KR20060039847A - 고속 액체-기체 분무에 의한 조직연마장치 및 방법 - Google Patents

고속 액체-기체 분무에 의한 조직연마장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 조직을 연마 또는 세정하는 장치에 관한 것이다. 본 발명의 장치에는 압력기체 소스와 연결된 기체유입포트 (gas inlet port); 압력액체 소스와 연결된 액체유입포트 (liquid inlet port); 분무제트 이송노즐체 (mist jet delivery nozzle arrangement)가 구비되며, 이 분무제트 이송노즐체는, 기체유입포트로부터 압력기체를 공급받고 이 기체흐름의 분출에 속도를 더하기 위하여 가속 기능을 하는 하나 이상의 기체분사노즐 (gas discharge nozzle)과, 액체유입포트로부터 액체를 공급받고 가속된 기체흐름속으로 액체를 분사하는 기능을 함으로서 분사된 액체도 가속화된 안개방울로서 기체와 유사하게 함께 가속 분사되도록 된 하나 이상의 액체분사노즐 (liquid discharge nozzle)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
조직연마장치, 기체유입포트, 액체유입포트, 분무제트 이송노즐체, 기체분사노즐체, 액체분사노즐체

Description

고속 액체-기체 분무에 의한 조직연마장치 및 방법{A HIGH VELOCITY LIQUID-GAS MIST TISSUE ABRASION DEVICE}
본 발명은 조직연마 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 피부연마 및 표피박리를 위하여 고속의 액체-기체를 분사 적용하는 장치에 관한 것이다.
종래기술로서 생체조직의 노출 부위인 피부를 마찰하여 연마하거나 세정하는 장치가 알려져 있다. 여기에는 사람과 동물 양자에 대한 외과적 치료중에 적용되는 다양한 응용술이 있는데, 표피로부터 딱딱한 오염물, 즉, 섬유, 먼지, 모래알 등이나 고름, 지방 등을 제거할 때 필요한 것이다.
치은염과 같은 질병의 치과적 치료의 준비과정이나 치료 후 연이어서도 이와같은 세정이 필요하다. 제거되지 않은 치석은 캘큐러스(타타르)(calculus, tartar)라고 불리는 딱딱한 고형물이 되어 치아 밑부분에 침적된다. 또한, 박테리아로부터 생성되는 독소의 제거도 필요하다.
표피층을 포함하는 유기물들은 비 유기물보다 더욱 강력하게 피하 조직에 부착되려는 성질을 가지기 때문에 통상 제거가 무척 힘들다. 따라서, 비 유기물들은 액체 분사 방법에 의하여 조직으로부터 제거되지만, 일부 유기물들은 이러한 방법으로는 종종 제거가 불가능하다. 물과 같은 액체세정 시에는 조직위에 형성된 가루 들이 문제가 되는데, 특히 문제가되는 것은 액체흐름의 경계층 (boundary layer)의 두께보다 작은 가루들이다. 경계층의 유체속도는 흐름 표면에 인접할 때 급격히 저하하고, 또한 표면에서는 실제로 제로가 되는 특성을 지닌다.
경계층에 위치한 가장 작은 가루들은 표피에 부착되어 남아 있기에 충분한 정도의 견인 저항력을 지니고 있으며, 액체 흐름이 전반적으로 대단한 고속이라 할지라도 액체 흐름으로 인하여 쓸려나가지 안으려고 저항하게 된다.
다양한 표면에서의 세척을 개선하기 위하여 여러가지 세정 장치 및 시스템이 개발되었다. 앞서 기술한 문제 해결의 시도로 개발된 선행기술 장치로서는 미국특허 3,982,965, 4,350,158, 4,681,264, 4,982,730, 5,046,486, 5,551,909, 6,199,773, ,6,203,406, 6,454,871 및 영국특허 1,008,503 이 개시되어 있다. 이러한 장치들은 경계층 두께를 감소시키는 액체 흐름을 제공하는 것을 기본으로 하여운영되고 있는데, 작은 가루들을 쓸어내기 위하여 일부 얼음가루를 포함하는 고속의 에어로졸이나, 액체 파동을 기질 표면 위에 제트 분사하는 액체 및 기체 노즐을 구비하고 있다. 그러나 이러한 장치들은 구조가 복잡하고, 많은 양의 액체가 소모되며 또한 기존의 비 펄스 스프레이 장치들에 비해 단지 약간의 개선이 있었을 뿐이라는 것이 밝혀졌다.
1998년 3월 24일자 카이미 등 (Caimi et al)에게 부여된 미국특허 제5,730,806호 "기체-액체 초음파 세정 및 세정검증 스프레이 시스템"을 참조하면, 하나 이상의 수렴-분사 노즐을 구비한 기체-액체 세정 분사 시스템이 개시되어 있는데, 기계적, 전기적 그리고 액상 요소로 된 여러 종류의 물체를 세정하기 위하여 기체-액체를 초음속으로 가속한다.
2001년 9월 25일 및 2002년 3월 26일자 스탠코 등 (Stanko et al)에게 각각 부여된 미국특허 제6,293,498호 및 제6,360,992호에 개시된 "복합 방빙 시스템 및 그 운용방법"을 참조하면, 비행기로부터 얼음을 효과적으로 제거하기 위하여 특별히 공기역학적인 압력흐름 시스템을 도입함으로서 종래 시스템들의 단점을 보완하고 높은 속도를 시현하고 있다.
1992년 3월 31일자 로소 (Rosso)에게 부여된 미국특허 제5,100,412호 "미세 연마장치, 특히 인체조직 또는 가죽위에서"를 참조하면, 여기에는 특히 인체 조직 위에서의 미세 연마 장치가 개시되어 있는데, 이에는 치료할 표피 위에 놓이게 될 구멍 뚫린 핸들이 있고, 공기 작용식 케리어 (pneumatic carrier)속의 소모제를 일정량씩 이 핸들의 구멍으로 이송시키는 니플 장치 (nipple device)가 포함되어 있다. 이 이송장치에는 소모제를 핸들의 구멍으로 끌어내는 핸들에 부착된 진공체 (vacuum source)가 포함된다. 처리 폐기물들을 수집하는 수집장치도 제공된다.
1993년 5월 4일자 로소 (Rosso)에게 부여된 미국특허 제5,207,234호 "인체 조직위의 미세 연마 방법"에는 인체 조직상에서의 연마 방법이 개시되어 있다. 이 방법에는 인체조직 위로 닫히는 개방체임버 (open chamber)를 갖춘 핸들이 설치되어 인체조직으로 체임버 주변이 밀봉되어 흡착 (Suction)이 일어나고, 이 체임버 쪽으로 인체 조직이 부분적으로 흡착된다. 이 방법은 체임버 주변을 차단하여 주변 공기의 유입을 막고 체임버 내의 공기를 제거함으로서 체임버 쪽으로 공기의 흐름을 유도하며, 체임버로의 공기 흐름의 유입에 앞서 그 흐름 속에서 소모제를 실어 나른다. 이 방법은 인체 조직에서 90도 이내의 각도에서 소모제를 체임버로 유입되게 하며, 흡착에 의해 체임버로부터 제거되는 공기 흐름속으로 사용된 소모제나 연마된 조직들을 실어보내고, 또한 체임버에 진공을 계속 활용하는 동안에 소모제가 재사용되는 것을 차단하기 위하여 사용된 소모제와 연마된 조직을 한쪽으로 모은다.
1998년 9월 22일자 디 휘오레 등(Di Fiore et al)에게 부여된 미국특허 제5,810,842호 "공기/소모제 복합 흐름을 이용한 미세 피부연마 장치"를 참조하면, 여기에는 공기와 소모제의 복합적 흐름을 이용하는 미세 피부연마 장치가 개시되어 있다. 이 장치에는 진공펌프를 갖춘 케이스가 있고, 케이스 내부에 콤프레서가 장착되어 있다. 또한 콤프레서를 작동시키는 후트스위치 (footswitch)가 있고, 케이스 외부에는 믹싱벌브 (mixing bulb)와 수집벌브 (collecting bulb)가 있으며, 믹싱벌브와 수집벌브를 연결하는 핸드피스 (handpiece)가 구비된다. 믹싱벌브에 공기와 소모제가 내장된다.
여기에 더하여, 여러가지 치과적 세정장치가 개발되어 왔는데 이들은 치아, 충치, 치아 사이의 공간 등을 세척한다. 이들 장치중 일부는 치은염(gingivities)의 문제를 겨냥한 것이다. 이러한 장치는 미국특허 5,013,241, 5,203,698, 5,273,428, 5,387,182, 5,667,483, 6,120,755, 6,224,378, 6,497 572 및 독일특허 19654098, 프랑스 특허 2654331, 2599244 및 독일특허 3726349에 개시된 것들을 포함한다.
2001년 12월 16일자 엠타브거 (M. Tavger)에게 부여된 이스라엘 특허 제118801호 "조직 세정 장치 및 방법"에는 생체 조직 클렌징을 위하여 액체와 기체가 함께 작용하는 장치가 개시되어 있다. 이 장치에는 살균된 액체 저장고, 액체 주입구와 기체 주입구가 달린 액체전달헤드 (fluid delivery head), 액체송출장치, 주입구와 송출구 사이에 위치하여 선택적으로 액체 또는 기체를 주입구 쪽에서 송출구쪽으로 흐르도록 허용하는 밸브장치, 저장고 내부의 주입구와 전달헤드의 주입구와 연결된 액체 송출구를 연결하는 액체도관장치, 기체주입구와 기체송출구를 연결하는 기체도관장치가 구비되어 있으며, 여기에서 기체주입구는 압력기체 소스와 연결되고, 기체송출구는 전달헤드의 기체유입구와 연결된다. 또한 여기서 기체도관장치는 중간 송출구를 거쳐 저장고에 연결된다. 또한 살균액체 소스가 기체 유입구로부터 기체 유출구로 흐르는 압력기체의 흐름이 있는 쪽과 액체전달헤드의 기체 유입구 쪽으로 선택적으로 노출되도록 하는 장치가 구비됨으로써, 이것에 의하여 살균 액체를 유입구 에서 송출구 쪽으로, 그리고 액체전달헤드의 액체 유입구 쪽으로 펌핑하게 된다. 여기서 액체송출장치에는 기체 액체 통합화 수단 (gas-liquid combining member)이 구비되어 있어서 여기서 기체와 액체 흐름을 이어 받아서 이들을 기체-액체 배출흐름 속에서 통합하며, 이것이 응축된 살균 액체 분무가 되어 액체 송출구를 통하여 높은 속도의 기체흐름 상태로 이 장치를 빠져나가는 역할을 수행하게 된다.
2001년 12월 16일자 엠타브거 (M. Tavger)에게 부여된 이스라엘 특허 제122016호 "피부연마 장치"에는 살균 액체의 소스를 압력기체 흐름에 노출시키는 방법이 개시되어 있다. 그리하여 이것이 펌핑 공급되어 액체전달헤드로 가게 하고, 압력기체를 액체전달헤드에 공급하며, 전달헤드로 공급된 기체와 액체를 통합하고, 이 액체전달헤드에는 소정 내부직경의 액체 송출구를 갖추고 있어, 고속 기체흐름속에 응축된 살균 액체안개 형태의 기체-액체 분출흐름을 제공한다. 이 흐름은 액체 배출구로부터 일정거리에 있는 연마대상 표피의 일부에 노출됨으로서 적어도 피부 표피의 일부분을 박리시키게 되고, 또한 이 결과로 생성되는 조직의 파편을 제거하게 된다.
상기의 공개된 피부 연마 및 세정 장치들중 많은 것들이 조직연마나 피부 박리(peeling) 과정에서 특정한 결함을 나타내고 있다. 상대적으로 많은 흐름의 액체를 사용하는 상기 장치들은 세정대상 부위의 표면에 정체 경계층이 생성됨으로서 세정 및 세척효과가 감소한다. 피부연마 및 조직표면 또는 충치 등을 세정하는 기술분야에 있어서 세정과정이 진행되는 동안 최소한의 액체흐름 사용으로 경계층이 생기지 않도록 하는 것이 중대한 과제로 남아있다.
본 발명은 고속의 기체에 실려 운반되는 안개방울로된 세정액의 흐름을 상대적으로 적은 비율의 양으로 이용하는 조직 연마장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 안개방울들은 연마될 덩어리 또는 충치 등 패인곳의 조직 표면을 향해 대단히 고속으로 분사됨으로서 조직 표면을 세척한다. 또한 적은 비율의 액체흐름은 액체 경계층의 형성을 효과적으로 차단함으로서 연마효과를 극대화하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 본 발명인 조직 연마장치는, 압력기체 소스와 연결된 기체유입포트 (gas inlet port); 압력액체 소스와 연결된 액체유입포트 (liquid inlet port); 분무제트 이송노즐체 (mist jet delivery nozzle arrangement)가 구비되며, 이 분무제트 이송노즐체는, 기체유입포트로부터 압력기체를 공급받고 이 기체흐름의 분출에 속도를 더하기 위하여 가속 기능을 하는 하나 이상의 기체분사노즐 (gas discharge nozzle)과, 액체유입포트로부터 액체를 공급받고 가속된 기체흐름속으로 액체를 분사하는 기능을 함으로서 분사된 액체도 가속화된 안개방울로서 기체와 유사하게 함께 가속 분사되도록 된 하나 이상의 액체분사노즐 (liquid discharge nozzle)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 본 발명인 조직 연마장치는, 압력기체 소스와 연결된 기체유입포트 (gas inlet port); 압력액체 소스와 연결된 액체유입포트 (liquid inlet port); 분무제트 이송노즐체 (mist jet delivery nozzle arrangement)와 흡착노즐체 (suction nozzle arrangement)가 구비된다. 추가된 흡착수단에는 하나 이상의 흡착포트를 지니면서 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 흡착도관 (suction conduit)이 구비되어 있다. 이 장치에는 추가적으로 흡착도관 및 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 적어도 하나 이상의 기체유입포트를 갖춘 주변공기 유입도관 (atmospheric air inlet conduit)을 구비함과 더불어 흡착도관에 흡착력을 부여하는 수단을 아울러 구비함으로서, 분무제트 이송노즐체 주변의 연마된 조직 부스러기나 액체가 하나 이상의 흡착포트를 통하여 흡착되도록 한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 이 장치는 흡착노즐체(suction nozzle arrangement) 등의 흡착수단을 더 포함하는데, 이 장치에는 하나 이상의 흡착포트를 포함하면서 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된다. 또한 이 장치는 흡착도관 및 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 하나 이상의 기체유입포트를 갖춘 주변공기 유입도관 (atmospheric air inlet conduit)을 구비함과 더불어, 흡착도관에 흡착력을 부여하는 수단을 아울러 구비함으로서 분무제트 이송노즐체 주변의 연마된 조직 부스러기나 액체가 하나 이상의 흡착포트를 통하여 흡착되도록 한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기체는 압력기체 소스로부터 40-150 p.s.i. 범위로 공급되고, 액체는 압력액체 소스로부터 0-5 p.s.i. 범위로 공급된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기체는 외부공기, 산소, 이산화탄소 및 질소중 하나 이상을 포함하는 압력기체 소스로부터 공급된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기체분사노즐로부터 분출되는 기체는 음속이하에서 초음속의 속도 범위로 가속된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 분무제트 이송노즐체는 적어도 2개의 기체분사노즐 또는 적어도 2개의 액체분사노즐을 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 하나 이상의 액체분사노즐은 중심을 공유하는 동심원의 형태가 되도록 설치되며 하나 이상의 기체분사노즐 내에 설치된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 하나 이상의 기체분사노즐은 수렴부분과, 목부분과, 발산부분을 갖추도록 구성된 장치이다.
본 발명의 실시예에 따르면, 본 발명의 장치는 한 손으로 잡고 사용되도록 구성된 장치이다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 하나 이상의 기체분사노즐로 인입되는 기체 흐름은 "첫째 크기의 압력"이어야 하고, 또한 이들 하나 이상의 기체분사노즐은 이를 통과하는 기체 흐름의 압력 저하가 유발되도록 작용하면서 여기서 분사되는 기체 압력이 "둘째 크기의 압력"이 되어야 하는데, 여기서 상기한 첫째 크기의 압력은 적어도 둘째 크기의 압력의 2배가 되어야 한다. 이렇게 해서 하나 이상의 기체분사노즐과 하나 이상의 액체분사노즐의 기체 및 액체 흐름 속에 쇽크 파동을 유발하고, 하나 이상의 액체분사노즐로부터 분출되는 액체를 기체화하여 고속의 안개방울로 변화시킴으로서 분사되는 고속 기체 흐름에 편승하는 안개 방울을 형성하게 된다.
본 발명의 다른 바람직한 실시예에 따르면, 본 발명인 조직 연마장치는, 압력기체 소스, 압력액체 소스, 그리고 압력기체 소스와 연결된 기체유입포트 (gas inlet port)와 압력액체 소스와 연결된 액체유입포트 (liquid inlet port)와 분무제트 이송노즐체 (mist jet delivery nozzle arrangement)를 모두 구비하여 구성된 장치로 구성된다. 이 분무제트 이송노즐체는, 기체유입포트로부터 압력기체를 공급받으며 이 기체흐름의 분출에 속도를 더하기 위하여 가압 기능을 하는 하나 이상의 기체분사노즐 (gas discharge nozzle)을 구비한다. 또한 이 장치는 액체유입포트로부터 액체를 공급받고 가속된 기체흐름속으로 액체를 분사하는 기능을 함으로서 분사된 액체도 가속화된 안개방울로서 기체와 유사하게 함께 가속 분사되도록 된 하나 이상의 액체분사노즐 (liquid discharge nozzle)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 본 발명의 시스템은, 하나 이상의 흡착포트를 지니면서 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 흡착도관 (suction conduit)이 구비되어 있다. 또한, 흡착도관 및 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 적어도 하나 이상의 기체유입포트를 갖춘 주변공기 유입도관 (atmospheric air inlet conduit)을 구비한다. 이 시스템은 추가로 흡착도관에 흡착력을 부여하는 수단을 아울러 구비함으로서, 분무제트 이송노즐체 주변의 연마된 조직 부스러기나 액체가 하나 이상의 흡착포트를 통하여 흡착되도록 한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기체는 압력기체 소스로부터 40-150 p.s.i. 범위로 공급되고, 액체는 압력액체 소스로부터 0-5 p.s.i. 범위로 공급된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기체는 외부공기, 산소, 이산화탄소 및 질소중 하나 이상을 포함하는 압력기체 소스로부터 공급된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기체분사노즐로부터 분출되는 기체는 음속이하에서 초음속의 속도 범위로 가속된다.
본 발명의 추가된 실시예에 따르면, 분무제트 이송노즐체는 적어도 2개의 기체분사노즐을 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 분무제트 이송노즐체는 적어도 2개의 액체분사노즐을 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 하나 이상의 액체분사노즐은 중심을 공유하는 동심원의 형태가 되도록 설치되며 하나 이상의 기체분사노즐 내에 설치된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 하나 이상의 기체분사노즐은 수렴부분과, 목부분과, 발산부분을 갖추도록 구성된 장치이다.
본 발명의 실시예에 따르면, 본 발명의 장치는 한 손으로 잡고 사용되도록 구성된 장치이다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 하나 이상의 기체분사노즐로 인입되는 기체 흐름은 "첫째 크기의 압력"이어야 하고, 또한 이들 하나 이상의 기체분사노즐은 이를 통과하는 기체 흐름의 압력 저하가 유발되도록 작용하면서 여기서 분사되는 기체 압력이 "둘째 크기의 압력"이 되어야 하는데, 여기서 상기한 첫째 크기의 압력은 적어도 둘째 크기의 압력의 2배가 되어야 한다. 이렇게 해서 하나 이상의 기체분사노즐과 하나 이상의 액체분사노즐의 기체 및 액체 흐름 속에 쇽크 파동을 유발하고, 하나 이상의 액체분사노즐로부터 분출되는 액체를 기체화하여 고속의 안개방울로 변화시킴으로서 분사되는 고속 기체 흐름에 편승하는 안개 방울을 형성하게 된다.
추가적으로, 고속의 액체-기체 분무를 사용하는 조직연마 방법이 또한 제공된다. 이 방법에는 기체 분사흐름에 속도를 도하기 위하여 하나 이상의 기체분사노즐을 통하여 기체흐름을 가속하는 단계와, 가속된 기체분사흐름에 액체흐름을 주입하여 액체를 안개방울로 분해되도록 하고 이를 기체분사흐름의 속도와 유사하도록 가속하는 단계와, 연마대상 조직체를 가속된 분무에 노출시키는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 이 방법은 흡착도관에 흡착력을 부여하는함으로서, 기체 및 분무 분사흐름 주변의 연마된 조직 부스러기나 액체가 하나 이상의 흡착포트를 통하여 흡착되도록 하는 단계를 더욱 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기체흐름을 가속하는 단계는, 기체흐름을음속이하에서 초음속의 속도 범위로 가속하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기체흐름을 가속하는 단계는, 기체흐름을음속에서 초음속의 속도 범위로 가속하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기체흐름을 가속하는 단계는, 외부공기, 산소, 이산화탄소 및 질소중 하나 이상을 포함하는 기체를 가속하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 가속된 기체분사흐름에 액체흐름을 인입하는 단계는, 하나 이상의 기체분사노즐로 인입되는 기체 흐름은 "첫째 크기의 압력"이어야 하고, 또한 이들 하나 이상의 기체분사노즐은 이를 통과하는 기체 흐름의 압력 저하가 유발되도록 작용하면서 여기서 분사되는 기체 압력이 "둘째 크기의 압력"이 되어야 하는데, 여기서 상기한 첫째 크기의 압력은 적어도 둘째 크기의 압력의 2배가 되어야 한다. 이렇게 해서 하나 이상의 기체분사노즐과 하나 이상의 액체분사노즐의 기체 및 액체 흐름 속에 쇽크 파동을 유발하고, 하나 이상의 액체분사노즐로부터 분출되는 액체를 기체화하여 고속의 안개방울로 변화시킴으로서 분사되는 고속 기체 흐름에 편승하는 안개 방울을 형성하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 연마대상 조직체를 가속된 분무에 노출시키는 단계는 본 장치를 한 손으로 잡는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 연마대상 조직체를 노출시키는 단계는, 조직체를 클렌징하여 조직체로부터 오염물을 제거하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 연마대상 조직체를 노출시키는 단계는, 고속의 기체흐름으로 조직체에 누적된 액체를 조직체로부터 분해하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 연마대상 조직체를 노출시키는 단계는, 산소흐름속에 살균액체를 사용하여 부착된 혐기성 유기체를 파괴, 세척하는 단계를 포함한다.
본 발명은 첨부된 도면과 상세한 설명을 참조하면 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 사람이 본 발명의 구성과 장점을 충분히 이해할 수 있도록 하였으며, 첨부된 도면은 아래와 같다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 구성 및 운영되는 조직연마장치의 사시도이다.
도 2는 도1의 장치의 측면 개요도이다.
도 3과 도 4는 도 1및 도 2에 보여준 분무제트 이송노즐체의 확대 개요도이다.
도 5는 도 4에 나타낸 이송노즐체로부터 안개방울들이 연마대상 표면을 향하여 분사되는 흐름을 보여주는 개요도이다.
도 6은 도 4에 나타낸 이송노즐체로부터 안개방울들이 치주염 주머니를 향하여 분사되는 흐름을 보여주는 개요도이다.
도 7은 본 발명의 대체 실시예로서 다수의 기체 및 액체 분사노즐을 구비하여 구성 운영되는 노즐체의 개요도이다.
도 8 및 도 9는 연마되는 표면에 형성되는 경계층의 효과 설명도이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 흡착수단을 구비한 조직연마장치의 부분 단면도이다.
도 11은 흡착수단을 구비한 조직연마장치의 부분단면 사시도이다.
도 12는 흡착수단을 구비한 조직연마장치의 부분 단면 입면도이다.
이하 본 발명의 구성과 작용을 첨부된 도면을 참조하면서 보다 상세하게 설명한다. 본 발명은 음속 이하에서 초음속의 범위까지 고속으로 액체-기체 분무를 대상 조직에 분사하여 조직을 면마할 수 있는 조직연마장치에 관한 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위하여, 이 기체흐름의 분출에 속도를 더하기 위하여 가속 기능을 하는 수렴-발산형 기체노즐로부터 기체가 분사된다. 적은 비율의 액체흐름이 가속된 기체흐름속으로 분사됨으로서, 분사된 액체도 가속화된 안개방울로서 기체와 유사하게 함께 가속 분사된다. 장치로부터의 액체흐름의 양적비율은 상대적으로 낮다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 바람직한 실시예로서 고속의 액체-기체 분무를 조직에 분사하여 연마하는 조직연마장치(100)이다. 때로는, 분무의 속도는 조직의 단 순 세정이나 적은 연마를 위하여 조절 가능하다. 조직연마장치(100)는 원통의 형상을 지니며, 액체 또는 기체의 유입구에서 가까운 쪽의 기단부(104)와 먼 쪽의 말단부(106)를 각각 포함하는 하우징부(102)가 구비된다. 기단부(104)에는 기체유입포트(108)와 액체유입포트(110)가 구비된다. 말단부(106)에는 분무제트 이송노즐체(112)가 구비된다.
도 3 및 도 4는 도 2와 연관된 것으로, 본 조직연마장치(100)중 노즐체(112)의 개략 단면도이다. 노즐체(112)에는 기체분사노즐(114)이 구비되고, 이 기체분사노즐의 내부에 동심원의 형상으로 액체분사노즐(116)이 위치한다. 액체유입포트(110)가 액체이동튜브(118)에 의하여 액체분사노즐(116)과 액체 이동이 가능토록 연결되어 있고, 이는 통상 원통형의 하우징부(102)와 동심원의 형태로 위치한다.
압력기체가 압력기체소스(미도시)로부터 기체유입포트(108)를 거쳐 조직연마장치(100)로 유입된다. 이 압력기체는 기체분사노즐(114)을 통해 분사될 수 있도록 원통형의 하우징부(102) 내부에서 화살표 134로 표시된 방향으로 통과한다. 기체분사노즐(114)은, 흐름순서로 볼 때, 통상 수렴부(120), 목부(122) 및 발산부(124)로 구성된다. 기체분사노즐(114)에서 화살표 126 방향으로 분사되는 압력기체는 대기압에 노출되면서 급격한 압력저하 상태에 놓이게 되고, 음속이하에서 초음속까지의 범위에서, 특히 초음속으로 가속된다. 기체분사노즐(114)은, 분사기체가 10도 이하의 콘앵글(cone angle)을 가짐으로서 대체로 평행적 기체흐름 (substantially parallel gas flow)을 제공하도록 구성된다.
압력액체소스(미도시)로부터 액체가 액체유입포트(110)와 액체이동튜브(118) 르 거쳐 화살표 132 방향을 따라 조직연마장치(100)로 유입된다. 반면 말단부(106)에서 액체는, 액체분사노즐(116) 말단의 개구부(128)를 통하여 화살표 130의 액체흐름 방향으로 분사되는 기체흐름 126 속으로 분사된다.
기체분사노즐(114)의 압력기체가 대기압 속으로 진입하면서 급격한 압력저하를 가져온다는 것은 이 분야의 통상의 기술자라면 쉽게 알 수 있는 것이다. 이와 같은 급격한 압력저하는 분사되는 기체흐름의 속도를 대략 음속 정도로 또는 그 이상으로 크게 가속하게 되며 또한 쇼크 파동을 만들어내게 된다. 쇼크 파동의 효과로서 액체분사노즐(116)로부터 기체흐름속으로 분사된 액체는 안개액체방울(130)로 분자화됨으로서, 고속의 기체흐름(126) 속에서도 상대적으로 좁은 분무제트를 얻을 수 있는 것이다.
또한, 예를 들면, 액체흐름이 기체흐름에 대해 차지하는 비율이 대단히 작은데, 이는 상대적으로 높은 약 100 p.s.i.의 기체 압력과 약 2 p.s.i.의 낮은 액체 압력, 그리고 작은 내경 (약 0.09 mm)의 액체분사노즐(116)에 비해 상대적으로 넓은 내경 (약 0.8 mm)의 기체분사노즐 (114) 때문이다. 결과적으로 연마 또는 세척 부위에 액체누적이 거의 없다. 또한, 상대적으로 높은 기체흐름 속도가 누적된 액체가 있으면 이를 분해한다. 세정에 액체 제트만을 이용할 때, 액체가 조직 표면에 누적되는 성향이 있어 표면과 가까이에서 표면과 접촉하면서 정체된 액체 경계층을 형성하게 됨으로서 세정의 효과가 감소된다.
도 5는 연마 또는 세척될 조직표면(142)을 향해 고속흐름의 안개방울들(140)을 노즐체(112)로부터 고속기체흐름(126) 속으로 분사하는 것을 보여주는 개요도이 다. 사용자는 본 조직연마장치(100)의 하우징부(102)를 손에 넣고 잡는다.
도 6은 잇몸(146)과 치벽(148) 사이에 위치한 치주염 주머니 속을 향해 고속흐름의 안개방울들(140)을 노즐체(112)로부터 고속기체흐름(126) 속으로 분사하는 것을 보여주는 개요도이다. 사용자는 본 조직연마장치(100)의 하우징부(102)를 손에 넣고 잡는다. 이 과정은, 치석, 결석 조각들, 박테리아, 그리고 박테리아로부터 생성되어 치은염을 유발, 악화시킬 수 있는 독소들을 제거할 수 있도록 하는 치과적 스케일링 치료에 연이어서, 치주염 주머니를 세정 또는 세척하는데 특별한 효과가 있다.
도 7은 본 발명의 대체 실시예로서, 하우징부(102)와 다수의 노즐체(150)를 구비한 조직연마장치(미도시)의 단면도이다. 노즐체(150)는 다수의 기체분사노즐(152)과 각 기체분사노즐 내부의 동심원상에 위치하면서 이보다 더 튀어나온 다수의 액체분사노즐(154)로 구성된다. 이러한 다수의 노즐체(150)는 조직연마, 피부 표피박리, 또는 세척 등의 목적으로 이 시스템을 사용하는 경우 그 효율을 더욱 높일수 있다.
도 8 및 도 9는 액체 스프레이노즐(164, 도 8)을 고속 액체-기체분무 분사장치 (166, 도 9)와 비교 사용할 때, 조직 표면 (162)으로부터 피부 부스러기 등을 포함하는 오염물, 그 파편 등 (160)을 세정 또는 세척하는 상대적 효과를 설명하는 도면이다. 스프레이노즐(164)은 정체된 액체경계층 (168)을 쌓아올림으로서 세정 및 세척의 효과를 감소시킨다. 디스펜서(Dispenser), 즉 고속 액체-기체분무 분사장치(166)는 적은 양의 액체를 고속 안개방울들(130)로 변화시켜 고속의 기체흐름 속에서 사용하여 세정 및 세척을 행하므로 상대적으로 적은 양의 액체를 사용한다. 또한, 대부분의 누적된 액체(170)도 표피(162) 및 파편들(160)로부터 고속의 기체흐름에 부딪치면서 떨어져 나간다. 도 8과 도9에 각각 표현된 속도개념(172 및 174)은, 각각의 경계층(168 및 170)에서 나타난 세척에 대한 상대적 저항정도를 나타낸다.
또한, 현미경으로 밖에 볼 수 없는 아주 작은 물방울에 의해 부스러기나 조각들이 습기에 젖는 경우도 세척에 대한 공기역학적 저항은 크게 증가하게 되며, 따라서, 조직 표면으로부터 파편들을 세척, 분리하거나 물방울 흐름속에서 세척된 부스러기들을 이동시키기 위하여는 기체흐름과 결합된 고속 액체방울들에 의한 융단 폭격형태의 커다란 힘이 필요하게 된다. 부스러기들의 공기역학적 저항이 증가하는 이유는, 한편으로는 액체 방울들에 의해 이러한 부스러기들이 젖어들기 때문이고, 다른 한편으로는 조직 표면에 정체된 액체 경계층이 존재하기 때문이다. 그러나, 본 발명에서는 여하한 오염물 부스러기들이 정체된 액체흐름 경계층에 의해서 보호되지 않기 때문에, 부스러기들이 고속의 기체-액체 분무제트흐름에 노출되어져서 제거된다.
액체누적 또는 조직파편으로 유발된, 조직 세정 또는 연마에 대한 기체역학적 저항을 더욱 감축하기 위하여는, 상기 누적물들에 대한 물리적 제거를 지속함으로서 현저한 효과를 시현할 수 있다.
도 10, 도 11 및 도 12는 본 발명의 추가 실시예로서, 고속 액체-기체 분무를 조직에 분사함으로서 조직을 연마하고, 또한 분무제트 이송노즐체(208) 주변에 위치하는 흡착수단(204)을 구비한 조직연마장치(200)를 보여주고 있다.
분무제트 이송노즐체(208)는 하우징부(210)와 다수의 노즐체(212)를 포함한다. 노즐체(212)는 다수의 기체분사노즐(214)과, 각 기체분사노즐 내부에 동심원상으로 위치하면서 이보다 더 튀어나온 다수의 액체분사노즐(216)로 구성된다. 이러한 다수의 노즐체(150)는 조직연마, 피부 표피박리, 또는 세척 등의 목적으로 이 시스템을 사용하는 경우 그 효율을 더욱 높일수 있다.
흡착수단(204)은 분무제트 이송노즐체(208)와 연동되면서 이와 동축(同軸)상에 위치하는 2개의 도관 또는 체임버를 포함한다. 진공 또는 흡착력이 화살표 218의 표시대로 흡착포트(222)를 통하여 흡착도관(220) 또는 체임버에 적용되며, 이에따라 액체, 기체, 연마된 조직 부스러기 또는 파편등이 조직 표면으로부터 화살표 224 방향으로 끌려가게 된다. 내부의 공기도관(226) 또는 체임버는 공기유입포트(228)를 통하여 대기상의 공기가 화살표 230 방향으로 유입되도록 허용한다.
조직연마장치(200)는 기체분사노즐(214)를 통하여 압력기체를 분사하고, 액체분사노즐(216)을 통하여 기체흐름 속으로 액체를 분사한다. 조직연마장치(200)는 세정 또는 연마될 조직에 밀착하여 위치함으로서, 흡착도관(220) 또는 체임버의 외부 가장자리(232)가 조직 표면에 밀착되도록 한다.
화살표 224 방향으로 표시된 흡착도관(220) 또는 체임버로부터의 흡착은, 화살표 230 방향으로 대기상의 공기가 유입포트(228)를 통하여 유입됨으로서 상호 밸런스를 이룬다. 화살표 234 방향으로 공기도관(220) 또는 체임버를, 화살표 224 방향으로 흡착도관(220) 또는 체임버를 경유한다. 그 이후, 공기는 모든 액체 및 조 직 파편과 함께 흡착도관(220) 또는 체임버를 통하여 끌려가고, 화살표 218 방향으로 분리 폐기를 위하여 흡착포트(222)를 빠져나간다.
본 발명이 제시된 도면과 명세서에 의해 한정되지 않는다는 것은 이 기술분야의 기술자에게는 자명한 것이다. 이 보다는 본 발명은 이하의 청구범위의 기재에 의하여서만 정의된다.
본 발명은 고속의 기체에 실려 운반되는 안개방울로된 세정액의 흐름을 상대적으로 적은 비율의 양으로 이용하는 조직 연마장치를 제공하므로서, 액체흐름의 양이 대단히 적어, 세정 및 세척, 연마 및 박리 등을 방해하는 액체 경계층의 형성을 효과적으로 차단하는 효과가 있다.
또한, 고속의 안개방울들이 연마될 덩어리, 표피 또는 충치 등 패인곳의 조직 표면을 향해 액체 경계층의 저항없이 대단히 고속으로 분사됨으로서 조직 표면을 효과적으로 세척하는 것이 가능하고, 분사속도의 적절한 조절로 세정, 세척, 연마, 박리 등 다양한 방법으로 장치를 사용할 수 있는 효과가 있다.

Claims (35)

  1. 조직연마장치에 있어서,
    a)압력기체 소스와 연결된 기체유입포트와;
    b)압력액체 소스와 연결된 액체유입포트와;
    c)분무제트 이송노즐체로 구성되며, 상기 분무제트 이송노즐체는,
    i)기체유입포트로부터 압력기체를 공급받고 이 기체흐름의 분출에 속도 를 더하도록 가속하도록 구성된 하나 이상의 기체분사노즐과;
    ii)액체유입포트로부터 액체를 공급받고 가속된 기체흐름속으로 액체를 분사함으로서 분사된 액체도 기체와 유사하게 가속화된 안개방울로서 함께 가속 분사되도록 된 하나 이상의 액체분사노즐을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  2. 청구항 1에 있어서, 상기조직연마장치는,
    a)하나 이상의 흡착포트를 지니면서 상기 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 흡착도관과;
    b)상기 흡착도관 및 상기 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 적어도 하나 이상의 기체유입포트를 갖춘 주변공기 유입도관과;
    c)상기 분무제트 이송노즐체 주변의 연마된 조직 부스러기나 액체가 하나 이상의 흡착포트를 통하여 흡착되도록 상기 흡착도관에 대한 흡착력 부여수단을 구 비한 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  3. 조직연마장치에 있어서,
    a)압력기체 소스와 연결된 기체유입포트와;
    b)압력액체 소스와 연결된 액체유입포트와;
    c)분무제트 이송노즐체와;
    d)흡착노즐체로 구성되며, 상기 흡착노즐체는,
    i)하나 이상의 흡착포트를 지니면서 상기 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 흡착도관과;
    ii)상기 흡착도관 및 상기 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 적어도 하나 이상의 기체유입포트를 갖춘 주변공기 유입도관과;
    iii)상기 분무제트 이송노즐체 주변의 연마된 조직 부스러기나 액체가 하나 이상의 흡착포트를 통하여 흡착되도록 상기 흡착도관에 대한 흡착력 부여수단을 구비한 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 조직연마장치로 공급되는 기체는, 압력기체 소스로부터 40-150 p.s.i. 범위로 공급되는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 조직연마장치로 공급되는 액체는, 압력액체 소스로부터 0-5 p.s.i. 범위로 공급되는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 조직연마장치로 공급되는 기체는, 외부공기, 산소, 이산화탄소 및 질소중 하나 이상을 포함하여 압력기체 소스로부터 공급되는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 기체분사노즐로부터 분출되는 기체는 음속이하에서 초음속의 속도 범위로 가속되는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 분무제트 이송노즐체는 적어도 2개의 기체분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 분무제트 이송노즐체는 적어도 2개의 액체분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  10. 청구항 1에 있어서, 상기한 적어도 하나 이상의 액체분사노즐은, 상기한 적어도 하나 이상의 기체분사노즐과 중심을 공유하는 동심원의 형태가 되도록 하면서그 기체분사노즐 내부에 설치된 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  11. 청구항 1에 있어서, 상기한 하나 이상의 기체분사노즐은 수렴부분과, 목부분과, 발산부분을 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 조직 연마장치
  12. 청구항 1에 있어서, 상기 조직연마장치는 한 손으로 잡고 사용되도록 구성된 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  13. 청구항 1에 있어서, 상기 조직연마장치는,
    상기 하나 이상의 기체분사노즐로 인입되는 기체 흐름이 "첫째 크기 압력"이 되고, 또한 이들 하나 이상의 기체분사노즐을 통과하는 기체 흐름은 압력 저하가 유발되도록 작용하면서 여기서 분사되는 기체 압력이 "둘째 크기 압력"이 되며, 상기 첫째 크기 압력은 적어도 둘째 크기 압력의 2배가 되도록 함으로서, 상기 하나 이상의 기체분사노즐과 하나 이상의 액체분사노즐의 기체와 액체 흐름 속에 쇽크 파동을 유발하고, 하나 이상의 액체분사노즐로부터 분출되는 액체를 안개화하여 고속의 안개방울로 변화시킴으로서 분사되는 고속 기체흐름에 고속 편승하는 안개 방울을 형성토록 한 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  14. 청구항 1에 있어서, 상기 조직 연마장치는,
    a)압력기체 소스와;
    b)압력액체 소스와;
    c)포트노즐장치로 구성되며, 상기 포트노즐장치는
    i)압력기체 소스와 연결된 기체유입포트와;
    ii)압력액체 소스와 연결된 액체유입포트와;
    iii)분무제트 이송노즐체를 모두 구비하여 구성되고,
    상기 분무제트 이송노즐체는,
    1)기체유입포트로부터 압력기체를 공급받으며 이 기체흐름의 분출에 속도를 더하기 위하여 가속 기능을 하는 하나 이상의 기체분사노즐과;
    2)액체유입포트로부터 액체를 공급받고 가속된 기체흐름속으로 액체를 분사하는 기능을 함으로서 분사된 액체도 가속화된 안개방울로서 기체와 유사하게 함께 가속 분사되도록 된 하나 이상의 액체분사노즐을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  15. 청구항 14에 있어서, 상기 조직연마장치는,
    a)하나 이상의 흡착포트를 지니면서 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 흡착도관과;
    b)상기 흡착도관 및 상기 분무제트 이송노즐체와 연동되도록 설치된 적어도 하나 이상의 기체유입포트를 갖춘 주변공기 유입도관과;
    c)상기 분무제트 이송노즐체 주변의 연마된 조직 부스러기나 액체가 하나 이상의 흡착포트를 통하여 흡착되도록 상기 흡착도관에 대한 흡착력 부여수단을 구비한 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  16. 청구항 14에 있어서, 상기 조직연마장치로 공급되는 기체는, 압력기체 소스로부터 40-150 p.s.i. 범위로 공급되는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  17. 청구항 14에 있어서, 상기 조직연마장치로 공급되는 액체는, 압력액체 소스로부터 1-5 p.s.i. 범위로 공급되는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  18. 청구항 14에 있어서, 상기 조직연마장치로 공급되는 기체는, 외부공기, 산소, 이산화탄소 및 질소중 하나 이상을 포함하여 압력기체 소스로부터 공급되는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  19. 청구항 14에 있어서, 상기 기체분사노즐로부터 분출되는 기체는 음속이하에서 초음속의 속도 범위로 가속되는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  20. 청구항 14에 있어서, 상기 분무제트 이송노즐체는 적어도 2개의 기체분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  21. 청구항 14에 있어서, 상기 분무제트 이송노즐체는 적어도 2개의 액체분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  22. 청구항 1에 있어서, 상기한 적어도 하나 이상의 액체분사노즐은, 상기한 적어도 하나 이상의 기체분사노즐과 중심을 공유하는 동심원의 형태가 되도록 하면서그 기체분사노즐 내부에 설치된 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  23. 청구항 1에 있어서, 상기한 하나 이상의 기체분사노즐은 수렴부분과, 목부분과, 발산부분을 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 조직 연마장치
  24. 청구항 14에 있어서, 상기 조직연마장치는 한 손으로 잡고 사용되도록 구성된 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  25. 청구항 14에 있어서, 상기 조직연마장치는,
    상기 하나 이상의 기체분사노즐로 인입되는 기체 흐름이 "첫째 크기 압력"이 되고, 또한 이들 하나 이상의 기체분사노즐을 통과하는 기체 흐름은 압력 저하가 유발되도록 작용하면서 여기서 분사되는 기체 압력이 "둘째 크기 압력"이 되며, 상기 첫째 크기 압력은 적어도 둘째 크기 압력의 2배가 되도록 함으로서, 상기 하나 이상의 기체분사노즐과 하나 이상의 액체분사노즐의 기체와 액체 흐름 속에 쇽크 파동을 유발하고, 하나 이상의 액체분사노즐로부터 분출되는 액체를 안개화하여 고속의 안개방울로 변화시킴으로서 분사되는 고속 기체흐름에 고속 편승하는 안개 방울을 형성토록 한 것을 특징으로 하는 조직연마장치
  26. 조직연마방법에 있어서,
    a)기체 분사흐름에 속도를 더하기 위하여 하나 이상의 기체분사노즐을 통하여 기체흐름을 가속하는 단계와,
    b)가속된 기체분사흐름에 액체흐름을 주입하여 액체를 안개방울로 분해되도록 하고 이를 기체분사흐름의 속도와 유사하도록 가속하는 단계와,
    c)연마대상 조직체를 가속된 분무에 노출시키는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 조직연마 방법
  27. 청구항 26에 있어서, 상기 조직연마방법은,
    흡착도관에 흡착력을 부여함으로서, 기체 및 분무 분사흐름 주변의 연마된 조직 부스러기나 액체가 하나 이상의 흡착포트를 통하여 흡착되도록 하는 단계를 더욱 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 조직연마 방법
  28. 청구항 26에 있어서, 상기 조직연마방법에서 기체흐름을 가속하는 단계는, 기체흐름을 음속이하에서 초음속의 속도 범위로 가속하는 단계를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 조직연마 방법
  29. 청구항 26에 있어서, 상기 조직연마방법에서 기체흐름을 가속하는 단계는, 기체흐름을 음속에서 초음속의 속도 범위로 가속하는 단계를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 조직연마 방법
  30. 청구항 26에 있어서, 상기 조직연마방법에서 기체흐름을 가속하는 단계는, 외부공기, 산소, 이산화탄소 및 질소중 하나 이상을 포함하는 기체그룹 중에서 선 정된 기체를 가속하는 단계를 더욱 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 조직연마 방법
  31. 청구항 26에 있어서, 상기 조직연마방법에서 가속된 기체분사흐름에 액체흐름을 인입하는 단계는,
    상기 하나 이상의 기체분사노즐로 인입되는 기체 흐름이 "첫째 크기 압력"이 되고, 또한 이들 하나 이상의 기체분사노즐을 통과하는 기체 흐름은 압력 저하가 유발되도록 작용하면서 여기서 분사되는 기체 압력이 "둘째 크기 압력"이 되며, 상기 첫째 크기 압력은 적어도 둘째 크기 압력의 2배가 되도록 함으로서, 상기 하나 이상의 기체분사노즐과 하나 이상의 액체분사노즐의 기체와 액체 흐름 속에 쇽크 파동을 유발하고, 하나 이상의 액체분사노즐로부터 분출되는 액체를 안개화하여 고속의 안개방울로 변화시킴으로서 분사되는 고속 기체흐름에 고속 편승하는 안개 방울을 형성하는 단계를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 조직연마방법
  32. 청구항 26에 있어서, 상기 조직연마방법에서 연마대상 조직체를 가속된 분무에 노출시키는 단계는, 본 장치를 한 손으로 잡는 단계를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 조직연마방법
  33. 청구항 26에 있어서, 상기 조직연마방법에서 연마대상 조직체를 가속된 분무에 노출시키는 단계는, 조직체를 클렌징하여 조직체로부터 오염물을 제거하는 단계 를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 조직연마방법
  34. 청구항 26에 있어서, 상기 조직연마방법에서 연마대상 조직체를 노출시키는 단계는, 고속의 기체흐름으로써 조직체에 누적된 액체를 조직체로부터 분해하는 단계를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 조직연마방법
  35. 청구항 26에 있어서, 상기 조직연마방법에서 연마대상 조직체를 노출시키는 단계는, 산소흐름속에 살균액체를 사용하여 부착된 혐기성 유기체를 파괴, 세척하는 단계를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 조직연마방법
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