO) 상으로 될 때 철산화물층 자체의 부착성이 확보되어 전체 도금층의 부착성을 보다 증진할 수 있다.
[2] 산화환원법
본 발명에서는 산화환원법을 적용하여 원하는 미세기공을 갖는 철산화물층을 부여한다. 본 발명에 따른 철산화물층의 두께, 기공율과 기공의 크기 및 철산화물층의 상(phase)은 산화열처리와 환원열처리의 조건에 의해 얻어진다. 즉, 용융아연 도금의 연속공정에서 소둔로를 산화대와 환원대로 구분할 때, 산화대의 열처리에서 적정한 두께와 상(phase)을 갖는 철산화물층을 잔존시키면서 환원대의 열처리를 적절하게 제어할 때 원하는 기공조건을 갖는 철산화물층을 아연도금층과 강판사 이에 잔존시킬 수 있다.
본 발명에서는 산화열처리에서 마그네타이트(Fe3O4)의 철산화물층을 얻고 환원열처리에서 마그네타이트를 우수타이트(FeO)로 환원하여 목적하는 미세기공을 갖는 우수타이트 철산화물층을 확보하여 도금부착성을 확보할 수 있다. 산화열처리공정에서 형성된 마그네타이트를 환원열처리하여 우스타이트로 환원하면 상변태와 산소농도의 변화에 따른 체적변화에 의해 기공이 형성된다.
이하에서 본 발명에 대해 보다 구체적으로 설명한다.
본 발명의 대상이 되는 강판은 표면에 농화하여 용융아연과의 젖음성이 좋지 않는 난도금 성분이 포함된 강판이다. 난도금 성분은 Si, Mn, Cr, P 등이 알려져 있다. 용융도금의 젖음성이 문제로 산화환원공정의 채택이 우선적으로 고려되는 난도금 성분은 Si, Mn이다. 산화환원공정의 적용이 고려되는 Si의 함량은 0.01~3.0중량%이고, Mn의 함량은 0.01~3.0중량% 수준이다. 물론, Si, Mn외에도 용융아연도금과의 난도금문제로 산화환원공정의 적용이 고려되는 난도금 성분이 첨가된 강판이라면 본 발명의 적용이 가능하다. 본 발명의 대상이 되는 강판은 냉연강판이 바람직하다.
본 발명에서는 강판과 용융아연 도금층의 사이에 철산화물층이 존재하는데, 특징이 있다.
상기 철산화물층의 두께는 0.1~1㎛가 바람직하다. 철산화물층의 두께가 0.1㎛미만의 경우에는 철산화물층의 두께가 너무 얇아 잠금효과가 부족하다. 또한, 철산화물층의 두께가 1㎛ 초과의 경우에는 철산화물층 자체의 밀착성이 좋지 않다.
상기한 철산화물층의 미세기공 (면적분율)은 5~30%로 하는 것이 중요하다. 또한, 미세기공의 크기는 0.2~1㎛가 바람직하다. 본 발명에서 미세기공의 기공율과 기공의 크기는 10000배의 고배율로 관찰한 것이다. 저배율로 관찰하는 경우에는 본 발명에서 특정하는 미세기공이 관찰되지 않을 수 있다.
미세기공율이 5%미만의 경우에는 기공에 의한 잠금효과(locking)를 확보하기 어려우며, 30%초과의 경우에는 기공의 너무 많아지기 때문에 Si, Mn등의 표면농화에 의한 미도금의 생길 우려가 있다. 또한, 기공의 크기가 0.2㎛미만으로 너무 작으면 잠금효과가 부족하고, 1㎛ 초과의 경우에는 그 기공의 철산화물층이 취약한 상(Fe2O3)으로 존재하여 도금층이 쉽게 박리될 수 있다.
본 발명에서 철산화물층의 상(phase)은 강판부착성에 좋은 우수타이트(FeO)가 바람직하다.
다음으로 본 발명의 용융아연도금 강판의 제조방법을 설명한다.
본 발명에서는 강판을 소둔로의 산화대와 환원대를 거친 다음에 용융아연도금하는 연속적인 제조공정에서 산화대와 환원대의 조건을 제어하여 원하는 철산화물층을 확보한다. 산화대에 인입하는 강판은 냉연강판이 바람직하다.
소둔로는 산화대와 환원대로 이루어지는데, 산화대와 환원대에서의 온도조건과 산소농도에 따라 철산화물층은 다음과 같이 상변태한다.
우수타이트(FeO)→마그네타이트(Fe3O4) →헤마타이트 (Fe2O3)
본 발명에서는 산화대에서 마그네타이트를 형성하고 환원대에서 이를 우수타이트로 환원한다. 이 과정에서의 상변태와 산소농도의 변화에 따라 기공이 형성된다. 산화대에서 헤마타이트를 형성하는 경우, 헤마타이트가 상당히 취약하므로 소둔로내의 롤에 부착되어 덴트를 유발할 수 있어 바람직하지 않다. 또한, 산화대에서 우수타이트를 형성하는 경우에는 상변태도 없고 산소농도의 변화가 없어 기공이 형성되지 않는다.
따라서, 본 발명에서는 본 발명에서 원하는 미세기공을 갖는 철산화물층을 형성하기 위하여 산화대와 환원대의 열처리조건을 적절히 제어하여야 한다.
먼저, 산화대는 산소 농도가 1.0~21vol%인 조건에서 550~750℃의 온도에서 행하는 것이 바람직하다. 이러한 산화대의 열처리조건은 마그네타이트 철산화물층을 얻기 위한 것이다. 산화대의 산소농도가 1%미만에서는 마그네타이트 산화피막을 형성하는데 불충분하고, 산화피막도 매우 불균일하게 나타난다. 또한, 산소농도가 약 21%를 초과하면 취약한 헤마타이트를 형성하기 쉽고 공기 외에 추가로 산소를 투입해야 하므로 경제적으로도 바람직하지 못하다. 산화대의 온도가 550℃ 미만에서는 충분한 두께의 마그네타이트 산화피막이 형성되지 않아 도금부착성이 떨어진다. 또한, 산화대의 온도가 750℃를 초과하면 취약한 헤마타이트 산화피막이 형성되어 덴트결함 발생이 높게 나타난다.
산화대의 열처리에 의해 얻어지는 철산화물의 두께는 0.2~2mm 가 바람직하다. 철산화막의 두께가 0.2mm 미만일 경우 환원 및 도금공정에서 완전 환원되어 철산화물층이 존재하지 않게 된다. 철산화물층의 두께가 2mm를 초과할 경우 로내 덴트 결함을 발생할 가능성이 높다.
상기와 같이 산화대에서 열처리한 다음에 환원대에 열처리를 하는데, 이는 수소농도가 5~20%인 환원분위기에서 행하는 것이 바람직하다. 환원대의 열처리온도는 750~850℃가 바람직하다. 이러한 환원대의 열처리에 의해 두께가 0.1~1㎛이고 10000배율로 관찰한 기공율(porosity)이 5~30%이며, 기공의 크기는 0.2~1㎛인 우수타이트 철산화물층을 얻는 것이 바람직하다. 환원대의 수소농도가 20%초과이거나 열처리온도가 850℃초과의 경우에는 철산화층이 순수철로 환원되어 도금성이 떨어지므로 바람직하지 않다. 또한, 환원대의 수소농도가 5%미만이거나 열처리온도가 750℃미만인 경우에는 철산화층의 환원이 원활하지 않을 수 있다.
본 발명에 따라 소둔로에서 산화환원 열처리한 강판은 냉각후 용융아연도금한다. 용융아연욕은 Al의 함량이 0.1~0.3%중량인 아연도금욕이 적용될 수 있다. 강판표면에 잔류하는 우스타이트 철산화층은 도금욕중의 알루미늄과 먼저 반응하여 초기 합금억제층(Fe2Al5)을 형성하여 도금부착성을 우수하게 한다. 본 발명에서는 필요에 따라 합금화 열처리를 적용할 수 있다.
이하 본 발명을 실시 예에 의해 상세히 설명한다.
[실시예 1]
C: 0.14%, Si:1.0%, Mn:2.5%, Al: 0.04%를 포함하고 나머지 Fe및 기타 불가피한 불순물로 조성되고 두께 1.2mm의 TRIP냉연강판에 대해 소둔로내 산화대와 환원대에서의 열처리조건을 변경하면서 얻어지는 철산화층의 조성과 두께 기공조건을 측정한 다음 도금부착성을 조사하였다.
이때, 환원대의 열처리조건은 수소함량이 10%인 환원로에서 800℃, 60초간 소둔하였다. 환원열처리가 끝난 강판은Al:0.18중량%, Fe:0.02중량% 나머지 Zn으로 조성되는 아연도금욕에서 3초간 침적하여 용융아연 도금강판을 제조하였다.
산화피막 조성은 엑스선 회절기를 이용하여 정성분석하였고, 산화피막 두께는 분광 광전 스펙트로미터(Glow Discharge Spectrometer)를 사용하여 측정하였다. 또한 산화처리후 철산화막에 의한 덴트 발생 유무는 허쓰롤의 산화피막 부착여부를 관찰하여 평가하였다. 환원열처리후의 잔존한 산화피막의 기공율은 편광주사 전자현미경(Field Emission-SEM)을 이용하여 10000배로 촬영한 후, 입자분석기(Image Analyzer)를 사용하여 기공율로 나타내었다. 도금강판의 도금부착성은 일차 로 육안 및 현미경으로 미도금 발생유무를 관찰한 후, 현재 도금공장에서 사용하고 있는 록포밍 시험기(Lock Forming Tester)를 이용하여 180°굽힘 시험하여 도금박리 유무를 육안으로 관찰하여 평가하였다
|
산화대에서의 열처리후 |
환원대에서의 열처리후 |
도금부착성 |
산화온도 |
산소농도 |
피막조성 |
피막두께 |
덴트유무 |
피막조성 |
피막두께 |
기공율 (면적분율) |
기공크기 |
미도금/박리 |
A1 |
600℃ |
10% |
Fe3O4
|
0.8㎛ |
없음 |
FeO |
0.4㎛ |
20 |
0.3㎛ |
없음 |
A2 |
700℃ |
21% |
Fe3O4
|
1.2㎛ |
없음 |
FeO |
0.7㎛ |
27 |
0.6㎛ |
없음 |
A3 |
500℃ |
21% |
Fe3O4
|
0.09㎛ |
없음 |
FeO |
0.04㎛ |
2 |
0.01㎛ |
미도금 |
A4 |
800℃ |
15% |
Fe2O3
|
2.5㎛ |
발생 |
Fe3O4
|
1.8㎛ |
3 |
1.6㎛ |
박리/미도금 |
A5 |
650℃ |
0.4% |
FeO |
0.05㎛ |
없음 |
FeO |
0.01㎛ |
0 |
0.005㎛ |
미도금 |
A6 |
700℃ |
25% |
Fe2O3
|
2.3㎛ |
발생 |
Fe3O4
|
1.5㎛ |
2 |
1.3㎛ |
박리/미도금 |
A7 |
760℃ |
12% |
Fe2O3
|
1.4㎛ |
발생 |
FeO |
0.9㎛ |
35 |
0.7㎛ |
미도금 |
A8 |
800℃ |
0.9% |
FeO |
1.4㎛ |
없음 |
FeO |
1.1㎛ |
1 |
0.9㎛ |
미도금 |
표 1에 나타난 바와 같이, A1과 A2의 경우 덴트도 발생하지 않고 미도금이나 박리문제도 발생하지 않았다.
반면, A3의 경우 철산화물층의 피막두께도 얇고 기공율도 낮아서 미도금이 발생하였다. 또한, A4의 경우에는 산화대에서 열처리하여 얻어진 철산화물층이 취약한 Fe2O3로 구성되어 있고 철산화물층의 두께도 2㎛를 초과하여 로내 덴트가 발생하였다. 또한 환원열처리후 잔존하는 철산화물층의 주성분이 Fe3O4이고, 산화피막 두께가 1㎛를 초과하여 도금박리 및 미도금이 발생하였다.
A5의 경우에는 산화대에서 열처리한 철산화물층이 FeO이면서, 잔존 철산화물층의 두께가 0.1㎛ 미만으로 낮아 기공율이 0%로 되어 강중 실리콘 및 망간의 표면산화에 의해 미도금이 발생하였다.
A6의 경우에는 철산화물층의 조성이 취약한 Fe2O3로 구성되어 있고 철산화물층의 두께도 2㎛를 초과하여 로내 덴트가 발생하였다. 또한 환원열처리후 잔존하는 철산화물층의 주성분이 Fe3O4이고, 철산화물층의 두께가 1㎛를 초과하여 도금박리 및 미도금이 발생하였다.
A7의 경우에는 철산화물층의 조성이 취약한 Fe2O3로 구성되어 있어 로내 덴트가 발생하였다. 또한 환원열처리후 잔존하는 철산화물층의 주성분이 FeO이나, 기공률이 30%를 초과하여 일부 미도금이 발생하였다.
A8의 경우에는 철산화물층의 조성이 치밀한 FeO로 구성되어 있어 로내 덴트가 발생하지 않았다. 그러나 환원열처리후 잔존하는 철산화물층은 1.0㎛을 초과하는 FeO이나, 체적 및 산소농도의 변화가 거의 없어 기공률이 5%를 미만으로 미도금이 발생하였다.
기공의 크기를 0.2~1.0㎛로 한정한 이유는 기공크기가 0.2㎛ 미만인 경우(A3, A5), 기공에 의한 잠그효과가 거의 없어 미도금이 다량 발생하였고, 1.0㎛를 초과하면(A4, A6), 환원열처리후 잔존하는 철산화물층의 주성분이 Fe3O4이고, 철산화물층의 두께도 1㎛를 초과하여 도금박리 및 미도금이 발생하였다.
[실시예 2]
C: 0.14%, Si:1.5%, Mn:2.0%, Al: 0.03%를 포함하고 나머지 Fe및 기타 불가피한 불순물로 조성되고 두께 1mm의 TRIP냉연강판에 대해 소둔로내 산화대와 환원대에서의 열처리조건을 변경하면서 얻어지는 철산화층의 조성과 두께 기공조건을 측정한 다음 도금부착성을 조사하였다.
이때, 산화대의 열처리조건은 21%의 산소분위기에서 유도가열로를 사용하여730℃, 1초간 행하였다(피막조성 Fe3O4, 두께 1.8㎛) . 환원열처리가 끝난 강판은Al:0.2중량% Fe:0.03중량% 나머지 Zn으로 조성되는 아연도금욕에서 3초간 침적하여 용융아연 도금강판을 제조하였다.
구분 |
환원대에서의 열처리후 |
도금후 |
수소농도 |
환원온도 |
피막성분 |
피막두께 |
기공율 (면적분율) |
기공크기 |
합금층두께 |
미도금/박리 |
B1 |
10% |
780℃ |
FeO |
0.4㎛ |
15 |
0.3㎛ |
0.8 |
없음 |
B2 |
15% |
830℃ |
FeO |
0.2㎛ |
25 |
0.2㎛ |
0.5 |
없음 |
B3 |
3% |
800℃ |
Fe3O4
|
1.5㎛ |
2 |
1.3㎛ |
2.3 |
박리/미도금 |
B4 |
30% |
810℃ |
FeO |
0.03㎛ |
1 |
0.01㎛ |
0.08 |
미도금 |
B5 |
8% |
700℃ |
Fe3O4
|
1.3㎛ |
4 |
1.1㎛ |
1.9 |
박리/미도금 |
B6 |
12% |
870℃ |
FeO |
0.05㎛ |
0 |
0.02㎛ |
0.12 |
미도금 |
표 2에서 보듯이, B1, B2의 경우에는 도금부착성이 매우 우수하였다.
반면, B3의 경우에는 환원열처리후 잔존하는 산화피막의 주성분이 Fe3O4이고, 철산화물층의 두께가 1㎛를 초과하여 도금박리 및 미도금이 발생하였다.
B4의 경우 잔존 우스타이트 철산화물층의 두께가 0.1㎛ 미만으로 낮고 기공율 이 5% 미만으로 낮게 되어 강중 실리콘 및 망간의 표면산화에 의한 미도금이 발생하였다.
B5의 경우 잔존 철산화물층이 Fe3O4이고 철산화물층의 두께도 두껍고 기공율도 낮아서 미도금과 박리가 발생하였다.
B6의 경우 철산화물층의 두께도 얇고 기공도 존재하지 않아 미도금이 발생하였다.