KR20060058328A - 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 장치를 제조하기 위한 공정이 이루어지는 제조설비에서 계측설비에 의해 계측되는 공정 파라미터 값을 디스플레이 할 수 있는 모니터를 구비한 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치에 관한 것이다. 본 발명에 의한 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치는, 반도체 장치를 제조하기 위한 공정이 이루어지는 제조설비의 전반적인 동작을 제어하면서, 계측설비에 의해 계측되는 공정 파라미터 값을 인가 받아 메모리에 저장하고, 상기 계측된 공정 파라미터 값을 작업자가 보기 쉬운 형태로 편집하는 호스트 컴퓨터와, 상기 호스트 컴퓨터에 연결되어, 상기 계측된 공정 파라미터 값을 작업자의 요구에 따라 디스플레이 하는 모니터를 구비하는 것을 특징으로 한다.

제조설비, 모니터, 파라미터

Description

반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치 {Processing monitoring apparatus of semiconductor devices fabrication facility}

도 1은 본 발명에 의한 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치를 나타내는 구성도

도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 모니터 초기화면의 모습을 나타낸 도면

도 3은 도 2의 모니터화면의 파라미터를 클릭한 후 디스플레이 되는 모니터를 나타낸 도면

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1 : 제조설비 2 : 호스트 컴퓨터

3 : 모니터

본 발명은 반도체 장치를 제조하기 위한 제조설비에 관한 것으로서, 더욱 상 세하게는 반도체 장치를 제조하기 위한 공정이 이루어지는 제조설비에서 계측설비에 의해 계측되는 공정 파라미터 값을 디스플레이 할 수 있는 모니터를 구비한 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치(processing monitoring apparatus of semiconductor devices fabrication facility)에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 장치 제조는 소정의 공정분위기에서 공정이 수행되기 때문에 공정 수행에 적합한 공정분위기를 형성시키는 것이 매우 중요하다. 그리고 이러한 공정분위기를 효율적으로 운용하기 위하여 공정분위기를 모니터링 및 확인하는 것은 통상적으로 이루어진다.

종래의 반도체 장치 제조설비는 공정을 진행한 후 해당 공정 파라미터(input parameter)인 온도, 압력, 가스 등을 각각 따로 체크할 수 있도록 구성되어 있다. 또한 이러한 시스템은 제조설비에 별도의 메모리 카드 등을 이용하여 일정기간 동안의 진행제품에 대한 공정조건을 저장해 두고 별도의 전산시스템을 이용하여 데이터를 가공하고, 이를 기초로 제품의 이상유무를 모니터하고 있다.

상기한 바와 같은 방법은 현장에서 작업자들이 여러 가지 공정분위기 이상유무를 즉시 모니터하기가 어렵다는 문제점이 있다.

따라서 본 발명의 목적은 반도체 장치를 제조하기 위한 공정이 이루어지는 제조 설비에 계측설비에 의해 계측되는 공정 파라미터 값을 디스플레이 할 수 있는 모니터를 구비한 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치를 제공하는 데 있다.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치는, 반도체 장치를 제조하기 위한 공정이 이루어지는 제조설비의 전반적인 동작을 제어하면서, 계측설비에 의해 계측되는 공정 파라미터 값을 인가 받아 메모리에 저장하고, 상기 계측된 공정 파라미터 값을 작업자가 보기 쉬운 형태로 편집하는 호스트 컴퓨터와, 상기 호스트 컴퓨터에 연결되어, 상기 계측된 공정 파라미터 값을 작업자의 요구에 따라 디스플레이 하는 모니터를 구비하는 것을 특징으로 한다.

이하 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다양한 실시예에서의 설명들은 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가지는 자에게 본 발명의 보다 철저한 이해를 돕기 위한 의도 이외에는 다른 의도 없이 예를 들어 도시되고 한정된 것에 불과하므로, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 사용되어서는 아니 될 것이다.

도 1은 본 발명에 의한 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치를 나타내는 구성도이다.

도 1을 참조하면, 제조설비(1)는 호스트 컴퓨터(2)의 제어 하에 반도체 장치를 제조하기 위한 공정을 수행하게 되고, 이 때 각종 공정을 수행하면서 얻어지는 각종 데이터를 호스트 컴퓨터(2)로 전송하게 된다.

즉 반도체 장치를 제조하기 위한 공정이 이루어지는 제조설비(1)의 온도, 압 력, 저항, 가스 등의 데이터를 계측설비에 의하여 계측하여, 이 계측 데이터를 호스트 컴퓨터(2)의 메모리에 전송하여 저장되도록 한다. 그리하여 이렇게 계측설비로부터 전송되는 계측 데이터를 입력받은 호스트 컴퓨터는 이를 작업자가 보기 쉬운 형태로 편집하고 작업자의 요구에 따라 호스트 컴퓨터(2)에 연결된 모니터(3)에 디스플레이 하게 된다.

이에 따라 작업자는 모니터(3)에 디스플레이 되는 온도, 압력, 저항, 가스 등의 데이터를 확인하고 공정분위기 이상유무를 확인할 수 있는 것이다.

도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 모니터(21) 초기화면의 모습을 나타낸 도면이다.

도 2에 도시된 바와 같이, 모니터는 진행중인 공정에 맞는 파라미터를 열거하는 초기화면을 갖는다. 도 2에서는 노광설비에서의 모니터를 예시하였고, 따라서 모니터 화면에는 렌즈온도, 스테이지온도, 센서온도, 챔버온도 등이 열거되어 있다. 상기와 같은 모니터는 터치 스크린으로 구성될 수 있다. 그리하여 원하는 파라미터 값을 모니터 화면에서 클릭하면 그 값에 대한 일정기간동안의 데이터가 화면에 디스플레이 된다.

도 3은 도 2의 모니터화면의 파라미터를 클릭한 후 디스플레이 되는 모니터를 나타낸 도면이다. 즉 도 3에서는 도 2의 모니터 화면에서 챔버온도를 클릭한 후 디스플레이 되는 모니터의 모습이다.

도 3에 도시된 바와 같이, 일정기간 동안 챔버의 온도가 그래프로 바로 보여지므로, 챔버의 온도 변화를 한 눈에 알 수 있다.

이와 같이, 본 발명에 의하면 반도체 장치를 제조하기 위한 공정이 이루어지는 제조설비에서 여러 가지 파라미터 값을 수시로 체크할 수 있고, 따라서 공정분위기 이상 여부를 즉시 알 수 있으며, 제조설비의 상태 확인이 용이하다.

본 발명의 실시예에 따른 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치는 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기본 원리를 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 설계되고, 응용될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자에게는 자명한 사실이라 할 것이다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의한 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터 장치는 여러 가지의 공정 파라미터 값을 수시로 체크하고, 일정기간 동안의 파라미터 값을 한눈에 체크할 수 있도록 되어있어, 작업자가 여러 가지 공정분위기 이상 여부를 즉시 알 수 있으며, 제조설비의 상태 확인이 용이하다.

Claims (3)

1. 반도체 장치를 제조하기 위한 공정이 이루어지는 제조설비의 전반적인 동작을 제어하면서, 계측설비에 의해 계측되는 공정 파라미터 값을 인가 받아 메모리에 저장하고, 상기 계측된 공정 파라미터 값을 작업자가 보기 쉬운 형태로 편집하는 호스트 컴퓨터와;

   상기 호스트 컴퓨터에 연결되어, 상기 계측된 공정 파라미터 값을 작업자의 요구에 따라 디스플레이 하는 모니터를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 모니터는 터치 스크린임을 특징으로 하는 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치.
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,

   상기 모니터는 일정기간 동안 계측된 공정 파라미터 값을 디스플레이 함을 특징으로 하는 반도체 장치 제조설비의 공정 모니터장치.

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