KR20060040239A - Method of fabricating donor substrate for laser induced thermal imaging and method of fabricating oled using the same - Google Patents

Method of fabricating donor substrate for laser induced thermal imaging and method of fabricating oled using the same Download PDF

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KR20060040239A
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Abstract

레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법 및 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공한다. 상기 제조 방법은 레이저 전사용 도너 기판을 풀어주는 단계를 구비한다. 풀어진 상기 도너 기판을 가열된 재단기를 이용하여 재단한다. 상기 재단된 도너 기판을 프레임에 부착하는 단계를 포함한다. 도너 기판을 가열된 재단기, 바람직하게는 유리 전이 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단함으로써, 상기 도너 기판을 매끄럽게 재단할 수 있고, 파티클을 방지할 수 있다. 또한, 프레임에 부착된 도너 기판을 형성한 후 도너 기판 상에 전사층을 형성함으로써, 파티클 기타 오염 발생을 억제하고 도너 기판의 처짐 또는 굴곡 형성을 억제할 수 있는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법 및 그를 이용한 유기 전계 발광 소자를 제공하는 이점이 있다. Provided are a method of manufacturing a donor substrate for laser transfer and a method of manufacturing an organic EL device. The manufacturing method includes the step of releasing the donor substrate for laser transfer. The released donor substrate is cut using a heated cutter. Attaching the cut donor substrate to a frame. By cutting the donor substrate using a heated cutting machine, preferably a cutting machine heated to a glass transition temperature, the donor substrate can be cut smoothly and particles can be prevented. In addition, by forming a transfer layer on the donor substrate after forming the donor substrate attached to the frame, a method of manufacturing a donor substrate for laser transfer, which can suppress the occurrence of particles and other contamination, and suppress the sag or bending of the donor substrate, and There exists an advantage of providing the organic electroluminescent element using the same.

유리 전이 온도, LITI, 라미네이션(lamination)Glass Transition Temperature, LITI, Lamination

Description

레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법 및 그를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법 {Method of fabricating donor substrate for Laser Induced Thermal Imaging and method of fabricating OLED using the same} Method of fabricating donor substrate for laser transfer and manufacturing method of organic electroluminescent device using same {Method of fabricating donor substrate for Laser Induced Thermal Imaging and method of fabricating OLED using the same}             

도 1a 및 도 1b는 종래의 레이저 전사용 도너 기판의 재단시 발생되는 박리된 층 및 파티클의 사진,1A and 1B are photographs of peeled layers and particles generated during cutting of a conventional donor substrate for laser transfer;

도 2a 내지 도 2f는 본 발명에 따른 프레임(frame)에 부착된 도너 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 공정순서도,2A to 2F are process flowcharts for explaining a method of manufacturing a donor substrate attached to a frame according to the present invention;

도 3은 본 발명에 따른 프레임에 부착된 도너 기판의 제조를 위해 재단된 도너 기판의 사진,3 is a photograph of a donor substrate cut for production of a donor substrate attached to a frame according to the present invention;

도 4a 내지 도 4d는 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 설명하기 위한 공정순서도들이다. 4A to 4D are process flowcharts for describing a method of manufacturing an organic EL device according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명> <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100, 200, 400 : 도너 기판 110, 310 : 도너 기판의 재단면 100, 200, 400: donor substrate 110, 310: cutting surface of the donor substrate

130, 201, 330 : 기재(base) 기판 210 : 재단기 130, 201, 330: base substrate 210: cutting machine

230, 430 : 프레임(frame) 410 : 기판 230, 430: frame 410: substrate

420 : 화소전극 440 : 전사층 420: pixel electrode 440: transfer layer

450 : 유기막층 패턴450: organic film layer pattern

본 발명은 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법 및 그를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법 관한 것으로, 보다 상세하게는 프레임(frame)에 부착된 도너(donor) 기판의 형성시, 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 것을 포함하는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법 및 유기 전계 발광 소자의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing a donor substrate for laser transfer and a method of manufacturing an organic electroluminescent device using the same, and more particularly, in the formation of a donor substrate attached to a frame, using a heated cutting machine. The manufacturing method of the laser transfer donor substrate which includes cutting, and the manufacturing method of an organic electroluminescent element.

일반적으로 평판 표시 소자인 유기 전계 발광 소자는 애노드전극과 캐소드전극 그리고, 상기 애노드전극과 캐소드전극 사이에 개재된 유기막층들을 포함한다. 상기 유기막층들은 최소한 발광층을 포함하며, 상기 발광층외에도 정공주입층, 정공수송층, 전자수송층, 전자주입층을 더욱 포함할 수 있다. 이러한 유기 전계 발광 소자는 상기 유기막층 특히, 상기 발광층을 이루는 물질에 따라서 고분자 유기 전계 발광 소자와 저분자 유기 전계 발광 소자로 나뉘어진다.In general, an organic EL device, which is a flat panel display device, includes an anode electrode and a cathode electrode, and organic layer layers interposed between the anode electrode and the cathode electrode. The organic layer may include at least a light emitting layer, and may further include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in addition to the light emitting layer. The organic electroluminescent device is divided into a polymer organic electroluminescent device and a low molecular organic electroluminescent device according to the material of the organic layer, in particular the light emitting layer.

이러한 유기 전계 발광 소자에 있어 풀칼라화를 구현하기 위해서는 상기 발광층을 패터닝해야 하는데, 상기 발광층을 패터닝하기 위한 방법으로 저분자 유기 전계 발광 소자의 경우 섀도우 마스크(shadow mask)를 사용하는 방법이 있고, 고분 자 유기 전계 발광 소자의 경우 잉크-젯 프린팅(ink-jet printing) 또는 레이저에 의한 열전사법(Laser Induced Thermal Imaging; 이하 LITI라 한다)이 있다. 이 중에서 상기 LITI는 상기 유기막층을 미세하게 패터닝할 수 있고, 대면적에 사용할 수 있으며 고해상도에 유리하다는 장점이 있을 뿐만 아니라, 상기 잉크-젯 프린팅이 습식 공정인데 반해 이는 건식 공정이라는 장점이 있다.In the organic electroluminescent device, in order to realize full colorization, the light emitting layer needs to be patterned. As a method for patterning the light emitting layer, there is a method of using a shadow mask in the case of a low molecular organic electroluminescent device. In the case of a self-organic electroluminescent device, there is ink-jet printing or laser induced thermal imaging (hereinafter referred to as LITI). Among these, LITI has the advantage of being able to finely pattern the organic film layer, to be used for a large area, and to be advantageous for high resolution, and the ink-jet printing is a wet process, whereas there is an advantage of being a dry process.

이러한 LITI에 의한 유기막층 패턴의 형성 방법은 적어도 광원, 유기 전계 발광 소자 기판 및 도너 기판을 필요로 한다. 상기 기판 상에 유기막층을 패터닝하는 것은 상기 광원에서 나온 빛이 상기 도너 기판의 광-열 변환층(LTHC)에 흡수되어 열에너지로 변환되고, 상기 열에너지에 의해 전사층을 이루는 물질이 상기 기판 상으로 전사되면서 수행된다. 이는 한국 특허 출원 제 1998-51844호 및 미국 특허 제 5,998,085호, 6,214,520호 및 6,114,088호에 개시되어 있다. The formation method of the organic film layer pattern by LITI requires a light source, an organic electroluminescent element substrate, and a donor substrate at least. Patterning the organic layer on the substrate is that light from the light source is absorbed by the light-to-heat conversion layer (LTHC) of the donor substrate is converted into thermal energy, the material forming the transfer layer by the thermal energy onto the substrate Performed while being transferred. This is disclosed in Korean Patent Application Nos. 1998-51844 and US Pat. Nos. 5,998,085, 6,214,520 and 6,114,088.

이때, 상기 도너 기판을 기판 상에 라미네이션(lamination)시키는 공정이 필요한바, 기존에는 라미네이션 롤(roll)을 이용하여 상기 도너 기판을 기판 상에 적층하였다. 즉, 전사층이 형성된 도너 기판을 라미네이션 롤에 감은 다음 컷팅(cutting)하여 이동시킨 후 상기 라미네이션 롤에 감겨진 상기 도너 기판을 기판 상에 풀어 나가면서 적층하였다. 이러한 라미네이션 방법은 간단하기는 하지만, 유기 전계 발광 소자의 특성을 저하시킬 수 있는 문제점이 있다. 즉, 플레시블(flexible)한 도너 기판이 라미네이션 롤에 감기면서 발생하는 크랙(crack) 또는 파티클(particle)과 같은 오염 물질이 발생할 수 있다. 특히, 도너 기판 내의 전사층을 형성하는 공정과 LITI를 위한 라미네이션 공정이 서로 분리되어 이루어지므 로, 이들 공정 사이에서 발생할 수 있는 파티클 기타 오염으로 인하여 유기 전계 발광 소자의 특성이 저하될 수 있다는 문제점이 있다. 또한, 상기 도너 기판의 재단시 상기 도너 기판을 이루고 있는 기재 기판이 박리될 수 있으며, 이로 인하여 파티클이 발생할 수 있다.In this case, a process of laminating the donor substrate on the substrate is required. In the past, the donor substrate was laminated on the substrate using a lamination roll. That is, the donor substrate on which the transfer layer is formed is wound on a lamination roll and then cut and moved, and the donor substrate wound on the lamination roll is laminated while being unrolled onto the substrate. Although the lamination method is simple, there is a problem that can lower the characteristics of the organic EL device. That is, contaminants such as cracks or particles generated when the flexible donor substrate is wound on the lamination roll may be generated. In particular, since the process of forming the transfer layer in the donor substrate and the lamination process for LITI are separated from each other, the characteristics of the organic EL device may be deteriorated due to particle or other contamination that may occur between these processes. have. In addition, when cutting the donor substrate, the base substrate constituting the donor substrate may be peeled off, and thus particles may be generated.

도 1a 및 도 1b는 종래의 레이저 전사용 도너 기판의 재단시 발생되는 박리된 층 및 파티클의 사진이다.  1A and 1B are photographs of peeled layers and particles generated during cutting of a conventional donor substrate for laser transfer.

도 1a를 참조하면, 도너 기판(100)을 기판 상에 라미네이션하기 위해 재단기를 이용하여 재단하였는바, 도너 기판의 재단면(110)이 매끄럽게 형성되지 아니하고, 박리된 부분(120)이 형성되었음을 알 수 있다. 즉, 상기 도너 기판을 이루고 있는 기재 기판(130)이 매끄럽게 재단되지 아니하고 박리되었음을 알 수 있다. Referring to FIG. 1A, the cutting surface 110 of the donor substrate was cut using a cutting machine to laminate the donor substrate 100 on the substrate, and the cut surface 110 of the donor substrate was not smoothly formed, but the peeled portion 120 was formed. Can be. That is, it can be seen that the base substrate 130 constituting the donor substrate is peeled off without being smoothly cut.

도 1b를 참조하면, 도너 기판의 재단시 상기 도너 기판을 이루고 있는 기재 기판 또는 다른 층에서부터 박리되어 떨어져나간 물질이 파티클(130)로 작용함을 알 수 있다. Referring to FIG. 1B, it can be seen that when the donor substrate is cut, a material peeled off from the base substrate or another layer constituting the donor substrate serves as the particle 130.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 도너 기판을 재단하는 공정 및 도너 기판 상에 전사층을 형성하고 상기 도너 기판을 기판 상에 라미네이션하는 공정 사이에서 발생할 수 있는 파티클 기타 오염 발생을 억제할 뿐만 아니라, 전사 효율을 향상시킬 수 있는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법 및 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
The technical problem to be achieved by the present invention is to solve the problems of the prior art described above, it may occur between the process of cutting the donor substrate and the process of forming a transfer layer on the donor substrate and laminating the donor substrate on the substrate. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a donor substrate for laser transfer and a method of manufacturing an organic electroluminescent device which can not only suppress particles and other contamination, but also improve transfer efficiency.

상기 기술적 과제들을 이루기 위하여 본 발명의 일측면은 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법을 제공한다. 상기 제조 방법은 레이저 전사용 도너 기판을 풀어주는 단계를 구비한다. 풀어진 상기 도너 기판을 가열된 재단기를 이용하여 재단한다. 상기 재단된 도너 기판을 프레임에 부착하는 단계를 포함한다. One aspect of the present invention to achieve the above technical problem provides a method of manufacturing a donor substrate for laser transfer. The manufacturing method includes the step of releasing the donor substrate for laser transfer. The released donor substrate is cut using a heated cutter. Attaching the cut donor substrate to a frame.

상기 기술적 과제들을 이루기 위하여 본 발명의 다른 일측면은 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공한다. 상기 제조 방법은 화소전극이 형성된 기판을 제공하는 단계를 구비한다. 상기 기판 전면에 상기 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법으로 제조된 도너 기판을 라미네이션(lamination)한다. 상기 도너 기판의 소정 영역에 레이저를 조사하여 상기 화소전극 상에 유기막층 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. Another aspect of the present invention to achieve the above technical problem provides a method of manufacturing an organic electroluminescent device. The manufacturing method includes providing a substrate on which a pixel electrode is formed. The donor substrate manufactured by the method of manufacturing the laser transfer donor substrate is laminated on the entire surface of the substrate. Irradiating a laser to a predetermined region of the donor substrate to form an organic layer pattern on the pixel electrode.

상기 도너 기판을 프레임에 부착한 후에 상기 도너 기판 상에 전사층을 형성하는 것이 바람직하다. It is preferable to form a transfer layer on the donor substrate after attaching the donor substrate to a frame.

상기 도너 기판을 기재 기판의 유리 전이 온도 이상의 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단할 수 있으며, 기재 기판의 유리 전이 온도로 가열된 재단기를 사용하는 것이 바람직하다. The donor substrate can be cut using a cutting machine heated to a temperature above the glass transition temperature of the base substrate, and it is preferable to use a cutting machine heated to the glass transition temperature of the base substrate.

상기 기재 기판은 PET(Poly Ethylene Terephthalate)로 이루어진 것일 수 있으며, 상기 도너 기판을 상기 PET의 유리 전이 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단할 수 있다. The base substrate may be made of poly ethylene terephthalate (PET), and the donor substrate may be cut using a cutting machine heated to the glass transition temperature of the PET.

상기 도너 기판을 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 단계는 상기 도너 기판을 상기 도너 기판의 진행 방향으로 재단하는 단계 및 상기 도너 기판을 상기 도너 기판의 진행 방향과 수직으로 재단하는 단계를 포함할 수 있다. Cutting the donor substrate using a heated cutting machine may include cutting the donor substrate in a traveling direction of the donor substrate and cutting the donor substrate perpendicular to a traveling direction of the donor substrate. .

상기 유기막층 패턴은 발광층, 정공주입층, 정공전달층, 전자전달층 및 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택되는 1종의 단일층일 수 있으며 또한, 2종 이상의 다중층일 수 있다. The organic layer pattern may be a single layer selected from the group consisting of a light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer and an electron injection layer, and may be two or more types of multilayers.

이하, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일한 참조 번호는 동일한 구성 요소를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings in order to describe the present invention in more detail. Like numbers refer to like elements throughout the specification.

도 2a 내지 도 2f는 본 발명에 따른 프레임(frame)에 부착된 도너 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 공정순서도이고, 도 3은 본 발명에 따른 프레임에 부착된 도너 기판의 제조를 위해 재단된 도너 기판의 사진이다. 2A to 2F are process flow charts for explaining a method of manufacturing a donor substrate attached to a frame according to the present invention, and FIG. 3 is a donor cut to manufacture a donor substrate attached to a frame according to the present invention. Photo of the substrate.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 롤 형태의 도너 기판(200)을 풀어준다. 상기 롤 형태의 도너 기판(200) 내에는 전사층이 형성되어 있지 않다.2A and 2B, the donor substrate 200 in a roll form is released. The transfer layer is not formed in the rolled donor substrate 200.

상기 전사층이 형성되어 있지 않은 도너 기판(200)은 일반적으로 기재 기판(201) 및 광-열 변환층(202)을 포함하고 있으며, 전사물질의 손상 방지 및 부착력을 향상시키기 위한 중간층(203)을 더욱 포함할 수 있다. The donor substrate 200 in which the transfer layer is not formed generally includes a substrate substrate 201 and a light-to-heat conversion layer 202, and an intermediate layer 203 for preventing damage to the transfer material and improving adhesion. It may further include.

롤 형태의 상기 도너 기판(200)을 풀어주는 단계 후에 상기 도너 기판(200)을 재단하는 단계가 이루어 진다. 상기 도너 기판(200)을 재단하는 단계는 상기 롤 형태의 도너 기판을 시트 형태의 도너 기판으로 재단하는 단계를 의미한다. 상기 도너 기판(200)을 재단하는 방법에는 여러가지 방법이 있을 수 있으며, 본 실시예에서는 상기 도너 기판(200)을 상기 도너 기판의 진행 방향으로 재단하는 단계 및 상기 도너 기판을 상기 도너 기판의 진행 방향과 수직으로 재단하는 단계로 나누어 재단하는 방법을 예시하고 있다. 또한, 상기 도너 기판을 후술할 프레임의 크기에 맞게 한번에 재단하여 사용할 수도 있다. After releasing the donor substrate 200 in the form of a roll, the donor substrate 200 may be cut. Cutting the donor substrate 200 refers to cutting the donor substrate in a roll form into a donor substrate in a sheet form. There may be various methods for cutting the donor substrate 200. In the present embodiment, the cutting of the donor substrate 200 in the advancing direction of the donor substrate and the donor substrate in the advancing direction of the donor substrate It shows how to cut by dividing into two stages. In addition, the donor substrate may be cut and used at a time to fit the size of the frame to be described later.

도 2c를 참조하면, 적당하게 풀어진 상기 롤 형태의 도너 기판(200)을 재단기(210)를 사용하여 상기 롤 형태의 도너 기판의 진행 방향으로 재단한다. 이어서, 상기 도너 기판(200)을 가열된 재단기(210)를 이용하여 재단한다. 이때, 상기 도너 기판(200)을 기재 기판(201)의 유리 전이 온도(Tg) 이상의 온도로 가열된 재단기(210)를 이용하여 재단할 수 있다. 상기 기재 기판(201)으로 다양한 고분자 물질을 사용할 수 있으며, 각각의 고분자 물질마다 고유의 유리 전이 온도를 가지고 있다. 상기 유리 전이 온도라 함은 물질이 연화되는 온도를 말하며, 상기 유리 전이는 고분자 물질에서 일어나는 현상이다. 즉, 고분자 물질은 유리 전이 온도 이상의 온도에서는 고무상태 처럼 작용하고, 유리 전이 온도 이하의 온도에서는 유리와 같이 딱딱하고 깨지기 쉬운 상태로 작용한다. Referring to FIG. 2C, the roll-shaped donor substrate 200 is appropriately cut in the traveling direction of the roll-shaped donor substrate by using the cutting machine 210. Subsequently, the donor substrate 200 is cut using the heated cutting machine 210. In this case, the donor substrate 200 may be cut using the cutting machine 210 heated to a temperature higher than or equal to the glass transition temperature Tg of the base substrate 201. Various polymer materials may be used as the substrate substrate 201, and each polymer material has a unique glass transition temperature. The glass transition temperature refers to the temperature at which the material is softened, and the glass transition is a phenomenon occurring in the polymer material. That is, the polymer material acts like a rubber state at a temperature above the glass transition temperature, and acts as a hard and brittle state like glass at a temperature below the glass transition temperature.

상기 기재 기판(201)의 유리 전이 온도 이상의 온도로 가열된 재단기(210)를 이용하여 상기 도너 기판(200)을 재단하면, 상기 기재 기판(201)은 연화되어 그 모양을 잃어버리게 된다. 따라서, 상기 재단기(210)에 의해서 상기 도너 기판(200)을 이루고 있는 기재 기판(201), 광-열 변환층(202) 및 중간층(203)은 재단되고, 상기 기재 기판(201)의 모양을 잃어버리고 녹은 부분이 상기 도너 기판(200)의 재단면을 봉합하게 된다. 따라서, 상기 도너 기판(200)을 매끄럽게 재단할 수 있으며, 상기 도너 기판(200)을 이루고 있는 기재 기판(201) 또는 다른 층에서 발생될 수 있는 파티클을 막을 수 있다. When the donor substrate 200 is cut using the cutting machine 210 heated to a temperature above the glass transition temperature of the substrate substrate 201, the substrate substrate 201 is softened and loses its shape. Accordingly, the substrate substrate 201, the light-to-heat conversion layer 202, and the intermediate layer 203 constituting the donor substrate 200 are cut by the cutter 210, and the shape of the substrate substrate 201 is cut. The lost and melted portion seals the cut surface of the donor substrate 200. Therefore, the donor substrate 200 may be cut smoothly, and particles that may be generated in the base substrate 201 or another layer constituting the donor substrate 200 may be prevented.

도 3을 참조하면, 도너 기판(300)을 상기 기재 기판(330)의 유리 전이 온도 이상의 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단한 경우, 그 재단면(310)이 매끄럽게 재단되었으며, 상기 도너 기판(300)을 이루고 있는 기재 기판(330)에 박리된 부분이 형성되지 않았음을 알 수 있다. Referring to FIG. 3, when the donor substrate 300 is cut using a cutting machine heated to a temperature above the glass transition temperature of the base substrate 330, the cutting surface 310 is cut smoothly, and the donor substrate ( It can be seen that the peeled portion is not formed in the base substrate 330 constituting the 300.

도 2c를 참조하면, 상기 도너 기판(200)을 상기 기재 기판(201)의 유리 전이 온도로 가열된 재단기(210)를 이용하여 재단할 수 있다. Referring to FIG. 2C, the donor substrate 200 may be cut using the cutting machine 210 heated to the glass transition temperature of the substrate substrate 201.

상기 기재 기판(201)로서 예를 들어, PET를 사용할 수 있으며, 상기 PET의 유리 전이 온도는 74℃이다. 따라서, 상기 도너 기판(200)을 유리 전이 온도인 74℃ 이상의 온도로 가열된 재단기(210)를 이용하여 재단하면, 상기 도너 기판(200)을 매끄럽게 재단할 수 있으며, 파티클 발생을 방지할 수도 있다. 또한, 상기 PET는 유리 전이 온도인 74℃에서 연화되므로 상기 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단할 수 있다. 그러나, 반드시 유리 전이 온도 이상의 온도 뿐만 아니라, 상기 유리 전이 온도보다 낮은 경우에도 기재 기판의 변형이 가능할 경우에는 유리 전이 온도 보다 약간 낮은 온도로 재단기를 가열하여 사용할 수도 있을 것이다.As the base substrate 201, for example, PET may be used, and the glass transition temperature of the PET is 74 ° C. Therefore, when the donor substrate 200 is cut using the cutting machine 210 heated to a temperature of 74 ° C. or higher, which is a glass transition temperature, the donor substrate 200 may be cut smoothly and particles may be prevented. . In addition, the PET is softened at a glass transition temperature of 74 ℃ can be cut using a cutting machine heated to the temperature. However, not only the temperature above the glass transition temperature, but also when the substrate substrate is deformable even when the temperature is lower than the glass transition temperature, the cutting machine may be heated and used at a temperature slightly lower than the glass transition temperature.

도 2d를 참조하면, 상기 롤 형태의 도너 기판의 진행 방향으로 재단된 상기 도너 기판(200)을 상기 기재 기판(201)의 유리 전이 온도 이상의 온도로 가열된 재 단기(210)를 이용하여 상기 롤 형태의 도너 기판의 진행 방향과 수직으로 재단한다. 즉, 롤 형태의 도너 기판(200)을 시트 형태의 도너 기판(200)으로 재단한다. Referring to FIG. 2D, the donor substrate 200 cut in the advancing direction of the donor substrate in the form of a roll is heated by using a reductor 210 heated to a temperature above the glass transition temperature of the substrate substrate 201. The donor substrate is shaped perpendicular to the advancing direction. That is, the donor substrate 200 in a roll form is cut into the donor substrate 200 in a sheet form.

도 2e 및 도 2f를 참조하면, 시트 형태로 재단된 도너 기판(200)을 프레임(230)에 부착한다. 본 발명에서는 상기한 바와 같이 파티클 발생을 억제하고 전사효율을 향상시키기 위하여 프레임(230)에 상기 기재 기판(201)의 유리 전이 온도 이상의 온도로 가열된 재단기(210)를 이용하여 재단된 도너 기판(200)을 부착하여 사용한다. 다양한 형태를 갖는 프레임을 사용할 수 있으며, 본 실시예에서는 상기 재단된 도너 기판(200)이 상기 프레임에 부착되는 영역을 제외하고는 사각형 모양으로 빈 공간이 형성되어 있는 프레임(230)을 사용하고 있음을 알 수 있다. 2E and 2F, the donor substrate 200 cut in a sheet form is attached to the frame 230. In the present invention, the donor substrate cut using the cutting machine 210 heated to a temperature higher than the glass transition temperature of the base substrate 201 in the frame 230 in order to suppress particle generation and improve transfer efficiency as described above. 200) is attached and used. Frames having various shapes can be used, and in the present embodiment, the cut donor substrate 200 uses a frame 230 in which an empty space is formed in a rectangular shape except for a region to which the cut donor substrate 200 is attached. It can be seen.

상기 프레임에 부착된 도너 기판을 이용하여 유기 전계 발광 소자를 제조할 경우, 상기 빈 공간으로 레이저가 조사되어 전사 공정이 진행되므로, 유기막 패턴이 형성될 모든 화소전극에 레이저가 조사될수 있도록 적당한 크기로 상기 프레임(230)에 빈 공간을 형성한다. When manufacturing an organic EL device using a donor substrate attached to the frame, since a laser is irradiated into the empty space and a transfer process is performed, an appropriate size so that the laser can be irradiated to all pixel electrodes on which the organic layer pattern is to be formed. To form an empty space in the frame 230.

또한, 상기 시트 형태로 재단된 도너 기판(200)은 상기 프레임(230)의 일면에 부착되어 있음을 알 수 있다. In addition, it may be seen that the donor substrate 200 cut into the sheet form is attached to one surface of the frame 230.

도시하지 않았으나, 상기 도너 기판을 프레임에 부착한 후에 상기 도너 기판 상에 전사층을 형성한다. 종래에는 롤 형태의 도너 기판에 전사층이 미리 형성되어 있었는바, 크랙 및 파티클이 많이 발생할 수 있었으나, 본 발명에서는 상기한 바와 같이 도너 기판(200)을 프레임(230)에 부착한 후에 상기 전사층을 형성함으로써 크랙 및 파티클 발생을 방지할 수 있다. 또한, 상기 도너 기판(200)이 처지거나 굴곡 이 형성되는 것을 방지할 수 있다. Although not shown, a transfer layer is formed on the donor substrate after attaching the donor substrate to a frame. Conventionally, since a transfer layer was previously formed on a roll-shaped donor substrate, a lot of cracks and particles may occur, but in the present invention, as described above, the transfer layer is attached to the frame 230 after the donor substrate 200 is attached to the frame 230. By forming the cracks and particles can be prevented. In addition, the donor substrate 200 may be prevented from sagging or bending.

도 4a 내지 도 4d는 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 설명하기 위한 공정순서도들이다. 4A to 4D are process flowcharts for describing a method of manufacturing an organic EL device according to the present invention.

도 4a를 참조하면, 화소전극(420)이 형성되어 있는 기판(410)을 제공한다. Referring to FIG. 4A, a substrate 410 on which a pixel electrode 420 is formed is provided.

도 4b를 참조하면, 상술한 본 발명에 따른 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법에 의해 제조된 프레임(430)에 부착된 도너 기판(400) 상에 전사층(440)을 형성한다. 상기 전사층(440)은 일반적인 코팅 방법인 압출, 스핀, 나이프 코팅 방법, 진공 증착법, CVD 등의 방법을 이용하여 형성할 수 있다. Referring to FIG. 4B, the transfer layer 440 is formed on the donor substrate 400 attached to the frame 430 manufactured by the method of manufacturing the laser transfer donor substrate according to the present invention. The transfer layer 440 may be formed using a general coating method such as extrusion, spin, knife coating, vacuum deposition, CVD, or the like.

도 4c를 참조하면, 화소전극(420)이 형성된 기판(410) 상에 전사층(440)이 형성되어 있는 프레임(430)에 부착된 도너 기판(400)을 라미네이션한다. Referring to FIG. 4C, the donor substrate 400 attached to the frame 430 having the transfer layer 440 formed on the substrate 410 on which the pixel electrode 420 is formed is laminated.

상기한 바와 같이, 본 발명에서는 도너 기판(400)을 프레임(120)에 부착한 후 라미네이션하므로 상기 화소전극(420)이 형성된 기판(410)과의 밀착이 용이하고 진공 유지가 좋아 전사효율을 향상시킬 수 있다. As described above, in the present invention, since the donor substrate 400 is attached to the frame 120 and laminated, the donor substrate 400 is easily adhered to the substrate 410 on which the pixel electrode 420 is formed, and the vacuum is maintained, thereby improving the transfer efficiency. You can.

도 4d를 참조하면, 전사층(440)이 형성되어있는 도너 기판(400)에 레이저를 조사하여 상기 화소전극(420) 상에 유기막층 패턴(450)을 형성한다. Referring to FIG. 4D, the donor substrate 400 having the transfer layer 440 is irradiated with a laser to form an organic layer pattern 450 on the pixel electrode 420.

상기 유기막층 패턴(450)을 형성하는 공정은 N2 분위기에서 이루어질 수 있다. 일반 대기중에는 산소 성분이 존재하므로 전사되는 상기 유기막층 패턴(450)이 산화될 우려가 있기 때문에 산소 성분을 없앤 질소 분위기에서 상기 전사 공정을 수행할 수 있다. 또한, 상기 전사 공정은 진공 분위기에서 이루어질 수 있는바, 상 기한 라미네이션 공정시 도너 기판과 기판 사이의 기포 발생을 억제할 수 있는 효과가 있다. The process of forming the organic layer pattern 450 may be performed in an N 2 atmosphere. Since an oxygen component is present in the general atmosphere, the organic layer layer pattern 450 transferred may be oxidized, and thus the transfer process may be performed in a nitrogen atmosphere in which the oxygen component is removed. In addition, the transfer process can be performed in a vacuum atmosphere, there is an effect that can suppress the generation of bubbles between the donor substrate and the substrate during the lamination process.

상기 전사 공정에서 형성되는 유기막층 패턴은 발광층, 정공주입층, 정공전달층, 전자전달층 및 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택되는 1종의 단일층일 수 있으며 또한, 2종 이상의 다중층일 수도 있다.The organic layer pattern formed in the transfer process may be one single layer selected from the group consisting of a light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transfer layer, and an electron injection layer, or may be two or more multilayers.

상기 전사 공정 후에, 상기 유기막층 패턴 상에 캐소드전극을 형성하여 유기 전계 발광 소자를 완성한다. After the transfer process, a cathode is formed on the organic layer pattern to complete the organic EL device.

상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 프레임에 부착된 도너 기판을 형성하기 위해 상기 도너 기판을 재단하는 공정시, 가열된 재단기 바람직하게는 기재 기판의 유리 전이 온도 이상의 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단함으로써, 상기 도너 기판을 매끄럽게 재단할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 도너 기판을 이루고 있는 기재 기판 또는 다른 층에서 발생할 수 있는 파티클을 방지할 수 있다. 또한, 프레임에 부착된 도너 기판을 형성한 후 도너 기판 상에 전사층을 형성함으로써, 파티클 기타 오염 발생을 억제하고 도너 기판의 처짐 또는 굴곡 형성을 억제할 수 있는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법을 제공하는 이점이 있다. 또한, 상기 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법을 이용하여, 도너 기판과 기판과의 밀착을 용이하게 하고 유기막층 패턴의 불량 발생을 감소시키며 진공 유지가 좋아 전사 효율을 향상시킬 수 있는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공하는 이점이 있다. According to the present invention as described above, in the process of cutting the donor substrate to form a donor substrate attached to the frame, the cutting using a heated cutting machine, preferably a cutting machine heated to a temperature above the glass transition temperature of the substrate substrate As a result, the donor substrate can be cut smoothly, and particles that can occur in the base substrate or other layers constituting the donor substrate can be prevented. In addition, by forming a donor substrate attached to the frame and then forming a transfer layer on the donor substrate, there is provided a method of manufacturing a donor substrate for laser transfer, which can suppress generation of particles and other contaminants and suppress sag or bending of the donor substrate. There is an advantage to provide. In addition, by using the method of manufacturing a donor substrate for laser transfer, an organic electroluminescent device which facilitates the adhesion between the donor substrate and the substrate, reduces the occurrence of defects in the organic film layer pattern, and improves the transfer efficiency by maintaining the vacuum. There is an advantage of providing a method for producing the same.                     

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이다.While the foregoing has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. Could be.

Claims (17)

레이저 전사용 도너 기판을 풀어주는 단계;Releasing the donor substrate for laser transfer; 풀어진 상기 도너 기판을 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 단계; 및Cutting the released donor substrate using a heated cutting machine; And 상기 재단된 도너 기판을 프레임에 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법.And attaching the cut donor substrate to a frame. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도너 기판을 프레임에 부착한 후에 상기 도너 기판 상에 전사층을 형성하는 것을 특징으로 하는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법.And attaching the donor substrate to the frame, thereby forming a transfer layer on the donor substrate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도너 기판을 기재 기판의 유리 전이 온도(Tg) 이상의 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 것을 특징으로 하는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법.A method for manufacturing a donor substrate for laser transfer, wherein the donor substrate is cut using a cutting machine heated to a glass transition temperature (Tg) or higher of the substrate substrate. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 도너 기판을 기재 기판의 유리 전이 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 것을 특징으로 하는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법.A method for manufacturing a donor substrate for laser transfer, wherein the donor substrate is cut using a cutting machine heated to the glass transition temperature of the substrate substrate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기재 기판은 PET(Poly Ethylene Terephthalate)로 이루어진 것을 특징으로 하는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법.The base substrate is a method of manufacturing a laser transfer donor substrate, characterized in that made of PET (Poly Ethylene Terephthalate). 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 도너 기판을 상기 PET의 유리 전이 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 것을 특징으로 하는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법.The donor substrate is cut using a cutting machine heated to the glass transition temperature of the PET. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도너 기판을 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 단계는 Cutting the donor substrate using a heated cutting machine 상기 도너 기판을 상기 도너 기판의 진행 방향으로 재단하는 단계; 및Cutting the donor substrate in an advancing direction of the donor substrate; And 상기 도너 기판을 상기 도너 기판의 진행 방향과 수직으로 재단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 전사용 도너 기판의 제조 방법.And cutting the donor substrate perpendicularly to the advancing direction of the donor substrate. 화소전극이 형성된 기판을 제공하는 단계;Providing a substrate on which a pixel electrode is formed; 상기 기판 전면에 제 1 항의 방법으로 제조된 도너 기판을 라미네이션(lamination)하는 단계; 및Laminating a donor substrate manufactured by the method of claim 1 on the entire surface of the substrate; And 상기 도너 기판의 소정 영역에 레이저를 조사하여 상기 화소전극 상에 유기막층 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법.And irradiating a laser to a predetermined region of the donor substrate to form an organic layer pattern on the pixel electrode. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 도너 기판을 프레임에 부착한 후에 상기 도너 기판 상에 전사층을 형성하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법.And forming a transfer layer on the donor substrate after attaching the donor substrate to a frame. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 도너 기판을 기재 기판의 유리 전이 온도 이상의 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법.The donor substrate is cut using a cutting machine heated to a temperature equal to or higher than the glass transition temperature of the substrate substrate. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 도너 기판을 기재 기판의 유리 전이 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법.The donor substrate is cut using a cutting machine heated to the glass transition temperature of the substrate substrate. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 기재 기판은 PET로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법.The substrate is a method of manufacturing an organic electroluminescent device, characterized in that consisting of PET. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 도너 기판을 상기 PET의 유리 전이 온도로 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법.The donor substrate is cut using a cutting machine heated to the glass transition temperature of the PET. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 도너 기판을 가열된 재단기를 이용하여 재단하는 단계는 Cutting the donor substrate using a heated cutting machine 상기 도너 기판을 상기 도너 기판의 진행 방향으로 재단하는 단계; 및Cutting the donor substrate in an advancing direction of the donor substrate; And 상기 도너 기판을 상기 도너 기판의 진행 방향과 수직으로 재단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법.And cutting the donor substrate in a direction perpendicular to the advancing direction of the donor substrate. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 화소전극 상에 유기막층 패턴을 형성하는 단계는 N2 분위기에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법.Forming an organic layer pattern on the pixel electrode is performed in an N 2 atmosphere. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 화소전극 상에 유기막층 패턴을 형성하는 단계는 진공 분위기에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법.Forming an organic layer pattern on the pixel electrode is a method of manufacturing an organic EL device, characterized in that in a vacuum atmosphere. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 유기막층 패턴은 발광층, 정공주입층, 정공전달층, 전자전달층 및 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택되는 1종의 단일층 또는 2종 이상의 다중층인 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법. The organic layer pattern may be a single layer or two or more layers selected from the group consisting of a light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer and an electron injection layer. Way.
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