JP4839703B2 - Manufacturing method of laminate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a laminate, capable of forming two or more layers from one coated film and to provide the laminate by using the method. <P>SOLUTION: The method for producing the laminate has a base material 30 and multilayer structures 40 and 50 arranged on the base material. The method for producing the laminate comprises applying a liquid curable resin composition containing a fluorine-containing polymer, a thermosetting compound, a curing catalyst, metal oxide particles, a highly volatile solvent, a less volatile solvent and an active energy ray-curable compound onto the base material 30 or a layer formed on the base material 30 to form a coated film and forming two or more layers 40 and 50 by evaporating a solvent from the single coated film. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&amp;NCIPI

Description

本発明は、積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体に関し、特に、2以上の層を1の塗膜から形成することができる積層体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a laminate and a laminate obtained thereby, and more particularly to a method for producing a laminate capable of forming two or more layers from one coating film.

現在、マルチメディアの発達に伴い、各種の表示装置(ディスプレイ装置)において種々の発展が見られている。そして、各種の表示装置のうち、特に、携帯用を中心に屋外で使用されるものでは、その視認性の向上がますます重要となってきており、大型表示装置においても、より見易くすることが需要者に要求されており、この事項がそのまま技術課題となっている。   Currently, with the development of multimedia, various developments have been seen in various display devices (display devices). Among various types of display devices, especially those used outdoors, mainly for portable use, the improvement in visibility has become increasingly important, and even in large display devices, it is easier to see. This is a technical issue as it is required by consumers.

従来、表示装置の視認性を向上させるための一手段として、低屈折率材料から構成される反射防止膜を、表示装置の基板に被覆することが行われており、反射防止膜を形成する方法としては、例えば、フッ素化合物の薄膜を蒸着法により形成する方法が知られている。然るに、近年では、液晶表示装置を中心として、低いコストで、しかも大型の表示装置に対しても、反射防止膜を形成することのできる技術が求められている。しかしながら、蒸着法による場合には、大面積の基板に対して、高い効率で均一な反射防止膜を形成することが困難であり、しかも真空装置を必要とするために、コストを低くすることが困難である。   Conventionally, as one means for improving the visibility of a display device, an antireflection film made of a low refractive index material is coated on a substrate of the display device, and a method of forming the antireflection film For example, a method of forming a fluorine compound thin film by a vapor deposition method is known. However, in recent years, there has been a demand for a technique capable of forming an antireflection film for a large display device at a low cost centering on a liquid crystal display device. However, in the case of the vapor deposition method, it is difficult to form a high-efficiency and uniform antireflection film on a large-area substrate, and a vacuum apparatus is required, so that the cost can be reduced. Have difficulty.

このような事情から、屈折率の低いフッ素系重合体を有機溶剤に溶解して液状の組成物を調製し、これを基板の表面に塗布することによって反射防止膜を形成する方法が検討されている。例えば、基板の表面にフッ素化アルキルシランを塗布することが提案されている(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)。また、特定の構造を有するフッ素系重合体を塗布する方法が提案されている(例えば、特許文献3参照)。   Under such circumstances, a method of forming an antireflection film by preparing a liquid composition by dissolving a fluorine-based polymer having a low refractive index in an organic solvent and applying it to the surface of a substrate has been studied. Yes. For example, it has been proposed to apply a fluorinated alkylsilane to the surface of a substrate (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2). In addition, a method of applying a fluorine-based polymer having a specific structure has been proposed (see, for example, Patent Document 3).

特開昭61−40845号公報JP 61-40845 A 特公平6−98703号公報Japanese Examined Patent Publication No. 6-98703 特開平6−115023号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-1115023

これら従来の反射防止膜は、基材上に、異なった屈折率の層、帯電防止層、ハードコート層等が形成された積層体であることが多い。従来の製造方法では、基材上に、各層をそれぞれ塗布する工程を繰り返していた。
本発明は、以上のような状況を背景としてなされたものであって、その目的は、組成物を塗布して得られる1の塗膜から2以上の層を形成できる積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供することにある。また、本発明の他の目的は、良好な反射防止効果を有する積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供することにある。さらに、本発明の他の目的は、基材に対する密着性に優れ、耐擦傷性が高い積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供することにある。
These conventional antireflection films are often laminates in which layers having different refractive indexes, antistatic layers, hard coat layers and the like are formed on a substrate. In the conventional manufacturing method, the process of apply | coating each layer on a base material was repeated.
The present invention has been made in the background as described above, and the object thereof is a method for producing a laminate capable of forming two or more layers from one coating film obtained by applying the composition, and the method thereof. It is providing the laminated body obtained by these. Another object of the present invention is to provide a method for producing a laminate having a good antireflection effect and a laminate obtained thereby. Furthermore, the other object of this invention is to provide the manufacturing method of the laminated body which is excellent in the adhesiveness with respect to a base material, and is high in abrasion resistance, and the laminated body obtained by it.

本発明によれば、以下の積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供できる。
1.基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、
前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分(A)、(B)、(C)、(D)、(E−1)、(E−2)及び(F)を含む液状硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、
この1の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、2以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。
[液状硬化性樹脂組成物]
(A)含フッ素重合体
(B)熱硬化性化合物
(C)硬化触媒
(D)数平均粒子径が100nm以下である金属酸化物粒子(以下、「(D)金属酸化物粒子」という)
(E−1)(A)含フッ素重合体の溶解性が高い、1種又は2種以上の溶剤(以下、「(C)速揮発溶剤」という)
(E−2)(D)金属酸化物粒子の分散安定性が高く、かつ、(E−1)速揮発溶剤と相溶性である、1種又は2種以上の溶剤(以下、「(E−2)遅揮発溶剤」という)
(F)活性エネルギー線硬化性化合物
かつ、(E−1)速揮発溶剤の相対蒸発速度が、(E−2)遅揮発溶剤の相対蒸発速度よりも大きい
2.前記2以上の層の各層が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層又は金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であって、少なくとも1層は金属酸化物粒子が高密度に存在する層であることを特徴とする1に記載の積層体の製造方法。
3.前記2以上の層が、2層であることを特徴とする2に記載の積層体の製造方法。
4.さらに、前記2以上の層を加熱することにより及び/又は放射線を照射することにより硬化させることを特徴とする1〜3のいずれかに記載の積層体の製造方法。
5.積層体が光学用部品であることを特徴とする1〜4のいずれかに記載の積層体の製造方法。
6.積層体が反射防止膜であることを特徴とする1〜4のいずれかに記載の積層体の製造方法。
7.前記積層体が、基材上に、少なくとも、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、3に記載の2層が、
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする3に記載の積層体の製造方法。
8.低屈折率層の589nmにおける屈折率が1.20〜1.55であり、
高屈折率層の589nmにおける屈折率が1.50〜2.20であって、低屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする7に記載の積層体の製造方法。
9.前記積層体が、基材上に、少なくとも、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、3に記載の2層が
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする3に記載の積層体の製造方法。
10.低屈折率層の589nmにおける屈折率が1.20〜1.55であり、
中屈折率層の589nmにおける屈折率が1.50〜1.90であって、低屈折率層の屈折率より高く、
高屈折率層の589nmにおける屈折率が1.51〜2.20であって、中屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする9に記載の積層体の製造方法。
11.さらに、基材上に、ハードコート層及び/又は帯電防止層を形成することを特徴とする7〜10のいずれかに記載の積層体の製造方法。
12.液状硬化性樹脂組成物中の(E−1)速揮発溶剤及び(E−2)遅揮発溶剤(以下、両者を併せて「(E)溶剤)」という)以外の成分総量100質量%中に、
(C)成分0.1〜20質量%
を含むことを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
13.液状硬化性樹脂組成物中の(E)溶剤以外の成分総量100質量%中に、前記(B)成分5〜80質量%を含むことを特徴とする1〜12のいずれかに記載の積層体の製造方法。
14.前記液状硬化性樹脂組成物の(D)金属酸化物粒子が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズ、酸化スズ含有インジウム、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛及びインジウム含有酸化亜鉛から選択される一又は二以上の金属酸化物を主成分とする粒子であることを特徴とする1〜13のいずれかに記載の積層体の製造方法。
15.前記液状硬化性樹脂組成物の(D)金属酸化物粒子が、多層構造を有する金属酸化物粒子であることを特徴とする1〜14のいずれかに記載の積層体の製造方法。
16.前記液状硬化性樹脂組成物の(D)金属酸化物粒子が、重合性不飽和基を有する有機化合物と結合していることを特徴とする1〜15のいずれかに記載の積層体の製造方法。
17.1〜16のいずれかに記載された積層体の製造方法により、製造された積層体。
According to the present invention, the following laminate manufacturing method and laminate obtained thereby can be provided.
1. A substrate and a method for producing a laminate having a multilayer structure thereon,
On the base material or the layer formed on the base material, the following components (A), (B), (C), (D), (E-1), (E-2) and (F) A liquid curable resin composition containing is applied to form a coating film,
A method for producing a laminate, wherein two or more layers are formed by evaporating a solvent from the coating film of 1.
[Liquid curable resin composition]
(A) fluorinated polymer (B) thermosetting compound (C) curing catalyst (D) metal oxide particles having a number average particle diameter of 100 nm or less (hereinafter referred to as “(D) metal oxide particles”)
(E-1) (A) One type or two or more types of solvents having high solubility of the fluoropolymer (hereinafter referred to as “(C) fast volatile solvent”)
(E-2) (D) One or two or more solvents (hereinafter referred to as “(E-)” which have high dispersion stability of metal oxide particles and are compatible with (E-1) fast volatile solvents. 2) Slow volatile solvent ")
1. (F) The relative evaporation rate of the active energy ray-curable compound and (E-1) fast volatile solvent is greater than the relative evaporation rate of (E-2) slow volatile solvent. Each of the two or more layers is a layer in which metal oxide particles are present in a high density or a layer in which metal oxide particles are not substantially present, and at least one layer has metal oxide particles in a high density. 2. The method for producing a laminate according to 1, wherein the laminate is a layer.
3. The method for producing a laminate according to 2, wherein the two or more layers are two layers.
4). Furthermore, it hardens | cures by heating the said 2 or more layer and / or irradiating a radiation, The manufacturing method of the laminated body in any one of 1-3 characterized by the above-mentioned.
5). The method for producing a laminate according to any one of 1 to 4, wherein the laminate is an optical component.
6). The method for producing a laminate according to any one of 1 to 4, wherein the laminate is an antireflection film.
7). The laminated body is an antireflection film in which at least a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated in this order from the side close to the base material on the base material, and the two layers according to 3,
4. The method for producing a laminate according to 3, comprising a high refractive index layer and a low refractive index layer.
8). The refractive index at 589 nm of the low refractive index layer is 1.20 to 1.55,
8. The method for producing a laminate according to 7, wherein the refractive index at 589 nm of the high refractive index layer is 1.50 to 2.20, which is higher than the refractive index of the low refractive index layer.
9. The laminate is an antireflection film in which at least a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order from the side close to the base material on the base material. The method for producing a laminate according to 3, wherein the two layers are a high refractive index layer and a low refractive index layer.
10. The refractive index at 589 nm of the low refractive index layer is 1.20 to 1.55,
The refractive index at 589 nm of the middle refractive index layer is 1.50 to 1.90, which is higher than the refractive index of the low refractive index layer,
10. The method for producing a laminate according to 9, wherein the high refractive index layer has a refractive index at 589 nm of 1.51 to 2.20, which is higher than the refractive index of the medium refractive index layer.
11. Furthermore, the manufacturing method of the laminated body in any one of 7-10 characterized by forming a hard-coat layer and / or an antistatic layer on a base material.
12 In 100 mass% of the total amount of components other than (E-1) fast volatile solvent and (E-2) slow volatile solvent (hereinafter referred to as “(E) solvent”) in the liquid curable resin composition. ,
(C) 0.1-20 mass% of component
The manufacturing method of the laminated body as described in any one of Claims 1-11 characterized by the above-mentioned.
13. The laminate according to any one of 1 to 12, wherein 5 to 80% by mass of the component (B) is contained in 100% by mass of the total amount of components other than the solvent (E) in the liquid curable resin composition. Manufacturing method.
14 (D) metal oxide particles of the liquid curable resin composition contain titanium oxide, zirconium oxide, antimony-containing tin oxide, tin oxide-containing indium, silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony 14. The method for producing a laminate according to any one of 1 to 13, which is a particle mainly composed of one or two or more metal oxides selected from zinc oxide and indium-containing zinc oxide.
15. The method for producing a laminate according to any one of 1 to 14, wherein (D) the metal oxide particles of the liquid curable resin composition are metal oxide particles having a multilayer structure.
16. (D) The metal oxide particle of the said liquid curable resin composition is couple | bonded with the organic compound which has a polymerizable unsaturated group, The manufacturing method of the laminated body in any one of 1-15 characterized by the above-mentioned. .
The laminated body manufactured by the manufacturing method of the laminated body described in any one of 17.1-16.

本発明の積層体の製造方法は、組成物を塗布して得られる1の塗膜から、2以上の層を形成することができるため、多層構造を有する積層体の製造工程を簡略化できる。従って、本発明の積層体の製造方法は、特に、反射防止膜、光学フィルタ等の光学材料の形成に有利に用いることができる。また、本発明の積層体は、フッ素含量が高いことを利用して、耐候性が要求される基材に対する塗料、耐候フィルム、コーティング、その他として好適に使用することができる。しかも、当該積層体は、最外層(基材から最も遠い層)に低屈折率層を設けることにより良好な反射防止効果を付与する。また、本発明によれば、基材に対する密着性に優れ、耐擦傷性が高い積層体が得られる。これらのことから、本発明の積層体は反射防止膜として極めて有用であり、各種の表示装置に適用することにより、その視認性を向上させることができる。   Since the manufacturing method of the laminated body of this invention can form two or more layers from one coating film obtained by apply | coating a composition, the manufacturing process of the laminated body which has a multilayer structure can be simplified. Therefore, the method for producing a laminate of the present invention can be advantageously used particularly for forming an optical material such as an antireflection film and an optical filter. Moreover, the laminated body of this invention can be conveniently used as a coating material, a weather resistant film, a coating, etc. with respect to the base material which requires a weather resistance using the high fluorine content. And the said laminated body provides a favorable antireflection effect by providing a low-refractive-index layer in the outermost layer (layer farthest from the base material). Moreover, according to this invention, the laminated body which is excellent in the adhesiveness with respect to a base material and has high abrasion resistance is obtained. From these facts, the laminate of the present invention is extremely useful as an antireflection film, and its visibility can be improved by applying it to various display devices.

本発明は、基材と、その上に2層以上の多層構造を有する積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体である。具体的には、本発明の製造方法では、基材上又は基材上に形成された層の上に、後述する所定の液状硬化性樹脂組成物を塗布して得られる1の塗膜から溶媒を蒸発させる(以下、溶媒を蒸発させることを「乾燥」と言うこともある。)ことにより、2以上の層を形成する。なお、乾燥後は溶媒が完全に無くなった状態でなくてもよく、硬化膜としての特性が得られる範囲で溶媒が残存していてもよい。また、本発明では、1の塗膜から2以上の層の形成を、2回以上実施することができる。   The present invention is a substrate, a method for producing a laminate having a multilayer structure of two or more layers thereon, and a laminate obtained thereby. Specifically, in the production method of the present invention, a solvent is formed from one coating film obtained by applying a predetermined liquid curable resin composition to be described later on a substrate or a layer formed on the substrate. Is evaporated (hereinafter, evaporation of the solvent may be referred to as “drying”) to form two or more layers. It should be noted that the solvent may not be completely removed after drying, and the solvent may remain within a range where the properties as a cured film can be obtained. Moreover, in this invention, formation of two or more layers from one coating film can be implemented twice or more.

特定の液状硬化性樹脂組成物を通常の方法で塗布し、その後乾燥させると、2以上の層に分離する。ここで、2以上の層とは、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層」を共に含む2以上の層である場合もあり、また、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」だけからなる2以上の層である場合もある。
以下、図面を用いて「2以上の層の各層が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層又は金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であって、少なくとも1層は金属酸化物粒子が高密度に存在する層」について説明する。図1Aは、2以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層1」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層3」の2層である場合を示す。図1Bは、2以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層1,1a」の2層である場合を示す。図1Cは、2以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層1,1a」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層3」の3層である場合を示す。図1Dは、2以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層1,1a」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層3」の3層である場合を示す。図1Eは、2以上の層が、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層1b」と、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層3」の2層である場合を示す。
液状硬化性樹脂組成物が2種以上の金属酸化物粒子を含むときは、図1B,1C,1Dに示すように、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」が2種類以上形成され得る。
When a specific liquid curable resin composition is applied by a usual method and then dried, it is separated into two or more layers. Here, the two or more layers may be two or more layers including both “a layer in which metal oxide particles are present at high density” and “a layer in which metal oxide particles are not substantially present”. In addition, there may be two or more layers consisting only of “a layer in which metal oxide particles are present at a high density”.
Hereinafter, using the drawings, “each of the two or more layers is a layer in which metal oxide particles are present in high density or a layer in which metal oxide particles are substantially absent, and at least one layer is metal oxide particles. Will be described. FIG. 1A shows a case where two or more layers are “layer 1 in which metal oxide particles are present at high density” and “layer 3 in which metal oxide particles are not substantially present”. FIG. 1B shows a case where two or more layers are “layers 1 and 1a in which metal oxide particles are present in high density”. FIG. 1C shows a case where two or more layers are “layers 1 and 1a in which metal oxide particles are present in high density” and “layer 3 in which metal oxide particles are not substantially present”. . FIG. 1D shows a case where two or more layers are “layers 1 and 1a in which metal oxide particles are present in high density” and “layer 3 in which metal oxide particles are substantially absent”. . FIG. 1E shows a case where two or more layers are “layer 1b in which metal oxide particles are present at high density” and “layer 3 in which metal oxide particles are not substantially present”.
When the liquid curable resin composition contains two or more kinds of metal oxide particles, as shown in FIGS. 1B, 1C, and 1D, two or more types of “layers in which the metal oxide particles exist at high density” are formed. obtain.

さらに、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」の「金属酸化物粒子」は、少なくとも1種、即ち、1種又は2種以上の「金属酸化物粒子」を意味する。液状硬化性樹脂組成物が2種以上の金属酸化物粒子を含む場合、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層」が、2種以上の金属酸化物粒子から構成されていてよい(例えば、図1E)。図1Eでは、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層1b」が、粒子Xと粒子Yから構成されている。粒子Yが、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層1b」の厚さより大きいため、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層3」に突出しているが、この突出部分も「金属酸化物粒子が高密度に存在する層1b」に含まれる。   Furthermore, the “metal oxide particles” of the “layer in which metal oxide particles are present at high density” means at least one, that is, one or more “metal oxide particles”. When the liquid curable resin composition contains two or more kinds of metal oxide particles, the “layer in which the metal oxide particles exist at high density” may be composed of two or more kinds of metal oxide particles (for example, FIG. 1E). In FIG. 1E, the “layer 1b in which metal oxide particles are present at high density” is composed of particles X and particles Y. Since the particle Y is larger than the thickness of the “layer 1b in which the metal oxide particles are present in high density”, the particle Y protrudes into the “layer 3 in which the metal oxide particles are substantially not present”. It is contained in the layer 1b "in which oxide particles are present in high density.

尚、図1A〜1Eでは、「金属酸化物粒子が実質的に存在しない層3」には通常金属酸化物粒子が存在していないが、本発明の効果を損なわない範囲で若干含まれていてもよい。また、「金属酸化物粒子が高密度に存在する層1,1a,1b」も同様に金属酸化物粒子以外の他の物質が含まれていてもよい。   In FIGS. 1A to 1E, the “layer 3 substantially free of metal oxide particles” usually contains no metal oxide particles, but is included in a range that does not impair the effects of the present invention. Also good. Similarly, the “layers 1, 1 a, 1 b in which the metal oxide particles are present at high density” may also contain other substances other than the metal oxide particles.

液状硬化性樹脂組成物の塗布法としては、公知の塗布方法を使用することができ、特に、ディップ法、コーター法、印刷法等各種の方法を適用することができる。
乾燥は、通常、室温から100℃程度の加熱で、1〜60分程度実施される。
好ましくは、これら2以上の層を加熱することにより及び/又は放射線を照射することにより硬化させる。具体的な硬化条件は後述する。
As a coating method of the liquid curable resin composition, a known coating method can be used, and in particular, various methods such as a dipping method, a coater method, and a printing method can be applied.
Drying is usually performed for about 1 to 60 minutes by heating from room temperature to about 100 ° C.
Preferably, these two or more layers are cured by heating and / or irradiation. Specific curing conditions will be described later.

本発明では、液状硬化性樹脂組成物を溶液状で各種の基材に塗布し、得られた塗膜を乾燥/硬化させて積層体を得ることができる。例えば、基材が透明基材の場合には、最外層に低屈折率層を設けることにより優れた反射防止膜が形成される。
反射防止膜の具体的構造は、通常、基材及び低屈折率膜、又は基材、高屈折率膜及び低屈折率膜をこの順に積層したものである。この他、基材、高屈折率膜及び低屈折率膜の間に、他の層を介在させてもよく、例えば、ハードコート層、帯電防止層、中屈折率層、低屈折率層、高屈折率層の組み合わせ等の層を設けることができる。
In this invention, a liquid curable resin composition is apply | coated to various base materials with a solution form, and the obtained coating film can be dried / cured and a laminated body can be obtained. For example, when the substrate is a transparent substrate, an excellent antireflection film is formed by providing a low refractive index layer as the outermost layer.
The specific structure of the antireflection film is usually a base material and a low refractive index film, or a base material, a high refractive index film and a low refractive index film laminated in this order. In addition, other layers may be interposed between the base material, the high refractive index film, and the low refractive index film. For example, a hard coat layer, an antistatic layer, a middle refractive index layer, a low refractive index layer, a high refractive index layer, Layers such as a combination of refractive index layers can be provided.

図2は、基材10上に、高屈折率層40及び低屈折率層50が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層40が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層50が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本発明によれば、高屈折率層40と低屈折率層50を、1の塗膜から、形成できる。
FIG. 2 shows an antireflection film in which a high refractive index layer 40 and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on a substrate 10.
In this antireflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles are present at high density, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer in which metal oxide particles are not substantially present.
According to the present invention, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film.

図3は、基材10上に、ハードコート層20、帯電防止層30、高屈折率層40及び低屈折率層50が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層40が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層50が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本発明によれば、高屈折率層40と低屈折率層50を、1の塗膜から、形成できる。
FIG. 3 shows an antireflection film in which a hard coat layer 20, an antistatic layer 30, a high refractive index layer 40, and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on a substrate 10.
In this antireflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles are present at high density, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer in which metal oxide particles are not substantially present.
According to the present invention, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film.

図4は、基材10上に、帯電防止層30、ハードコート層20、高屈折率層40及び低屈折率層50が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層40が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層50が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本発明によれば、高屈折率層40と低屈折率層50を、1の塗膜から、形成できる。
FIG. 4 shows an antireflection film in which an antistatic layer 30, a hard coat layer 20, a high refractive index layer 40, and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on a substrate 10.
In this antireflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles are present at high density, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer in which metal oxide particles are not substantially present.
According to the present invention, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film.

図5は、基材10上に、ハードコート層20、帯電防止層30、中屈折率層60、高屈折率層40及び低屈折率層50が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層40が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層50が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層60、及び高屈折率層40が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層60が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層40が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本発明によれば、中屈折率層60と高屈折率層40、又は、高屈折率層40と低屈折率層50を、1の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層40と低屈折率層50を1の塗膜から形成する。
FIG. 5 shows an antireflection film in which a hard coat layer 20, an antistatic layer 30, a middle refractive index layer 60, a high refractive index layer 40, and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on a substrate 10. .
In this antireflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles are present at high density, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer in which metal oxide particles are not substantially present. Alternatively, each of the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles exist at high density, or the medium refractive index layer 60 has high density in metal oxide particles. In the existing layer, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.
According to the present invention, the middle refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 or the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film. Preferably, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 are formed from one coating film.

図6は、基材10上に、帯電防止層30、ハードコート層20、中屈折率層60、高屈折率層40及び低屈折率層50が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層40が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層50が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層60、及び高屈折率層40が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層60が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層40が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本発明によれば、中屈折率層60と高屈折率層40、又は、高屈折率層40と低屈折率層50を、1の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層40と低屈折率層50を1の塗膜から形成する。
FIG. 6 shows an antireflection film in which an antistatic layer 30, a hard coat layer 20, a medium refractive index layer 60, a high refractive index layer 40, and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on a substrate 10. .
In this antireflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles are present at high density, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer in which metal oxide particles are not substantially present. Alternatively, each of the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles exist at high density, or the medium refractive index layer 60 has high density in metal oxide particles. In the existing layer, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.
According to the present invention, the middle refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 or the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film. Preferably, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 are formed from one coating film.

図7は、基材10上に、ハードコート層20、高屈折率層40及び低屈折率層50が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層40が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層50が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本発明によれば、高屈折率層40と低屈折率層50を、1の塗膜から、形成できる。
FIG. 7 shows an antireflection film in which a hard coat layer 20, a high refractive index layer 40, and a low refractive index layer 50 are laminated on the base material 10 in this order.
In this antireflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles are present at high density, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer in which metal oxide particles are not substantially present.
According to the present invention, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film.

図8は、基材10上に、ハードコート層20、中屈折率層60、高屈折率層40及び低屈折率層50が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層40が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層50が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層60、及び高屈折率層40が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層60が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層40が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本発明によれば、中屈折率層60と高屈折率層40、又は、高屈折率層40と低屈折率層50を、1の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層40と低屈折率層50を1の塗膜から形成する。
FIG. 8 shows an antireflection film in which a hard coat layer 20, a medium refractive index layer 60, a high refractive index layer 40, and a low refractive index layer 50 are laminated on the substrate 10 in this order.
In this antireflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles are present at high density, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer in which metal oxide particles are not substantially present. Alternatively, each of the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles exist at high density, or the medium refractive index layer 60 has high density in metal oxide particles. In the existing layer, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.
According to the present invention, the middle refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 or the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film. Preferably, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 are formed from one coating film.

図9は、基材10上に、帯電防止層30、高屈折率層40及び低屈折率層50が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層40が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層50が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本発明によれば、高屈折率層40と低屈折率層50を、1の塗膜から、形成できる。
FIG. 9 shows an antireflection film in which an antistatic layer 30, a high refractive index layer 40, and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on a substrate 10.
In this antireflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles are present at high density, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer in which metal oxide particles are not substantially present.
According to the present invention, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film.

図10は、基材10上に、帯電防止層30、中屈折率層60、高屈折率層40及び低屈折率層50が、この順に積層されている反射防止膜を示す。
この反射防止膜において、高屈折率層40が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、低屈折率層50が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。或いは、中屈折率層60、及び高屈折率層40が何れも金属酸化物粒子が高密度に存在する層に相当するか、または、中屈折率層60が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層に、高屈折率層40が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層に相当する。
本発明によれば、中屈折率層60と高屈折率層40、又は、高屈折率層40と低屈折率層50を、1の塗膜から、形成できる。好ましくは、高屈折率層40と低屈折率層50を1の塗膜から形成する。
FIG. 10 shows an antireflection film in which an antistatic layer 30, a medium refractive index layer 60, a high refractive index layer 40, and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on a substrate 10.
In this antireflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles are present at high density, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer in which metal oxide particles are not substantially present. Alternatively, each of the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 corresponds to a layer in which metal oxide particles exist at high density, or the medium refractive index layer 60 has high density in metal oxide particles. In the existing layer, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.
According to the present invention, the middle refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 or the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film. Preferably, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 are formed from one coating film.

尚、上記の反射防止膜において、使用する液状硬化性樹脂組成物に含まれる金属酸化物として、アンチモンドープ酸化錫(ATO)粒子等の導電性粒子を添加すれば、得られる金属酸化物を高密度に含む層が帯電防止性を有する膜となる。従って、例えば、高屈折率層又は中屈折率層を、このような帯電防止性を有する金属酸化物を高密度に含む層として形成すれば、高屈折率層又は中屈折率層は帯電防止性を兼ねた膜とすることができる。この場合、帯電防止膜の形成を省略できる。   In the above antireflection film, the addition of conductive particles such as antimony-doped tin oxide (ATO) particles as the metal oxide contained in the liquid curable resin composition to be used increases the resulting metal oxide. The layer included in the density becomes a film having antistatic properties. Therefore, for example, if the high refractive index layer or the middle refractive index layer is formed as a layer containing a metal oxide having such an antistatic property at a high density, the high refractive index layer or the middle refractive index layer is antistatic. It can be set as the film | membrane which served as. In this case, the formation of the antistatic film can be omitted.

次に、上記の反射防止膜の各層について説明する。
(1)基材
本発明の反射防止膜に用いる基材の種類は特に制限されるものではないが、基材の具体例としては、例えば、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート樹脂(東レ(株)製ルミラー等)、ガラス、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、スチリル樹脂、アリレート樹脂、ノルボルネン系樹脂(JSR(株)製アートン、日本ゼオン(株)製ゼオネックス等)、メチルメタクリレート/スチレン共重合体樹脂、ポリオレフィン樹脂等の各種透明プラスチック板、フィルム等を挙げることができる。好ましくは、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート樹脂(東レ(株)製ルミラー等)、ノルボルネン系樹脂(JSR(株)製アートン等)等が挙げられる。
Next, each layer of the antireflection film will be described.
(1) Substrate The type of the substrate used for the antireflection film of the present invention is not particularly limited, but specific examples of the substrate include, for example, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate resin (manufactured by Toray Industries, Inc.). Lumirror, etc.), glass, polycarbonate resin, acrylic resin, styryl resin, arylate resin, norbornene resin (Arton manufactured by JSR Co., Ltd., Zeonex manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), methyl methacrylate / styrene copolymer resin, polyolefin resin And various transparent plastic plates and films. Preferable examples include triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate resin (such as Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc.), norbornene resin (such as Arton manufactured by JSR Corporation), and the like.

(2)低屈折率層
低屈折率層とは、波長589nmの光の屈折率が1.20〜1.55である層を表す。
低屈折率層に使用される材料としては、目的とする特性が得られれば特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素重合体を含有する硬化性組成物、アクリルモノマー、含フッ素アクリルモノマー、エポキシ基含有化合物、含フッ素エポキシ基含有化合物等の硬化物を挙げることがでる。また、低屈折率層の強度を上げるために、シリカ微粒子等を配合することもできる。
(2) Low refractive index layer The low refractive index layer represents a layer having a refractive index of 1.20 to 1.55 for light having a wavelength of 589 nm.
The material used for the low refractive index layer is not particularly limited as long as the desired properties are obtained. For example, a curable composition containing a fluorine-containing polymer, an acrylic monomer, and a fluorine-containing acrylic monomer. And cured products such as epoxy group-containing compounds and fluorine-containing epoxy group-containing compounds. Moreover, in order to raise the intensity | strength of a low refractive index layer, a silica fine particle etc. can also be mix | blended.

(3)高屈折率層
高屈折率層とは、波長589nmの光の屈折率が1.50〜2.20であって、低屈折率層より高い屈折率を有する層を表す。
高屈折率層を形成するために、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することができる。
金属酸化物粒子の具体例としては、アンチモンドープ酸化錫(ATO)粒子、錫ドープ酸化インジウム(ITO)粒子、ZnO粒子、アンチモンドープZnO、AlドープZnO粒子、ZrO粒子、TiO粒子、シリカ被覆TiO粒子、Al/ZrO
被覆TiO粒子、CeO粒子等を挙げることができる。好ましくは、アンチモンドープ酸化錫(ATO)粒子、錫ドープ酸化インジウム(ITO)粒子、AlドープZnO粒子、Al/ZrO被覆TiO粒子である。これらの金属酸化物粒子は、一種単
独又は二種以上の組み合わせで使用することができる。
また、高屈折率層にハードコート層や帯電防止層の機能を持たせることもできる。
(3) High Refractive Index Layer The high refractive index layer represents a layer having a refractive index of light having a wavelength of 589 nm of 1.50 to 2.20 and a higher refractive index than the low refractive index layer.
In order to form a high refractive index layer, high refractive index inorganic particles, such as metal oxide particles, can be blended.
Specific examples of metal oxide particles include antimony-doped tin oxide (ATO) particles, tin-doped indium oxide (ITO) particles, ZnO particles, antimony-doped ZnO, Al-doped ZnO particles, ZrO 2 particles, TiO 2 particles, silica coating TiO 2 particles, Al 2 O 3 / ZrO 2
Examples thereof include coated TiO 2 particles and CeO 2 particles. Antimony-doped tin oxide (ATO) particles, tin-doped indium oxide (ITO) particles, Al-doped ZnO particles, and Al 2 O 3 / ZrO 2 -coated TiO 2 particles are preferable. These metal oxide particles can be used singly or in combination of two or more.
Moreover, the function of a hard coat layer or an antistatic layer can be given to the high refractive index layer.

(4)中屈折率層
3種以上の屈折率を有する層を組み合わせる場合に、波長589nmの光の屈折率が1.50〜1.90であって、低屈折率層より高く、高屈折率層より低い屈折率を有する層を中屈折率層と表す。中屈折率層の屈折率は、好ましくは、1.50〜1.80、より好ましくは、1.50〜1.75である。
中屈折率層を形成するために、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することができる。
金属酸化物粒子の具体例としては、アンチモンドープ酸化錫(ATO)粒子、錫ドープ酸化インジウム(ITO)粒子、ZnO粒子、アンチモンドープZnO、AlドープZnO粒子、ZrO粒子、TiO粒子、シリカ被覆TiO粒子、Al/ZrO
被覆TiO粒子、CeO粒子等を挙げることができる。好ましくは、アンチモンドープ酸化錫(ATO)粒子、錫ドープ酸化インジウム(ITO)粒子、AlドープZnO粒子、ZrO粒子である。これらの金属酸化物粒子は、一種単独又は二種以上の組み合わせで使用することができる。
また、中屈折率層にハードコート層や帯電防止層の機能を持たせることもできる。
(4) Medium Refractive Index Layer When combining layers having three or more refractive indexes, the refractive index of light with a wavelength of 589 nm is 1.50 to 1.90, which is higher than the low refractive index layer and has a high refractive index. A layer having a lower refractive index than the layer is referred to as a middle refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.50 to 1.80, more preferably 1.50 to 1.75.
In order to form the middle refractive index layer, inorganic particles having a high refractive index, for example, metal oxide particles can be blended.
Specific examples of metal oxide particles include antimony-doped tin oxide (ATO) particles, tin-doped indium oxide (ITO) particles, ZnO particles, antimony-doped ZnO, Al-doped ZnO particles, ZrO 2 particles, TiO 2 particles, silica coating TiO 2 particles, Al 2 O 3 / ZrO 2
Examples thereof include coated TiO 2 particles and CeO 2 particles. Antimony-doped tin oxide (ATO) particles, tin-doped indium oxide (ITO) particles, Al-doped ZnO particles, and ZrO 2 particles are preferable. These metal oxide particles can be used singly or in combination of two or more.
Further, the medium refractive index layer can have a function of a hard coat layer or an antistatic layer.

低屈折率層と高屈折率層を組み合わせることにより反射率を低くすることができ、さらに、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層を組み合わせることにより、反射率を低くすることができるとともに色目を減らすことができる。   The reflectance can be lowered by combining the low refractive index layer and the high refractive index layer, and the reflectance can be lowered by combining the low refractive index layer, the high refractive index layer, and the middle refractive index layer. As well as being able to reduce color.

(5)ハードコート層
ハードコート層の具体例としては、SiO、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂等の材料から構成するのが好ましい。また、これらの樹脂にシリカ粒子を配合しても良い。
ハードコート層は積層体の機械的強度を高める効果がある。
(5) Hard coat layer As a specific example of the hard coat layer, it is preferable that the hard coat layer is composed of a material such as SiO 2 , an epoxy resin, an acrylic resin, or a melamine resin. Moreover, you may mix | blend a silica particle with these resin.
The hard coat layer has the effect of increasing the mechanical strength of the laminate.

(6)帯電防止層
帯電防止層の具体例としては、アンチモンドープ酸化錫(ATO)粒子、錫ドープ酸化インジウム(ITO)粒子、AlドープZnO粒子等の導電性を有する金属酸化物粒子、あるいは有機、又は無機の導電性化合物を添加した硬化性膜、前記金属酸化物を蒸着あるいはスパッタリングすることで得られる金属酸化物膜、導電性有機高分子からなる膜を挙げることができる。導電性有機高分子としては、ポリアセチレン系導電性高分子、ポリアニリン系導電性高分子、ポリチオフェン系導電性高分子、ポリピロール系導電性高分子、ポリフェニレンビニレン系導電性高分子等を例示することができる。尚、上述したように、本発明で使用する液状硬化性樹脂組成物に含まれる金属酸化物として、ATO粒子、ITO粒子、アンチモンドープZnO、AlドープZnO粒子等の導電性粒子を添加すれば、得られる金属酸化物を高密度に含む層が帯電防止性を有する膜となる。この場合、別途帯電防止膜の形成を省略できる。
帯電防止層は、積層体に導電性を付与し、静電気が生じて埃等が付着するのを防止する。
(6) Antistatic layer Specific examples of the antistatic layer include conductive metal oxide particles such as antimony-doped tin oxide (ATO) particles, tin-doped indium oxide (ITO) particles, and Al-doped ZnO particles, or organic Or a curable film to which an inorganic conductive compound is added, a metal oxide film obtained by vapor deposition or sputtering of the metal oxide, or a film made of a conductive organic polymer. Examples of the conductive organic polymer include polyacetylene conductive polymer, polyaniline conductive polymer, polythiophene conductive polymer, polypyrrole conductive polymer, polyphenylene vinylene conductive polymer, and the like. . In addition, as described above, if conductive particles such as ATO particles, ITO particles, antimony-doped ZnO, Al-doped ZnO particles are added as the metal oxide contained in the liquid curable resin composition used in the present invention, The resulting layer containing the metal oxide at a high density becomes a film having antistatic properties. In this case, the formation of a separate antistatic film can be omitted.
The antistatic layer imparts conductivity to the laminate, and prevents static electricity from being generated and dust and the like from adhering thereto.

これらの層は一層のみ形成してもよく、また、異なる層を二層以上形成してもよい。
また、低、中、高屈折率層の膜厚は、それぞれ通常60〜150nm、帯電防止層の膜厚は通常0.05〜3μm、ハードコート層の膜厚は通常1〜20μmである。
Only one of these layers may be formed, or two or more different layers may be formed.
The film thickness of the low, medium and high refractive index layers is usually 60 to 150 nm, the film thickness of the antistatic layer is usually 0.05 to 3 μm, and the film thickness of the hard coat layer is usually 1 to 20 μm.

本発明では、積層体の任意の連続する2以上の層を本発明の製造方法で形成できるが、本発明の製造方法によらない層の製造方法は、公知の塗布と硬化、蒸着、スパッタリング等の方法により製造できる。   In the present invention, any two or more continuous layers of the laminate can be formed by the production method of the present invention, but the layer production method not based on the production method of the present invention is known coating and curing, vapor deposition, sputtering, etc. It can manufacture by the method of.

また、本発明による液状硬化性樹脂組成物からなる層は、硬化させて優れた光学特性と耐久性を有する硬化膜を形成させるために、特に、加熱による熱履歴を与えることが好ましい。もちろん、常温で放置した場合にも、時間の経過と共に硬化反応が進み、目的とする硬化膜が形成されるが、実際上は、加熱して硬化させることが、所要時間を短縮する上で効果的である。また、熱酸発生剤を硬化触媒として添加しておくことにより、さらに硬化反応を促進させることができる。この硬化触媒としては特に制限は無く、一般のウレア樹脂、メラミン樹脂等のための硬化剤として使用されている各種酸類やその塩類を利用することができ、特に、アンモニウム塩を好ましく用いることができる。硬化反応のための加熱条件は適宜選択することができるが、加熱温度は、塗布の対象である基材の耐熱限界温度以下であることが必要である。   In addition, the layer made of the liquid curable resin composition according to the present invention is particularly preferably given a heat history by heating in order to form a cured film having excellent optical properties and durability. Of course, even when left at room temperature, the curing reaction proceeds with the passage of time, and the desired cured film is formed. However, in practice, curing by heating is effective in reducing the required time. Is. Moreover, the curing reaction can be further promoted by adding a thermal acid generator as a curing catalyst. The curing catalyst is not particularly limited, and various acids and salts used as curing agents for general urea resins and melamine resins can be used. In particular, ammonium salts can be preferably used. . The heating conditions for the curing reaction can be selected as appropriate, but the heating temperature needs to be equal to or lower than the heat resistant limit temperature of the substrate to be coated.

本発明によれば、1の塗膜から、2以上の層を形成することができるため、積層体の製造工程が簡略化できる。
また、金属酸化物粒子を偏在化させることによって、積層体の耐擦傷性を向上することができる。
本発明の積層体は、反射防止膜の他にも、例えば、レンズ、選択透過膜フィルタ等の光学用部品に使用できる。
According to the present invention, since two or more layers can be formed from one coating film, the manufacturing process of the laminate can be simplified.
Further, by making the metal oxide particles unevenly distributed, the scratch resistance of the laminate can be improved.
In addition to the antireflection film, the laminate of the present invention can be used for optical parts such as a lens and a selective transmission film filter.

次に、本発明で使用する液状硬化性樹脂組成物について説明する。
液状硬化性樹脂組成物は、下記成分(A)、(B)、(C)、(D)、(E−1)、(E−2)及び(F)を含有する。
(A)含フッ素重合体
(B)熱硬化性化合物
(C)硬化触媒
(D)数平均粒子径が100nm以下である金属酸化物粒子
(E−1)(A)含フッ素重合体の溶解性が高い、1種又は2種以上の溶剤(以下、「(C)速揮発溶剤」という)
(E−2)(D)金属酸化物粒子の分散安定性が高く、かつ、(E−1)速揮発溶剤と相溶性である、1種又は2種以上の溶剤(以下、「(E−2)遅揮発溶剤」という)
(F)活性エネルギー線硬化性化合物
これらの成分について以下説明する。
Next, the liquid curable resin composition used in the present invention will be described.
The liquid curable resin composition contains the following components (A), (B), (C), (D), (E-1), (E-2), and (F).
(A) Fluoropolymer (B) Thermosetting Compound (C) Curing Catalyst (D) Metal Oxide Particles with Number Average Particle Diameter of 100 nm or Less (E-1) (A) Solubility of Fluoropolymer 1 type or 2 or more types of solvent (henceforth "(C) fast volatile solvent") with high
(E-2) (D) One or two or more solvents (hereinafter referred to as “(E-)” which have high dispersion stability of metal oxide particles and are compatible with (E-1) fast volatile solvents. 2) Slow volatile solvent ")
(F) Active energy ray-curable compound These components will be described below.

(A)含フッ素重合体
含フッ素重合体は、分子内に炭素−フッ素結合を有する重合体であり、フッ素含量は30質量%以上である。含フッ素重合体としては、分子内に水酸基を有する含フッ素重合体(以下、「水酸基含有含フッ素重合体」又は単に「含フッ素重合体」ということがある)であれば、好適に使用することができる。ここで、フッ素含量は、アリザリンコンプレクソン法により測定された値である。
(A) Fluoropolymer The fluoropolymer is a polymer having a carbon-fluorine bond in the molecule, and the fluorine content is 30% by mass or more. As the fluorine-containing polymer, if it is a fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as “hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer” or simply “fluorine-containing polymer”), it is preferably used. Can do. Here, the fluorine content is a value measured by the alizarin complexone method.

好ましい水酸基含有含フッ素重合体の例としては、水酸基を含有する単量体由来の構造単位を10モル%〜50モル%含有してなる、主鎖中にポリシロキサンセグメントを有するものが挙げられる。水酸基含有含フッ素重合体は、好ましくは、フッ素含量が30質量%以上、より好ましくは40〜60質量%であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより、展開溶剤としてテトラヒドロフランを用いたときのポリスチレン換算による数平均分子量が5000以上、より好ましくは10000〜500000のものである。
このような水酸基含有含フッ素重合体は、下記一般式(1)で表されるポリシロキサンセグメントを主鎖に有するオレフィン系重合体であり、水酸基含有含フッ素重合体における当該ポリシロキサンセグメントの割合は、通常0.1〜20モル%である。
Examples of a preferred hydroxyl group-containing fluoropolymer include those having a polysiloxane segment in the main chain, which contains 10 mol% to 50 mol% of a structural unit derived from a monomer containing a hydroxyl group. The hydroxyl group-containing fluoropolymer preferably has a fluorine content of 30% by mass or more, more preferably 40 to 60% by mass, and the number in terms of polystyrene when tetrahydrofuran is used as a developing solvent by gel permeation chromatography. The average molecular weight is 5000 or more, more preferably 10,000 to 500,000.
Such a hydroxyl group-containing fluoropolymer is an olefin polymer having a polysiloxane segment represented by the following general formula (1) in the main chain, and the ratio of the polysiloxane segment in the hydroxyl group-containing fluoropolymer is: Usually, it is 0.1 to 20 mol%.

式中、R及びRは、同一でも異なってもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基又はアリール基を示す。 In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group or an aryl group.

上記の含フッ素重合体は、(a)フッ素含有オレフィン化合物(以下「(a)成分」という。)、(b)この(a)成分と共重合可能な水酸基を含有する単量体化合物(以下「(b)成分」という。」)及び(c)アゾ基含有ポリシロキサン化合物(以下「(c)成分」という。)、並びに、必要に応じて、(d)反応性乳化剤(以下「(d)成分」という。)、及び/又は(e)前記(a)成分と共重合可能な(b)成分以外の単量体化合物を反応させることにより得ることができる。   The fluorine-containing polymer includes (a) a fluorine-containing olefin compound (hereinafter referred to as “(a) component”), (b) a monomer compound containing a hydroxyl group copolymerizable with the component (a) (hereinafter referred to as “component (a)”). (Referred to as “component (b)”) and (c) an azo group-containing polysiloxane compound (hereinafter referred to as “component (c)”) and, if necessary, (d) a reactive emulsifier (hereinafter referred to as “(d ) Component)) and / or (e) It can be obtained by reacting a monomer compound other than the component (b) copolymerizable with the component (a).

(a)成分であるフッ素含有オレフィン化合物としては、少なくとも1個の重合性の不飽和二重結合と、少なくとも1個のフッ素原子を有する化合物を挙げることができ、その具体例としては、例えば、(1)テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、3,3,3−トリフロロプロピレン等のフロロオレフィン類;(2)パーフロロ(アルキルビニルエーテル)類若しくはパーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)類;(3)パーフロロ(メチルビニルエーテル)、パーフロロ(エチルビニルエーテル)、パーフロロ(プロピルビニルエーテル)、パーフロロ(ブチルビニルエーテル)、パーフロロ(イソブチルビニルエーテル)等のパーフロロ(アルキルビニルエーテル)類;(4)パーフロロ(プロポキシプロピルビニルエーテル)等のパーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)類;その他を挙げることができる。これらの化合物は、単独で、又は2種以上を併用することができる。以上のうち、特にヘキサフロロプロピレン、パーフロロ(アルキルビニルエーテル)又はパーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)が好ましく、さらにはこれらを組み合わせて使用することが好ましい。   Examples of the fluorine-containing olefin compound as component (a) include compounds having at least one polymerizable unsaturated double bond and at least one fluorine atom. Specific examples thereof include, for example, (1) fluoroolefins such as tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, 3,3,3-trifluoropropylene; (2) perfluoro (alkyl vinyl ether) or perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether); (3) perfluoro (methyl) (4) perfluoro (propoxypropyl vinyl), perfluoro (alkyl vinyl ether) such as vinyl ether), perfluoro (ethyl vinyl ether), perfluoro (propyl vinyl ether), perfluoro (butyl vinyl ether), perfluoro (isobutyl vinyl ether); Ether) such as perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ethers); other can be exemplified. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Among these, hexafluoropropylene, perfluoro (alkyl vinyl ether) or perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) is particularly preferable, and a combination thereof is preferably used.

(b)成分である水酸基を含有する単量体化合物としては、例えば、(1)2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、5−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、6−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等の水酸基含有ビニルエーテル類;(2)2−ヒドロキシエチルアリルエーテル、4−ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル等の水酸基含有アリルエーテル類;(3)アリルアルコール;(4)ヒドロキシエチル(メタ)アクリル酸エステル;その他を挙げることができる。これらの化合物は、単独で、又は2種以上を併用することができる。好ましくは、水酸基含有アルキルビニルエーテル類である。   Examples of the monomer compound containing a hydroxyl group as component (b) include (1) 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl. Hydroxyl group-containing vinyl ethers such as vinyl ether, 5-hydroxypentyl vinyl ether and 6-hydroxyhexyl vinyl ether; (2) hydroxyl group-containing allyl ethers such as 2-hydroxyethyl allyl ether, 4-hydroxybutyl allyl ether and glycerol monoallyl ether; 3) allyl alcohol; (4) hydroxyethyl (meth) acrylate; These compounds can be used alone or in combination of two or more. Preferred are hydroxyl-containing alkyl vinyl ethers.

(c)成分のアゾ基含有ポリシロキサン化合物としては、−N=N−で示される熱解裂容易なアゾ基を含有すると共に、前記一般式(1)で表されるポリシロキサンセグメントを有する化合物であり、例えば、特開平6−93100号公報に記載された方法により製造することのできるものである。(c)成分の具体例としては、下記一般式(2)で表される化合物を挙げることができる。   As the azo group-containing polysiloxane compound of component (c), a compound having a polysiloxane segment represented by the above general formula (1) while containing an azo group which is easily thermally cleaved represented by -N = N- For example, it can be manufactured by the method described in JP-A-6-93100. Specific examples of the component (c) include compounds represented by the following general formula (2).

式中、y=10〜500、z=1〜50である。 In the formula, y = 10 to 500 and z = 1 to 50.

上記の(a)成分、(b)成分及び(c)成分の好ましい組み合わせは、例えば、(1)フロロオレフィン/水酸基含有アルキルビニルエーテル/ポリジメチルシロキサン単位、(2)フロロオレフィン/パーフロロ(アルキルビニルエーテル)/水酸基含有アルキルビニルエーテル/ポリジメチルシロキサン単位、(3)フロロオレフィン/パーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)/水酸基含有アルキルビニルエーテル/ポリジメチルシロキサン単位、(4)フロロオレフィン/パーフロロ(アルキルビニルエーテル)/水酸基含有アルキルビニルエーテル/ポリジメチルシロキサン単位、(5)フロロオレフィン/パーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)/水酸基含有アルキルビニルエーテル/ポリジメチルシロキサン単位である。   Preferred combinations of the components (a), (b) and (c) are, for example, (1) fluoroolefin / hydroxyl group-containing alkyl vinyl ether / polydimethylsiloxane unit, (2) fluoroolefin / perfluoro (alkyl vinyl ether) / Hydroxyl group-containing alkyl vinyl ether / polydimethylsiloxane unit, (3) fluoroolefin / perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) / hydroxyl group-containing alkyl vinyl ether / polydimethylsiloxane unit, (4) fluoroolefin / perfluoro (alkyl vinyl ether) / hydroxyl group-containing alkyl vinyl ether / Polydimethylsiloxane unit, (5) fluoroolefin / perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) / hydroxyl group-containing alkyl vinyl ether / polydimethylsiloxane It is a down unit.

この含フッ素重合体において、(a)成分に由来する構造単位は、好ましくは20〜70モル%、さらに好ましくは25〜65モル%、特に好ましくは30〜60モル%である。(a)成分に由来する構造単位の割合が20モル%未満では、得られる含フッ素重合体中のフッ素含量が過少となりやすく、得られる液状硬化性樹脂組成物の硬化物は、屈折率が十分に低いものとなりにくい。一方、(a)成分に由来する構造単位の割合が70モル%を超えると、得られる含フッ素重合体の有機溶剤への溶解性が著しく低下するとともに、得られる液状硬化性樹脂組成物は、透明性及び基材への密着性が小さいものとなる。   In this fluoropolymer, the structural unit derived from the component (a) is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 25 to 65 mol%, particularly preferably 30 to 60 mol%. When the proportion of the structural unit derived from the component (a) is less than 20 mol%, the fluorine content in the obtained fluoropolymer tends to be excessive, and the cured product of the resulting liquid curable resin composition has a sufficient refractive index. It is hard to be low. On the other hand, when the proportion of the structural unit derived from the component (a) exceeds 70 mol%, the solubility of the obtained fluoropolymer in an organic solvent is remarkably lowered, and the obtained liquid curable resin composition is: The transparency and adhesion to the substrate are small.

含フッ素重合体において、(b)成分に由来する構造単位は、好ましくは10〜50モル%である。より好ましくは下限値が13モル%以上であり、さらに好ましくは20モル%を超え、21モル%以上であり、また、好ましくは上限値が45モル%以下であり、さらに好ましくは35モル%以下である。このような(b)成分を所定量含有する含フッ素重合体を用いて液状硬化性樹脂組成物を構成することにより、その硬化物において、良好な耐擦傷性と埃拭き取り性を実現することができる。他方、(b)成分に由来する構造単位の割合が10モル%未満では、含フッ素重合体は、有機溶剤への溶解性が劣ったものとなり、50モル%を超えると、液状硬化性樹脂組成物による硬化物は、透明性及び低反射率の光学特性が悪化したものとなる。   In the fluoropolymer, the structural unit derived from the component (b) is preferably 10 to 50 mol%. More preferably, the lower limit is 13 mol% or more, more preferably more than 20 mol% and 21 mol% or more, and preferably the upper limit is 45 mol% or less, more preferably 35 mol% or less. It is. By constituting a liquid curable resin composition using such a fluorine-containing polymer containing a predetermined amount of component (b), it is possible to achieve good scratch resistance and dust wiping in the cured product. it can. On the other hand, when the proportion of the structural unit derived from the component (b) is less than 10 mol%, the fluoropolymer has poor solubility in an organic solvent, and when it exceeds 50 mol%, the liquid curable resin composition The cured product of the product has deteriorated optical properties such as transparency and low reflectance.

(c)成分のアゾ基含有ポリシロキサン化合物は、それ自体が熱ラジカル発生剤であり、含フッ素重合体を得るための重合反応において重合開始剤としての作用を有するが、他のラジカル開始剤を併用することもできる。含フッ素重合体における(c)成分に由来する構造単位の割合は、一般式(1)で表されるポリシロキサンセグメントが、好ましくは0.1〜20モル%、さらに好ましくは0.1〜15モル%、特に好ましくは0.1〜10モル%、特に好ましくは0.1〜5モル%となる割合である。一般式(1)で表されるポリシロキサンセグメントの割合が20モル%を超える場合には、得られる含フッ素重合体は、透明性に劣ったものとなり、また塗布剤として用いる場合には、塗布時にハジキ等が発生し易くなる。   The component (c) azo group-containing polysiloxane compound itself is a thermal radical generator, and has a function as a polymerization initiator in a polymerization reaction for obtaining a fluorinated polymer. It can also be used together. The proportion of the structural unit derived from the component (c) in the fluoropolymer is preferably 0.1 to 20 mol%, more preferably 0.1 to 15 in the polysiloxane segment represented by the general formula (1). The proportion is such that it is mol%, particularly preferably 0.1 to 10 mol%, particularly preferably 0.1 to 5 mol%. When the proportion of the polysiloxane segment represented by the general formula (1) exceeds 20 mol%, the obtained fluoropolymer is inferior in transparency, and when used as a coating agent, it is coated. Occasionally repelling or the like occurs.

上記(a)〜(c)成分以外に、さらに(d)成分として、反応性乳化剤を単量体成分として用いることが好ましい。この(d)成分を用いることにより、含フッ素重合体を塗布剤として使用する場合に、良好な塗布性及びレベリング性を得ることができる。この反応性乳化剤としては、特に、ノニオン性反応性乳化剤を用いることが好ましい。ノニオン性反応性乳化剤の具体例としては、例えば、下記一般式(3)又は一般式(4)で示される化合物を挙げることができる。   In addition to the components (a) to (c), a reactive emulsifier is preferably used as the monomer component as the component (d). By using this component (d), good coating properties and leveling properties can be obtained when the fluoropolymer is used as a coating agent. As the reactive emulsifier, it is particularly preferable to use a nonionic reactive emulsifier. Specific examples of the nonionic reactive emulsifier include compounds represented by the following general formula (3) or general formula (4).

式中、nは1〜20であり、m及びsは、繰り返し単位を示し、m=0〜4、s=3〜50である。 In formula, n is 1-20, m and s show a repeating unit, and are m = 0-4 and s = 3-50.

式中、m及びsは、一般式(3)と同様である。Rは、直鎖状でも分岐状でもよいアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜40のアルキル基である。 In the formula, m and s are the same as those in the general formula (3). R 3 is an alkyl group which may be linear or branched, and is preferably an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms.

含フッ素重合体において、(d)成分由来の構成単位の割合は、好ましくは0〜10モル%であり、さらに好ましくは0.1〜5モル%、特に好ましくは0.1〜1モル%である。この割合が10モル%を超えると、得られる液状硬化性樹脂組成物が粘着性を帯びたものとなるために取り扱いが困難となり、塗布剤として使用する場合に耐湿性が低下する。   In the fluorinated polymer, the proportion of the structural unit derived from the component (d) is preferably 0 to 10 mol%, more preferably 0.1 to 5 mol%, particularly preferably 0.1 to 1 mol%. is there. When this ratio exceeds 10 mol%, the liquid curable resin composition obtained becomes sticky, so that handling becomes difficult, and moisture resistance decreases when used as a coating agent.

(e)成分の、(a)成分と共重合可能な(b)成分以外の単量体化合物としては、(1)メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、tert−ブチルビニルエーテル、n−ペンチルビニルエーテル、n−ヘキシルビニルエーテル、n−オクチルビニルエーテル、n−ドデシルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル若しくはシクロアルキルビニルエーテル類;(2)酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類;(3)メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−(n−プロポキシ)エチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類;(4)(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のカルボキシル基含有単量体化合物等であって、水酸基を含有しないものを挙げることができる。好ましくは、アルキルビニルエーテルである。   (E) As a monomer compound other than the component (b) that can be copolymerized with the component (a), (1) methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, (2) Vinyl acetate , Vinyl carboxylates such as vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl pivalate, vinyl caproate, vinyl versatate, vinyl stearate; ) Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2- (n- (Meth) acrylic acid esters such as propoxy) ethyl (meth) acrylate; (4) carboxyl group-containing monomer compounds such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, etc. The thing which does not contain a hydroxyl group can be mentioned. Alkyl vinyl ether is preferable.

含フッ素重合体において、(e)成分由来の構成単位の割合は、好ましくは0〜70モル%であり、さらに好ましくは5〜35モル%である。この割合が70モル%を超えると、得られる液状硬化性樹脂組成物が粘着性を帯びたものとなるために取り扱いが困難となり、塗布剤として使用する場合に耐湿性が低下する。   In the fluoropolymer, the proportion of the structural unit derived from the component (e) is preferably 0 to 70 mol%, more preferably 5 to 35 mol%. When this ratio exceeds 70 mol%, the resulting liquid curable resin composition becomes tacky and difficult to handle, and moisture resistance decreases when used as a coating agent.

(d)成分を含有する場合の、(a)成分、(b)成分、(c)成分、(d)成分及び(e)成分の好ましい組み合わせは次のとおりである。
(1)フロロオレフィン/水酸基含有ビニルエーテル/ポリジメチルシロキサン単位/ノニオン性反応性乳化剤/アルキルビニルエーテル、(2)フロロオレフィン/パーフロロ(アルキルビニルエーテル)/水酸基含有ビニルエーテル/ポリジメチルシロキサン単位/ノニオン性反応性乳化剤/アルキルビニルエーテル、(3)フロロオレフィン/パーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)/水酸基含有ビニルエーテル/ポリジメチルシロキサン単位/ノニオン性反応性乳化剤/アルキルビニルエーテル、(4)フロロオレフィン/パーフロロ(アルキルビニルエーテル)/水酸基含有ビニルエーテル/ポリジメチルシロキサン単位/ノニオン性反応性乳化剤/アルキルビニルエーテル、(5)フロロオレフィン/パーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)/水酸基含有ビニルエーテル/ポリジメチルシロキサン単位/ノニオン性反応性乳化剤/アルキルビニルエーテル。
When the component (d) is contained, preferred combinations of the component (a), the component (b), the component (c), the component (d), and the component (e) are as follows.
(1) fluoroolefin / hydroxyl group-containing vinyl ether / polydimethylsiloxane unit / nonionic reactive emulsifier / alkyl vinyl ether, (2) fluoroolefin / perfluoro (alkyl vinyl ether) / hydroxyl group-containing vinyl ether / polydimethylsiloxane unit / nonionic reactive emulsifier / Alkyl vinyl ether, (3) fluoroolefin / perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) / hydroxyl group-containing vinyl ether / polydimethylsiloxane unit / nonionic reactive emulsifier / alkyl vinyl ether, (4) fluoroolefin / perfluoro (alkyl vinyl ether) / hydroxyl group-containing vinyl ether / Polydimethylsiloxane unit / nonionic reactive emulsifier / alkyl vinyl ether, (5) fluoroolefin / perfluoro (A) Job Shi alkyl vinyl ether) / hydroxyl group-containing vinyl ether / polydimethylsiloxane unit / nonionic reactive emulsifier / alkyl vinyl ether.

(c)成分と併用することができるラジカル重合開始剤としては、例えば、(1)アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類;(2)メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類;(3)過酸化水素、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド類;(4)ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド類;(5)tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート等のパーオキシエステル類;(6)アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等のアゾ系化合物類;(7)過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等の過硫酸塩類;その他を挙げることができる。   Examples of radical polymerization initiators that can be used in combination with component (c) include (1) diacyl peroxides such as acetyl peroxide and benzoyl peroxide; (2) ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide and cyclohexanone peroxide. (3) Hydroperoxides such as hydrogen peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide; (4) Di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, dilauroyl peroxide, etc. Dialkyl peroxides; (5) peroxyesters such as tert-butylperoxyacetate and tert-butylperoxypivalate; and (6) azo-based compounds such as azobisisobutyronitrile and azobisisovaleronitrile. Compounds like; (7) ammonium persulfate, sodium persulfate, persulfates such as potassium persulfate; Other can be exemplified.

上記のラジカル重合開始剤以外の具体例としては、例えば、パーフロロエチルアイオダイド、パーフロロプロピルアイオダイド、パーフロロブチルアイオダイド、(パーフロロブチル)エチルアイオダイド、パーフロロヘキシルアイオダイド、2−(パーフロロヘキシル)エチルアイオダイド、パーフロロヘプチルアイオダイド、パーフロロオクチルアイオダイド、2−(パーフロロオクチル)エチルアイオダイド、パーフロロデシルアイオダイド、2−(パーフロロデシル)エチルアイオダイド、ヘプタフロロ−2−ヨードプロパン、パーフロロ−3−メチルブチルアイオダイド、パーフロロ−5−メチルヘキシルアイオダイド、2−(パーフロロ−5−メチルヘキシル)エチルアイオダイド、パーフロロ−7−メチルオクチルアイオダイド、2−(パーフロロ−7−メチルオクチル)エチルアイオダイド、パーフロロ−9−メチルデシルアイオダイド、2−(パーフロロ−9−メチルデシル)エチルアイオダイド、2,2,3,3−テトラフロロプロピルアイオダイド、1H,1H,5H−オクタフロロペンチルアイオダイド、1H,1H,7H−ドデカフロロヘプチルアイオダイド、テトラフロロ−1,2−ジヨードエタン、オクタフロロ−1,4−ジヨードブタン、ドデカフロロ−1,6−ジヨードヘキサン等のヨウ素含有フッ素化合物を挙げることができる。ヨウ素含有フッ素化合物は、単独で、又は上記の有機過酸化物、アゾ系化合物あるいは過硫酸塩と併用することができる。   Specific examples other than the above radical polymerization initiator include, for example, perfluoroethyl iodide, perfluoropropyl iodide, perfluorobutyl iodide, (perfluorobutyl) ethyl iodide, perfluorohexyl iodide, 2- (Perfluorohexyl) ethyl iodide, perfluoroheptyl iodide, perfluorooctyl iodide, 2- (perfluorooctyl) ethyl iodide, perfluorodecyl iodide, 2- (perfluorodecyl) ethyl iodide, heptafluoro 2-iodopropane, perfluoro-3-methylbutyl iodide, perfluoro-5-methylhexyl iodide, 2- (perfluoro-5-methylhexyl) ethyl iodide, perfluoro-7-methyloctyl iodide 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl iodide, perfluoro-9-methyldecyl iodide, 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl iodide, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl iodide 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl iodide, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl iodide, tetrafluoro-1,2-diiodoethane, octafluoro-1,4-diiodobutane, dodecafluoro-1,6-diiodohexane And iodine-containing fluorine compounds. The iodine-containing fluorine compound can be used alone or in combination with the organic peroxide, azo compound or persulfate.

含フッ素重合体を製造するための重合様式としては、ラジカル重合開始剤を用いる、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法又は溶液重合法のいずれをも用いることができ、重合操作としても、回分式、半連続式又は連続式の操作等から適宜のものを選択することができる。   As a polymerization mode for producing the fluoropolymer, any of an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a bulk polymerization method or a solution polymerization method using a radical polymerization initiator can be used. An appropriate one can be selected from batch, semi-continuous or continuous operations.

含フッ素重合体を得るための重合反応は、溶剤を用いた溶剤系で行うことが好ましい。ここに、好ましい有機溶剤としては、例えば、(1)酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ等のエステル類;(2)アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;(3)テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類;(4)N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;(5)トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;その他を挙げることができる。さらに必要に応じて、アルコール類、脂肪族炭化水素類等を混合使用することもできる。   The polymerization reaction for obtaining the fluoropolymer is preferably carried out in a solvent system using a solvent. Examples of preferable organic solvents include (1) esters such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, and cellosolve; (2) ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; (3) Cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; (4) Amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; (5) Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; be able to. Further, if necessary, alcohols, aliphatic hydrocarbons and the like can be mixed and used.

上記のようにして得られる含フッ素重合体は、その重合反応で得られた反応溶液をそのまま液状硬化性樹脂組成物として使用することが可能な場合もあるが、重合反応溶液に対して適宜の後処理を行うことも自由である。この後処理としては、例えば、重合反応溶液を、アルコール等よりなる当該含フッ素重合体の不溶化溶剤に滴加して当該含フッ素重合体を凝固させる精製方法に代表される一般的な再沈殿処理を行うことができ、次いで、得られる固形の共重合体を溶剤に溶解させることにより、含フッ素重合体の溶液を調製することができる。また、重合反応溶液から残留モノマーを除去したものを、そのまま含フッ素重合体の溶液として使用することもできる。   Although the fluoropolymer obtained as described above may be able to use the reaction solution obtained by the polymerization reaction as it is as the liquid curable resin composition, Post-processing is also free. As this post-treatment, for example, a general reprecipitation treatment represented by a purification method in which the polymerization reaction solution is added dropwise to an insolubilizing solvent for the fluoropolymer made of alcohol or the like to solidify the fluoropolymer. Next, a solution of the fluoropolymer can be prepared by dissolving the obtained solid copolymer in a solvent. Moreover, what removed the residual monomer from the polymerization reaction solution can also be used as a solution of a fluoropolymer as it is.

液状硬化性樹脂組成物中の(E)溶剤以外の成分総量100質量%中の(A)含フッ素重合体の配合割合は、通常5〜80質量%の範囲であり、好ましくは10〜80質量%、さらに好ましくは15〜80質量%の範囲である。この範囲を外れると反射防止効果が損なわれたり、塗膜強度が低下したりするため好ましくない。   The blending ratio of the (A) fluoropolymer in 100% by mass of the total component other than the solvent (E) in the liquid curable resin composition is usually in the range of 5 to 80% by mass, preferably 10 to 80% by mass. %, More preferably in the range of 15 to 80% by mass. Outside this range, the antireflection effect is impaired and the coating film strength is lowered, which is not preferable.

(B)熱硬化性化合物
液状硬化性樹脂組成物において、熱硬化性化合物は上記(A)含フッ素重合体と単に混合して含めてもよいし、含フッ素重合体と熱硬化性化合物との全部を反応させた反応生成物若しくはそれらの一部のみを反応させた状態のものを含めてもよい。
(B) Thermosetting compound In the liquid curable resin composition, the thermosetting compound may be included by simply mixing with the (A) fluorine-containing polymer, or between the fluorine-containing polymer and the thermosetting compound. You may include the thing which made the reaction product which made all react, or only those parts reacted.

熱硬化性化合物としては、例えば、各種アミノ化合物や、ペンタエリスリトール、ポリフェノール、グリコール等の各種水酸基含有化合物、その他を挙げることができる。   Examples of the thermosetting compound include various amino compounds, various hydroxyl group-containing compounds such as pentaerythritol, polyphenol, and glycol, and others.

熱硬化性化合物として用いられるアミノ化合物は、含フッ素重合体中に存在する水酸基と反応可能なアミノ基、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で2個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。   The amino compound used as the thermosetting compound is an amino group capable of reacting with a hydroxyl group present in the fluoropolymer, for example, one or both of a hydroxyalkylamino group and an alkoxyalkylamino group in total of 2 or more. Specific examples include melamine compounds, urea compounds, benzoguanamine compounds, glycoluril compounds, and the like.

メラミン系化合物は、一般にトリアジン環に窒素原子が結合した骨格を有する化合物として知られているものであり、具体的には、メラミン、アルキル化メラミン、メチロールメラミン、アルコキシ化メチルメラミン等を挙げることができるが、1分子中にメチロール基及びアルコキシ化メチル基のいずれか一方又は両方を合計で2個以上有するものが好ましい。具体的には、メラミンとホルムアルデヒドとを塩基性条件下で反応させて得られるメチロール化メラミン、アルコキシ化メチルメラミン、又はそれらの誘導体が好ましく、特に液状硬化性樹脂組成物に良好な保存安定性が得られる点、及び良好な反応性が得られる点で、アルコキシ化メチルメラミンが好ましい。熱硬化性化合物として用いられるメチロール化メラミン及びアルコシ化メチルメラミンには特に制約はなく、例えば、文献「プラスチック材料講座[8]ユリア・メラミン樹脂」(日刊工業新聞社)に記載されている方法で得られる各種の樹脂状物の使用も可能である。   Melamine compounds are generally known as compounds having a skeleton in which a nitrogen atom is bonded to a triazine ring, and specific examples include melamine, alkylated melamine, methylol melamine, alkoxylated methyl melamine, and the like. However, it is preferable to have one or both of a methylol group and an alkoxylated methyl group in one molecule in total. Specifically, methylolated melamine obtained by reacting melamine and formaldehyde under basic conditions, alkoxylated methylmelamine, or a derivative thereof is preferable, and in particular, liquid curable resin compositions have good storage stability. Alkoxylated methyl melamine is preferred in that it is obtained and good reactivity is obtained. There are no particular limitations on the methylolated melamine and the alkoxylated methylmelamine used as the thermosetting compound. For example, the method described in the document “Plastic Materials Course [8] Urea Melamine Resin” (Nikkan Kogyo Shimbun) It is also possible to use various resinous materials obtained.

また、尿素系化合物としては、尿素の他、ポリメチロール化尿素その誘導体であるアルコキシ化メチル尿素、ウロン環を有するメチロール化ウロン及びアルコキシ化メチルウロン等を挙げることができる。そして、尿素誘導体等の化合物についても、上記の文献に記載されている各種樹脂状物の使用が可能である。   In addition to urea, examples of the urea compound include polymethylolated urea, alkoxylated methylurea which is a derivative thereof, methylolated uron having a uron ring, and alkoxylated methyluron. And also about compounds, such as a urea derivative, the use of the various resinous materials described in said literature is possible.

液状硬化性樹脂組成物中の(E)溶剤以外の成分総量100質量%中に含まれる熱硬化性化合物の使用量は、5〜80質量%の範囲であり、好ましくは5〜70質量%、より好ましくは10〜50質量%の範囲である。熱硬化性化合物の使用量が過少であると、得られる液状硬化性樹脂組成物により形成される薄膜の耐久性が不十分となる場合があり、80質量%を超えると、含フッ素重合体との反応においてゲル化を回避することが困難であり、硬化物が脆いものとなる場合がある。   The usage-amount of the thermosetting compound contained in 100 mass% of component total amounts other than the (E) solvent in a liquid curable resin composition is the range of 5-80 mass%, Preferably it is 5-70 mass%, More preferably, it is the range of 10-50 mass%. If the amount of the thermosetting compound used is too small, the durability of the thin film formed by the liquid curable resin composition obtained may be insufficient. If the amount exceeds 80% by mass, In this reaction, it is difficult to avoid gelation, and the cured product may be brittle.

含フッ素重合体と熱硬化性化合物との反応は、例えば、含フッ素重合体を溶解させた有機溶剤の溶液に熱硬化性化合物を添加し、適宜の時間加熱、攪拌等により反応系を均一化させながら行えばよい。この反応のための加熱温度は、好ましくは30〜150℃の範囲であり、さらに好ましくは50〜120℃の範囲である。この加熱温度が30℃未満では、反応の進行が極めて遅く、150℃を超えると、目的とする反応の他に、熱硬化性化合物中のメチロール基やアルコキシ化メチル基同士の反応による橋掛け反応が生じてゲルが生成するので、好ましくない。反応の進行は、メチロール基又はアルコキシ化メチル基を赤外分光分析等により定量する方法、あるいは溶解している重合体を再沈殿法によって回収して、その増加量を測定することにより、定量的な確認を行うことができる。   The reaction between the fluoropolymer and the thermosetting compound can be achieved, for example, by adding the thermosetting compound to an organic solvent solution in which the fluoropolymer is dissolved, and uniformizing the reaction system by heating, stirring, etc. for an appropriate time. Just do it. The heating temperature for this reaction is preferably in the range of 30 to 150 ° C, more preferably in the range of 50 to 120 ° C. If the heating temperature is less than 30 ° C, the reaction proceeds very slowly. If the heating temperature exceeds 150 ° C, in addition to the intended reaction, a crosslinking reaction is caused by the reaction between methylol groups and alkoxylated methyl groups in the thermosetting compound. Is generated and a gel is formed, which is not preferable. The progress of the reaction is quantitative by measuring the amount of methylol group or alkoxylated methyl group by infrared spectroscopic analysis or by collecting the dissolved polymer by reprecipitation method and measuring the increase. Can be confirmed.

また、含フッ素重合体と熱硬化性化合物との反応には、有機溶剤、例えば、含フッ素重合体の製造において用いられる有機溶剤と同じもの用いることが好ましい。本発明においては、このようにして得られる、含フッ素重合体と熱硬化性化合物による反応溶液を、そのまま液状硬化性樹脂組成物の溶液として用いることもできるし、必要に応じて各種の添加剤を配合した上で使用することもできる。   For the reaction between the fluoropolymer and the thermosetting compound, it is preferable to use the same organic solvent as that used in the production of the fluoropolymer, for example. In the present invention, the reaction solution obtained by the fluoropolymer and the thermosetting compound thus obtained can be used as it is as a solution of the liquid curable resin composition, and various additives can be used as necessary. It can also be used after blending.

(C)硬化触媒
本発明で用いられる硬化触媒としては、例えば熱酸発生剤を挙げることができる。熱酸発生剤は、当該液状硬化性樹脂組成物の塗膜等を加熱して硬化させる場合に、硬化反応を促進させることができる物質であり、またその加熱条件を、より穏和なものに改善することができる物質である。この熱酸発生剤としては特に制限は無く、一般のウレア樹脂、メラミン樹脂等のための硬化剤として使用されている各種酸類やその塩類を利用することができる。具体例としては、例えば、各種脂肪族スルホン酸とその塩、クエン酸、酢酸、マレイン酸等の各種脂肪族カルボン酸とその塩、安息香酸、フタル酸等の各種芳香族カルボン酸とその塩、アルキルベンゼンスルホン酸とそのアンモニウム塩、各種金属塩、リン酸や有機酸のリン酸エステル等を挙げることができる。
(C) Curing catalyst As a curing catalyst used by this invention, a thermal acid generator can be mentioned, for example. The thermal acid generator is a substance that can accelerate the curing reaction when the coating film of the liquid curable resin composition is cured by heating, and the heating condition is improved to be milder. It is a substance that can do. There is no restriction | limiting in particular as this thermal acid generator, The various acids currently used as a hardening | curing agent for general urea resin, melamine resin, etc. and its salt can be utilized. Specific examples include, for example, various aliphatic sulfonic acids and salts thereof, various aliphatic carboxylic acids and salts thereof such as citric acid, acetic acid, and maleic acid, various aromatic carboxylic acids and salts thereof such as benzoic acid and phthalic acid, Examples thereof include alkylbenzenesulfonic acid and its ammonium salt, various metal salts, phosphoric acid and phosphoric acid esters of organic acids.

液状硬化性樹脂組成物中の(E)溶剤以外の成分総量100質量%中に含まれる硬化触媒の使用量は、通常0.1〜20質量%の範囲であり、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは3〜8質量%の範囲である。硬化触媒の使用量が過少であると、十分な機械的強度、及び耐薬品性が得られないため好ましくない。この割合が過大になると、触媒が硬化膜中で可塑剤として作用してしまい、塗膜の透明性が損なわれたり、十分な機械的強度が得られなかったりして好ましくない。   The use amount of the curing catalyst contained in 100% by mass of the total amount of components other than the solvent (E) in the liquid curable resin composition is usually in the range of 0.1 to 20% by mass, preferably 0.1 to 10%. It is in the range of 3% by mass, more preferably 3-8% by mass. If the amount of the curing catalyst used is too small, sufficient mechanical strength and chemical resistance cannot be obtained. If this ratio is excessive, the catalyst acts as a plasticizer in the cured film, which is not preferable because the transparency of the coating film is impaired or sufficient mechanical strength cannot be obtained.

液状硬化性樹脂組成物においては、上記(B)熱硬化性化合物及び(C)硬化触媒の添加量を上記特定範囲とすることによって、液状硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜の特性、特に耐擦傷性及び耐薬品性を改善することができる。   In the liquid curable resin composition, the cured film obtained by curing the liquid curable resin composition by setting the addition amount of the thermosetting compound (B) and the curing catalyst (C) within the specific range. Properties, particularly scratch and chemical resistance, can be improved.

(D)数平均粒子径が100nm以下である金属酸化物粒子
金属酸化物粒子として、好ましくは、酸化チタン、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、アンチモン含有酸化スズ、酸化スズ含有インジウム、二酸化ケイ素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛及びインジウム含有酸化亜鉛選択される一又は二以上の金属酸化物を主成分とする粒子が使用できる。ここで、金属酸化物粒子を当該金属酸化物以外の前記一又は二以上の金属酸化物で被覆した多層構造を有する金属酸化物粒子を用いることもできる。多層構造を有する金属酸化物粒子の具体例としては、シリカ被覆酸化チタン粒子、アルミナ被覆酸化チタン粒子、ジルコニア被覆酸化チタン粒子等を挙げることができる。このような金属酸化物粒子の中で、シリカを主成分とする粒子、酸化チタンを主成分とする粒子又はシリカ被覆酸化チタン粒子が特に好ましい。
多層構造を有する金属酸化物粒子を用いることにより、酸化チタンの光触媒活性を抑制することができ、硬化物の分解を抑止することができる。その結果、高屈折率で、耐光性に優れた硬化膜を得ることができる。
また、アンチモン含有酸化スズ粒子(ATO)等を用いることにより、硬化膜に帯電防止性を付与できる。この場合、後述するように、ATO粒子が偏在化するため、より少量の粒子添加量で有効な帯電防止性と良好な透明性を両立できる。
(D) Metal oxide particles having a number average particle diameter of 100 nm or less As metal oxide particles, preferably titanium oxide, zirconium oxide (zirconia), antimony-containing tin oxide, tin oxide-containing indium, silicon dioxide (silica), Particles based on one or more metal oxides selected from aluminum oxide (alumina), cerium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony-containing zinc oxide and indium-containing zinc oxide can be used. Here, metal oxide particles having a multilayer structure in which the metal oxide particles are coated with the one or more metal oxides other than the metal oxide can also be used. Specific examples of the metal oxide particles having a multilayer structure include silica-coated titanium oxide particles, alumina-coated titanium oxide particles, and zirconia-coated titanium oxide particles. Among such metal oxide particles, particles mainly composed of silica, particles mainly composed of titanium oxide or silica-coated titanium oxide particles are particularly preferable.
By using metal oxide particles having a multilayer structure, the photocatalytic activity of titanium oxide can be suppressed, and decomposition of the cured product can be suppressed. As a result, a cured film having a high refractive index and excellent light resistance can be obtained.
Moreover, antistatic property can be provided to the cured film by using antimony-containing tin oxide particles (ATO) or the like. In this case, as will be described later, since ATO particles are unevenly distributed, effective antistatic properties and good transparency can be achieved with a smaller amount of added particles.

シリカを主成分とする粒子としては、公知のものを使用することができ、また、その形状も、球状であれば通常のコロイダルシリカに限らず中空粒子、多孔質粒子、コア・シェル型粒子等であっても構わない。また、球状に限らず、不定形の粒子であってもよい。動的光散乱法、または電子顕微鏡観察により求めた数平均粒子径が1〜100nm、固形分が10〜40質量%、pHが2.0〜6.5のコロイダルシリカが好ましい。   As particles mainly composed of silica, known particles can be used, and if the shape is spherical, not only ordinary colloidal silica but also hollow particles, porous particles, core / shell type particles, etc. It does not matter. Moreover, it is not limited to a spherical shape, and may be an irregularly shaped particle. Colloidal silica having a number average particle size of 1 to 100 nm, solid content of 10 to 40% by mass, and pH of 2.0 to 6.5 determined by dynamic light scattering or electron microscope observation is preferable.

金属酸化物粒子として、波長589nmにおける屈折率が1.5以上の金属酸化物粒子を用いることにより、二層以上の層を有する硬化膜を構成する金属酸化物粒子が高密度で存在する層の屈折率を高くすることができるため、反射防止層として好適となる。このような目的のためには、シリカ(屈折率約1.45)粒子は好適でない。   By using metal oxide particles having a refractive index of 1.5 or more at a wavelength of 589 nm as the metal oxide particles, the metal oxide particles constituting the cured film having two or more layers have a high density. Since the refractive index can be increased, it is suitable as an antireflection layer. For such purposes, silica (refractive index about 1.45) particles are not suitable.

また、分散媒は、水あるいは有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ブタノール、エチレングリコールモノプロピルエーテル等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエ−テル類等の有機溶剤を挙げることができ、これらの中で、アルコール類及びケトン類が好ましい。これら有機溶剤は、単独で、又は2種以上混合して分散媒として使用することができる。
シリカを主成分とする粒子の市販品としては、例えば、日産化学工業(株)製のスノーテックスO(動的光散乱法で求めた数平均粒子径7nm、固形分20質量%、pH2.7)、スノーテックスOL(動的光散乱法で求めた数平均粒子径:15nm、固形分:20質量%、pH2.5)等を挙げることができる。
The dispersion medium is preferably water or an organic solvent. Examples of organic solvents include alcohols such as methanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, butanol and ethylene glycol monopropyl ether; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; dimethylformamide and dimethyl Examples include amides such as acetamide and N-methylpyrrolidone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate and γ-butyrolactone; and organic solvents such as ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane. Of these, alcohols and ketones are preferred. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more as a dispersion medium.
As a commercial product of particles mainly composed of silica, for example, Snowtex O (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) (number average particle diameter determined by dynamic light scattering method 7 nm, solid content 20 mass%, pH 2.7) ), Snowtex OL (number average particle diameter determined by dynamic light scattering method: 15 nm, solid content: 20% by mass, pH 2.5), and the like.

また、本発明に用いられる(D)金属酸化物粒子は、下記重合性不飽和基を有する有機化合物(Ab)や、分子中に1以上のアルキル基を有する加水分解性ケイ素化合物又はその加水分解物を含有するもの等(以下、「有機化合物(Ac)」という)を反応させる方法が挙げられる。ただし、ここでいう反応には、共有結合の他、物理吸着等の非共有結合も含まれる。この場合、有機化合物(Ab)と結合していない金属酸化物粒子(以下、金属酸化物粒子(Aa)」という)と、有機化合物(Ab)又は(Ac)とが結合した粒子を、反応性粒子(Dab)又は(Dac)という。   In addition, the (D) metal oxide particles used in the present invention include the following organic compound (Ab) having a polymerizable unsaturated group, hydrolyzable silicon compound having one or more alkyl groups in the molecule, or hydrolysis thereof. And a method of reacting a product containing a product (hereinafter referred to as “organic compound (Ac)”). However, the reaction here includes non-covalent bonds such as physical adsorption in addition to covalent bonds. In this case, the metal oxide particles not bonded to the organic compound (Ab) (hereinafter referred to as metal oxide particles (Aa)) and the particles bonded to the organic compound (Ab) or (Ac) are reacted with each other. It is called particle (Dab) or (Dac).

金属酸化物粒子(Ab)が重合性不飽和基を有する有機化合物(Ab)又は(Ac)と結合している反応性粒子(Dab)又は(Dac)とすることによって、(D)金属酸化物粒子成分に、重合性不飽和基を持たせ、他の重合性成分と強固な共有結合を形成することができ、得られる硬化膜の耐擦傷性を向上させることができる。   By making the reactive particles (Dab) or (Dac) in which the metal oxide particles (Ab) are bonded to the organic compound (Ab) or (Ac) having a polymerizable unsaturated group, (D) the metal oxide The particle component can have a polymerizable unsaturated group to form a strong covalent bond with another polymerizable component, and the scratch resistance of the resulting cured film can be improved.

(1)重合性不飽和基を有する有機化合物(Ab)による化学修飾
本発明に用いられる有機化合物(Ab)は、重合性不飽和基を有する化合物であり、さらに、下記式(5)に示す基を含む有機化合物であることが好ましい。また、[−O−C(=O)−NH−]基を含み、さらに、[−O−C(=S)−NH−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基の少なくとも1を含むものであることが好ましい。また、この有機化合物(Ab)は、分子内にシラノール基を有する化合物又は加水分解によってシラノール基を生成する化合物であることが好ましい。
(1) Chemical modification with an organic compound (Ab) having a polymerizable unsaturated group The organic compound (Ab) used in the present invention is a compound having a polymerizable unsaturated group, and is further represented by the following formula (5). An organic compound containing a group is preferred. Further, it includes a [—O—C (═O) —NH—] group, and further includes a [—O—C (═S) —NH—] group and a [—S—C (═O) —NH—] group. It is preferable that at least 1 of these is included. Moreover, it is preferable that this organic compound (Ab) is a compound which has a silanol group in a molecule | numerator, or a compound which produces | generates a silanol group by hydrolysis.

[式中、Uは、NH、O(酸素原子)又はS(イオウ原子)を示し、Vは、O又はSを示す。] [Wherein U represents NH, O (oxygen atom) or S (sulfur atom), and V represents O or S. ]

(i)重合性不飽和基
有機化合物(Ab)に含まれる重合性不飽和基としては特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基を好適例として挙げることができる。
この重合性不飽和基は、活性ラジカル種により付加重合をする構成単位である。
(I) Polymerizable unsaturated group The polymerizable unsaturated group contained in the organic compound (Ab) is not particularly limited, and examples thereof include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, propenyl group, butadienyl group, styryl group, and ethynyl. Preferred examples include a group, a cinnamoyl group, a maleate group and an acrylamide group.
This polymerizable unsaturated group is a structural unit that undergoes addition polymerization with active radical species.

(ii)前記式(5)に示す基
有機化合物に含まれる前記式(5)に示す基[−U−C(=V)−NH−]は、具体的には、[−O−C(=O)−NH−]、[−O−C(=S)−NH−]、[−S−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=S)−NH−]、及び[−S−C(=S)−NH−]の6種である。これらの基は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、熱安定性の観点から、[−O−C(=O)−NH−]基と、[−O−C(=S)−NH−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基の少なくとも1つとを併用することが好ましい。
前記式(5)に示す基[−U−C(=V)−NH−]は、分子間において水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした場合、優れた機械的強度、基材や高屈折率層等の隣接層との密着性及び耐熱性等の特性を付与せしめるものと考えられる。
(Ii) The group represented by the formula (5) The group [—UC— (V) —NH—] represented by the formula (5) contained in the organic compound is specifically represented by [—O—C ( = O) -NH-], [-O-C (= S) -NH-], [-S-C (= O) -NH-], [-NH-C (= O) -NH-], Six types of [—NH—C (═S) —NH—] and [—S—C (═S) —NH—]. These groups can be used alone or in combination of two or more. Among them, from the viewpoint of thermal stability, [—O—C (═O) —NH—] group, [—O—C (═S) —NH—] group and [—S—C (═O) — It is preferable to use in combination with at least one of the NH-] groups.
The group [—UC— (V) —NH—] represented by the formula (5) generates an appropriate cohesive force due to hydrogen bonding between molecules, and has excellent mechanical strength and group when cured. It is considered that it gives properties such as adhesion and heat resistance to adjacent layers such as materials and high refractive index layers.

(iii)シラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基
有機化合物(Ab)は、分子内にシラノール基を有する化合物又は加水分解によってシラノール基を生成する化合物であることが好ましい。このようなシラノール基を生成する化合物としては、ケイ素原子にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が結合した化合物を挙げることができるが、ケイ素原子にアルコキシ基又はアリールオキシ基が結合した化合物、即ち、アルコキシシリル基含有化合物又はアリールオキシシリル基含有化合物が好ましい。
シラノール基又はシラノール基を生成する化合物のシラノール基生成部位は、縮合反応又は加水分解に続いて生じる縮合反応によって、酸化物粒子(Aa)と結合する構成単位である。
(Iii) Silanol group or group that generates a silanol group by hydrolysis The organic compound (Ab) is preferably a compound having a silanol group in the molecule or a compound that generates a silanol group by hydrolysis. Examples of the compound that generates such a silanol group include compounds in which an alkoxy group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, a halogen atom, and the like are bonded to a silicon atom. A compound having a group bonded thereto, that is, an alkoxysilyl group-containing compound or an aryloxysilyl group-containing compound is preferable.
The silanol group-generating site of the silanol group or the compound that generates the silanol group is a structural unit that binds to the oxide particles (Aa) by a condensation reaction that occurs following a condensation reaction or hydrolysis.

(iv)好ましい態様
有機化合物(Ab)の好ましい具体例としては、例えば、下記式(6)に示す化合物を挙げることができる。
(Iv) Preferred Embodiment Specific examples of the organic compound (Ab) include a compound represented by the following formula (6).

式中、R、Rは、同一でも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基若しくはアリール基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル基等を挙げることができる。ここで、jは、1〜3の整数である。 In formula, R < 6 >, R <7> may be same or different, and is a hydrogen atom or a C1-C8 alkyl group or an aryl group, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, octyl, phenyl, xylyl Groups and the like. Here, j is an integer of 1 to 3.

[(RO) 3−jSi−]で示される基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基又はトリエトキシシリル基等が好ましい。
は、炭素数1〜12の脂肪族又は芳香族構造を有する2価の有機基であり、鎖状、分岐状又は環状の構造を含んでいてもよい。具体例として、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、キシリレン、ドデカメチレン等を挙げることができる。
は、2価の有機基であり、通常、分子量14から1万、好ましくは、分子量76から500の2価の有機基の中から選ばれる。具体例として、ヘキサメチレン、オクタメチレン、ドデカメチレン等の鎖状ポリアルキレン基;シクロヘキシレン、ノルボルニレン等の脂環式又は多環式の2価の有機基;フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、ポリフェニレン等の2価の芳香族基;及びこれらのアルキル基置換体、アリール基置換体を挙げることができる。また、これら2価の有機基は炭素及び水素原子以外の元素を含む原子団を含んでいてもよく、ポリエーテル結合、ポリエステル結合、ポリアミド結合、ポリカーボネート結合を含むこともできる。
10は、(k+1)価の有機基であり、好ましくは、鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基の中から選ばれる。
Zは、活性ラジカル種の存在下、分子間架橋反応をする重合性不飽和基を分子中に有する1価の有機基を示す。また、kは、好ましくは、1〜20の整数であり、さらに好ましくは、1〜10の整数、特に好ましくは、1〜5の整数である。
Examples of the group represented by [(R 6 O) j R 7 3-j Si—] include a trimethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, a triphenoxysilyl group, a methyldimethoxysilyl group, and a dimethylmethoxysilyl group. Can be mentioned. Of these groups, a trimethoxysilyl group or a triethoxysilyl group is preferable.
R 8 is a divalent organic group having an aliphatic or aromatic structure having 1 to 12 carbon atoms and may contain a chain, branched or cyclic structure. Specific examples include methylene, ethylene, propylene, butylene, hexamethylene, cyclohexylene, phenylene, xylylene, dodecamethylene and the like.
R 9 is a divalent organic group, and is usually selected from divalent organic groups having a molecular weight of 14 to 10,000, preferably a molecular weight of 76 to 500. Specific examples include a chain polyalkylene group such as hexamethylene, octamethylene, and dodecamethylene; an alicyclic or polycyclic divalent organic group such as cyclohexylene and norbornylene; and 2 such as phenylene, naphthylene, biphenylene, and polyphenylene. Valent aromatic group; and these alkyl group-substituted and aryl group-substituted products. These divalent organic groups may contain an atomic group containing an element other than carbon and hydrogen atoms, and may contain a polyether bond, a polyester bond, a polyamide bond, and a polycarbonate bond.
R 10 is a (k + 1) -valent organic group, and is preferably selected from a chain, branched or cyclic saturated hydrocarbon group and unsaturated hydrocarbon group.
Z represents a monovalent organic group having a polymerizable unsaturated group in the molecule that undergoes an intermolecular crosslinking reaction in the presence of an active radical species. K is preferably an integer of 1 to 20, more preferably an integer of 1 to 10, and particularly preferably an integer of 1 to 5.

式(6)で示される化合物の具体例として、下記式(7−1)及び(7−2)で示される化合物が挙げられる。
[式中、「Acryl」は、アクリロイル基を示す。「Me」は、メチル基を示す。]
Specific examples of the compound represented by the formula (6) include compounds represented by the following formulas (7-1) and (7-2).
[Wherein “Acryl” represents an acryloyl group. “Me” represents a methyl group. ]

本発明で用いられる有機化合物(Ab)の合成は、例えば、特開平9−100111号公報に記載された方法を用いることができる。好ましくは、メルカプトプロピルトリメトキシシランとイソホロンジイソシアネートをジブチルスズジラウレート存在下で混合し、60〜70℃で数時間程度反応させた後に、ペンタエリスリトールトリアクリレートを添加して、さらに60〜70℃で数時間程度反応させることにより製造される。   For the synthesis of the organic compound (Ab) used in the present invention, for example, a method described in JP-A-9-100111 can be used. Preferably, mercaptopropyltrimethoxysilane and isophorone diisocyanate are mixed in the presence of dibutyltin dilaurate and reacted at 60 to 70 ° C. for several hours, then pentaerythritol triacrylate is added, and further at 60 to 70 ° C. for several hours. Produced by reacting to some extent.

(v)反応性粒子(Dab)
シラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を有する有機化合物(Ab)を金属酸化物粒子(Aa)と混合し、加水分解させ、両者を結合させる。得られる反応性粒子(Dab)中の有機重合体成分すなわち加水分解性シランの加水分解物及び縮合物の割合は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼させた場合の質量減少%の恒量値として、例えば空気中で室温から通常800℃までの熱質量分析により求めることができる。
(V) Reactive particles (Dab)
The organic compound (Ab) having a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis is mixed with the metal oxide particles (Aa), hydrolyzed, and bonded together. The ratio of the organic polymer component, that is, the hydrolyzate and condensate of hydrolyzable silane in the resulting reactive particles (Dab) is usually the mass loss% when the dry powder is completely burned in air. The constant value can be obtained, for example, by thermal mass spectrometry from room temperature to usually 800 ° C. in air.

金属酸化物粒子(Aa)への有機化合物(Ab)の結合量は、反応性粒子(Dab)(金属酸化物粒子(Aa)及び有機化合物(Ab)の合計)を100質量%として、好ましくは、0.01質量%以上であり、さらに好ましくは、0.1質量%以上、特に好ましくは、1質量%以上である。金属酸化物粒子(Aa)に結合した有機化合物(Ab)の結合量が0.01質量%未満であると、組成物中における反応性粒子(Dab)の分散性が十分でなく、得られる硬化物の透明性、耐擦傷性が十分でなくなる場合がある。また、反応性粒子(Dab)製造時の原料中の金属酸化物粒子(Aa)の配合割合は、好ましくは、5〜99質量%であり、さらに好ましくは、10〜98質量%である。反応性粒子(Dab)を構成する金属酸化物粒子(Aa)の含有量は、反応性粒子(Dab)の65〜95質量%であることが好ましい。   The binding amount of the organic compound (Ab) to the metal oxide particles (Aa) is preferably 100% by mass of the reactive particles (Dab) (the total of the metal oxide particles (Aa) and the organic compound (Ab)). 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, and particularly preferably 1% by mass or more. When the amount of the organic compound (Ab) bonded to the metal oxide particles (Aa) is less than 0.01% by mass, the dispersibility of the reactive particles (Dab) in the composition is not sufficient, and the resulting cured product The transparency and scratch resistance of the object may not be sufficient. Moreover, the compounding ratio of the metal oxide particles (Aa) in the raw material during the production of the reactive particles (Dab) is preferably 5 to 99% by mass, and more preferably 10 to 98% by mass. The content of the metal oxide particles (Aa) constituting the reactive particles (Dab) is preferably 65 to 95% by mass of the reactive particles (Dab).

(2)分子中に1以上のアルキル基を有する加水分解性ケイ素化合物又はその加水分解物を含有するもの等(有機化合物(Ac))による化学修飾
また、金属酸化物粒子(Aa)に、分子中に1以上のアルキル基を有する加水分解性ケイ素化合物又はその加水分解物を含有するもの等(有機化合物(Ac))を反応させることができる。このような加水分解性ケイ素化合物としては、トリメチルメトキシシラン、トリブチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、1,1,1―トリメトキシ−2,2,2−トリメチル−ジシラン、ヘキサメチル−1,3−ジシロキサン、1,1,1―トリメトキシ−3,3,3−トリメチル−1,3−ジシロキサン、α−トリメチルシリル−ω−ジメチルメトキシシリル−ポリジメチルシロキサン、α−トリメチルシリル−ω−トリメトキシシリル−ポリジメチルシロキサンヘキサメチル−1,3−ジシラザン等を挙げることができる。また、分子中に1以上の反応性基を有する加水分解性ケイ素化合物を使用することもできる。分子中に1以上の反応性基を有する加水分解性ケイ素化合物は、例えば反応性基としてNH基を有するものとして、尿素プロピルトリメトキシシラン、N―(2−アミノエチル)―3―アミノプロピルトリメトキシシラン等、OH基を有するものとして、ビス(2−ヒドロキシエチル)―3―アミノトリプロピルメトキシシラン等、イソシアネート基を有するものとして3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等、チオシアネート基を有するものとして3−チオシアネートプロピルトリメトキシシラン等、エポキシ基を有するものとして(3−グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン、2−(3,4―エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等、チオール基を有するものとして、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。好ましい化合物として、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。
(2) Chemical modification with a hydrolyzable silicon compound having one or more alkyl groups in the molecule or a hydrolyzate thereof (organic compound (Ac)), etc. A hydrolyzable silicon compound having one or more alkyl groups therein or a substance containing the hydrolyzate thereof (organic compound (Ac)) can be reacted. Such hydrolyzable silicon compounds include trimethylmethoxysilane, tributylmethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dibutyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, 1,1. , 1-trimethoxy-2,2,2-trimethyl-disilane, hexamethyl-1,3-disiloxane, 1,1,1-trimethoxy-3,3,3-trimethyl-1,3-disiloxane, α-trimethylsilyl -Ω-dimethylmethoxysilyl-polydimethylsiloxane, α-trimethylsilyl-ω-trimethoxysilyl-polydimethylsiloxane hexamethyl-1,3-disilazane, and the like. A hydrolyzable silicon compound having one or more reactive groups in the molecule can also be used. Hydrolyzable silicon compounds having one or more reactive groups in the molecule are, for example, urea propyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyl having NH 2 groups as reactive groups. Trimethoxysilane or the like having an OH group, bis (2-hydroxyethyl) -3-aminotripropylmethoxysilane or the like having an isocyanate group, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane or the like having a thiocyanate group As those having an thiol group such as (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like having an epoxy group such as 3-thiocyanate propyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimeth Examples include xylsilane. A preferred compound is 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.

液状硬化性樹脂組成物中の(E)溶剤以外の成分総量100質量%中に含まれる(D)金属酸化物粒子(反応性粒子(Dab)、(Dac)である場合を含む)の使用割合は、通常5〜80質量%の範囲であり、好ましくは10〜80質量%、さらに好ましくは20〜70質量%の範囲である。この範囲を外れると反射防止効果が損なわれたり、塗膜強度が低下したりするため好ましくない。   Ratio of use of (D) metal oxide particles (including reactive particles (Dab) and (Dac)) contained in 100% by mass of the total amount of components other than (E) solvent in the liquid curable resin composition Is usually in the range of 5 to 80 mass%, preferably 10 to 80 mass%, more preferably 20 to 70 mass%. Outside this range, the antireflection effect is impaired and the coating film strength is lowered, which is not preferable.

金属酸化物粒子の数平均粒子径は、数平均粒子径が100nm以下である。数平均粒子径が100nmを超えると、金属酸化物粒子を均一に分散させることが困難となる場合がある。また、金属酸化物粒子が沈降し易くなり、保存安定性に欠ける場合がある。さらには、得られる硬化膜の透明性が低下したり、濁度(Haze値)が上昇したりする場合がある。
数平均粒子径は、10〜80nmがより好ましく、20〜50nmがさらに好ましい。
尚、「数平均粒子径」は金属酸化物粒子が凝集しているときは、一次粒子径であり、金属酸化物粒子が球形でないときは(例えば、針状ATO等)、長径(縦長)と短径(横長)の平均である。数平均粒子径は、電子顕微鏡法で測定した数平均粒子径である。
The number average particle diameter of the metal oxide particles is 100 nm or less. When the number average particle diameter exceeds 100 nm, it may be difficult to uniformly disperse the metal oxide particles. In addition, the metal oxide particles are liable to settle and lack storage stability. Furthermore, the transparency of the obtained cured film may decrease, or turbidity (Haze value) may increase.
The number average particle diameter is more preferably from 10 to 80 nm, further preferably from 20 to 50 nm.
The “number average particle diameter” is the primary particle diameter when the metal oxide particles are agglomerated, and when the metal oxide particles are not spherical (for example, acicular ATO), the long diameter (longitudinal) It is the average of the minor axis (horizontal length). The number average particle diameter is the number average particle diameter measured by electron microscopy.

(E)溶剤
液状硬化性樹脂組成物においては、層分離を生じさせるために(E−1)速揮発溶剤及び(E−2)遅揮発溶剤の2種類の溶剤を配合する必要がある。(E−1)及び(E−2)の溶剤は、それぞれ1種以上を用いる。
(E−1)速揮発溶剤
液状硬化性樹脂組成物に含まれる(E−1)速揮発溶剤は、上記(A)含フッ素重合体の溶解性が高い1種又は2種以上の溶剤である。ここで、含フッ素重合体の溶解性が高いとは、(A)含フッ素重合体を50質量%となるよう各溶剤に添加して、室温8時間攪拌したときに、目視で均一な溶液となることをいう。そして、(E−1)速揮発溶剤の相対蒸発速度は、後述の(E−2)遅揮発溶剤の相対蒸発速度よりも大きいことが必要である。ここで、「相対蒸発速度」とは、酢酸ブチルが90質量%蒸発するのに要する時間を基準とする蒸発速度の相対値をいい、詳細は、TECHNIQUES OF CHEMISTRY VOL.2 ORGANIC SOLVENTS Physical Properties and methods of purification 4th ed. (Interscience Publishers, Inc. 1986 page62)に記載のとおりである。また、(E−1)速揮発溶剤は、上記(D)金属酸化物粒子の分散安定性が低いことが好ましい。(E−1)速揮発溶剤は、相対蒸発速度が(E−2)よりも大きく、(A)含フッ素重合体の溶解性が高く、かつ、(D)金属酸化物粒子の分散安定性が低いことにより、液状硬化性樹脂組成物を、基材に塗布し、溶剤(E−1)及び(E−2)を蒸発させる過程で、(D)金属酸化物粒子を偏在化させることができる。
(E) Solvent In the liquid curable resin composition, it is necessary to blend two types of solvents, (E-1) fast volatile solvent and (E-2) slow volatile solvent, in order to cause layer separation. One or more of the solvents (E-1) and (E-2) are used.
(E-1) Fast volatile solvent (E-1) Fast volatile solvent contained in the liquid curable resin composition is one or more solvents having high solubility of the (A) fluoropolymer. . Here, the high solubility of the fluorinated polymer means that (A) the fluorinated polymer is added to each solvent so as to be 50% by mass, and when stirred at room temperature for 8 hours, Say that. The relative evaporation rate of the (E-1) fast volatile solvent needs to be larger than the relative evaporation rate of the later-described (E-2) slow volatile solvent. Here, “relative evaporation rate” refers to the relative value of evaporation rate based on the time required for 90% by mass of butyl acetate to evaporate. For details, see TECHNIQUES OF CHEMISTRY VOL.2 ORGANIC SOLVENTS Physical Properties and methods. of purification 4th ed. (Interscience Publishers, Inc. 1986 page 62). The (E-1) fast volatile solvent preferably has a low dispersion stability of the metal oxide particles (D). (E-1) The fast volatile solvent has a relative evaporation rate larger than that of (E-2), (A) the solubility of the fluoropolymer is high, and (D) the dispersion stability of the metal oxide particles. By being low, in the process of applying the liquid curable resin composition to the substrate and evaporating the solvents (E-1) and (E-2), (D) the metal oxide particles can be unevenly distributed. .

本発明で(E−1)速揮発溶剤として用いることができる溶剤としては、相対蒸発速度が概ね1.7以上の溶剤であり、具体的には、メチルエチルケトン(MEK;相対蒸発速度3.8)、イソプロパノール(IPA;1.7)、メチルイソブチルケトン(MIBK;相対蒸発速度1.6)、メチルアミルケトン(MAK;0.3)、アセトン、メチルプロピルケトン等が挙げられる。   The solvent that can be used as the (E-1) fast volatile solvent in the present invention is a solvent having a relative evaporation rate of about 1.7 or more, specifically, methyl ethyl ketone (MEK; relative evaporation rate 3.8). , Isopropanol (IPA; 1.7), methyl isobutyl ketone (MIBK; relative evaporation rate 1.6), methyl amyl ketone (MAK; 0.3), acetone, methyl propyl ketone, and the like.

(E−2)遅揮発溶剤
液状硬化性樹脂組成物に含まれる(E−2)遅揮発溶剤は、上記(D)金属酸化物粒子の分散安定性が高い、1種又は2種以上の溶剤である。ここで、(D)金属酸化物粒子の分散安定性が低いとは、(D)金属酸化物粒子分散液にガラス板を浸漬して(D)金属酸化物粒子をガラス壁に付着させ、その(B)金属酸化物粒子が付着したガラス板を各溶剤に浸漬した場合に、(D)金属酸化物粒子が該溶剤中に目視で均一に分散しないことをいう。また、(E−2)遅揮発溶剤は、上記(A)含フッ素重合体の溶解性が低いことが好ましい。
(E-2) Slow volatile solvent (E-2) Slow volatile solvent contained in the liquid curable resin composition is one or more solvents having high dispersion stability of the metal oxide particles (D). It is. Here, (D) that the dispersion stability of the metal oxide particles is low means that (D) a metal plate is immersed in the metal oxide particle dispersion and (D) the metal oxide particles are adhered to the glass wall. (B) When the glass plate to which the metal oxide particles are adhered is immersed in each solvent, (D) means that the metal oxide particles are not visually dispersed uniformly in the solvent. Moreover, it is preferable that the (E-2) slow volatile solvent has low solubility of the (A) fluoropolymer.

本発明で(E−2))遅揮発溶剤として用いることができる溶剤としては、相対蒸発速度が概ね1.7以下の溶剤であり、具体的には、メタノール(相対蒸発速度2.1)、イソプロパノール(IPA;1.7)、n−ブタノール(n−BuOH;0.5)、tert−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ等が挙げられる。   The solvent that can be used as the slow volatile solvent (E-2) in the present invention is a solvent having a relative evaporation rate of about 1.7 or less, specifically, methanol (relative evaporation rate 2.1), Isopropanol (IPA; 1.7), n-butanol (n-BuOH; 0.5), tert-butanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, ethyl cellosolve, propyl cellosolve, butyl cellosolve Etc.

本発明で用いる(E−1)速揮発溶剤及び/又は(E−2)遅揮発溶剤は、通常、上記(A)含フッ素重合体の製造に用いた溶剤をそのまま用いることができる。   As the (E-1) fast volatile solvent and / or (E-2) slow volatile solvent used in the present invention, the solvent used in the production of the (A) fluoropolymer can be used as it is.

本発明で用いる(E−1)速揮発溶剤と(E−2)遅揮発溶剤は、相溶性であることが必要である。相溶性は、組成物の具体的構成において、(E−1)速揮発溶剤と(E−2)遅揮発溶剤が分離しない程度の相溶性があれば足りる。
ここで、選択された溶剤が、本発明で用いる(E−1)速揮発溶剤又は(E−2)遅揮発溶剤のいずれに該当するかは、選択された複数の溶剤種の間で相対的に決まるものであり、それ故、相対蒸発速度が1.7のイソプロパノールは、(E−1)速揮発溶剤として用いられることもあれば、(E−2)遅揮発溶剤として用いられることもある。
The (E-1) fast volatile solvent and (E-2) slow volatile solvent used in the present invention must be compatible. It is sufficient that the compatibility is such that (E-1) the fast volatile solvent and (E-2) the slow volatile solvent are not separated in the specific configuration of the composition.
Here, whether the selected solvent corresponds to (E-1) fast volatile solvent or (E-2) slow volatile solvent used in the present invention is relative among the selected solvent types. Therefore, isopropanol having a relative evaporation rate of 1.7 may be used as (E-1) fast volatile solvent or (E-2) as slow volatile solvent. .

液状硬化性樹脂組成物中の溶剤((E−1)成分及び(E−2)成分を含む)以外の成分総量100質量部に対し、溶剤(E−1)及び溶剤(E−2)の合計量は、通常300〜5000質量部、好ましくは300〜4000質量部、より好ましくは300〜3000質量部を用いる。溶剤(E−1)と溶剤(E−2)の配合比は、1:99〜99:1の範囲で任意に選択することができる。   With respect to 100 parts by mass of the total amount of the components other than the solvent (including the (E-1) component and the (E-2) component) in the liquid curable resin composition, the solvent (E-1) and the solvent (E-2) The total amount is usually 300 to 5000 parts by mass, preferably 300 to 4000 parts by mass, more preferably 300 to 3000 parts by mass. The compounding ratio of the solvent (E-1) and the solvent (E-2) can be arbitrarily selected in the range of 1:99 to 99: 1.

(F)活性エネルギー線硬化性化合物
本発明に用いられる活性エネルギー線硬化性化合物は、分子内に2以上の重合性不飽和基を含む化合物である。この化合物は組成物の成膜性を高めるために好適に用いられ、分子内に重合性不飽和基を2以上含むものであれば特に制限はないが、例えば、メラミンアクリレート類、(メタ)アクリルエステル類、ビニル化合物類を挙げることができる。この中では、(メタ)アクリルエステル類が好ましい。
(F) Active energy ray-curable compound The active energy ray-curable compound used in the present invention is a compound containing two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. This compound is suitably used to enhance the film formability of the composition, and is not particularly limited as long as it contains two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. For example, melamine acrylates, (meth) acrylic Examples include esters and vinyl compounds. Of these, (meth) acrylic esters are preferred.

以下、本発明に用いられる(F)成分の具体例を列挙する。
(メタ)アクリルエステル類としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、エチレングルコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングルコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングルコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングルコールジ(メタ)アクリレート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、及びこれらの出発アルコール類へのエチレンオキシド又はプロピレンオキシド付加物のポリ(メタ)アクリレート類、分子内に2以上の(メタ)アクリロイル基を有するオリゴエステル(メタ)アクリレート類、オリゴエーテル(メタ)アクリレート類、オリゴウレタン(メタ)アクリレート類、及びオリゴエポキシ(メタ)アクリレート類の他、下記式(8)で示される化合物等を挙げることができる。この中では、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、下記式(8)で示される化合物が好ましい。
[式中、「Acryl」は、アクリロイル基を示す。]
Specific examples of the component (F) used in the present invention are listed below.
(Meth) acrylic esters include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di ( (Meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, Ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, and starting alcohols thereof Poly (meth) acrylates of adducts with ethylene oxide or propylene oxide, oligoesters (meth) acrylates having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule, oligoethers (meth) acrylates, oligourethanes (meth) In addition to acrylates and oligoepoxy (meth) acrylates, examples include compounds represented by the following formula (8). Among these, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and a compound represented by the following formula (8) are preferable. .
[Wherein “Acryl” represents an acryloyl group. ]

ビニル化合物類としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等を挙げることができる。   Examples of vinyl compounds include divinylbenzene, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, and triethylene glycol divinyl ether.

このような(F)成分の市販品としては、例えば、(株)三和ケミカル製 商品名:ニカラック MX−302、東亞合成(株)製 商品名:アロニックス M−400、M−408、M−450、M−305、M−309、M−310、M−315、M−320、M−350、M−360、M−208、M−210、M−215、M−220、M−225、M−233、M−240、M−245、M−260、M−270、M−1100、M−1200、M−1210、M−1310、M−1600、M−221、M−203、TO−924、TO−1270、TO−1231、TO−595、TO−756、TO−1343、TO−902、TO−904、TO−905、TO−1330、日本化薬(株)製 商品名:KAYARAD D−310、D−330、DPHA、DPCA−20、DPCA−30、DPCA−60、DPCA−120、DN−0075、DN−2475、SR−295、SR−355、SR−399E、SR−494、SR−9041、SR−368、SR−415、SR−444、SR−454、SR−492、SR−499、SR−502、SR−9020、SR−9035、SR−111、SR−212、SR−213、SR−230、SR−259、SR−268、SR−272、SR−344、SR−349、SR−601、SR−602、SR−610、SR−9003、PET−30、T−1420、GPO−303、TC−120S、HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX−220、HX−620、R−551、R−712、R−167、R−526、R−551、R−712、R−604、R−684、TMPTA、THE−330、TPA−320、TPA−330、KS−HDDA、KS−TPGDA、KS−TMPTA、共栄社化学(株)製 商品名:ライトアクリレート PE−4A、DPE−6A、DTMP−4A等を挙げることができる。   As a commercial item of such (F) component, for example, Sanwa Chemical Co., Ltd. product name: Nicarak MX-302, Toagosei Co., Ltd. product name: Aronix M-400, M-408, M- 450, M-305, M-309, M-310, M-315, M-320, M-350, M-360, M-208, M-210, M-215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M-270, M-1100, M-1200, M-1210, M-1310, M-1600, M-221, M-203, TO- 924, TO-1270, TO-1231, TO-595, TO-756, TO-1343, TO-902, TO-904, TO-905, TO-1330, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Trade name: KAYARAD D − 10, D-330, DPHA, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, SR-295, SR-355, SR-399E, SR-494, SR- 9041, SR-368, SR-415, SR-444, SR-454, SR-492, SR-499, SR-502, SR-9020, SR-9035, SR-111, SR-212, SR-213, SR-230, SR-259, SR-268, SR-272, SR-344, SR-349, SR-601, SR-602, SR-610, SR-9003, PET-30, T-1420, GPO- 303, TC-120S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620 R-551, R-712, R-167, R-526, R-551, R-712, R-604, R-684, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, KS-HDDA, KS-TPGDA, KS-TMPTA, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. product name: Light acrylate PE-4A, DPE-6A, DTMP-4A, etc. can be mentioned.

組成物中における、(F)活性エネルギー線硬化性化合物の配合割合は、通常5〜80質量%の範囲、好ましくは5〜70質量%、さらに好ましくは5〜50質量%である。活性エネルギー線硬化性化合物の配合量が過小であると、十分な塗膜強度が得られず、逆に80質量%を超えると、反射防止効果が低下してしまうため好ましくない。
液状硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線硬化性化合物を添加することにより、液状硬化性樹脂組成物を硬化することによって得られる硬化膜の特性、特に耐擦傷性、耐薬品性をさらに好ましいものとすることができる。
The blending ratio of the active energy ray-curable compound (F) in the composition is usually in the range of 5 to 80% by mass, preferably 5 to 70% by mass, and more preferably 5 to 50% by mass. If the amount of the active energy ray-curable compound is too small, sufficient coating strength cannot be obtained. Conversely, if it exceeds 80% by mass, the antireflection effect decreases, which is not preferable.
By adding an active energy ray-curable compound to the liquid curable resin composition, the properties of the cured film obtained by curing the liquid curable resin composition, particularly scratch resistance and chemical resistance are more preferable. can do.

液状硬化性樹脂組成物には、上記(A)〜(F)成分の他、任意成分として液状硬化性樹脂組成物の塗布性及び硬化後の薄膜の物性の改善や、塗膜に対する感光性の付与等を目的として(G)光重合開始剤の他、(H)種々の添加剤を添加することができる。   In addition to the components (A) to (F) described above, the liquid curable resin composition has optional coating properties of the liquid curable resin composition and improvement of the physical properties of the thin film after curing, as well as photosensitivity to the coating film. In addition to (G) the photopolymerization initiator, (H) various additives can be added for the purpose of imparting and the like.

(G)光重合開始剤
光重合開始剤の例としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、カルバゾール、キサントン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、1,1−ジメトキシデオキシベンゾイン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、チオキサントン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、トリフェニルアミン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、3−メチルアセトフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン(BTTB)、2−(ジメチルアミノ)−1−〔4−(モルフォリニル)フェニル〕−2−フェニルメチル)−1−ブタノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジル、又はBTTBとキサンテン、チオキサンテン、クマリン、ケトクマリン、その他の色素増感剤との組み合わせ等を挙げることができる。
(G) Photopolymerization initiator Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, anthraquinone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, carbazole, and xanthone. 4-chlorobenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, 1,1-dimethoxydeoxybenzoin, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1- ( 4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, triphenylamine, 2, 4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxa 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, fluorenone, fluorene, benzaldehyde, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzophenone, Michler ketone, 3-methylacetophenone, 3 , 3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone (BTTB), 2- (dimethylamino) -1- [4- (morpholinyl) phenyl] -2-phenylmethyl) -1-butanone 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, benzyl, or a combination of BTTB and xanthene, thioxanthene, coumarin, ketocoumarin, and other dye sensitizers.

これらの光重合開始剤のうち、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−(ジメチルアミノ)−1−〔4−(モルフォリニル)フェニル〕−2−フェニルメチル)−1−ブタノン等が好ましく、さらに好ましくは、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−(ジメチルアミノ)−1−〔4−(モルフォリニル)フェニル〕−2−フェニルメチル)−1−ブタノン等を挙げることができる。   Among these photopolymerization initiators, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,4,6- Trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2- (dimethylamino) -1- [4- (morpholinyl) phenyl] -2 -Phenylmethyl) -1-butanone and the like are preferable, and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2- (Dimethylamino) -1- [4- (morpholinyl) phenyl] -2-phenylmethyl ) -1-butanone, and the like.

液状硬化性樹脂組成物中の(E)溶剤以外の成分総量100質量%中の(G)光重合開始剤の配合割合は、通常0.1〜10質量%の範囲、好ましくは0.1〜5質量%、さらに好ましくは0.5〜3質量%の範囲である。光重合開始剤の配合割合が過小であると、光重合が開始されず、逆に10質量%を超えると、触媒が硬化膜中で可塑剤として作用してしまい、透明性が損なわれたり、十分な機械的強度が得られなかったりするため好ましくない。   The blending ratio of the (G) photopolymerization initiator in 100% by mass of the total component other than the (E) solvent in the liquid curable resin composition is usually in the range of 0.1 to 10% by mass, preferably 0.1 to 0.1% by mass. It is 5 mass%, More preferably, it is the range of 0.5-3 mass%. When the blending ratio of the photopolymerization initiator is too small, the photopolymerization is not started, and conversely when it exceeds 10% by mass, the catalyst acts as a plasticizer in the cured film, and the transparency is impaired. This is not preferable because sufficient mechanical strength cannot be obtained.

(H)その他の添加剤
液状硬化性樹脂組成物に添加できる添加剤としては、例えば、水酸基を有する種々のポリマーやモノマー、顔料又は染料等の着色剤、老化防止剤や紫外線吸収剤等の安定化剤、感光性酸発生剤、界面活性剤、重合禁止剤等の各種の添加剤を含有させることができる。特に、形成される硬化膜の硬度及び耐久性の改善を目的として、熱酸発生剤又は光酸発生剤を添加することが好ましく、特に、液状硬化性樹脂組成物の硬化後の透明性を低下させず、かつその溶液に均一に溶解するものを選択して用いるのが好ましい。
(H) Other additives Examples of additives that can be added to the liquid curable resin composition include, for example, various polymers and monomers having a hydroxyl group, colorants such as pigments and dyes, anti-aging agents, ultraviolet absorbers, and the like. Various additives such as an agent, a photosensitive acid generator, a surfactant, and a polymerization inhibitor can be contained. In particular, it is preferable to add a thermal acid generator or a photoacid generator for the purpose of improving the hardness and durability of the formed cured film, and in particular, the transparency after curing of the liquid curable resin composition is reduced. It is preferable to select and use one that is not dissolved and that dissolves uniformly in the solution.

(i) 水酸基を有するポリマー
液状硬化性樹脂組成物に配合することができる水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基含有共重合性単量体を共重合して得られるポリマー、ノボラック樹脂又はレゾール樹脂として公知のフェノール骨格を有する樹脂等を挙げることができる。
(i) Polymer having hydroxyl group The polymer having a hydroxyl group that can be blended in the liquid curable resin composition is obtained by copolymerizing a hydroxyl group-containing copolymerizable monomer such as hydroxyethyl (meth) acrylate, for example. Examples of the polymer, novolak resin or resol resin that can be used include resins having a known phenol skeleton.

(ii) 顔料又は染料等の着色剤
液状硬化性樹脂組成物に配合することができる着色剤としては、例えば、(1)アルミナ白、クレー、炭酸バリウム、硫酸バリウム等の体質顔料;(2)亜鉛華、鉛白、黄鉛、鉛丹、群青、紺青、酸化チタン、クロム酸亜鉛、ベンガラ、カーボンブラック等の無機顔料;(3)ブリリアントカーミン6B、パーマネントレッド6B、パーマネントレッドR、ベンジジンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等の有機顔料;(4)マゼンタ、ローダミン等の塩基性染料;(5)ダイレクトスカーレット、ダイレクトオレンジ等の直接染料;(6)ローセリン、メタニルイエロー等の酸性染料;その他を挙げることができる。
(ii) Colorant such as pigment or dye Examples of the colorant that can be blended in the liquid curable resin composition include (1) extender pigments such as alumina white, clay, barium carbonate, and barium sulfate; Inorganic pigments such as zinc white, lead white, yellow lead, red lead, ultramarine, bitumen, titanium oxide, zinc chromate, bengara, carbon black; (3) Brilliant Carmine 6B, Permanent Red 6B, Permanent Red R, Benzidine Yellow, Organic pigments such as phthalocyanine blue and phthalocyanine green; (4) basic dyes such as magenta and rhodamine; (5) direct dyes such as direct scarlet and direct orange; (6) acidic dyes such as low serine and metanyl yellow; Can be mentioned.

(iii) 老化防止剤、紫外線吸収剤等の安定化剤
液状硬化性樹脂組成物に配合することができる老化防止剤、紫外線吸収剤としては、公知のものを使用することができる。
老化防止剤の具体例としては、例えば、ジ−tert−ブチルフェノール、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、tert−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メチルヒドロキノン、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、n−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル、4,4′−[1−〔4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル〕エチリデン]ジフェノール、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン、ジフェニルアミン類、フェニレンジアミン類、フェノチアジン、メルカプトベンズイミダゾール等を挙げることができる。
(iii) Stabilizers such as anti-aging agents and UV absorbers As anti-aging agents and UV absorbers that can be added to the liquid curable resin composition, known ones can be used.
Specific examples of the antioxidant include, for example, di-tert-butylphenol, pyrogallol, benzoquinone, hydroquinone, methylene blue, tert-butylcatechol, monobenzyl ether, methylhydroquinone, amylquinone, amyloxyhydroquinone, n-butylphenol, phenol, hydroquinone Monopropyl ether, 4,4 '-[1- [4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) phenyl] ethylidene] diphenol, 1,1,3-tris (2,5-dimethyl) -4-hydroxyphenyl) -3-phenylpropane, diphenylamines, phenylenediamines, phenothiazine, mercaptobenzimidazole, and the like.

また、紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、フェニルサリシレートに代表されるサリチル酸系紫外線吸収剤、ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤等の各種プラスチックの添加剤として使用される紫外線吸収剤を利用することができる。   Specific examples of ultraviolet absorbers include, for example, salicylic acid ultraviolet absorbers represented by phenyl salicylate, benzophenone ultraviolet absorbers such as dihydroxybenzophenone and 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, and benzotriazole ultraviolet absorbers. Ultraviolet absorbers used as additives for various plastics such as cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers can be used.

(iv) 感光性酸発生剤
液状硬化性樹脂組成物に配合することができる感光性酸発生剤は、当該液状硬化性樹脂組成物の塗膜に感光性を付与し、例えば、光等の放射線を照射することによって当該塗膜を光硬化させることを可能にする物質である。この感光性酸発生剤としては、例えば、(1)ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等の各種オニウム塩;(2)β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物;(3)アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類;(4)下記一般式(9)で示されるスルホンイミド化合物類;(5)下記一般式(10)で示されるジアゾメタン化合物類;その他を挙げることができる。
(iv) Photosensitive acid generator The photosensitive acid generator that can be blended in the liquid curable resin composition imparts photosensitivity to the coating film of the liquid curable resin composition, for example, radiation such as light. Is a substance that enables the coating film to be photocured by irradiation. Examples of the photosensitive acid generator include (1) various onium salts such as iodonium salt, sulfonium salt, phosphonium salt, diazonium salt, ammonium salt, pyridinium salt; (2) β-ketoester, β-sulfonylsulfone and these Sulfone compounds such as α-diazo compounds of (3); sulfonic acid esters such as alkyl sulfonic acid esters, haloalkyl sulfonic acid esters, aryl sulfonic acid esters, and imino sulfonates; (4) sulfones represented by the following general formula (9) Imide compounds; (5) Diazomethane compounds represented by the following general formula (10);

式中、Xは、アルキレン基、アリレーン基、アルコキシレン基等の2価の基を示し、Rは、アルキル基、アリール基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン置換アリール基等の1価の基を示す。 In the formula, X represents a divalent group such as an alkylene group, an arylene group or an alkoxylene group, and R 4 represents a monovalent group such as an alkyl group, an aryl group, a halogen-substituted alkyl group or a halogen-substituted aryl group. Show.

式中、R及びRは、互いに同一でも異なってもよく、アルキル基、アリール基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン置換アリール基等の1価の基を示す。 In the formula, R 5 and R 6 may be the same as or different from each other, and represent a monovalent group such as an alkyl group, an aryl group, a halogen-substituted alkyl group, or a halogen-substituted aryl group.

感光性酸発生剤は、単独で、又は2種以上を併用することができ、さらに前記熱酸発生剤と併用することもできる。液状硬化性樹脂組成物中の(E)溶剤以外の成分総量100質量%中の感光性酸発生剤の使用割合は、好ましくは0〜20質量%、さらに好ましくは0.1〜10質量%である。この割合が過大であると、硬化膜の強度が劣ったものとなり、透明性も低下するために好ましくない。   The photosensitive acid generator can be used alone or in combination of two or more, and can also be used in combination with the thermal acid generator. The use ratio of the photosensitive acid generator in 100% by mass of the total amount of components other than the solvent (E) in the liquid curable resin composition is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass. is there. When this ratio is excessive, the strength of the cured film becomes inferior and the transparency is also lowered, which is not preferable.

(v) 界面活性剤
液状硬化性樹脂組成物には、当該液状硬化性樹脂組成物の塗布性を改善する目的で界面活性剤を配合することができる。この界面活性剤としては、公知のものを使用することができ、具体的には、例えば、各種アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤を利用することができるが、特に、硬化膜が優れた強度を有し、しかも良好な光学特性を有するものとするために、カチオン系界面活性剤を用いることが好ましい。さらには、第4級アンモニウム塩であることが好ましく、その中でも第4級ポリエーテルアンモニウム塩を用いると、埃拭き取り性がさらに改善される点で特に好ましい。第4級ポリエーテルアンモニウム塩であるカチオン系界面活性剤としては、旭電化工業社製アデカコールCC−15、CC−36、CC−42等が挙げられる。界面活性剤の使用割合は、液状硬化性樹脂組成物100質量%に対して、好ましくは5質量%以下である。
(v) Surfactant A surfactant can be added to the liquid curable resin composition for the purpose of improving the applicability of the liquid curable resin composition. As this surfactant, known ones can be used. Specifically, for example, various anionic surfactants, cationic surfactants, and nonionic surfactants can be used. In particular, a cationic surfactant is preferably used so that the cured film has excellent strength and good optical properties. Furthermore, a quaternary ammonium salt is preferable, and among them, the use of a quaternary polyether ammonium salt is particularly preferable because dust wiping property is further improved. Examples of cationic surfactants that are quaternary polyether ammonium salts include Adekacol CC-15, CC-36, and CC-42 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. The use ratio of the surfactant is preferably 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the liquid curable resin composition.

(vi) 重合禁止剤
液状硬化性樹脂組成物に配合することができる熱重合禁止剤としては、例えば、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、tert−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メチルヒドロキノン、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、n−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル、4,4′−[1−〔4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル〕エチリデン]ジフェノール、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン等を挙げることができる。この熱重合禁止剤は、液状硬化性樹脂組成物100質量%に対して、好ましくは5質量%以下で用いられる。
(vi) Polymerization inhibitor Thermal polymerization inhibitors that can be incorporated into the liquid curable resin composition include, for example, pyrogallol, benzoquinone, hydroquinone, methylene blue, tert-butylcatechol, monobenzyl ether, methylhydroquinone, amylquinone, amino Loxyhydroquinone, n-butylphenol, phenol, hydroquinone monopropyl ether, 4,4 '-[1- [4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) phenyl] ethylidene] diphenol, 1,1 , 3-tris (2,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) -3-phenylpropane and the like. This thermal polymerization inhibitor is preferably used in an amount of 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the liquid curable resin composition.

(vii) (C)及び(D)成分以外の溶剤
液状硬化性樹脂組成物には、(C)及び(D)成分以外の溶剤を添加することができる。このような溶剤の種類と配合量は、本発明の効果を損なわない範囲で自由に選択することができる。
(vii) Solvents other than the components (C) and (D) A solvent other than the components (C) and (D) can be added to the liquid curable resin composition. Such a kind and compounding quantity of a solvent can be freely selected in the range which does not impair the effect of this invention.

硬化膜は、上記の液状硬化性樹脂組成物を硬化させて得られ、2層以上の多層構造を有することを特徴とする。特に、上記(D)金属酸化物粒子が高密度に存在する1以上の層と、上記(D)金属酸化物粒子が実質的に存在しない1以下の層からなる二層以上の層構造を有していることが好ましい。   The cured film is obtained by curing the liquid curable resin composition, and has a multilayer structure of two or more layers. In particular, it has a layer structure of two or more layers consisting of (D) one or more layers in which the metal oxide particles are present at high density and one or less layers in which the (D) metal oxide particles are substantially absent. It is preferable.

上記の液状硬化性樹脂組成物から硬化膜を形成する場合、基材(適用部材)に対してコーティングすることが好ましい。このようなコーティング方法としては、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、又はインクジェット法等の方法を用いることができる。   When forming a cured film from said liquid curable resin composition, it is preferable to coat with respect to a base material (application member). As such a coating method, a dipping method, a spray method, a bar coating method, a roll coating method, a spin coating method, a curtain coating method, a gravure printing method, a silk screen method, an ink jet method, or the like can be used.

また、液状硬化性樹脂組成物を硬化する手段も特に制限されないが、例えば、加熱することが好ましい。この場合、30〜200℃で、1〜180分間加熱するのが好ましい。このように加熱することにより、基材や形成される硬化膜を損傷することなく、より効率的に反射防止性に優れた硬化膜を得ることができる。好ましくは、50〜180℃で、2〜120分間、より好ましくは、80〜150℃で、2〜60分間加熱する。   The means for curing the liquid curable resin composition is not particularly limited, but for example, heating is preferable. In this case, it is preferable to heat at 30 to 200 ° C. for 1 to 180 minutes. By heating in this way, a cured film excellent in antireflection properties can be obtained more efficiently without damaging the substrate and the formed cured film. Preferably, the heating is performed at 50 to 180 ° C. for 2 to 120 minutes, more preferably at 80 to 150 ° C. for 2 to 60 minutes.

また、活性エネルギー線を照射することによっても硬化することができる。ここで活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線等の光エネルギー線が挙げられる。ただし、一定のエネルギーレベルを有し、硬化速度が速く、しかも照射装置が比較的安価で小型である観点から、紫外線が好ましい。
この場合、例えば、紫外線照射装置(メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ等)を用いて、0.001〜10J/cmの光照射条件のもとで行なうことができるが、照射条件はこれに限定されない。0.01〜5J/cmがより好ましく、0.1〜3J/cmがさらに好ましい。また、紫外線により硬化させる場合には、硬化速度を向上させることができる放射線(光)重合開始剤を添加することが好ましい。
尚、硬化膜の硬化程度は、ゲル化率を、ソックスレー抽出器を用いて測定することにより、定量的に確認することができる。
Moreover, it can harden | cure also by irradiating an active energy ray. Here, the active energy ray is defined as an energy ray capable of decomposing a compound that generates active species to generate active species. Examples of such active energy rays include optical energy rays such as visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, and γ rays. However, ultraviolet rays are preferable from the viewpoint of having a constant energy level, a high curing rate, and a relatively inexpensive and compact irradiation apparatus.
In this case, for example, an ultraviolet irradiation device (a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp, or the like) can be used under a light irradiation condition of 0.001 to 10 J / cm 2 , but the irradiation condition is not limited to this. . 0.01-5 J / cm 2 is more preferable, and 0.1-3 J / cm 2 is more preferable. Moreover, when making it harden | cure with an ultraviolet-ray, it is preferable to add the radiation (photo) polymerization initiator which can improve a cure rate.
The degree of cure of the cured film can be quantitatively confirmed by measuring the gelation rate using a Soxhlet extractor.

液状硬化性樹脂組成物は、(B)熱硬化性化合物と(F)活性エネルギー線硬化性化合物の両方を含有するため、より効果的に硬化させるためには、上記の加熱と活性エネルギー線の照射を併用することが好ましい。加熱と活性エネルギー線の照射を併用することにより、硬化膜の耐擦傷性や耐薬品性を改善することができる。   Since the liquid curable resin composition contains both the (B) thermosetting compound and the (F) active energy ray curable compound, in order to cure more effectively, the above heating and active energy ray It is preferable to use irradiation together. By using heating and irradiation with active energy rays in combination, the scratch resistance and chemical resistance of the cured film can be improved.

液状硬化性樹脂組成物を塗布後、組成物中の溶剤(E−1)及び溶剤(E−2)が蒸発して乾燥する過程において、(D)金属酸化物粒子が塗布下地側(隣接層との境界付近)又はその反対側に偏在化する。そのため、硬化膜の一方の界面付近では、(D)金属酸化物粒子が高密度で存在し、硬化膜の他方の界面付近では、(D)金属酸化物粒子が実質的に存在しないため、低屈折率の樹脂層が形成される。従って、液状硬化性樹脂組成物からなる一の塗膜を硬化させることにより、実質的に二層以上の多層構造を有する硬化膜が得られる。これらの分離して形成される各層は、例えば、得られた膜の断面を電子顕微鏡で観察することにより確認することができる。(D)金属酸化物粒子が高密度に存在する層とは、金属酸化物粒子が集合している部分を指す概念であり、実質的に金属酸化物粒子を主成分として構成された層であるが、層内部に(A)成分等が共存する場合がある。他方、金属酸化物粒子が実質的に存在しない層とは、金属酸化物粒子が存在しない部分を指す概念であるが、本発明の効果を損なわない範囲で若干含まれていてもよい。この層は、実質的に(A)、(B)及び(F)成分の硬化物等の金属酸化物粒子以外の成分から構成された層である。本発明の硬化膜は、多くの場合、金属酸化物粒子が高密度に存在する層と金属酸化物粒子が実質的に存在しない層がそれぞれ連続した層を形成した二層構造を有する。基材にPET樹脂(易接着層を有するPET樹脂を含む)等を用いた場合、通常は、基材である層、金属酸化物粒子が高密度に存在する層、金属酸化物粒子が実質的に存在しない層が、この順番に隣接して形成される。   In the process in which the solvent (E-1) and the solvent (E-2) in the composition are evaporated and dried after coating the liquid curable resin composition, (D) the metal oxide particles are coated on the coating base side (adjacent layer). Near the boundary) and the other side. Therefore, (D) metal oxide particles are present at high density near one interface of the cured film, and (D) metal oxide particles are substantially absent near the other interface of the cured film. A resin layer having a refractive index is formed. Therefore, a cured film having a multilayer structure of two or more layers can be obtained by curing one coating film made of the liquid curable resin composition. Each layer formed by separation can be confirmed, for example, by observing a cross section of the obtained film with an electron microscope. (D) The layer in which the metal oxide particles are present at a high density is a concept indicating a portion where the metal oxide particles are aggregated, and is a layer substantially composed of the metal oxide particles as a main component. However, the component (A) may coexist in the layer. On the other hand, the layer substantially free of metal oxide particles is a concept indicating a portion where metal oxide particles are not present, but may be included a little as long as the effect of the present invention is not impaired. This layer is a layer substantially composed of components other than metal oxide particles such as cured products of components (A), (B) and (F). In many cases, the cured film of the present invention has a two-layer structure in which a layer in which metal oxide particles are present in high density and a layer in which metal oxide particles are not substantially present form a continuous layer. When a PET resin (including a PET resin having an easy-adhesion layer) or the like is used for the base material, the layer that is the base material, the layer in which metal oxide particles are present at a high density, and the metal oxide particles are substantially Layers not present in are formed adjacent in this order.

得られる硬化膜は、その膜厚方向に、屈折率が0.05〜0.8変化することが好ましく、0.1〜0.6変化することがより好ましい。更に、上記屈折率変化が前記実質的な二層構造の境界付近で主要な変化を有することが好ましい。
屈折率の変化の程度は、金属酸化物粒子の含有量、種類、含フッ素重合体の含有量、組成、及び熱硬化性化合物の含有量、種類等により調整できる。
また、硬化膜における低屈折率部分における屈折率は、例えば、1.3〜1.5であり、高屈折率部分における屈折率は、1.6〜2.2である。
The obtained cured film preferably has a refractive index of 0.05 to 0.8, more preferably 0.1 to 0.6, in the film thickness direction. Further, it is preferable that the refractive index change has a main change in the vicinity of the boundary of the substantial two-layer structure.
The degree of change in the refractive index can be adjusted by the content and type of the metal oxide particles, the content and the composition of the fluoropolymer, and the content and type of the thermosetting compound.
Moreover, the refractive index in the low refractive index part in a cured film is 1.3-1.5, for example, and the refractive index in a high refractive index part is 1.6-2.2.

以下の説明において「部」又は「%」は特記されていない限り「質量部」又は「質量%」を示す。
製造例1
(1)重合性不飽和基を有する有機化合物の合成
攪拌機付きの容器内のメルカプトプロピルトリメトキシシラン221部及びジブチルスズジラウレート1部の混合溶液に、イソホロンジイソシアネート222部を、乾燥空気中、50℃で1時間かけて滴下した後、さらに70℃で3時間攪拌した。
続いて、この反応溶液中に新中村化学製NKエステルA−TMM−3LM−N(ペンタエリスリトールトリアクリレート60質量%とペンタエリスリトールテトラアクリレート40質量%からなる。このうち、反応に関与するのは、水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートのみである。)549部を30℃で1時間かけて滴下した後、さらに60℃で10時間攪拌して反応液を得た。
この反応液中の生成物、すなわち、重合性不飽和基を有する有機化合物における残存イソシアネート量をFT−IRで測定したところ、0.1質量%以下であり、各反応がほぼ定量的に行われたことを確認した。生成物の赤外吸収スペクトルは原料中のメルカプト基に特徴的な2550カイザ−の吸収ピ−ク及び原料イソシアネ−ト化合物に特徴的な2260カイザ−の吸収ピ−クが消失し、新たにウレタン結合及びS(C=O)NH−基に特徴的な1660カイザ−のピ−ク及びアクリロキシ基に特徴的な1720カイザ−のピ−クが観察され、重合性不飽和基としてのアクリロキシ基と−S(C=O)NH−、ウレタン結合を共に有するアクリロキシ基修飾アルコキシシランが生成していることを示した。以上により、チオウレタン結合と、ウレタン結合と、アルコキシシリル基と、重合性不飽和基とを有する化合物(前記式(7−1)及び(7−2)で示される化合物(Ab))773部と反応に関与しなかったペンタエリスリトールテトラアクリレート220部の組成物(A−1)(以下、この組成物を、「アルコキシシラン1」ということがある。)を得た。
In the following description, “part” or “%” means “part by mass” or “% by mass” unless otherwise specified.
Production Example 1
(1) Synthesis of an organic compound having a polymerizable unsaturated group To a mixed solution of 221 parts of mercaptopropyltrimethoxysilane and 1 part of dibutyltin dilaurate in a vessel equipped with a stirrer, 222 parts of isophorone diisocyanate was added in dry air at 50 ° C. After dropwise addition over 1 hour, the mixture was further stirred at 70 ° C. for 3 hours.
Subsequently, NK ester A-TMM-3LM-N (made of 60% by mass of pentaerythritol triacrylate and 40% by mass of pentaerythritol tetraacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., is involved in the reaction. (Only pentaerythritol triacrylate having a hydroxyl group.) 549 parts were added dropwise at 30 ° C. over 1 hour, and then stirred at 60 ° C. for 10 hours to obtain a reaction solution.
The product in this reaction solution, that is, the amount of residual isocyanate in the organic compound having a polymerizable unsaturated group was measured by FT-IR and found to be 0.1% by mass or less, and each reaction was performed almost quantitatively. I confirmed that. In the infrared absorption spectrum of the product, the absorption peak of 2550 Kaiser characteristic of mercapto group in the raw material and the absorption peak of 2260 Kaiser characteristic of raw material isocyanate compound disappeared, and new urethane A 1660 Kaiser peak characteristic of the bond and the S (C = O) NH- group and a 1720 Kaiser peak characteristic of the acryloxy group are observed, with an acryloxy group as the polymerizable unsaturated group It was shown that -S (C = O) NH- and an acryloxy group-modified alkoxysilane having both urethane bonds were formed. As described above, 773 parts of a compound having a thiourethane bond, a urethane bond, an alkoxysilyl group, and a polymerizable unsaturated group (compound (Ab) represented by the above formulas (7-1) and (7-2)). A composition (A-1) of 220 parts of pentaerythritol tetraacrylate that was not involved in the reaction (hereinafter, this composition may be referred to as “alkoxysilane 1”) was obtained.

製造例2
(2)ウレタンアクリレート(式(8)で示される化合物)の合成
攪拌機付きの容器内のイソホロンジイソシアネート18.8部と、ジブチル錫ジラウレート0.2部とからなる溶液に対し、新中村化学製NKエステルA−TMM−3LM−N(反応に関与するのは、水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートのみである。)93部を、10℃、1時間の条件で滴下した後、60℃、6時間の条件で攪拌し、反応液とした。
この反応液中の生成物、即ち、製造例1と同様にして残存イソシアネート量をFT−IRで測定したところ、0.1質量%以下であり、反応がほぼ定量的に行われたことを確認した。また、分子内に、ウレタン結合、及びアクリロイル基(重合性不飽和基)とを含むことを確認した。
以上により、ウレタンヘキサアクリレート化合物(前記式(8)で示される化合物)が75部得られたほか、反応に関与しなかったペンタエリスリトールテトラアクリレート37部が混在している組成物(A−2)を得た。
Production Example 2
(2) Synthesis of urethane acrylate (compound represented by formula (8)) For a solution comprising 18.8 parts of isophorone diisocyanate and 0.2 part of dibutyltin dilaurate in a container equipped with a stirrer, NK manufactured by Shin-Nakamura Chemical Ester A-TMM-3LM-N (participating in the reaction is only pentaerythritol triacrylate having a hydroxyl group) 93 parts dropwise at 10 ° C. for 1 hour, then at 60 ° C. for 6 hours. The reaction solution was stirred under conditions.
The product in this reaction solution, that is, the amount of residual isocyanate was measured by FT-IR in the same manner as in Production Example 1, and was 0.1% by mass or less, confirming that the reaction was carried out almost quantitatively. did. Moreover, it confirmed that a molecule | numerator contained a urethane bond and an acryloyl group (polymerizable unsaturated group) in a molecule | numerator.
As a result, 75 parts of a urethane hexaacrylate compound (compound represented by the above formula (8)) was obtained, and 37 parts of pentaerythritol tetraacrylate not involved in the reaction was mixed (A-2). Got.

製造例3
[シリカ粒子含有ハードコート層用組成物の調製]
製造例1で製造した重合性不飽和基を含む組成物(A−1)2.32部、シリカ粒子ゾル(メチルエチルケトンシリカゾル、日産化学工業(株)製MEK−ST、数平均粒子径0.022μm、シリカ濃度30%)91.3部(シリカ粒子として27部)、イオン交換水0.12部、及びp−ヒドロキシフェニルモノメチルエーテル0.01部の混合液を、60℃、4時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル1.36部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌することで反応性粒子(分散液(A−3))を得た。この分散液(A−3)をアルミ皿に2g秤量後、175℃のホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、30.7%であった。また、分散液(A−3)を磁性るつぼに2g秤量後、80℃のホットプレート上で30分予備乾燥し、750℃のマッフル炉中で1時間焼成した後の無機残渣より、固形分中の無機含量を求めたところ、90%であった。
Production Example 3
[Preparation of silica particle-containing composition for hard coat layer]
2.32 parts of composition (A-1) containing a polymerizable unsaturated group produced in Production Example 1, silica particle sol (methyl ethyl ketone silica sol, MEK-ST manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., number average particle size 0.022 μm) , Silica concentration 30%) 91.3 parts (27 parts as silica particles), 0.12 part of ion-exchanged water, and 0.01 part of p-hydroxyphenyl monomethyl ether were stirred at 60 ° C. for 4 hours, Reactive particles (dispersion liquid (A-3)) were obtained by adding 1.36 parts of orthoformate methyl ester and further heating and stirring at the same temperature for 1 hour. When 2 g of this dispersion (A-3) was weighed on an aluminum dish, dried on a hot plate at 175 ° C. for 1 hour and weighed to determine the solid content, it was 30.7%. Further, 2 g of the dispersion (A-3) was weighed in a magnetic crucible, preliminarily dried on a hot plate at 80 ° C. for 30 minutes, and baked in a muffle furnace at 750 ° C. for 1 hour. The inorganic content was determined to be 90%.

この分散液(A−3)98.6g、組成物(A−2)3.4g、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2.1g、IRGACURE907(2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)1.2g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)33.2g、シクロヘキサノン7gを混合攪拌し、シリカ粒子含有ハードコート層用組成物(固形分濃度50%)を145g得た。   98.6 g of this dispersion (A-3), 3.4 g of composition (A-2), 2.1 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, IRGACURE907 (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl]- 2-morpholinopropan-1-one (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1.2 g, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 33.2 g, and cyclohexanone 7 g were mixed and stirred to prepare a silica particle-containing hard coat layer composition (solid) 145 g of 50% fractional concentration was obtained.

製造例4
[ジルコニア粒子含有組成物の調製]
第一稀元素化学工業(株)製、UEP−100(一次粒径10〜30nm)300部をメチルエチルケトン(MEK)700部に添加し、ガラスビーズにて168時間分散を行い、ガラスビーズを除去してジルコニア分散ゾル950部を得た。ジルコニア分散ゾルをアルミ皿に2g秤量後、120℃のホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ30%であった。このジルコニア分散ゾル100gに、製造例1で合成した組成物(A−1)0.86g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)13.4g、p−メトキシフェノール0.016g、イオン交換水0.033gの混合液を60℃、3時間撹拌後、オルト蟻酸メチルエステル0.332gを添加してさらに1時間同一温度で加熱撹拌することで、表面変性ジルコニア粒子の分散液116gを得た。この分散液116g、組成物(A−2)1.34g、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン1.26g、IRGACURE907(2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)0.76g、MEK2846gを混合攪拌し、ジルコニア粒子含有組成物(固形分濃度4%)を2964g得た。
Production Example 4
[Preparation of zirconia particle-containing composition]
300 parts of UEP-100 (primary particle size 10-30 nm) manufactured by Daiichi Rare Chemicals Co., Ltd. are added to 700 parts of methyl ethyl ketone (MEK), and dispersed for 168 hours with glass beads to remove the glass beads. As a result, 950 parts of a zirconia dispersed sol was obtained. After weighing 2 g of the zirconia-dispersed sol in an aluminum dish, it was dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour and weighed to determine the solid content, which was 30%. To 100 g of this zirconia dispersion sol, 0.86 g of the composition (A-1) synthesized in Production Example 1, 13.4 g of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 0.016 g of p-methoxyphenol, 0.033 g of ion-exchanged water. The mixture was stirred at 60 ° C. for 3 hours, 0.332 g of orthoformate methyl ester was added, and the mixture was further heated and stirred at the same temperature for 1 hour to obtain 116 g of a dispersion of surface-modified zirconia particles. 116 g of this dispersion, 1.34 g of composition (A-2), 1.26 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, IRGACURE907 (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1- ON, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.76 g and 2846 g of MEK were mixed and stirred to obtain 2964 g of a zirconia particle-containing composition (solid content concentration 4%).

製造例5
[錫ドープ酸化インジウム(ITO)粒子含有組成物の調製]
富士化学株式会社製ITOゾル(10wt% IPAゾル)700g、DPHA29.5g、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン1g、イソプロピルアルコール(IPA)1769.5gを混合し固形分濃度4%のITO粒子含有組成物を得た。
Production Example 5
[Preparation of composition containing tin-doped indium oxide (ITO) particles]
700 g ITO sol (10 wt% IPA sol) manufactured by Fuji Chemical Co., Ltd., 29.5 g DPHA, 1 g 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, isopropyl alcohol (IPA) 1769 0.5 g was mixed to obtain an ITO particle-containing composition having a solid content concentration of 4%.

製造例6
[アンチモンドープ酸化錫(ATO)粒子含有組成物の調製]
ATO粒子(石原テクノ(株)製、SN−100P、一次粒径10〜30nm)、分散剤(旭電化工業(株)製、アデカプルロニックTR−701)、及びメタノールを、90/2.78/211(重量比)の配合量で混合した(全固形分含量31%、全無機含量29.6%)。ペイントシェーカの50mlポリ瓶に、ガラスビーズ40g(TOSHINRIKO製、BZ−01)(ビーズ径0.1mm)(体積約16ml)と上記混合液(30g)を入れて、3時間分散しメジアン径80nmの分散ゾルを得た。このゾル304gに組成物(A−1)5.7g、p−メトキシフェノール0.01g、イオン交換水0.12gの混合液を60℃、3時間撹拌後、オルト蟻酸メチルエステル1.3gを添加してさらに1時間同一温度で加熱撹拌することで、表面変性ATO粒子の分散液を311g得た。この分散液278.3g、組成物(A−2)1.7g、ペンタエリスリトールトリアクリレート8.59g、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン0.88g、メタノール33g、プロピレングリコールモノメチルエーテル1675を混合攪拌し、ATO粒子含有組成物(固形分濃度5%)を2000g得た。
Production Example 6
[Preparation of antimony-doped tin oxide (ATO) particle-containing composition]
ATO particles (Ishihara Techno Co., Ltd., SN-100P, primary particle size 10-30 nm), dispersant (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., Adeka Pluronic TR-701), and methanol were mixed in 90 / 2.78 / 211 (weight ratio) was mixed (total solid content 31%, total inorganic content 29.6%). In a 50 ml plastic shaker of a paint shaker, 40 g of glass beads (manufactured by TOSHINRIKO, BZ-01) (bead diameter: 0.1 mm) (volume: about 16 ml) and the above mixed solution (30 g) were dispersed for 3 hours, and the median diameter was 80 nm. A dispersed sol was obtained. To sol 304 g, a mixed solution of 5.7 g of the composition (A-1), 0.01 g of p-methoxyphenol and 0.12 g of ion exchange water was stirred at 60 ° C. for 3 hours, and then 1.3 g of methyl orthoformate was added. Then, by further heating and stirring at the same temperature for 1 hour, 311 g of a dispersion of surface-modified ATO particles was obtained. 278.3 g of this dispersion, 1.7 g of composition (A-2), 8.59 g of pentaerythritol triacrylate, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one 0 .88 g, methanol 33 g, and propylene glycol monomethyl ether 1675 were mixed and stirred to obtain 2000 g of an ATO particle-containing composition (solid content concentration 5%).

製造例7
[AlドープZnO粒子含有組成物の調製]
酸化亜鉛粒子(堺化学製AlドープZnO粒子、一次粒径10〜20nm)、分散剤(楠本化成(株)製、ハイプラッドED151)及びプロピレングリコールモノメチルエーテルを、27.6/4.8/67.6(重量比)の配合量で混合した(全固形分含量30%、全無機含量27.6%)。ペイントシェーカの50mlポリ瓶に、ジルコニアビーズ40g(ビーズ径0.1mm)と上記混合液(30g)を入れて、8時間分散しメジアン径40nmの分散ゾルを得た。このゾル290gにペンタエリスリトールトリアクリレート10g、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン0.5g、プロピレングリコールモノメチルエーテル2138gを加え混合攪拌し、酸化亜鉛粒子含有組成物(固形分濃度4%)を2438g得た。
Production Example 7
[Preparation of Al-doped ZnO particle-containing composition]
Zinc oxide particles (Al-doped ZnO particles manufactured by Sakai Kagaku, primary particle size 10 to 20 nm), dispersant (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., Hyprad ED151) and propylene glycol monomethyl ether were mixed with 27.6 / 4.8 / 67. 6 (weight ratio) was mixed (total solid content 30%, total inorganic content 27.6%). Into a 50 ml plastic bottle of a paint shaker, 40 g of zirconia beads (bead diameter 0.1 mm) and the above mixed solution (30 g) were placed and dispersed for 8 hours to obtain a dispersion sol having a median diameter of 40 nm. To 290 g of this sol, 10 g of pentaerythritol triacrylate, 0.5 g of 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, and 2138 g of propylene glycol monomethyl ether were added and mixed and stirred. 2438 g of a particle-containing composition (solid content concentration 4%) was obtained.

製造例8
[シリカ被覆TiO粒子分散液(S−1)の調製]
シリカ被覆された酸化チタン微粉末350質量部、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド共重合体(平均重合度:約20)80質量部、イソプロピルアルコール1000質量部、ブチルセロソルブ1000質量部を加え、ガラスビーズにて10時間分散を行い、ガラスビーズを除去して、シリカ被覆酸化チタン粒子分散液(S−1)を2430質量部得た。ここで、得られたシリカ被覆TiO粒子分散液をアルミ皿上で秤量し、120℃のホットプレート上で1時間乾燥して全固形分濃度(分散液中の溶剤以外の成分総量の割合)を求めたところ、17質量%であった。また、このシリカ被覆TiO粒子分散液を磁性るつぼに秤量し、80℃のホットプレート上で30分予備乾燥した後、750℃のマッフル炉中で1時間焼成を行ない、得られた無機残渣量、及び全固形分濃度から全固形分中の無機含量を求めたところ、82質量%であった。この固形物の電子顕微鏡観察の結果、短軸平均粒子径15nm、長軸平均粒子径46nm、アスペクト比3.1であった。
Production Example 8
[Preparation of silica-coated TiO 2 particle dispersion (S-1)]
Add 350 parts by mass of silica-coated titanium oxide fine powder, 80 parts by mass of ethylene oxide-propylene oxide copolymer (average polymerization degree: about 20), 1000 parts by mass of isopropyl alcohol, and 1000 parts by mass of butyl cellosolve. Time dispersion was performed to remove the glass beads, and 2430 parts by mass of silica-coated titanium oxide particle dispersion (S-1) was obtained. Here, the obtained silica-coated TiO 2 particle dispersion was weighed on an aluminum dish and dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour to obtain a total solid concentration (ratio of total components other than the solvent in the dispersion). Was 17% by mass. The silica-coated TiO 2 particle dispersion was weighed in a magnetic crucible, pre-dried on a hot plate at 80 ° C. for 30 minutes, and then baked in a muffle furnace at 750 ° C. for 1 hour. When the inorganic content in the total solid content was determined from the total solid content concentration, it was 82% by mass. As a result of observing this solid matter with an electron microscope, the minor axis average particle size was 15 nm, the major axis average particle size was 46 nm, and the aspect ratio was 3.1.

製造例9
[球状ジルコニア粒子分散液(S−2)の製造]
球状ジルコニア微粉末(住友大阪セメント(株)社製、数平均一次粒子径0.01μm)300部をメチルエチルケトン(MEK)700部に添加し、ガラスビーズにて168時間分散を行い、カラスビーズを除去してメチルエチルケトンジルコニアゾル950部を得た。分散ゾルをアルミ皿に2g秤量後、120℃のホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、30%であった。この固形物の電子顕微鏡観察の結果、短軸平均粒子径15nm、長軸平均粒子径20nm、アスペクト比1.3であった。
Production Example 9
[Production of spherical zirconia particle dispersion (S-2)]
300 parts of spherical zirconia fine powder (manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., number average primary particle size 0.01 μm) is added to 700 parts of methyl ethyl ketone (MEK), dispersed with glass beads for 168 hours, and crow beads are removed. As a result, 950 parts of methyl ethyl ketone zirconia sol was obtained. 2 g of the dispersed sol was weighed on an aluminum dish, dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour, and weighed to determine the solid content, which was 30%. As a result of observing this solid matter with an electron microscope, the minor axis average particle size was 15 nm, the major axis average particle size was 20 nm, and the aspect ratio was 1.3.

製造例10
[含フッ素重合体の製造]
内容積1.5Lの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル500g、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)75.4g、エチルビニルエーテル34g、ヒドロキシエチルビニルエーテル41.6g、ノニオン性反応性乳化剤として「アデカリアソープNE−30」(旭電化工業株式会社製)50g、アゾ基含有ポリジメチルシロキサンとして「VPS−1001」(和光純薬工業株式会社製)7.5g及び過酸化ラウロイル1.25gを加え、ドライアイス−メタノールで−50℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
Production Example 10
[Production of fluoropolymer]
A stainless steel autoclave with an electromagnetic stirrer with an internal volume of 1.5 L was sufficiently replaced with nitrogen gas, and then 500 g of ethyl acetate, 75.4 g of perfluoro (propyl vinyl ether), 34 g of ethyl vinyl ether, 41.6 g of hydroxyethyl vinyl ether, nonionic reactivity 50 g of “Adekaria soap NE-30” (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) as an emulsifier, 7.5 g of “VPS-1001” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as an azo group-containing polydimethylsiloxane, and lauroyl peroxide After adding 25 g and cooling to −50 ° C. with dry ice-methanol, oxygen in the system was removed again with nitrogen gas.

次いでヘキサフルオロプロピレン99.1gを加え、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が60℃に達した時点での圧力は5.3×10Paを示した。その後、70℃で20時間攪拌下に反応を継続し、圧力が1.7×10Paに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出しオートクレーブを開放し、固形分濃度31%のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールと水の混合溶媒に投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、50℃にて真空乾燥を行い220gの含フッ素重合体を得た。得られたポリマーにつき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量(Mn)が37000、DSCによるガラス転移温度(Tg)が29.4℃であることを確認した。 Next, 99.1 g of hexafluoropropylene was added, and the temperature increase was started. The pressure when the temperature in the autoclave reached 60 ° C. was 5.3 × 10 5 Pa. Thereafter, the reaction was continued with stirring at 70 ° C. for 20 hours. When the pressure dropped to 1.7 × 10 5 Pa, the autoclave was cooled with water to stop the reaction. After reaching room temperature, the unreacted monomer was released and the autoclave was opened to obtain a polymer solution having a solid content concentration of 31%. The obtained polymer solution was poured into a mixed solvent of methanol and water to precipitate a polymer, washed with methanol, and vacuum dried at 50 ° C. to obtain 220 g of a fluoropolymer. About the obtained polymer, it confirmed that the polystyrene conversion number average molecular weight (Mn) by gel permeation chromatography was 37000, and the glass transition temperature (Tg) by DSC was 29.4 degreeC.

製造例11
[重合性不飽和基を有する有機化合物が結合した反応性シリカ被覆TiO粒子ゾル(化合物(Z―1))の製造]
製造例8で製造したシリカ被覆TiO粒子分散液(S−1)(全固形分濃度17%、粒子濃度15%)556部、製造例1で製造したアルコキシシラン1の溶液2.2部、蒸留水0.23部、p−ヒドロキノンモノメチルエーテル0.04部を混合し、65℃で加熱攪拌した。4時間後、オルト蟻酸メチルエステル2.5部添加し、さらに1時間加熱することで、固形分18%の反応性シリカ被覆TiO粒子ゾル(化合物(Z−1))を得た。
Production Example 11
[Production of Reactive Silica-Coated TiO 2 Particle Sol (Compound (Z-1)) Combined with Organic Compound Having Polymerizable Unsaturation Group]
556 parts of silica-coated TiO 2 particle dispersion (S-1) produced in Production Example 8 (total solid concentration 17%, particle concentration 15%), 2.2 parts of alkoxysilane 1 solution produced in Production Example 1, Distilled water 0.23 part and p-hydroquinone monomethyl ether 0.04 part were mixed and heated and stirred at 65 ° C. Four hours later, 2.5 parts of orthoformate methyl ester was added and further heated for 1 hour to obtain a reactive silica-coated TiO 2 particle sol (compound (Z-1)) having a solid content of 18%.

製造例12
[重合性不飽和基を有する有機化合物が結合した反応性アルミナ、ジルコニア被覆TiO粒子ゾル(化合物(Z―2))の製造]
アルミナ、ジルコニア被覆TiO粒子分散液(テイカ株式会社製 全固形分濃度28%、粒子濃度24%)394部、製造例1で製造したアルコキシシラン1の溶液2.2部、蒸留水0.23部、p−ヒドロキノンモノメチルエーテル0.04部を混合し、65℃で加熱攪拌した。4時間後、オルト蟻酸メチルエステル2.5部添加し、さらに1時間加熱することで、固形分25%の反応性アルミナ、ジルコニア被覆TiO粒子ゾル(化合物(Z−2))を得た。
Production Example 12
[Production of reactive alumina, zirconia-coated TiO 2 particle sol (compound (Z-2)) bonded with an organic compound having a polymerizable unsaturated group]
394 parts of alumina, zirconia-coated TiO 2 particle dispersion (Taca Co., Ltd., total solid content concentration 28%, particle concentration 24%), 2.2 parts of alkoxysilane 1 solution prepared in Production Example 1, and distilled water 0.23 Part and 0.04 part of p-hydroquinone monomethyl ether were mixed and heated and stirred at 65 ° C. Four hours later, 2.5 parts of orthoformate methyl ester was added, and further heated for 1 hour to obtain a reactive alumina having a solid content of 25% and a zirconia-coated TiO 2 particle sol (compound (Z-2)).

製造例13
[重合性不飽和基を有する有機化合物が結合した反応性ジルコニア粒子ゾル(化合物(Z
−3))の製造]
製造例9で製造した球状ジルコニア粒子分散液(S−2)(粒子濃度30%)315部、製造例1で製造したアルコキシシラン1の溶液2.2部、蒸留水0.23部、p−ヒドロキノンモノメチルエーテル0.04部を混合し、65℃で加熱攪拌した。4時間後、オルト蟻酸メチルエステル2.5部添加し、さらに1時間加熱することで、固形分31%の反応性ジルコニア粒子ゾル(化合物(Z−3))を得た。
Production Example 13
[Reactive zirconia particle sol to which an organic compound having a polymerizable unsaturated group is bonded (compound (Z
-3)) Production]
315 parts of spherical zirconia particle dispersion (S-2) (particle concentration 30%) produced in Production Example 9, 2.2 parts of solution of alkoxysilane 1 produced in Production Example 1, 0.23 parts of distilled water, p- Hydroquinone monomethyl ether (0.04 part) was mixed and heated and stirred at 65 ° C. After 4 hours, 2.5 parts of orthoformate methyl ester was added, and the mixture was further heated for 1 hour to obtain a reactive zirconia particle sol (compound (Z-3)) having a solid content of 31%.

製造例14
[重合性不飽和基を有する有機化合物が結合した反応性アルミナ、ジルコニア被覆TiO粒子ゾル(化合物(Z―4))の製造]
アルミナ、ジルコニア被覆TiO粒子分散液(テイカ株式会社製 全固形分濃度28%、粒子濃度24%)333.7部、製造例1で製造したアルコキシシラン1の溶液5.4部、蒸留水0.20部、p−ヒドロキノンモノメチルエーテル0.03部を混合し、65℃で加熱攪拌した。4時間後、オルト蟻酸メチルエステル2.2部添加し、さらに1時間加熱することで、固形分32%の反応性アルミナ、ジルコニア被覆TiO粒子ゾル(化合物(Z−4))を得た。
Production Example 14
[Production of Reactive Alumina, Zirconia-Coated TiO 2 Particle Sol (Compound (Z-4)) Combined with Organic Compound Having Polymerizable Unsaturation Group]
333.7 parts of alumina, zirconia-coated TiO 2 particle dispersion (manufactured by Teika Co., Ltd., total solid concentration 28%, particle concentration 24%), 5.4 parts of alkoxysilane 1 solution prepared in Production Example 1, distilled water 0 20 parts and 0.03 part of p-hydroquinone monomethyl ether were mixed and heated and stirred at 65 ° C. Four hours later, 2.2 parts of orthoformate methyl ester was added, and the mixture was further heated for 1 hour to obtain a reactive alumina having a solid content of 32% and a zirconia-coated TiO 2 particle sol (compound (Z-4)).

製造例15
[液状硬化性樹脂組成物1の調製]
製造例11で得られた反応性シリカ被覆TiO粒子ゾル(化合物(Z−1)、反応性粒子として50.6g。)280.9g、製造例10で得られた含フッ素重合体23.1g、熱硬化性化合物のメトキシ化メチルメラミン「サイメル303」(三井サイテック株式会社製)14.3gと硬化触媒である、「キャタリスト4050」(三井サイテック(株)製、芳香族スルホン酸化合物 有効成分濃度32%)11.9g、活性エネルギー線硬化性化合物の前記式(8)で示される製造例2で製造した組成物2.0g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製 商品名:KAYARAD DPHA−2C)5.3g光重合開始剤として2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)1.0gを溶剤のメチルエチルケトン300g、メチルイソブチルケトン320g、ターシャリーブタノール213g中に溶解させることにより、液状硬化性樹脂組成物1を得た。この液状硬化性樹脂組成物中の全固形分濃度(液状硬化性樹脂組成物中の溶剤以外の成分総量の割合)を、製造例8と同様に測定したところ8.5質量%であった。
Production Example 15
[Preparation of Liquid Curable Resin Composition 1]
Reactive silica-coated TiO 2 particle sol obtained in Production Example 11 (compound (Z-1), 50.6 g as reactive particles) 280.9 g, fluorinated polymer obtained in Production Example 10 23.1 g , 14.3 g of a thermosetting compound methoxylated methylmelamine “Cymel 303” (Mitsui Cytec Co., Ltd.) and “Catalyst 4050” (Mitsui Cytec Co., Ltd., an aromatic sulfonic acid compound active ingredient) which is a curing catalyst (Concentration 32%) 11.9 g, active energy ray-curable compound 2.0 g produced in Production Example 2 represented by the above formula (8), dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. : KAYARAD DPHA-2C) 5.3 g as a photopolymerization initiator 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-o (Irgacure 907, Ciba Specialty Ltd. Chemicals) Methyl ethyl ketone 300g of solvent 1.0 g, methyl isobutyl ketone 320 g, by dissolving in tertiary butanol 213 g, to obtain a curable liquid resin composition 1. When the total solid content concentration in this liquid curable resin composition (the ratio of the total amount of components other than the solvent in the liquid curable resin composition) was measured in the same manner as in Production Example 8, it was 8.5% by mass.

製造例16〜22
[液状硬化性樹脂組成物2〜8の調製]
組成物の各成分の配合割合を下記表1のように変えた以外は、製造例15と同様にして液状硬化性樹脂組成物2〜8を調製した。
液状硬化性樹脂組成物1〜8の固形分組成を下記表1に示す。
Production Examples 16-22
[Preparation of liquid curable resin compositions 2 to 8]
Liquid curable resin compositions 2 to 8 were prepared in the same manner as in Production Example 15 except that the blending ratio of each component of the composition was changed as shown in Table 1 below.
The solid content compositions of the liquid curable resin compositions 1 to 8 are shown in Table 1 below.

実施例1
[積層体の作製]
(1)ハードコート層の作製
製造例3で調製したシリカ粒子含有ハードコート層用組成物(固形分濃度50%)を、ワイヤーバーコータ(#12)を用いて、トリアセチルセルロースフィルム(LOFO製、膜厚80μm)に塗工した後、オーブン中80℃で1分間乾燥した。続いて、空気下、高圧水銀ランプを用いて、0.6J/cmの光照射条件で紫外線を照射することにより、硬化膜層を形成した。硬化膜層の膜厚を触針式膜厚計にて測定したところ5μmであった。
Example 1
[Production of laminate]
(1) Production of hard coat layer The silica particle-containing composition for hard coat layer (solid content concentration 50%) prepared in Production Example 3 was used to prepare a triacetyl cellulose film (manufactured by LOFO) using a wire bar coater (# 12). And then dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute. Then, the cured film layer was formed by irradiating an ultraviolet-ray on the light irradiation conditions of 0.6 J / cm < 2 > using the high pressure mercury lamp in air. It was 5 micrometers when the film thickness of the cured film layer was measured with the stylus type film thickness meter.

(2)中屈折率層の作製
製造例4で調製したジルコニア粒子含有組成物(固形分濃度4%)を、ワイヤーバーコーター(#3)を用いて、(1)で作製したハードコート層上に塗工した後、オーブン中80℃で1分間乾燥した。続いて、窒素雰囲気下、高圧水銀ランプを用いて、0.6J/cmの光照射条件で紫外線を照射することにより、硬化膜層を形成した。硬化膜層の膜厚を反射分光計にて算出したところ65nmであった。
(2) Production of Medium Refractive Index Layer On the hard coat layer produced in (1) using the zirconia particle-containing composition (solid content concentration 4%) prepared in Production Example 4 using a wire bar coater (# 3) And then dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute. Subsequently, a cured film layer was formed by irradiating ultraviolet rays under a light irradiation condition of 0.6 J / cm 2 using a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere. It was 65 nm when the film thickness of the cured film layer was computed with the reflection spectrometer.

(3)高屈折率層と低屈折率層の作製
製造例15〜22で得られた液状硬化性樹脂組成物1〜8を、それぞれ、ワイヤーバーコータ(#3)を用いて、(2)で作製した中屈折率層上に塗工した後、オーブン中140℃で2分間乾燥し、大気下、オーク製作所製コンベア式水銀ランプを用い、0.6J/cmの紫外線を照射することにより、膜厚が0.2μmの硬化膜層を形成した。
また、製造例15〜22で得られた液状硬化性樹脂組成物1〜8を、それぞれ、ワイヤーバーコータ(#3)を用いて、(2)で作製した中屈折率層上に塗工した後、オーブン中120℃で10分間加熱することにより、膜厚が0.2μmの硬化膜層を形成した。
(3) Production of High Refractive Index Layer and Low Refractive Index Layer Using the wire bar coater (# 3), the liquid curable resin compositions 1 to 8 obtained in Production Examples 15 to 22, respectively (2) After being coated on the medium refractive index layer prepared in Step 1, it was dried in an oven at 140 ° C. for 2 minutes and irradiated with 0.6 J / cm 2 of ultraviolet light in the air using a conveyor type mercury lamp manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. A cured film layer having a thickness of 0.2 μm was formed.
In addition, the liquid curable resin compositions 1 to 8 obtained in Production Examples 15 to 22 were respectively coated on the medium refractive index layer prepared in (2) using a wire bar coater (# 3). Then, the cured film layer with a film thickness of 0.2 micrometer was formed by heating at 120 degreeC for 10 minute (s) in oven.

実施例2
[積層体の作製]
(1)ハードコート層の作製
実施例1(1)と同様にして作製した。
(2)帯電防止層の作製
製造例5で調製したITO粒子含有組成物(固形分濃度4%)を、ワイヤーバーコーター(#3)を用いて、(1)で作製したハードコート層上に塗工した後、オーブン中80℃で1分間乾燥した。続いて、窒素雰囲気下、高圧水銀ランプを用いて、0.6J/cmの光照射条件で紫外線を照射することにより、硬化膜層を形成した。硬化膜層の膜厚を反射分光計にて算出したところ65nmであった。
(3)中屈折率層の作製
実施例1(2)と同様にして作製した。
(4)高屈折率層と低屈折率層の作製
製造例15〜22で得られた液状硬化性樹脂組成物1〜8を、それぞれ、ワイヤーバーコータ(#3)を用いて、(3)で作製した中屈折率層上に塗工した後、オーブン中140℃で2分間乾燥し、大気下、オーク製作所製コンベア式水銀ランプを用い、0.6J/cmの紫外線を照射することにより、膜厚が0.2μmの硬化膜層を形成した。
また、製造例15〜22で得られた液状硬化性樹脂組成物1〜8を、それぞれ、ワイヤーバーコータ(#3)を用いて、(3)で作製した中屈折率層上に塗工した後、オーブン中120℃で10分間加熱することにより、膜厚が0.2μmの硬化膜層を形成した。
Example 2
[Production of laminate]
(1) Production of Hard Coat Layer It was produced in the same manner as Example 1 (1).
(2) Preparation of antistatic layer The ITO particle-containing composition (solid content concentration 4%) prepared in Production Example 5 was applied to the hard coat layer prepared in (1) using a wire bar coater (# 3). After coating, it was dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute. Subsequently, a cured film layer was formed by irradiating ultraviolet rays under a light irradiation condition of 0.6 J / cm 2 using a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere. It was 65 nm when the film thickness of the cured film layer was computed with the reflection spectrometer.
(3) Production of medium refractive index layer It was produced in the same manner as Example 1 (2).
(4) Production of High Refractive Index Layer and Low Refractive Index Layer Using the wire bar coater (# 3), the liquid curable resin compositions 1 to 8 obtained in Production Examples 15 to 22, respectively (3) After being coated on the medium refractive index layer prepared in Step 1, it was dried in an oven at 140 ° C. for 2 minutes and irradiated with 0.6 J / cm 2 of ultraviolet light in the air using a conveyor type mercury lamp manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. A cured film layer having a thickness of 0.2 μm was formed.
In addition, the liquid curable resin compositions 1 to 8 obtained in Production Examples 15 to 22 were respectively coated on the medium refractive index layer prepared in (3) using a wire bar coater (# 3). Then, the cured film layer with a film thickness of 0.2 micrometer was formed by heating at 120 degreeC for 10 minute (s) in oven.

実施例3,4
[積層体の作製]
(1)帯電防止層の作製
製造例5で調製したITO粒子の代わりに、製造例6又は7で調製したATO粒子含有組成物(固形分濃度5%)又はAlドープZnO粒子含有組成物(固形分濃度4%)を、ワイヤーバーコーター(#3)を用いて、トリアセチルセルロースフィルム(LOFO製、膜厚80μm)上に塗工した後、オーブン中80℃で1分間乾燥した。続いて、窒素雰囲気下、高圧水銀ランプを用いて、0.6J/cmの光照射条件で紫外線を照射することにより、硬化膜層を形成した。硬化膜層の膜厚を反射分光計にて算出したところ65nmであった。
(2)ハードコート層の作製
製造例3で調製したシリカ粒子含有ハードコート層用組成物(固形分濃度50%)を、ワイヤーバーコータ(#12)を用いて、塗工した後、オーブン中80℃で1分間乾燥した。続いて、空気下、高圧水銀ランプを用いて、0.6J/cmの光照射条件で紫外線を照射することにより、硬化膜層を形成した。
(3)中屈折率層の作製
実施例1(2)と同様にして作製した。
(4)高屈折率層と低屈折率層の作製
製造例15〜22で得られた液状硬化性樹脂組成物1〜8を、それぞれ、ワイヤーバーコータ(#3)を用いて、(3)で作製した中屈折率層上に塗工した後、オーブン中140℃で2分間乾燥し、大気下、オーク製作所製コンベア式水銀ランプを用い、0.6J/cmの紫外線を照射することにより、膜厚が0.2μmの硬化膜層を形成した。
また、製造例15〜22で得られた液状硬化性樹脂組成物1〜8を、それぞれ、ワイヤーバーコータ(#3)を用いて、(3)で作製した中屈折率層上に塗工した後、オーブン中120℃で10分間加熱することにより、膜厚が0.2μmの硬化膜層を形成した。
Examples 3 and 4
[Production of laminate]
(1) Preparation of antistatic layer Instead of ITO particles prepared in Production Example 5, ATO particle-containing composition (solid content concentration 5%) prepared in Production Example 6 or 7 or Al-doped ZnO particle-containing composition (solid) After coating a triacetylcellulose film (made by LOFO, film thickness 80 μm) using a wire bar coater (# 3), it was dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute. Subsequently, a cured film layer was formed by irradiating ultraviolet rays under a light irradiation condition of 0.6 J / cm 2 using a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere. It was 65 nm when the film thickness of the cured film layer was computed with the reflection spectrometer.
(2) Production of Hard Coat Layer After coating the silica particle-containing hard coat layer composition prepared in Production Example 3 (solid content concentration 50%) using a wire bar coater (# 12), in an oven Dry at 80 ° C. for 1 minute. Then, the cured film layer was formed by irradiating an ultraviolet-ray on the light irradiation conditions of 0.6 J / cm < 2 > using the high pressure mercury lamp in air.
(3) Production of medium refractive index layer It was produced in the same manner as Example 1 (2).
(4) Production of High Refractive Index Layer and Low Refractive Index Layer Using the wire bar coater (# 3), the liquid curable resin compositions 1 to 8 obtained in Production Examples 15 to 22, respectively (3) After being coated on the medium refractive index layer prepared in Step 1, it was dried in an oven at 140 ° C. for 2 minutes and irradiated with 0.6 J / cm 2 of ultraviolet light in the air using a conveyor type mercury lamp manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. A cured film layer having a thickness of 0.2 μm was formed.
In addition, the liquid curable resin compositions 1 to 8 obtained in Production Examples 15 to 22 were respectively coated on the medium refractive index layer prepared in (3) using a wire bar coater (# 3). Then, the cured film layer with a film thickness of 0.2 micrometer was formed by heating at 120 degreeC for 10 minute (s) in oven.

実施例5
[積層体の作製]
(1)ハードコート層の作製
実施例1(1)と同様にして作製した。
(2)高屈折率層と低屈折率層の作製
製造例15〜22で得られた液状硬化性樹脂組成物1〜8を、それぞれ、ワイヤーバーコータ(#3)を用いて、(1)で作製したハードコート層上に塗工した後、オーブン中140℃で2分間乾燥し、大気下、オーク製作所製コンベア式水銀ランプを用い、0.6J/cmの紫外線を照射することにより、膜厚が0.2μmの硬化膜層を形成した。
また、製造例15〜22で得られた液状硬化性樹脂組成物1〜8を、それぞれ、ワイヤーバーコータ(#3)を用いて、(1)で作製したハードコート層上に塗工した後、オーブン中120℃で10分間加熱することにより、膜厚が0.2μmの硬化膜層を形成した。
Example 5
[Production of laminate]
(1) Production of Hard Coat Layer It was produced in the same manner as Example 1 (1).
(2) Production of High Refractive Index Layer and Low Refractive Index Layer Using the wire bar coater (# 3), the liquid curable resin compositions 1 to 8 obtained in Production Examples 15 to 22, respectively (1) After being coated on the hard coat layer prepared in Step 2 , the coating is dried in an oven at 140 ° C. for 2 minutes, and irradiated with 0.6 J / cm 2 of ultraviolet light in the atmosphere using an Oak Manufacturing conveyor type mercury lamp. A cured film layer having a thickness of 0.2 μm was formed.
Moreover, after apply | coating the liquid curable resin compositions 1-8 obtained by manufacture examples 15-22 on the hard-coat layer produced in (1), respectively using a wire bar coater (# 3). Then, a cured film layer having a film thickness of 0.2 μm was formed by heating in an oven at 120 ° C. for 10 minutes.

評価例1
[積層体の評価]
実施例1〜5で得られた積層体の断面を、透過型電子顕微鏡で観察したところ、何れの積層体においても、低屈折率層と高屈折率層が2層に層分離していることが確認された。このとき、低屈折率層が金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であり、高屈折率層が金属酸化物粒子が高密度に存在する層であった。
図11は、二層分離、分離せず(一部凝集)及び均一構造の各状態の概念を示す電子顕微鏡写真である。
得られた反射防止用積層体の反射防止性を、分光反射率測定装置(大型試料室積分球付属装置150−09090を組み込んだ自記分光光度計U−3410、日立製作所(株)製)により、波長550nmの反射率を測定して評価した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準(100%)として、反射防止用積層体(反射防止膜)の反射率を測定した。その結果、何れの積層体も波長550nmにおける反射率が1%以下であった。
Evaluation Example 1
[Evaluation of laminate]
When the cross sections of the laminates obtained in Examples 1 to 5 were observed with a transmission electron microscope, the low refractive index layer and the high refractive index layer were separated into two layers in any laminate. Was confirmed. At this time, the low refractive index layer was a layer in which metal oxide particles were not substantially present, and the high refractive index layer was a layer in which metal oxide particles were present at high density.
FIG. 11 is an electron micrograph showing the concept of each state of two-layer separation, no separation (partial aggregation), and uniform structure.
The antireflection property of the obtained antireflection laminate was measured using a spectral reflectance measuring device (a self-recording spectrophotometer U-3410 incorporating a large sample chamber integrating sphere attachment device 150-09090, manufactured by Hitachi, Ltd.), The reflectance at a wavelength of 550 nm was measured and evaluated. Specifically, the reflectance of the antireflection laminate (antireflection film) was measured using the reflectance of the deposited aluminum film as a reference (100%). As a result, all the laminates had a reflectance of 1% or less at a wavelength of 550 nm.

本発明の積層体の製造方法は、1の塗膜から、2以上の層を形成することができるため、二層以上の多層構造を有する積層体の製造工程を簡略化できる。従って、本発明の積層体の製造方法は、特に、反射防止膜、レンズ、選択透過膜フィルタ等の光学材料の形成に有利に用いることができる。また、得られる積層体は、フッ素含量が高い層を含むことができることを利用して、耐候性が要求される基材に対する塗料、耐候フィルム、コーティング、その他として好適に使用することができる。しかも、当該積層体は、基材に対する密着性に優れ、耐擦傷性が高く、良好な反射防止効果を付与することから、反射防止膜として極めて有用であり、各種の表示装置に適用することにより、その視認性を向上させることができる。   Since the manufacturing method of the laminated body of this invention can form two or more layers from one coating film, it can simplify the manufacturing process of the laminated body which has a multilayer structure of two or more layers. Therefore, the method for producing a laminate of the present invention can be advantageously used particularly for the formation of optical materials such as antireflection films, lenses, and selective transmission film filters. Moreover, the obtained laminated body can be suitably used as a paint, a weather resistant film, a coating, etc. for a substrate requiring weather resistance by utilizing the fact that a layer having a high fluorine content can be included. Moreover, since the laminate is excellent in adhesion to the substrate, has high scratch resistance, and imparts a good antireflection effect, it is extremely useful as an antireflection film and can be applied to various display devices. The visibility can be improved.

「1の塗膜から形成される2以上の層」を説明するための図である。It is a figure for demonstrating "two or more layers formed from one coating film." 「1の塗膜から形成される2以上の層」を説明するための図である。It is a figure for demonstrating "two or more layers formed from one coating film." 「1の塗膜から形成される2以上の層」を説明するための図である。It is a figure for demonstrating "two or more layers formed from one coating film." 「1の塗膜から形成される2以上の層」を説明するための図である。It is a figure for demonstrating "two or more layers formed from one coating film." 「1の塗膜から形成される2以上の層」を説明するための図である。It is a figure for demonstrating "two or more layers formed from one coating film." 本発明に係る一実施形態である反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the anti-reflective film which is one Embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the antireflection film which is other embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the antireflection film which is other embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the antireflection film which is other embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the antireflection film which is other embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the antireflection film which is other embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the antireflection film which is other embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the antireflection film which is other embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る他の実施形態である反射防止膜の断面図である。It is sectional drawing of the antireflection film which is other embodiment which concerns on this invention. 二層分離、分離せず(一部凝集)及び均一構造の各状態の概念を示す電子顕微鏡写真である。It is an electron micrograph which shows the concept of each state of bilayer separation, not isolate | separating (partial aggregation), and a uniform structure.

符号の説明Explanation of symbols

10 基材
20 ハードコート層
30 帯電防止層
40 高屈折率層
50 低屈折率層
60 中屈折率層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Base material 20 Hard-coat layer 30 Antistatic layer 40 High refractive index layer 50 Low refractive index layer 60 Medium refractive index layer

Claims (20)

基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、
前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分(A)、(B)、(C)、(D)、(E−1)、(E−2)及び(F)を含む液状硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、
この1の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、2以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。
[液状硬化性樹脂組成物]
(A)含フッ素重合体
(B)熱硬化性化合物
(C)熱酸発生剤
(D)数平均粒子径が100nm以下である金属酸化物粒子(以下、「(D)金属酸化物粒子」という)
(E−1)(A)含フッ素重合体の溶解性が高い、1種又は2種以上の溶剤(以下、「(E−1)速揮発溶剤」という)
(E−2)(D)金属酸化物粒子の分散安定性が高く、かつ、(E−1)速揮発溶剤と相溶性である、1種又は2種以上の溶剤(以下、「(E−2)遅揮発溶剤」という)
(F)活性エネルギー線硬化性化合物
かつ、(E−1)速揮発溶剤の相対蒸発速度が、(E−2)遅揮発溶剤の相対蒸発速度よりも大きい
A substrate and a method for producing a laminate having a multilayer structure thereon,
On the base material or the layer formed on the base material, the following components (A), (B), (C), (D), (E-1), (E-2) and (F) A liquid curable resin composition containing is applied to form a coating film,
A method for producing a laminate, wherein two or more layers are formed by evaporating a solvent from the coating film of 1.
[Liquid curable resin composition]
(A) fluorinated polymer (B) thermosetting compound (C) thermal acid generator (D) metal oxide particles having a number average particle diameter of 100 nm or less (hereinafter referred to as “(D) metal oxide particles” )
(E-1) One type or two or more types of solvents (hereinafter referred to as “( E-1 ) fast volatile solvent”) having high solubility of the (A) fluoropolymer.
(E-2) (D) One or two or more solvents (hereinafter referred to as “(E-)” which have high dispersion stability of metal oxide particles and are compatible with (E-1) fast volatile solvents. 2) Slow volatile solvent ")
(F) The active energy ray-curable compound and (E-1) the relative evaporation rate of the fast volatile solvent is larger than (E-2) the relative evaporation rate of the slow volatile solvent.
前記2以上の層の各層が、金属酸化物粒子が高密度に存在する層又は金属酸化物粒子が実質的に存在しない層であって、少なくとも1層は金属酸化物粒子が高密度に存在する層であることを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   Each of the two or more layers is a layer in which metal oxide particles are present in a high density or a layer in which metal oxide particles are not substantially present, and at least one layer has metal oxide particles in a high density. It is a layer, The manufacturing method of the laminated body of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記2以上の層が、2層であることを特徴とする請求項2に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 2, wherein the two or more layers are two layers. さらに、前記2以上の層を加熱することにより及び/又は放射線を照射することにより硬化させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。   Furthermore, it hardens | cures by heating the said 2 or more layer and / or irradiating a radiation, The manufacturing method of the laminated body as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 積層体が光学用部品であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the laminate is an optical component. 積層体が反射防止膜であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the laminate is an antireflection film. 前記積層体が、基材上に、少なくとも、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、請求項3に記載の2層が、
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする請求項3に記載の積層体の製造方法。
The layered product is an antireflection film in which at least a high-refractive index layer and a low-refractive index layer are stacked in this order from the side close to the substrate on the substrate, and the two layers according to claim 3 ,
It consists of a high refractive index layer and a low refractive index layer, The manufacturing method of the laminated body of Claim 3 characterized by the above-mentioned.
低屈折率層の589nmにおける屈折率が1.20〜1.55であり、
高屈折率層の589nmにおける屈折率が1.50〜2.20であって、低屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする請求項7に記載の積層体の製造方法。
The refractive index at 589 nm of the low refractive index layer is 1.20 to 1.55,
The method for producing a laminate according to claim 7, wherein the refractive index at 589 nm of the high refractive index layer is 1.50 to 2.20, which is higher than the refractive index of the low refractive index layer.
前記積層体が、基材上に、少なくとも、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層が、基材に近い側からこの順に積層されている反射防止膜であり、請求項3に記載の2層が
高屈折率層及び
低屈折率層からなる
ことを特徴とする請求項3に記載の積層体の製造方法。
The laminated body is an antireflection film in which at least a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order from the side close to the base material on the base material. The method for producing a laminate according to claim 3, wherein the two layers are composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer.
低屈折率層の589nmにおける屈折率が1.20〜1.55であり、
中屈折率層の589nmにおける屈折率が1.50〜1.90であって、低屈折率層の屈折率より高く、
高屈折率層の589nmにおける屈折率が1.51〜2.20であって、中屈折率層の屈折率より高いことを特徴とする請求項9に記載の積層体の製造方法。
The refractive index at 589 nm of the low refractive index layer is 1.20 to 1.55,
The refractive index at 589 nm of the middle refractive index layer is 1.50 to 1.90, which is higher than the refractive index of the low refractive index layer,
The method for producing a laminate according to claim 9, wherein the refractive index at 589 nm of the high refractive index layer is 1.51 to 2.20, which is higher than the refractive index of the medium refractive index layer.
さらに、基材上に、ハードコート層及び/又は帯電防止層を形成することを特徴とする請求項7〜10のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。   Furthermore, a hard-coat layer and / or an antistatic layer are formed on a base material, The manufacturing method of the laminated body as described in any one of Claims 7-10 characterized by the above-mentioned. 液状硬化性樹脂組成物中の(E−1)速揮発溶剤及び(E−2)遅揮発溶剤(以下、両者を併せて「(E)溶剤)」という)以外の成分総量100質量%中に、
(C)成分0.1〜20質量%
を含むことを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
In 100 mass% of the total amount of components other than (E-1) fast volatile solvent and (E-2) slow volatile solvent (hereinafter referred to as “(E) solvent”) in the liquid curable resin composition. ,
(C) 0.1-20 mass% of component
The manufacturing method of the laminated body as described in any one of Claims 1-11 characterized by the above-mentioned.
液状硬化性樹脂組成物中の(E)溶剤以外の成分総量100質量%中に、前記(B)成分5〜80質量%を含むことを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。   The component (B) 5 to 80% by mass is contained in 100% by mass of the total component other than the solvent (E) in the liquid curable resin composition, according to any one of claims 1 to 12. The manufacturing method of the laminated body of description. 前記液状硬化性樹脂組成物の(D)金属酸化物粒子が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズ、酸化スズ含有インジウム、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛及びインジウム含有酸化亜鉛から選択される一又は二以上の金属酸化物を主成分とする粒子であることを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。   (D) The metal oxide particles of the liquid curable resin composition contain titanium oxide, zirconium oxide, antimony-containing tin oxide, tin oxide-containing indium, silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, zinc oxide, tin oxide, and antimony. It is a particle | grain which has as a main component the 1 or 2 or more metal oxide selected from a zinc oxide and an indium containing zinc oxide, The manufacturing method of the laminated body as described in any one of Claims 1-13 characterized by the above-mentioned. . 前記液状硬化性樹脂組成物の(D)金属酸化物粒子が、多層構造を有する金属酸化物粒子であることを特徴とする請求項1〜14のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to any one of claims 1 to 14, wherein (D) the metal oxide particles of the liquid curable resin composition are metal oxide particles having a multilayer structure. . 前記液状硬化性樹脂組成物の(D)金属酸化物粒子が、重合性不飽和基を有する有機化合物と結合していることを特徴とする請求項1〜15のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。   The (D) metal oxide particle of the said liquid curable resin composition is couple | bonded with the organic compound which has a polymerizable unsaturated group, The lamination | stacking as described in any one of Claims 1-15 characterized by the above-mentioned. Body manufacturing method. 請求項1〜16のいずれか一項に記載された積層体の製造方法により、製造された積層体。   The laminated body manufactured by the manufacturing method of the laminated body as described in any one of Claims 1-16. 下記成分(A)、(B)、(C)、(D)、(E−1)、(E−2)及び(F)を含む液状硬化性樹脂組成物を硬化させて得られ、2層以上の多層構造を有することを特徴とする硬化膜。Two layers obtained by curing a liquid curable resin composition containing the following components (A), (B), (C), (D), (E-1), (E-2) and (F) A cured film having the multilayer structure described above.
[液状硬化性樹脂組成物][Liquid curable resin composition]
(A)含フッ素重合体(A) Fluoropolymer
(B)熱硬化性化合物(B) Thermosetting compound
(C)熱酸発生剤(C) Thermal acid generator
(D)数平均粒子径が100nm以下である金属酸化物粒子(以下、「(D)金属酸化物粒子」という)(D) Metal oxide particles having a number average particle diameter of 100 nm or less (hereinafter referred to as “(D) metal oxide particles”)
(E−1)(A)含フッ素重合体の溶解性が高い、1種又は2種以上の溶剤(以下、「(E−1)速揮発溶剤」という)(E-1) (A) One type or two or more types of solvents having high solubility of the fluoropolymer (hereinafter referred to as “(E-1) fast volatile solvent”)
(E−2)(D)金属酸化物粒子の分散安定性が高く、かつ、(E−1)速揮発溶剤と相溶性である、1種又は2種以上の溶剤(以下、「(E−2)遅揮発溶剤」という)(E-2) (D) One or two or more solvents (hereinafter referred to as “(E-)” which have high dispersion stability of metal oxide particles and are compatible with (E-1) fast volatile solvents. 2) Slow volatile solvent ")
(F)活性エネルギー線硬化性化合物(F) Active energy ray-curable compound
かつ、(E−1)速揮発溶剤の相対蒸発速度が、(E−2)遅揮発溶剤の相対蒸発速度よりも大きいAnd (E-1) the relative evaporation rate of the fast volatile solvent is greater than the (E-2) relative evaporation rate of the slow volatile solvent.
前記硬化膜が、前記(D)成分が高密度に存在する1以上の層と、前記(D)成分が実質的に存在しない1以下の層からなる二層以上の層構造を有する請求項18に記載の硬化膜。The cured film has a layer structure of two or more layers including one or more layers in which the component (D) is present at high density and one or less layers in which the component (D) is not substantially present. The cured film as described in 2. 下記成分(A)、(B)、(C)、(D)、(E−1)、(E−2)及び(F)を含む液状硬化性樹脂組成物を加熱することにより及び/又は放射線を照射することにより硬化させる工程を有する硬化膜の製造方法。
[液状硬化性樹脂組成物]
(A)含フッ素重合体
(B)熱硬化性化合物
(C)熱酸発生剤
(D)数平均粒子径が100nm以下である金属酸化物粒子(以下、「(D)金属酸化物粒子」という)
(E−1)(A)含フッ素重合体の溶解性が高い、1種又は2種以上の溶剤(以下、「(E−1)速揮発溶剤」という)
(E−2)(D)金属酸化物粒子の分散安定性が高く、かつ、(E−1)速揮発溶剤と相溶性である、1種又は2種以上の溶剤(以下、「(E−2)遅揮発溶剤」という)
(F)活性エネルギー線硬化性化合物
かつ、(E−1)速揮発溶剤の相対蒸発速度が、(E−2)遅揮発溶剤の相対蒸発速度よりも大きい
By heating a liquid curable resin composition containing the following components (A), (B), (C), (D), (E-1), (E-2) and (F) and / or radiation The manufacturing method of the cured film which has the process hardened | cured by irradiating.
[Liquid curable resin composition]
(A) Fluoropolymer (B) Thermosetting Compound (C) Thermal Acid Generator (D) Metal Oxide Particles with Number Average Particle Diameter of 100 nm or Less (hereinafter referred to as “(D) Metal Oxide Particles” )
(E-1) (A) One type or two or more types of solvents having high solubility of the fluoropolymer (hereinafter referred to as “(E-1) fast volatile solvent”)
(E-2) (D) One or two or more solvents (hereinafter referred to as “(E-)” which have high dispersion stability of metal oxide particles and are compatible with (E-1) fast volatile solvents. 2) Slow volatile solvent ")
(F) The active energy ray-curable compound and (E-1) the relative evaporation rate of the fast volatile solvent is larger than (E-2) the relative evaporation rate of the slow volatile solvent.
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