KR20060066971A - Manufacturing method for double side flexible printed circuit board - Google Patents

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KR20060066971A
KR20060066971A KR1020040105638A KR20040105638A KR20060066971A KR 20060066971 A KR20060066971 A KR 20060066971A KR 1020040105638 A KR1020040105638 A KR 1020040105638A KR 20040105638 A KR20040105638 A KR 20040105638A KR 20060066971 A KR20060066971 A KR 20060066971A
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양윤홍
박기준
이유용
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디케이 유아이엘 주식회사
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Abstract

미세한 배선패턴을 구현할 수 있으며, 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 양면 연성회로기판 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a double-sided flexible circuit board capable of realizing fine wiring patterns and improving product reliability.

그러한 양면 연성회로기판 제조방법은,Such a double-sided flexible circuit board manufacturing method,

절연성의 베이스 필름 양면에 박막의 도체층이 형성된 필름원판을 마련하는 준비공정;A preparation step of providing a film disc having a conductive layer of a thin film formed on both sides of the insulating base film;

상기 베이스 필름의 도체층을 소정의 회로패턴으로 각각 가공하는 배선패턴 형성공정;A wiring pattern forming step of processing the conductor layers of the base film into predetermined circuit patterns, respectively;

상기 베이스 필름의 양쪽면에 각각 형성된 배선패턴의 필요한 회로 도전을 위해 전기적으로 연결하기 위하여 관통홀을 뚫는 천공공정;A perforation process for drilling through-holes for electrically connecting the wiring patterns formed on both sides of the base film for the necessary circuit conduction;

상기 베이스 필름의 관통홀에 도금을 행하기 위하여 박막의 전도층을 형성하는 무전해 도금공정;An electroless plating process of forming a conductive layer of a thin film for plating the through-holes of the base film;

상기 전도층 위에 감광성 필름이나 잉크로 이루어진 감광층(포토레지스트)을 도포하는 공정;Applying a photosensitive layer (photoresist) made of a photosensitive film or ink onto the conductive layer;

상기 공정에서 도포된 감광층 위에 소정의 마스크 패턴을 위치시키고 광을 조사하여 전도층의 일정부분인 관통홀 및 그 주변의 홀 패드 부분만 레지스트로서의 역할을 할 수 있도록 경화시키는 노광공정;An exposure step of placing a predetermined mask pattern on the photosensitive layer applied in the above step and irradiating light to cure only a portion of the through hole, which is a part of the conductive layer, and a hole pad portion around the conductive layer to serve as a resist;

상기 노광공정에서 자외선에 노출되지 않아 경화되지 않은 관통홀 및 그 주변의 홀 패드 부분의 감광층을 현상액으로 용해시켜 제거하는 현상공정;A developing step of dissolving and removing the photoresist layer of the through-hole and the hole pad portion around the unsaturated through hole by exposure to ultraviolet light in the exposure step;

상기 공정에서 감광층이 제거된 부분의 관통홀 및 그 주변으로 노출된 전도층에 도금층을 형성하는 공정;Forming a plating layer in the through hole of the portion where the photosensitive layer is removed in the process and the conductive layer exposed to the periphery thereof;

상기 현상공정에서 남아있던 감광수지를 제거하는 박리공정;A peeling step of removing the photosensitive resin remaining in the developing step;

상기에서 형성된 도금층 이외의 베이스 필름에 남아있는 전도층을 제거하는 에칭공정;An etching step of removing the conductive layer remaining in the base film other than the plating layer formed above;

을 포함하는 양면 연성회로기판 제조방법을 제공한다.It provides a double-sided flexible circuit board manufacturing method comprising a.

연성회로기판,관통홀,전도층,도금층,Flexible Circuit Board, Through Hole, Conductive Layer, Plating Layer,

Description

양면 연성회로기판 제조방법{MANUFACTURING METHOD FOR DOUBLE SIDE FLEXIBLE PRINTED CIRCUIT BOARD}MANUFACTURING METHOD FOR DOUBLE SIDE FLEXIBLE PRINTED CIRCUIT BOARD

도 1은 본 발명에 의한 양면 연성회로기판의 제조방법을 나타낸 공정도.1 is a process chart showing a manufacturing method of a double-sided flexible printed circuit board according to the present invention.

도 2는 도 1의 공정에 따라 양면 연성회로기판이 제조되는 과정을 순차적으로 도시한 단면도.2 is a cross-sectional view sequentially illustrating a process of manufacturing a double-sided flexible circuit board according to the process of FIG.

본 발명은 양면 연성회로기판 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 미세한 배선패턴을 구현할 수 있으며, 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 양면 연성회로기판 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a double-sided flexible printed circuit board, and more particularly, to a method for manufacturing a double-sided flexible printed circuit board capable of realizing fine wiring patterns and improving reliability of a product.

일반적으로 전자기기가 복잡해짐에 따라 배선의 많은 부분이 전선에서 인쇄회로기판(Printed Circuit Board)으로 대체되었으며, 이로 인하여 제품의 내부공간, 무게, 조립에 따른 노동력을 절감할 수 있고, 전선에 비해 신뢰성이 높은 것으로 알려져 있다.In general, as electronic devices become more complicated, much of the wiring has been replaced by printed circuit boards in the wires, which saves labor due to internal space, weight, and assembly of the product, and compared to wires. It is known to have high reliability.

이러한 인쇄회로기판은 모든 전자장비에서 거의 대부분이 사용되고 있는 기본적인 부품중의 하나이며, 근래에 생산되는 전자기기는 정밀하고 경박단소(輕薄短 小)형으로 제작되면서 기존의 인쇄회로기판에서 연성회로기판(Flexible Printed Circuit Board)으로 많이 대체 되었다. 특히, 휴대폰, 노트북, 캠코더, 액정디스플레이 등에는 이러한 연성회로기판이 더욱 많이 사용되고 있다.This printed circuit board is one of the basic parts that are used almost all of the electronic equipment, and the electronic devices produced in recent years are manufactured in a precise and lightweight small and small type, the flexible printed circuit board in the existing printed circuit board It has been replaced by (Flexible Printed Circuit Board). In particular, such flexible circuit boards are more frequently used in mobile phones, notebook computers, camcorders, liquid crystal displays, and the like.

이러한 연성회로기판은 우수한 굴곡성 및 유연성을 지니고 있어, 인쇄회로기판이 갖는 역할을 수행하면서 인접하지 않은 두 개의 회로나 부품을 자유롭게 연결할 수 있는 장점으로, 전자기기 뿐만 아니라 일반 산업기계 등에도 폭넓게 사용되고 있다.Such flexible printed circuit boards have excellent flexibility and flexibility, and have the advantage of being able to freely connect two non-adjacent circuits or components while serving as a printed circuit board, and are widely used in general industrial machines as well as electronic devices. .

연성회로기판은 배선구조의 회로패턴 층에 따라서 단층, 양면, 다층형 등과 같이 여러종류가 있으며, 전자기기의 구조와 기능에 따라서 그에 적합한 연성회로기판을 설계 및 제작하여 제품에 적용하게 된다.There are many types of flexible circuit boards, such as single layer, double sided, and multilayer type, depending on the circuit pattern layer of the wiring structure. The flexible circuit board is designed and manufactured according to the structure and function of the electronic device and applied to the product.

이와 같은 연성회로기판 중에서 양면 연성회로기판의 통상적인 제조방법은, 폴리이미드 필름(Polyimide Film) 혹은 폴리에스테르(Polyester)필름과 같은 절연성 필름의 양쪽면에 박막의 Cu가 각각 적층된 양면 CCL(Copper Clad Laminate)필름원단을 준비한 후, 상기 Cu층의 회로패턴이 형성될 부분을 전기적으로 연결하기 위하여 CCL필름의 소정의 위치에 드릴 등을 이용하여 관통홀(Through hole)을 형성한 다음, 이 관통홀에 도금을 행하여 Cu층이 서로 전기적으로 연결되도록 한다.Among the flexible printed circuit boards, a typical method for manufacturing a double-sided flexible printed circuit board is a double-sided CCL (Copper) in which Cu thin films are laminated on both sides of an insulating film such as a polyimide film or a polyester film. After preparing a clad laminate film, through holes are formed in a predetermined position of the CCL film by using a drill or the like to electrically connect the portion where the circuit pattern of the Cu layer is to be formed. The holes are plated so that the Cu layers are electrically connected to each other.

그 다음, CCL필름의 양측 Cu층에 감광성 필름을 이용하거나 액을 도포하여 각각의 Cu층을 노광, 현상, 에칭, 박리공정을 통하여 소정의 회로패턴으로 가공하는 방법으로 양면 연성회로기판을 제작하게 된다.Then, a double-sided flexible circuit board is fabricated by using a photosensitive film on both sides of the CCL film or by applying a liquid to process each Cu layer into a predetermined circuit pattern through exposure, development, etching, and peeling process. do.

그러나, 이와 같은 종래의 양면 연성회로기판의 제조는, 양면 CCL필름에 관통홀을 형성하고, 이 홀에 도금을 행할 때 관통홀 뿐만 아니라 Cu층 위에도 도금층이 형성되어 두께가 그만큼 두꺼워지므로, 이로 인하여 회로패턴을 가공할 때, 피치들의 간격을 조밀하게 할 수 없으므로 배선패턴을 미세하게 구현할 수 없는 문제점이 있다. However, in the manufacture of such a conventional double-sided flexible printed circuit board, when the through-hole is formed in the double-sided CCL film, the plating layer is formed not only on the through-hole but also on the Cu layer when plating the hole. When processing the circuit pattern, there is a problem in that the wiring pattern can not be minutely implemented because the spacing of the pitches cannot be made compact.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 절연성의 베이스 필름의 양쪽면에 배선패턴을 먼저 형성한 후, 이들 배선패턴을 전기적으로 연결할 수 있도록 관통홀을 천공하고, 상기 관통홀 및 그 주변의 패드부만 선택적으로 도금을 행하여 배선패턴의 두께를 원단 상태의 두께로 최소화하여 미세한 배선패턴을 구현할 수 있으며, 그러한 이유로 회로기판의 두께가 원단 상태의 두께를 갖춤으로 굴곡성을 좋게 하여 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 양면 연성회로기판 제조방법을 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, the object of the present invention is to first form a wiring pattern on both sides of the insulating base film, and then through-holes so as to electrically connect these wiring patterns Perforations, and selectively plating only the through-hole and the pad portion around the through hole, thereby minimizing the thickness of the wiring pattern to the thickness of the original state, thereby implementing a fine wiring pattern. It is to provide a double-sided flexible circuit board manufacturing method that can improve the reliability of the product by improving the flexibility by having a.

본 발명이 제안하는 양면 연성회로기판의 제조방법은,The manufacturing method of the double-sided flexible circuit board proposed by the present invention,

절연성의 베이스 필름 양면에 박막의 도체층이 형성된 필름원판을 마련하는 준비공정;A preparation step of providing a film disc having a conductive layer of a thin film formed on both sides of the insulating base film;

상기 베이스 필름의 도체층을 소정의 회로패턴으로 각각 가공하는 배선패턴 형성공정;A wiring pattern forming step of processing the conductor layers of the base film into predetermined circuit patterns, respectively;

상기 베이스 필름의 양쪽면에 각각 형성된 배선패턴의 필요한 회로 도전을 위해 전기적으로 연결하기 위하여 관통홀을 뚫는 천공공정;A perforation process for drilling through-holes for electrically connecting the wiring patterns formed on both sides of the base film for the necessary circuit conduction;

상기 베이스 필름의 관통홀에 도금을 행하기 위하여 박막의 전도층을 형성하는 무전해 도금공정;An electroless plating process of forming a conductive layer of a thin film for plating the through-holes of the base film;

상기 전도층 위에 감광성 필름이나 잉크로 이루어진 감광층(포토레지스트)을 도포하는 공정;Applying a photosensitive layer (photoresist) made of a photosensitive film or ink onto the conductive layer;

상기 공정에서 도포된 감광층 위에 소정의 마스크 패턴을 위치시키고 광을 조사하여 전도층의 일정부분인 관통홀 및 그 주변의 홀 패드 부분만 레지스트로서의 역할을 할 수 있도록 경화시키는 노광공정;An exposure step of placing a predetermined mask pattern on the photosensitive layer applied in the above step and irradiating light to cure only a portion of the through hole, which is a part of the conductive layer, and a hole pad portion around the conductive layer to serve as a resist;

상기 노광공정에서 자외선에 노출되지 않아 경화되지 않은 관통홀 및 그 주변의 홀 패드 부분의 감광층을 현상액으로 용해시켜 제거하는 현상공정;A developing step of dissolving and removing the photoresist layer of the through-hole and the hole pad portion around the unsaturated through hole by exposure to ultraviolet light in the exposure step;

상기 공정에서 감광층이 제거된 부분의 관통홀 및 그 주변으로 노출된 전도층에 도금층을 형성하는 공정;Forming a plating layer in the through hole of the portion where the photosensitive layer is removed in the process and the conductive layer exposed to the periphery thereof;

상기 현상공정에서 남아있던 감광수지를 제거하는 박리공정;A peeling step of removing the photosensitive resin remaining in the developing step;

상기에서 형성된 도금층 이외의 베이스 필름에 남아있는 전도층을 제거하는 에칭공정;An etching step of removing the conductive layer remaining in the base film other than the plating layer formed above;

을 포함하는 양면 연성회로기판 제조방법을 제공한다.It provides a double-sided flexible circuit board manufacturing method comprising a.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail.

도 1은 본 발명에 의한 양면 연성회로기판 제조방법을 나타낸 공정도이고, 도 2는 도 1의 공정에 따라 양면 연성회로기판이 제조되는 과정을 순차적으로 도시한 단면도로서, 본 발명의 연성회로기판 제조방법의 일실시예는, 먼저 본 발명의 양면 연성회로기판을 제조하기 위하여 원자재를 마련하는 준비공정(P1)을 갖는다.1 is a process diagram showing a method for manufacturing a double-sided flexible printed circuit board according to the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view sequentially showing a process for manufacturing a double-sided flexible printed circuit board according to the process of Figure 1, manufacturing a flexible circuit board of the present invention One embodiment of the method first has a preparatory process P1 of preparing a raw material for producing the double-sided flexible circuit board of the present invention.

상기 준비공정(P1)에서 마련한 원자재는 도 2a에서와 같이 절연성의 베이스 필름(2) 양쪽면에 박막의 Cu로 이루어진 도체층(4a)(4b)이 각각 적층된 양면 CCL(Copper Clad Laminate)필름이 사용될 수 있다.The raw material prepared in the preparation step (P1) is a double-sided CCL (Copper Clad Laminate) film in which conductor layers 4a and 4b made of thin Cu are laminated on both sides of the insulating base film 2 as shown in FIG. 2A. This can be used.

상기 베이스 필름(2)은 폴리이미드 필름(Polyimide Film) 혹은 폴리에스테르(Polyester) 필름과 같은 절연성 필름으로 이루어질 수 있다.The base film 2 may be made of an insulating film such as a polyimide film or a polyester film.

이와 같이 양면 CCL필름으로 이루어진 원자재가 마련되면, CCL필름의 양측 도체층(4a)(4b)에 전처리 공정, 필름이나 감광성 잉크 등을 도포하는 감광성 재료 라미네이팅 공정을 행한 후, 각각의 도체층(4a)(4b)을 노광, 현상, 에칭, 박리공정을 통하여 도 2b에서와 같이 소정의 회로패턴으로 형성하는 회로패턴 형성공정(P2)을 행한다.When a raw material made of a double-sided CCL film is prepared as described above, each conductor layer 4a is subjected to a pretreatment step, a photosensitive material laminating step of applying a film or a photosensitive ink, etc. to both conductor layers 4a and 4b of the CCL film. A circuit pattern forming step (P2) is performed in which a) 4b is formed into a predetermined circuit pattern as shown in Fig. 2B through an exposure, development, etching, and peeling process.

상기 회로패턴 형성공정(P2)은 노광, 현상, 에칭, 박리공정은 연성회로기판의 제조시 통상적으로 사용되는 방법이 적용될 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다.In the circuit pattern forming process P2, since the exposure, development, etching, and peeling processes may be applied to a method commonly used in manufacturing a flexible circuit board, detailed description thereof will be omitted.

이러한 공정이 완료되면 양면의 회로패턴을 구성하는 도체층(4a)(4b)의 필요한 회로 도전을 위해 드릴 등을 이용하여 관통홀 천공공정(P3)을 행하면 도 2c와 같이 도체층(4a)(4b)과 베이스 필름(2)을 관통하여 관통홀(6)이 형성된다.When this process is completed, the through hole drilling process P3 is performed by using a drill or the like for the necessary circuit conduction of the conductor layers 4a and 4b constituting the circuit patterns on both sides, and as shown in FIG. The through hole 6 is formed through the 4b) and the base film 2.

상기 공정이 완료되면 관통홀(6) 내부에 위치한 도체층(4a)(4b)은 베이스 필름(2)에 의하여 양측으로 분리되는데, 이를 도통시켜 주기 위하여 1차로 도금하는 무전해 도금공정(P4)을 행하면, 도 2d에서와 같이 관통홀(6)을 포함하여 도체층 (4a)(4b) 및 베이스 필름(2)의 표면으로는 얇은 두께의 전도층(8)이 형성된다.When the above process is completed, the conductor layers 4a and 4b located in the through hole 6 are separated on both sides by the base film 2, and the electroless plating process (P4) is performed to plate the primary to conduct it. As shown in FIG. 2D, a thin conductive layer 8 is formed on the surfaces of the conductor layers 4a and 4b and the base film 2 including the through holes 6.

이러한 무전해 도금공정(P4)은 상당히 얇은 두께로 형성되는데, 이 공정은 진공 증착공정으로 행할 수도 있다.This electroless plating process P4 is formed with a considerably thin thickness, which can also be performed by a vacuum deposition process.

상기 공정이 완료되면 도 2e에서와 같이 양측 도전층(4)의 표면에 감광성 필름이나 잉크로 이루어진 감광층(포토레지스트)(10)을 도포하는 공정(P5)을 행하게 되는데, 이때 도전층(4) 표면에 감광층(10)이 잘 밀착될 수 있도록 도전층(4) 표면의 이물질을 제거하고, 그 표면을 소정의 온도로 가열한 후, 필름을 라미네이팅 하거나 잉크를 도포 할 수 있다.When the process is completed, as shown in FIG. 2E, a process P5 of applying a photosensitive layer (photoresist) 10 made of photosensitive film or ink to the surfaces of both conductive layers 4 is performed. The foreign matter on the surface of the conductive layer 4 may be removed so that the photosensitive layer 10 may adhere to the surface well, and the surface may be heated to a predetermined temperature, and then the film may be laminated or ink may be applied.

상기 공정이 완료되면 도포된 감광층(10) 위에 소정의 형상으로 가공된 마스크 패턴(미도시)을 위치시키고, 빛(UV)을 조사하여 감광층(10)을 소정의 부분만 경화시키는 노광공정(P6)를 행한다.When the process is completed, an exposure process of placing a mask pattern (not shown) processed into a predetermined shape on the applied photosensitive layer 10 and irradiating light (UV) to cure only a predetermined portion of the photosensitive layer 10. (P6) is performed.

이러한 노광공정(P6)시 도 2f에서와 같이 관통홀(6) 주변부의 홀 패드 부분만 현상되도록 부분노광을 행하게 되며, 상기 공정이 완료되면 현상공정(P7)을 하게 되는데, 이 현상공정(P7)은 상기 노광공정(P6)에서 빛에 노출되지 않은 감광층(10), 즉 광경화 되지 않은 감광층을 현상액으로 용해시켜 제거하는 공정이다.In the exposure process P6, as shown in FIG. 2F, the partial exposure is performed such that only the hole pad portion around the through hole 6 is developed. When the process is completed, the development process P7 is performed. ) Is a step of dissolving and removing the photosensitive layer 10 that is not exposed to light in the exposure step P6, that is, the photosensitive layer that is not photocured with a developer.

이러한 현상공정(P7)이 완료되면 도 2g에서와 같이 감광층(10)은 광경화 된 부분, 즉 관통홀(6) 주변부의 감광층(10)은 제거되고 그 나머지 부분은 남아있게 된다.When the developing process P7 is completed, as shown in FIG. 2G, the photosensitive layer 10 is photocured, that is, the photosensitive layer 10 around the through hole 6 is removed and the remaining part remains.

이러한 공정이 완료되면 도금공정(P8)을 행하는데, 이때 상기 공정에서 관통홀(6) 주변부의 감광층(10)만 제거되어 있으므로, 도 2h에서와 같이 관통홀(6) 및 그 주변부의 전도층(8)에만 도금층(12)이 형성되면서 도체층(4a)(4b)들은 전기적으로 연결된 상태가 된다. 이러한 도금공정(P8)은 통상적으로 이용되는 전해도금공정으로 행하여 질수 있다.When this process is completed, the plating process P8 is performed. At this time, since only the photosensitive layer 10 of the periphery of the through hole 6 is removed in the above process, the through hole 6 and its periphery are conducted as shown in FIG. 2H. As the plating layer 12 is formed only on the layer 8, the conductor layers 4a and 4b are in an electrically connected state. This plating step (P8) can be carried out by a conventional electroplating step.

이때 형성되는 도금층(12)은 Cu 등의 금속물질을 이용하여 소정의 두께로 형성할 수 있는데, 이러한 도금공정(P8)시 도금층(12)은 관통홀(6) 및 그 주변부에만 형성되고 양쪽 도체층(4a)(4b)은 원래 상태의 두께를 갖게 되므로 회로기판의 전체적인 두께를 줄일 수 있고 회로기판의 유연성도 좋게 할 수 있다.In this case, the plating layer 12 formed may be formed to have a predetermined thickness by using a metal material such as Cu. In the plating process P8, the plating layer 12 is formed only at the through hole 6 and its periphery, and both conductors are formed. Since the layers 4a and 4b have the original thickness, the overall thickness of the circuit board can be reduced and the flexibility of the circuit board can be improved.

이러한 도금공정(P8)이 완료되면 양쪽 도체층(4a)(4b) 위에 광경화 된 상태로 남아있는 감광층(10)을 박리액으로 제거하는 박리공정(P9)을 행하는데, 이와 같은 공정이 완료되면 도 2i에서와 같이 남아있던 감광층(10)이 모두 제거된다.When the plating step P8 is completed, a peeling step P9 is performed to remove the photosensitive layer 10 remaining in the photocured state on both conductor layers 4a and 4b with a peeling solution. Upon completion, all remaining photosensitive layer 10 as shown in FIG. 2I is removed.

그리고 상기와 같은 공정이 완료되면, 제거된 감광층(10)의 하부에 도금된 전도층(8)이 나타나게 되며, 에칭공정(P10)을 행하여 전도층(8)을 제거하면 도 2j에서와 같이 도금층(12)들 사이의 전도층(8)이 제거되면서 베이스 필름(2) 양쪽면의 각각의 도체층(4a)(4b)을 관통홀(6)에 형성된 도금층(12)이 전기적으로 연결하여 각각의 회로패턴을 구성하면서 양면 연성회로기판의 제조가 완료된다.When the above process is completed, the plated conductive layer 8 appears in the lower portion of the removed photosensitive layer 10. If the conductive layer 8 is removed by the etching process P10, as shown in FIG. 2J. As the conductive layer 8 between the plating layers 12 is removed, the plating layers 12 formed in the through holes 6 are electrically connected to the respective conductor layers 4a and 4b on both sides of the base film 2. The manufacture of the double-sided flexible circuit board is completed, constituting each circuit pattern.

상기와 같은 에칭공정(P10)시 베이스 필름(2)에 형성된 도체층(4a)(4b)들은 제거되지 않고 전도층(8)만을 제거하기 위하여 소프트 에칭방법이 이용될 수 있다.In the etching process P10 as described above, the soft etching method may be used to remove only the conductive layer 8 without removing the conductive layers 4a and 4b formed on the base film 2.

이와 같이 제작된 양면 연성회로기판의 도금층(12)에는 표면회로를 외부환경으로부터 보호하기 위해 커버레이나 실리콘 코팅공정을 더욱 행할 수 있으며, 또는 내식성(耐蝕性)을 좋게 하기 위하여 금도금을 행할 수도 있다.The plated layer 12 of the double-sided flexible printed circuit board manufactured as described above may be further subjected to a coverlay or silicon coating process to protect the surface circuit from the external environment, or may be plated with gold to improve corrosion resistance.

상기한 실사예에서는 양면 연성회로기판을 제조하는 것을 예로서 설명하였지만, 예를 들어 회로패턴 형성공정(P2)이 완료된 다수의 회로기판을 합지하고 그 다음 공정을 행하면 다층 연성회로기판도 상기와 같이 동일하게 제작할 수 있다.In the above-described practical example, manufacturing a double-sided flexible circuit board has been described as an example. For example, when a plurality of circuit boards on which a circuit pattern forming step (P2) is completed are laminated and the next process is performed, the multilayer flexible circuit board is performed as described above. The same can be produced.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 의한 양면 연성회로기판의 제조방법은, 베이스 필름의 양쪽면에 배선패턴을 형성한 후, 이들 배선패턴을 전기적으로 연결할 수 있도록 관통홀을 천공하여 관통홀 및 그 주변의 패드부만 선택적으로 도금을 행하므로 배선패턴의 두께를 최초 원재료의 두께로 유지할 수 있어 미세한 배선패턴을 구현할 수 있다. As described above, in the method of manufacturing a double-sided flexible circuit board according to the present invention, after forming wiring patterns on both sides of the base film, the through holes are drilled to electrically connect these wiring patterns so that the through holes and the surroundings thereof are formed. Since only the pad part is selectively plated, the thickness of the wiring pattern can be maintained at the thickness of the original raw material, thereby realizing a fine wiring pattern.                     

또한 회로기판의 두께가 원재료의 상태를 유지하므로 굴곡성을 좋게 유지할 수 있어 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, since the thickness of the circuit board maintains the state of the raw materials, it is possible to maintain good flexibility and improve the reliability of the product.

Claims (3)

절연성의 베이스 필름 양면에 박막의 도체층이 형성된 필름원판을 마련하는 준비공정;A preparation step of providing a film disc having a conductive layer of a thin film formed on both sides of the insulating base film; 상기 베이스 필름의 도체층을 소정의 회로패턴으로 각각 가공하는 배선패턴 형성공정;A wiring pattern forming step of processing the conductor layers of the base film into predetermined circuit patterns, respectively; 상기 베이스 필름의 양쪽면에 각각 형성된 배선패턴의 필요한 회로 도전을 위해 전기적으로 연결하기 위하여 관통홀을 뚫는 천공공정;A perforation process for drilling through-holes for electrically connecting the wiring patterns formed on both sides of the base film for the necessary circuit conduction; 상기 베이스 필름의 관통홀에 도금을 행하기 위하여 박막의 전도층을 형성하는 무전해 도금공정;An electroless plating process of forming a conductive layer of a thin film for plating the through-holes of the base film; 상기 전도층 위에 감광성 필름이나 잉크로 이루어진 감광층(포토레지스트)을 도포하는 공정;Applying a photosensitive layer (photoresist) made of a photosensitive film or ink onto the conductive layer; 상기 공정에서 도포된 감광층 위에 소정의 마스크 패턴을 위치시키고 광을 조사하여 전도층의 일정부분인 관통홀 및 그 주변의 홀 패드 부분만 레지스트로서의 역할을 할 수 있도록 경화시키는 노광공정;An exposure step of placing a predetermined mask pattern on the photosensitive layer applied in the above step and irradiating light to cure only a portion of the through hole, which is a part of the conductive layer, and a hole pad portion around the conductive layer to serve as a resist; 상기 노광공정에서 자외선에 노출되지 않아 경화되지 않은 관통홀 및 그 주변의 홀 패드 부분의 감광층을 현상액으로 용해시켜 제거하는 현상공정;A developing step of dissolving and removing the photoresist layer of the through-hole and the hole pad portion around the unsaturated through hole by exposure to ultraviolet light in the exposure step; 상기 공정에서 감광층이 제거된 부분의 관통홀 및 그 주변으로 노출된 전도 층에 도금층을 형성하는 공정;Forming a plating layer in the through hole of the portion where the photosensitive layer is removed in the process and the conductive layer exposed to the periphery thereof; 상기 현상공정에서 남아있던 감광수지를 제거하는 박리공정;A peeling step of removing the photosensitive resin remaining in the developing step; 상기에서 형성된 도금층 이외의 베이스 필름에 남아있는 전도층을 제거하는 에칭공정;An etching step of removing the conductive layer remaining in the base film other than the plating layer formed above; 을 포함하는 양면 연성회로기판 제조방법.Duplex flexible circuit board manufacturing method comprising a. 청구항 1에 있어서, 상기 노광공정에서는 관통홀 및 그 주변의 홀 패드 부분만 현상되도록 부분 노광공정으로 행하여지는 양면 연성회로기판 제작방법.The method of manufacturing a double-sided flexible circuit board as set forth in claim 1, wherein the exposure step is performed in a partial exposure step so that only the through-hole and the hole pad portion around the hole pad are developed. 청구항 1에 있어서, 상기 에칭공정은 베이스 필름에 형성된 도체층들은 제거되지 않고 전도층만을 제거하기 위하여 소프트 에칭공정으로 행하여지는 양면 연성회로기판 제조방법.The method of claim 1, wherein the etching process is performed by a soft etching process to remove only the conductive layer without removing the conductive layers formed on the base film.
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