KR100796587B1 - Method of fabricating donor substrate and method of fabricating OLED using the same - Google Patents

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KR100796587B1 KR1020040070082A KR20040070082A KR100796587B1 KR 100796587 B1 KR100796587 B1 KR 100796587B1 KR 1020040070082 A KR1020040070082 A KR 1020040070082A KR 20040070082 A KR20040070082 A KR 20040070082A KR 100796587 B1 KR100796587 B1 KR 100796587B1
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Abstract

도너 기판의 제조 방법 및 그를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공한다. 상기 도너 기판의 제조 방법 및 그를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법은 광-열 변환층(LTHC)을 구비하는 기재(base) 기판을 풀어주는 단계, 상기 풀어진 기재 기판을 재단하는 단계, 상기 재단된 기재 기판을 점착 수단을 사용하여 프레임에 부착하는 단계 및 상기 프레임에 부착된 기재 기판 상에 전사층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 점착 수단을 이용하여 기재 기판을 프레임에 부착하고 상기 기재 기판 상에 전사층을 형성하여 도너 기판을 형성함으로써, 도너 기판 상에 파티클 기타 오염이 발생하는 것을 방지하고 또한, 도너 기판의 처짐 또는 굴곡 형성을 방지할 수 있는 이점을 제공한다. A method for producing a donor substrate and a method for producing an organic electroluminescent device using the same are provided. The method of manufacturing a donor substrate and a method of manufacturing an organic EL device using the same include the steps of: unwinding a base substrate having a light-to-heat conversion layer (LTHC), cutting the unwinding substrate substrate, And attaching the substrate substrate to the frame using adhesive means, and forming a transfer layer on the substrate substrate attached to the frame. By attaching the substrate substrate to the frame using an adhesive means and forming a donor substrate by forming a transfer layer on the substrate substrate, particles and other contaminations are prevented from occurring on the donor substrate, and sagging or bending of the donor substrate is formed. It provides an advantage that can be prevented.

LITI, 프레임(frame), 도너(donor) 기판, 라미네이션(lamination)LITI, frame, donor substrate, lamination

Description

도너 기판의 제조 방법 및 그를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법 {Method of fabricating donor substrate and method of fabricating OLED using the same} Method of manufacturing donor substrate and method of manufacturing organic electroluminescent device using same {Method of fabricating donor substrate and method of fabricating OLED using the same}             

도 1a 내지 도 1f는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 도너 기판의 제조 방법을 설명하는 공정순서도들,1A to 1F are process flowcharts illustrating a method of manufacturing a donor substrate according to a first embodiment of the present invention;

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 도너 기판의 제조 방법을 설명하는 공정도,2A to 2E are process drawings for explaining a method of manufacturing a donor substrate according to a second embodiment of the present invention;

도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 도너 기판의 제조 방법을 설명하는 공정도,3A to 3F are process drawings for explaining a method of manufacturing a donor substrate according to a third embodiment of the present invention;

도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 설명하기 위한 공정순서도들이다. 4A to 4C are process flowcharts for describing a method of manufacturing an organic EL device according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명> <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100 : 기재(base) 기판 110 : 재단기 100: base substrate 110: cutting machine

120 : 프레임(frame) 130 : 점착 테이프(tape)120: frame 130: adhesive tape

150, 250, 480 : 도너 기판 140, 240 : 전사층150, 250, 480: donor substrate 140, 240: transfer layer

220a : 프레임의 상판 220b : 프레임의 하판 220a: upper plate of the frame 220b: lower plate of the frame

340 : 얼라인(align)부 350 : 얼라인판 340: alignment unit 350: alignment plate

360 : 얼라인핀 450 : 기판360: alignment pin 450: substrate

460 : 화소 전극 470 : 유기막층 패턴 460 pixel electrode 470 organic film layer pattern

본 발명은 도너 기판의 제조 방법 및 그를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 LITI(Laser Induced Thermal Imaging)를 이용한 유기막층 패턴의 형성시 사용되는 프레임에 부착된 도너 기판을 제조하는 방법 및 그를 이용하여 유기 전계 발광 소자를 제조하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing a donor substrate and a method of manufacturing an organic EL device using the same, and more particularly, to a donor substrate attached to a frame used in forming an organic layer pattern using laser induced thermal imaging (LITI). The manufacturing method and the method of manufacturing an organic electroluminescent element using it are related.

일반적으로 평판 표시 소자인 유기 전계 발광 소자는 애노드전극과 캐소드전극 그리고, 상기 애노드전극과 캐소드전극 사이에 개재된 유기막층들을 포함한다. 상기 유기막층들은 최소한 발광층을 포함하며, 상기 발광층외에도 정공주입층, 정공수송층, 전자수송층, 전자주입층을 더욱 포함할 수 있다. 이러한 유기 전계 발광 소자는 상기 유기막층 특히, 상기 발광층을 이루는 물질에 따라서 고분자 유기 전계 발광 소자와 저분자 유기 전계 발광 소자로 나뉘어진다.In general, an organic EL device, which is a flat panel display device, includes an anode electrode and a cathode electrode, and organic layer layers interposed between the anode electrode and the cathode electrode. The organic layer may include at least a light emitting layer, and may further include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in addition to the light emitting layer. The organic electroluminescent device is divided into a polymer organic electroluminescent device and a low molecular organic electroluminescent device according to the material of the organic layer, in particular the light emitting layer.

이러한 유기 전계 발광 소자에 있어 풀칼라화를 구현하기 위해서는 상기 발 광층을 패터닝해야 하는데, 상기 발광층을 패터닝하기 위한 방법으로 저분자 유기 전계 발광 소자의 경우 섀도우 마스크(shadow mask)를 사용하는 방법이 있고, 고분자 유기 전계 발광 소자의 경우 잉크-젯 프린팅(ink-jet printing) 또는 레이저에 의한 열전사법(Laser Induced Thermal Imaging; 이하 LITI라 한다)이 있다. 이 중에서 상기 LITI는 상기 유기막층을 미세하게 패터닝할 수 있고, 대면적에 사용할 수 있으며 고해상도에 유리하다는 장점이 있을 뿐만 아니라, 상기 잉크-젯 프린팅이 습식 공정인데 반해 이는 건식 공정이라는 장점이 있다.In the organic electroluminescent device, in order to realize full colorization, the light emitting layer needs to be patterned. As a method for patterning the light emitting layer, there is a method of using a shadow mask in the case of a low molecular organic electroluminescent device. In the case of a polymer organic electroluminescent device, there is ink-jet printing or laser induced thermal imaging (hereinafter referred to as LITI). Among these, LITI has the advantage of being able to finely pattern the organic film layer, to be used for a large area, and to be advantageous for high resolution, and the ink-jet printing is a wet process, whereas there is an advantage of being a dry process.

이러한 LITI에 의한 유기막층 패턴의 형성 방법은 적어도 광원, 유기 전계 발광 소자 기판 및 도너 기판을 필요로 한다. 상기 기판 상에 유기막층을 패터닝하는 것은 상기 광원에서 나온 빛이 상기 도너 기판의 광-열 변환층에 흡수되어 열에너지로 변환되고, 상기 열에너지에 의해 전사층을 이루는 물질이 상기 기판 상으로 전사되면서 수행된다. 이는 한국 특허 출원 제 1998-51844호 및 미국 특허 제 5,998,085호, 6,214,520호 및 6,114,088호에 개시되어 있다. The formation method of the organic film layer pattern by LITI requires a light source, an organic electroluminescent element substrate, and a donor substrate at least. The patterning of the organic layer on the substrate is performed when light from the light source is absorbed by the light-heat conversion layer of the donor substrate and converted into thermal energy, and the material forming the transfer layer is transferred onto the substrate by the thermal energy. do. This is disclosed in Korean Patent Application Nos. 1998-51844 and US Pat. Nos. 5,998,085, 6,214,520 and 6,114,088.

이때, 상기 도너 기판을 기판 상에 라미네이션(lamination)시키는 공정이 필요한바, 기존에는 라미네이션 롤(roll)을 이용하여 상기 도너 기판을 기판 상에 적층하였다. 즉, 전사층이 형성된 도너 기판을 라미네이션 롤에 감은 다음 컷팅(cutting)하여 이동시킨 후 상기 라미네이션 롤에 감겨진 상기 도너 기판을 기판 상에 풀어 나가면서 적층하였다. 이러한 라미네이션 방법은 간단하기는 하지만, 유기 전계 발광 소자의 특성을 저하시킬 수 있는 문제점이 있다. 즉, 플레시블(flexible)한 도너 기판이 라미네이션 롤에 감기면서 발생하는 크랙(crack) 또는 파티클(particle)과 같은 오염 물질이 발생할 수 있다. 특히, 기재 기판에 전사층을 형성하는 공정과 LITI를 위한 라미네이션 공정이 서로 분리되어 이루어지므로, 이들 공정 사이에서 발생할 수 있는 파티클 기타 오염으로 인하여 유기 전계 발광 소자의 특성이 저하될 수 있다는 문제점이 있다. In this case, a process of laminating the donor substrate on the substrate is required. In the past, the donor substrate was laminated on the substrate using a lamination roll. That is, the donor substrate on which the transfer layer is formed is wound on a lamination roll and then cut and moved, and the donor substrate wound on the lamination roll is laminated while being unrolled onto the substrate. Although the lamination method is simple, there is a problem that can lower the characteristics of the organic EL device. That is, contaminants such as cracks or particles generated when the flexible donor substrate is wound on the lamination roll may be generated. In particular, since the process of forming the transfer layer on the base substrate and the lamination process for LITI are separated from each other, there is a problem that the characteristics of the organic EL device may be degraded due to particle and other contamination that may occur between these processes. .

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 기재 기판에 전사층을 형성하고 상기 전사층이 형성된 도너 기판을 기판 상에 라미네이션하는 공정 사이에서 발생할 수 있는 파티클 기타 오염 발생을 방지할 뿐만 아니라 전사 효율을 향상시키기 위해 사용할 수 있는 도너 기판의 제조 방법 및 그를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
The technical problem to be achieved by the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, the particle and other contamination that may occur between the process of forming a transfer layer on the base substrate and laminating the donor substrate on which the transfer layer is formed on the substrate It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a donor substrate that can be used to prevent generation as well as to improve transfer efficiency and a method of manufacturing an organic EL device using the same.

상기 기술적 과제들을 이루기 위하여 본 발명은 도너 기판의 제조 방법을 제공한다. 상기 도너 기판의 제조 방법은 광-열 변환층(LTHC)을 구비하는 기재(base) 기판을 풀어주는 단계, 상기 풀어진 기재 기판을 재단하는 단계, 상기 재단된 기재 기판을 점착 수단을 이용하여 프레임에 부착하는 단계 및 상기 프레임에 부착된 기재 기판 상에 전사층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 점착 수단은 상온 이상에서는 상온에서보다 점착력이 감소하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention provides a method of manufacturing a donor substrate. The method of manufacturing the donor substrate includes the steps of releasing a base substrate having a light-to-heat conversion layer (LTHC), cutting the unwrapped substrate substrate, and attaching the cut substrate substrate to a frame using adhesive means. And a step of forming a transfer layer on the base substrate attached to the frame, wherein the adhesive means is characterized in that the adhesive force decreases at room temperature or higher than at room temperature.

상기 기술적 과제들을 이루기 위하여 본 발명은 또한 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공한다. 상기 유기 전계 발광 소자의 제조 방법은 화소전극이 형성된 기판을 제공하는 단계, 상기 기판 전면에 상기 도너 기판의 제조 방법으로 제조된 도너 기판을 라미네이션(lamination)하는 단계 및 상기 도너 기판의 소정 영역에 레이저를 조사하여 상기 화소전극 상에 유기막층 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention also provides a method of manufacturing an organic EL device. The method of manufacturing an organic EL device may include providing a substrate on which a pixel electrode is formed, laminating a donor substrate manufactured by the method of manufacturing the donor substrate on the entire surface of the substrate, and lasering a predetermined region of the donor substrate. Irradiating the to form an organic layer pattern on the pixel electrode.

상기 점착 수단으로서 점착 테이프를 사용할 수 있으며 또한, 액체로 이루어진 점착 수단을 사용할 수 있다.An adhesive tape can be used as the adhesive means, and an adhesive means made of a liquid can be used.

상기 점착 테이프는 아미드(imide) 또는 케톤(ketone) 계열의 화합물로 이루어진 점착 테이프를 사용할 수 있고 또한, 상온이상에서는 상온에서보다 점착력이 감소하는 점착 테이프를 사용할 수도 있다.The pressure-sensitive adhesive tape may be a pressure-sensitive adhesive tape made of an amide (keide) or a compound of ketone (based), and may also use a pressure-sensitive adhesive tape that is less than the normal temperature at room temperature.

상기 재단된 기재 기판을 상기 프레임의 상부면 또는 하부면에 부착할 수 있다.The cut base substrate may be attached to an upper surface or a lower surface of the frame.

상기 프레임은 상판과 하판으로 이루어져 있으며, 상기 기재 기판을 상기 프레임의 상판과 하판 사이에 부착할 수 있다.The frame includes an upper plate and a lower plate, and the base substrate may be attached between the upper plate and the lower plate of the frame.

상기 기재 기판을 상기 프레임의 상판과 하판 사이에 부착하기 전에, 상기 프레임의 상판 및 하판 하부에 위치하는 얼라인판을 사용하여 상기 프레임의 상판과 하판을 얼라인할 수 있다. Before attaching the base substrate between the upper plate and the lower plate of the frame, the upper plate and the lower plate of the frame may be aligned using an alignment plate positioned under the upper plate and the lower plate of the frame.

상기 프레임 내부의 크기가 기판 전면의 크기보다 큰 것이 바람직하다. It is preferable that the size inside the frame is larger than the size of the front surface of the substrate.

상기 기재 기판을 재단하는 단계는 상기 기재 기판을 상기 기재 기판의 진행 방향으로 재단하는 단계 및 상기 기재 기판을 상기 기재 기판의 진행 방향과 수직 으로 재단하는 단계를 포함할 수 있다. Cutting the substrate substrate may include cutting the substrate substrate in a traveling direction of the substrate substrate and cutting the substrate substrate perpendicular to a traveling direction of the substrate substrate.

상기 기재 기판을 프레임에 부착하는 단계 전에 상기 기재 기판을 세정하는 단계를 더욱 포함할 수 있다.The method may further include cleaning the base substrate before attaching the base substrate to the frame.

상기 세정은 건식 또는 습식 세정법을 사용하여 수행하는 것이 바람직하다. The cleaning is preferably carried out using a dry or wet cleaning method.

상기 기재 기판을 프레임에 부착하는 단계 후에 상기 기재 기판을 세정하는 단계를 더욱 포함할 수 있다. The method may further include cleaning the substrate substrate after attaching the substrate substrate to a frame.

상기 세정은 건식 세정법을 사용하여 수행하는 것이 바람직하다. The cleaning is preferably carried out using a dry cleaning method.

상기 기재 기판을 프레임에 부착하는 단계 전 또는 후에 상기 기재 기판을 표면 처리할 수 있다. The substrate substrate may be surface treated before or after the step of attaching the substrate substrate to the frame.

상기 기재 기판을 프레임에 부착하는 단계 전 또는 후에 상기 기재 기판의 정전기를 제거할 수 있다. Static electricity of the base substrate may be removed before or after the step of attaching the base substrate to the frame.

이하, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일한 참조 번호는 동일한 구성 요소를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings in order to describe the present invention in more detail. Like numbers refer to like elements throughout the specification.

도 1a 내지 도 1f는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 도너 기판의 제조 방법을 설명하는 공정순서도들이다. 1A to 1F are process flowcharts illustrating a method of manufacturing a donor substrate according to a first embodiment of the present invention.

도 1a를 참조하면, 롤 형태의 기재 기판(100)을 풀어준다. 상기 롤 형태의 기재 기판(100) 상에 광-열 변환층은 구비되어 있으나 전사층은 형성되어 있지 않다. 상기 광-열 변환층 상에 버퍼층(도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1A, the base substrate 100 in a roll form is released. The light-to-heat conversion layer is provided on the roll-shaped substrate substrate 100, but the transfer layer is not formed. A buffer layer (not shown) may be further included on the light-to-heat conversion layer.

롤 형태의 상기 기재 기판(100)을 풀어주는 단계 후에 상기 기재 기판(100) 을 재단하는 단계가 이루어 진다. 상기 기재 기판(100)을 재단하는 단계는 상기 롤 형태의 기재 기판을 시트 형태의 기재 기판으로 재단하는 단계를 의미한다. 상기 기재 기판(100)을 재단하는 방법에는 여러가지 방법이 있을 수 있으며, 본 실시예에서는 상기 기재 기판(100)을 상기 기재 기판의 진행 방향으로 재단하는 단계 및 상기 기재 기판을 상기 기재 기판의 진행 방향과 수직으로 재단하는 단계로 나누어 재단하는 방법을 예시하고 있다. 또한, 상기 기재 기판을 후술할 프레임의 크기에 맞게 한번에 재단하여 사용할 수도 있다.After releasing the substrate substrate 100 in a roll form, the substrate substrate 100 may be cut. Cutting the base substrate 100 means cutting the roll substrate to a sheet substrate. There may be various methods for cutting the substrate substrate 100. In this embodiment, the substrate substrate 100 is cut in the advancing direction of the substrate substrate and the substrate substrate is in the advancing direction of the substrate substrate. It shows how to cut by dividing into two stages. In addition, the substrate may be cut and used at a time to fit the size of the frame to be described later.

도 1b를 참조하면, 적당하게 풀어진 상기 롤 형태의 기재 기판(100)을 재단기(110)를 사용하여 상기 롤 형태의 기재 기판의 진행 방향으로 재단한다. 이때, 재단되어 기재 기판으로 사용하지 않을 나머지 기재 기판을 감아내는 장치를 별도로 부가하여 상기 나머지 기재 기판을 감아내는 공정을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1B, the roll-shaped substrate substrate 100 that is suitably unrolled is cut in the traveling direction of the substrate substrate in the form of a roll by using the cutting machine 110. At this time, it may include a step of winding the remaining substrate substrate by separately adding a device for winding the remaining substrate substrate that is not cut to be used as the substrate substrate.

도 1c를 참조하면, 상기 롤 형태의 기재 기판의 진행 방향으로 재단된 상기 기재 기판(100)을 재단기(110)를 사용하여 상기 롤 형태의 기재 기판의 진행 방향과 수직으로 재단한다. 즉, 롤 형태의 기재 기판(100)을 시트 형태의 기재 기판(100)으로 재단한다. Referring to FIG. 1C, the substrate substrate 100 cut in the advancing direction of the roll-shaped substrate substrate is cut perpendicularly to the advancing direction of the substrate substrate in the roll form using the cutting machine 110. That is, the base substrate 100 in roll form is cut into the base substrate 100 in sheet form.

상기 재단된 기재 기판(100)은 후속 공정에서 소정의 소자가 형성된 기판 상에 라미네이션되므로, 상기 기판 전면을 모두 덮을 수 있는 적당한 크기로 재단하는 것이 바람직하다. Since the cut substrate substrate 100 is laminated on a substrate on which a predetermined element is formed in a subsequent process, it is preferable to cut the substrate substrate 100 to an appropriate size to cover the entire surface of the substrate.

이때, 후술할 재단된 기재 기판(100)을 프레임에 부착하는 단계 전에, 상기 기재 기판(100)을 세정하는 단계를 더욱 포함할 수 있다. At this time, before the step of attaching the cut substrate substrate 100 to be described later to the frame, it may further comprise the step of cleaning the substrate substrate 100.

상기 롤 형태의 기재 기판(100)을 풀어주는 단계 및 상기 기재 기판을 재단하는 단계에서 상기 기재 기판(100) 표면에 파티클 기타 오염 물질이 발생할 수 있으므로, 이러한 오염 물질을 제거하기 위하여 세정 과정을 수행할 수 있다. Particles and other contaminants may be generated on the surface of the substrate substrate 100 in the step of releasing the roll substrate substrate 100 and cutting the substrate substrate, so that the cleaning process is performed to remove such contaminants. can do.

상기 세정은 건식 또는 습식 세정법을 사용하여 수행할 수 있다. The cleaning can be carried out using dry or wet cleaning methods.

건식 세정법은 유해한 화학 용액을 사용하지 않고 기상 상태나 가스 상태로 세정 하는 방법을 말하며, 현재 사용되고 있는 건식 세정법으로는 증기 세정법, UV를 이용한 세정법, 플라즈마 세정법, 스퍼터(sputter) 세정법 등이 있다. The dry cleaning method refers to a method of cleaning in a gaseous state or a gas state without using a harmful chemical solution. Currently, the dry cleaning method includes a vapor cleaning method, a cleaning method using UV, a plasma cleaning method, and a sputter cleaning method.

습식 세정법은 화학 용액을 사용하여 세정하는 방법을 말하며, 현재 사용되고 있는 습식 세정법으로는 RCA 세정법, Piranha 세정법, DHF 세정법, 오존 세정법 등이 있다. The wet cleaning method refers to a method of cleaning using a chemical solution. Currently, the wet cleaning method includes an RCA cleaning method, a Piranha cleaning method, a DHF cleaning method and an ozone cleaning method.

도 1d를 참조하면, 시트 형태로 재단된 상기 기재 기판(100)을 프레임(120)에 부착한다. 이때, 상기 기재 기판(100)을 점착 테이프(130)를 사용하여 상기 프레임(120)에 부착한다. Referring to FIG. 1D, the base substrate 100 cut in a sheet form is attached to the frame 120. At this time, the base substrate 100 is attached to the frame 120 using the adhesive tape 130.

상기 프레임(120)은 하나의 판으로 형성되어 있고, 그 내부의 크기는 기판 전면의 크기보다 큰 것이 바람직하다. 상세히 설명하면, 유기막층 패턴층을 형성하기 위한 전사 공정에서 상기 프레임(120)의 내부로 레이저가 조사되어 상기 전사 공정이 진행되므로, 상기 유기막층 패턴이 형성될 기판 전면을 도너 기판으로 라미네이션하는 것이 전사 효율 향상을 위하여 바람직하다. 따라서, 상기 프레임(120) 내부의 크기를 기판 전면의 크기보다 크게 제작하여 사용하는 것이 바람직하다. The frame 120 is formed of one plate, and the inside thereof is larger than the size of the front surface of the substrate. In detail, since the laser beam is irradiated into the frame 120 in the transfer process for forming the organic film layer pattern layer, the transfer process is performed. Thus, laminating the entire substrate on which the organic film layer pattern is to be formed onto a donor substrate. It is preferable to improve the transfer efficiency. Therefore, the size of the inside of the frame 120 is preferably made larger than the size of the front surface of the substrate.

상기 기재 기판(100)은 상기 프레임(120)의 상부면에 부착되어 있다. 또한, 상기 기재 기판(100)을 상기 프레임(120)의 하부면에 부착할 경우, 상기 프레임을 뒤집으면 상기 기재 기판(100)을 상기 프레임(120)의 상부면에 부착한 것과 같은 결과가 되므로 상관없다. The base substrate 100 is attached to an upper surface of the frame 120. In addition, when the base substrate 100 is attached to the lower surface of the frame 120, the upside down of the frame has the same result as the base substrate 100 attached to the upper surface of the frame 120 Does not matter.

또한, 상기 프레임(120)은 상기 점착 테이프(130)가 잘 점착할 수 있는 재질로 이루어지는 것이 바람직하다. In addition, the frame 120 is preferably made of a material that can be adhered to the adhesive tape 130 well.

상기 기재 기판(100)은 점착 테이프(130)에 의해 상기 프레임(120)에 부착되어 있다. 상기 점착 테이프(130)는 양면이 점착 수단으로 작용하며, 상기 프레임(120)의 네개의 변에 각각 점착되어 상기 기재 기판(100)을 상기 프레임(120)에 부착하고 있음을 알 수 있다. 본 실시예에서는 프레임의 각 변에 각각 점착 테이프(130)가 점착되어 있는 것을 예시하고 있으나, 다양한 형태의 점착 테이프를 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 프레임(120)의 형태와 같은 형태를 갖는 하나의 점착 테이프를 사용하거나, 프레임의 각 변에 두개 이상의 점착 테이프를 점착하여 사용하는 예를 들수 있다. The base substrate 100 is attached to the frame 120 by an adhesive tape 130. Both sides of the adhesive tape 130 serve as adhesive means, and the adhesive tape 130 may be adhered to four sides of the frame 120 to attach the substrate substrate 100 to the frame 120. In the present exemplary embodiment, the adhesive tape 130 is attached to each side of the frame, but various types of adhesive tapes may be used. For example, one adhesive tape having the same shape as that of the frame 120 may be used, or two or more adhesive tapes may be attached to each side of the frame.

또한, 일면이 점착 수단으로 작용하는 점착 테이프를 사용할 수도 있다. 즉, 기재 기판을 프레임 상에 올려놓은 다음 상기 점착 테이프를 사용하여 상기 기재 기판을 상기 프레임에 부착할 수 있다.Moreover, the adhesive tape in which one surface acts as an adhesive means can also be used. That is, the substrate substrate may be placed on the frame, and then the substrate substrate may be attached to the frame using the adhesive tape.

후속 공정인 전사 공정을 통해서 소정의 소자가 형성된 기판 상에 유기막층 패턴을 형성하는바, 상기 전사 공정은 진공에서 이루어질 수 있다. 따라서, 진공에서도 사용될 수 있는 점착 테이프가 요구되는바, 아미드 또는 케톤 계열의 화합물로 이루어진 점착 테이프를 사용하는 것이 바람직하다. An organic film layer pattern is formed on a substrate on which a predetermined element is formed through a transfer process, which is a subsequent process. The transfer process may be performed in a vacuum. Therefore, there is a need for an adhesive tape that can be used even in vacuum, and it is preferable to use an adhesive tape made of an amide or ketone series compound.

또한, 상온 이상에서는 상온에서보다 점착력이 감소하는 점착 테이프를 사용할 수 있다. 즉, 상온에서는 점착력이 증가하여 도너 기판의 제조을 도와주고, 상온 이상의 온도가 가해지면 점착력이 감소하여 점착 테이프가 쉽게 제거되어 공정을 편리하게 할 수 있다.Moreover, above normal temperature, the adhesive tape which adhesive force reduces than normal temperature can be used. That is, at room temperature, the adhesive force is increased to help manufacture of the donor substrate, and when a temperature above room temperature is applied, the adhesive force is reduced, and thus the adhesive tape is easily removed to facilitate the process.

도 1d에서는 상기 점착 수단으로서 점착 테이프만을 예시하였으나, 상기 점착 수단으로서 액체 접착제와 같은 액체로 이루어진 것을 사용할 수 있다.In FIG. 1D, only the adhesive tape is exemplified as the adhesive means, but a material made of a liquid such as a liquid adhesive may be used as the adhesive means.

도 1e는 도 1d에 도시된 A-A'에서의 단면도이다. FIG. 1E is a cross-sectional view at AA ′ shown in FIG. 1D.

도 1e를 참조하면, 상기 기재 기판(100)은 점착 테이프(130)에 의해 상기 프레임(120)의 상부면에 부착되어 있음을 알 수 있다. Referring to FIG. 1E, it can be seen that the base substrate 100 is attached to the upper surface of the frame 120 by an adhesive tape 130.

상술한 시트 형태로 재단된 기재 기판(100)을 프레임(120)에 부착하는 단계후에, 상기 기재 기판(100)을 세정하는 단계를 더욱 포함할 수 있다. After attaching the substrate substrate 100 cut in the above-described sheet form to the frame 120, the method may further include cleaning the substrate substrate 100.

상기 재단된 기재 기판(100)을 프레임(120)에 부착하는 단계 후에는 전사층을 형성하는 공정이 이루어지므로, 상기 기재 기판(100) 표면에 발생한 오염 물질을 제거하는 것이 바람직하다. 즉, 상기 재단된 기재 기판(100)을 프레임(120)에 부착하는 단계 중에 발생할 수 있는 파티클 기타 오염 물질을 제거하기 위하여 세정 공정을 수행할 수 있다. Since the process of forming the transfer layer is performed after attaching the cut substrate substrate 100 to the frame 120, it is preferable to remove contaminants generated on the surface of the substrate substrate 100. That is, a cleaning process may be performed to remove particles and other contaminants that may occur during the step of attaching the cut substrate substrate 100 to the frame 120.

상기한 바와 같이, 상기 세정 공정은 상기 기재 기판을 프레임에 부착하는 단계의 전과 후에 부가하여 1차 및 2차 세정 공정을 수행할 수 있으며 또한, 상기 기재 기판을 프레임에 부착하는 단계의 전 또는 후에 부가하여 세정 공정을 수행할 수도 있다. As described above, the cleaning process may be performed before and after the step of attaching the substrate substrate to the frame, and may perform the first and second cleaning processes, and also before or after the step of attaching the substrate substrate to the frame. In addition, a cleaning process may be performed.

상기 세정은 건식 세정법을 사용하여 수행하는 것이 바람직하다. 상기 재단된 기재 기판(100)이 프레임(120)에 부착된 후에 습식 세정이 이루어진다면, 상기 프레임(120)에 부착된 기재 기판(100)이 변성할 수 있기 때문이다. The cleaning is preferably carried out using a dry cleaning method. This is because if the wet substrate is cleaned after the cut substrate substrate 100 is attached to the frame 120, the substrate substrate 100 attached to the frame 120 may be denatured.

또한, 상기 재단된 기재 기판(100)을 프레임(120)에 부착하는 단계 전 또는 후에 상기 기재 기판(100)을 표면 처리할 수 있다. 상기 표면 처리는 플라즈마를 이용하여 수행할 수 있다. 상기 기재 기판(100)의 표면 처리를 통하여 기재 기판(100) 표면에 발생할 수 있는 파티클 기타 오염 물질을 제거 할 수 있고, 후술할 전사층을 형성함에 있어서 접착력이 강화되어 상기 전사층을 용이하게 형성할 수 있다는 장점이 있다. In addition, the substrate substrate 100 may be surface treated before or after attaching the cut substrate substrate 100 to the frame 120. The surface treatment may be performed using a plasma. Through surface treatment of the substrate substrate 100, particles and other contaminants that may occur on the surface of the substrate substrate 100 may be removed, and in forming the transfer layer to be described later, adhesion is enhanced to easily form the transfer layer. The advantage is that you can.

또한, 상기 기재 기판(100)을 재단하는 단계 또는 기타 공정 중에 상기 기재 기판(100)에 정전기가 발생할 수 있는바, 상기 기재 기판(100)을 프레임에 부착하는 단계 전 또는 후에 상기 정전기를 제거할 수 있는 장치를 부가하여 상기 정전기를 제거할 수 있다. 상기 기재 기판(100)에 정전기가 발생하면 오염 물질이 달라 붙을 수 있으며 또한, 후술할 전사층 형성 공정에서 전사 물질이 증착되는 것을 방해할 우려가 있기 때문에 상기 기재 기판(100)에 발생할 수 있는 정전기를 제거하는 것이 바람직하다. In addition, since the static electricity may be generated in the substrate substrate 100 during the cutting of the substrate substrate 100 or other processes, the static electricity may be removed before or after attaching the substrate substrate 100 to the frame. A device can be added to remove the static electricity. When static electricity is generated in the base substrate 100, contaminants may stick to each other, and static electricity that may be generated in the base substrate 100 may be prevented from being deposited in the transfer layer forming process, which will be described later. It is preferable to remove.

도 1f는 전사층(140)이 형성된 도너 기판(150)의 단면도이다. 1F is a cross-sectional view of the donor substrate 150 on which the transfer layer 140 is formed.

도 1f를 참조하면, 프레임(120)에 부착된 기재 필름(100) 상에 전사층(140)을 형성하여 도너 기판(150)을 완성한다. 상기 전사층(140)은 일반적인 코팅 방법인 압출, 스핀, 나이프 코팅 방법, 진공 증착법, CVD 등의 방법을 이용하여 형성할 수 있다. Referring to FIG. 1F, the donor substrate 150 is completed by forming the transfer layer 140 on the base film 100 attached to the frame 120. The transfer layer 140 may be formed using a general coating method such as extrusion, spin, knife coating method, vacuum deposition method, CVD.

종래에는 롤 형태의 기재 기판에 전사층이 미리 형성되어 있었는바, 크랙 및 파티클이 많이 발생할 수 있었으나, 본 발명에서는 상기한 바와 같이 기재 기판(100)을 프레임(120)에 부착한 후에 상기 전사층을 형성함으로써 크랙 및 파티클 발생을 방지할 수 있다. 또한, 상기 도너 기판(150)이 처지거나 굴곡이 형성되는 것을 방지할 수 있다. Conventionally, since the transfer layer was previously formed on the base substrate in roll form, a lot of cracks and particles could be generated. However, in the present invention, as described above, after the base substrate 100 is attached to the frame 120, the transfer layer is attached. By forming the cracks and particles can be prevented. In addition, the donor substrate 150 may be prevented from sagging or bending.

또한, 도너 기판(150)은 프레임(120)에 부착된 상태로 라미네이션되므로 소정의 소자가 형성된 기판과의 밀착이 용이하고 진공 유지가 좋아 전사효율을 향상시킬 수 있다. In addition, since the donor substrate 150 is laminated in a state in which it is attached to the frame 120, the donor substrate 150 may be easily adhered to a substrate on which a predetermined element is formed, and the vacuum may be easily maintained to improve transfer efficiency.

도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 도너 기판의 제조 방법을 설명하는 공정도로서, 도 2a는 프레임의 상판의 저면도, 도 2b는 프레임의 하판의 평면도, 도 2c는 프레임에 부착된 기재 기판의 평면도, 도 2d는 B-B'에서의 단면도, 도 2e는 전사층이 형성된 도너 기판의 단면도이다. 본 발명의 제 1 실시예에서 도시하였던 기재 기판을 풀어주는 단계 및 재단하는 단계를 설명하는 도면은 생략하였다. 2A to 2E are process drawings illustrating a method of manufacturing a donor substrate according to a second embodiment of the present invention, in which FIG. 2A is a bottom view of the upper plate of the frame, FIG. 2B is a plan view of the lower plate of the frame, and FIG. 2D is a sectional view taken along the line BB ', and FIG. 2E is a sectional view of the donor substrate on which the transfer layer is formed. The drawings explaining the steps of releasing and cutting the base substrate shown in the first embodiment of the present invention are omitted.

도 2a를 참조하면, 프레임의 상판(220a) 하부면의 네개의 변에 각각 점착 테이프(130)가 부착되어 있다. Referring to FIG. 2A, adhesive tapes 130 are attached to four sides of the bottom surface of the upper plate 220a of the frame.

도 2b를 참조하면, 프레임의 하판(220b) 상에 기재 기판(120)이 부착되어 있다. 이때, 상기 프레임의 하판(220b)의 상부면에는 상기 프레임의 상판(220a)과 마찬가지로 네개의 변에 각각 점착 테이프(130)가 부착되어 있어, 상기 기재 기판 (120)을 상기 프레임의 하판(220b) 상부면에 부착하고 있다. Referring to FIG. 2B, the base substrate 120 is attached to the lower plate 220b of the frame. At this time, the adhesive tape 130 is attached to each of the four sides on the upper surface of the lower plate 220b of the frame, similarly to the upper plate 220a of the frame, and the base substrate 120 is attached to the lower plate 220b of the frame. ) It is attached to the upper surface.

상기 프레임의 상판(220a) 및 하판(220b)은 상기 점착 테이프(130)가 잘 점착할 수 있는 재질로 이루어지는 것이 바람직하다. The upper plate 220a and the lower plate 220b of the frame are preferably made of a material to which the adhesive tape 130 can adhere well.

도 2c 및 도 2d를 참조하면, 점착 테이프(130)에 의해 상기 재단된 기재 기판(100)이 부착되어 있는 프레임의 하판(220b)과 점착 테이프(130)가 부착되어 있는 프레임의 상판(220a)을 서로 부착함으로써 상기 기재 기판(100)을 상기 프레임의 상판(220a)과 하판(220b) 사이에 부착한다. 2C and 2D, the lower plate 220b of the frame to which the cut substrate substrate 100 is attached by the adhesive tape 130 and the upper plate 220a of the frame to which the adhesive tape 130 is attached. The base substrate 100 is attached between the upper plate 220a and the lower plate 220b of the frame by attaching to each other.

본 실시예에서는 프레임이 상판과 하판으로 이루어져 있는바, 상기 기재 기판을 더욱 단단하게 상기 프레임에 부착시킬 수 있다. 따라서, 후속 공정에서 형성되는 도너 기판이 처지거나 또는 상기 기재 기판에 굴곡이 형성되는 것을 더욱 방지할 수 있다. In this embodiment, the frame consists of an upper plate and a lower plate, and thus the base substrate can be more firmly attached to the frame. Therefore, it is possible to further prevent the donor substrate formed in the subsequent process from sagging or forming a bend in the base substrate.

도 2e를 참조하면, 프레임의 상판 및 하판(220a, 220b) 사이에 부착된 기재 필름(100) 상에 전사층(240)을 형성하여 도너 기판(250)을 완성한다. Referring to FIG. 2E, the donor substrate 250 is completed by forming the transfer layer 240 on the base film 100 attached between the upper and lower plates 220a and 220b of the frame.

상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 도너 기판의 제조 방법과 동일하다. Except for the above, the method of manufacturing the donor substrate according to the first embodiment of the present invention is the same.

도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 도너 기판의 제조 방법을 설명하는 공정도로서, 도 3a는 프레임의 상판의 저면도, 도 3b는 프레임의 하판의 평면도, 도 3c는 얼라인(align)판의 평면도, 도 3d는 프레임에 부착된 기재 기판의 평면도, 도 3e는 각 구성 요소의 정면도들, 도 3f는 프레임에 부착된 기재 기판의 정면도이다. 본 발명의 제 1 실시예에서 도시하였던 도너 기판을 풀어주는 단계 및 재단하는 단계를 설명하는 도면과 본 발명의 제 2 실시예에서 도시하였던 전사층을 형성하는 단계를 설명하는 도면은 생략하였다. 3A to 3F are process diagrams illustrating a method of manufacturing a donor substrate according to a third embodiment of the present invention. FIG. 3A is a bottom view of the upper plate of the frame, FIG. 3B is a plan view of the lower plate of the frame, and FIG. 3C is an alignment. 3D is a plan view of the substrate substrate attached to the frame, FIG. 3E is a front view of each component, and FIG. 3F is a front view of the substrate substrate attached to the frame. The drawing explaining the step of releasing and cutting the donor substrate shown in the first embodiment of the present invention and the step of forming the transfer layer shown in the second embodiment of the present invention are omitted.

도 3a를 참조하면, 프레임의 상판(220a) 하부면의 네개의 변에 각각 점착 테이프(130)가 부착되어 있다. Referring to FIG. 3A, adhesive tapes 130 are attached to four sides of the lower surface of the upper plate 220a of the frame.

상기 프레임의 상판(220a)의 네개의 꼭지점 부근에는 얼라인부(340)가 형성되어 있다. 상기 얼라인부(340)는 둥근 모양으로 구멍이 뚫어져 있으며, 상기 얼라인부(340)를 통하여 프레임의 상판(220a)과 프레임의 하판이 얼라인된다. An alignment part 340 is formed near four vertices of the upper plate 220a of the frame. The alignment unit 340 is a hole in a round shape, and the upper plate 220a of the frame and the lower plate of the frame are aligned through the alignment unit 340.

도 3b를 참조하면, 프레임의 하판(220b) 상에 기재 기판(100)이 부착되어 있다. 상기 프레임의 하판(220b)의 네개의 꼭지점 부근에도 상기 프레임의 상판(220a)와 마찬가지로 상기 얼라인부(340)가 형성되어 있다.Referring to FIG. 3B, the base substrate 100 is attached to the lower plate 220b of the frame. Similar to the upper plate 220a of the frame, the alignment portion 340 is formed near the four vertices of the lower plate 220b of the frame.

도 3c를 참조하면, 얼라인판(350)의 네개의 꼭지점 부근에는 상기 얼라인부(340)에 결합될 얼라인핀(360)이 각각 형성되어 있다. Referring to FIG. 3C, alignment pins 360 to be coupled to the alignment unit 340 are formed around four vertices of the alignment plate 350, respectively.

도 3d 내지 도 3f를 참조하면, 얼라인부(340)가 형성되어 있는 프레임의 상판(220a)과 하판(220b)은 상기 프레임의 상판(220a) 및 상기 프레임의 하판(220b) 하부에 위치한 얼라인판(350)에 형성되어 있는 얼라인핀(360)이 상기 얼라인부(340)에 결합함으로써 상기 프레임의 상판(220a)과 하판(220b)이 얼라인 되어 있고, 점착 테이프(130)가 부착된 상기 프레임의 상판(220a)과 기재 기판(100)이 부착된 상기 프레임의 하판(220b)을 부착함으로써 상기 기재 기판(100)을 상기 프레임의 상판(220a)과 하판(220b) 사이에 부착함을 알 수 있다.3D to 3F, the upper plate 220a and the lower plate 220b of the frame on which the alignment unit 340 is formed are aligned on the lower plate 220a of the frame and the lower plate 220b of the frame. The alignment pin 360 formed on the 350 is coupled to the alignment unit 340 so that the upper plate 220a and the lower plate 220b of the frame are aligned, and the adhesive tape 130 is attached thereto. It is understood that the base substrate 100 is attached between the top plate 220a and the bottom plate 220b of the frame by attaching the top plate 220a of the frame and the bottom plate 220b of the frame to which the base substrate 100 is attached. Can be.

본 실시예에서는 프레임이 상판과 하판으로 이루어져 있으며, 상기 프레임의 상판과 하판을 얼라인판을 이용하여 얼라인하므로, 상기 기재 기판과 프레임을 정확하게 얼라인시킬 수 있다. In this embodiment, the frame consists of an upper plate and a lower plate, and the upper plate and the lower plate of the frame are aligned using the alignment plate, so that the base substrate and the frame can be accurately aligned.

상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 도너 기판의 제조 방법과 동일하다. Except for the above, the method of manufacturing the donor substrate according to the second embodiment of the present invention is the same.

도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 설명하기 위한 공정순서도들이다. 4A to 4C are process flowcharts for describing a method of manufacturing an organic EL device according to an embodiment of the present invention.

도 4a를 참조하면, 화소전극(460)이 형성된 기판(450)이 투입된다. 이때, 상기 기판(450) 상에는, 박막트랜지스터 및 그 상부에 위치한 평탄화막(도시되지 않음)과 상기 평탄화막 상에 화소전극이 형성되어 있는 것이 일반적이다. Referring to FIG. 4A, a substrate 450 on which a pixel electrode 460 is formed is introduced. In this case, a thin film transistor, a planarization layer (not shown) disposed on the substrate 450, and a pixel electrode are generally formed on the planarization layer.

도 4b를 참조하면, 화소전극(460)이 형성된 기판(450) 상에 상술한 본 발명의 제 1 내지 제 4 실시예에 따른 도너 기판의 제조 방법에 의해 제조된 도너 기판(480)을 라미네이션한다. Referring to FIG. 4B, the donor substrate 480 manufactured by the method of manufacturing a donor substrate according to the first to fourth embodiments of the present invention described above is laminated on the substrate 450 on which the pixel electrode 460 is formed. .

종래에는 롤 형태의 기재 기판에 전사층이 미리 형성되어 있었는바, 크랙 및 파티클이 많이 발생할 수 있었으나, 본 발명에서는 상기한 바와 같이 재단된 기재 기판(100)을 점착 수단을 이용하여 프레임(120)에 부착한 후에 상기 전사층(140)을 형성함으로써 크랙 및 파티클 발생을 억제할 수 있다. 또한, 상기 도너 기판(100)이 처지거나 굴곡이 형성되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 화소전극(460)이 형성된 기판(450)과의 밀착이 용이하고 진공 유지가 좋아 전사효율을 향상시킬 수 있다. Conventionally, since the transfer layer was previously formed on the substrate substrate in the form of a roll, a lot of cracks and particles could be generated. However, in the present invention, the substrate 120 cut as described above may be cut onto the frame 120 using an adhesive means. By attaching to the transfer layer 140 to form a crack and particles can be suppressed. In addition, the donor substrate 100 may be prevented from sagging or bending. In addition, since the adhesion to the substrate 450 on which the pixel electrode 460 is formed is easy and the vacuum is maintained, the transfer efficiency can be improved.

도 4c를 참조하면, 전사층(140)이 형성되어있는 도너 기판(480)에 레이저를 조사하여 상기 화소전극(460) 상에 유기막층 패턴(470)을 형성한다. Referring to FIG. 4C, the donor substrate 480 on which the transfer layer 140 is formed is irradiated with a laser to form an organic layer pattern 470 on the pixel electrode 460.

상기 유기막층 패턴(470)을 형성하는 공정은 N2 분위기에서 이루어질 수 있다. 일반 대기중에는 산소 성분이 존재하므로 전사되는 상기 유기막층 패턴(470)이 산화될 우려가 있기 때문에 산소 성분을 없앤 질소 분위기에서 상기 전사 공정을 수행할 수 있다. 또한, 상기 전사 공정은 진공 분위기에서 이루어질 수 있는바, 상기한 라미네이션 공정시 도너 기판과 기판 사이의 기포 발생을 억제할 수 있는 효과가 있다. The process of forming the organic layer pattern 470 may be performed in an N 2 atmosphere. Since an oxygen component is present in the general atmosphere, the organic layer layer pattern 470 to be transferred may be oxidized, and thus the transfer process may be performed in a nitrogen atmosphere in which the oxygen component is removed. In addition, the transfer process can be performed in a vacuum atmosphere, there is an effect that can suppress the generation of bubbles between the donor substrate and the substrate during the lamination process.

상기 전사 공정에서 형성되는 유기막층 패턴은 발광층, 정공주입층, 정공전달층, 전자전달층 및 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택되는 1종의 단일층일 수 있으며 또한, 2종 이상의 다중층일 수도 있다.The organic layer pattern formed in the transfer process may be one single layer selected from the group consisting of a light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transfer layer, and an electron injection layer, or may be two or more multilayers.

상기 전사 공정 후에, 상기 유기막층 패턴 상에 캐소드전극을 형성하여 유기 전계 발광 소자를 완성한다. After the transfer process, a cathode is formed on the organic layer pattern to complete the organic EL device.

상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 점착 수단을 이용하여 기재 기판을 프레임에 부착하고 상기 기재 기판 상에 전사층을 형성하여 도너 기판을 형성함으로써, 도너 기판 상에 파티클 기타 오염이 발생하는 것을 방지하고 또한, 도너 기판의 처짐 또는 굴곡 형성을 방지할 수 있는 이점을 제공한다. 뿐만 아니라, LITI를 이용하여 유기막층 패턴을 형성함에 있어서, 기재 기판을 점착 수단을 이용하여 프 레임에 부착하여 도너 기판을 형성한 후, 상기 도너 기판을 기판 상에 라미네이션함으로써, 도너 기판 상에 파티클 기타 오염이 발생하는 것을 방지하고, 도너 기판의 처짐 또는 굴곡 형성을 방지하여 유기 전계 발광 소자의 불량 발생을 감소시키고 또한, 도너 기판과 기판과의 밀착이 용이하고 진공 유지가 좋아 전사 효율을 향상시킬 수 있는 이점을 제공한다.According to the present invention as described above, by attaching the substrate substrate to the frame using an adhesive means and forming a transfer layer on the substrate substrate to form a donor substrate, to prevent the occurrence of particles and other contamination on the donor substrate It also provides the advantage of preventing sag or bending formation of the donor substrate. In addition, in forming the organic film layer pattern using LITI, by attaching the substrate substrate to the frame using an adhesive means to form a donor substrate, by laminating the donor substrate on the substrate, particles on the donor substrate It is possible to prevent other contamination from occurring and to prevent sagging or bending of the donor substrate to reduce the occurrence of defects of the organic electroluminescent element, and to improve the transfer efficiency due to easy adhesion between the donor substrate and the substrate and good vacuum retention. It provides the benefits.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이다.While the foregoing has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. Could be.

Claims (11)

광-열 변환층(LTHC)을 구비하는 기재(base) 기판을 풀어주는 단계;Releasing a base substrate having a light-to-heat conversion layer (LTHC); 상기 풀어진 기재 기판을 재단하는 단계; Cutting the unwrapped substrate substrate; 상기 재단된 기재 기판을 점착 수단을 이용하여 프레임에 부착하는 단계; 및Attaching the cut base substrate to a frame using adhesive means; And 상기 프레임에 부착된 기재 기판 상에 전사층을 형성하는 단계를 포함하며,Forming a transfer layer on the substrate substrate attached to the frame; 상기 점착 수단은 상온 이상에서는 상온에서보다 점착력이 감소하며,The pressure-sensitive adhesive means less than at room temperature than the adhesive strength, 상기 프레임은 상판과 하판으로 이루어져 있으며, 상기 기재 기판을 사기 프레임의 상판과 하판 사이에 부착하는 것을 특징으로 하는 도너 기판의 제조 방법.The frame is composed of an upper plate and a lower plate, the method of manufacturing a donor substrate, characterized in that the base substrate is attached between the upper plate and the lower plate of the fraud frame. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 점착 수단은 점착 테이프인 것을 특징으로 하는 도너 기판의 제조 방법.Said adhesive means is an adhesive tape, The manufacturing method of the donor substrate characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 점착 수단은 액체로 이루어진 것을 특징으로 하는 도너 기판의 제조 방법.And said adhesion means is made of a liquid. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 점착 테이프는 아미드(imide) 또는 케톤(ketone) 계열의 화합물로 이루어진 것을 특징으로 하는 도너 기판의 제조 방법.The adhesive tape is a method of manufacturing a donor substrate, characterized in that consisting of an amide (keide) -based compound. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 재단된 기재 기판을 상기 프레임의 상부면 및 하부면에 부착하는 것을 특징으로 하는 도너 기판의 제조 방법.And attaching the cut substrate substrate to upper and lower surfaces of the frame. 삭제delete 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 기재 기판을 상기 프레임의 상판과 하판 사이에 부착하기 전에,Before attaching the base substrate between the upper plate and the lower plate of the frame, 상기 프레임의 상판 및 하판 하부에 위치하는 얼라인판을 사용하여 상기 프레임의 상판과 하판을 얼라인하여 주는 것을 특징으로 하는 도너 기판의 제조 방법.A method of manufacturing a donor substrate, characterized in that the upper plate and the lower plate of the frame are aligned by using an alignment plate positioned below the upper and lower plates of the frame. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 프레임 내부의 크기가 기판 전면의 크기보다 큰 것을 특징으로 하는 도너 기판의 제조 방법.And the size of the inside of the frame is larger than the size of the front surface of the substrate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기재 기판을 재단하는 단계는 Cutting the base substrate is 상기 기재 기판을 상기 기재 기판의 진행 방향으로 재단하는 단계; 및Cutting the base substrate in the advancing direction of the base substrate; And 상기 기재 기판을 상기 기재 기판의 진행 방향과 수직으로 재단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판의 제조 방법.And cutting the base substrate perpendicularly to the traveling direction of the base substrate. 화소전극이 형성된 기판을 제공하는 단계;Providing a substrate on which a pixel electrode is formed; 상기 기판 전면에 제 1 항의 방법으로 제조된 도너 기판을 라미네이션 (lamination)하는 단계; 및Laminating a donor substrate manufactured by the method of claim 1 on the entire surface of the substrate; And 상기 기재 기판의 소정 영역에 레이저를 조사하여 상기 화소전극 상에 유기막층 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법.And forming an organic film layer pattern on the pixel electrode by irradiating a laser to a predetermined region of the base substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20010060302A (en) * 1999-11-12 2001-07-06 고오사이 아끼오 Adhesive tape

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990036521A (en) * 1997-10-09 1999-05-25 다니구찌 이찌로오, 기타오카 다카시 Individual semiconductor device and manufacturing method thereof
KR20010060302A (en) * 1999-11-12 2001-07-06 고오사이 아끼오 Adhesive tape

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