KR20060035825A - Apparatus for supplying photo resist having automatic air removing function and method thereof - Google Patents

Apparatus for supplying photo resist having automatic air removing function and method thereof Download PDF

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KR20060035825A
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Abstract

본 발명은 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치 및 그 제거방법에 관해 개시한다. 개시된 본 발명의 포토레지스트 공급장치는, 디스펜스밸브를 내장하고 포토레지스트 바틀로부터 유동된 포토레지스트에 강제 유동압을 공급하는 펌프; 노즐로 이어지는 공급라인상에 연통되게 설치되어 상기 펌프로부터 공급된 포토레지스터에 함유된 불순물을 필터링하는 필터; 상기 필터의 일측으로 연장된 드레인라인; 상기 펌프와 상기 필터의 공급라인상에 설치되어 포토레지스트 내부의 기포 존재여부를 감지하는 기포 감지센서; 및 상기 필터와 상기 드레인라인이 연결되는 부위에 설치되며, 상기 기포감지센서의 감지신호에 의해 개폐되어 기포를 상기 드레인라인을 통해 외부로 배출하는 필터 드레인밸브;를 포함하여 구성된다.The present invention relates to a photoresist supply apparatus having an automatic bubble removing function and a method of removing the same. The disclosed photoresist supply apparatus includes a pump having a built-in dispense valve and supplying a forced flow pressure to a photoresist flowed from a photoresist bottle; A filter installed in communication on a supply line leading to the nozzle to filter impurities contained in the photoresist supplied from the pump; A drain line extending to one side of the filter; A bubble detection sensor installed on a supply line of the pump and the filter to detect whether bubbles exist in the photoresist; And a filter drain valve installed at a portion at which the filter and the drain line are connected and opened and closed by a detection signal of the bubble detection sensor to discharge bubbles to the outside through the drain line.

본 발명에 따르면, 수동형 필터 드레인밸브를 솔레노이드형 드레인밸브로 교체하여 기포 감지센서의 감지신호에 의해 드레인밸브의 개폐가 자동으로 이루어지도록 함으로써, 기포제거 작업시간 동안 설비 작업자가 대기할 필요가 없고, 기포제거가 상시적으로 자동진행되어 포토레지스트 내 기체성 물질이 축적에 따른 웨이퍼상의 포토레지스트 코팅불량을 미연에 방지하여, 작업효율을 높이고 반도체소자 제조비용을 절감하는 효과가 있다.According to the present invention, the manual filter drain valve is replaced with a solenoid type drain valve so that the opening and closing of the drain valve is automatically performed by the detection signal of the bubble detection sensor, so that the facility operator does not have to wait for the bubble removing work time. Bubble removal is always automatically performed to prevent photoresist coating defects on the wafer due to accumulation of gaseous substances in the photoresist, thereby improving work efficiency and reducing semiconductor device manufacturing costs.

포토레지스트, 기포 감지센서, 필터 드레인밸브, 솔레노이드형, 디스펜스밸브Photoresist, Bubble Detection Sensor, Filter Drain Valve, Solenoid Type, Dispense Valve

Description

자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치 및 그 제거방법{Apparatus For Supplying Photo Resist Having Automatic Air Removing Function And Method thereof }Apparatus For Supplying Photo Resist Having Automatic Air Removing Function And Method

도 1은 종래의 포토레지스트 공급장치의 개략적인 구성을 나타낸 구성도이다.1 is a configuration diagram showing a schematic configuration of a conventional photoresist supply apparatus.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치의 개략적인 구성을 나타낸 구성도이다.2 is a block diagram showing a schematic configuration of a photoresist supply device having an automatic bubble removing function according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 포토레지스트 공급장치의 자동 기포제거 방법을 나타낸 순서도이다.3 is a flowchart illustrating an automatic bubble removing method of a photoresist supply apparatus according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명> <Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

10 : 바틀 20 : 트랩탱크10: bottle 20: trap tank

30 : PR 감지센서 40 : 펌프30: PR detection sensor 40: pump

50 : 기포 감지센서 60 : 필터50: bubble detection sensor 60: filter

70 : 노즐 80 : 공급라인70: nozzle 80: supply line

90 : 드레인라인 91 : 트랩탱크 드레인밸브90: drain line 91: trap tank drain valve

92 : 필터 드레인밸브 920 : 솔레노이드형 필터 드레인밸브92 filter drain valve 920 solenoid filter drain valve

본 발명은 포토레지스트 공급장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수동식 필터 드레인밸브를 솔레노이드형 밸브로 교체하여 기포 감지센서의 감지신호에 감응하여 자동으로 개폐되도록 함으로써, 기포제거 작업시간 동안 설비 작업자가 대기할 필요가 없고 기포제거가 상시적으로 자동진행되어 포토레지스트 내 기체성 물질의 축적에 따른 웨이퍼상의 포토레지스트 코팅불량을 미연에 방지하도록 한 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치 및 그 제거방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a photoresist supply device, and more particularly, by replacing the manual filter drain valve with a solenoid valve to open and close automatically in response to a detection signal of a bubble detection sensor, a facility operator waits for a bubble removing operation time. Photoresist supply device and automatic removal method with automatic bubble removal function that eliminates the need for automatic bubble removal and prevents photoresist coating defects on the wafer due to accumulation of gaseous substances in the photoresist at all times. It is about.

일반적으로, 반도체 소자는 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 박막형성 공정, 웨이퍼에 불순물 이온을 주입하는 이온주입 공정, 웨이퍼 상에 형성된 박막을 패터닝하기 위한 사진식각 공정, 웨이퍼 상에 만들어진 복수개의 칩들을 테스트하기 위한 테스트 공정, 테스트된 웨이퍼를 개개의 칩으로 만들기 위한 조립공정 등을 거쳐 만들어지게 된다. 상기 제조과정 중 사진식각 공정에서는 패턴형성을 위해 포토레지스트(PR)가 사용되고, 상기 포토레지스트는 웨이퍼 상에 얇게 코팅된 후 노광 공정을 통해 포토레지스트 패턴이 형성된다.In general, a semiconductor device is a thin film forming process for forming a thin film on a wafer, an ion implantation process for injecting impurity ions into a wafer, a photolithography process for patterning a thin film formed on a wafer, and testing a plurality of chips made on the wafer. It is made through a test process for fabrication and an assembly process for making the tested wafer into individual chips. In the photolithography process, photoresist (PR) is used to form a pattern in the manufacturing process, and the photoresist is thinly coated on a wafer, and then a photoresist pattern is formed through an exposure process.

이러한 공정에 있어서, 웨이퍼 상에 포토레지스트의 공급은 바틀, 펌프, 필터 및 노즐을 포함한 각 구성이 조합 연결된 포토레지스트 공급장치에 의해서 이루어진다.In this process, the supply of photoresist on the wafer is by means of a photoresist supply device in which each configuration is combined, including bottle, pump, filter and nozzle.

이하, 도면을 참조하여 종래의 포토레지스트 공급장치에 대해 보다 구체적으 로 살펴보도록 한다. Hereinafter, a conventional photoresist supply apparatus will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 포토레지스트 공급장치의 개략적인 구성을 나타낸 구성도이다.1 is a configuration diagram showing a schematic configuration of a conventional photoresist supply apparatus.

도 1을 참조하면, 종래의 포토레지스트 공급장치는, 질소유입관(11)을 구비한 포토레지스트 바틀(10)과, 트랩탱크(20), 펌프(40), 기포 감지센서(50), 필터(60), 공급라인(80), 드레인라인(90), 트랩탱크 드레인밸브(91), 필터 드레인밸브(92), 노즐(70)을 포함하여 구성되고, 트랩탱크(20)의 일측에는 PR 감지센서(30)가 설치된다.Referring to FIG. 1, a conventional photoresist supply apparatus includes a photoresist bottle 10 having a nitrogen inlet pipe 11, a trap tank 20, a pump 40, a bubble detection sensor 50, and a filter. 60, a supply line 80, a drain line 90, a trap tank drain valve 91, a filter drain valve 92, and a nozzle 70 are formed, and one side of the trap tank 20 includes a PR. The sensor 30 is installed.

상기 포토레지스트 바틀(10)은 단수 또는 복수가 구비되고, 상기 질소유입관(11)을 통해 밀폐된 포토레지스트 바틀(10) 내부로 질소가스(N2)가 공급되면 상대적인 압력으로 내부의 포토레지스트가 배출되어 상기 공급라인(80)을 통해 유동된다.The photoresist bottle 10 is provided with a singular or plural, and when the nitrogen gas (N2) is supplied into the sealed photoresist bottle 10 through the nitrogen inlet pipe 11, the photoresist inside the photoresist at a relatively pressure. It is discharged and flows through the supply line 80.

유동된 포토레지스트는 상기 트랩탱크(20)에 일차 저장되고, 일측에는 상기 PR 감지센서(30)가 설치되어 포토레지스트의 유무를 감지하여 상기 포토레지스트 바틀(10)을 계속적으로 충진되도록 하며, 상기 트랩탱크(20)와 연통되어 연결된 상기 드레인라인(90)상에는 상기 트랩탱크 드레인밸브(91)가 설치되어 시간경과에 따른 포토레지스트의 성질변화에 대응하여 수동으로 포토레지스트를 방출시키게 된다. The flowed photoresist is primarily stored in the trap tank 20, the PR sensor 30 is installed on one side to detect the presence of the photoresist to continuously fill the photoresist bottle 10, the The trap tank drain valve 91 is installed on the drain line 90 connected to and communicated with the trap tank 20 to manually discharge the photoresist in response to changes in the properties of the photoresist over time.

상기 트랩탱크(20)를 통과하여 유동된 포토레지스트에는 상기 펌프(40)를 통하여 강제 유동압이 더욱 가하여지게 되고, 유동압이 가하여진 포토레지스트는 상 기 필터(60)를 거쳐 불순물 등이 제거되어 상기 노즐(70)을 통해 웨이퍼(Wafer)로 공급되게 된다.The forced flow pressure is further applied to the photoresist flowing through the trap tank 20 through the pump 40, and the photoresist to which the flow pressure is applied is removed through the filter 60. And supplied to the wafer through the nozzle 70.

이때, 상기 펌프(40)와 필터(60)사이에는 기포 감지센서(50)가 설치되어 유동되는 포토레지스트내에 포함된 기포를 감지하는 기능을 수행하게 되고, 기포가 감지된 경우 설비내 알람장치를 통해 경고음을 발생시키게 되며, 설비 조작자는 상기 필터(60)와 상기 드레인라인(90)이 연결되는 부위에 설치된 필터 드레인밸브(92)를 수동으로 조작하여 기포를 상기 드레인라인(90)을 통해 외부로 배출하게 된다.In this case, a bubble detection sensor 50 is installed between the pump 40 and the filter 60 to perform a function of detecting bubbles contained in the flowed photoresist. It generates a warning sound through, the equipment operator manually operates the filter drain valve 92 installed in the area where the filter 60 and the drain line 90 is connected to the air bubbles through the drain line 90 To be discharged.

그러나, 이와같은 종래의 포토레지스트 공급장치는 수동에 의해 필터 드레인밸브를 조작하여 기포를 제거하게 됨으로써, 기포제거 작업시간 동안 설비 작업자가 대기하여야 하는 공수적인 손실을 발생시키게 되고, 작업 미숙이나 실수에 의해 필터 드레인밸브를 잠그지 않은 경우 포토레지스트 내 기체성 물질이 축적되어 웨이퍼상의 포토레지스트 코팅불량을 유발하게 되는 문제점이 있다.However, such a conventional photoresist supply device removes air bubbles by manually operating a filter drain valve, thereby generating an airborne loss that the facility operator has to wait during the air bubble removing work time, and inadequate work or mistake. If the filter drain valve is not locked, gaseous substances in the photoresist may accumulate, causing a photoresist coating defect on the wafer.

따라서, 본 발명은 이와 같은 종래기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 수동형 필터 드레인밸브를 솔레노이드형 밸브로 교체하여 기포 감지센서의 감지신호에 의해 드레인밸브의 개폐가 자동으로 이루어지도록 함으로써, 기포제거 작업시간 동안 설비 작업자가 대기할 필요가 없고, 기포제거가 상시적으로 자동진행되어 포토레지스트 내 기체성 물질이 축적에 따른 웨이퍼상의 포토레지스트 코팅불량을 미연에 방지하여, 작업효율을 높이고 반도체소자 제조비용을 절감하는 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치 및 그 제거방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems of the prior art, an object of the present invention is to replace the manual filter drain valve with a solenoid valve to automatically open and close the drain valve by the detection signal of the bubble detection sensor By eliminating the need for a facility operator to wait during the bubble removal operation time, the bubble removal is always automatically proceeded to prevent the photoresist coating defect on the wafer due to the accumulation of gaseous substances in the photoresist, The present invention provides a photoresist supply device having an automatic bubble removal function for improving the work efficiency and reducing the manufacturing cost of a semiconductor device, and a method of removing the same.

또한, 본 발명의 다른 목적은 기포 감지센서의 감지신호에 의해 펌프내 디스펜스 밸브가 자동으로 연동 개폐되어 드레인 작업에 의한 빈 공간을 동시에 충진시키는 더미 디스펜싱 구동이 자동으로 이루어지게 함으로써, 압력차에 의한 드레인 효율저감을 방지하는 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치 및 그 제거방법을 제공하는 데 있다. In addition, another object of the present invention is to automatically open and close the dispensing valve in the pump by the detection signal of the bubble detection sensor to automatically perform the dummy dispensing drive to fill the empty space by the drain operation, thereby reducing the pressure difference The present invention provides a photoresist supply device having an automatic bubble removal function for preventing drainage efficiency reduction and a method of removing the same.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치는, 디스펜스밸브를 내장하고 포토레지스트 바틀로부터 유동된 포토레지스트에 강제 유동압을 공급하는 펌프; 노즐로 이어지는 공급라인상에 연통되게 설치되어 상기 펌프로부터 공급된 포토레지스터에 함유된 불순물을 필터링하는 필터; 상기 필터의 일측으로 연장된 드레인라인; 상기 펌프와 상기 필터의 공급라인상에 설치되어 포토레지스트 내부의 기포 존재여부를 감지하는 기포 감지센서; 및 상기 필터와 상기 드레인라인이 연결되는 부위에 설치되며, 상기 기포감지센서의 감지신호에 의해 개폐되어 기포를 상기 드레인라인을 통해 외부로 배출하는 필터 드레인밸브;를 포함하여 구성된다.A photoresist supply apparatus having an automatic bubble removing function according to the present invention for achieving the above object includes a pump that has a built-in dispense valve and supplies a forced flow pressure to the photoresist flowed from the photoresist bottle; A filter installed in communication on a supply line leading to the nozzle to filter impurities contained in the photoresist supplied from the pump; A drain line extending to one side of the filter; A bubble detection sensor installed on a supply line of the pump and the filter to detect whether bubbles exist in the photoresist; And a filter drain valve installed at a portion at which the filter and the drain line are connected and opened and closed by a detection signal of the bubble detection sensor to discharge bubbles to the outside through the drain line.

이때, 상기 필터 드레인밸브는 솔레노이드 밸브인 것이 바람직하다.At this time, the filter drain valve is preferably a solenoid valve.

또한, 상기 필터 드레인밸브는 상기 기포감지센서의 감지신호에 의해 상기 펌프의 디스펜스밸브를 동시 개폐하여 더미 디스펜싱 구동을 실시하게 하는 것이 바람직하다.
The filter drain valve may be configured to simultaneously open and close the dispense valve of the pump according to the detection signal of the bubble detection sensor to perform dummy dispensing driving.

한편, 이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 포토레지스트 공급장치의 자동 기포 제거방법은, 디스펜스밸브를 내장하여 포토레지스트에 강제 유동압을 공급하는 펌프와, 상기 펌프로부터 유동압이 공급된 포토레지스터에 함유된 불순물을 필터링하는 필터와, 상기 필터의 일측으로 연장된 드레인라인과, 포토레지스트 내부의 기포 존재여부를 감지하는 기포 감지센서, 및 상기 기포감지센서의 감지신호에 의해 개폐되어 기포를 상기 드레인라인을 통해 외부로 배출하는 필터 드레인밸브를 구비하여 포토레지스트 공급과정 중 발생하는 기포를 제거하는 방법에 있어서, 상기 기포감지센서에서 기포를 감지하는 감지단계와; 상기 기포감지센서의 감지신호를 수신하여 상기 필터 드레인밸브와, 상기 디스펜스밸브를 개폐하는 밸브제어단계; 및 상기 드레인밸브와 디스펜스 밸브를 개방하여 드레인 및 더미 디스펜싱 구동을 동시에 실시하는 드레인/더미 디스펜싱단계;를 포함하여 구성된다.On the other hand, the automatic bubble removing method of the photoresist supply apparatus according to the present invention for achieving the above object is a pump having a built-in dispense valve to supply a forced flow pressure to the photoresist, and the photo is supplied with a flow pressure from the pump Bubbles are opened and closed by a filter for filtering impurities contained in the resistor, a drain line extending to one side of the filter, a bubble detection sensor for detecting the presence of bubbles in the photoresist, and a detection signal of the bubble detection sensor. A method for removing bubbles generated during a photoresist supply process by including a filter drain valve discharged to the outside through the drain line, the method comprising: detecting bubbles by the bubble detection sensor; A valve control step of opening and closing the filter drain valve and the dispense valve by receiving a detection signal from the bubble detection sensor; And a drain / dummy dispensing step of simultaneously opening the drain valve and the dispensing valve to simultaneously perform drain and dummy dispensing driving.

이때, 상기 필터 드레인밸브는 솔레노이드 밸브인 것이 바람직하다.
At this time, the filter drain valve is preferably a solenoid valve.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치의 개략적인 구성을 나타낸 구성도이다. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of a photoresist supply device having an automatic bubble removing function according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 자동 기포제거기능을 구비한 포 포토레지스트 공급장치는, 질소유입관(11)을 구비한 포토레지스트 바틀(10)과, 트랩탱크(20), 펌프(40), 기포 감지센서(50), 필터(60), 공급라인(80), 드레인라인(90), 트랩탱크 드레인밸브(91), 솔레노이드형 필터 드레인밸브(920), 노즐(70)을 포함하여 구성되고, 트랩탱크(20)의 일측에는 PR 감지센서(30)가 설치된다.2, the four photoresist supply apparatus having an automatic bubble removing function according to an embodiment of the present invention, the photoresist bottle 10 having a nitrogen inlet pipe 11, the trap tank 20, Pump 40, bubble detection sensor 50, filter 60, supply line 80, drain line 90, trap tank drain valve 91, solenoid filter drain valve 920, nozzle 70 It is configured to include, one side of the trap tank 20, the PR sensor 30 is installed.

상기 포토레지스트 바틀(10)은 단수 또는 복수가 구비되고, 상기 질소유입관(11)을 통해 밀폐된 포토레지스트 바틀(10) 내부로 질소가스(N2)가 공급되면 상대적인 압력으로 내부의 포토레지스트가 배출되어 상기 공급라인(80)을 통해 유동된다.The photoresist bottle 10 is provided with a singular or plural, and when the nitrogen gas (N2) is supplied into the sealed photoresist bottle 10 through the nitrogen inlet pipe 11, the photoresist inside the photoresist at a relatively pressure. It is discharged and flows through the supply line 80.

유동된 포토레지스트는 상기 트랩탱크(20)에 일차 저장되고, 일측에는 PR 감지센서(30)가 설치되어 포토레지스트의 유무를 감지하여 포토레지스트 바틀(10)을 계속적으로 충진되도록 하며, 상기 트랩탱크(20)와 연통되어 연결된 드레인라인(90)상에는 트랩탱크 드레인밸브(91)가 설치되어 시간경과에 따른 포토레지스트의 성질변화에 대응하여 수동으로 포토레지스트를 방출시키게 된다. The flowed photoresist is primarily stored in the trap tank 20, and a PR detection sensor 30 is installed at one side to detect the presence or absence of the photoresist to continuously fill the photoresist bottle 10, and the trap tank A trap tank drain valve 91 is installed on the drain line 90 connected to and communicated with 20 to manually discharge the photoresist in response to the change in the properties of the photoresist over time.

상기 트랩탱크(20)를 통과하여 유동된 포토레지스트에는 상기 펌프(40)를 통해 강제 유동압이 더욱 가하여지게 되고, 유동압이 가하여진 포토레지스트는 상기 필터(60)를 거쳐 불순물 등이 제거되어 상기 노즐(70)을 통해 웨이퍼(Wafer)로 공급되게 된다.The forced flow pressure is further applied to the photoresist flowing through the trap tank 20 through the pump 40, and the photoresist to which the flow pressure is applied is removed through the filter 60. It is supplied to the wafer through the nozzle 70.

상기 펌프(40)와 필터(60)사이에는 기포 감지센서(50)가 설치되어 유동되는 포토레지스트내에 포함된 기포를 감지하는 기능을 수행하게 되고, 상기 필터(60)와 상기 드레인라인(90)이 연결되는 부위에는 바람직하게는 솔레노이드형인 필터 드레 인밸브(920)가 설치되어 상기 기포 감지센서(50)의 감지신호에 반응하여 자동으로 드레인을 실시하여 기포를 제거하게 된다. 이때, 상기 기포 감지센서(50)는 상기 필터(60)에서 드레인라인(90)으로 연결되는 상단에 설치될 수도 있다. 한편, 솔레노이드형 밸브는 작동의 정교하면서 규칙적이고 강한 추진력을 낼 수 있는 장점이 있고 전기신호에 의해 자동으로 밸브의 개폐가 가능하다는 점에 있어 종래의 수동식 밸브의 단점을 극복하고 있으며, 상기 솔레노이드형 필터 드레인밸브(920)에는 짧은 스트로크(stoke)를 갖는 응답속도를 최대한 고속으로 낼 수 있는 솔레노이드 밸브 형태가 채용되는 것이 바람직하다. A bubble detection sensor 50 is installed between the pump 40 and the filter 60 to detect a bubble contained in the flowed photoresist, and the filter 60 and the drain line 90. A filter drain valve 920, which is preferably a solenoid type, is installed at the portion to be connected to drain the bubbles by automatically draining in response to the detection signal of the bubble detection sensor 50. In this case, the bubble detection sensor 50 may be installed on the upper end connected to the drain line 90 in the filter 60. On the other hand, the solenoid valve overcomes the disadvantages of the conventional manual valve in that it has the advantage of exerting a precise, regular and strong propulsion of operation, and can be opened and closed automatically by an electrical signal, the solenoid type The filter drain valve 920 is preferably a solenoid valve type that can produce a response speed having a short stroke as fast as possible.

상기 펌프(40)의 디스펜스밸브(미도시)는 상기 기포 감지센서(50)의 감지신호에 의해 개폐되어 상기 공급라인(80)내의 드레인된 빈 공간을 충진하는 더미 디스펜싱(dummy dispensing) 구동을 실시하게 된다. 상기 디스펜스밸브(미도시)는 솔레노이드형인 것이 바람직하다.
A dispense valve (not shown) of the pump 40 is opened and closed by a detection signal of the bubble detection sensor 50 to drive a dummy dispensing drive to fill a drained empty space in the supply line 80. Will be implemented. The dispense valve (not shown) is preferably a solenoid type.

한편, 상기 기포 감지센서(50)와 상기 솔레노이드형 필터 드레인밸브(920)의 상관 구동에 의한 포토레지스트 자동 기포제거 방법을 보다 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.Meanwhile, a method of automatically removing the photoresist bubble by the correlation driving of the bubble detection sensor 50 and the solenoid filter drain valve 920 will be described in detail as follows.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 포토레지스트 공급장치의 자동 기포제거 방법을 나타낸 순서도이다.3 is a flowchart illustrating an automatic bubble removing method of a photoresist supply apparatus according to an embodiment of the present invention.

먼저, 상기 기포 감지센서(50)에서 기포를 감지하게 되면(S1000), 상기 기포 감지센서(50)는 감지신호를 상기 솔레노이드형 필터 드레인밸브(920)와 상기 펌프 (40)내 장착된 솔레노이드형 디스펜스밸브(미도시)에 송신하게 되고, 양 밸브는 각각 상기 감지신호를 수신하여 자동으로 개방제어되게 된다.(S1100)First, when the bubble detection sensor 50 detects the bubble (S1000), the bubble detection sensor 50 detects the detection signal in the solenoid filter drain valve 920 and the solenoid type mounted in the pump 40 Transmission to the dispense valve (not shown), and both valves are automatically controlled to open by receiving the detection signal (S1100).

상기 솔레노이드형 필터 드레인밸브(920)는 개방되어 기포를 포함한 포토레지스트의 드레인을 실시하게 되고, 상기 솔레노이드형 디스펜스밸브(미도시)는 동시에 개방되어 상기 공급라인(80)내 빈 공간을 충진하는 더미 디스펜싱 구동을 실시하게 된다.(S1200) The solenoid filter drain valve 920 is opened to drain the photoresist including bubbles, and the solenoid dispense valve (not shown) is simultaneously opened to fill an empty space in the supply line 80. Dispensing driving is performed (S1200).

연속적으로, 상기 기포감지센서는 기포감지여부를 계속 확인하게 되고(S1300), 기포가 감지되지 않을 시 상기 솔레노이드형 필터 드레인밸브(920)와 솔레노이드형 디스펜스밸브(미도시)에 무감지 신호를 송신하게 되고, 양 밸브는 각각 상기 무감지신호를 수신하여 자동을 닫히게 되어(S1400), 모든 절차는 정상진행상태에서 대기하게 된다.
Continuously, the bubble detection sensor continues to check whether the bubble is detected (S1300), and when no bubble is detected, transmits a non-sensing signal to the solenoid filter drain valve 920 and the solenoid dispense valve (not shown). Both valves are automatically closed by receiving the non-sensing signal, respectively (S1400), and all the procedures wait in the normal progress state.

한편, 본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것인바, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 한해서 정해져야 할 것이다.On the other hand, the present invention has been described with reference to the embodiment shown in the drawings, but this is only exemplary, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent embodiments are possible from this. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be defined only by the appended claims.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치 및 그 제거방법에 의하면, 수동형 필터 드레인밸브를 솔레노이드형 드레인밸브로 교체하여 기포 감지센서의 감지신호에 의해 드레인밸브의 개 폐가 자동으로 이루어지도록 함으로써, 기포제거 작업시간 동안 설비 작업자가 대기할 필요가 없고, 기포제거가 상시적으로 자동진행되어 포토레지스트 내 기체성 물질이 축적에 따른 웨이퍼상의 포토레지스트 코팅불량을 미연에 방지하여, 작업효율을 높이고 반도체소자 제조비용을 절감하는 효과가 있다.As described above, according to the photoresist supply device having an automatic bubble removing function and a method for removing the same according to the present invention, the manual filter drain valve is replaced with a solenoid type drain valve and the drain valve is detected by the detection signal of the bubble detection sensor. The automatic opening and closing of the device eliminates the need for the facility operator to wait for the bubble free operation time, and automatically removes bubbles and prevents the photoresist coating defect on the wafer due to the accumulation of gaseous substances in the photoresist. In this way, it is possible to increase work efficiency and reduce semiconductor device manufacturing costs.

또한, 본 발명에 따르면, 기포 감지센서의 감지신호에 의해 펌프내 디스펜스 밸브가 자동으로 연동되어 개폐되어 드레인 작업에 의한 빈 공간을 동시에 충진시키는 더미 디스펜싱 구동이 자동으로 이루어지게 함으로써, 압력차에 의한 드레인 효율저감을 방지한 효과가 있다.In addition, according to the present invention, the dispensing valve in the pump is automatically interlocked and opened by the detection signal of the bubble detection sensor so that the dummy dispensing drive for filling the empty space by the drain operation at the same time is automatically made, the pressure difference It is effective in preventing drain efficiency reduction.

Claims (5)

디스펜스밸브를 내장하고 포토레지스트 바틀로부터 유동된 포토레지스트에 강제 유동압을 공급하는 펌프;A pump containing a dispense valve and forcing a forced flow pressure to the photoresist flowed from the photoresist bottle; 노즐로 이어지는 공급라인상에 연통되게 설치되어 상기 펌프로부터 공급된 포토레지스터에 함유된 불순물을 필터링하는 필터;A filter installed in communication on a supply line leading to the nozzle to filter impurities contained in the photoresist supplied from the pump; 상기 필터의 일측으로 연장된 드레인라인;A drain line extending to one side of the filter; 상기 펌프와 상기 필터의 공급라인상에 설치되어 포토레지스트 내부의 기포 존재여부를 감지하는 기포 감지센서; 및A bubble detection sensor installed on a supply line of the pump and the filter to detect whether bubbles exist in the photoresist; And 상기 필터와 상기 드레인라인이 연결되는 부위에 설치되며, 상기 기포감지센서의 감지신호에 의해 개폐되어 기포를 상기 드레인라인을 통해 외부로 배출하는 필터 드레인밸브;를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치.And a filter drain valve installed at a portion at which the filter and the drain line are connected and opened and closed by a detection signal of the bubble detection sensor to discharge bubbles to the outside through the drain line. A photoresist supply device having a function. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 필터 드레인밸브는 솔레노이드 밸브인 것을 특징으로 하는 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치.The filter drain valve is a photoresist supply device having an automatic bubble removing function, characterized in that the solenoid valve. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 필터 드레인밸브는 상기 기포감지센서의 감지신호에 의해 상기 펌프의 디스펜스밸브를 동시 개폐하여 더미 디스펜싱 구동을 실시하게 하는 것을 특징으로 하는 자동 기포제거기능을 구비한 포토레지스트 공급장치. The filter drain valve is a photoresist supply device having an automatic bubble removal function characterized in that for performing the dummy dispensing operation by simultaneously opening and closing the dispense valve of the pump in response to the detection signal of the bubble detection sensor. 디스펜스밸브를 내장하여 포토레지스트에 강제 유동압을 공급하는 펌프와, 상기 펌프로부터 유동압이 공급된 포토레지스터에 함유된 불순물을 필터링하는 필터와, 상기 필터의 일측으로 연장된 드레인라인과, 포토레지스트 내부의 기포 존재여부를 감지하는 기포 감지센서, 및 상기 기포감지센서의 감지신호에 의해 개폐되어 기포를 상기 드레인라인을 통해 외부로 배출하는 필터 드레인밸브를 구비하여 포토레지스트 공급과정 중 발생하는 기포를 제거하는 방법에 있어서,A pump for supplying a forced flow pressure to the photoresist with a built-in dispense valve, a filter for filtering impurities contained in the photoresist supplied with the flow pressure from the pump, a drain line extending to one side of the filter, and a photoresist Bubble detection sensor for detecting the presence of bubbles in the interior, and a filter drain valve which is opened and closed by the detection signal of the bubble detection sensor to discharge the bubbles to the outside through the drain line to remove bubbles generated during the photoresist supply process In the removal method, 상기 기포감지센서에서 기포를 감지하는 감지단계와;Detecting the bubble by the bubble detection sensor; 상기 기포감지센서의 감지신호를 수신하여 상기 필터 드레인밸브와, 상기 디스펜스밸브를 개폐하는 밸브제어단계; 및A valve control step of opening and closing the filter drain valve and the dispense valve by receiving a detection signal from the bubble detection sensor; And 상기 드레인밸브와 디스펜스 밸브를 개방하여 드레인 및 더미 디스펜싱 구동을 동시에 실시하는 드레인/더미 디스펜싱단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동 기포 제거방법.And a drain / dummy dispensing step of simultaneously opening the drain valve and the dispensing valve to simultaneously perform drain and dummy dispensing driving. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 필터 드레인밸브는 솔레노이드 밸브인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동 기포 제거방법. And the filter drain valve is a solenoid valve.
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KR101328371B1 (en) * 2012-03-26 2013-11-11 김현모 Wafer Photoresist Dispenser

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