KR20060072471A

KR20060072471A - Washing container of plasma display panel

Info

Publication number: KR20060072471A
Application number: KR1020040111119A
Authority: KR
Inventors: 이승준; 김범준
Original assignee: 엘지전자 주식회사
Priority date: 2004-12-23
Filing date: 2004-12-23
Publication date: 2006-06-28

Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 세정용기에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning container of a plasma display panel.

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 셀을 형성하기 위한 격벽이 배열된 후면 기판을 에칭 후 세정 액이 담겨진 용기에 침적하여 세정하는 플라즈마 디스플레이 패널의 세정용기에 있어서, 상기 세정용기는 그 상단 테두리보다 낮은 위치에 배출구가 구비된 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a cleaning container of a plasma display panel in which a rear substrate on which a partition wall for forming a discharge cell of a plasma display panel is formed is deposited and cleaned in a container containing a cleaning liquid after etching, wherein the cleaning container is lower than an upper edge thereof. Characterized in that the outlet is provided in position.

따라서, 후면 기판에 묻은 에칭 액을 세정하기 위한 세정 액이 담겨진 세정용기의 구조를 개선하여 후면 기판에 묻은 에칭 액을 효과적으로 제거한다.
Therefore, the structure of the cleaning container containing the cleaning liquid for cleaning the etching liquid on the rear substrate is improved to effectively remove the etching liquid on the rear substrate.

플라즈마 디스플레이 패널, 격벽, 에칭액, 세정용기, 후면기판Plasma Display Panel, Bulkhead, Etching Solution, Cleaning Vessel, Back Board

Description

Washing container of plasma display panel {Washing container of Plasma Display Panel}

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 요부를 보인 사시도.1 is a perspective view illustrating main parts of a general plasma display panel.

도 2a 내지 2c는 종래 기술에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽제조 과정을 나타낸 예시도.2A to 2C are exemplary views illustrating a barrier rib manufacturing process of a plasma display panel according to the related art.

도 3은 본 발명에서 적용되는 세정 용기의 사시도.3 is a perspective view of a cleaning container applied in the present invention.

도 4는 본 발명에서 적용되는 세정용기의 사용상태를 보인 단면도.
Figure 4 is a cross-sectional view showing a state of use of the cleaning vessel applied in the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

110 : 후면 기판 200 : 세정용기110: rear substrate 200: cleaning vessel

210 : 테두리 220 : 배출구
210: edge 220: outlet

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 세정용기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 후면 기판에 묻은 에칭 액을 세정하기 위한 세정 액이 담겨진 세정용기의 구조를 개선함으로써 에칭 공정 후 후면 기판에 묻은 에칭 액을 세정하는 세정 공정을 효과적으로 수행하는 플라즈마 디스플레이 패널의 세정용기에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning container for a plasma display panel, and more particularly, to improve the structure of a cleaning container containing a cleaning liquid for cleaning the etching liquid on the rear substrate, thereby cleaning the etching liquid on the rear substrate after the etching process. A cleaning container for a plasma display panel that effectively performs a cleaning process.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 전면기판과 후면기판 사이에 형성된 격벽이 하나의 단위 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온 및 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주 방전 기체와 소량의 크세논을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)을 발생하고 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼운 구성이 가능하므로 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.In general, a plasma display panel is a partition wall formed between a front substrate and a rear substrate to form a unit cell, and each cell includes neon (Ne), helium (He), or a mixture of neon and helium (Ne + He) and An inert gas containing the same main discharge gas and a small amount of xenon is filled. When discharged by a high frequency voltage, the inert gas generates vacuum ultraviolet rays and emits phosphors formed between the partition walls to realize an image. Such a plasma display panel has a spotlight as a next generation display device because of its thin and light configuration.

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도이다.1 illustrates a structure of a general plasma display panel.

도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 디스플레이 되는 표시 면인 전면 글라스(101)에 스캔 전극(102)과 서스테인 전극(103)이 쌍을 이루며 형성된 복수의 유지전극 쌍이 배열된 전면기판(100) 및 배면을 이루는 후면 글라스(111) 상에 전술한 복수의 유지전극 쌍과 교차되도록 복수의 어드레스 전극(113)이 배열된 후면기판(110)이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합된다.As shown in FIG. 1, a plasma display panel includes a front substrate on which a plurality of sustain electrode pairs formed by pairing a scan electrode 102 and a sustain electrode 103 are formed on the front glass 101, which is a display surface on which an image is displayed. The back substrate 110 on which the plurality of address electrodes 113 are arranged so as to intersect the plurality of sustain electrode pairs on the back glass 111 forming the back surface 100 and the back surface is coupled in parallel with a predetermined distance therebetween.

상기 전면기판(100)은 하나의 방전 셀에서 상호 방전시키고 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명 전극(a)과 금속재질로 제작된 버스 전극(b)으로 구비된 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 포함된다.The front substrate 100 is made of a scan electrode 102 and a sustain electrode 103, that is, a transparent electrode (a) formed of a transparent ITO material and a metal material to mutually discharge each other in one discharge cell and maintain light emission of the cell. The scan electrode 102 and the sustain electrode 103 provided as the bus electrode b are included in pairs.

상기 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 하나 이상의 상, 하부 유전체 층(104)에 의해 덧씌워지고, 상, 하부 유전체 층(104) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(105)이 형성된다.The scan electrode 102 and the sustain electrode 103 are overlaid by one or more upper and lower dielectric layers 104 that limit the discharge current and insulate the electrode pairs, and the upper and lower dielectric layers 104 top surface. In order to facilitate the discharge conditions, a protective layer 105 on which magnesium oxide (MgO) is deposited is formed.

상기 후면기판(110)은 복수개의 방전 공간 즉, 방전 셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입(또는 웰 타입)의 격벽(112)이 평행을 유지하여 배열된다.The rear substrate 110 is arranged in such a manner that a plurality of discharge spaces, that is, barrier ribs 112 of a stripe type (or well type) for forming discharge cells are maintained in parallel.

또한, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(113)이 격벽(112)에 대해 평행하게 배치된다.In addition, a plurality of address electrodes 113 which perform address discharge to generate vacuum ultraviolet rays are arranged in parallel with the partition wall 112.

또 상기 후면기판(110)의 상측 면에는 어드레스 방전시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광체(114)가 도포된다. In addition, R, G, and B phosphors 114 are coated on the upper surface of the rear substrate 110 to emit visible light for image display during address discharge.

상기 어드레스 전극(113)과 형광체(114) 사이에는 어드레스 전극(113)을 보호하기 위한 하부 유전체층(115)이 형성된다.A lower dielectric layer 115 is formed between the address electrode 113 and the phosphor 114 to protect the address electrode 113.

이와 같은 구조의 플라즈마 디스플레이 패널은 미소 방전을 이용하여 화상을 표시한다.The plasma display panel having such a structure displays an image using micro discharge.

이러한 방전은 소정의 방전 셀 내에서 발생하고, 방전 셀 내에서는 가시광선이 발생하여 화상을 표시하는 것이다.Such discharge occurs in a predetermined discharge cell, and visible light is generated in the discharge cell to display an image.

한편, 방전이 발생하는 방전 셀들의 공간을 따로 구획하지 못하면 방전되어서는 안될 방전 셀에서 방전이 되거나 또는 방전에 의한 빛이 퍼져나가 방전되어서는 안될 이웃 공간의 방전 셀에서 방전에 의한 발광의 효과가 발생되는 문제점이 발생한다.On the other hand, if the space of the discharge cells in which the discharge occurs is not partitioned separately, the discharge cells are discharged from the discharge cells that should not be discharged, or the light emitted by the discharge spreads. The problem that occurs occurs.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 도 1에서 전술한 바와 같이 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 셀 들을 구획하도록 격벽(barrier rib)이 형성되는데, 이러한 격벽을 제조하는 방법에는 여러 가지가 있고 대표적으로 널리 사용되는 방법은 에칭 액을 이용하여 화학적으로 에칭하는 화학적 에칭 법(Chemical Eching)과 소정의 연마제를 이용하여 물리적으로 에칭하는 샌드 브라스트(sandblast)법이 있는데, 에칭 액을 이용한 화학적 에칭 법을 살펴보면 다음 도 2a 내지 도 2c와 같다.In order to solve the above problems, as described above with reference to FIG. 1, barrier ribs are formed to partition discharge cells of the plasma display panel. There are various methods for manufacturing such barrier ribs and are widely used. There is a chemical etching method that chemically etches using a silver etching solution and a sandblast method that physically etches using a predetermined abrasive. To FIG. 2C.

도 2a 내지 도 2c는 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 제조공정 중 에칭공정을 설명하기 위한 도면이다.2A to 2C are diagrams for explaining an etching process of a conventional plasma display panel manufacturing process.

먼저 도 2a를 살펴보면, 어드레스 전극(미도시)이 형성된 후면 기판(40) 상에 하부 유전체 층(41)이 형성되며, 상기 하부 유전체 층(41)의 상면에는 소정의 두께를 갖는 격벽용 페이스트(31)가 형성된다.First, referring to FIG. 2A, a lower dielectric layer 41 is formed on a rear substrate 40 on which an address electrode (not shown) is formed, and a partition paste having a predetermined thickness is formed on an upper surface of the lower dielectric layer 41. 31) is formed.

상기 격벽용 페이스트(31)의 상측 면에는 소정의 포토 레지스트(Photo Resist)막, 예컨대 드라이필름 레진(Dry Film Resin; 이하, DFR이라 함, 42)이 라미네이팅 공정 등의 방법을 통하여 형성된다.On the upper surface of the barrier paste 31, a predetermined photoresist film, for example, dry film resin (hereinafter referred to as DFR) 42, is formed through a laminating process or the like.

또 상기 DFR(42)의 상측에는 도면 표현을 생략한 포토 마스크가 정렬되어 포토 마스크에 의한 노광 공정을 거친 후 현상공정을 실시한다.On the upper side of the DFR 42, photomasks without the drawing representations are aligned and subjected to an exposure process by a photomask, followed by a developing process.

이러한 현상공정에 의해 광에 노출되지 않은 영역(이하 '비노광 영역'이라 함)의 DFR(42)은 격벽용 페이스트(31) 상에 잔류하는 반면에, 광에 노출된 영역(이하 '노광 영역'이라 함)의 DFR(42)은 식각 및 제거되어 도 2b와 같은 형상이 된다.The DFR 42 of the region (hereinafter referred to as 'non-exposure region') not exposed to light by this developing process remains on the partition paste 31, while the region exposed to light (hereinafter referred to as 'exposure region'). DFR 42 is etched and removed to form a shape as shown in FIG. 2B.

즉, 상기 에칭장치(44)에 의해 전술한 바와 같은 현상공정을 거친 격벽용 페 이스트(31) 및 DFR(42) 상에 에칭 액을 분사한다.That is, the etching apparatus 44 injects the etching liquid onto the partition paste 31 and the DFR 42 which have undergone the above-described development process.

이때, 격벽에 해당하는 페이스트(31)는 DFR(42) 패턴에 의해 보호되고, DFR(42) 패턴이 형성되지 않은 격벽용 페이스트는 에칭 액에 의해 깎여진다.At this time, the paste 31 corresponding to the partition wall is protected by the DFR 42 pattern, and the partition paste without the DFR 42 pattern is shaved by the etching liquid.

상기의 공정을 거친 후 에칭 액에 의해 격벽용 페이스트(31)가 식각되면 각 격벽의 사이에는 도 2c와 같은 방전공간이 형성되고 DFR(42) 패턴은 별도의 박리 공정 시 샌드 브라스트법에 의한 에칭공정에 의해 제거된다.After the above process, when the partition paste 31 is etched by the etching solution, a discharge space as shown in FIG. 2C is formed between the partition walls, and the DFR 42 pattern is formed by a sand blast method during a separate peeling process. It is removed by the etching process.

한편, 상기와 같은 일련의 공정을 마친 후 격벽용 페이스트(31) 사이에는 에칭 액이 잔류하게 되므로 그와 같은 에칭 액은 별도의 세정 액이 담겨진 세정용기의 내부에 침적한 후 건져내어 에칭 액을 제거하게 된다.On the other hand, since the etching solution remains between the partition paste 31 after the above-described series of steps, such an etching solution is deposited in the cleaning container in which a separate cleaning solution is contained and then drained out. Will be removed.

그러나 상기의 공정에 있어서는 다음과 같은 또 다른 문제점이 발생되었다.However, the following another problem has arisen in the said process.

즉, 에칭 액은 세정 액보다 비중이 작아 세정 액의 표면으로 부유하게 되므로 침적후의 후면 기판(40)을 건져낼 때 세정 액 위에 부유하고 있는 에칭 액이 후면 기판(40)에 다시 묻게되어 에칭 공정 후 계속 이어지는 다음 공정을 원활하게 수행할 수 없는 문제점이 있었다.
That is, since the etching liquid has a specific gravity smaller than that of the cleaning liquid and floats on the surface of the cleaning liquid, the etching liquid floating on the cleaning liquid is buried again on the rear substrate 40 when the back substrate 40 after the deposition is taken out, and after the etching process There was a problem that can not be carried out smoothly the next process.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제, 즉 본 발명의 목적은 플라즈마 디스플레이 패널의 후면패널 제조공정 시 에칭공정에 대한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 후면 기판에 묻은 에칭 액을 세정하기 위한 세정 액이 담겨진 세정용기의 구조를 개선하여 후면 기판에 묻은 에칭 액을 효과적으로 제거할 수 있는 플 라즈마 디스플레이 패널의 세정용기를 제공하는데 그 목적이 있다.
Accordingly, an object of the present invention, that is, an object of the present invention is to solve the problem of the etching process during the back panel manufacturing process of the plasma display panel, the cleaning liquid for cleaning the etching liquid on the back substrate is contained It is an object of the present invention to provide a cleaning container of a plasma display panel that can effectively remove the etching liquid on the rear substrate by improving the structure of the cleaning container.

상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 셀을 형성하기 위한 격벽이 배열된 후면 기판을 에칭 후 세정 액이 담겨진 용기에 침적하여 세정하는 플라즈마 디스플레이 패널의 세정용기에 있어서, 상기 세정용기는 그 상단 테두리보다 낮은 위치에 배출구가 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 세정용기를 제공한다.In order to achieve the object of the present invention as described above, the present invention, the cleaning container of the plasma display panel for depositing and cleaning the back substrate is arranged in the container containing the cleaning liquid after etching the rear wall arrayed for forming the discharge cells of the plasma display panel The cleaning container according to claim 1, wherein the cleaning container is provided with a discharge port at a position lower than an upper edge thereof.

본 발명의 목적을 효과적으로 구현하기 위한 제1 구성 예는, 상기 배출구는 입구 측 폭은 넓고 출구 측 폭은 좁은 깔때기 형상으로 형성된 것이 효과적이다.In a first configuration example for effectively realizing the object of the present invention, it is effective that the outlet is formed in a funnel shape, the width of the inlet side is wide and the outlet side is narrow.

본 발명의 목적을 효과적으로 구현하기 위한 제2 구성 예는, 상기 배출구는 상기 세정용기의 적어도 어느 일 면에 형성된 것이 효과적이다.In a second configuration example for effectively implementing the object of the present invention, it is effective that the outlet is formed on at least one side of the cleaning container.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 디스플레이 패널의 제조방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a display panel according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에서 적용되는 세정액이 담겨지는 세정용기를 보인 사시도가 도시되어 있고, 도 4에는 본 발명에 따른 세정동작을 보인 단면도가 도시되어 있다.Figure 3 is a perspective view showing a cleaning container in which the cleaning liquid is applied in the present invention, Figure 4 is a cross-sectional view showing a cleaning operation according to the present invention.

설명의 편의를 위해 본 발명이 적용되는 에칭 액 세정공정 전까지의 공정은 종래의 기술 설명에서 상세히 설명한 바와 동일하므로 이에 대한 별도의 설명은 생략하고 본 발명에서 적용되는 세정용기의 구성설명과 세정용기를 이용하여 에칭 액 을 세정하는 동작에 대해서만 설명한다. For convenience of description, the process until the etching solution cleaning process to which the present invention is applied is the same as described in detail in the related art, and thus, a separate description thereof is omitted and the description of the composition and the cleaning container of the cleaning container applied in the present invention are omitted. Only the operation | movement which wash | cleans etching liquid using this is demonstrated.

이에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널의 후면 기판을 제조하는 공정 중 한 가지 공정인 에칭 공정 후 후면 기판에 묻은 에칭 액은 종래와 동일하게 세정공정에 의해 닦여진다.As shown in the drawing, the etching liquid on the back substrate after the etching process, which is one of the processes for manufacturing the back substrate of the plasma display panel, is cleaned by the cleaning process as in the prior art.

한편, 본 발명에서 적용되는 상기 세정용기(200)는 그 상단 테두리(210)보다 낮은 위치에 세정 액의 표면에 부유하는 에칭 액을 배출시키기 위한 배출구(220)가 구비된다.On the other hand, the cleaning vessel 200 applied in the present invention is provided with a discharge port 220 for discharging the etching liquid floating on the surface of the cleaning liquid at a lower position than the upper edge 210.

상기 배출구(220)는 입구 측 폭은 넓고 출구 측 폭은 좁은 깔때기 형상으로 형성된 것이 효과적이다.The outlet 220 is effectively formed in a funnel shape, the width of the inlet side and the width of the outlet side.

상기 배출구(220)는 상기 세정용기(200)의 적어도 어느 일 면에 형성될 수 있지만, 면 방향으로 마주하는 곳에 상응하여 형성될 수도 있다.The outlet 220 may be formed on at least one surface of the cleaning container 200, but may be formed to correspond to the surface facing in the surface direction.

물론 배출구(220)는 도면에 표현한 형상에 한정하지 않고 다양하게 변경 가능하다.Of course, the outlet 220 is not limited to the shape shown in the drawings can be variously changed.

상기와 같이 구성된 본 발명에 따른 세정용기(200)의 동작에 대해 설명한다.The operation of the cleaning vessel 200 according to the present invention configured as described above will be described.

즉, 종래의 기술설명에서 상세히 설명하였고, 종래의 기술설명을 참조하기 위한 도 2를 참조하면, 플라즈마 디스플레이 패널의 후면 기판에 배열되는 격벽을 형성하기 위해 다수의 공정을 거친 후 에칭 액에 의해 격벽용 페이스트가 식각되면 각 격벽의 사이에는 방전공간이 형성된다.That is, as described in detail in the prior art description, and referring to FIG. 2 for referring to the prior art description, the partition wall is formed by the etching solution after a plurality of processes to form the partition wall arranged on the rear substrate of the plasma display panel. When the paste is etched, a discharge space is formed between the partition walls.

또 상기와 같은 일련의 공정을 마친 후 격벽용 페이스트 사이에는 에칭 액이 잔류하게 되므로 그와 같은 에칭 액은 종래와 동일하게 별도의 세정 액이 담겨진 세정용기의 내부에 후면 기판을 침적한 후 건져내어 에칭 액을 제거하게 된다.In addition, since the etching solution remains between the partition pastes after the above-described series of processes, such an etching solution is deposited after the back substrate is deposited inside the cleaning container containing a separate cleaning solution as in the prior art. The etching solution is removed.

이때 본 발명의 특징부는 도 4와 같이 세정 액이 담겨진 세정용기(200) 내부에 후면기판(110)을 침적하면, 후면기판(110)에 잔존하고 있던 에칭 액은 세정 액의 표면 상측으로 부상하게 된다.At this time, the feature of the present invention is that when the back substrate 110 is deposited inside the cleaning vessel 200 in which the cleaning liquid is contained as shown in FIG. 4, the etching solution remaining on the rear substrate 110 may rise above the surface of the cleaning liquid. do.

상기와 같이 세정 액의 표면으로 부유하는 에칭 액은 세정용기(200)의 상측 곳곳에 설치된 배출구(220)를 통하여 배출된다.As described above, the etching liquid floating on the surface of the cleaning liquid is discharged through the discharge port 220 installed on the upper side of the cleaning container 200.

따라서, 세정 액에 담겨진 후면 기판(110)을 꺼내더라도 세정 액의 표면에 에칭 액이 잔존하지 않게 되므로 후면 기판을 꺼내는 동작을 하더라도 세정 액의 표면에 있던 에칭 액이 외부로 배출되므로 후면 기판에 에칭 액이 묻으며 잔존하지 않게 된다.Therefore, even if the rear substrate 110 contained in the cleaning liquid is removed, the etching liquid does not remain on the surface of the cleaning liquid. Therefore, the etching liquid on the surface of the cleaning liquid is discharged to the outside even when the rear substrate is removed. The fluid will be stained and will not remain.

이와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. As such, those skilled in the art will appreciate that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. Therefore, the embodiments described above are to be understood as illustrative and not restrictive in all aspects.

본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 후면 기판에 묻은 에칭 액을 세정하기 위한 세정 액이 담겨진 세정용기의 구조를 개선하여 후면 기판에 묻은 에칭 액을 효과적으로 제거할 수 있다. As described in detail above, according to the present invention, the structure of the cleaning container containing the cleaning liquid for cleaning the etching liquid on the rear substrate can be improved to effectively remove the etching liquid on the rear substrate.

Claims

In the cleaning container of the plasma display panel for cleaning by depositing the back substrate having a partition wall for forming the discharge cells of the plasma display panel in the container containing the cleaning liquid after etching,

The cleaning container of the plasma display panel, characterized in that the discharge port is provided at a position lower than the upper edge.

The method of claim 1,

The outlet port is a cleaning container of the plasma display panel, characterized in that the inlet width is wide and the outlet side width is formed in a funnel shape.

The method of claim 1,

The outlet port is a cleaning container of the plasma display panel, characterized in that formed on at least one surface of the cleaning container.