KR20060051423A - Complex functional film for plasma display panel - Google Patents

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KR20060051423A
KR20060051423A KR1020050087312A KR20050087312A KR20060051423A KR 20060051423 A KR20060051423 A KR 20060051423A KR 1020050087312 A KR1020050087312 A KR 1020050087312A KR 20050087312 A KR20050087312 A KR 20050087312A KR 20060051423 A KR20060051423 A KR 20060051423A
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plasma display
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KR1020050087312A
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겐지 미따무라
다까노리 야마시따
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제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 경박층화가 가능해질 뿐만 아니라, 그 취급성도 양호하며, 플라즈마 디스플레이 패널에 직접 접합시킬 수 있고, 반사 방지 등의 광학 특성이나 근적외선 및 전자파의 차폐성을 유지하며, 우수한 광 투과성과 시인성이 얻어지는 복합 기능 필름을 제공한다. The present invention not only makes the thin and thin layer of the plasma display panel possible, but also the handling thereof is good, and it can be directly bonded to the plasma display panel, and maintains optical properties such as antireflection, shielding of near infrared rays and electromagnetic waves, and excellent light transmittance. It provides the composite functional film from which visibility is obtained.

상기 복합 기능 필름은 하기의 조건을 만족하는 반사 방지층 및 근적외선 흡수층을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름을 제공한다. The composite functional film provides a composite functional film for a plasma display panel having an antireflection layer and a near infrared absorbing layer satisfying the following conditions.

(1) 반사 방지층이 하기 (i) 및 (ii)을 갖는 적층을 포함한다.(1) The antireflection layer includes a laminate having the following (i) and (ii).

(i) 도전성 금속 산화물 입자와, 알콕시실릴기 함유 화합물, 이 화합물의 가수분해물 및 가수분해 축합물로부터 선택되는 1종 이상을 함유하는 고굴절률층. (i) The high refractive index layer containing electroconductive metal oxide particle, 1 or more types chosen from the alkoxy silyl group containing compound, the hydrolyzate, and hydrolysis condensate of this compound.

(ii) 폴리실록산 세그먼트를 갖는 불소 함유 올레핀계 중합체를 함유하는 저굴절률층. (ii) A low refractive index layer containing a fluorine-containing olefin polymer having a polysiloxane segment.

(2) 근적외선 흡수층이 노르보르넨계 수지를 함유한다. (2) The near infrared absorbing layer contains a norbornene-based resin.

플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름, 반사 방지층, 근적외선 흡수층 Composite function film for plasma display panel, antireflection layer, near infrared absorption layer

Description

플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름 {Complex Functional Film for Plasma Display Panel}Complex Functional Film for Plasma Display Panel

도 1은 본 발명의 복합 기능 필름의 형태를 나타내는 모식도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic diagram which shows the form of the composite functional film of this invention.

도 2는 본 발명의 복합 기능 필름을 PDP용 기판에 사용했을 때의 형태를 나타내는 모식도이다. It is a schematic diagram which shows the form at the time of using the composite functional film of this invention for the board | substrate for PDP.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>

1 지지 필름1 support film

2 충격 흡수층2 shock absorbing layer

3 전자파 실드층3 electromagnetic shielding layer

4 근적외선 흡수층4 near infrared absorption layer

5 반사 방지층5 antireflective layer

6 지지 필름6 support film

7 하드 코팅층7 hard coating layer

8 고반사 방지층8 anti-reflective layer

9 저반사 방지층9 anti-reflective layer

10 PDP용 전면판 10 Front panel for PDP

본 발명은 플라즈마 디스플레이의 전면판 유리 기판의 전면에 직접 접합할 수 있는 복합 기능 필름에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 공극을 설치하지 않아도 균열 등의 패널 손상을 억제할 수 있음과 동시에, 패널을 경량화 및 박육화할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a composite functional film that can be directly bonded to the front surface of a front plate glass substrate of a plasma display. More specifically, the present invention relates to a composite function film for plasma display panel that can suppress panel damage such as cracks and the like, and can reduce the weight and thickness of the panel without providing voids.

최근, 평판형의 형광 표시체로서 플라즈마 디스플레이 패널(이하, "PDP"라고도 함)이 주목받고 있다. In recent years, a plasma display panel (hereinafter also referred to as "PDP") has attracted attention as a flat fluorescent display.

PDP에 사용되고 있는 표시 유리는, 패널 자체의 경량화 및 박육화의 요구로부터 박육화의 경향이 있고, 그에 따라 파손되기 쉽게 되어 있다. 이 때문에 유리의 파손 방지나 파손시 유리 비산 방지를 위해, 폴리카르보네이트제나 아크릴제 등의 보호 수지층을 유리상에 설치하는 검토가 이루어지고 있다. 또한 이 때, 보호 수지층과 표시 유리와의 계면에서 빛의 반사에 의해 다중 반사상이 형성되어 화상의 이중 투영이 발생하는 등 소자 특성에 악영향이 발생하는 경우가 있기 때문에, 두 층 사이에 공극을 설치함으로써 다중 반사를 방지하는 것이 검토되고 있다. The display glass used for the PDP tends to be thinner due to the reduction in weight and thickness of the panel itself, and is thus easily broken. For this reason, the examination which installs protective resin layers, such as polycarbonate and an acryl agent, on glass is performed in order to prevent breakage of a glass, and the prevention of glass scattering at the time of breakage. In this case, since multiple reflection images are formed by the reflection of light at the interface between the protective resin layer and the display glass, and a double projection of the image may occur, adverse effects may occur on the device characteristics. It is examined to prevent multiple reflections by providing it.

또한, PDP로부터 방출되는 전자파나 근적외선을 차폐하기 위해 전자파 실드(shield)재나 근적외선 차폐재를 사용할 필요가 있다. In addition, in order to shield electromagnetic waves and near infrared rays emitted from the PDP, it is necessary to use an electromagnetic shielding material or a near infrared shielding material.

전자파 실드재로는, 금속 와이어를 격자상으로 엮은 금속 메쉬가 알려져 있다. 또한, 폴리에스테르 필름상에 무전해 도금 등의 수단에 의해 코팅한 금속 메쉬, 또는 초미세의 금속 메쉬막을 형성하는 것도 있다. As an electromagnetic shielding material, the metal mesh which woven the metal wire in grid form is known. In addition, a metal mesh coated with a means such as electroless plating or an ultrafine metal mesh film may be formed on a polyester film.

또한, 근적외선 차폐재로는 유리 등의 투명 기재의 표면에 은 등의 금속을 증착한 근적외선 반사재나, 아크릴 수지나 폴리카르보네이트 수지 등의 투명 수지에 근적외선 흡수 색소를 첨가한 근적외선 흡수재 등이 사용되고 있다. As the near-infrared shielding material, a near-infrared reflector in which a metal such as silver is deposited on the surface of a transparent substrate such as glass, or a near-infrared absorber in which a near-infrared absorbing dye is added to a transparent resin such as an acrylic resin or a polycarbonate resin is used. .

이와 같이 PDP의 전면판에는, 통상 복층으로 이루어지는 기능층이 존재하는 것이 최근 일반적으로 되고 있다.In this way, it is common in recent years that the functional layer which consists of a multilayer usually exists in the front plate of a PDP.

그러나, PDP에서는 전면판의 투과광이 화상을 형성하기 때문에, 전면판에 공극을 대표로 한 다수의 반사 계면이 존재하면, 다중 반사상이 형성되어 화면이 희미해지거나, 잘 보이지 않는다는 문제가 있다. 또한, 다수의 기능층의 존재에 의해 광투과율이 저하한다는 문제가 있다. 또한, 경량화 및 박육화가 요구되고 있는 것에 반해, 패널이 중후해진다는 문제가 있다. However, in the PDP, since the transmitted light of the front plate forms an image, when there are a large number of reflective interfaces representing voids on the front plate, there is a problem in that multiple reflective images are formed and the screen is blurred or difficult to see. Moreover, there exists a problem that light transmittance falls by presence of many functional layers. In addition, while weight reduction and thinning are required, there is a problem that the panel becomes heavy.

본 발명의 과제는 PDP 전면판에 필요한 기능을 갖게 하면서, 우수한 시인성 및 광 투과성을 갖고, 투명성이 우수하며 충격 흡수성이 우수한 PDP용 복합 기능 필름을 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a composite functional film for PDP having excellent functions for providing a PDP front plate, having excellent visibility and light transmittance, excellent transparency, and excellent impact absorption.

본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름(이하, 간단히 "본 발명의 복합 기능 필름"이라고도 함)은 하기의 조건을 만족하는 근적외선 흡수층 및 반사 방지층을 갖는 것을 특징으로 한다. The composite functional film for plasma display panel of the present invention (hereinafter also referred to simply as "the composite functional film of the present invention") is characterized by having a near-infrared absorbing layer and an antireflection layer satisfying the following conditions.

(1) 반사 방지층이 하기 (i) 및 (ii)을 갖는 적층을 포함한다. (1) The antireflection layer includes a laminate having the following (i) and (ii).

(i) 도전성 금속 산화물 입자와, 알콕시실릴기 함유 화합물, 이 화합물의 가 수분해물 및 가수분해 축합물로부터 선택되는 1종 이상을 함유하는 고굴절률층. (i) The high refractive index layer containing electroconductive metal oxide particle, 1 or more types chosen from the alkoxy silyl group containing compound, the hydrolyzate, and hydrolysis condensate of this compound.

(ii) 폴리실록산 세그먼트를 갖는 불소 함유 올레핀계 중합체를 함유하는 저굴절률층. (ii) A low refractive index layer containing a fluorine-containing olefin polymer having a polysiloxane segment.

(2) 근적외선 흡수층이 노르보르넨계 수지를 함유한다. (2) The near infrared absorbing layer contains a norbornene-based resin.

본 발명의 복합 기능 필름은, 추가로 충격 흡수층을 갖는 것이 바람직하다. It is preferable that the composite function film of this invention has a shock absorbing layer further.

또한, 본 발명의 복합 기능 필름은, 추가로 전자파 실드층을 갖는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the composite function film of this invention has an electromagnetic shielding layer further.

또한, 본 발명의 복합 기능 필름은 지지 필름상에 반사 방지층 및 근적외선 흡수층을 갖는 적층이 형성되어 이루어지는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the composite function film of this invention is formed by lamination | stacking which has an antireflection layer and a near-infrared absorption layer on a support film.

<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>Best Mode for Carrying Out the Invention

본 발명의 복합 기능 필름은 근적외선 흡수층 및 반사 방지층과, 바람직하게는 충격 흡수층 및(또는) 전자파 실드층을 갖는 것이다. 특히, 이들 층이 지지 필름 상에 적층 형성된 것이 바람직하고, 형성된 층 상에 제2 지지 필름을 중첩시킨 것이 특히 바람직하다. 각 층의 적층 순서로는, 1. (지지 필름)/(충격 흡수층)/(전자파 실드층)/근적외선 흡수층/반사 방지층/(지지 필름)의 순서, 또는 2. (지지 필름)/(충격 흡수층)/근적외선 흡수층/(전자파 실드층)/반사 방지층/(지지 필름)의 순서로 적층되는 것이 바람직하고, 1.의 순서로 적층되는 것이 특히 바람직하다. The composite functional film of the present invention has a near infrared absorbing layer and an antireflection layer, and preferably a shock absorbing layer and / or an electromagnetic shielding layer. In particular, it is preferable that these layers were laminated | stacked on the support film, and it is especially preferable that the 2nd support film was superimposed on the formed layer. In order of lamination | stacking of each layer, the order of 1. (support film) / (shock absorbing layer) / (electromagnetic shield layer) / near-infrared absorbing layer / antireflection layer / (support film), or 2. (support film) / (shock absorbing layer) It is preferable to laminate in order of) / near-infrared absorption layer / (electromagnetic shield layer) / reflection prevention layer / (support film), and it is especially preferable to laminate in order of 1.

이하, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름을 구성하는 부재 및 제조 방법에 대해서 상세히 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the member and the manufacturing method which comprise the composite functional film for plasma display panels of this invention are demonstrated in detail.

<근적외선 흡수층> <Near infrared absorbing layer>

본 발명을 구성하는 근적외선 흡수층은 노르보르넨계 수지를 함유하는 것을 특징으로 한다. 통상, 노르보르넨계 수지에 근적외선 흡수 색소를 용해·분산시킨 층이나, 노르보르넨계 수지층에 근적외선 흡수능을 갖는 박막을 코팅한 층이 사용된다. The near-infrared absorption layer which comprises this invention contains a norbornene-type resin, It is characterized by the above-mentioned. Usually, the layer which melt | dissolved and disperse | distributed the near-infrared absorbing dye in norbornene-type resin, or the layer which coated the thin film which has near-infrared absorptivity to the norbornene-type resin layer is used.

노르보르넨계 수지 및 근적외선 흡수 색소를 함유하는 층은, 노르보르넨계 수지 및 근적외선 흡수 색소를 용제에 용해·분산시킨 조성물(이하, "특정 조성물"이라고도 함)을 제조하고, 이 조성물로부터 용제를 제거하여 용융 성형하는 방법, 또는 상기 조성물을 캐스팅(캐스트 성형)하는 방법에 의해 근적외선 흡수층을 제조함으로써 제조할 수 있다. The layer containing the norbornene-based resin and the near infrared absorbing dye prepares a composition (hereinafter, also referred to as a "specific composition") in which the norbornene-based resin and the near infrared absorbing dye are dissolved and dispersed in a solvent, and the solvent is removed from the composition. It can be manufactured by manufacturing a near-infrared absorbing layer by the method of melt-molding, or the method of casting (cast molding) the said composition.

[노르보르넨계 수지][Norbornene-based resin]

단량체Monomer

본 발명에 사용되는 노르보르넨계 수지로는, 하기 화학식 1로 표시되는 1종 이상의 노르보르넨계 화합물(이하, "특정 단량체"라고도 함)을 포함하는 단량체를 (공)중합하여 얻어진 수지를 들 수 있다. 특히, 상기 노르보르넨계 화합물을 포함하는 단량체를 개환 (공)중합하고, 추가로 수소 첨가하여 얻어진 수지가 바람직하다. As norbornene-type resin used for this invention, resin obtained by (co) polymerizing the monomer containing the 1 or more types of norbornene-type compound (Hereinafter, also called a "specific monomer") represented by following General formula (1) is mentioned. have. In particular, resin obtained by ring-opening (co) polymerizing the monomer containing the norbornene-based compound and further hydrogenating is preferable.

Figure 112005052248976-PAT00001
Figure 112005052248976-PAT00001

식 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내 지 30의 탄화수소기, 또는 그 밖의 1가 유기기로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, R1 내지 R4 중 적어도 하나는 산소 원자, 질소 원자, 황 원자 또는 규소 원자로부터 선택된 1종 이상의 원자를 1개 이상 포함하는 1가 극성기이며, R1과 R2 또는 R3과 R4가 서로 결합하여 알킬리덴기를 형성할 수도 있고, R1과 R2, R3과 R4 또는 R2와 R3이 서로 결합하여 탄소환 또는 복소환(이들 탄소환 또는 복소환은 단환 구조일 수도 있고, 다른 환이 축합하여 다환 구조를 형성할 수도 있음)을 형성할 수도 있으며, 형성되는 탄소환 또는 복소환은 방향환일 수도 있고 비방향환일 수도 있으며, m은 0 내지 3의 정수이고, p는 0 또는 1이다.In the formula, each of R 1 to R 4 independently represents an atom or group selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group of 1 to 30 carbon atoms, or another monovalent organic group, and R 1 to R 4 At least one is a monovalent polar group containing at least one atom selected from an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom, and R 1 and R 2 or R 3 and R 4 are bonded to each other to form an alkylidene group May be formed, R 1 and R 2 , R 3 and R 4 Alternatively, R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a carbocyclic ring or a heterocycle (these carbocyclic rings or heterocycles may be monocyclic, or other rings may be condensed to form a polycyclic structure). The summoned or heterocyclic ring may be an aromatic ring or a non-aromatic ring, m is an integer of 0 to 3, and p is 0 or 1.

특정 단량체는 그 분자 내에 산소 원자, 질소 원자, 황 원자 또는 규소 원자로부터 선택된 1종 이상의 원자를 1개 이상 포함하는 구조(이하, "극성 구조"라 함)를 갖는 화합물이고, 특정 단량체로부터 얻어진 수지는 다른 소재와의 접착성이나 밀착성이 우수하기 때문에 바람직하다. 구체적인 극성 구조로는, 카르복실기, 수산기, 알콕시카르보닐기, 알릴옥시카르보닐기, 아미노기, 아미드기, 시아노기, 알콕시실릴기 등을 들 수 있고, 이들 극성기는 메틸렌기 등의 연결기를 개재하여 결합되어 있을 수도 있다. The specific monomer is a compound having a structure (hereinafter referred to as "polar structure") containing at least one atom selected from an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom in its molecule (hereinafter referred to as "polar structure"), Since it is excellent in adhesiveness and adhesiveness with another raw material, it is preferable. As a specific polar structure, a carboxyl group, a hydroxyl group, an alkoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, a cyano group, an alkoxysilyl group, etc. are mentioned, These polar groups may be couple | bonded through coupling groups, such as a methylene group. .

이러한 특정 단량체의 구체예로는, 예를 들면 이하에 기재하는 화합물을 예시할 수 있지만, 본 발명이 이들 구체예로 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 특정 단량체는 1종 단독으로 사용할 수도 있고 2종 이상을 병용할 수도 있다. As a specific example of such a specific monomer, the compound described below can be illustrated, for example, However, this invention is not limited to these specific examples. In addition, the said specific monomer may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-시클로헥실옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-cyclohexyloxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-phenoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-시아노비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-cyanobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-페닐술포닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-phenylsulfonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-트리메톡시실릴비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-trimethoxysilylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-트리에톡시실릴비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-triethoxysilylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-메틸-5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-methyl-5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

8-메톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-에톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-n-프로폭시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-이소프로폭시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-n-부톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-에톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-n-프로폭시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-이소프로폭시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-n-부톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

5,5,6-트리플루오로-6-트리플루오로메톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5,6-trifluoro-6-trifluoromethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5,6-트리플루오로-6-헵타플루오로프로폭시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5,6-trifluoro-6-heptafluoropropoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

8,8,9-트리플루오로-9-트리플루오로메톡시테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,8,9-trifluoro-9-trifluoromethoxytetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,8,9-트리플루오로-9-펜타플루오로프로폭시테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,8,9-trifluoro-9-pentafluoropropoxytetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-(2,2,2-트리플루오로에톡시카르보닐)테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8- (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-(2,2,2-트리플루오로에톡시카르보닐)테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센.8-methyl-8- (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene.

상기 특정 단량체 중 바람직한 것은, 상기 화학식 1 중 R1 및 R3이 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 3의 탄화수소기, 바람직하게는 수소 원자 또는 메틸기이고, R2 또는 R4 중 어느 하나가 극성 구조를 갖는 기이며, 다른 하나가 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 3의 탄화수소기인 화합물은 수지의 흡수(습)성이 낮아 바람직하다. Among the specific monomers, R 1 and R 3 in Formula 1 are hydrogen atoms or hydrocarbon groups having 1 to 3 carbon atoms, preferably hydrogen atoms or methyl groups, and R 2 or R 4 Either one is a group having a polar structure, and the other is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, which is preferably low in water absorption (wet) property of the resin.

또한, 극성기로는 카르복실기, 수산기, 알콕시카르보닐기 또는 알릴옥시카르보닐기가 바람직하고, 특히 알콕시카르보닐기 또는 알릴옥시카르보닐기는 색소와의 과도한 상호 작용이 없기 때문에 바람직하다. 즉, 본 발명에서는 상기 특정 단량체로서 하기 화학식 2로 표시되는 극성기를 1개 갖는 화합물이, 얻어지는 수지의 내열성과 흡수(습)성의 조화를 이루기 쉬워 바람직하게 사용할 수 있다. Moreover, as a polar group, a carboxyl group, a hydroxyl group, an alkoxycarbonyl group, or an allyloxycarbonyl group is preferable, and especially an alkoxycarbonyl group or allyloxycarbonyl group is preferable because there is no excessive interaction with a pigment | dye. That is, in this invention, the compound which has one polar group represented by following General formula (2) as said specific monomer is easy to harmonize with the heat resistance and water absorption (wetness) of resin obtained, and can be used preferably.

-(CH2)nCOOR-(CH 2 ) n COOR

식 중, R은 치환 또는 비치환된 탄소 원자수 1 내지 15의 탄화수소기를 나타내고, n은 0 또는 1 내지 10의 정수를 나타낸다.In the formula, R represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, and n represents 0 or an integer of 1 to 10.

상기 화학식 2에서, n값이 클수록 흡수(습)성이 낮은 수지가 얻어지지만 수지의 유리 전이 온도가 저하하여 내열성이 저하하기 때문에, 0 또는 1 내지 3의 정수인 것이 바람직하며, n이 0인 단량체는 그 합성이 용이하다는 점에서 바람직하다. 또한, 상기 화학식 2에서 R은 탄소수가 많을수록 흡수(습)성이 낮은 수지가 얻어지는 경향이 있지만 유리 전이 온도가 저하하여 내열성이 저하하는 경향이 있는 것 이외에 색소 분산성을 저하시키는 경향도 있으므로, 탄소수 1 내지 12의 탄화수소기가 바람직하고, 특히 탄소수 1 내지 3의 직쇄상 또는 분지상 알킬기, 탄소수 5 또는 6의 시클로알킬기, 또는 탄소수 6 내지 12의 방향족기인 것이 바람직하다. In the above formula (2), a resin having a low water absorption (wet) property is obtained as the n value is larger, but the glass transition temperature of the resin decreases and the heat resistance decreases, so that it is preferably an integer of 0 or 1 to 3, and n is a monomer. Is preferable in that the synthesis is easy. In addition, in the formula (2), R has a tendency to obtain a resin having low water absorption (wet) as the number of carbons increases, but in addition to a tendency to lower the glass transition temperature and lower heat resistance, there is also a tendency to lower the dye dispersibility, A hydrocarbon group of 1 to 12 is preferable, and in particular, a linear or branched alkyl group of 1 to 3 carbon atoms, a cycloalkyl group of 5 or 6 carbon atoms, or an aromatic group of 6 to 12 carbon atoms is preferable.

또한, 상기 화학식 1에서, 상기 화학식 2로 표시되는 기가 결합한 탄소 원자에 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 특히 메틸기가 결합하고 있으면, 내열성과 흡수(습) 성의 조화의 점에서 바람직하다. In the above formula (1), an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, particularly a methyl group, is bonded to the carbon atom to which the group represented by the formula (2) is bonded.

또한, 상기 화학식 1 중 m=0 또는 1, p=0인 화합물은 반응성이 높고, 고수율로 수지가 얻어지는 것, 또한 내열성이 높은 중합체 수소 첨가물이 얻어지는 것, 또한 공업적으로 입수가 용이하기 때문에 바람직하게 사용된다. In addition, since the compound which is m = 0 or 1, p = 0 in the said General formula (1) is high in reactivity, resin is obtained by a high yield, polymer hydrogen additive with high heat resistance is obtained, and also industrial availability is easy. It is preferably used.

상기 구체예 중, 5-메틸-5-메톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 또는 8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센이 특정 단량체로서 특히 바람직하다. In the above embodiments, 5-methyl-5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene or 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7 , 10 ] -3-dodecene is particularly preferred as the specific monomer.

본 발명에서는, 상기 특정 단량체 이외에 이것과 공중합가능한 화합물(이하, "공중합성 단량체"라 함)을 병용할 수도 있다. 이러한 화합물로는, 예를 들면 상기 특정 단량체 이외의 극성기를 갖지 않는 노르보르넨계 화합물을 들 수 있다. 구체적으로는, In this invention, the compound copolymerizable with this (henceforth a "copolymerizable monomer") can also be used besides the said specific monomer. As such a compound, the norbornene-type compound which does not have polar groups other than the said specific monomer is mentioned, for example. Specifically,

비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

트리시클로[4.3.0.12,5]-3-데센, Tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -3-decene,

테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, Tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-에틸리덴비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-ethylidenebicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

8-에틸리덴테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-ethylidenetetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

5-페닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-phenylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

8-페닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-phenyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

5-플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-fluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-플루오로메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-fluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-트리플루오로메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-펜타플루오로에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-pentafluoroethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5-디플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,6-디플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5-비스(트리플루오로메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,6-비스(트리플루오로메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-메틸-5-트리플루오로메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-methyl-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5,6-트리플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5,6-트리스(플루오로메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5,6-tris (fluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5,6,6-테트라플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5,6,6-tetrafluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5,6,6-테트라키스(트리플루오로메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5,6,6-tetrakis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5-디플루오로-6,6-비스(트리플루오로메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5-difluoro-6,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,6-디플루오로-5,6-비스(트리플루오로메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-difluoro-5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,5,6-트리플루오로-5-트리플루오로메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,5,6-trifluoro-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-플루오로-5-펜타플루오로에틸-6,6-비스(트리플루오로메틸)비시클로[2.2.1] 헵트-2-엔, 5-fluoro-5-pentafluoroethyl-6,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,6-디플루오로-5-헵타플루오로-이소-프로필-6-트리플루오로메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-difluoro-5-heptafluoro-iso-propyl-6-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5-클로로-5,6,6-트리플루오로비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-chloro-5,6,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

5,6-디클로로-5,6-비스(트리플루오로메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-dichloro-5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,

8-플루오로테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-fluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-플루오로메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-fluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-디플루오로메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-difluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-트리플루오로메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-펜타플루오로에틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센,8-pentafluoroethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,8-디플루오로테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,8-difluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,9-디플루오로테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,9-difluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,8-비스(트리플루오로메틸)테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,8-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,9-비스(트리플루오로메틸)테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-메틸-8-트리플루오로메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-methyl-8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,8,9-트리플루오로테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센,8,8,9-trifluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,8,9-트리스(트리플루오로메틸)테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,8,9-tris (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,8,9,9-테트라플루오로테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,8,9,9-tetrafluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,8,9,9-테트라키스(트리플루오로메틸)테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,8,9,9-tetrakis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,8-디플루오로-9,9-비스(트리플루오로메틸)테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,8-difluoro-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,9-디플루오로-8,9-비스(트리플루오로메틸)테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,9-difluoro-8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,8,9-트리플루오로-9-트리플루오로메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,8,9-trifluoro-9-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-플루오로-8-펜타플루오로에틸-9,9-비스(트리플루오로메틸)테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-fluoro-8-pentafluoroethyl-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,9-디플루오로-8-헵타플루오로-이소-프로필-9-트리플루오로메틸테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8,9-difluoro-8-heptafluoro-iso-propyl-9-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8-클로로-8,9,9-트리플루오로테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센, 8-chloro-8,9,9-trifluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene,

8,9-디클로로-8,9-비스(트리플루오로메틸)테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도 데센 등을 들 수 있다. 8,9-dichloro-8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene and the like.

본 발명에서는 시클로부텐, 시클로펜텐, 시클로헵텐, 시클로옥텐, 디시클로펜타디엔 등의 시클로올레핀을 공중합성 단량체로서 사용할 수도 있다. 시클로올레핀의 탄소수로는 4 내지 20이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 5 내지 12이다. In the present invention, cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclooctene and dicyclopentadiene may be used as the copolymerizable monomer. As carbon number of a cycloolefin, 4-20 are preferable, More preferably, it is 5-12.

본 발명에서는, 이들 공중합성 단량체는 상기 구체예로 한정되는 것은 아니며, 1종 단독으로 사용할 수도 있고 2종 이상을 병용할 수도 있다. In this invention, these copolymerizable monomers are not limited to the said specific example, You may use individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

전체 단량체에서의 특정 단량체와 다른 공중합성 단량체와의 바람직한 비율(특정 단량체/다른 공중합성 단량체)은 단량체의 종류에 따라 다르지만, 통상 중량비로 100/0 내지 50/50이고, 더욱 바람직하게는 100/0 내지 60/40이다. The preferred ratio of specific monomers to other copolymerizable monomers (specific monomers / other copolymerizable monomers) in the total monomers varies depending on the type of monomer, but is usually 100/0 to 50/50 in weight ratio, more preferably 100 / 0 to 60/40.

중합 방법Polymerization method

본 발명에 사용되는 노르보르넨계 수지의 중합 방법에 대해서는, 개환 중합 또는 부가 중합을 행할 수 있다. 이 중, 개환 중합에 의해 얻어진 노르보르넨계 수지가 바람직하고, 개환 중합하고, 추가로 수소 첨가하여 얻어진 수지가 특히 바람직하다. About the polymerization method of norbornene-type resin used for this invention, ring-opening polymerization or addition polymerization can be performed. Among these, norbornene-based resin obtained by ring-opening polymerization is preferable, and resin obtained by ring-opening polymerization and further hydrogenation is particularly preferable.

개환 중합 반응은 복분해 촉매의 존재하에 행해진다. 이 복분해 촉매는, The ring-opening polymerization reaction is carried out in the presence of a metathesis catalyst. This metathesis catalyst,

(A) W, Mo 및 Re를 갖는 화합물로부터 선택된 1종 이상의 화합물(이하, 화합물 (A)라 함)과, (A) at least one compound selected from compounds having W, Mo and Re (hereinafter referred to as compound (A)),

(B) 데밍의 주기율표 IA족 원소(예를 들면 Li, Na, K 등), IIA족 원소(예를 들면, Mg, Ca 등), IIB족 원소(예를 들면, Zn, Cd, Hg 등), IIIA족 원소(예를 들면, B, Al 등), IVA족 원소(예를 들면, Si, Sn, Pb 등), 또는 IVB족 원소(예를 들면, Ti, Zr 등)를 갖는 화합물이며, 이 원소와 탄소와의 결합 또는 이 원소와 수소와의 결합을 1개 이상 갖는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물(이하, 화합물 (B)라 함)과의 조합을 포함하는 촉매이다. 또한, 촉매의 활성을 높이기 위해 하기의 첨가제(C)를 더 첨가한 것일 수도 있다. (B) Periodic Table of Deming Group IA elements (e.g., Li, Na, K, etc.), Group IIA elements (e.g., Mg, Ca, etc.), Group IIB elements (e.g., Zn, Cd, Hg, etc.) , Group IIIA elements (e.g., B, Al, etc.), group IVA elements (e.g., Si, Sn, Pb, etc.), or compounds having group IVB elements (e.g., Ti, Zr, etc.), A catalyst comprising a combination of one or more compounds selected from compounds having at least one bond of this element with carbon or at least one bond of this element with hydrogen (hereinafter referred to as compound (B)). In addition, the following additive (C) may be further added to increase the activity of the catalyst.

화합물 (A)로는, W, Mo 또는 Re의 할로겐화물, 옥시할로겐화물, 알콕시할로겐화물, 알콕시드, 카르복실산염, (옥시)아세틸아세토네이트, 카르보닐 착체, 아세토니트릴 착체, 히드리드 착체, 및 그의 유도체, 또는 이들의 조합을 들 수 있지만, W 및 Mo의 화합물, 특히 이들의 할로겐화물, 옥시할로겐화물 및 알콕시할로겐화물이 중합활성, 실용성의 점에서 바람직하다. 또한, 반응에 의해서 상기한 화합물을 생성하는 2종 이상의 화합물의 혼합물을 사용할 수도 있다. 또한, 이들 화합물은 적당한 착화제, 예를 들면 P(C6H5)5, C5H5N 등에 의해 착화되어 있을 수도 있다. Examples of the compound (A) include halides, oxyhalides, alkoxyhalides, alkoxides, carboxylates, (oxy) acetylacetonates, carbonyl complexes, acetonitrile complexes, hydride complexes of W, Mo or Re, and Although derivatives thereof or combinations thereof can be mentioned, compounds of W and Mo, particularly halides, oxyhalides and alkoxy halides thereof, are preferable in terms of polymerization activity and practicality. Moreover, the mixture of 2 or more types of compounds which produce the compound mentioned above by reaction can also be used. In addition, these compounds may be complexed with a suitable complexing agent, for example, P (C 6 H 5 ) 5 , C 5 H 5 N, or the like.

화합물 (A)의 구체적인 예로는, WCl6, WCl5, WCl4, WBr6, WF6, WI6, MoCl5, MoCl4, MoCl3, ReCl3, WOCl4, MoOCl3, ReOCl3, ReOBr3, W(OC6H5)6, WCl2(OC6H5)4, Mo(OC2H5)2Cl3, Mo(OC2H5)5, Mo02(acac)2, W(OCOR)5, W(OC2H5)2Cl3, W(CO)6, Mo(CO)6, Re2(CO)10, ReOBr3·P(C6H5)3, WCl5·P(C6H5)3, WCl6·C5H5N, W(CO)5·P(C6H5)3, W(CO)3·(CH3CN)3 등을 들 수 있다. 또한 이들 중 특히 바람직한 화합물로서 MoCl5, Mo(OC2H5)2Cl3, WCl6, W(OC2H5)2Cl3 등을 들 수 있다. Specific examples of the compound (A) include WCl 6 , WCl 5 , WCl 4 , WBr 6 , WF 6 , WI 6 , MoCl 5 , MoCl 4 , MoCl 3 , ReCl 3 , WOCl 4 , MoOCl 3 , ReOCl 3 , ReOBr 3 , W (OC 6 H 5 ) 6 , WCl 2 (OC 6 H 5 ) 4 , Mo (OC 2 H 5 ) 2 Cl 3 , Mo (OC 2 H 5 ) 5 , Mo0 2 (acac) 2 , W (OCOR ) 5, W (OC 2 H 5) 2 Cl 3, W (CO) 6, Mo (CO) 6, Re 2 (CO) 10, ReOBr 3 · P (C 6 H 5) 3, WCl 5 · P ( C 6 H 5), and the like 3, WCl 6 · C 5 H 5 N, W (CO) 5 · P (C 6 H 5) 3, W (CO) 3 · (CH 3 CN) 3. Among these, particularly preferred compounds include MoCl 5 , Mo (OC 2 H 5 ) 2 Cl 3 , WCl 6 , W (OC 2 H 5 ) 2 Cl 3 , and the like.

화합물 (B)의 구체적인 예로는, n-C4H5Li, n-C5H11Na, C5H5Na, CH3MgI, C2H5MgBr, CH3MgBr, n-C3H7MgCl, (C6H5)3Al, t-C4H9MgCl, CH2=CHCH2MgCl, (C2H5)2Zn, (C2H5)2Cd, CaZn(C2H5)4, (CH3)3B, (C2H5)3B, (n-C4H9)3B, (CH3)3Al, (CH3)2AlCl, (CH3)3Al2Cl3, CH3AlCl2, (C2H5)3Al, LiAl(C2H5)2, (C2H5)3Al-O(C2H5)2, (C2H5)2AlCl, C2H5AlCl2, (C2H5)2AlH, (이소-C4H9)2AlH, (C2H5)2AlOC2H5, (이소-C4H9)3Al, (C2H5)3Al2Cl3, (CH3)4Ga, (CH3)4Sn, (n-C4H9)4Sn, (C2H5)3SiH, (n-C6H13)3Al, (n-C4H17)3Al, LiH, NaH, B2H6, NaBH4, AlH3, LiAlH4, BiH4 및 TiH4 등을 들 수 있다. 또한 반응에 의해서 이들 화합물을 생성하는 2종 이상의 화합물의 혼합물을 사용할 수도 있다. 이들 중에서 바람직한 예로는, (CH3)3Al, (CH3)2AlCl, (CH3)3Al2Cl3, CH3AlCl2, (C2H5)3Al, (C2H5)2AlCl, (C2H5)1.5AlCl1 .5, C2H5AlCl2, (C2H5)2AlH, (C2H5)2AlOC2H5, (C2H5)2AlCN, (C3H7)3Al, (이소-C4H9)3Al, (이소-C4H9)2AlH, (C6H13)3Al, (C8H17)3Al, (C6H5)5Al 등을 들 수 있다. Specific examples of compound (B) include nC 4 H 5 Li, nC 5 H 11 Na, C 5 H 5 Na, CH 3 MgI, C 2 H 5 MgBr, CH 3 MgBr, nC 3 H 7 MgCl, (C 6 H 5 ) 3 Al, tC 4 H 9 MgCl, CH 2 = CHCH 2 MgCl, (C 2 H 5 ) 2 Zn, (C 2 H 5 ) 2 Cd, CaZn (C 2 H 5 ) 4 , (CH 3 ) 3 B, (C 2 H 5 ) 3 B, (nC 4 H 9 ) 3 B, (CH 3 ) 3 Al, (CH 3 ) 2 AlCl, (CH 3 ) 3 Al 2 Cl 3 , CH 3 AlCl 2 , (C 2 H 5 ) 3 Al, LiAl (C 2 H 5 ) 2 , (C 2 H 5 ) 3 Al-O (C 2 H 5 ) 2 , (C 2 H 5 ) 2 AlCl, C 2 H 5 AlCl 2 , (C 2 H 5 ) 2 AlH, (iso-C 4 H 9 ) 2 AlH, (C 2 H 5 ) 2 AlOC 2 H 5 , (iso-C 4 H 9 ) 3 Al, (C 2 H 5 ) 3 Al 2 Cl 3 , (CH 3 ) 4 Ga, (CH 3 ) 4 Sn, (nC 4 H 9 ) 4 Sn, (C 2 H 5 ) 3 SiH, (nC 6 H 13 ) 3 Al, (nC 4 H 17), and the like 3 Al, LiH, NaH, B 2 H 6, NaBH 4, AlH 3, LiAlH 4, BiH 4 and TiH 4. Moreover, the mixture of 2 or more types of compounds which generate these compounds by reaction can also be used. Preferred examples of them include (CH 3 ) 3 Al, (CH 3 ) 2 AlCl, (CH 3 ) 3 Al 2 Cl 3 , CH 3 AlCl 2 , (C 2 H 5 ) 3 Al, (C 2 H 5 ) 2 AlCl, (C 2 H 5 ) 1.5 AlCl 1 .5, C 2 H 5 AlCl 2, (C 2 H 5) 2 AlH, (C 2 H 5) 2 AlOC 2 H 5, (C 2 H 5) 2 AlCN, (C 3 H 7 ) 3 Al, (iso-C 4 H 9 ) 3 Al, (iso-C 4 H 9 ) 2 AlH, (C 6 H 13 ) 3 Al, (C 8 H 17 ) 3 Al , (C 6 H 5 ) 5 Al, and the like.

상기 화합물 (A) 및 화합물 (B)와 함께 사용할 수 있는 첨가제(C)로는, 알코올류, 알데히드류, 케톤류, 아민류 등을 바람직하게 사용할 수 있고, 예를 들면 이하의 (1) 내지 (9)를 예시할 수 있다. As the additive (C) which can be used together with the compound (A) and the compound (B), alcohols, aldehydes, ketones, amines and the like can be preferably used, for example, the following (1) to (9) Can be illustrated.

(1) 단체 붕소, BF3, BCl3, B(O-n-C4H9)3, (C2H503)2, BF, B203, H3BO3 등의 붕소의 비유기 금속 화합물, Si(OC2H5)4 등의 규소의 비유기 금속 화합물; (1) Inorganic metal compounds of boron such as boron, BF 3 , BCl 3 , B (OnC 4 H 9 ) 3 , (C 2 H 5 0 3 ) 2 , BF, B 2 0 3 , H 3 BO 3 Inorganic metal compounds of silicon such as Si (OC 2 H 5 ) 4 and the like;

(2) 알코올류, 히드로퍼옥시드류 및 퍼옥시드류;(2) alcohols, hydroperoxides and peroxides;

(3) 물; (3) water;

(4) 산소; (4) oxygen;

(5) 알데히드 및 케톤 등의 카르보닐 화합물 및 그의 중합물; (5) carbonyl compounds such as aldehydes and ketones and polymers thereof;

(6) 에틸렌옥시드, 에피크롤히드린, 옥세탄 등의 환상 에테르류; (6) cyclic ethers such as ethylene oxide, epicrohydrin and oxetane;

(7) N,N-디에틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류, 아닐린, 모르폴린, 피페리딘 등의 아민류 및 아조벤젠 등의 아조 화합물; (7) amides such as N, N-diethylformamide and N, N-dimethylacetamide, amines such as aniline, morpholine and piperidine, and azo compounds such as azobenzene;

(8) N-니트로소디메틸아민, N-니트로소디페닐아민 등의 N-니트로소 화합물; (8) N-nitroso compounds such as N-nitrosodimethylamine and N-nitrosodiphenylamine;

(9) 트리클로로멜라민, N-클로로숙신이미드, 페닐술페닐클로라이드 등의 S-Cl또는 N-Cl기를 포함하는 화합물. (9) A compound containing an S-Cl or N-Cl group, such as trichloromelamine, N-chlorosuccinimide, or phenylsulphenyl chloride.

복분해 촉매의 사용량은 상기 화합물 (A)와 중합에 제공되는 전체 단량체의 몰비(화합물:전체 단량체)가 통상 1:500 내지 1:50,000, 바람직하게는 1:1,000 내지 1:10,000이 되는 양이 바람직하다. The amount of metathesis catalyst to be used is preferably such that the molar ratio of the compound (A) and the total monomers provided for the polymerization (compound: total monomers) is usually 1: 500 to 1: 50,000, preferably 1: 1,000 to 1: 10,000. Do.

화합물 (A)와 화합물 (B)와의 비율(화합물 (A):화합물 (B))은 금속 원자비로 1:1 내지 1:50, 바람직하게는 1:2 내지 1:30이 바람직하다. The ratio (compound (A): compound (B)) of the compound (A) and the compound (B) is preferably 1: 1 to 1:50, preferably 1: 2 to 1:30, in a metal atomic ratio.

화합물 (A)와 화합물 (C)와의 비율(화합물 (C):화합물 (A))은 몰비로 0.005:1 내지 15:1, 바람직하게는 0.05:1 내지 7:1이 바람직하다. The ratio (compound (C): compound (A)) of the compound (A) and the compound (C) is preferably 0.005: 1 to 15: 1, preferably 0.05: 1 to 7: 1 in molar ratio.

개환 중합 반응에서 사용되는 용매로는 중합에 제공되는 단량체나 촉매 등이 용해되고, 또한 촉매가 실활되지 않으며, 생성된 개환 중합체가 용해되는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸 등의 알칸류; 시클로헥산, 시클로헵탄, 시클로옥탄, 데칼린, 노르보르난 등의 시클로알칸류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 쿠멘 등의 방향족 탄화수소; 클로로부탄, 브로모헥산, 염화메틸렌, 디클로로에탄, 헥사메틸렌브로마이드, 클로로포름, 테트라클로로에틸렌 등의 할로겐화알칸; 클로로벤젠 등의 할로겐화아릴 화합물; 아세트산 에틸, 아세트산 n-부틸, 아세트산 이소-부틸, 프로피온산 메틸, 디메톡시에탄 등의 포화 카르복실산 에스테르류; 디부틸에테르, 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르류 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이러한 용매는 분자량 조절제 용액을 구성하는 용매, 상기 특정 단량체, 공중합성 단량체 및(또는) 복분해 촉매를 용해하기 위한 용매로서 사용된다. The solvent used in the ring-opening polymerization reaction is not particularly limited as long as the monomer or catalyst provided for the polymerization is dissolved, and the catalyst is not deactivated, and the produced ring-opening polymer is dissolved. For example, pentane, hexane, heptane, Alkanes such as octane, nonane and decane; Cycloalkanes such as cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, decalin and norbornane; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene; Halogenated alkanes such as chlorobutane, bromohexane, methylene chloride, dichloroethane, hexamethylene bromide, chloroform and tetrachloroethylene; Aryl halide compounds such as chlorobenzene; Saturated carboxylic acid esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, iso-butyl acetate, methyl propionate and dimethoxyethane; Ethers such as dibutyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane and the like. These can be used individually or in mixture of 2 or more types. Such solvents are used as solvents for constituting the molecular weight modifier solution, the specific monomers, copolymerizable monomers and / or metathesis catalysts.

용매의 사용량은 용매와 중합에 제공되는 단량체와의 중량비(용매:전체 단량체)가 통상 1:1 내지 10:1, 바람직하게는 1:1 내지 5:1이 되는 양이 바람직하다. The amount of the solvent used is preferably an amount such that the weight ratio (solvent: total monomers) of the solvent and the monomers provided for the polymerization is usually 1: 1 to 10: 1, preferably 1: 1 to 5: 1.

얻어지는 개환 중합체의 분자량은 중합 온도, 촉매의 종류, 용매의 종류에 의해서 조절하는 것도 가능하지만, 분자량 조절제를 반응계에 공존시킴으로써 조절할 수도 있다. Although the molecular weight of the ring-opened polymer obtained can also be adjusted with polymerization temperature, the kind of catalyst, and the kind of solvent, it can also adjust by coexisting a molecular weight modifier in a reaction system.

바람직한 분자량 조절제로는, 예를 들면 에틸렌, 프로펜, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-헵텐, 1-옥텐, 1-노넨, 1-데센 등의 α-올레핀류 및 스티렌을 들 수 있고, 이들 중에서 1-부텐, 1-헥센이 특히 바람직하다. 이들 분자량 조절제는 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. Preferable molecular weight modifiers include, for example, olefins such as ethylene, propene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene and styrene. Among these, 1-butene and 1-hexene are especially preferable. These molecular weight modifiers can be used individually or in mixture of 2 or more types.

분자량 조절제의 사용량은 개환 중합 반응에 제공되는 단량체 1 몰에 대하여 통상 0.005 내지 0.6 몰, 바람직하게는 0.01 내지 0.5 몰이다. The use amount of the molecular weight modifier is usually 0.005 to 0.6 mol, preferably 0.01 to 0.5 mol, based on 1 mol of the monomers provided in the ring-opening polymerization reaction.

상기 개환 중합체는 특정 단량체 단독으로, 또는 특정 단량체와 다른 공중합 성 단량체를 개환 중합시켜 얻을 수 있지만, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌 등의 공액 디엔 화합물, 스티렌-부타디엔 공중합체, 에틸렌-비공액 디엔 공중합체, 폴리노르보르넨 등, 주쇄에 탄소-탄소간 이중 결합을 2개 이상 포함하는 불포화 탄화수소계 중합체 등의 존재하에 단량체를 개환 중합시킬 수도 있다. The ring-opening polymer may be obtained by ring-opening polymerization of a specific monomer alone or a copolymerizable monomer different from a specific monomer, but a conjugated diene compound such as polybutadiene and polyisoprene, a styrene-butadiene copolymer, an ethylene-nonconjugated diene copolymer, The monomer can also be ring-opened-polymerized in the presence of an unsaturated hydrocarbon-based polymer including two or more carbon-carbon double bonds in the main chain such as polynorbornene.

상기 개환 중합체의 제조 방법에는 노르보르넨에 대한 공지된 개환 중합 반응을 사용할 수 있고, 특정 단량체와 다른 공중합성 단량체를 상기 개환 중합용 촉매나 중합 반응용 용매, 필요에 따라 상기 분자량 조절제의 존재하에 개환 중합시킴으로써 상기 개환 중합체를 제조할 수 있다. A known ring-opening polymerization reaction for norbornene can be used in the production method of the ring-opening polymer, and a specific monomer and another copolymerizable monomer can be used in the presence of the catalyst for ring-opening polymerization, a solvent for polymerization reaction, and if necessary, the molecular weight regulator. The ring-opening polymer can be produced by ring-opening polymerization.

상기한 방법에서 얻어지는 개환 중합체는, 그 분자 중에 올레핀성 불포화 결합을 갖고 있고, 그대로 사용하면 이러한 올레핀성 불포화 결합이 시간이 경과함에 따라 착색이나 겔화 등 열화의 원인이 되는 경우가 있기 때문에, 본 발명에서는 이러한 올레핀성 불포화 결합을 포화 결합으로 변환하는 수소 첨가를 행하는 것이 바람직하다. Since the ring-opening polymer obtained by the said method has an olefinic unsaturated bond in the molecule | numerator, and when used as it is, such an olefinic unsaturated bond may cause deterioration, such as coloring and gelatinization, over time, and therefore, this invention In hydrogen, it is preferable to perform hydrogenation which converts such an olefinic unsaturated bond into a saturated bond.

수소 첨가 반응은 통상의 방법, 즉 개환 중합체의 용액에 공지된 수소 첨가 촉매를 첨가하고, 이것에 상압 내지 300 기압, 바람직하게는 3 내지 200 기압의 수소 가스를 0 내지 200 ℃, 바람직하게는 20 내지 180 ℃에서 작용시킴으로써 행할 수 있다. The hydrogenation reaction is a conventional method, i.e., a known hydrogenation catalyst is added to a solution of a ring-opening polymer, and hydrogen gas at atmospheric pressure to 300 atm, preferably 3 to 200 atm is 0 to 200 캜, preferably 20 It can carry out by making it act at 180 degreeC.

수소 첨가 중합체의 수소 첨가율은 500 MHz, 1H-NMR에서 측정한 값이 통상 50 % 이상, 바람직하게는 70 % 이상, 보다 바람직하게는 90 % 이상, 특히 바람직하 게는 98 % 이상, 가장 바람직하게는 99 % 이상이다. 수소 첨가율이 높을수록 열이나 빛에 대한 안정성이 우수해지고, 성형체로서 사용한 경우에 장기간에 걸쳐 안정적인 특성을 얻을 수 있기 때문에 바람직하다. The hydrogenation rate of the hydrogenated polymer is usually 50% or more, preferably 70% or more, more preferably 90% or more, particularly preferably 98% or more, most preferably at 500 MHz and 1 H-NMR. Preferably 99% or more. The higher the hydrogenation rate, the better the stability against heat and light, and when used as a molded body, it is preferable because stable properties can be obtained over a long period of time.

또한, 상기한 방법에서 얻어진 개환 중합체가 그 분자 내에 방향족기를 갖는 경우, 이러한 방향족기는 시간이 경과함에 따라 착색이나 겔화 등 열화의 원인이 되지 않고, 오히려 기계적 특성이나 광학적 특성에 유리한 작용을 미치게 하는 경우도 있기 때문에, 이러한 방향족기에 대해서는 반드시 수소 첨가할 필요는 없다. In addition, when the ring-opening polymer obtained by the above method has an aromatic group in the molecule, such an aromatic group does not cause deterioration such as coloration or gelation with time, but rather has a beneficial effect on mechanical or optical properties. In addition, it is not necessary to hydrogenate this aromatic group necessarily.

수소 첨가 촉매로는, 통상의 올레핀성 화합물의 수소 첨가 반응에 사용되는 것을 사용할 수 있다. 이 수소 첨가 촉매로는, 불균일계 촉매 및 균일계 촉매를 들 수 있다. As a hydrogenation catalyst, what is used for the hydrogenation reaction of a normal olefinic compound can be used. As this hydrogenation catalyst, a heterogeneous catalyst and a homogeneous catalyst are mentioned.

불균일계 촉매로는, 팔라듐, 백금, 니켈, 로듐, 루테늄 등의 귀금속 촉매 물질을 탄소, 실리카, 알루미나, 티타니아 등의 담체에 담지시킨 고체 촉매를 들 수 있다. 균일계 촉매로는, 나프텐산니켈/트리에틸알루미늄, 니켈아세틸아세토네이트/트리에틸알루미늄, 옥텐산코발트/n-부틸리튬, 티타노센디클로라이드/디에틸알루미늄 모노클로라이드, 아세트산로듐, 클로로트리스(트리페닐포스핀)로듐, 디클로로트리스(트리페닐포스핀)루테늄, 클로로히드로카르보닐트리스(트리페닐포스핀)루테늄, 디클로로카르보닐트리스(트리페닐포스핀)루테늄 등을 들 수 있다. 촉매의 형태는 분말일 수도, 입자상일 수도 있다. As a heterogeneous catalyst, the solid catalyst which carried noble metal catalyst substances, such as palladium, platinum, nickel, rhodium, ruthenium, on support | carriers, such as carbon, a silica, alumina, titania, is mentioned. Examples of homogeneous catalysts include nickel naphthenate / triethylaluminum, nickel acetylacetonate / triethylaluminum, cobalt octate / n-butyllithium, titanocenedichloride / diethylaluminum monochloride, rhodium acetate and chlorotris (triphenyl Phosphine) rhodium, dichlorotris (triphenylphosphine) ruthenium, chlorohydrocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, dichlorocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium and the like. The form of the catalyst may be powder or particulate.

이들 수소 첨가 촉매는 개환 중합체와 수소 첨가 촉매와의 중량비(개환 중합 체:수소 첨가 촉매)가 1:1×10-6 내지 1:2가 되는 비율로 사용된다. These hydrogenated catalysts are used in a ratio such that the weight ratio of the ring-opening polymer to the hydrogenated catalyst (opening-opening polymer: hydrogenated catalyst) is from 1: 1 × 10 −6 to 1: 2.

본 발명에 사용되는 노르보르넨계 수지는 고유 점도〔η〕inh가 0.2 내지 5 ㎗/g, 더욱 바람직하게는 0.3 내지 3 ㎗/g, 특히 바람직하게는 0.4 내지 1.5 ㎗/g이고, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정한 폴리스티렌 환산의 수평균 분자량(Mn)이 8,000 내지 100,000, 더욱 바람직하게는 10,000 내지 80,000, 특히 바람직하게는 12,000 내지 50,000이고, 중량평균 분자량(Mw)이 20,000 내지 300,000, 더욱 바람직하게는 30,000 내지 250,000, 특히 바람직하게는 40,000 내지 200,000인 것이 바람직하다. 고유 점도〔η〕inh, 수평균 분자량 및 중량평균 분자량이 상기 범위에 있으면, 노르보르넨계 수지는 내열성, 내수(습)성, 내약품성 및 기계적 특성이 우수해지고, 내구성이나 기계적 강도가 우수한 성형체가 얻어진다. The norbornene-based resin used in the present invention has an intrinsic viscosity [η] inh of 0.2 to 5 dl / g, more preferably 0.3 to 3 dl / g, particularly preferably 0.4 to 1.5 dl / g, and gel permeation chromatography. The polystyrene reduced number average molecular weight (Mn), as measured by GPC, is 8,000 to 100,000, more preferably 10,000 to 80,000, particularly preferably 12,000 to 50,000, and the weight average molecular weight (Mw) is 20,000 to 300,000, further Preferably it is 30,000-250,000, Especially preferably, it is 40,000-200,000. When the intrinsic viscosity [η] inh , the number average molecular weight and the weight average molecular weight are in the above ranges, the norbornene-based resin is excellent in heat resistance, water resistance (wetting), chemical resistance and mechanical properties, and a molded article excellent in durability and mechanical strength. Obtained.

상기 노르보르넨계 수지의 유리 전이 온도(Tg)는 통상 100 내지 350 ℃, 바람직하게는 120 내지 300 ℃, 더욱 바람직하게는 130 내지 250 ℃이다. Tg가 100 ℃ 미만인 경우에는, 내열성이 부족하여 성형체의 사용 환경에 제한이 발생하는 경우가 있다. 또한, Tg가 350 ℃를 초과하는 경우, 용융 성형이 곤란해져 성형체를 얻기 위한 수단이 제한되는 경우가 있다. The glass transition temperature (Tg) of the norbornene-based resin is usually 100 to 350 ° C, preferably 120 to 300 ° C, more preferably 130 to 250 ° C. When Tg is less than 100 degreeC, heat resistance may run short and a restriction | limiting may arise in the use environment of a molded object. Moreover, when Tg exceeds 350 degreeC, melt molding may become difficult and the means for obtaining a molded object may be restrict | limited.

본 발명에서 사용되는 노르보르넨계 수지의 23 ℃에서의 포화 흡수율은 바람직하게는 0.1 내지 1 중량%, 특히 바람직하게는 0.1 내지 0.6 중량%이다. 포화 흡수율을 상기 값으로 함으로써, 색소 분산성을 양호하게 유지하면서, 색소의 변질 등의 의도하지 않는 상호 작용을 회피할 수 있다. 즉, 포화 흡수율이 0.1 중량% 미만인 경우, 색소 분산성이 불충분하고, 성형체를 형성했을 때에 "색 불균일"이나 혼탁이 발생하거나, 첨가한 색소가 성형체 표면에 블리드하는 경우가 있다. 한편, 포화 흡수율이 1 중량%를 초과하는 경우, 색소의 변질이 발생하여 원하는 특성이 얻어지지 않거나, 액상 조성물을 형성했을 때에 겔화 등에 의해 보존 안정성이 현저히 저하하는 것 이외에도, 흡수(습) 변형이 발생하여 원하는 기능이 얻어지지 않는 등 성형체의 내구성에도 문제가 발생하는 경우가 있다. The saturated water absorption at 23 ° C. of the norbornene-based resin used in the present invention is preferably 0.1 to 1% by weight, particularly preferably 0.1 to 0.6% by weight. By setting the saturated water absorption as the above value, unintended interaction such as alteration of the dye can be avoided while maintaining the dye dispersibility satisfactorily. That is, when a saturated water absorption is less than 0.1 weight%, pigment dispersibility is inadequate, when a molded object is formed, a "color nonuniformity" and turbidity may arise, or the added pigment may bleed on the surface of a molded object. On the other hand, when the saturated water absorption exceeds 1% by weight, deterioration of the dye occurs and the desired properties are not obtained, or when the liquid composition is formed, the absorption (wet) deformation is not only reduced significantly due to gelation or the like. Problems may occur in the durability of the molded product, such as the occurrence and the desired function cannot be obtained.

또한, 상기한 포화 흡수율은 ASTM D570에 따라 23 ℃의 물 중에서 1주간 침지하여 증가 중량을 측정함으로써 얻어지는 값이다. In addition, said saturated water absorption is a value obtained by immersing in 23 degreeC water for 1 week according to ASTMD570, and measuring an increase weight.

[근적외선 흡수 색소][Near Infrared Absorption Pigment]

본 발명에서 사용되는 근적외선 흡수제는 일반적으로 투명 수지에 첨가하여 사용되고 있는 근적외선 흡수제이면 특별히 한정되지 않지만, 양용매 100 중량부에 대하여 해당 근적외선 흡수제 0.1 중량부를 용해한 용액에 대해서, 600 내지 2500 nm의 근적외선 파장 영역의 일부, 또는 전체 영역에서 상기 양용매를 대조군으로 한 광선 투과율이 50 % 이하, 또한 30 % 이하가 되는 화합물이 바람직하다. Although the near-infrared absorber used by this invention will not be specifically limited if it is the near-infrared absorber generally added to transparent resin, and is used, It is a near-infrared wavelength of 600-2500 nm with respect to the solution which melt | dissolved 0.1 weight part of this near-infrared absorber with respect to 100 weight part of good solvents. The compound whose light transmittance which made the said good solvent into a control part in a part or all area | region is 50% or less and 30% or less is preferable.

구체적으로는, 일본 특허 공개 (평)6-200113호 등에 그 구조식이 개시되어 있는 근적외선 흡수제나, 일본 특허 공개 (평)8-225752호 공보, 일본 특허 공개 (평)8-253693호 공보, 일본 특허 공개 (평)9-1111138호 공보, 일본 특허 공개 (평)9-157536호 공보, 일본 특허 공개 (평)9-176501호 공보, 일본 특허 공개 (평)9-263658호 공보, 일본 특허 공개 제2000-212546호 공보, 일본 특허 공개 제2002-200711호 공보 등에 그 구조나 제조 방법이 개시되어 있는 프탈로시아닌계 화합물, 나프탈로 시아닌계 화합물, 디티올 금속 착체계 화합물을 들 수 있다. 또한, 예를 들면 시판품의 근적외선 흡수제, SIR-103, SIR-114, SIR-128, SIR-130, SIR-132, SIR-152, SIR-159, SIR-162, PA-1001, PA-1005 (이상, 미쯔이 가가꾸 파인제), Kayasorb IR-750, Kayasorb IRG-002, Kayasorb IRG-003, IR-820B, Kayasorb IRG-022, Kayasorb IRG-023, Kayasorb CY-2, Kayasorb CY-4, Kayasorb CY-9 (이상, 닛본 가야꾸제), CIR-1080, CIR-1081 (이상, 닛본 카릿제), YKR-3080, YKR-3081 (이상, 야마모또 가세이제), 이엑스카라 IR-10, IR-12, IR-14 (이상, 닛본 쇼꾸바이제) 등도 사용할 수 있다. Specifically, the near-infrared absorber whose structural formula is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 6-200113, etc., Unexamined-Japanese-Patent No. 8-225752, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-253693, Japan Japanese Patent Laid-Open No. 9-1111138, Japanese Patent Laid-Open No. 9-157536, Japanese Patent Laid-Open No. 9-176501, Japanese Patent Laid-Open No. 9-263658, and Japanese Patent Laid-Open The phthalocyanine type compound, the naphthalocyanine type compound, and the dithiol metal complex type compound whose structure and manufacturing method are disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-212546, Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-200711, etc. are mentioned. Moreover, for example, the near-infrared absorber of a commercial item, SIR-103, SIR-114, SIR-128, SIR-130, SIR-132, SIR-152, SIR-159, SIR-162, PA-1001, PA-1005 ( Mitsui Chemicals, Kayasorb IR-750, Kayasorb IRG-002, Kayasorb IRG-003, IR-820B, Kayasorb IRG-022, Kayasorb IRG-023, Kayasorb CY-2, Kayasorb CY-4, Kayasorb CY -9 (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.), CIR-1080, CIR-1081 (above, Nippon Karize), YKR-3080, YKR-3081 (above, Yamamoto Kasei), Ixcara IR-10, IR- 12, IR-14 (above, made by Nippon Shokubai), etc. can also be used.

본 발명에서, 근적외선 흡수 색소의 사용량은 원하는 특성에 따라 적절하게 선택되지만, 본 발명에 따른 노르보르넨계 수지 100 중량부에 대하여 통상 10-6 내지 30 중량부, 바람직하게는 10-5 내지 10 중량부, 더욱 바람직하게는 10-4 내지 5 중량부이다. 사용량이 10-6 중량부 미만이면, 근적외선 흡수층으로서의 기능을 발휘하지 않는 경우가 있고, 한편 30 중량부를 초과하면, 성형성에 문제가 발생하는 경우가 있다. In the present invention, the amount of the near-infrared absorbing dye is appropriately selected according to the desired characteristics, but is usually 10 -6 to 30 parts by weight, preferably 10 -5 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the norbornene-based resin according to the present invention. Parts, more preferably 10 -4 to 5 parts by weight. If the amount is less than 10 -6 parts by weight, the function as a near infrared absorbing layer may not be exhibited. On the other hand, if the amount is more than 30 parts by weight, a problem may occur in moldability.

[용제] [solvent]

특정 조성물의 제조에 사용할 수 있는 용제로는, 상술한 노르보르넨계 수지를 용해할 수 있는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 이러한 용제로는, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족계 용매; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올 등의 셀로솔브계 용매; 디아세톤알코올, 아세톤, 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 4-메틸-2-펜타논 등의 케톤계 용매; 락트산 메틸, 락트산 에틸 등의 에스테르계 용매; 시클로헥사논, 에틸시클로헥사논, 1,2-디메틸시클로헥산 등의 시클로올레핀계 용매; 2,2,3,3-테트라플루오로-1-프로판올, 염화메틸렌, 클로로포름 등의 할로겐 함유 용매; 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 에테르계 용매; 1-펜탄올, 1-부탄올 등의 알코올계 용매 등을 들 수 있다.As a solvent which can be used for manufacture of a specific composition, if the norbornene-type resin mentioned above can be melt | dissolved, it will not specifically limit. As such a solvent, Aromatic solvents, such as benzene, toluene, and xylene; Cellosolve solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and 1-methoxy-2-propanol; Ketone solvents such as diacetone alcohol, acetone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, and 4-methyl-2-pentanone; Ester solvents such as methyl lactate and ethyl lactate; Cycloolefin solvents such as cyclohexanone, ethylcyclohexanone and 1,2-dimethylcyclohexane; Halogen-containing solvents such as 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol, methylene chloride and chloroform; Ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane; Alcohol solvent, such as 1-pentanol and 1-butanol, etc. are mentioned.

또한, 상기 이외의 용매로도, 용해도 파라미터(SP값)가 바람직하게는 10 내지 30 (MPa1 /2), 더욱 바람직하게는 10 내지 25 (MPa1 /2), 특히 바람직하게는 15 내지 25 (MPa1 /2), 가장 바람직하게는 15 내지 20 (MPa1 /2)의 범위에 있는 용매를 사용하면, 본 발명의 노르보르넨계 수지를 용해할 수 있어, 용제로서 사용할 수 있다. Further, as a solvent other than the above, the solubility parameter (SP value) is preferably from 10 to 30 (MPa 1/2), more preferably from 10 to 25 (MPa 1/2), particularly preferably 15 to 25 (MPa 1/2), using the solvent in the range of from 15 to 20 (MPa 1/2) and most preferably, it is possible to dissolve the norbornene-based resin of the present invention, it can be used as a solvent.

상기 용제는 단독으로 또는 복수개를 혼합하여 사용할 수 있다. 혼합하여 사용하는 경우에는, 혼합 용매의 SP값이 상기 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 혼합 용매의 SP값은 용매의 중량비로 예측할 수 있고, 예를 들면 2종류의 용매(용매 1과 용매 2)를 혼합하는 경우에는, 각각의 중량분율을 W1, W2, SP값을 SP1, SP2로 하면 혼합 용매의 SP값은 하기 수학식 1에 의해 산출할 수 있다. The said solvent can be used individually or in mixture of multiple pieces. When mixed and used, it is preferable that the SP value of a mixed solvent exists in the said range. The SP value of the mixed solvent can be predicted by the weight ratio of the solvent. For example, when two kinds of solvents (Solvent 1 and Solvent 2) are mixed, the respective weight fractions are W 1 , W 2 , and SP 1. , SP 2 can be calculated by the following equation (1).

SP값=W1·SP1+W2·SP2 SP value = W 1 SP 1 + W 2 SP 2

또한, 근적외선 흡수 색소는 반드시 용제에 용해할 필요는 없고, 단독으로는 용제 중에 현탁한 상태에서도 본 발명의 노르보르넨계 수지가 존재하면 상호 작용에 의해 균일하게 분산 또는 용해시킬 수 있고, 성형체를 형성했을 때에 원하는 기능을 얻을 수 있다. 물론, 근적외선 흡수 색소에 대한 용해성이 높은 용제를 선택하는 것이 바람직한 것은 자명하다. In addition, the near-infrared absorbing dye does not necessarily need to be dissolved in a solvent, and even when the norbornene-based resin of the present invention is present even in a suspended state in a solvent, it can be uniformly dispersed or dissolved by interaction to form a molded article. You can get the function you want. Of course, it is obvious that it is preferable to select a solvent having high solubility in the near infrared absorbing dye.

특정 조성물의 제조법Preparation of Specific Compositions

근적외선 흡수층의 형성에 사용되는 특정 조성물은 상술한 노르보르넨계 수지, 근적외선 흡수 색소 및 용제를 포함하는 것이며, 그 제조 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 각 성분을 원하는 조성비로 적절하게 탱크 등에 첨가하고, 필요에 따라 가열하면서 교반 등을 행함으로써 제조할 수 있지만, 노르보르넨계 수지를 미리 용제에 용해한 용액의 형태로 사용하면, 근적외선 흡수 색소가 조성물 중에 단시간에 균일하게 분산하기 쉬운 경향이 있기 때문에 바람직하다. 여기서, 상기 노르보르넨계 수지의 용액은 입자상 또는 플레이크상 등 고형의 수지를 용제에 용해하여 조정하여도 좋지만, 중합 반응 용액을 사용하는 것도 가능하다. 또한, 중합 반응 용액을 사용하는 경우에는, 중합 촉매 및 수소 첨가 촉매의 잔재 또는 미반응 단량체를 미리 제거하는 등, 전처리를 행하는 것이 바람직하다. The specific composition used for formation of a near-infrared absorption layer contains the norbornene-type resin mentioned above, a near-infrared absorbing pigment, and a solvent, The manufacturing method is not specifically limited, Each component is added to a tank etc. suitably at a desired composition ratio, Although it can manufacture by performing stirring etc., heating as needed, When using norbornene-type resin in the form of the solution which melt | dissolved in the solvent previously, since a near-infrared absorbing dye tends to disperse | distribute uniformly in a composition for a short time, it is preferable. . Here, although the solution of the norbornene-based resin may be adjusted by dissolving a solid resin such as particulate or flake in a solvent, it is also possible to use a polymerization reaction solution. In addition, when using a polymerization reaction solution, it is preferable to perform pretreatment, such as removing the remainder or unreacted monomer of a polymerization catalyst and a hydrogenation catalyst beforehand.

또한, 근적외선 흡수 색소에 대해서도, 미리 용제에 현탁 또는 용해한 상태로 첨가하는 것이 액상 수지 조성물을 제조하기 위한 시간을 단축할 수 있는 경우가 많아 바람직하다. 이 경우, 상기 노르보르넨계 수지 용액의 제조에 사용된 용제와 다른 종류의 용제를 사용할 수도 있지만, 수지 용액과 균일상을 형성할 수 있는 용제를 선택하는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable to add a near-infrared absorbing dye in the state suspended or dissolved in a solvent previously in many cases, which can shorten time for manufacturing a liquid resin composition. In this case, although the solvent different from the solvent used for manufacture of the said norbornene-type resin solution can be used, it is preferable to select the solvent which can form a uniform phase with a resin solution.

또한, 특정 조성물을 제조하는 데 있어서, 상기 노르보르넨계 수지, 근적외 선 흡수 색소 및 용제를 혼합한 후, 필터 등에 의해 조성물 중의 불용분을 제거하는 것이 바람직하다. 이러한 불용분이 존재하면, 성형체를 광학 용도로 사용하는 경우에 결함이 되는 경우가 있다. Moreover, in manufacturing a specific composition, after mixing the said norbornene-type resin, a near-infrared absorbing dye, and a solvent, it is preferable to remove an insoluble content in a composition with a filter etc. If such an insoluble content exists, it may become a defect when using a molded object for optical use.

본 발명에서는, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서 노르보르넨계 수지, 근적외선 흡수 색소 및 용제 이외에, 산화 방지제 등의 첨가제를 첨가할 수 있다. 구체적으로는, 산화 방지제로는 예를 들면 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2,2'-디옥시-3,3'-디-t-부틸-5,5'-디메틸디페닐메탄, 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄을 들 수 있다. 자외선 흡수제로는, 예를 들면 2,4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논 등을 첨가하여 성형체의 내구성을 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 레벨링제나 소포제를 첨가함으로써, 후술하는 용액 캐스팅법에 의한 근적외선 흡수층의 제조를 용이하게 할 수 있다. In this invention, additives, such as antioxidant, can be added to norbornene-type resin, a near-infrared absorbing pigment, and a solvent in the range which does not impair the effect of this invention. Specifically, as antioxidant, 2, 6- di-t- butyl- 4-methyl phenol, 2, 2'- dioxy- 3, 3'- di- t- butyl- 5, 5'- Dimethyldiphenylmethane and tetrakis [methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane. As a ultraviolet absorber, 2, 4- dihydroxy benzophenone, 2-hydroxy-4- methoxy benzophenone, etc. can be added, for example, and the durability of a molded object can be improved further. Moreover, manufacture of a near-infrared absorption layer by the solution casting method mentioned later can be made easy by adding a leveling agent and an antifoamer.

또한, 이러한 첨가제는 특정 조성물을 제조할 때에 노르보르넨계 수지 등의 성분과 함께 혼합할 수도 있고, 노르보르넨계 수지를 제조할 때에 첨가함으로써 미리 수지에 배합되어 있을 수도 있다. 또한, 첨가량은 원하는 특성에 따라 적절하게 선택되는 것이지만, 노르보르넨계 수지 100 중량부에 대하여 통상 0.0001 내지 5 중량부, 바람직하게는 0.001 내지 3 중량부인 것이 바람직하다. In addition, these additives may be mixed with components, such as norbornene-type resin at the time of manufacturing a specific composition, and may be mix | blended with resin previously by adding at the time of manufacture of norbornene-type resin. In addition, although the addition amount is suitably selected according to a desired characteristic, it is preferable that it is 0.0001-5 weight part normally with respect to 100 weight part of norbornene-type resin, Preferably it is 0.001-3 weight part.

근적외선Near infrared 흡수층의 제조 방법 Manufacturing method of absorber layer

근적외선 흡수층은 상술한 특정 조성물로부터 용제를 제거하여 용융 성형하는 방법, 또는 특정 조성물을 캐스팅(캐스트 성형)하는 방법에 의해 제조할 수 있다. The near-infrared absorbing layer can be manufactured by the method of melt-molding by removing a solvent from the specific composition mentioned above, or the method of casting (cast molding) a specific composition.

(1) 용융 성형(1) melt molding

근적외선 흡수 필름을 특정 조성물로부터 용제를 제거하여 용융 성형하는 방법에 의해 제조하는 경우, 특정 조성물로부터 용제를 제거하면, 상기 노르보르넨계 수지와 근적외선 흡수 색소를 포함하는 열가소성 수지 조성물이 얻어진다. 이러한 열가소성 수지 조성물은 사출 성형, 용융 압출 성형 또는 블로우 성형 등의 용융 성형을 적용하는 것이 가능하다. When a near-infrared absorbing film is manufactured by the method of melt-molding by removing a solvent from a specific composition, when a solvent is removed from a specific composition, the thermoplastic resin composition containing the said norbornene-type resin and a near-infrared absorbing dye is obtained. Such a thermoplastic resin composition can apply melt molding, such as injection molding, melt extrusion molding, or blow molding.

이러한 방법에서 얻어지는 필름은 노르보르넨계 수지와 근적외선 흡수 색소를 용융 혼련하여 얻어진 열가소성 수지 조성물로부터 얻어지는 필름에 비해 열 이력이 적어 수지나 색소의 열화가 적고, 겔이나 소성에 기인하는 이물질이 적은 것 등의 특징을 가지며, 광학 용도의 필름을 얻는 데에는 큰 이점을 갖는다. The film obtained by such a method has less thermal history, less deterioration of the resin or pigment, less foreign substances due to gel or sintering than a film obtained from the thermoplastic resin composition obtained by melt kneading a norbornene-based resin and a near infrared absorbing dye. It has the characteristics of and has a big advantage in obtaining the film for optical use.

특정 조성물로부터 용제를 제거하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 조성물 중 노르보르넨계 수지나 근적외선 흡수 색소의 특성을 감안하여 공지된 방법을 적용할 수 있다. 예를 들면, 노르보르넨계 수지의 빈용매를 첨가하여 수지 조성물을 석출시켜 회수하는 방법, 감압하에 가열하여 용제를 제거하는 방법, 스팀을 불어 넣어 용제를 제거하는 방법 등을 적용할 수 있다. The method of removing a solvent from a specific composition is not specifically limited, A well-known method is applicable in consideration of the characteristic of norbornene-type resin and a near-infrared absorbing pigment in a composition. For example, a method of precipitating and recovering the resin composition by adding a poor solvent of norbornene-based resin, a method of heating under reduced pressure to remove the solvent, a method of blowing steam to remove the solvent, and the like can be applied.

상기 방법에서 얻어진 열가소성 수지 조성물 중 잔류 용제량은 가능한 한 적은 것이 좋고, 통상 3 중량% 이하, 바람직하게는 1 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 중량% 이하이다. 잔류 용제량이 3 중량%를 초과하는 경우, 용융 성형시 다량의 가스가 발생하기 때문에, 성형 설비의 오염이나 고장의 원인이 될 뿐만 아니라, 실버, 공극 또는 유자 피부라는 성형체의 외관 결함의 원인이 되는 경우가 많 다. The amount of residual solvent in the thermoplastic resin composition obtained by the said method is good as little as possible, and is 3 weight% or less normally, Preferably it is 1 weight% or less, More preferably, it is 0.5 weight% or less. When the amount of residual solvent exceeds 3% by weight, a large amount of gas is generated during melt molding, which not only causes contamination or failure of the molding equipment, but also causes appearance defects of the molded body such as silver, voids or citron skin. There are many cases.

(2) 캐스팅 (2) casting

근적외선 흡수층은 특정 조성물을 적절한 기재 상에 캐스팅하여 용제를 제거함으로써 제조할 수도 있다. 예를 들면, 상술한 기판, 기판상에 형성된 후술하는 충격 흡수층 또는 전자파 실드층 상에 특정 조성물을 도포하여 용제를 건조함으로써, 근적외선 흡수층을 얻을 수 있다. 또한, 스틸 벨트, 스틸 드럼 또는 폴리에스테르 필름 등의 기재 상에 특정 조성물을 도포하여 용제를 건조한 후 기재로부터 도막을 박리함으로써, 근적외선 흡수층을 얻을 수도 있다. 또한, 유리, 석영 또는 투명 플라스틱제의 광학 부품에 특정 조성물을 코팅하여 용제를 건조함으로써, 본래의 광학 부품에 근적외선 컷팅 필터 기능을 부여한 근적외선 흡수층을 얻을 수도 있다.The near infrared absorbing layer may be prepared by casting a specific composition on a suitable substrate to remove the solvent. For example, a near-infrared absorption layer can be obtained by apply | coating a specific composition on the above-mentioned board | substrate, the below-mentioned shock absorbing layer or electromagnetic wave shield layer formed on the board | substrate, and drying a solvent. Moreover, a near-infrared absorption layer can also be obtained by apply | coating a specific composition on base materials, such as a steel belt, a steel drum, or a polyester film, drying a solvent, and peeling a coating film from a base material. Further, by coating a specific composition on an optical component made of glass, quartz or transparent plastic and drying the solvent, a near-infrared absorbing layer having a near infrared cutting filter function applied to the original optical component can also be obtained.

상기 방법에서 얻어진 근적외선 흡수층 중 잔류 용제량은 가능한 한 적은 것이 좋고, 통상 3 중량% 이하, 바람직하게는 1 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 중량% 이하이다. 잔류 용제량이 3 중량%를 초과하는 경우, 시간이 경과함에 따라 성형체가 변형되거나 특성이 변화되어 원하는 기능을 발휘할 수 없게 되는 경우가 있다. The amount of residual solvent in the near-infrared absorbing layer obtained by the said method is good as little as possible, and it is 3 weight% or less normally, Preferably it is 1 weight% or less, More preferably, it is 0.5 weight% or less. When the amount of residual solvent exceeds 3% by weight, the molded body may be deformed or the characteristics may change as time passes, so that the desired function may not be exhibited.

근적외선Near infrared 흡수층의 다른 제조 방법 Alternative manufacturing method of absorber layer

근적외선 흡수층은 노르보르넨계 수지 필름 상에 근적외선 흡수능을 갖는 박막을 코팅한 적층 구조일 수도 있다.The near-infrared absorbing layer may be a laminated structure in which a thin film having near-infrared absorbing ability is coated on a norbornene-based resin film.

노르보르넨계 수지 필름의 형성 방법은 상술한 용융 성형 또는 캐스팅에 준한 방법을 들 수 있다. As a formation method of a norbornene-type resin film, the method according to the above-mentioned melt molding or casting is mentioned.

근적외선 흡수능을 갖는 박막으로는 상술한 근적외선 흡수 색소나, 금속, 금속 산화물, 금속 착체, 금속염 등을 함유하는 박막을 들 수 있다. As a thin film which has near-infrared absorptivity, the thin film containing the above-mentioned near-infrared absorbing dye, a metal, a metal oxide, a metal complex, a metal salt, etc. are mentioned.

<반사 방지층> <Anti-reflective layer>

본 발명의 복합 기능 필름에 사용되는 반사 방지층은 고굴절률층과 저굴절률층과, 바람직하게는 하드 코팅층을 갖는 적층을 포함한다. 통상, 그 실시 양태로는, 기재(근적외선 흡수층 또는 전자파 실드층, 통상은 근적외선 흡수층) 상에 (하드 코팅층)/고굴절률층/저굴절률층의 순서로 적층되어 이루어진다. The antireflection layer used in the composite functional film of the present invention includes a laminate having a high refractive index layer, a low refractive index layer, and preferably a hard coating layer. Usually, as this embodiment, it is laminated | stacked in order of (hard coating layer) / high refractive index layer / low refractive index layer on a base material (near-infrared absorption layer or an electromagnetic shielding layer, usually a near-infrared absorption layer).

이하, 각 층의 형성 재료와 형성 방법에 대해서 상세히 설명한다. Hereinafter, the formation material and formation method of each layer are demonstrated in detail.

[고굴절률층][High refractive index layer]

본 발명에서 사용되는 고굴절률층은 The high refractive index layer used in the present invention

(i-1) 도전성 금속 산화물 입자와, (i-1) conductive metal oxide particles,

(i-2) 알콕시실릴기 함유 화합물, 이 화합물의 가수분해물 및 가수분해 축합물로부터 선택되는 1종 이상(이하, "알콕시실릴기 함유 화합물류"라고도 함)을 함유하는 고굴절률 재료로부터 얻어진다. 바람직하게는, 도전성 금속 산화물 입자와 알콕시실릴기 함유 화합물이 유기 용매 중에서 미리 반응하는 것이 바람직하다. 또한, 고굴절률 재료에는 추가로 (i-2) It is obtained from the high refractive index material containing 1 or more types (it also calls "alkoxysilyl group containing compound" hereafter) chosen from the alkoxy silyl group containing compound, the hydrolyzate, and hydrolysis-condensation product of this compound. . Preferably, the conductive metal oxide particles and the alkoxysilyl group-containing compound are preferably reacted in advance in an organic solvent. In addition to high refractive index materials,

(i-3) 분자 내에 (메트)아크릴로일기를 3개 이상 포함하는 다관능성 (메트)아크릴 화합물 및 (i-3) a polyfunctional (meth) acryl compound containing three or more (meth) acryloyl groups in a molecule, and

(i-4) 방사선 중합 개시제가 함유되는 것이 바람직하다. (i-4) It is preferable that a radiation polymerization initiator is contained.

(i-1) 도전성 금속 산화물 입자(i-1) Conductive Metal Oxide Particles

본 발명에 사용되는 도전성 금속 산화물 입자의 분체 저항은 100 Ω·cm 이하, 바람직하게는 50 Ω·cm 이하이다. The powder resistance of the electroconductive metal oxide particle used for this invention is 100 ohm * cm or less, Preferably it is 50 ohm * cm or less.

도전성 금속 산화물 입자의 1차 입경은 건조 분말을 BET 흡착법에 의해서 구한 값으로서 0.1 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 0.01 ㎛ 내지 0.001 ㎛이다. 0.1 ㎛를 초과하면, 조성물 중에서 침강이 발생하거나, 도막의 평활성이 저하한다. The primary particle diameter of electroconductive metal oxide particle is the value calculated | required by the BET adsorption method of dry powder, and is 0.1 micrometer or less, Preferably it is 0.01 micrometer-0.001 micrometer. When it exceeds 0.1 micrometer, sedimentation will arise in a composition or the smoothness of a coating film will fall.

도전성 금속 산화물 입자의 배합량은 조성물 중 전체 고형분에 대해서 50 내지 95 중량%가 바람직하고, 65 내지 95 중량%가 보다 바람직하다. 50 중량% 미만이면, 경화막을 형성했을 때에 고굴절률성이 불충분해지는 경우가 있다. 50-95 weight% is preferable with respect to the total solid in a composition, and, as for the compounding quantity of electroconductive metal oxide particle, 65-95 weight% is more preferable. If it is less than 50 weight%, high refractive index property may become inadequate when a cured film is formed.

도전성 금속 산화물 입자의 금속 산화물은 단일 금속 산화물일 수도 있고, 2종 이상의 합금을 포함하는 금속 산화물일 수도 있다. The metal oxide of the conductive metal oxide particles may be a single metal oxide or may be a metal oxide containing two or more alloys.

이들 도전성 금속 산화물 입자는 분체 또는 유기 용매에 분산된 상태로 사용할 수 있지만, 균일 분산성을 얻기 쉽기 때문에 유기 용매 중에 분산된 상태로 조성물을 제조하는 것이 바람직하다. Although these electroconductive metal oxide particles can be used in the state disperse | distributed to powder or an organic solvent, since it is easy to obtain uniform dispersibility, it is preferable to manufacture a composition in the state disperse | distributed in an organic solvent.

도전성 금속 산화물 입자로서 사용할 수 있는 구체적인 금속 산화물로는, 예를 들면 주석 도핑 산화인듐(ITO), 안티몬 도핑 산화주석(ATO), 불소 도핑 산화주석(FTO), 인 도핑 산화주석(PTO), 안티몬산아연, 인듐 도핑 산화아연, 산화루테늄, 산화레늄, 산화은, 산화니켈, 산화구리로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 입자를 들 수 있다. 이들 중에서, 특히 ATO가 바람직하게 사용된다. Specific metal oxides that can be used as the conductive metal oxide particles include, for example, tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), phosphorus-doped tin oxide (PTO), and antimony. Zinc oxide, indium-doped zinc oxide, ruthenium oxide, rhenium oxide, silver oxide, and at least one particle selected from the group consisting of nickel oxide and copper oxide. Among these, especially ATO is used preferably.

이러한 도전성 금속 산화물 입자의 분체로서의 시판품으로는, 예를 들면 미쯔비시 마테리알(주)제 상품명: T-1(ITO), 미쯔이 긴조꾸(주)제 상품명: 파스트란 (ITO, ATO), 이시하라 산교(주)제 상품명: SN-100P(ATO), 씨아이 가세이(주)제 상품명: 나노텍 ITO, 닛산 가가꾸 고교(주)제 상품명: ATO, FTO 등을 들 수 있다.As a commercial item as powder of such electroconductive metal oxide particle, Mitsubishi Material Co., Ltd. brand name: T-1 (ITO), Mitsui Kinzoku Co., Ltd. brand name: Pastran (ITO, ATO), Ishihara Sangyo Co., Ltd. brand name: SN-100P (ATO), CI Kasei Co., Ltd. brand name: Nanotech ITO, Nissan Chemical Co., Ltd. brand name: ATO, FTO, etc. are mentioned.

도전성 금속 산화물 입자는 그 표면에 산화규소를 담지하여 이루어지는 것이 알콕시실릴기 함유 화합물과 특히 효과적으로 반응하기 때문에 바람직하다. 이러한 산화규소를 담지하는 방법으로는, 예를 들면 특허 공보 제2858271호에 개시되어 있는, 산화주석 및 산화안티몬의 수화물의 공침물을 생성시킨 후, 규소 화합물을 침착시켜 분별, 소성하는 공정에 의해 제조할 수 있다. It is preferable that the conductive metal oxide particles carry silicon oxide on their surface because they react particularly effectively with the alkoxysilyl group-containing compound. As a method of supporting such a silicon oxide, for example, a process of producing a coprecipitation of a tin oxide and an antimony oxide hydrate disclosed in Patent Publication No. 2858271 and then depositing a silicon compound to fractionate and calcinate It can manufacture.

그 표면에 산화규소를 담지하여 이루어지는 도전성 금속 산화물 입자의 시판품으로는, 예를 들면 이시하라 산교(주)제 상품명: SN-100P(ATO), 및 SNS-10M, FSS-10M 등을 들 수 있다. As a commercial item of the electroconductive metal oxide particle formed by carrying the silicon oxide on the surface, Ishihara Sangyo Co., Ltd. brand name: SN-100P (ATO), SNS-10M, FSS-10M, etc. are mentioned, for example.

도전성 금속 산화물 입자를 유기 용매에 분산한 시판품으로는, 예를 들면 이시하라 산교(주)제 상품명: SNS-10M(MEK 분산의 안티몬 도핑 산화주석), FSS-10M (이소프로필 알코올 분산의 안티몬 도핑 산화주석), 닛산 가가꾸 고교(주)제 상품명: 셀낙스 CX-Z401M (메탄올 분산의 안티몬산아연), 셀낙스 CX-Z200IP (이소프로필 알코올 분산의 안티몬산아연) 등을 들 수 있다. As a commercial item which disperse | distributed electroconductive metal oxide particle to the organic solvent, For example, Ishihara Sangyo Co., Ltd. brand name: SNS-10M (antimony-doped tin oxide of MEK dispersion), FSS-10M (antimony-doped oxidation of isopropyl alcohol dispersion) Tin), Nissan Chemical Industries, Ltd. brand name: Celax CX-Z401M (antimony zinc oxide of methanol dispersion), Celax CX-Z200IP (antimony acid zinc of isopropyl alcohol dispersion), etc. are mentioned.

분체상의 도전성 금속 산화물 입자를 유기 용매에 분산하는 방법으로는, 예를 들면 도전성 금속 산화물 입자에 대하여 분산제, 유기 용매를 첨가하여 분산 매체로서 지르코니아, 유리, 알루미나의 비드를 첨가하여 페인트 진탕기나 헨켈 믹서 등으로 고속 교반하여 분산하는 방법을 들 수 있다. 분산제의 첨가량은 조성물 전체의 0.1 내지 5 중량%가 바람직하다. 분산제로는, 예를 들면 폴리아크릴산알칼리 금속염, 폴리에테르의 인산 에스테르나 폴리에틸렌옥시드/폴리프로필렌옥시드 블럭 중합물, 노닐페닐폴리에테르, 세틸암모늄클로라이드 등의 음이온계, 비이온계, 양이온계의 계면활성제를 들 수 있다. As a method of dispersing powdery conductive metal oxide particles in an organic solvent, for example, a dispersant and an organic solvent are added to the conductive metal oxide particles, and beads of zirconia, glass, and alumina are added as a dispersion medium, and a paint shaker or Henkel mixer is used. The method of stirring and dispersing at high speed etc. is mentioned. As for the addition amount of a dispersing agent, 0.1-5 weight% of the whole composition is preferable. As a dispersing agent, the interface of anionic, nonionic, and cationic systems, such as an alkali metal acrylate metal salt, a phosphate ester of a polyether, a polyethylene oxide / polypropylene oxide block polymer, a nonylphenyl polyether, and cetyl ammonium chloride, for example Activators are mentioned.

도전성 금속 산화물 입자를 분산시키는 분산 용매로서 사용되는 유기 용매의 배합량은 도전성 금속 산화물 입자 100 중량부에 대해서 바람직하게는 20 내지 4,000 중량부, 더욱 바람직하게는 100 내지 1,000 중량부이다. 용매량이 20 중량부 미만이면, 점도가 높기 때문에 균일한 반응이 곤란한 경우가 있고, 4,000 중량부를 초과하면, 도포성이 저하하는 경우가 있다. The blending amount of the organic solvent used as the dispersion solvent for dispersing the conductive metal oxide particles is preferably 20 to 4,000 parts by weight, more preferably 100 to 1,000 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive metal oxide particles. If the amount of the solvent is less than 20 parts by weight, the uniformity may be difficult because of the high viscosity. If the amount of the solvent exceeds 4,000 parts by weight, the applicability may decrease.

이러한 유기 용매로는, 예를 들면 상압에서의 비점이 200 ℃ 이하인 용매를 들 수 있다. 구체적으로는, 알코올류, 케톤류, 에테르류, 에스테르류, 탄화수소류, 아미드류가 사용되고, 이들은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 그 중에서도, 알코올류, 케톤류, 에테르류, 에스테르류가 바람직하다. As such an organic solvent, the solvent whose boiling point in normal pressure is 200 degrees C or less is mentioned, for example. Specifically, alcohols, ketones, ethers, esters, hydrocarbons and amides are used, and these can be used alone or in combination of two or more thereof. Especially, alcohols, ketones, ethers, and esters are preferable.

여기서, 알코올류로는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알코올, 이소부탄올, n-부탄올, tert-부탄올, 에톡시에탄올, 부톡시에탄올, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 벤질알코올, 페네틸알코올 등을 들 수 있다. Here, as alcohols, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, isobutanol, n-butanol, tert-butanol, ethoxyethanol, butoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, benzyl alcohol, phenethyl alcohol Etc. can be mentioned.

케톤류로는, 예를 들면 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등을 들 수 있다.As ketones, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc. are mentioned, for example.

에테르류로는, 예를 들면 디부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다. As ethers, dibutyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, etc. are mentioned, for example.

에스테르류로는, 예를 들면 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 락트산 에틸 등 을 들 수 있다. As ester, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, etc. are mentioned, for example.

탄화수소류로는, 예를 들면 톨루엔, 크실렌 등을 들 수 있다. As hydrocarbons, toluene, xylene, etc. are mentioned, for example.

아미드류로는, 예를 들면 포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다. Examples of the amides include formamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, and the like.

그 중에서도, 이소프로필 알코올, 에톡시에탄올, 부톡시에탄올, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 아세트산 부틸, 락트산 에틸 등이 바람직하다. Especially, isopropyl alcohol, ethoxy ethanol, butoxy ethanol, diethylene glycol monoethyl ether, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monoethyl ether acetate, butyl acetate, ethyl lactate, etc. are preferable. Do.

(i-2) (i-2) 알콕시실릴기Alkoxysilyl group 함유  contain 화합물류Compounds

본 발명에서 사용되는 알콕시실릴기 함유 화합물류는, 알콕시실릴기 함유 화합물, 이 화합물의 가수분해물 및 가수분해 축합물로부터 선택되는 1종 이상이고, 바람직하게는 알콕시실릴기 함유 화합물이 상술한 도전성 금속 산화물 입자와 반응한 것이 고굴절률 재료 중에 존재한다. 해당 고굴절률 재료를 사용하여 얻어지는 고굴절률층 중에는, 알콕시실릴기 함유 화합물이 가수분해물 또는 가수분해 축합물로서 존재하고 있을 수도 있다. The alkoxysilyl group-containing compounds used in the present invention are at least one selected from alkoxysilyl group-containing compounds, hydrolyzates and hydrolysis condensates of these compounds, preferably the alkoxysilyl group-containing compound is the conductive metal described above. Reaction with the oxide particles is present in the high refractive index material. In the high refractive index layer obtained using this high refractive index material, the alkoxysilyl group containing compound may exist as a hydrolyzate or a hydrolysis condensate.

알콕시실릴기 함유 화합물은, 분자 중에 중합성 불포화기와 알콕시실릴기를 갖는 것이 바람직하다. 알콕시실릴기는 가수분해 및 축합 반응에 의해 금속 산화물 입자의 표면에 존재하는 흡착수와 결합하는 성분이며, 또한 중합성 불포화기란 활성 라디칼종에 의해 부가 중합을 거쳐 분자간에 화학 가교하는 성분이다. It is preferable that an alkoxy silyl group containing compound has a polymerizable unsaturated group and an alkoxy silyl group in a molecule | numerator. The alkoxysilyl group is a component that bonds with the adsorbed water present on the surface of the metal oxide particles by hydrolysis and condensation reaction, and the polymerizable unsaturated group is a component that crosslinks chemically between molecules through addition polymerization by active radical species.

중합성 불포화기로는, 예를 들면 아크릴기, 비닐기 및 스티릴기를 바람직한 것으로서 들 수 있다. 또한 알콕시실릴기로는, 물 또는 가수분해 촉매의 존재하에 가수분해할 수 있는 기가 바람직하다. As a polymerizable unsaturated group, an acryl group, a vinyl group, and a styryl group are mentioned as a preferable thing, for example. Moreover, as an alkoxy silyl group, the group which can hydrolyze in presence of water or a hydrolysis catalyst is preferable.

또한, 이러한 알콕시실릴기 함유 화합물은 분자 중에 에스테르 결합, 에테르 결합, 우레탄 결합, 술피드 결합 및 티오우레탄 결합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 결합기를 함유할 수 있고, 특히 우레탄 결합 [-O-C(=O)NH-] 및(또는) 티오우레탄 결합 [-S-C(=O)NH-]을 갖는 것이 바람직하다. 해당 결합기는, 이들 알콕시실릴기를 갖는 분자편과 중합성 불포화기를 갖는 분자편을 직접, 또는 다른 분자편을 개재하여 결합하는 구성 단위인 동시에, 분자간에 있어서 수소 결합에 의한 적절한 응집력을 발생시켜, 경화물에 우수한 역학적 강도, 기재와의 밀착성, 내열성 등의 성능을 부여하는 것으로 생각된다. Further, such alkoxysilyl group-containing compounds may contain at least one bond group selected from the group consisting of ester bonds, ether bonds, urethane bonds, sulfide bonds and thiourethane bonds in the molecule, and particularly, urethane bonds [-OC ( It is preferred to have = O) NH-] and / or thiourethane bond [-SC (= O) NH-]. This bonding group is a structural unit which directly bonds the molecular piece which has these alkoxysilyl groups, and the molecular piece which has a polymerizable unsaturated group through the other or through another molecular piece, generate | occur | produces the appropriate cohesion force by hydrogen bond between molecules, It is thought to give performances, such as excellent mechanical strength, adhesiveness with a base material, heat resistance, etc. to a cargo.

본 발명에 사용되는 특히 바람직한 알콕시실릴기 함유 화합물로는, 예를 들면 하기 화학식 3으로 표시되는 알콕시실란 화합물을 들 수 있다.As an especially preferable alkoxy silyl group containing compound used for this invention, the alkoxysilane compound represented by following General formula (3) is mentioned, for example.

Qm(Q1O)3- mSi-X-S-C(=O)-NH-Y-NH-C(=O)-O-Z-[-OC(=O)-CQ2=CH2]n Qm (Q 1 O) 3- m Si-XSC (= O) -NH-Y-NH-C (= O) -OZ-[-OC (= O) -CQ 2 = CH 2 ] n

식 중, Q는 메틸기, Q1은 탄소수 1 내지 6의 알킬기, m은 1 또는 2, X는 탄소수 1 내지 6의 2가 알킬렌기, Y는 쇄상, 환상, 분지상 중 어느 하나의 탄소수 3 내지 14의 2가 탄화수소기이며, Z는 2 내지 6가 쇄상, 환상, 분지상 중 어느 하나의 탄소수 2 내지 14의 2가 탄화수소기이고, Z 내에 에테르 결합을 포함할 수도 있으며, Q2는 수소 원자 또는 메틸기이고, n은 1 내지 5의 정수이다. In the formula, Q is a methyl group, Q 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, m is 1 or 2, X is a divalent alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, Y is a chain, cyclic, or branched carbon group having 3 to 3 carbon atoms. 14 is a divalent hydrocarbon group, Z is a divalent hydrocarbon group having 2 to 14 carbon atoms in any one of 2 to 6 valent chain, cyclic, and branched, and may include an ether bond in Z, and Q 2 is a hydrogen atom Or a methyl group, n is an integer of 1-5.

알콕시실릴기 함유 화합물의 배합량은, 조성물 중 전체 고형분에 대하여 바람직하게는 5 내지 50 중량%, 더욱 바람직하게는 5 내지 35 중량%이다. 알콕시실릴기 함유 화합물이 5 중량% 미만이면, 경화막의 투명성이 저하하는 경우가 있고, 50 중량%를 초과하면 고굴절률성이 부족한 경우가 있다. The compounding quantity of the alkoxysilyl group containing compound becomes like this. Preferably it is 5 to 50 weight%, More preferably, it is 5 to 35 weight% with respect to the total solid in a composition. When the alkoxysilyl group-containing compound is less than 5% by weight, the transparency of the cured film may decrease, while when the alkoxysilyl group-containing compound exceeds 50% by weight, the high refractive index may be insufficient.

알콕시실릴기 함유 화합물은 머캅토알콕시실란류, 디이소시아네이트류, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류와의 반응 생성물로서 제조할 수 있다. The alkoxysilyl group-containing compound can be produced as a reaction product with mercaptoalkoxysilanes, diisocyanates and hydroxyl-containing (meth) acrylates.

바람직한 제조 방법으로는, 예를 들면 머캅토알콕시실란과 디이소시아네이트류와의 반응에 의해 티오우레탄 결합으로 결합한 중간체를 제조한 후, 잔존하는 이소시아네이트와 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류를 반응시킴으로써 우레탄 결합으로 결합된 생성물을 형성하는 방법을 들 수 있다. As a preferable manufacturing method, after manufacturing the intermediate couple | bonded with the thiourethane bond by reaction of mercaptoalkoxysilane and diisocyanate, for example, a urethane bond is made by making the remaining isocyanate react with hydroxyl-containing (meth) acrylates. The method of forming the combined product is mentioned.

디이소시아네이트류와 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류와의 반응에 의해 처음에 우레탄 결합으로 결합한 중간체를 제조한 후, 잔존 이소시아네이트와 머캅토알콕시실란류를 반응시켜도 동일한 생성물이 얻어지지만, 머캅토알콕시실란류와 (메트)아크릴기와의 부가 반응이 함께 발생하여 그 순도는 낮고, 겔상물을 형성하는 경우가 있어 바람직하지 않다. Although the same product is obtained also by making the intermediate which couple | bonded with the urethane bond initially by reaction of diisocyanate and hydroxyl-containing (meth) acrylate, and reacting remaining isocyanate and mercaptoalkoxysilanes, mercaptoalkoxysilane The addition reaction of the styrene group and the (meth) acryl group occurs together, the purity thereof is low, and a gelled product may be formed, which is not preferable.

알콕시실릴기 함유 화합물을 얻기 위한 머캅토알콕시실란류로는, 예를 들면 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리에톡시실란, 3-머캅토프로필트리부톡시실란, 3-머캅토프로필디메틸메톡시실란, 3-머캅토프로필메틸디메톡시실란 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필메틸디메톡시실란이 바람직하다. As mercaptoalkoxysilanes for obtaining an alkoxysilyl group containing compound, 3-mercaptopropyl trimethoxysilane, 3-mercaptopropyl triethoxysilane, 3-mercaptopropyl tributoxysilane, 3 -Mercaptopropyldimethylmethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, etc. are mentioned. Especially, 3-mercaptopropyl trimethoxysilane and 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane are preferable.

머캅토알콕시실란의 시판품으로는, 예를 들면 도레이 다우·코닝(주)제 상품명: SH6062를 들 수 있다. As a commercial item of a mercaptoalkoxy silane, Toray Dow Corning Co., Ltd. brand name: SH6062 is mentioned, for example.

디이소시아네이트류로는, 예를 들면 1,4-부틸렌디이소시아네이트, 1,6-헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 수소 첨가 크실렌디이소시아네이트, 수소 첨가 비스페놀 A 디이소시아네이트, 2,4-톨루엔디이소시아네이트, 2,6-톨루엔디이소시아네이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 2,4-톨루엔디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 수소 첨가 크실렌디이소시아네이트가 바람직하다. As diisocyanate, it is 1, 4- butylene diisocyanate, 1, 6- hexylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, hydrogenated bisphenol A diisocyanate, 2, 4- toluenedi, for example. Isocyanate, 2, 6-toluene diisocyanate, etc. are mentioned. Especially, 2, 4- toluene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and hydrogenated xylene diisocyanate are preferable.

폴리이소시아네이트 화합물의 시판품으로는, 예를 들면 미쯔이 닛소 우레탄(주)제 상품명: TDI-80/20, TDI-100, MDI-CR100, MDI-CR300, MDI-PH, NDI, 닛본 폴리우레탄 고교(주)제 상품명: 콜로네이트 T, 미리오네이트 MT, 미리오네이트 MR, HDI, 다케다 야꾸힝 고교(주)제 상품명: 타케네이트 600 등을 들 수 있다.As a commercial item of a polyisocyanate compound, Mitsui Nisso Urethane Co., Ltd. brand name: TDI-80 / 20, TDI-100, MDI-CR100, MDI-CR300, MDI-PH, NDI, Nippon Polyurethane High School (Note) ) Brand Name: Colonate T, Myrionate MT, Myrionate MR, HDI, Takeda Yakuhin Kogyo Co., Ltd. Product name: Takenate 600, etc. are mentioned.

알콕시실릴기 함유 화합물 중 불포화 2중 결합을 형성하는 화합물로는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류를 들 수 있다. 이러한 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류로는, 예를 들면 2-히드록실에틸아크릴레이트, 2-히드록실에틸메타크릴레이트, 2-히드록실프로필아크릴레이트, 2-히드록실프로필메타크릴레이트, 4-히드록실부틸아크릴레이트, 4-히드록실부틸메타크릴레이트, 트리메틸올프로판디아크릴레이트, 트리메틸올프로판디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트를 들 수 있다. 바람직한 수산기 함유 (메트)아크릴레이트는 수산기 함유 아크릴레이트류이고, 더욱 바람직하게는 2-히드록실에틸아크릴레이트, 펜타에 리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트이다. As a compound which forms an unsaturated double bond among the alkoxy silyl group containing compounds, hydroxyl group containing (meth) acrylates are mentioned. As such hydroxyl-containing (meth) acrylates, 2-hydroxyl ethyl acrylate, 2-hydroxyl ethyl methacrylate, 2-hydroxyl propyl acrylate, 2-hydroxyl propyl methacrylate, 4 -Hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, trimethylolpropanediacrylate, trimethylolpropanedimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol Pentaacrylate and dipentaerythritol pentamethacrylate are mentioned. Preferred hydroxyl group-containing (meth) acrylates are hydroxyl group-containing acrylates, more preferably 2-hydroxyethyl acrylate, pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate.

이들 머캅토알콕시실란류, 디이소시아네이트류, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. These mercaptoalkoxysilanes, diisocyanates, and hydroxyl-containing (meth) acrylates can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

알콕시실릴기 함유 화합물을 제조하는 경우의 바람직한 머캅토알콕시실란류, 디이소시아네이트류, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류의 배합 비율은 머캅토알콕시실란류에 대한 디이소시아네이트류의 몰비로서, 바람직하게는 0.8 내지 1.5, 더욱 바람직하게는 1.0 내지 1.2이고, 디이소시아네이트에 대한 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류의 몰비로서, 바람직하게는 1.0 내지 1.5, 더욱 바람직하게는 1.0 내지 1.2이다. 머캅토알콕시실란류에 대한 디이소시아네이트류의 몰비가 0.8미만이면, 조성물의 보존 안정성이 저하하는 경우가 있다. 1.5를 초과하면, 분산성이 저하하는 경우가 있다. Preferable mercaptoalkoxysilanes, diisocyanates and hydroxyl group-containing (meth) acrylates in the case of producing an alkoxysilyl group-containing compound are preferably molar ratios of diisocyanates to mercaptoalkoxysilanes. It is 0.8-1.5, More preferably, it is 1.0-1.2, As molar ratio of hydroxyl-containing (meth) acrylates with respect to diisocyanate, Preferably it is 1.0-1.5, More preferably, it is 1.0-1.2. When the molar ratio of diisocyanates to mercaptoalkoxysilanes is less than 0.8, the storage stability of the composition may decrease. When it exceeds 1.5, dispersibility may fall.

디이소시아네이트에 대한 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류의 몰비가 1.0 미만이면, 겔화하는 경우가 있고, 1.5를 초과하면, 고굴절률성이 저하하는 경우가 있다. When the molar ratio of hydroxyl group-containing (meth) acrylates to diisocyanate is less than 1.0, gelation may occur, and when it exceeds 1.5, high refractive index may decrease.

알콕시실릴기 함유 화합물의 제조는, 통상 아크릴기의 혐기성 중합을 방지하고, 알콕시실란의 가수분해를 방지하기 위해 건조 공기 중에서 행하는 것이 바람직하다. 또한, 반응 온도는 0 ℃ 내지 100 ℃가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 20 ℃ 내지 80 ℃이다. In order to prevent the anaerobic polymerization of an acryl group and to prevent hydrolysis of an alkoxysilane, it is preferable to carry out manufacture of the alkoxy silyl group containing compound normally. The reaction temperature is preferably 0 ° C to 100 ° C, more preferably 20 ° C to 80 ° C.

제조 시간을 단축할 목적으로 우레탄 반응에서 공지된 촉매를 첨가할 수도 있고, 이러한 촉매로는 디부틸주석디라우레이트, 디옥틸주석디라우레이트, 디부틸주 석디(2-에틸헥사노에이트), 옥틸주석트리아세테이트를 들 수 있다. Known catalysts may be added in the urethane reaction for the purpose of shortening the production time, and such catalysts include dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin didi (2-ethylhexanoate), Octyl tin triacetate.

이들 촉매의 첨가량은 디이소시아네이트류와의 총량에 대하여 0.01 중량% 내지 1 중량%이다. The addition amount of these catalysts is 0.01 weight%-1 weight% with respect to the total amount with diisocyanate.

또한, 알콕시실릴기 함유 화합물의 열 중합을 방지할 목적으로, 제조시에 열 중합 금지제를 첨가할 수도 있고, 예를 들면 p-메톡시페놀, 히드로퀴논을 들 수 있다. 열 중합 금지제의 첨가량은 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류와의 총량에 대하여, 바람직하게는 0.01 중량% 내지 1 중량%이다. Moreover, in order to prevent thermal polymerization of an alkoxysilyl group containing compound, a thermal polymerization inhibitor can also be added at the time of manufacture, for example, p-methoxyphenol and hydroquinone are mentioned. The amount of the thermal polymerization inhibitor added is preferably 0.01% by weight to 1% by weight based on the total amount of the hydroxyl group-containing (meth) acrylates.

알콕시실릴기 함유 화합물의 제조는, 용매 중에서 행할 수도 있다. 용매로는, 예를 들면 머캅토알콕시실란류, 디이소시아네이트류, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류 디이소시아네이트와 반응하지 않고, 비점이 200 ℃ 이하인 용매 중에서 적절하게 선택할 수 있다. The production of the alkoxysilyl group-containing compound can also be carried out in a solvent. As a solvent, it does not react with mercaptoalkoxysilanes, diisocyanate, and hydroxyl-containing (meth) acrylate diisocyanate, for example, It can select suitably from the solvent whose boiling point is 200 degrees C or less.

이러한 용매의 구체예로는, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 아세트산 아밀 등의 에스테르류, 톨루엔, 크실렌 등의 탄화수소류를 들 수 있다. Specific examples of such a solvent include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate and amyl acetate, and hydrocarbons such as toluene and xylene.

도전성 금속 산화물 입자와 With conductive metal oxide particles 알콕시실릴기Alkoxysilyl group 함유 화합물과의 반응 Reaction with containing compounds

도전성 금속 산화물 입자와 알콕시실릴기 함유 화합물과의 반응 조작으로는, 알콕시실릴기 함유 화합물을 도전성 금속 산화물 입자의 존재하에 가수분해함으로써 행할 수 있다. 해당 가수분해에서의 물의 첨가량은 알콕시실릴기 함유 화합물 중 전체 알콕시 당량에 대하여 바람직하게는 0.5 내지 1.5 당량이고, 알콕시실릴기 함유 화합물 100 중량부에 대하여 0.5 내지 5.0 중량% 첨가하는 것이 바람직하다. 사용하는 물은 이온 교환수 또는 증류수가 바람직하다. The reaction operation of the conductive metal oxide particles and the alkoxysilyl group-containing compound can be performed by hydrolyzing the alkoxysilyl group-containing compound in the presence of the conductive metal oxide particles. The amount of water added in the hydrolysis is preferably 0.5 to 1.5 equivalents based on the total alkoxy equivalents in the alkoxysilyl group-containing compound, and 0.5 to 5.0 wt% is preferably added to 100 parts by weight of the alkoxysilyl group-containing compound. The water to be used is preferably ion exchange water or distilled water.

가수분해 반응은 유기 용매의 존재하에 0 ℃ 내지 성분의 비점 이하의 온도, 통상 30 ℃ 내지 100 ℃에서 1 시간 내지 24 시간 동안 가열 교반함으로써 행할 수 있다. 유기 용매로는, 미리 유기 용매에 분산한 도전성 금속 산화물 입자를 사용하는 경우에는 그대로 행할 수 있지만, 별도로 유기 용매를 첨가할 수도 있다. The hydrolysis reaction can be carried out by heating and stirring for 1 hour to 24 hours at a temperature of 0 ° C to the boiling point of the component, usually 30 ° C to 100 ° C, in the presence of an organic solvent. As an organic solvent, when using the electroconductive metal oxide particle previously disperse | distributed to the organic solvent, it can carry out as it is, but an organic solvent can also be added separately.

또한, 가수분해를 행할 때, 반응을 촉진하기 위해 촉매로서 산 또는 염기를 첨가할 수도 있다.In addition, when performing hydrolysis, an acid or a base may be added as a catalyst to promote the reaction.

산으로는, 예를 들면 염산, 질산, 황산, 인산 등의 무기산, 메탄술폰산, 톨루엔술폰산, 프탈산, 말산, 타르타르산, 말론산, 포름산, 옥살산, 메타크릴산, 아크릴산, 이타콘산 등의 유기산이나, 테트라메틸암모늄염산염, 테트라부틸암모늄염산염 등의 암모늄염을 들 수 있다. Examples of the acid include inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, organic acids such as methanesulfonic acid, toluenesulfonic acid, phthalic acid, malic acid, tartaric acid, malonic acid, formic acid, oxalic acid, methacrylic acid, acrylic acid, and itaconic acid. Ammonium salts, such as tetramethylammonium hydrochloride and tetrabutylammonium hydrochloride, are mentioned.

염기로는, 예를 들면 암모니아수, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 트리에탄올아민 등의 아민류를 들 수 있지만, 바람직한 촉매는 산이고, 보다 바람직하게는 유기산이다. 이들 촉매의 첨가량은 알콕시실릴기 함유 화합물 100 중량부에 대하여 바람직하게는 0.001 중량부 내지 1 중량부, 더욱 바람직하게는 0.01 중량부 내지 0.1 중량부이다. Examples of the base include amines such as aqueous ammonia, triethylamine, tributylamine, and triethanolamine, but the preferred catalyst is an acid, and more preferably an organic acid. The addition amount of these catalysts becomes like this. Preferably it is 0.001 weight part-1 weight part, More preferably, 0.01 weight part-0.1 weight part with respect to 100 weight part of alkoxysilyl group containing compounds.

또한, 가수분해 반응 종료시에 탈수제를 첨가함으로써 도전성 금속 산화물 입자상에의 알콕시실릴기 함유 화합물의 가수분해물 고정을 보다 효과적으로 행할 수 있다. In addition, the hydrolyzate fixation of the alkoxysilyl group-containing compound on the conductive metal oxide particles can be performed more effectively by adding a dehydrating agent at the end of the hydrolysis reaction.

탈수제로는, 유기 카르복실산 오르토에스테르 및 케탈이고, 구체적으로는 예 를 들면 오르토포름산메틸에스테르, 오르토포름산에틸에스테르, 오르토아세트산메틸에스테르, 오르토아세트산에틸에스테르 등 및 아세톤디메틸케탈, 디에틸케톤디메틸케탈, 아세토페논디메틸케탈, 시클로헥사논디메틸케탈, 시클로헥사논디에틸케탈, 벤조페논디메틸케탈 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 바람직하게는 유기 카르복실산오르토에스테르류이고, 더욱 바람직하게는 오르토포름산메틸에스테르, 오르토포름산에틸에스테르이다. Examples of the dehydrating agent include organic carboxylic acid orthoesters and ketals, and specific examples thereof include ortho formic acid methyl ester, ortho formic acid ethyl ester, orthoacetic acid methyl ester, orthoacetic acid ethyl ester and the like, and acetone dimethyl ketal and diethyl ketone dimethyl ketal. And acetophenone dimethyl ketal, cyclohexanone dimethyl ketal, cyclohexanone diethyl ketal, benzophenone dimethyl ketal and the like. Especially, they are organic carboxylic acid ortho esters, More preferably, they are ortho formic-acid methyl ester and ortho formic-acid ethyl ester.

이들 탈수제는 조성물 중에 포함되는 수분량과 등몰 이상 10배 몰 이하, 바람직하게는 등몰 이상 3 몰 이하 첨가할 수 있다. 등몰 미만이면, 보존 안정성 향상이 불충분한 경우가 있다. 또한, 이들 탈수제는 조성물의 제조 후에 첨가하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 조성물의 보존 안정성, 및 알콕시실릴기 함유 화합물의 가수분해물 중 실라놀기와 도전성 금속 산화물 입자와의 화학 결합 형성이 촉진된다. These dehydrating agents may be added in an amount of at least 10 moles equal to or more than the molar amount contained in the composition, preferably at least 3 moles or less. If it is less than equimolar, the improvement of storage stability may be insufficient. Moreover, it is preferable to add these dehydrating agents after preparation of a composition. This promotes the storage stability of the composition and the formation of chemical bonds between the silanol group and the conductive metal oxide particles in the hydrolyzate of the alkoxysilyl group-containing compound.

(i-3) (i-3) 다관능성Multifunctional ( ( 메트MET )아크릴 화합물Acrylic Compound

본 발명에서 사용하는 고굴절률 재료에는 분자 내에 (메트)아크릴로일기를 3개 이상 포함하는 다관능성 (메트)아크릴 화합물이 함유되는 것이 바람직하다. 해당 다관능성 (메트)아크릴 화합물은, 바람직하게는 분자 내에 3 내지 10개, 더욱 바람직하게는 3 내지 8개의 (메트)아크릴로일기를 갖는다. 이러한 다관능성 화합물로는, 예를 들면 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리옥시에틸(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴 레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. It is preferable that the high refractive index material used by this invention contains the polyfunctional (meth) acryl compound containing three or more (meth) acryloyl groups in a molecule | numerator. The polyfunctional (meth) acryl compound preferably has 3 to 10, more preferably 3 to 8 (meth) acryloyl groups in the molecule. As such a polyfunctional compound, for example, trimethylol propane tri (meth) acrylate, trimethylol propane trioxyethyl (meth) acrylate, and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like.

분자 내에 (메트)아크릴로일기를 3개 이상 포함하는 다관능성 (메트)아크릴 화합물의 시판품으로는, 예를 들면 카야랏드 DPHA, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, D-310, D-330, PET-30, GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330 (이상, 닛본 가야꾸(주)제), 아로닉스 M-315, M-325 (이상, 도아 고오세이(주)제) 등을 들 수 있다. As a commercial item of the polyfunctional (meth) acryl compound which contains three or more (meth) acryloyl groups in a molecule | numerator, For example, Kayarrad DPHA, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, D -310, D-330, PET-30, GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330 (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix M-315, M-325 (above, Doago Ossei Co., Ltd.) etc. are mentioned.

고굴절률 재료에서의 다관능성 (메트)아크릴 화합물의 비율은, 바람직하게는 1 내지 99 중량%, 보다 바람직하게는 10 내지 90 중량%, 특히 바람직하게는 30 내지 70 중량%이다. The ratio of the polyfunctional (meth) acrylic compound in the high refractive index material is preferably 1 to 99% by weight, more preferably 10 to 90% by weight, particularly preferably 30 to 70% by weight.

(i-4) 방사선 중합 (i-4) radiation polymerization 개시제Initiator

본 발명에 사용되는 고굴절률 재료에는, 방사선 중합 개시제가 함유되는 것이 바람직하다. 방사선 중합 개시제로는, 방사선 조사에 의해 분해되어 라디칼을 발생하여 중합을 개시시키는 것이면 좋고, 필요에 따라 추가로 광 증감제를 사용할 수도 있다. 이러한 방사선 중합 개시제로는, 방사선 조사에 의해 분해되어 라디칼을 발생하여 중합을 개시시키는 것이라면 어느 것도 좋다. 또한, 본 발명에서 "방사선"이라는 용어는, 적외선, 가시광선, 자외선, 원자외선, X선, 전자선, α선, β선, γ선 등을 말한다. It is preferable that the high refractive index material used for this invention contains a radiation polymerization initiator. As a radiation polymerization initiator, what is necessary is just to decompose by radiation irradiation, generate | occur | produce a radical and start superposition | polymerization, and you may use a photosensitizer further as needed. As such a radiation polymerization initiator, any may be used as long as it is decomposed by irradiation with radiation to generate radicals to initiate polymerization. In the present invention, the term "radiation" refers to infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like.

상기 방사선 중합 개시제의 구체예로는, 예를 들면 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 안트라퀴논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 크산톤계 화합물, 트리페닐아민, 카르바졸, 3-메틸아세토페논, 4-클로로벤조 페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 카르바졸, 크산톤, 1,1-디메톡시디옥시벤조인, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 티오크산톤계 화합물, 디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 트리페닐아민, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 비스아실포스핀옥시드, 벤질디메틸케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 플루오레논, 플루오렌, 벤즈알데히드, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조페논, 미히라케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 3-메틸아세토페논, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논(BTTB) 등을 들 수 있다. 또한 BTTB와 색소 증감제, 예를 들면 크산틴, 티오크산틴, 쿠마린, 케토쿠마린 등과의 조합 등도 개시제의 구체예로서 들 수 있다. As a specific example of the said radiation polymerization initiator, For example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal, anthraquinone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2, 2- dimethoxy-2-phenyl acetophenone, a xanthone type compound, Triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzo phenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, carbazole, xanthone, 1,1-dimethoxydioxybenzoin, 3, 3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone type compound, diethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 1- (4-dodecylphenyl) -2 -Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, triphenylamine, 2,4,6- Trimethylbenzoyldiphenylphosphineoxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine Seed, bisacylphosphine oxide, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, fluorenone, fluorene, benzaldehyde, benzoinethyl Ether, benzoinpropylether, benzophenone, mihiraketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 3-methylacetophenone, 3,3 ' And 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone (BTTB). Moreover, the combination of BTTB and a dye sensitizer, for example, xanthine, thioxanthine, coumarin, ketocoumarin, etc. are mentioned as an example of an initiator.

이들 중에서, 특히 벤질디메틸케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온 등이 바람직하다. Among them, in particular benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl Pentylphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, and the like are preferable.

방사선 중합 개시제의 시판품으로는, 예를 들면 이르가큐어 184, 651, 500, 907, 369, 784, 2959, 다로큐어 1116, 1173 (이상, 시바·스페셜티·케미컬즈사제), 루시린 TPO (바스프(BASF)사제), 유베크릴 P36 (UCB사제), 에스카큐어 KIP150, KIP100F (이상, 런벨티사제) 등을 들 수 있다. As a commercial item of a radiation polymerization initiator, Irgacure 184, 651, 500, 907, 369, 784, 2959, Darocure 1116, 1173 (above, Ciba specialty chemicals company make), Lucirin TPO (BASF) (BASF) company), Ubecryl P36 (manufactured by UCB company), Escarcure KIP150, KIP100F (above, the product made by Runvelty company), etc. are mentioned.

또한, 증감제로는, 예를 들면 트리에틸아민, 디에틸아민, N-메틸디에탄올아민, 에탄올아민, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조산 메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 이소아밀 등이 있다. 시판품으로는 유베크릴 P102, 103, 104, 105 (이상, UCB사제) 등을 들 수 있다. As the sensitizer, for example, triethylamine, diethylamine, N-methyl diethanolamine, ethanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzoic acid methyl, 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethyl Aminobenzoic acid isoamyl and the like. As a commercial item, uvecryl P102, 103, 104, 105 (above, UCB Corporation) etc. are mentioned.

방사선 중합 개시제가 조성물 중에서 차지하는 비율은, 바람직하게는 0.01 내지 10 중량%, 보다 바람직하게는 0.5 내지 7 중량%, 특히 바람직하게는 1 내지 5 중량%이다. 10 중량%를 초과하면, 고굴절률 재료의 보존 안정성이나 경화물의 물성 등에 악영향을 미치는 경우가 있다. The proportion of the radiation polymerization initiator in the composition is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 7% by weight, particularly preferably 1 to 5% by weight. When it exceeds 10 weight%, it may adversely affect the storage stability of a high refractive index material, the physical property of hardened | cured material, etc.

고굴절률 재료에는, 본 발명의 목적이나 효과를 손상하지 않는 범위에서 중합 금지제, 중합 개시 보조제, 레벨링제, 습윤성 개량제, 계면활성제, 가소제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 대전 방지제, 실란 커플링제, 무기 충전제, 안료, 염료 등의 첨가제를 더 함유시킬 수도 있다. The high refractive index material includes a polymerization inhibitor, a polymerization initiation aid, a leveling agent, a wettability improving agent, a surfactant, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a silane coupling agent, and an inorganic material within a range that does not impair the object or effect of the present invention. You may further contain additives, such as a filler, a pigment, and dye.

고굴절률층의High refractive index layer 형성 formation

고굴절률층은 기재(적용 부재)에 고굴절률 재료를 도포하고, 경화시킴으로써 형성된다. 고굴절률 재료의 도포 방법으로는 특별히 제한은 없고, 용매, 도전성 금속 산화물 입자, 알콕시실릴기 함유 화합물의 종류 및 제조 조건, 첨가하는 다관능 (메트)아크릴레이트의 종류, 기타 첨가제에 의해 도포성을 광범위하게 조정할 수 있다. 적용할 수 있는 도포 방법으로는, 롤 코팅, 바 코팅, 스핀 코팅, 커튼 코팅, 분무 코팅, 플로우 코팅, 침지, 그라비아 인쇄, 스크린 인쇄, 잉크젯 인쇄 등의 공 지된 방법을 적용할 수 있다. A high refractive index layer is formed by apply | coating a high refractive index material to a base material (application member), and hardening | curing. There is no restriction | limiting in particular as a coating method of a high refractive index material, Coating property is a solvent, electroconductive metal oxide particle, the kind and manufacturing conditions of an alkoxysilyl group containing compound, the kind of polyfunctional (meth) acrylate to add, and other additives. It can be adjusted extensively. As a coating method that can be applied, known methods such as roll coating, bar coating, spin coating, curtain coating, spray coating, flow coating, dipping, gravure printing, screen printing and inkjet printing can be applied.

또한, 고굴절률 재료나 저굴절률 재료를 경화하는 수단도 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면 가열, 방사선 조사 등이 바람직하다. In addition, the means for curing the high refractive index material or the low refractive index material is not particularly limited, for example, heating, irradiation or the like is preferable.

가열 경화의 경우, 30 내지 200 ℃의 범위 내의 온도에서 1 내지 180 분간 가열하는 것이 바람직하다. 또한, 고굴절률 재료에 방사선 중합 개시제가 함유되는 경우에는, 방사선을 조사하여 도막을 경화시키는 것이 바람직하다. 해당 방사선의 선원으로는, 조성물을 도포한 후 단시간에 경화시킬 수 있는 것인 한 특별히 제한은 없다. In the case of heat-hardening, it is preferable to heat for 1 to 180 minutes at the temperature within the range of 30-200 degreeC. Moreover, when a radiation polymerization initiator is contained in a high refractive index material, it is preferable to irradiate a radiation and harden a coating film. There is no restriction | limiting in particular as a source of the said radiation as long as it can harden | cure in a short time after apply | coating a composition.

고굴절률층의 두께는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면 50 내지 30,000 nm, 바람직하게는 50 내지 1,000 nm의 값인 것이 바람직하다. 고굴절률층의 두께가 50 nm 미만이면, 저굴절률막과 조합한 경우에, 반사 방지 효과나 기재에 대한 밀착력이 저하하는 경우가 있고, 30,000 nm를 초과하면, 광 간섭이 발생하지 않고, 반사 방지 효과가 저하하는 경우가 있다. 또한, 보다 높은 반사 방지성을 얻기 위해 고굴절률막을 복수층 설치하여 다층 구조로 하는 경우에는, 그 총 두께를 50 내지 30,000 nm의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 고굴절률막과 기재 사이에 하드 코팅층을 설치하는 경우에는, 고굴절률막의 두께를 50 내지 300 nm의 범위 내의 값으로 할 수 있다. The thickness of the high refractive index layer is not particularly limited, but is preferably, for example, a value of 50 to 30,000 nm, preferably 50 to 1,000 nm. When the thickness of the high refractive index layer is less than 50 nm, in combination with the low refractive index film, the antireflection effect and the adhesion to the substrate may decrease. The effect may fall. In order to obtain a higher antireflection property, when a plurality of high refractive index films are provided in a multilayer structure, the total thickness is preferably within a range of 50 to 30,000 nm. In addition, when providing a hard-coat layer between a high refractive index film and a base material, the thickness of a high refractive index film can be made into the value within the range of 50-300 nm.

고굴절률막 또는 하드 코팅층 등을 설치하기 위해 기재가 설치되는 경우, 그 종류는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면 유리, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 트리아세틸셀룰로오스 수지(TAC) 등을 포함하 는 기재를 들 수 있다. In the case where the substrate is provided to provide a high refractive index film or a hard coating layer, the kind is not particularly limited, but for example, glass, polycarbonate resin, polyester resin, acrylic resin, triacetyl cellulose resin The base material containing (TAC) etc. can be mentioned.

고굴절률층의 굴절률(Na-D선의 굴절률, 측정 온도 25 ℃)은 1.6 이상, 바람직하게는 1.6 내지 2.0이다. 고굴절률층의 굴절률이 1.6 미만이면, 저굴절률막과 조합한 경우에 반사 방지 효과가 현저히 저하하는 경우가 있다. The refractive index (refractive index of Na-D line | wire, 25 degreeC of measurement temperature) of a high refractive index layer is 1.6 or more, Preferably it is 1.6-2.0. When the refractive index of the high refractive index layer is less than 1.6, the antireflection effect may be remarkably lowered in combination with the low refractive index film.

또한, 고굴절률막을 복수층 설치하는 경우에는, 그 중 적어도 한 층이 상술한 범위 내의 굴절률값을 갖는 것이 좋고, 따라서 그 밖의 고굴절률막은 1.6 미만의 굴절률값을 갖고 있어도 좋다. In the case where a plurality of high refractive index films are provided, at least one of them may have a refractive index value within the above-described range, and thus the other high refractive index films may have a refractive index value of less than 1.6.

고굴절률층의 표면 저항값은, 바람직하게는 1010 Ω/□ 이하이고, 더욱 바람직하게는 108 Ω/□ 이하이다. 표면 저항값이 1012 Ω/□ 이상이면, 먼지 등의 부착이 현저해질 가능성이 있다. The surface resistance value of the high refractive index layer is preferably 10 10 Ω / square or less, more preferably 10 8 Ω / square or less. If the surface resistance value is 10 12 Ω / □ or more, adhesion of dust or the like may become remarkable.

[저굴절률층][Low refractive index layer]

본 발명에서 사용되는 저굴절률층은, The low refractive index layer used in the present invention,

(ii-1) 폴리실록산 세그먼트를 갖는 불소 함유 올레핀계 중합체를 함유하는 저굴절률 재료로부터 얻어진다. 또한, 해당 저굴절률 재료에는, (ii-1) It is obtained from the low refractive index material containing the fluorine-containing olefin type polymer which has a polysiloxane segment. In addition, the low refractive index material,

(ii-2) 열경화성 화합물 및 (ii-2) thermosetting compounds and

(ii-3) 경화 촉매가 더 함유되는 것이 바람직하다. (ii-3) It is preferable that a curing catalyst is further contained.

(ii-1) 불소 함유 올레핀계 중합체(ii-1) Fluorine-containing olefin polymer

본 발명에서 사용하는 불소 함유 올레핀계 중합체는, 주쇄 중에 폴리실록산 세그먼트를 갖고, 바람직하게는 수산기를 함유하는 단량체 유래의 구조 단위를 10 내지 50 몰% 함유하여 이루어지는 것이다. The fluorine-containing olefin polymer used in the present invention has a polysiloxane segment in the main chain, and preferably contains 10 to 50 mol% of structural units derived from a monomer containing a hydroxyl group.

불소 함유 올레핀계 중합체에서의 해당 폴리실록산 세그먼트의 비율은, 통상0.1 내지 10 몰%이다. The proportion of the polysiloxane segment in the fluorine-containing olefin polymer is usually 0.1 to 10 mol%.

또한, 불소 함유 올레핀계 중합체는, 바람직하게는 불소 함량이 30 질량% 이상, 보다 바람직하게는 40 내지 60 질량%이고, 또한 겔 투과 크로마토그래피에 의해서 얻어지는 폴리스티렌 환산에 의한 수평균 분자량이 바람직하게는 5,000 이상, 보다 바람직하게는 10,000 내지 500,000인 것이다. 여기서 불소 함량은 알리자린 컴플렉손법에 의해 측정된 값, 수평균 분자량은 전개 용제로서 테트라히드로푸란을 사용했을 때의 값이다. In addition, the fluorine-containing olefin polymer preferably has a fluorine content of 30% by mass or more, more preferably 40 to 60% by mass, and preferably a number average molecular weight in terms of polystyrene obtained by gel permeation chromatography. 5,000 or more, more preferably 10,000 to 500,000. The fluorine content is a value measured by the alizarin complexon method and the number average molecular weight is a value when tetrahydrofuran is used as the developing solvent.

불소 함유 올레핀계 중합체는 (a) 불소 함유 올레핀 화합물(이하 "(a) 성분"이라 함), (b) 이 (a) 성분과 공중합가능한 수산기를 함유하는 단량체 화합물(이하 "(b) 성분"이라 함) 및 (c) 아조기 함유 폴리실록산 화합물(이하 "(c) 성분"이라 함), 및 필요에 따라 (d) 반응성 유화제(이하 "(d) 성분"이라 함) 및(또는) (e) 상기 (a) 성분과 공중합가능한 (b) 성분 이외의 단량체 화합물을 반응시킴으로써 얻을 수 있다. The fluorine-containing olefin polymer includes (a) a fluorine-containing olefin compound (hereinafter referred to as "(a) component"), and (b) a monomer compound containing a hydroxyl group copolymerizable with (a) component (hereinafter referred to as "(b) component" ) And (c) azo group-containing polysiloxane compounds (hereinafter referred to as "(c) component") and, if necessary, (d) reactive emulsifiers (hereinafter referred to as "(d) component") and / or (e) It can obtain by making monomer compounds other than the (b) component copolymerizable with the said (a) component react.

(a) 성분인 불소 함유 올레핀 화합물로는, 1개 이상의 중합성 불포화 이중 결합과, 1개 이상의 불소 원자를 갖는 화합물을 들 수 있고, 그 구체예로는, 예를 들면 (1) 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 3,3,3-트리플루오로프로필렌 등의 플루오로올레핀류; (2) 알킬퍼플루오로비닐에테르류 또는 알콕시알킬퍼플루오로비닐에테르류; (3) 퍼플루오로(메틸비닐에테르), 퍼플루오로(에틸비닐에테르), 퍼플루오로(프로필비닐에테르), 퍼플루오로(부틸비닐에테르), 퍼플루오로(이소부틸비닐에테르) 등의 퍼플루오로(알킬비닐에테르)류; (4) 퍼플루오로(프로폭시프로필비닐에테르) 등의 퍼플루오로(알콕시알킬비닐에테르)류; 그 밖에 것을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 병용할 수 있다. 이들 중, 특히 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로알킬퍼플루오로비닐에테르 또는 퍼플루오로알콕시알킬퍼플루오로비닐에테르가 바람직하고, 또한 이들을 조합하여 사용하는 것이 바람직하다. Examples of the fluorine-containing olefin compound as the component (a) include compounds having one or more polymerizable unsaturated double bonds and one or more fluorine atoms, and specific examples thereof include (1) tetrafluoro. Fluoroolefins such as ethylene, hexafluoropropylene and 3,3,3-trifluoropropylene; (2) alkylperfluorovinylethers or alkoxyalkylperfluorovinylethers; (3) Perfluoro (methyl vinyl ether), perfluoro (ethyl vinyl ether), perfluoro (propyl vinyl ether), perfluoro (butyl vinyl ether), perfluoro (isobutyl vinyl ether), etc. Perfluoro (alkyl vinyl ether) s; (4) perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) such as perfluoro (propoxypropyl vinyl ether); Others can be mentioned. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Among them, hexafluoropropylene, perfluoroalkyl perfluorovinyl ether or perfluoroalkoxyalkylperfluorovinyl ether is particularly preferable, and it is preferable to use these in combination.

(b) 성분인 수산기를 함유하는 단량체 화합물로는, 예를 들면 (1) 2-히드록시에틸비닐에테르, 3-히드록시프로필비닐에테르, 2-히드록시프로필비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르, 3-히드록시부틸비닐에테르, 5-히드록시펜틸비닐에테르, 6-히드록시헥실비닐에테르 등의 수산기 함유 비닐에테르류; (2) 2-히드록시에틸알릴에테르, 4-히드록시부틸알릴에테르, 글리세롤모노알릴에테르 등의 수산기 함유 알릴에테르류; (3) 알릴알코올; (4) 히드록시에틸(메트)아크릴산 에스테르; 그 밖의 것을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 병용할 수 있다. As a monomer compound containing the hydroxyl group which is (b) component, it is (1) 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl, for example. Hydroxyl group-containing vinyl ethers such as ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 5-hydroxypentyl vinyl ether, and 6-hydroxyhexyl vinyl ether; (2) hydroxyl group-containing allyl ethers such as 2-hydroxyethyl allyl ether, 4-hydroxybutyl allyl ether, and glycerol monoallyl ether; (3) allyl alcohol; (4) hydroxyethyl (meth) acrylic acid ester; And others. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

(c) 성분의 아조기 함유 폴리실록산 화합물은, -N=N-으로 표시되는 열 해열이 용이한 아조기와 폴리실록산 세그먼트를 갖는 화합물이고, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)6-93100호 공보에 기재된 방법에 의해 제조할 수 있는 것이다. (c) 성분의 구체예로는, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 들 수 있다. The azo group-containing polysiloxane compound of the component (c) is a compound having an azo group and a polysiloxane segment that is easily dissociated in heat represented by -N = N-, for example, the method described in JP-A-6-93100. It can be manufactured by. As a specific example of (c) component, the compound represented by following formula (4) is mentioned.

Figure 112005052248976-PAT00002
Figure 112005052248976-PAT00002

식 중, y=10 내지 500, z=1 내지 50이다. In formula, y = 10-500 and z = 1-50.

상기한 (a) 성분, (b) 성분 및 (c) 성분의 바람직한 조합은, 예를 들면 (1) 플루오로올레핀/수산기 함유 알킬비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위, (2) 플루오로올레핀/퍼플루오로(알킬비닐에테르)/수산기 함유 알킬비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위, (3) 플루오로올레핀/퍼플루오로(알콕시알킬)비닐에테르/수산기 함유 알킬비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위, (4) 플루오로올레핀/(퍼플루오로알킬)비닐에테르/수산기 함유 알킬비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위, (5) 플루오로올레핀/(퍼플루오로알콕시알킬)비닐에테르/수산기 함유 알킬비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위이다. Preferred combinations of the above-mentioned (a) component, (b) component, and (c) component are (1) fluoroolefin / hydroxyl-containing alkyl vinyl ether / polydimethylsiloxane unit, (2) fluoroolefin / purple Luoro (alkylvinylether) / hydroxyl group-containing alkylvinylether / polydimethylsiloxane units, (3) fluoroolefins / perfluoro (alkoxyalkyl) vinylether / hydroxyl group-containing alkylvinylether / polydimethylsiloxane units, (4) Fluoroolefin / (perfluoroalkyl) vinylether / hydroxyl group-containing alkylvinylether / polydimethylsiloxane unit, (5) fluoroolefin / (perfluoroalkoxyalkyl) vinylether / hydroxyl group-containing alkylvinylether / polydimethylsiloxane Unit.

본 발명에서 사용하는 불소 함유 올레핀계 중합체에서, (a) 성분에 유래하는 구조 단위는 바람직하게는 20 내지 70 몰%, 더욱 바람직하게는 25 내지 65 몰%, 특히 바람직하게는 30 내지 60 몰%이다. 또한, (b) 성분에 유래하는 구조 단위는 바람직하게는 10 내지 50 몰%, 더욱 바람직하게는 13 내지 45 몰%, 특히 바람직하게는 20 내지 35 몰%이다. 또한, (c) 성분에 유래하는 구조 단위의 비율은, (c) 성분에 포함되는 폴리실록산 세그먼트가 바람직하게는 0.1 내지 20 몰%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 15 몰%, 특히 바람직하게는 0.1 내지 10 몰%가 되는 비율이다. In the fluorine-containing olefin polymer used in the present invention, the structural unit derived from the component (a) is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 25 to 65 mol%, particularly preferably 30 to 60 mol% to be. Moreover, the structural unit derived from (b) component becomes like this. Preferably it is 10-50 mol%, More preferably, it is 13-45 mol%, Especially preferably, it is 20-35 mol%. The proportion of the structural unit derived from the component (c) is preferably 0.1 to 20 mol%, more preferably 0.1 to 15 mol%, particularly preferably 0.1 to 20 mol% of the polysiloxane segment contained in the component (c). It is the ratio which becomes 10 mol%.

본 발명에서는, 상기 (a) 내지 (c) 성분 이외에, 추가로 (d) 성분으로서 반 응성 유화제를 단량체 성분으로서 사용하는 것이 바람직하다. 이 (d) 성분을 사용함으로써, 불소 함유 올레핀계 중합체를 도포제로서 사용하는 경우에, 양호한 도포성 및 레벨링성을 얻을 수 있다. 이 반응성 유화제로는, 특히 비이온성 반응성 유화제를 사용하는 것이 바람직하다. In the present invention, in addition to the components (a) to (c), it is preferable to further use a reactive emulsifier as the monomer component as the component (d). By using this (d) component, when using a fluorine-containing olefin polymer as a coating agent, favorable applicability | paintability and leveling property can be obtained. Especially as this reactive emulsifier, it is preferable to use a nonionic reactive emulsifier.

불소 함유 올레핀계 중합체에서, (d) 성분 유래의 구성 단위의 비율은 바람직하게는 10 몰% 이하, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 몰%이다. In the fluorine-containing olefin polymer, the proportion of the structural unit derived from the component (d) is preferably 10 mol% or less, more preferably 0.1 to 5 mol%.

(e) 성분인, (a) 성분과 공중합가능한 (b) 성분 이외의 단량체 화합물로는, (1) 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, n-프로필비닐에테르, 이소프로필비닐에테르, n-부틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, tert-부틸비닐에테르, n-펜틸비닐에테르, n-헥실비닐에테르, n-옥틸비닐에테르, n-도데실비닐에테르, 2-에틸헥실비닐에테르, 시클로헥실비닐에테르 등의 알킬비닐에테르 또는 시클로알킬비닐에테르류; (2) 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 부티르산 비닐, 피발린산 비닐, 카프로산 비닐, 베르사트산(Versatic acid) 비닐, 스테아르산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르류; (3) 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-(n-프로폭시)에틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산 에스테르류; (4) (메트)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산 등의 카르복실기 함유 단량체 화합물 등으로, 수산기를 함유하지 않는 것을 들 수 있다. As a monomer compound other than the (b) component copolymerizable with the (a) component which is (e) component, it is (1) methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl Ether, isobutyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, n-pentyl vinyl ether, n-hexyl vinyl ether, n-octyl vinyl ether, n-dodecyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, etc. Alkyl vinyl ethers or cycloalkyl vinyl ethers; (2) carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl pivalate, vinyl caproate, vinyl versatate and vinyl stearate; (3) methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (Meth) acrylic acid esters such as (meth) acrylate and 2- (n-propoxy) ethyl (meth) acrylate; (4) Examples of carboxyl group-containing monomer compounds such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, and the like, and those containing no hydroxyl group are mentioned.

불소 함유 올레핀계 중합체에서, (e) 성분 유래의 구성 단위의 비율은 바람직하게는 70 몰% 이하, 더욱 바람직하게는 5 내지 35 몰%이다. In the fluorine-containing olefin polymer, the proportion of the structural unit derived from the component (e) is preferably 70 mol% or less, more preferably 5 to 35 mol%.

또한, 상술한 (c) 성분은 라디칼 중합 개시제로서 작용하지만, 이것과 병용할 수 있는 라디칼 중합 개시제로는, 예를 들면 (1) 아세틸퍼옥시드, 벤조일퍼옥시드 등의 디아실퍼옥시드류; (2) 메틸에틸케톤퍼옥시드, 시클로헥사논퍼옥시드 등의 케톤퍼옥시드류; (3) 과산화수소, tert-부틸히드로퍼옥시드, 쿠멘히드로퍼옥시드 등의 히드로퍼옥시드류; (4) 디-tert-부틸퍼옥시드, 디쿠밀퍼옥시드, 디라우로일퍼옥시드 등의 디알킬퍼옥시드류; (5) tert-부틸퍼옥시아세테이트, tert-부틸퍼옥시피발레이트 등의 퍼옥시에스테르류; (6) 아조비스이소부티로니트릴, 아조비스이소발레로니트릴 등의 아조계 화합물류; (7) 과황산암모늄, 과황산나트륨, 과황산칼륨 등의 과황산염류 등을 들 수 있다. In addition, although the above-mentioned (c) component acts as a radical polymerization initiator, As a radical polymerization initiator which can be used together with this, For example, (1) diacyl peroxides, such as acetyl peroxide and benzoyl peroxide; (2) ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide and cyclohexanone peroxide; (3) hydroperoxides such as hydrogen peroxide, tert-butylhydroperoxide and cumene hydroperoxide; (4) dialkyl peroxides such as di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide and dilauroyl peroxide; (5) peroxy esters such as tert-butyl peroxy acetate and tert-butyl peroxy pivalate; (6) azo compounds such as azobisisobutyronitrile and azobisisovaleronitrile; (7) Persulfates, such as ammonium persulfate, sodium persulfate, and potassium persulfate, etc. are mentioned.

불소 함유 올레핀계 중합체를 얻기 위한 중합 반응은 용제를 사용한 용제계에서 행하는 것이 바람직하다. 여기서 바람직한 유기 용제로는, 예를 들면 (1) 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 아세트산 이소프로필, 아세트산 이소부틸, 아세트산 셀로솔브 등의 에스테르류; (2) 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; (3) 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 환상 에테르류; (4) N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류; (5) 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 그 밖의 것을 들 수 있다. 또한 필요에 따라, 알코올류, 지방족 탄화수소류 등을 혼합 사용할 수도 있다.It is preferable to perform the polymerization reaction for obtaining a fluorine-containing olefin type polymer in the solvent system using a solvent. As a preferable organic solvent here, For example, (1) Ester, such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, and a cellosolve; (2) ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; (3) cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; (4) amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; (5) aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; And others. Moreover, alcohol, aliphatic hydrocarbons, etc. can also be mixed and used as needed.

본 발명에서, 불소 함유 올레핀계 중합체를 제조하기 위한 중합 방식으로는, 라디칼 중합 개시제를 사용하는 유화 중합법, 현탁 중합법, 괴상 중합법 또는 용액 중합법 중 어느 것도 사용할 수 있고, 중합 조작으로도, 회분식, 반연속식 또는 연 속식의 조작 등으로부터 적절한 것을 선택할 수 있다. In the present invention, any of the emulsion polymerization method, suspension polymerization method, block polymerization method or solution polymerization method using a radical polymerization initiator may be used as the polymerization method for producing the fluorine-containing olefin polymer, and also in the polymerization operation. , A batch, semi-continuous or continuous operation can be selected.

(ii-2) 열경화성 화합물(ii-2) thermosetting compounds

열경화성 화합물로는, 예를 들면 각종 아미노 화합물이나, 펜타에리트리톨, 폴리페놀, 글리콜 등의 각종 수산기 함유 화합물, 그 밖의 것을 들 수 있다. As a thermosetting compound, various amino compound, various hydroxyl-containing compounds, such as pentaerythritol, polyphenol, glycol, etc. are mentioned, for example.

열경화성 화합물로서 사용되는 아미노 화합물은, 불소 함유 올레핀계 중합체 중에 존재하는 수산기와 반응가능한 아미노기, 예를 들면 히드록시알킬아미노기 및 알콕시알킬아미노기 중 어느 하나 또는 양쪽 모두를 총 2개 이상 함유하는 화합물이고, 구체적으로는 예를 들면 멜라민계 화합물, 요소계 화합물, 벤조구아나민계 화합물, 글리콜우릴계 화합물 등을 들 수 있다. The amino compound used as the thermosetting compound is a compound containing two or more of a total of two or more amino groups, for example, hydroxyalkylamino groups and alkoxyalkylamino groups, which can react with hydroxyl groups present in the fluorine-containing olefin polymer, Specifically, a melamine type compound, a urea type compound, a benzoguanamine type compound, a glycoluril type compound, etc. are mentioned, for example.

멜라민계 화합물은 일반적으로 트리아진환에 질소 원자가 결합한 골격을 갖는 화합물로서 알려져 있고, 구체적으로는 멜라민, 알킬화멜라민, 메틸올멜라민, 알콕시화메틸멜라민 등을 들 수 있지만, 1 분자 중에 메틸올기 및 알콕시화메틸기 중 어느 하나 또는 양쪽 모두를 총 2개 이상 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 멜라민과 포름알데히드를 염기성 조건하에 반응시켜 얻어지는 메틸올화멜라민, 알콕시화메틸멜라민, 또는 이들의 유도체가 바람직하고, 특히 액상 수지 조성물에 양호한 보존 안정성이 얻어진다는 점, 및 양호한 반응성이 얻어진다는 점에서 알콕시화메틸멜라민이 바람직하다. 열경화성 화합물로서 사용되는 메틸올화멜라민 및 알콕시화메틸멜라민에는 특별히 제약은 없고, 예를 들면 문헌 [플라스틱 재료 강좌 [8] 유리어·멜라민 수지 (닛간 고교 신문사)]에 기재되어 있는 방법으로 얻어지는 각종 수지상물의 사용도 가능하다. Melamine-based compounds are generally known as compounds having a skeleton in which a nitrogen atom is bonded to a triazine ring, and specific examples thereof include melamine, alkylated melamine, methylolmelamine, alkoxylated methylmelamine, and the like. It is preferable to have two or more of any one or both of methyl groups. Specifically, methylolated melamine, alkoxylated methylmelamine, or derivatives thereof obtained by reacting melamine and formaldehyde under basic conditions are preferable, in particular, good storage stability is obtained in the liquid resin composition, and good reactivity is obtained. Alkoxylated methylmelamine is preferred. There is no restriction | limiting in particular in the methylolation melamine and the alkoxylated methylmelamine used as a thermosetting compound, For example, various resinous forms obtained by the method described in the plastic material course [8] free fish melamine resin (Nigan Kogyo Shimbun). Water can also be used.

또한, 요소계 화합물로는, 요소 이외에 폴리메틸올화 요소의 유도체인 알콕시화메틸 요소, 우론환을 갖는 메틸올화우론 및 알콕시화메틸우론 등을 들 수 있다. 그리고, 요소 유도체 등의 화합물에 대해서도, 상기한 문헌에 기재되어 있는 각종 수지상물의 사용이 가능하다. Examples of the urea-based compound include methyl urea which is a derivative of polymethylolated urea in addition to urea, methylolated uron having a uron ring, methylalurized alkoxide and the like. Moreover, also about compounds, such as a urea derivative, can use the various dendritic materials described in the said document.

불소 함유 올레핀계 중합체 100 질량부에 대한 열경화성 화합물의 사용량은 통상 15 내지 80 질량부이고, 바람직하게는 20 내지 70 질량부이며, 더욱 바람직하게는 30 내지 60 질량부이다. 열경화성 화합물의 사용량이 과소하면, 형성되는 저굴절률층의 내구성이 불충분해 지는 경우가 있고, 80 질량부를 초과하면, 불소 함유 올레핀계 중합체와의 반응에서 겔화를 회피하는 것이 곤란하며, 더구나 경화막이 저굴절률의 것이 되지 않고, 경화물이 취약해지는 경우가 있다. The usage-amount of the thermosetting compound with respect to 100 mass parts of fluorine-containing olefin type polymers is 15-80 mass parts normally, Preferably it is 20-70 mass parts, More preferably, it is 30-60 mass parts. When the amount of the thermosetting compound is used too little, the durability of the low refractive index layer to be formed may be insufficient, and when it exceeds 80 parts by mass, it is difficult to avoid gelation in the reaction with the fluorine-containing olefin-based polymer. It does not become a thing of refractive index, and hardened | cured material may become weak.

불소 함유 올레핀계 중합체와 열경화성 화합물과의 반응은, 예를 들면 불소 함유 올레핀계 중합체를 용해시킨 유기 용제의 용액에 열경화성 화합물을 첨가하고, 적절한 시간 가열, 교반 등에 의해 반응계를 균일화시키면서 행하면 좋다. 이 반응을 위한 가열 온도는 바람직하게는 30 내지 150 ℃의 범위이고, 더욱 바람직하게는 50 내지 120 ℃의 범위이다. 이 가열 온도가 30 ℃ 미만이면, 반응의 진행이 매우 느리고, 150 ℃를 초과하면, 목적한 반응 이외에 열경화성 화합물 중 메틸올기나 알콕시화메틸기끼리의 반응에 의한 가교 반응이 일어나 겔이 생성되기 때문에 바람직하지 않다. 반응의 진행은, 메틸올기 또는 알콕시화메틸기를 적외 분광분석 등에 의해 정량하는 방법, 또는 용해되어 있는 중합체를 재침전법에 의해서 회수하고 그 증가량을 측정함으로써, 정량적인 확인을 행할 수 있다. The reaction between the fluorine-containing olefin polymer and the thermosetting compound may be performed, for example, by adding the thermosetting compound to a solution of an organic solvent in which the fluorine-containing olefin polymer is dissolved, and homogenizing the reaction system by appropriate time heating and stirring. The heating temperature for this reaction is preferably in the range of 30 to 150 ° C, more preferably in the range of 50 to 120 ° C. When this heating temperature is less than 30 degreeC, reaction progress is very slow and when it exceeds 150 degreeC, since crosslinking reaction by reaction of the methylol group and the alkoxylated methyl group among thermosetting compounds other than the target reaction occurs and a gel is formed, it is preferable. Not. The progress of the reaction can be quantitatively confirmed by a method of quantifying a methylol group or an alkoxylated methyl group by infrared spectroscopy or the like, or by recovering the dissolved polymer by reprecipitation and measuring the increase amount.

(ii-3) 경화 촉매(ii-3) curing catalyst

경화 촉매로는, 예를 들면 열산 발생제를 들 수 있다. 열산 발생제는, 해당 액상 수지 조성물의 도막 등을 가열하여 경화시키는 경우에 경화 반응을 촉진시킬 수 있는 물질이고, 또한 그 가열 조건을 보다 온화한 것으로 개선할 수 있는 물질이다. 이 열산 발생제로는 특별히 제한은 없고, 일반적인 우레아 수지, 멜라민 수지 등을 위한 경화제로서 사용되고 있는 상술한 각종 산류나 그의 염류를 이용할 수 있다. 구체예로는, 예를 들면 각종 지방족 술폰산과 그의 염, 시트르산, 아세트산, 말레산 등의 각종 지방족 카르복실산과 그의 염, 벤조산, 프탈산 등의 각종 방향족 카르복실산과 그의 염, 알킬벤젠술폰산과 그의 암모늄염, 각종 금속염, 인산이나 유기산의 인산 에스테르 등을 들 수 있다. As a curing catalyst, a thermal acid generator is mentioned, for example. A thermal acid generator is a substance which can accelerate hardening reaction when the coating film etc. of the said liquid resin composition are heated and hardened | cured, and the substance which can improve the heating conditions to be milder. There is no restriction | limiting in particular as this thermal acid generator, The above-mentioned various acids and its salts used as a hardening | curing agent for general urea resin, melamine resin, etc. can be used. As a specific example, various aliphatic sulphonic acid, its salt, various aliphatic carboxylic acid, such as citric acid, acetic acid, maleic acid, its salt, various aromatic carboxylic acid, such as benzoic acid, phthalic acid, its salt, alkylbenzene sulfonic acid, and its ammonium salt And various metal salts, phosphoric acid and phosphoric acid esters of organic acids.

불소 함유 올레핀계 중합체 100 질량부에 대한 경화 촉매의 사용량은, 통상 5 내지 20 질량부, 바람직하게는 8 내지 20 질량부, 더욱 바람직하게는 10 내지 15질량부이다. 경화 촉매의 사용량이 과소하면, 충분한 기계적 강도가 얻어지지 않을 가능성이 있다. 또한, 이 비율이 과대해지면, 저굴절률 재료의 보존 안정성이 열화되거나, 촉매가 경화막 중에서 가소제로서 작용하기 때문에, 충분한 기계적 강도가 얻어지지 않을 가능성이 있다. The usage-amount of the hardening catalyst with respect to 100 mass parts of fluorine-containing olefin type polymers is 5-20 mass parts normally, Preferably it is 8-20 mass parts, More preferably, it is 10-15 mass parts. When the usage-amount of a hardening catalyst is too low, there exists a possibility that sufficient mechanical strength may not be obtained. Moreover, when this ratio becomes excessive, since the storage stability of the low refractive index material deteriorates, or because the catalyst acts as a plasticizer in the cured film, sufficient mechanical strength may not be obtained.

용제solvent

통상, 저굴절률 재료는 불소 함유 올레핀계 중합체의 제조에 사용한 용제, 또는 불소 함유 올레핀계 중합체와 열경화성 화합물과의 반응에 사용한 용제에 의한 용액으로서 얻어지고, 따라서 그대로 용제를 함유하는 것이다. Usually, a low refractive index material is obtained as a solution by the solvent used for manufacture of a fluorine-containing olefin polymer, or the solvent used for reaction of a fluorine-containing olefin polymer and a thermosetting compound, and therefore contains a solvent as it is.

또한, 저굴절률 재료의 도포성 등을 개선하는 것 등의 목적으로, 별도의 용제를 첨가하여 배합할 수 있다. 바람직한 용제로는, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르류를 들 수 있다. 또한, 저굴절률 재료에는, 불소 함유 올레핀계 중합체를 용해할 수 없는 용제, 예를 들면 물, 알코올류, 에테르류 등의 빈용매를 불소 함유 올레핀계 중합체가 석출하지 않는 범위에서 병용할 수 있다. 이에 따라, 해당 불소 함유 올레핀계 중합체의 용액이 양호한 보존성과 바람직한 도포성을 갖게 되는 경우가 있다. 이러한 빈용매로는, 에틸 알코올, 이소프로필 알코올, tert-부틸 알코올 등을 들 수 있다.Moreover, another solvent can be added and mix | blended for the purpose of improving the coating property etc. of a low refractive index material. Preferable solvents include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, and esters such as ethyl acetate and butyl acetate. In addition, the low refractive index material can be used together with the solvent which cannot melt | dissolve a fluorine-containing olefin type polymer, for example, poor solvents, such as water, alcohol, and ether, in the range which does not precipitate a fluorine-containing olefin type polymer. As a result, the solution of the fluorine-containing olefin polymer may have good storage properties and preferable coatability. As such a poor solvent, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, tert- butyl alcohol, etc. are mentioned.

첨가제additive

저굴절률 재료에는, 도포성 및 경화 후 막의 물성의 개선이나, 도막에 대한 감광성의 부여 등을 목적으로, 예를 들면 히드록시메틸(메트)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 각종 단량체나 중합체, 안료 또는 염료 등의 착색제, 노화 방지제나 자외선 흡수제 등의 안정화제, 열산 발생제, 감광성 산 발생제, 계면활성제, 중합 금지제, 용제 등의 각종 첨가제를 함유시킬 수 있다. 특히, 형성되는 경화막의 경도 및 내구성의 개선을 목적으로, 열산 발생제 또는 광산 발생제를 첨가하는 것이 바람직하고, 특히 경화 후 투명성을 저하시키지 않으며, 그 용액에 균일하게 용해되는 것을 선택하여 사용하는 것이 바람직하다. The low refractive index material includes various monomers, polymers, pigments or the like having, for example, hydroxyl groups such as hydroxymethyl (meth) acrylate, for the purpose of improving the coating properties and the physical properties of the film after curing, the provision of photosensitivity to the coating film, or the like. Various additives, such as coloring agents, such as dye, stabilizer, such as an antioxidant and an ultraviolet absorber, a thermal acid generator, a photosensitive acid generator, surfactant, a polymerization inhibitor, a solvent, can be contained. In particular, for the purpose of improving the hardness and durability of the cured film to be formed, it is preferable to add a thermal acid generator or a photoacid generator, and in particular, it does not lower the transparency after curing, and is selected and used to be uniformly dissolved in the solution. It is preferable.

저굴절률층의Low refractive index 형성 formation

저굴절률층은 고굴절률층과 마찬가지로 기재(고굴절률층)에 저굴절률 재료를 도포하고, 경화시킴으로써 형성된다. 저굴절률 재료의 도포 방법 및 경화 방법으로는 특별히 제한은 없고, 고굴절률 재료의 도포 방법으로서 상술한 방법을 적용할 수 있다. The low refractive index layer is formed by applying and curing a low refractive index material on a substrate (high refractive index layer) similarly to the high refractive index layer. There is no restriction | limiting in particular as a coating method and the hardening method of a low refractive index material, The method mentioned above can be applied as a coating method of a high refractive index material.

저굴절률층의 두께는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면 50 내지 300 nm, 바람직하게는 50 내지 250 nm, 특히 바람직하게는 60 내지 200 nm이다. 저굴절률층의 두께가 50 nm 미만이면, 고굴절률층에 대한 밀착력이 저하하는 경우가 있고, 한편 두께가 300 nm를 초과하면, 광 간섭이 발생하지 않고, 반사 방지 효과가 저하하는 경우가 있다. 또한, 보다 높은 반사 방지성을 얻기 위해 저굴절률층을 복수층 설치하여 다층 구조로 만드는 경우에는, 그 총 두께를 50 내지 300 nm의 범위 내의 값으로 하면 좋다. The thickness of the low refractive index layer is not particularly limited, but is, for example, 50 to 300 nm, preferably 50 to 250 nm, particularly preferably 60 to 200 nm. When the thickness of the low refractive index layer is less than 50 nm, the adhesion to the high refractive index layer may decrease. On the other hand, when the thickness exceeds 300 nm, optical interference does not occur and the antireflection effect may decrease. In addition, in order to make a multilayer structure by providing two or more low refractive index layers in order to obtain higher antireflection property, what is necessary is just to make the total thickness into the value within the range of 50-300 nm.

저굴절률층의 굴절률값(Na-D선의 굴절률, 측정 온도 25 ℃)은 낮을수록 고굴절률막과 조합한 경우에 우수한 반사 방지 효과가 얻어지지만, 구체적으로는 1.6 이하, 바람직하게는 1.3 내지 1.6, 보다 바람직하게는 1.3 내지 1.5이다. 또한, 저굴절률막의 굴절률이 1.3 미만이면, 사용가능한 재료의 종류가 과도하게 제한되는 경우가 있다. The lower the refractive index value of the low refractive index layer (refractive index of Na-D line, measuring temperature 25 ° C.), the better the antireflection effect is obtained when combined with the high refractive index film, but specifically 1.6 or less, preferably 1.3 to 1.6, More preferably, it is 1.3-1.5. In addition, when the refractive index of the low refractive index film is less than 1.3, the kind of usable material may be excessively limited.

또한, 저굴절률층을 복수 설치하는 경우에는, 그 중 적어도 한 층이 상술한 범위 내의 굴절률값을 갖는 것이 좋고, 따라서 그 밖의 저굴절률층은 1.6을 초과하는 경우가 되어도 좋다. In the case where a plurality of low refractive index layers are provided, at least one of them may have a refractive index value within the above-described range, and thus the other low refractive index layers may exceed 1.6.

또한, 보다 우수한 반사 방지 효과가 얻어지기 때문에 저굴절률층과 고굴절률층 사이의 굴절률 차이는 0.05 이상의 값으로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람 직하게는 0.1 내지 0.5, 더욱 바람직하게는 0.15 내지 0.5이다. Further, since a better antireflection effect is obtained, the refractive index difference between the low refractive index layer and the high refractive index layer is preferably set to a value of 0.05 or more. More preferably, it is 0.1-0.5, More preferably, it is 0.15-0.5.

[하드 코팅층][Hard Coating Layer]

본 발명에서 사용하는 반사 방지층은, 추가로 하드 코팅층을 갖는 것이 바람직하다. 하드 코팅층으로는, 예를 들면 실리콘계 수지, 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 멜라민계 수지 등의 재료로 구성된 것을 들 수 있지만, 본 발명에서 사용하는 근적외선 흡수층과의 접착성이 우수한 것으로서, 하기의 조성물로부터 얻어지는 하드 코팅층이 바람직하게 사용된다. It is preferable that the antireflection layer used by this invention has a hard coat layer further. Examples of the hard coating layer include those made of materials such as silicone resins, epoxy resins, acrylic resins, melamine resins, and the like, and are excellent in adhesion to the near-infrared absorbing layer used in the present invention. The hard coat layer obtained is used preferably.

(iii-1) 규소, 알루미늄, 지르코늄, 티타늄, 아연, 게르마늄, 인듐, 주석, 안티몬 및 세륨으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 원소의 산화물 입자와, 중합성 불포화기를 포함하는 유기 화합물을 결합시켜 이루어지는 입자(이하, "가교성 입자"라고도 함) 및 (iii-1) an oxide compound of at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium and an organic compound containing a polymerizable unsaturated group Particles (hereinafter also referred to as "crosslinkable particles"), and

(iii-2) 지환 구조를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르류를 함유하는 수지 조성물. (iii-2) Resin composition containing the (meth) acrylic acid ester which has alicyclic structure.

상기 수지 조성물은 추가로, The resin composition is further,

(iii-3) (iii-2) 이외의, 분자 내에 2개 이상의 중합성 불포화기를 포함하는 화합물이나, (iii-3) A compound containing two or more polymerizable unsaturated groups in a molecule other than (iii-2);

(iii-4) 방사선 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. (iii-4) It is preferable to contain a radiation polymerization initiator.

(iii-1) (iii-1) 가교성Crosslinkable 입자  particle

가교성 입자는 규소, 알루미늄, 지르코늄, 티타늄, 아연, 게르마늄, 인듐, 주석, 안티몬 및 세륨으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 원소의 산화물 입자와, 중합성 불포화기를 포함하는 유기 화합물을 결합시켜 이루어지는 입자이다.The crosslinkable particles are formed by combining an oxide compound of at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium with an organic compound containing a polymerizable unsaturated group. Particles.

산화물 입자로는, 예를 들면 실리카, 산화알루미늄, 지르코니아, 티타니아, 산화아연, 산화게르마늄, 산화인듐, 산화주석, 인듐주석산화물(ITO), 산화안티몬 및 산화세륨을 들 수 있다. 그 중에서도, 고경도의 관점에서 실리카, 산화알루미늄, 지르코니아 및 산화안티몬이 바람직하고, 특히 실리카가 바람직하다. 이들은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Examples of the oxide particles include silica, aluminum oxide, zirconia, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, and cerium oxide. Among them, silica, aluminum oxide, zirconia and antimony oxide are preferred from the viewpoint of high hardness, and silica is particularly preferable. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

산화물 입자는, 분체상 또는 용제 분산 졸인 것이 바람직하다. 용제 분산 졸인 경우, 다른 성분과의 상용성, 분산성의 관점에서 분산 용매는 유기 용제가 바람직하다. 이러한 유기 용제로는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 옥탄올 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 락트산 에틸, γ-부티롤락톤 등의 에스테르류; 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르 등의 에테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류를 들 수 있다. 그 중에서도, 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 톨루엔, 크실렌이 바람직하다. It is preferable that an oxide particle is powder form or a solvent dispersion sol. In the case of a solvent dispersion sol, the dispersion solvent is preferably an organic solvent from the viewpoint of compatibility with other components and dispersibility. As such an organic solvent, For example, Alcohol, such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, an octanol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate and γ-butyrolactone; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Amides, such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone, are mentioned. Especially, methanol, isopropanol, butanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, toluene, and xylene are preferable.

산화물 입자의 수평균 입경은 0.001 ㎛ 내지 2 ㎛가 바람직하고, 0.001 ㎛ 내지 0.2 ㎛가 보다 바람직하며, 0.001 ㎛ 내지 0.1 ㎛가 특히 바람직하다. 또한, 입자의 분산성을 개선하기 위해 각종 계면활성제나 아민류를 첨가할 수도 있다. The number average particle diameter of the oxide particles is preferably 0.001 µm to 2 µm, more preferably 0.001 µm to 0.2 µm, and particularly preferably 0.001 µm to 0.1 µm. Moreover, in order to improve the dispersibility of particle | grains, various surfactant and amines can also be added.

산화물 입자의 형상은 구형, 중공형, 다공질형, 막대형, 판형, 섬유형, 또는 부정형상이고, 바람직하게는 구형이다. 산화물 입자의 비표면적(질소를 사용한 BET 비표면적 측정법에 의한 값)은 바람직하게는 10 내지 1000 ㎡/g이고, 더욱 바람직하게는 100 내지 500 ㎡/g이다. The shape of the oxide particles is spherical, hollow, porous, rod, plate, fibrous, or indefinite, preferably spherical. The specific surface area (value by the BET specific surface area measurement method using nitrogen) of an oxide particle becomes like this. Preferably it is 10-1000 m <2> / g, More preferably, it is 100-500 m <2> / g.

규소 산화물 입자(예를 들면, 실리카 입자)로서 시판되고 있는 상품으로는, 예를 들면 콜로이드성 실리카로서, 닛산 가가꾸 고교(주)제 상품명: 메탄올실리카졸, IPA-ST, MEK-ST, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL 등을 들 수 있다. 또한 분체 실리카로는, 닛본 아에로질(주)제 상품명: 아에로질 130, 아에로질 300, 아에로질 380, 아에로질 TT600, 아에로질 OX50, 아사히 글래스(주)제 상품명: 실덱스 H31, H32, H51, H52, H121, H122, 닛본 실리카 고교(주)제 상품명: E220A, E220, 후지 실리시아(주)제 상품명: SYLYSIA 470, 일본판 글래스(주)제 상품명: SG 플레이크 등을 들 수 있다.As a commercially available product as a silicon oxide particle (for example, a silica particle), it is colloidal silica, for example, Nissan Chemical Industries, Ltd. brand name: methanol silicazol, IPA-ST, MEK-ST, NBA -ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL, etc. have. Moreover, as powder silica, Nippon Aerosil Co., Ltd. brand name: Aerosyl 130, Aerosyl 300, Aerosyl 380, Aerosyl TT600, Aerosyl OX50, Asahi Glass ( Co., Ltd. Product name: Sildex H31, H32, H51, H52, H121, H122, Nippon Silica Co., Ltd. Product name: E220A, E220, Fuji-Silysia Co., Ltd. Product name: SYLYSIA 470, Japanese glass Co., Ltd. A brand name: SG flake etc. are mentioned.

또한, 알루미나의 수 분산물로는, 닛산 가가꾸 고교(주)제 상품명: 알루미나졸-100, -200, -520; 안티몬산아연 분말의 수분산물로는, 닛산 가가꾸 고교(주)제 상품명: 셀낙스; 알루미나, 산화티탄, 산화주석, 산화인듐, 산화아연 등의 분말 및 용제 분산품으로는, 씨아이 가세이(주)제 상품명: 나노텍; 안티몬 도핑 산화주석의 수분산졸로는, 이시하라 산교(주)제 상품명: SN-100D; ITO 분말로는 미쯔비시 마테리알(주)제의 제품; 산화세륨 수 분산액으로는, 다키 가가꾸(주)제 상품명: 니드랄 등을 들 수 있다. Moreover, as a water dispersion of alumina, Nissan Chemical Industries, Ltd. brand name: Alumina sol-100, -200, -520; As an aqueous product of zinc antimonate powder, Nissan Chemical Industries, Ltd. brand name: Celnax; Examples of powders and solvent dispersions such as alumina, titanium oxide, tin oxide, indium oxide, and zinc oxide include CI Kasei Co., Ltd. product name: Nanotech; As an aqueous dispersion of antimony dope tin oxide, Ishihara Sangyo Co., Ltd. brand name: SN-100D; As an ITO powder, the product of Mitsubishi Material Co., Ltd .; As a cerium oxide aqueous dispersion, Taki Chemical Co., Ltd. brand name: Nydral etc. are mentioned.

중합성 불포화기를 포함하는 유기 화합물로는, 고굴절률 재료의 구성 성분으 로서 상술한 알콕시실릴기 함유 화합물을 들 수 있다. 또한, 가교성 입자의 제조 방법으로는, 상술한 도전성 금속 산화물 입자와 알콕시실릴기 함유 화합물과의 반응과 마찬가지의 방법에 의해 산화물 입자와 중합성 불포화기를 포함하는 유기 화합물을 결합하는 방법을 들 수 있다.As an organic compound containing a polymerizable unsaturated group, the alkoxy silyl group containing compound mentioned above is mentioned as a structural component of a high refractive index material. Moreover, as a manufacturing method of a crosslinkable particle | grain, the method of combining an oxide particle and the organic compound containing a polymerizable unsaturated group by the method similar to reaction of the above-mentioned electroconductive metal oxide particle and an alkoxy silyl group containing compound is mentioned. have.

가교성 입자의 수지 조성물 중에서의 배합량은, 바람직하게는 5 내지 90 중량%, 더욱 바람직하게는 10 내지 70 중량%이다. 또한, 가교성 입자의 양은 고형분을 의미하고, 가교성 입자가 용제 분산 졸의 형태로 사용될 때에는 그 배합량에는 용제의 양을 포함하지 않는다. The compounding quantity of the crosslinkable particle | grains in the resin composition becomes like this. Preferably it is 5-90 weight%, More preferably, it is 10-70 weight%. In addition, the quantity of crosslinkable particle | grains means solid content, and when a crosslinkable particle | grain is used in the form of a solvent dispersion sol, the compounding quantity does not contain the quantity of a solvent.

(iii-2) (iii-2) 지환Alibi 구조를 갖는 ( Having a structure ( 메트MET )아크릴산 에스테르류Acrylic Acid Ester

본 발명에 사용되는 지환 구조 함유 (메트)아크릴산 에스테르류로는, 에스테르 치환기 중에 포화 탄화수소에 의한 환상 구조를 함유하는 (메트)아크릴산 에스테르류이면 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 시클로헥산환을 갖는 (메트)아크릴산 에스테르류, 비시클로[2.2.1]헵탄환을 갖는 (메트)아크릴산 에스테르류, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸환을 갖는 (메트)아크릴산 에스테르류, 테트라시클로[6.2.1.02,7.13,6]도데칸환을 갖는 (메트)아크릴산 에스테르류 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 비시클로[2.2.1]헵탄환을 갖는 (메트)아크릴산 에스테르류, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸환을 갖는 (메트)아크릴산 에스테르류, 테트라시클로[6.2.1.02,7.13,6]도데칸환을 갖는 (메트)아크릴산 에스테르류로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이 바람직하다. 이들 지환 구조 함유 (메트)아크릴산 에스테르류는, 노르보르넨계 수지의 표면과의 강고한 밀착성을 확보하는 효과를 갖는다. The alicyclic structure-containing (meth) acrylic acid esters to be used in the present invention are not particularly limited as long as they are (meth) acrylic acid esters containing a cyclic structure with a saturated hydrocarbon in an ester substituent. (Meth) acrylic acid esters, (meth) acrylic acid esters having a bicyclo [2.2.1] heptane ring, (meth) acrylic acid esters having a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane ring, tetracyclo [6.2. 1.0 2,7 .1 3,6 ] (meth) acrylic acid ester which has a dodecane ring, etc. are mentioned. Among these, (meth) acrylic acid esters having a bicyclo [2.2.1] heptane ring, (meth) acrylic acid esters having a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane ring, tetracyclo [6.2.1.0 2, 7 .1 3,6] at least one member selected from the group consisting of (meth) acrylic acid esters having a kanhwan dodecyl are preferred. These alicyclic structure containing (meth) acrylic acid esters have the effect of ensuring firm adhesiveness with the surface of norbornene-based resin.

지환 구조 함유 (메트)아크릴산 에스테르류의 구체예로는, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 이소보로닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디일디(메트)아크릴레이트, 테트라트리시클로데칸디일디메타디(메트)아크릴레이트나, 각각의 에틸렌글리콜 또는 프로필렌글리콜로 변성한 (메트)아크릴레이트 등의 중합성 단량체 등을 들 수 있다. 또한, 노르보르넨계 수지의 올리고머, 그의 수소 첨가 전의 불포화 이중 결합을 갖는 중간체 또는 단량체를 상기 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산 에스테르류와 마찬가지의 합성 방법에 의해 변성하여 (메트)아크릴로일기를 도입한 광 중합성 올리고머일 수도 있다. 이들 중에서 바람직한 것은 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디일디(메트)아크릴레이트, 테트라트리시클로데칸디일디(메트)아크릴레이트 등이다. As a specific example of alicyclic structure containing (meth) acrylic acid ester, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth) Acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, isoboroyl (meth) acrylate, tricyclodecanediyldi (meth) acrylate, tetratricyclodecanediyldimethadi (meth) acrylate And polymerizable monomers such as (meth) acrylate modified with respective ethylene glycol or propylene glycol. Further, oligomers of norbornene-based resins, intermediates or monomers having unsaturated double bonds before hydrogenation thereof are modified by the same synthesis method as those of (meth) acrylic acid esters such as dicyclopentanyl (meth) acrylate (meth) The photopolymerizable oligomer which introduce | transduced the acryloyl group may be sufficient. Preferred among these are dicyclopentanyl (meth) acrylate, tricyclodecanediyldi (meth) acrylate, tetratricyclodecanediyldi (meth) acrylate, and the like.

(iii-3) 그 밖의 (iii-3) other 중합성Polymerizable 불포화기를Unsaturated groups 포함하는 화합물 Compound containing

본 발명에 사용되는, (iii-2) 이외의 분자 내에 2개 이상의 중합성 불포화기를 포함하는 화합물로는 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 (메트)아크릴에스테르류, 비닐 화합물류를 들 수 있다. 이 중에서는, (메트)아크릴에스테르류가 바람직하다. Although there is no restriction | limiting in particular as a compound containing 2 or more polymerizable unsaturated groups in molecules other than (iii-2) used for this invention, For example, (meth) acrylic esters and vinyl compounds are mentioned. In this, (meth) acrylic ester is preferable.

예를 들면, (메트)아크릴에스테르류로는, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트) 아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 비스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트디(메트)아크릴레이트 및 이들 출발 알코올류에의 에틸렌옥시드 또는 프로필렌옥시드 부가물의 폴리(메트)아크릴레이트류, 분자 내에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 올리고에스테르(메트)아크릴레이트류, 올리고에테르(메트)아크릴레이트류, 올리고우레탄(메트)아크릴레이트류, 및 올리고에폭시(메트)아크릴레이트류 등을 들 수 있다. For example, as (meth) acrylic ester, a trimethylol propane tri (meth) acrylate, a ditrimethylol propane tetra (meth) acrylate, a pentaerythritol tri (meth) acrylate, and a pentaerythritol tetra (meth) ) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tree (meth) Acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanedioldi (meth) acrylate, 1,4-butanedioldi (meth) acrylate, 1,6-hexanedioldi (meth) acrylate, neo Pentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, bis (2-hydroxyethyl) isocyanu Rate (Meth) acrylates and poly (meth) acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts to these starting alcohols, oligoester (meth) acrylates having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule , Oligoether (meth) acrylates, oligourethane (meth) acrylates, and oligoepoxy (meth) acrylates.

이 중에서는, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트가 바람직하다. Among these, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and ditrimethylol propane tetra (meth) acrylate are preferable.

비닐 화합물류로는, 디비닐벤젠, 에틸렌글리콜 디비닐에테르, 디에틸렌글리콜 디비닐에테르, 트리에틸렌글리콜 디비닐에테르 등을 들 수 있다. Examples of the vinyl compounds include divinylbenzene, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, and the like.

상기 화합물의 시판품으로는, 예를 들면 도아 고오세이(주)제 상품명: 아로닉스 M-400, M-408, M-450, M-305, M-309, M-310, M-315, M-320, M-350, M-360, M-208, M-210, M-215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M-270, TO-924, TO-1270, TO-1231, TO-595, TO-756, TO-1231, TO-902, TO-904, TO-905, TO-1330, 닛 본 가야꾸(주)제 상품명: KAYARAD DPHA, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, SR-295, SR-355, SR-399E, SR-494, SR-9041, SR-368, SR-415, SR-444, SR-454, SR-492, SR-499, SR-502, SR-9020, SR-9035, SR-111, SR-212, SR-213, SR-230, SR-259, SR-268, SR-272, SR-344, SR-349, SR-601, SR-602, SR-610, SR-9003, PET-30, T-1420, GPO-303, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620, R-551, R-712, R-167, R-526, R-551, R-712, R-604, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, KS-HDDA, KS-TPGDA, KS-TMPTA, 교에샤 가가꾸(주)제 상품명: 라이트아크릴레이트 PE-4A, DPE-6A, DTMP-4A 등을 들 수 있다. As a commercial item of the said compound, Toagosei Co., Ltd. brand name: Aronix M-400, M-408, M-450, M-305, M-309, M-310, M-315, M -320, M-350, M-360, M-208, M-210, M-215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M-270 , TO-924, TO-1270, TO-1231, TO-595, TO-756, TO-1231, TO-902, TO-904, TO-905, TO-1330, Nippon Kayaku Co., Ltd. : KAYARAD DPHA, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, SR-295, SR-355, SR-399E, SR-494, SR-9041, SR-368, SR-415, SR- 444, SR-454, SR-492, SR-499, SR-502, SR-9020, SR-9035, SR-111, SR-212, SR-213, SR-230, SR-259, SR-268, SR-272, SR-344, SR-349, SR-601, SR-602, SR-610, SR-9003, PET-30, T-1420, GPO-303, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620, R-551, R-712, R-167, R-526, R-551, R-712, R-604, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, KS-HDDA, KS-TPGDA, KS-TMPTA, Kyoesha Chemical Co., Ltd. brand name: Lightacrylate PE-4A, DPE-6A, DTMP-4A, etc. are mentioned.

또한, 본 발명의 조성물 중에는, 필요에 따라 분자 내에 1개의 중합성 불포화기를 갖는 화합물을 함유시켜도 좋다. Moreover, in the composition of this invention, you may contain the compound which has one polymerizable unsaturated group in a molecule as needed.

상기 (iii-2) 성분과 (iii-3) 성분과의 배합비(중량비)는 (iii-2):(iii-1)이 통상 5:95 내지 90:10, 바람직하게는 10:90 내지 80:20이다. As for the compounding ratio (weight ratio) of the said (iii-2) component and (iii-3) component, (iii-2) :( iii-1) is usually 5: 95-90: 10, Preferably it is 10: 90-80. : 20.

(iii-4) 방사선 중합 (iii-4) radiation polymerization 개시제Initiator

수지 조성물에는, 필요에 따라 방사선 중합 개시제를 배합할 수 있다. 해당 방사선 중합 개시제로는 고굴절률 재료의 성분으로서 상술한 방사선 중합 개시제를 사용할 수 있다. A radiation polymerization initiator can be mix | blended with a resin composition as needed. As the radiation polymerization initiator, the above-mentioned radiation polymerization initiator can be used as a component of the high refractive index material.

방사선 중합 개시제의 배합량은 (iii-1) 내지 (iii-3)의 전체량 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 내지 20 중량부, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 10 중량부이다. The compounding amount of the radiation polymerization initiator is preferably 0.01 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of (iii-1) to (iii-3).

수지 조성물에는, 필요에 따라 증감제, 용제, 가교성 입자 이외의 산화물 입 자, 각종 첨가제 등을 배합할 수 있다. 또한, 수지 조성물은 작업성의 면에서, 용제로 희석하여 사용할 수 있다. As needed, a sensitizer, a solvent, oxide particles other than crosslinkable particle | grains, various additives, etc. can be mix | blended with a resin composition. In addition, a resin composition can be diluted and used with a solvent from a viewpoint of workability.

하드hard 코팅층의 형성 Formation of coating layer

하드 코팅층은 고굴절률층·저굴절률층과 마찬가지로 기재(근적외선 흡수층 등)에 상술한 수지 조성물을 도포하고, 경화시킴으로써 형성된다. 수지 조성물의 도포 방법 및 경화 방법으로는 특별히 제한은 없고, 고굴절률 재료의 도포 방법으로서 상술한 방법을 적용할 수 있다. The hard coat layer is formed by applying the above-described resin composition to a substrate (near infrared ray absorbing layer or the like) and curing the same as the high refractive index layer and the low refractive index layer. There is no restriction | limiting in particular as a coating method and the hardening method of a resin composition, The method mentioned above can be applied as a coating method of a high refractive index material.

하드 코팅층의 두께는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면 1 내지 50 ㎛, 바람직하게는 2 내지 10 ㎛이다. 하드 코팅층의 두께가 1 ㎛ 미만이면, 반사 방지막의 기재에 대한 밀착력을 향상시킬 수 없을 가능성이 있고, 한편 두께가 50 ㎛를 초과하면, 균일하게 형성하는 것이 곤란해질 가능성이 있다. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is, for example, 1 to 50 µm, preferably 2 to 10 µm. If the thickness of the hard coating layer is less than 1 µm, the adhesion of the antireflection film to the substrate may not be improved. On the other hand, if the thickness exceeds 50 µm, it may be difficult to form uniformly.

<충격 흡수층> <Shock absorbing layer>

본 발명의 복합 기능 필름을 구성하는 것이 바람직한 충격 흡수층은, 디스플레이 패널의 표시 내용의 시인성(視認性)을 확보할 수 있는 투명성을 구비하고, 기판의 압입이나 충돌 등에 유래하는 파손을 막을 수 있는 것이면, 그 구성 성분은 특별히 한정되지 않지만, 특히 엘라스토머로 구성되는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에서 엘라스토머에는 유전(油展) 고무가 포함된다. The shock absorbing layer, which preferably constitutes the composite functional film of the present invention, has transparency capable of securing visibility of the display content of the display panel, and can prevent damage caused by indentation or collision of the substrate. Although the component is not specifically limited, It is preferable that it is comprised especially with an elastomer. In addition, the elastomer in the present specification includes a dielectric rubber.

상기 엘라스토머로는, 공액 디엔계 블럭 (공)중합체, 그의 수소 첨가물, 에틸렌·α-올레핀계 공중합체, 극성기 변성 올레핀계 공중합체, 극성기 변성 올레핀계 공중합체와 금속 이온 및(또는) 금속 화합물을 포함하는 엘라스토머, 아크릴로니 트릴부타디엔계 고무 등의 니트릴계 고무, 부틸 고무, 아크릴계 고무, 열가소성 폴리올레핀엘라스토머(TPO), 열가소성 폴리우레탄엘라스토머(TPU), 열가소성 폴리에스테르엘라스토머(TPEE), 폴리아미드엘라스토머(TPAE), 디엔계 엘라스토머(1,2-폴리부타디엔 등) 등의 열가소성 엘라스토머, 실리콘계 엘라스토머, 불소계 엘라스토머 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 공액 디엔계 블럭 (공)중합체 및 그의 수소 첨가물이 바람직하고, 공액 디엔계 블럭 (공)중합체의 수소 첨가물이 특히 바람직하다. 상기 공액 디엔계 블럭 (공)중합체 및 그의 수소 첨가물에는, 공액 디엔과 방향족 비닐 화합물과의 블럭 (공)중합체 및 그의 수소 첨가물이 포함된다. Examples of the elastomer include conjugated diene block (co) polymers, hydrogenated products thereof, ethylene-α-olefin copolymers, polar group-modified olefin copolymers, polar group-modified olefin copolymers, metal ions, and / or metal compounds. Nitrile rubber, such as elastomer, acrylonitrile butadiene rubber, butyl rubber, acrylic rubber, thermoplastic polyolefin elastomer (TPO), thermoplastic polyurethane elastomer (TPU), thermoplastic polyester elastomer (TPEE), polyamide elastomer (TPAE) ), Thermoplastic elastomers such as diene elastomers (such as 1,2-polybutadiene), silicone elastomers, fluorine elastomers, and the like. Among these, conjugated diene block (co) polymers and hydrogenated products thereof are preferable, and hydrogenated products of conjugated diene block (co) polymers are particularly preferable. The conjugated diene-based block (co) polymer and its hydrogenated substance include a block (co) polymer of conjugated diene and an aromatic vinyl compound and its hydrogenated substance.

상기 공액 디엔으로는, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 2-메틸-1,3-펜타디엔, 1,3-헥사디엔, 4,5-디에틸-1,3-옥타디엔, 클로로프렌 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 1,3-부타디엔, 이소프렌 및 1,3-펜타디엔이 바람직하고, 특히 1,3-부타디엔 및 이소프렌이 바람직하다. 또한, 상기 예시한 화합물은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이 공액 디엔을 사용하여 이루어지는 블럭 (공)중합체로는, 부타디엔 블럭 공중합체, 부타디엔-이소프렌-부타디엔 블럭 공중합체 등을 들 수 있다. Examples of the conjugated diene include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 2-methyl-1,3-pentadiene, and 1,3-hexadiene And 4,5-diethyl-1,3-octadiene, chloroprene and the like. Among them, 1,3-butadiene, isoprene and 1,3-pentadiene are preferable, and 1,3-butadiene and isoprene are particularly preferable. In addition, the compound illustrated above can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. As a block (co) polymer which uses this conjugated diene, butadiene block copolymer, butadiene-isoprene-butadiene block copolymer, etc. are mentioned.

상기 방향족 비닐 화합물로는 스티렌, t-부틸스티렌, α-메틸스티렌, α-클로로스티렌, p-메틸스티렌, 디비닐벤젠, N,N-디에틸-p-아미노스티렌 등을 들 수 있다. 상기 예시한 화합물은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이 방향족 비닐 화합물과 공액 디엔을 사용하여 이루어지는 블럭 공중합체로는, 스티렌-부타디엔-스티렌 블럭 공중합체(SBS), 스티렌-이소프렌-스티렌 블럭 공 중합체 등을 들 수 있다. Examples of the aromatic vinyl compound include styrene, t-butyl styrene, α-methylstyrene, α-chlorostyrene, p-methylstyrene, divinylbenzene, N, N-diethyl-p-aminostyrene, and the like. The compound illustrated above can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. As a block copolymer which uses this aromatic vinyl compound and conjugated diene, a styrene butadiene styrene block copolymer (SBS), a styrene- isoprene-styrene block copolymer, etc. are mentioned.

또한, 수소 첨가물은 상기 블럭 공중합체를 수소 첨가함으로써 얻어지지만, 사용되는 블럭 중합체로는, 특히 비닐 결합 함량이 25 % 미만인 부타디엔 중합체 블럭 (I)과, 공액 디엔 단위/다른 단량체 단위(질량비)=(100 내지 50)/(0 내지 50)이고, 비닐 결합 함량이 25 내지 95 %인 중합체 블럭 (II)를 각각 분자 중에 1개 이상 갖는 공액 디엔계 블럭 공중합체(이하, "중합체 (P)"라고도 함)가 바람직하다. In addition, although the hydrogenated substance is obtained by hydrogenating the said block copolymer, as a block polymer used, butadiene polymer block (I) which has a vinyl bond content of less than 25% especially, and a conjugated diene unit / other monomeric unit (mass ratio) = Conjugated diene-based block copolymers having one or more polymer blocks (II) in the molecule of (100 to 50) / (0 to 50) and having a vinyl bond content of 25 to 95% (hereinafter, "polymer (P)") Also referred to).

상기 부타디엔 중합체 블럭에서 비닐 결합(1,2- 결합)의 함량은, 바람직하게는 25 % 미만, 보다 바람직하게는 5 내지 20 %, 더욱 바람직하게는 7 내지 19 %이다. 따라서, 상기 부타디엔 중합체 블럭 (I)은, 수소 첨가에 의해 에틸렌·부텐 공중합체에 유사한 구조를 나타내는 결정성의 블럭이 된다. 비닐 결합 함량을 상기 범위로 함으로써, 성형체의 역학적 성질 및 형상 유지성을 향상시킬 수 있다. The content of vinyl bonds (1,2-bonds) in the butadiene polymer block is preferably less than 25%, more preferably 5 to 20%, even more preferably 7 to 19%. Therefore, the butadiene polymer block (I) becomes a crystalline block having a structure similar to that of the ethylene butene copolymer by hydrogenation. By carrying out a vinyl bond content in the said range, the mechanical property and shape retention of a molded object can be improved.

상기 중합체 (P)로는, 부타디엔 중합체 블럭 (I)을 "A1", 중합체 블럭 (II)를 "B1"로 한 경우, (A1-B1)m1, (A1-B1)m2-A1, (B1-A1)m3-B1 등으로 표시되는 것을 사용할 수 있다. 상기 각 식에서, m1 내지 m3은 1 이상의 정수를 나타낸다. As said polymer (P), when butadiene polymer block (I) is set to "A 1 " and polymer block (II) is set to "B 1 ", (A 1 -B 1 ) m1 , (A 1 -B 1 ) m2 -A 1 , (B 1 -A 1 ) m3 -B 1 and the like can be used. In each of the above formulas, m1 to m3 represent an integer of 1 or more.

또한, 상기 중합체 (P)가 3블럭 이상의 블럭을 갖는 공중합체이면, 수소 첨가물을 형성한 경우에, 추가로 형상 유지성 및 역학적 성질이 우수한 성형체를 얻을 수 있다. 따라서, 상기 화학식에서 m1은 2 이상의 정수인 것이 바람직하다. Moreover, if the said polymer (P) is a copolymer which has a block of 3 or more blocks, when the hydrogenated substance is formed, the molded object excellent in shape retention property and mechanical properties can be obtained further. Therefore, m1 in the above formula is preferably an integer of 2 or more.

또한, 상기 중합체 (P)는, (A1-B1)nX, (B1-A1)nX, (A1-B1-A1)nX, (B1-A1-B1)nX 등 과 같이 커플링제 잔기 X를 개재하여 중합체 분자쇄가 연장 또는 분지된 것일 수도 있다. 상기 각 화학식에서, n은 2 이상의 정수를 나타낸다. 또한, 상기 각 화학식에서, n이 3 이상일 때, 수소 첨가물을 형성한 경우 형상 유지성, 핫 멜트 점·접착성이 우수한 성형체를 얻을 수 있다. Further, the polymer (P) is (A 1 -B 1 ) n X, (B 1 -A 1 ) n X, (A 1 -B 1 -A 1 ) n X, (B 1 -A 1 -B 1 ) The polymer molecular chain may be extended or branched through the coupling agent residue X, such as n X. In each formula, n represents an integer of 2 or more. Moreover, in each said chemical formula, when n is three or more, when the hydrogenated substance is formed, the molded object excellent in shape retention property, hot melt spot, and adhesiveness can be obtained.

상기 커플링제로는, 1,2-디브로모에탄, 메틸디클로로실란, 트리클로로실란, 메틸트리클로로실란, 테트라클로로실란, 테트라메톡시실란, 디비닐벤젠, 아디프산디에틸, 아디프산디옥틸, 벤젠-1,2,4-트리이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 에폭시화 1,2-폴리부타디엔, 에폭시화 아마인유, 테트라클로로게르마늄, 테트라클로로주석, 부틸트리클로로주석, 부틸트리클로로실란, 디메틸클로로실란, 1,4-클로로메틸벤젠, 비스(트리클로로실릴)에탄 등을 들 수 있다. Examples of the coupling agent include 1,2-dibromoethane, methyldichlorosilane, trichlorosilane, methyltrichlorosilane, tetrachlorosilane, tetramethoxysilane, divinylbenzene, diethyl adipate and dioctyl adipic acid. , Benzene-1,2,4-triisocyanate, tolylene diisocyanate, epoxidized 1,2-polybutadiene, epoxidized linseed oil, tetrachlorogermanium, tetrachlorotin, butyltrichlorotin, butyltrichlorosilane, dimethylchloro Silane, 1,4-chloromethylbenzene, bis (trichlorosilyl) ethane, etc. are mentioned.

상기 중합체 (P)의 수소 첨가는 블럭 중 올레핀성 불포화 결합에 대하여 행하고, 수소 첨가율을 바람직하게는 80 % 이상, 보다 바람직하게는 85 % 이상, 특히 바람직하게는 90 % 이상으로 높게함으로써, 얻어지는 수소 첨가물에 의해 성형체를 형성한 경우의 형상 유지성 및 역학적 성질을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 중합체 (P)의 수소화는 일본 특허 공개 (평)2-133406호 공보, 일본 특허 공개 (평)3-128957호 공보, 일본 특허 공개 (평)5-170844호 공보 등에 개시된 방법 등에 의해서 행할 수 있다.Hydrogenation of the said polymer (P) is performed with respect to the olefinic unsaturated bond in a block, Hydrogen obtained by making a hydrogenation rate preferably 80% or more, More preferably, 85% or more, Especially preferably, 90% or more The shape retention property and the mechanical property at the time of forming a molded object with an additive can be improved. In addition, the hydrogenation of the said polymer (P) is performed by the method etc. which were disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2-133406, Unexamined-Japanese-Patent No. 3-128957, Unexamined-Japanese-Patent No. 5-170844, etc. I can do it.

충격 흡수층은 가교되지 않은 엘라스토머로 구성되어 있을 수도 있고, 적어도 일부가 가교된 엘라스토머로 구성되어 있을 수도 있다. 적어도 일부가 가교된 엘라스토머로 구성되어 있는 경우, 성형체의 내열성을 향상시킬 수 있다.The shock absorbing layer may be composed of an uncrosslinked elastomer, or may be composed of an elastomer at least partially crosslinked. When at least one part is comprised by the crosslinked elastomer, the heat resistance of a molded object can be improved.

상기 엘라스토머를 가교하는 방법에 대해서는 특별히 한정은 없고, 예를 들면 전자선 조사, 자외선 조사 및 가교제(예를 들면, 유기 과산화물 등)를 사용하는 방법으로부터 선택되는 수단을 들 수 있다. There is no restriction | limiting in particular about the method of bridge | crosslinking the said elastomer, For example, the means chosen from the method of using electron beam irradiation, ultraviolet irradiation, and a crosslinking agent (for example, organic peroxide etc.) is mentioned.

상기 가교를 전자선 조사에 의해 행하는 경우에는, 얻어진 성형체에 대해 전자선 조사 장치에 의해 전자선 조사함으로써, 가교를 형성할 수 있다. 또한, 자외선 조사의 경우에는, 얻어진 성형체에 대해 자외선 조사 장치에 의해 자외선 조사함으로써, 필요에 따라 배합된 광 증감제의 효과에 의해서 가교를 형성할 수 있다. 또한, 가교제를 사용하는 방법의 경우에는, 얻어진 성형체를 통상 질소 분위기 등 공기가 존재하지 않는 분위기에서 가열함으로써, 필요에 따라 배합된 유기 과산화물 등의 가교제, 또한 가교 보조제의 효과에 의해서 가교를 형성할 수 있다. When performing the said bridge | crosslinking by electron beam irradiation, bridge | crosslinking can be formed by irradiating an electron beam with an electron beam irradiation apparatus with respect to the obtained molded object. In addition, in the case of ultraviolet irradiation, crosslinking can be formed by the effect of the photosensitizer mix | blended as needed by irradiating an ultraviolet-ray with an ultraviolet irradiation apparatus with respect to the obtained molded object. In addition, in the case of the method using a crosslinking agent, the obtained molded object is normally heated in atmosphere which does not exist, such as nitrogen atmosphere, and can form bridge | crosslinking by the effect of crosslinking agents, such as an organic peroxide mixed as needed, and a crosslinking adjuvant. Can be.

충격 흡수층에서는, 상기 엘라스토머에 플라스틱·고무용 각종 윤활제, 가소제, 연화제 및 액상 올리고머 등의 실온에서 액상인 재료를 함유시켜도 좋다. 이 경우, 보다 유연성을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널용 충격 흡수 다층체를 제조할 수 있다. In the shock absorbing layer, the elastomer may contain a liquid material at room temperature such as various lubricants for plastic and rubber, plasticizers, softeners and liquid oligomers. In this case, a shock absorbing multilayer body for plasma display panel having more flexibility can be manufactured.

구체적으로는, 예를 들면 윤활제로는, 파라핀계 윤활제, 탄화수소계 윤활제, 금속 비누 등을 들 수 있다. 또한, 가소제로는 프탈산 유도체, 이소프탈산 유도체, 테트라히드로프탈산 유도체, 아디프산 유도체, 세박산 유도체, 푸마르산 유도체, 시트르산 유도체 등의 각종 지방산 유도체 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다. 또한, 연화제로는 파라핀계 공정 오일 등의 석유계 연화제, 에틸렌-α-올레핀계 코올리고머 및 길소나이트 등의 광물유계 연화제, 올레산이나 리시놀산 등의 지방산 등 의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다. 또한, 액상 올리고머로는 폴리이소부틸렌이나 실리콘 오일 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다. 특히, 휴대 전화 등, 옥외에서 사용되는 플라즈마 디스플레이 패널 등에 사용되는 경우에는, 상기 액상 재료로서 파라핀계 공정 오일, 파라핀계 합성유, 수소 첨가 파라핀계 오일 등과 같이 이중 결합이 없는 오일 또는 이중 결합을 갖는 성분이 적은(구체적으로는 20 질량% 이하, 또는 10 질량% 이하) 오일의 1종 또는 2종 이상을 사용하면, 내후성이 우수한 충격 흡수층을 형성할 수 있어 바람직하다. Specifically, examples of the lubricant include paraffin lubricants, hydrocarbon lubricants, metal soaps, and the like. Examples of the plasticizer include one or two or more kinds of fatty acid derivatives such as phthalic acid derivatives, isophthalic acid derivatives, tetrahydrophthalic acid derivatives, adipic acid derivatives, sebacic acid derivatives, fumaric acid derivatives and citric acid derivatives. Examples of the softener include one or two or more of petroleum softeners such as paraffinic process oils, mineral oil softeners such as ethylene-α-olefin-based oligomers and gilsonite, and fatty acids such as oleic acid and ricinolic acid. have. Moreover, 1 type (s) or 2 or more types, such as polyisobutylene and silicone oil, are mentioned as a liquid oligomer. In particular, when used in a plasma display panel used outdoors, such as a mobile phone, as a liquid material, a component having a double bond or an oil without a double bond, such as paraffin-based process oil, paraffin-based synthetic oil, hydrogenated paraffin-based oil, etc. Use of one kind or two or more kinds of these small (specifically 20 mass% or less, or 10 mass% or less) oils is preferred because an impact absorbing layer excellent in weather resistance can be formed.

상기 액상 재료를 사용하는 경우의 그 사용량은, 상기 엘라스토머에 함유되는 중합체의 전체량을 100 질량부로 한 경우, 바람직하게는 50 내지 5000 질량부, 더욱 바람직하게는 50 내지 3000 질량부, 특히 바람직하게는 50 내지 2000 질량부이다. The amount used when the liquid material is used is preferably 50 to 5000 parts by mass, more preferably 50 to 3000 parts by mass, particularly preferably when the total amount of the polymer contained in the elastomer is 100 parts by mass. Is 50 to 2000 parts by mass.

충격 흡수층의 투명도는 배치되는 위치에 따라 임의로 선택할 수 있지만, 디스플레이의 표시면측에 배치될 때에는, 두께를 0.5 mm로 한 경우에 그 전체 광선 투과율이 90 % 이상, 특히 91 % 이상, 또한 92 % 이상인 것이 바람직하다. ·The transparency of the shock absorbing layer can be arbitrarily selected according to the position where it is arranged. However, when disposed on the display surface side of the display, when the thickness is 0.5 mm, the total light transmittance is 90% or more, particularly 91% or more, and 92% or more. It is preferable. ·

충격 흡수층의 두께는 임의로 선택할 수 있고, 예를 들면 2.0 mm 이하(바람직하게는, 1.2 mm 이하, 더욱 바람직하게는 1.0 mm 이하)로 할 수 있다. 또한, 배치되는 충격 흡수층의 층 수는 1층일 수도 있고, 복수층일 수도 있다. The thickness of the shock absorbing layer can be arbitrarily selected, and can be, for example, 2.0 mm or less (preferably 1.2 mm or less, more preferably 1.0 mm or less). In addition, the number of layers of the shock absorbing layer arrange | positioned may be one layer, or multiple layers may be sufficient as it.

또한, 충격 흡수층을 기판 등과 접합하는 방법은 접합시키는 층끼리 밀착시킬 수 있는 방법이면 특별히 한정되지 않으며, 임의로 선택할 수 있다. 예를 들면, 소정의 온도(예를 들면, 실온 등)에서 접합시켜 접착하거나, 접착제(또는 점착제)를 사용하여 접착할 수 있다. 또한, 핫 프레스 및 콜드 프레스 등에 의해 소정의 장소에 직접 형성할 수도 있다. The method of joining the shock absorbing layer to a substrate or the like is not particularly limited as long as it is a method in which the layers to be bonded are in close contact with each other. For example, it can bond by bonding at predetermined temperature (for example, room temperature etc.), or can adhere using an adhesive agent (or adhesive). Moreover, it can also form directly in a predetermined | prescribed place by hot press, cold press, etc.

<전자파 실드층> <Electromagnetic Shield Layer>

본 발명의 복합 기능 필름을 구성하는 것이 바람직한 전자파 실드층으로는, 일반적으로 금속 메쉬가 바람직하게 사용된다. 금속 메쉬로는 철망이나 금속 패턴을 들 수 있고, 특히 금속 패턴이 바람직하다. As the electromagnetic shielding layer, which preferably constitutes the composite functional film of the present invention, generally a metal mesh is preferably used. Examples of the metal mesh include a wire mesh and a metal pattern, and a metal pattern is particularly preferable.

금속 재료로는, 구리, 철, 니켈, 알루미늄, 금, 은, 백금, 텅스텐, 크롬, 티탄 등의 금속 및 그의 산화물이나, 이들 금속의 2종 이상을 조합한 합금을 사용할 수 있다. 또한, 산화 방지 등 필요에 따라 표면을 도금 처리한 것도 적절하게 사용할 수 있다. 이들 금속 중에서, 특히 바람직하게는 박화 가공성, 도전성 및 가격의 관점에서 구리, 알루미늄, 니켈이 적합하고, 두께가 0.5 내지 50 ㎛인 금속박, 도금 금속, 증착 등의 진공화로 형성되는 금속이 사용된다. As a metal material, metals, such as copper, iron, nickel, aluminum, gold, silver, platinum, tungsten, chromium, titanium, its oxide, and the alloy which combined 2 or more types of these metals can be used. Moreover, the thing which plated the surface as needed, such as oxidation prevention, can be used suitably. Among these metals, particularly preferably copper, aluminum and nickel are suitable in view of thinning processability, conductivity and price, and metals formed by vacuuming such as metal foil having a thickness of 0.5 to 50 µm, plating metal, and vapor deposition are used.

본 발명에서의 금속 패턴의 형성 방법으로는, 예를 들면 금속 박막 또는 금속박에 펀칭 가공에 의해 다수개의 구멍을 제조하거나, 동일한 금속 박막 또는 금속박에 포토레지스트법을 사용하여 에칭 처리를 실시하여 다수의 구멍을 제조하거나, 또는 초미세의 금속 메쉬막을 형성할 수도 있다. As a method of forming a metal pattern in the present invention, for example, a plurality of holes are produced by punching a metal thin film or a metal foil, or a plurality of holes are subjected to an etching process using a photoresist method to the same metal thin film or a metal foil, for example. A hole may be manufactured or an ultrafine metal mesh film may be formed.

<복합 기능 필름의 제조 방법> <Manufacturing method of a composite function film>

본 발명의 복합 기능 필름은, 바람직하게는 상술한 각 층을 포함하는 적층을 지지 필름상에 형성하고, 필요에 따라 적층상에 제2 지지 필름을 중첩시켜 형성된다. 또한, 본 발명의 복합 기능 필름은 지지 필름상에 적층 중 일부층을 형성하고, 제2 지지 필름상에 다른 층을 형성한 후, 쌍방을 중첩시켜 압착하는 방법에 의해서도 바람직하게 형성할 수 있다. The composite functional film of the present invention is preferably formed by forming a laminate including each of the above-described layers on a support film, and superposing a second support film on the laminate as necessary. In addition, the composite functional film of the present invention can be preferably formed by a method of forming a partial layer of lamination on a supporting film, forming another layer on the second supporting film, and then overlapping and compressing both.

상기 지지 필름은 내열성 및 내용제성을 가짐과 동시에 가요성(可撓性)을 갖는 투명 수지 필름인 것이 바람직하다. 지지 필름을 구성하는 수지로는, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리염화비닐, 폴리플루오로에틸렌 등의 불소 함유 수지, 나일론, 셀룰로오스 등을 들 수 있다. 지지 필름의 두께는, 예를 들면 20 내지 100 ㎛이다. It is preferable that the said support film is a transparent resin film which has heat resistance and solvent resistance, and has flexibility. As resin which comprises a support film, fluorine-containing resin, such as polyethylene terephthalate, polyester, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyimide, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyfluoroethylene, nylon, cellulose, for example Etc. can be mentioned. The thickness of a support film is 20-100 micrometers, for example.

또한, 지지 필름의 표면에는 이형 처리가 실시되는 것이 바람직하다. 이에 따라, 후술하는 전사 공정에서 지지 필름의 박리 조작을 용이하게 행할 수 있다. Moreover, it is preferable that a mold release process is given to the surface of a support film. Thereby, peeling operation of a support film can be performed easily in the transfer process mentioned later.

해당 복합 기능 필름은, 필요에 따라 설치되는 지지 필름을 박리하여 PDP용 전면판의 전면(시인측)에 전사함으로써 사용되는 것이 바람직하다. 전사 공정의 일례를 나타내면 이하와 같다. 지지 필름을 박리한 후, 기판의 표면에 복합 기능 필름의 표면(바람직하게는 충격 흡수층의 면)이 접촉되도록 필름을 중첩시키고, 이 복합 기능 필름을 바람직하게는 가열 롤러 등에 의해 열 압착한 후, 필요에 따라 설치된 제2 지지 필름을 박리 제거한다. 이에 따라, 유리 기판의 표면에 적층이 전사되어 밀착된 상태가 된다. It is preferable to use this composite function film by peeling the support film provided as needed and transferring it to the front surface (viewing side) of the front plate for PDPs. An example of the transfer process is as follows. After peeling off a support film, the film is superposed so that the surface (preferably the surface of an impact absorption layer) of a composite functional film may contact the surface of a board | substrate, and this composite functional film is preferably thermocompression-bonded with a heating roller etc., Peeling removal of the 2nd support film provided as needed is carried out. Thereby, lamination | stacking is transcribe | transferred and adhered to the surface of a glass substrate.

상술한 PDP용 전면판으로서 사용되는 기판은 플라즈마 디스플레이 유닛을 구성하는 투명한 기판이다. The substrate used as the front plate for the PDP described above is a transparent substrate constituting the plasma display unit.

기판 재료로는, 예를 들면 유리, 실리콘, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 방향족 아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드 등의 절연성 재료를 포함하는 판형 부재를 들 수 있다. 이 판형 부재의 표면에 대해서는, 필요에 따라 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리; 플라즈마 처리; 이온 플레이팅법, 스퍼터링법, 기상 반응법, 진공 증착법 등에 의한 박막 형성 처리와 같은 적절한 전처리를 실시하여도 좋다. As a board | substrate material, plate-shaped member containing insulating materials, such as glass, silicone, polycarbonate, polyester, aromatic amide, polyamideimide, polyimide, is mentioned, for example. About the surface of this plate-shaped member, Chemical treatment with a silane coupling agent etc. as needed; Plasma treatment; Appropriate pretreatment such as thin film formation by ion plating, sputtering, vapor phase reaction, vacuum deposition, or the like may be performed.

이들 기판 재료 중, 유리판이 바람직하다. 유리로는, 예를 들면 붕규산 유리, 알루미노규산 유리, 알루미노붕규산 유리 등을 들 수 있다. 또한, 이들 유리의 저알카리 유리 및 무알카리 유리 등을 들 수 있다. 또한, 실리카 유리나 소다 석회 유리 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 붕규산 유리, 알루미노규산 유리, 알루미노붕규산 유리 및 이들의 저알카리 유리가 바람직하며, 이들의 무알카리 유리가 바람직하다. Among these substrate materials, glass plates are preferred. As glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, alumino borosilicate glass, etc. are mentioned, for example. Moreover, the low alkali glass, the alkali free glass, etc. of these glass are mentioned. Moreover, silica glass, soda-lime glass, etc. are mentioned. Among these, borosilicate glass, aluminosilicate glass, aluminoborosilicate glass, and low alkali glass thereof are preferable, and these alkali free glass is preferable.

<실시예><Example>

이하, 실시예에서 본 발명을 구체적으로 상술하지만, 본 발명이 이것에 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to this.

도 1에, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 복합 기능 필름의 단면을 모식적으로 나타내었다. 우선, 지지 필름 (1)로서 두께 50 ㎛의 폴리에스테르 필름에 0.8 mm의 충격 흡수층 (2)를 형성하고, 그 표면상에 두께 15 ㎛의 전자파 실드층 (3)을 형성하고, 그 표면상에 두께 100 ㎛의 근적외선 흡수층 (4)를 형성하고, 그 위에 반사 방지층 (5)를 적층하였다. 반사 방지층 (5) 상에는, 제2 지지 필름 (6)으로서 두께 38 ㎛의 폴리에스테르 필름을 적층하였다. 또한, 반사 방지층은 도 1에 도시한 바와 같이 두께 3 ㎛의 하드 코팅막 (7), 두께 0.1 ㎛의 고굴절률막 (8) 및 두께 0.1 ㎛의 저굴절률막 (9)를 포함하는 적층으로 형성하였다. 1, the cross section of the plasma display composite functional film of this invention is shown typically. First, as the support film 1, a shock absorbing layer 2 having a thickness of 0.8 mm is formed on a polyester film having a thickness of 50 µm, and an electromagnetic wave shield layer 3 having a thickness of 15 µm is formed on the surface thereof. The near-infrared absorption layer 4 of thickness 100micrometer was formed, and the anti-reflective layer 5 was laminated on it. On the antireflection layer 5, a 38-micrometer-thick polyester film was laminated | stacked as the 2nd support film 6. In addition, the antireflection layer was formed of a laminate including a hard coating film 7 having a thickness of 3 μm, a high refractive index film 8 having a thickness of 0.1 μm, and a low refractive index film 9 having a thickness of 0.1 μm, as shown in FIG. 1. .

이렇게 하여 얻어진 복합 기능 필름의 지지막 (1)을 박리하여, 도 2에 나타낸 바와 같이 PDP용 전면판 (10)의 시인측에 전사하였다. 전사한 후, 제2 지지 필름 (6)은 박리 제거하였다.The supporting film 1 of the composite functional film thus obtained was peeled off and transferred to the visual side of the front plate 10 for a PDP as shown in FIG. 2. After the transfer, the second support film 6 was peeled off.

(충격 흡수층의 제조)(Production of Shock Absorbing Layer)

질소 치환된 내용적 50 ℓ의 반응 용기에 시클로헥산(25 kg), 테트라히드로푸란(1.25 g), 부타디엔(1500 g), 및 n-부틸리튬(4.5 g)을 첨가하고, 70 ℃에서의 단열 중합을 행하였다. 반응 완결 후, 온도를 15 ℃로 하고 테트라히드로푸란(350 g) 및 1,3-부타디엔(3500 g)을 첨가하여 단열 중합하였다. 30 분 후, 메틸디클로로실란(3.23 g)을 첨가하고, 15 분간 반응을 행하였다. 반응이 완결된 후, n-부틸리튬 2 g 및 수소 가스를 0.4 MPa-G의 압력으로 공급하고, 20 분간 교반하여 리빙 음이온을 수소화리튬으로 하였다. 반응 용액을 90 ℃로 하고, 일본 특허 공개 제2000-37632호 공보에 기재된 티타노센 화합물을 사용하여 수소 첨가 반응을 행하였다. 수소의 흡수가 종료된 시점에 반응 용액을 상온, 상압으로 복귀시켜 반응 용기로부터 취출하고, 계속해서 반응 용액을 물 중에 교반 투입하여 용매를 수증기 증류에 의해 제거함으로써, 수소 첨가 디엔계 중합체인 수소 첨가 블럭 중합체 1을 얻었다. 얻어진 수소 첨가 블럭 중합체 1의 수소 첨가율은 98 %, 중량평균 분자량은 28만, 수소 첨가전 중합체의 1단째의 폴리부타디엔 블럭의 비닐 결합 함량은 14 %, 수소 첨가전 중합체의 2단째의 폴리부타디엔 블럭의 비닐 결합 함량은 80 %였다. 그 후, 이 수소 첨가 블럭 중합체 1 및 광물유계 연화제(이데미쯔 고산 가부시끼가 이샤제, 품명 "PW-90")를 100:800 (중량비)의 비율로 혼합하여 수지 조성물을 제조하고, 이것을 도포하여 두께 0.8 mm의 충격 흡수층을 제조하였다. Cyclohexane (25 kg), tetrahydrofuran (1.25 g), butadiene (1500 g), and n-butyllithium (4.5 g) are added to a nitrogen-substituted internal volume 50 l reaction vessel and heat-insulated at 70 ° C. The polymerization was carried out. After completion of the reaction, the temperature was 15 ° C, and tetrahydrofuran (350 g) and 1,3-butadiene (3500 g) were added to perform adiabatic polymerization. After 30 minutes, methyldichlorosilane (3.23 g) was added, and reaction was performed for 15 minutes. After the reaction was completed, 2 g of n-butyllithium and hydrogen gas were supplied at a pressure of 0.4 MPa-G, and stirred for 20 minutes to make the living anion lithium hydride. The reaction solution was 90 degreeC, and the hydrogenation reaction was performed using the titanocene compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-37632. When the absorption of hydrogen is complete, the reaction solution is returned to normal temperature and atmospheric pressure, taken out from the reaction vessel, and then the reaction solution is stirred and added in water to remove the solvent by steam distillation, thereby adding hydrogen as a hydrogenated diene polymer. Block polymer 1 was obtained. The hydrogenation rate of the obtained hydrogenated block polymer 1 was 98%, the weight average molecular weight was 280,000, and the vinyl-bond content of the polybutadiene block of the first stage of the polymer before hydrogenation was 14%, and the polybutadiene block of the second stage of the polymer before hydrogenation was 14%. The vinyl bond content of was 80%. Thereafter, the hydrogenated block polymer 1 and the mineral oil-based softener (Idemitsu Kosan Co., Ltd. make, product name "PW-90") were mixed in the ratio of 100: 800 (weight ratio), the resin composition was produced, and this was apply | coated To prepare a shock absorbing layer having a thickness of 0.8 mm.

(전자파 실드층의 제조)(Production of Electromagnetic Shield Layer)

양면을 조화 처리한 두께 15 ㎛의 전해 동박을 격자형으로 에칭 처리하고, 선 폭 20 ㎛, 선 피치 300 ㎛의 구리 메쉬를 제조하여 전자파 실드층으로 하였다. The electrolytic copper foil of 15 micrometers in thickness which roughened both surfaces was etched by lattice form, the copper mesh of 20 micrometers of line widths, and 300 micrometers of line pitches was produced, and it was set as the electromagnetic shielding layer.

(근적외선 흡수층의 제조)(Production of Near Infrared Absorption Layer)

(1) 노르보르넨계 수지의 합성(1) Synthesis of Norbornene-Based Resin

8-메틸-8-메톡시카르보닐테트라시클로[4.4.0.12,5.17,10]-3-도데센(특정 단량체) 175부, 트리시클로[4.3.0.12,5]-3-데센(공중합성 단량체) 75부, 1-헥센(분자량 조절제) 41부 및 톨루엔(개환 중합 반응용 용매) 750부를 질소 치환한 반응 용기 내에 넣고, 이 용액을 60 ℃로 가열하였다. 계속해서, 반응 용기 내의 용액에 트리에틸알루미늄의 톨루엔 용액(1.5 몰/ℓ) 0.62부 및 t-부탄올/메탄올로 변성한 육염화텅스텐(t-부탄올:메탄올:텅스텐=0.35 몰:0.3 몰:1 몰)의 톨루엔 용액(농도 0.05 몰/ℓ) 3.7부를 첨가하고, 이 계를 80 ℃에서 3 시간 동안 가열 교반함으로써 개환 중합 반응시켜 개환 중합체 용액을 얻었다. 이 중합 반응에서의 중합 전화율은 97%였다. 175 parts of 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] -3-dodecene (specific monomers), tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -3- 75 parts of decene (copolymerizable monomer), 41 parts of 1-hexene (molecular weight regulator) and 750 parts of toluene (solvent for ring-opening polymerization reaction) were placed in a reaction vessel substituted with nitrogen, and the solution was heated to 60 ° C. Then, tungsten chloride (t-butanol: methanol: tungsten = 0.35 mol: 0.3 mol: 1) modified with 0.62 parts of toluene solution of triethylaluminum (1.5 mol / l) and t-butanol / methanol in the solution in the reaction vessel. 3.7 parts of toluene solution (concentration 0.05 mol / L) was added, and the ring-opening polymerization reaction was performed by heating and stirring this system at 80 degreeC for 3 hours, and the ring-opening polymer solution was obtained. The polymerization conversion ratio in this polymerization reaction was 97%.

이와 같이 하여 얻어진 개환 중합체 용액 4,000부를 오토클레이브에 넣고, 이 개환 중합체 용액에 RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3 0.48부를 첨가하고, 수소 가스압 100 kg/㎠, 반응 온도 165 ℃의 조건하에 3 시간 동안 가열 교반함으로써 수소 첨가 반 응시켰다. 얻어진 반응 용액(수소 첨가 중합체 용액)을 냉각하여 수소 가스를 방압한 후, 다량의 메탄올을 첨가하여 수소 첨가 중합체를 석출시켜 회수하였다. 4,000 parts of the ring-opening polymer solution thus obtained were put in an autoclave, and 0.48 parts of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3 was added to the ring-opening polymer solution, and the hydrogen gas pressure was 100 kg / cm 2 and the reaction temperature was 165 ° C. The hydrogenation reaction was carried out by heating and stirring for 3 hours under the conditions of. The obtained reaction solution (hydrogenated polymer solution) was cooled to discharge hydrogen gas, and then a large amount of methanol was added to precipitate and recover the hydrogenated polymer.

이와 같이 하여 얻어진 수소 첨가 중합체〔이하, "노르보르넨계 수지 A"라 함〕의 수소 첨가율은 실질적으로 100 %였다. Thus, the hydrogenation rate of the obtained hydrogenated polymer (henceforth "norbornene-type resin A") was 100% substantially.

노르보르넨계 수지 A의 Mw는 68,000, Mn은 22,000이고, 유리 전이 온도는 146 ℃였다. 또한, 포화 흡수율은 0.32 %였다. 또한, 각 물성값의 측정 방법 및 평가 방법은 하기와 같다. Mw of norbornene-type resin A was 68,000, Mn was 22,000, and glass transition temperature was 146 degreeC. In addition, the saturated water absorption was 0.32%. In addition, the measuring method and evaluation method of each physical property value are as follows.

·분자량: 도소제의 H형 칼럼이 장착된 워터즈(WATERS)사제의 겔 투과 크로마토그래피(GPC) 장치(150 C형)를 사용하여, o-디클로로벤젠 용매, 120 ℃의 조건으로 표준 폴리스티렌 환산의 중량평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)을 측정하였다. Molecular weight: Standard polystyrene conversion under conditions of o-dichlorobenzene solvent, 120 ° C using a gel permeation chromatography (GPC) device (150 C type) manufactured by WATERS, Inc. The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of were measured.

·수소 첨가율: 브룩커(Bruker)사제의 500 MHz 1H-NMR(AVANCE 500)을 사용하여 측정하였다. Hydrogenation rate: It measured using 500 MHz 1 H-NMR (AVANCE 500) by the Brooker company.

·유리 전이 온도(Tg): 세이코 인스트루먼트사제의 시차 주사 열량계(DSC 6200)를 사용하여 승온 속도: 매분 20 ℃에서 질소 기류하에 측정을 행하였다. Glass transition temperature (Tg): The temperature increase rate: It measured under nitrogen stream at 20 degreeC every minute using the differential scanning calorimeter (DSC 6200) by Seiko Instruments.

·포화 흡수율: ASTM D570에 준거하여, 시험편을 23 ℃의 물 중에 1주간 침지시킨 후, 시험편의 중량 변화로부터 흡수율을 측정하였다. Saturated water absorption: In accordance with ASTM D570, after immersing the test piece in water at 23 ° C. for 1 week, the water absorption was measured from the weight change of the test piece.

(2) 특정 조성물의 제조(2) Preparation of Specific Compositions

(1)에서 얻은 노르보르넨계 수지 A 40 g을 톨루엔 60 g에 용해하여 노르보르 넨계 수지 A의 톨루엔 용액을 얻었다. 계속해서, 이 노르보르넨계 수지 A의 톨루엔 용액에 프탈로시아닌계 색소 SIR-159 (미쯔이 가가꾸 파인제)의 0.4 % 톨루엔 용액 100 g을 첨가하여 교반·혼합하고, 불소 수지제 필터(기공 크기: 1 ㎛)로 여과한 후 탈포하여 특정 조성물 A를 얻었다. 40 g of norbornene-based resin A obtained in (1) was dissolved in 60 g of toluene to obtain a toluene solution of norbornene-based resin A. Subsequently, 100 g of a 0.4% toluene solution of the phthalocyanine-based pigment SIR-159 (manufactured by Mitsui Chemical Industries, Inc.) was added to the toluene solution of the norbornene-based resin A, followed by stirring and mixing, and a fluorine resin filter (pore size: 1 Filtered) and degassed to give specific composition A.

특정 조성물 A에 대해서 하기와 같이 보존 안정성을 평가하였다. The storage stability was evaluated for the specific composition A as follows.

내용적 100 ㎖의 유리제 내압 용기에 조성물을 80 ㎖ 넣어 밀봉하고, 100 ℃의 열풍 오븐 중에서 1주간 보존하였다. 그 후, 오븐으로부터 취출하여 실온까지 냉각하여 내용물을 취출하고, 외관을 관찰함과 동시에 분광 투과율을 측정하여 초기값과 비교하였다. 그 결과, 외관, 분광 투과율 모두 초기값과 변화없고, 보존 안정성은 양호하였다. 80 ml of the composition was put and sealed in the inner pressure-resistant container of 100 ml of volume, and it preserve | saved for one week in the hot-air oven of 100 degreeC. Thereafter, the mixture was taken out from the oven, cooled to room temperature, the contents were taken out, the appearance was observed, and the spectral transmittance was measured and compared with the initial value. As a result, both the appearance and the spectral transmittance were unchanged from the initial values, and the storage stability was good.

(3) 열가소성 수지 조성물의 제조 (3) Preparation of the thermoplastic resin composition

특정 조성물 A에 다량의 메탄올을 첨가하여 열가소성 수지 조성물을 석출시켜 회수하였다. 회수된 열가소성 수지 조성물은 감압 건조기 중에서 120 ℃로 가열하고, 24 시간 동안 건조하였다. 이와 같이 하여 얻어진 열가소성 수지 조성물을 열가소성 수지 조성물 A라 한다. A large amount of methanol was added to the specific composition A to precipitate and recover the thermoplastic resin composition. The recovered thermoplastic resin composition was heated to 120 ° C. in a reduced pressure drier and dried for 24 hours. The thermoplastic resin composition thus obtained is referred to as thermoplastic resin composition A.

열가소성 수지 조성물 A 중 톨루엔 및 메탄올의 양을 가스 크로마토그래피에 의해 분석한 결과, 모두 0.1 % 이하였다. As a result of analyzing the amount of toluene and methanol in the thermoplastic resin composition A by gas chromatography, all were 0.1% or less.

(4) 성형체의 제조 (4) Production of molded article

특정 조성물 A를 건조 막 두께가 100 ㎛가 되도록 폴리에스테르 필름 상에 어플리케이터 바를 사용하여 도포한 후 상압 80 ℃에서 8 시간, 감압 건조기 중 100 ℃에서 24 시간 동안 건조하였다. 계속해서, 건조기로부터 취출하여 상온까지 냉각하고, 폴리에스테르 필름을 박리하여 필름형 성형체 A1을 얻었다. 얻어진 성형체 A1의 외관을 관찰하였지만, 색 불균일이나 블리드물은 인식되지 않았다. 또한, 성형체 A1을 가스 크로마토그래피로 분석한 결과, 잔류 톨루엔량은 0.3 %였다. Specific composition A was applied using an applicator bar on a polyester film such that the dry film thickness was 100 μm, followed by drying at 80 ° C. for 8 hours and at 100 ° C. in a reduced pressure dryer for 24 hours. Then, it took out from the dryer, cooled to normal temperature, peeled the polyester film, and obtained film-form molded object A1. Although the external appearance of the obtained molded object A1 was observed, color nonuniformity and a bleeding object were not recognized. Moreover, as a result of analyzing the molded object A1 by gas chromatography, the amount of residual toluene was 0.3%.

성형체 A1의 전체 광선 투과율 및 분광 투과율을 측정하였다. 전체 광선 투과율은 61 %, 분광 투과율은 800 nm에서는 0 %, 900 nm에서는 4 %, 1000 nm에서는 68 %였다. 또한, 성형체 A1을 100 ℃의 열풍 오븐 중에 24 시간 넣은 후 취출하여 외관의 관찰, 전체 광선 투과율 및 분광 투과율의 측정을 행하고, 초기와의 변화를 측정함으로써 내구성을 평가하였다. 그 결과, 외관의 변화는 없고, 전체 광선 투과율 및 분광 투과율 모두 초기값으로부터의 변화가 5 % 미만이고, 이상은 인식되지 않았다. The total light transmittance and the spectral transmittance of the molded article A1 were measured. The total light transmittance was 61%, the spectral transmittance was 0% at 800 nm, 4% at 900 nm, and 68% at 1000 nm. Furthermore, after putting molded object A1 in the hot air oven at 100 degreeC for 24 hours, it was taken out, the external appearance observation, total light transmittance, and spectral transmittance were measured, and durability was evaluated by measuring the change with the initial stage. As a result, there was no change in appearance, and both the total light transmittance and the spectral transmittance were less than 5% from the initial value, and no abnormality was recognized.

또한, 전체 광선 투과율은 스가 시껭끼사제의 헤이즈미터(HGM-2DP형)를 사용하여 측정하고, 분광 투과율은 히다찌 세이사꾸쇼사제의 분광 광도계(U-3410)를 사용하여 측정하였다.In addition, the total light transmittance was measured using the haze meter (HGM-2DP type | mold) manufactured by Suga Shikiki Corp., and the spectral transmittance was measured using the spectrophotometer (U-3410) of the Hitachi Seisakusho company.

(반사 방지층의 제조)(Manufacture of antireflection layer)

(1) 하드 코팅층의 형성 (1) Formation of Hard Coating Layer

건조 공기 중, 머캅토프로필트리메톡시실란 7.8부 및 디부틸주석디라우레이트 0.2부를 포함하는 용액에, 이소포론디이소시아네이트 20.6부를 교반하면서 50 ℃에서 1 시간에 걸쳐 적하한 후, 60 ℃에서 3 시간 동안 교반하였다. 이것에 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 71.4부를 30 ℃에서 1 시간에 걸쳐 적하한 후, 60 ℃에서 3 시간 동안 가열 교반함으로써 중합성 불포화기와 알콕시실란기를 1 분자 중에 갖는 실란 화합물(이하, "실란 화합물 (A)"라고도 함)을 얻었다. 생성물 중의 잔존 이소시아네이트량을 분석한 결과 0.1 % 이하였고, 반응이 거의 정량적으로 종료된 것을 나타내었다. To a solution containing 7.8 parts of mercaptopropyltrimethoxysilane and 0.2 part of dibutyltin dilaurate in dry air, 20.6 parts of isophorone diisocyanate was added dropwise at 50 ° C over 1 hour with stirring, followed by 3 at 60 ° C. Stir for hours. After dropping 71.4 parts of pentaerythritol triacrylate over 1 hour at 30 degreeC to this, the silane compound which has a polymeric unsaturated group and an alkoxysilane group in 1 molecule by heat-stirring at 60 degreeC for 3 hours (henceforth a "silane compound ( A) "also called). Analysis of the amount of residual isocyanate in the product showed 0.1% or less, indicating that the reaction was almost quantitatively terminated.

질소 기류하에 실란 화합물 (A) 8.7부, 메틸에틸케톤실리카졸(닛산 가가꾸 고교(주)제, 상품명: MEK-ST (수평균 입경 0.022 ㎛, 실리카 농도 30 %)) 91.3부(고형분 27.4부), 이소프로판올 0.2부 및 이온 교환수 0.1부의 혼합액을 80 ℃에서 3 시간 동안 교반한 후, 오르토포름산메틸에스테르 1.4부를 첨가하고, 추가로 1 시간 동안 동일한 온도에서 가열 교반함으로써 무색 투명한 가교성 입자 분산액을 얻었다. 분산액을 알루미늄 접시에 2 g 칭량한 후, 120 ℃의 핫플레이트상에서 1 시간 동안 건조, 칭량하여 고형분 함량을 구한 결과 35 %였다. 8.7 parts of a silane compound (A) and a methyl ethyl ketone silicazol (made by Nissan Chemical Industries, Ltd., brand name: MEK-ST (number average particle diameter 0.022 micrometer, silica concentration 30%)) under nitrogen stream 91.3 parts (solid content 27.4 parts) ), A mixture of 0.2 parts of isopropanol and 0.1 parts of ion-exchanged water was stirred at 80 ° C. for 3 hours, and then 1.4 parts of methyl orthoformate ester were added, followed by heating and stirring at the same temperature for 1 hour to obtain a colorless transparent crosslinkable particle dispersion. Got it. 2 g of the dispersion was weighed into an aluminum dish, dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour, and weighed to obtain a solid content of 35%.

건조 공기 기류하에 자외선을 차폐한 용기 중에서, 상기 가교성 입자 분산액을 70부(고형분 24.5부), 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 20부, 트리시클로데칸디일디메틸렌디아크릴레이트 10부, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 1.5부 및 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1 1.5부를 실온하에 30 분간 교반함으로써 하드 코팅층 형성용 수지 조성물을 얻었다. In the container which shielded ultraviolet-ray under the dry air stream, the said crosslinkable particle dispersion was made into 70 parts (24.5 parts of solid content), 20 parts of dipentaerythritol hexaacrylates, 10 parts of tricyclodecanediyl dimethylene diacrylates, and 1-hydride. The resin composition for hard-coat layer formation was obtained by stirring 1.5 parts of oxycyclohexyl phenyl ketones and 1.5 parts of 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino propanone-1 for 30 minutes at room temperature.

얻어진 수지 조성물을 바 코팅을 사용하여 도포한 후, 80 ℃의 열풍식 건조기 중에서 3 분간 건조한 후, 컨베어식 수은 램프를 사용하여 1 J/㎠의 광량으로 조사하여 하드 코팅층을 형성하였다. After apply | coating the obtained resin composition using bar coating, it dried for 3 minutes in 80 degreeC hot air dryer, and irradiated with the light amount of 1 J / cm <2> using a conveyor mercury lamp, and formed the hard-coat layer.

(2) 고굴절률층의 형성(2) Formation of High Refractive Index Layer

(1)에서 얻어진 실란 화합물 (A) 8.1부, 메틸에틸케톤 용매 지르코니아졸(평균 입경 0.01 내지 0.05 ㎛, 지르코니아 농도 30 %) 90.5부 및 이온 교환수 0.1부의 혼합액을 60 ℃에서 3 시간 동안 교반한 후, 오르토포름산메틸에스테르 1.3부와 메틸에틸케톤 41.2부를 첨가하고, 추가로 1 시간 동안 동일한 온도에서 가열 교반함으로써 중합성 불포화기와 알콕시실란기를 1 분자 중에 갖는 화합물과, 지르코늄의 입자를 반응시켜 얻어지는 반응 생성물의 분산액을 얻었다. The mixed liquid of 8.1 parts of the silane compound (A) obtained in (1), 90.5 parts of methyl ethyl ketone solvent zirconia sol (average particle diameter 0.01-0.05 micrometer, zirconia concentration 30%) and 0.1 parts of ion-exchange water was stirred at 60 degreeC for 3 hours. Thereafter, 1.3 parts of ortho formic acid methyl ester and 41.2 parts of methyl ethyl ketone are added, and the reaction obtained by reacting a compound having a polymerizable unsaturated group and an alkoxysilane group in one molecule with particles of zirconium by heating and stirring at the same temperature for 1 hour. A dispersion of the product was obtained.

자외선을 차폐한 용기 중에서, 제조한 상기 분산액 92부, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 8부, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 1.2부 및 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 0.8부를 실온하에 30 분간 교반함으로써 균일한 용액으로서 고굴절률 재료를 제조하였다. 92 parts of said dispersion liquid, 8 parts of dipentaerythritol hexaacrylates, 1.2 parts of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketones, and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] which were prepared in the container which shielded the ultraviolet-ray. A high refractive index material was prepared as a uniform solution by stirring 0.8 part of -2-morpholinopropane-1-one at room temperature for 30 minutes.

얻어진 고굴절률 재료를 와이어 바 코팅(N0.10)을 사용하여 도포하고, 40 ℃의 적외선 건조 로 중에서 1 분간 방치한 후, 공기 분위기하에 0.3 J/㎠의 자외선을 조사하고 경화시켜 고굴절률층을 형성하였다. The obtained high refractive index material was applied using a wire bar coating (N0.10), left in a 40 ° C. infrared drying furnace for 1 minute, and then irradiated and cured with ultraviolet rays of 0.3 J / cm 2 under an air atmosphere to obtain a high refractive index layer. Formed.

(3) 저굴절률층의 형성(3) Formation of Low Refractive Index Layer

내용적 1.5 ℓ의 전자 교반기가 부착된 스테인레스제 오토클레이브를 질소 가스로 충분히 치환한 후, 아세트산 에틸 500 g, 퍼플루오로(프로필비닐에테르) 75.4 g, 에틸비닐에테르 34 g, 히드록시에틸비닐에테르 41.6 g, 비이온성 반응성 유화제로서 "아데칼리아솝 NE-30" (아사히 덴까 고교 가부시끼가이샤제) 50 g, 아조기 함유 폴리디메틸실록산으로서 "VPS-1001" (와꼬 쥰야꾸 고교 가부시끼가이샤제) 7.5 g 및 과산화라우로일 1.25 g을 첨가하고, 드라이아이스-메탄올로 -50 ℃까지 냉각한 후, 재차 질소 가스로 계 내의 산소를 제거하였다. After fully replacing the autoclave made of stainless steel with an internal volume 1.5 L electronic stirrer with nitrogen gas, 500 g of ethyl acetate, 75.4 g of perfluoro (propyl vinyl ether), 34 g of ethyl vinyl ether, and hydroxyethyl vinyl ether 41.6 g, 50 g of "Adecaliia NE-30" (made by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) as a nonionic reactive emulsifier, "VPS-1001" (made by Wako Pure Chemical Co., Ltd.) 7.5 as azo-group containing polydimethylsiloxane. g and lauroyl peroxide 1.25 g were added, and after cooling to dry-methanol to -50 degreeC, oxygen in a system was removed again with nitrogen gas.

계속해서 헥사플루오로프로필렌 99.1 g을 첨가하여 승온을 개시하였다. 오토클레이브 내의 온도가 60 ℃에 도달한 시점에서의 압력은 5.3×105 Pa를 나타내었다. 그 후, 70 ℃에서 20 시간 동안 교반하에 반응을 계속하고, 압력이 1.7×105 Pa로 저하한 시점에서 오토클레이브를 수냉하여 반응을 정지시켰다. 실온에 도달한 후, 미반응 단량체를 방출하여 오토클레이브를 개방하여, 고형분 농도 31 %의 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액을 메탄올과 물의 혼합 용매에 투입하여 중합체를 석출시킨 후, 메탄올로 세정하고, 50 ℃에서 진공 건조를 행하여 220 g의 불소 함유 올레핀계 중합체를 얻었다. Then, 99.1 g of hexafluoropropylene was added to start the temperature increase. The pressure at the point where the temperature in the autoclave reached 60 ° C. showed 5.3 × 10 5 Pa. Thereafter, the reaction was continued under stirring at 70 ° C. for 20 hours, and the autoclave was water-cooled to stop the reaction at the time when the pressure dropped to 1.7 × 10 5 Pa. After reaching room temperature, the unreacted monomer was discharged, the autoclave was opened, and the polymer solution of 31% of solid content concentration was obtained. The obtained polymer solution was poured into a mixed solvent of methanol and water to precipitate a polymer, and then washed with methanol, and dried in vacuo at 50 ° C to obtain 220 g of a fluorine-containing olefin polymer.

얻어진 불소 함유 올레핀계 중합체 10 g, 열경화성 화합물의 메톡시화메틸멜라민 "사이멜 303" (미쯔이 사이텍 가부시끼가이샤제) 3.2 g 및 경화 촉매인 "캐터리스트 4050" (미쯔이 사이텍 가부시끼가이샤제, 방향족 술폰산 화합물 유효 성분 농도 32 %) 3.13 g을 용제의 메틸에틸케톤 340 g 중에 용해시킴으로써, 저굴절률 재료를 얻었다. 이 저굴절률 재료의 고형분 농도는 4.0 질량%였다. 10 g of the obtained fluorine-containing olefin-based polymer, 3.2 g of methoxylated methyl melamine "cymel 303" (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.) and a curing catalyst, "Caterist 4050" (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., aromatic sulfonic acid) A low refractive index material was obtained by dissolving 3.13 g of the compound active ingredient concentration (32%) in 340 g of methyl ethyl ketone of the solvent. Solid content concentration of this low refractive index material was 4.0 mass%.

얻어진 저굴절률 재료를 와이어 바 코팅(# 3)을 사용하여 도포하고, 실온에서 5 분간 통풍건조하여 도막을 형성하였다. 도포성은 양호하였다. 계속해서, 오븐을 사용하여 140 ℃에서 2 분간 가열하여 저굴절률층을 형성하였다. The obtained low refractive index material was applied using a wire bar coating (# 3), and air dried at room temperature for 5 minutes to form a coating film. The applicability was good. Subsequently, it heated for 2 minutes at 140 degreeC using oven, and formed the low refractive index layer.

(4) 반사 방지층의 평가(4) Evaluation of antireflection layer

얻어진 하드 코팅층이 부착된 반사 방지층의 반사 방지성을 분광 반사율 측 정 장치(대형 시료실 적분구 부속 장치 150-09090을 조합한 자기 분광 광도계 U-3410, 히다찌 세이사꾸쇼(주)제)에 의해 파장 340 내지 700 nm의 범위에서 반사율을 측정하여 평가하였다. 즉, 알루미늄의 증착막에서의 반사율을 기준(100 %)으로 하여 각 파장에서의 반사 방지층의 반사율을 측정한 결과, 파장 550 nm에서의 빛의 반사율은 1 % 이하로, 반사 방지성이 우수하였다. 또한, 파장 550 nm의 광투과율(T%)을 분광 광도계를 사용하여 측정한 결과, 광투과율은 95 % 이상이었고, 또한, 헤이즈미터를 사용하여 탁도(헤이즈값)를 측정한 결과 0.2로 투명성이 우수하였다.The antireflection property of the obtained anti-reflection layer with a hard coating layer was determined by a spectroscopic reflectance measuring device (magnetic spectrophotometer U-3410, manufactured by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.) incorporating a large sample chamber integrating sphere accessory 150-09090. The reflectance was measured and evaluated in the range of wavelength 340-700 nm. That is, as a result of measuring the reflectance of the antireflection layer at each wavelength based on the reflectance of the aluminum deposited film as a reference (100%), the reflectance of light at a wavelength of 550 nm was 1% or less, and was excellent in antireflection. When the light transmittance (T%) having a wavelength of 550 nm was measured using a spectrophotometer, the light transmittance was 95% or more, and the turbidity (haze value) was measured using a haze meter. Excellent.

또한, 석영판에 고굴절률층 및 저굴절률층을 순서대로 적층하여 경도 측정용 반사 방지층(하드 코팅층 없음)을 제조하였다. 얻어진 반사 방지층에서의 연필 경도를 JIS K5400에 준거하여 측정한 결과, 3H로, 충분한 경도를 갖고 있었다. Further, a high refractive index layer and a low refractive index layer were laminated on the quartz plate in order to prepare an antireflection layer (without a hard coating layer) for hardness measurement. As a result of measuring the pencil hardness in the obtained antireflection layer based on JISK5400, it had sufficient hardness in 3H.

또한, 근적외선 흡수층 상에 하드 코팅층, 고굴절률층 및 저굴절률층을 차례로 적층하여 반사 방지층을 제조하고, JIS K5400에 준거하여 격자 시험을 행한 결과, 100개의 격자에서 박리가 관찰되지 않아, 기판 밀착성이 우수하였다. In addition, a hard coating layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer were sequentially laminated on the near-infrared absorbing layer to prepare an antireflection layer. As a result of performing a lattice test in accordance with JIS K5400, peeling was not observed in 100 lattice substrates. Excellent.

본 발명의 복합 기능 필름에 따르면, 간소화된 층으로 구성함으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 경박층화가 가능해질 뿐만 아니라, 그 취급성도 양호하며, 플라즈마 디스플레이 패널에 직접 접합시킬 수 있다. 또한, 반사 방지 등의 광학 특성이나 근적외선 및 전자파의 차폐성을 유지하며, 우수한 광 투과성과 시인성이 얻어진다. According to the composite functional film of the present invention, the thin layer can be made thin, which enables not only the thin and thin layer of the plasma display panel, but also the handleability thereof is good and can be directly bonded to the plasma display panel. Further, optical properties such as antireflection, shielding properties of near infrared rays and electromagnetic waves are maintained, and excellent light transmittance and visibility are obtained.

Claims (7)

(1) 반사 방지층이 (1) antireflection layer (i) 도전성 금속 산화물 입자와, 알콕시실릴기 함유 화합물, 이 화합물의 가수분해물 및 가수분해 축합물로부터 선택되는 1종 이상을 함유하는 고굴절률층, 및 (i) a high refractive index layer containing conductive metal oxide particles, at least one selected from an alkoxysilyl group-containing compound, a hydrolyzate and a hydrolysis condensate of the compound, and (ii) 폴리실록산 세그먼트를 갖는 불소 함유 올레핀계 중합체를 함유하는 저굴절률층을 갖는 적층을 포함하고,(ii) a laminate having a low refractive index layer containing a fluorine-containing olefinic polymer having a polysiloxane segment, (2) 근적외선 흡수층이 노르보르넨계 수지를 함유하는 조건을 만족하는 반사 방지층 및 근적외선 흡수층을 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름. (2) The composite functional film for plasma display panels, wherein the near infrared absorbing layer has an antireflection layer and a near infrared absorbing layer that satisfy the conditions containing the norbornene-based resin. 제1항에 있어서, 추가로 충격 흡수층을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름. The composite function film for plasma display panel according to claim 1, further comprising a shock absorbing layer. 제2항에 있어서, 충격 흡수층이 엘라스토머를 함유하는 층인 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름. The composite function film for plasma display panel according to claim 2, wherein the impact absorbing layer is a layer containing an elastomer. 제1항에 있어서, 추가로 전자파 실드층을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름. The composite function film for plasma display panel according to claim 1, further comprising an electromagnetic shielding layer. 제1항에 있어서, 근적외선 흡수층을 구성하는 노르보르넨계 수지가, 하기 화학식 1로 표시되는 1종 이상의 화합물을 포함하는 단량체를 개환 중합하고, 추가로 수소 첨가하여 얻어진 수지인 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름. The complex function for a plasma display panel according to claim 1, wherein the norbornene-based resin constituting the near-infrared absorbing layer is a resin obtained by ring-opening polymerization of a monomer containing at least one compound represented by the following formula (1) and further hydrogenated. film. <화학식 1><Formula 1>
Figure 112005052248976-PAT00003
Figure 112005052248976-PAT00003
식 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 30의 탄화수소기, 또는 그 밖의 1가 유기기로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, R1 내지 R4 중 적어도 하나는 산소 원자, 질소 원자, 황 원자 또는 규소 원자로부터 선택된 1종 이상의 원자를 1개 이상 포함하는 1가 극성기이며, R1과 R2 또는 R3과 R4가 서로 결합하여 알킬리덴기를 형성할 수도 있고, R1과 R2, R3과 R4 또는 R2와 R3이 서로 결합하여 탄소환 또는 복소환(이들 탄소환 또는 복소환은 단환 구조일 수도 있고, 다른 환이 축합하여 다환 구조를 형성할 수도 있음)을 형성할 수도 있으며, 형성되는 탄소환 또는 복소환은 방향환일 수도 있고 비방향환일 수도 있으며, m은 0 내지 3의 정수이고, p는 0 또는 1이다. In the formula, each of R 1 to R 4 independently represents an atom or group selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, or another monovalent organic group, and R 1 to R 4 At least one is a monovalent polar group containing at least one atom selected from an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom, and R 1 and R 2 or R 3 and R 4 are bonded to each other to form an alkylidene group May be formed, R 1 and R 2 , R 3 and R 4 Alternatively, R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a carbocyclic ring or a heterocycle (these carbocyclic rings or heterocycles may be monocyclic, or other rings may be condensed to form a polycyclic structure). The summoned or heterocyclic ring may be an aromatic ring or a non-aromatic ring, m is an integer of 0 to 3, and p is 0 or 1.
제1항에 있어서, 반사 방지층이 추가로 하드 코팅층을 갖는 적층을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름. The composite function film for plasma display panel according to claim 1, wherein the antireflection layer further comprises a laminate having a hard coating layer. 제1항에 있어서, 지지 필름 상에 반사 방지층 및 근적외선 흡수층을 갖는 적층이 형성되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 복합 기능 필름. The composite function film for plasma display panel according to claim 1, wherein a laminate having an antireflection layer and a near infrared absorbing layer is formed on the support film.
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