KR20060022993A

KR20060022993A - Pr supply apparatus

Info

Publication number: KR20060022993A
Application number: KR1020040071799A
Authority: KR
Inventors: 정광채
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2004-09-08
Filing date: 2004-09-08
Publication date: 2006-03-13

Abstract

본 발명은 필터로부터 버려지는 포토레지스트를 재사용할 수 있는 반도체 제조 설비의 포토레지스트 공급 장치에 관한 것이다. 본 발명의 포토레지스트 공급 장치는 포토레지스트가 수용되어 있는 보틀; 상기 보틀과는 제 1이송관을 통해 연결 설치되는 펌프; 상기 펌프와는 제2이송관을 통해 연결되어, 상기 펌프로부터 공급되는 포토레지스트에 포함된 기포등을 제거하는 필터; 상기 필터와는 제3이송관을 통해 연결되어 상기 필터에서 여과된 포토레지스트를 공급받아 분사하는 분사노즐; 상기 필터에서 걸러진 기포가 포함된 포토레지스트가 드레인되는 드레인관; 상기 드레인관에 연결되어 드레인되는 포토레지스트를 회수하는 버퍼탱크; 및 상기 버퍼탱크에 회수된 포토레지스트를 상기 보틀로 제공급하기 위한 회수라인을 포함한다.The present invention relates to a photoresist supply apparatus of a semiconductor manufacturing facility capable of reusing a photoresist discarded from a filter. The photoresist supplying device of the present invention comprises: a bottle containing a photoresist; A pump connected to the bottle via a first transfer pipe; A filter connected to the pump through a second transfer pipe to remove bubbles and the like contained in the photoresist supplied from the pump; A spray nozzle connected to the filter through a third transfer pipe and configured to receive and spray a photoresist filtered from the filter; A drain tube for draining the photoresist including bubbles filtered from the filter; A buffer tank connected to the drain pipe to recover the photoresist drained; And a recovery line for supplying the photoresist recovered in the buffer tank to the bottle.

Description

Photoresist Supply Device {PR SUPPLY APPARATUS}

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 포토레지스트 공급 장치가 적용된 포토레지스트 코팅장치의 구성도이다. 1 is a block diagram of a photoresist coating apparatus to which a photoresist supply apparatus according to a preferred embodiment of the present invention is applied.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

110 : 보틀110: bottle

112 : 질소 공급관112: nitrogen supply pipe

130 : 펌프130: pump

140 : 필터140: filter

160 : 버포탱크160: Bupo Tank

162 : 회수라인
162: recovery line

본 발명은 포토레지스트 공급 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 필터로부터 버려지는 포토레지스트를 재사용할 수 있는 반도체 제조 설비의 포토레지스트 공급 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoresist supply apparatus, and more particularly to a photoresist supply apparatus of a semiconductor manufacturing facility capable of reusing a photoresist discarded from a filter.

일반적으로 포토레지스트(감광제) 도포공정은 반도체 웨이퍼 제조공정 중의 한 과정으로서, 소정량의 포토레지스트를 웨이퍼에 분사한 후 상기 웨이퍼를 고속으로 회전시켜 포토레지스트를 소정 두께로 상기 웨이퍼에 고르게 도포시키는 공정을 말한다. In general, a photoresist coating process is a process in a semiconductor wafer manufacturing process, in which a predetermined amount of photoresist is injected onto a wafer and the wafer is rotated at high speed to uniformly apply the photoresist to the wafer at a predetermined thickness. Say

이러한 포토레지스트 도포공정에서 포토레지스트를 분사할 때, 포토레지스트 내에 기포가 혼입하면 포토레지스트를 분사하려고 하는 압력을 기포가 흡수해버려 포토레지스트의 방출량이 불안정하게 되며, 그 방출 정확도도 저하된다. 이러한 이유 때문에 포토레지스트를 공급하는 공급 라인상에는 기포 제거를 위한 필터가 필수적으로 설치된다.In the photoresist coating step, when the photoresist is sprayed, if bubbles are mixed in the photoresist, the bubbles absorb the pressure to spray the photoresist and the emission amount of the photoresist becomes unstable and the emission accuracy is also lowered. For this reason, a filter for removing bubbles is essentially provided on the supply line for supplying the photoresist.

상기 필터는 포토레지스트 보틀(bottle)로부터 포토레지스트가 유입되는 유입포트, 필터링된 포토레지스트를 노즐쪽으로 디스펜서하는 유출포트 그리고 필터 내부에 모여진 기포를 드레인 하는 벤트포트를 갖는다. The filter has an inlet port through which the photoresist flows from the photoresist bottle, an outlet port for dispensing the filtered photoresist toward the nozzle, and a vent port for draining bubbles collected inside the filter.

포토레지스트내에 포함된 기포(bubble)는 상기 필터에서 걸려진 후 벤트포트에 연결된 드레인 라인을 통해 외부로 배출되어 폐기되는데, 그 과정(기포가 배출되는 과정)에서 소정량의 포토레지스트도 함께 배출됨으로써 공정에 사용되는 포토레지스트의 양이 과다하게 되어 공정비용이 증가하는 문제점이 있었다. 특히, 필터를 새로운 필터로 교체 장착한 이후에는 일정시간 동안 필터 내부의 공기를 제거하기 위한 목적으로 많은 양의 포토레지스트가 벤트포트에 연결된 드레인 라인을 통해 배출되어 폐기되고 있다. Bubbles contained in the photoresist are discharged to the outside through a drain line connected to the vent after being caught by the filter, and a predetermined amount of photoresist is also discharged together in the process (bubble discharge process). The amount of photoresist used in the process is excessive, there is a problem that the process cost increases. In particular, after replacing the filter with a new filter, a large amount of photoresist is discharged through the drain line connected to the vent port for the purpose of removing air in the filter for a predetermined time.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 필터로부터 버려지는 기포가 섞인 포토레지스트를 재사용하여 포토레지스트의 낭비를 막을 수 있는 새로운 형태의 반도체 제조 설비의 포토레지스트 공급 장치를 제공하는데 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide a photoresist supply apparatus for a new type of semiconductor manufacturing equipment capable of preventing waste of photoresist by reusing mixed photoresist mixed with bubbles discarded from a filter.

상기 기술적 과제들을 이루기 위하여 본 발명의 포토레지스트 공급 장치는 포토레지스트가 수용되어 있는 보틀; 상기 보틀과는 제 1이송관을 통해 연결 설치되는 펌프; 상기 펌프와는 제2이송관을 통해 연결되어, 상기 펌프로부터 공급되는 포토레지스트에 포함된 기포등을 제거하는 필터; 상기 필터와는 제3이송관을 통해 연결되어 상기 필터에서 여과된 포토레지스트를 공급받아 분사하는 분사노즐; 상기 필터에서 걸러진 기포가 포함된 포토레지스트가 드레인되는 드레인관; 상기 드레인관에 연결되어 드레인되는 포토레지스트를 회수하는 버퍼탱크; 및 상기 버퍼탱크에 회수된 포토레지스트를 상기 보틀로 제공급하기 위한 회수라인을 포함한다.In order to achieve the above technical problem, the photoresist supplying apparatus of the present invention includes a bottle containing a photoresist; A pump connected to the bottle via a first transfer pipe; A filter connected to the pump through a second transfer pipe to remove bubbles and the like contained in the photoresist supplied from the pump; A spray nozzle connected to the filter through a third transfer pipe and configured to receive and spray a photoresist filtered from the filter; A drain tube for draining the photoresist including bubbles filtered from the filter; A buffer tank connected to the drain pipe to recover the photoresist drained; And a recovery line for supplying the photoresist recovered in the buffer tank to the bottle.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided to ensure that the disclosed subject matter is thorough and complete, and that the spirit of the present invention to those skilled in the art will fully convey. Portions denoted by like reference numerals denote like elements throughout the specification.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 포토레지스트 공급 장치(100)가 적용된 포토레지스트 코팅장치(10)의 구성도이다. 1 is a block diagram of a photoresist coating apparatus 10 to which a photoresist supply apparatus 100 according to a preferred embodiment of the present invention is applied.

도 1에서와 같이, 포토레지스트 코팅장치는 포토레지스트가 코팅되는 반도체 기판(w)이 장착되는 척테이블(12)이 설치되어 있고, 그 척테이블은 스핀들 모터(14)에 의해 고속회전된다. As shown in Fig. 1, the photoresist coating apparatus is provided with a chuck table 12 on which a semiconductor substrate w on which photoresist is coated is mounted, and the chuck table is rotated at a high speed by the spindle motor 14.

상기 척테이블(12)에 놓여진 반도체 기판(w)상으로는 포토레지스트 공급장치(100)를 통해 포토레지스트가 공급되어 도포된다.The photoresist is supplied and applied onto the semiconductor substrate w placed on the chuck table 12 through the photoresist supply device 100.

이 포토레지스트 공급 장치(100)는 포토레지스트가 저장되어 있는 보틀(bottle;110)과, 이 보틀(110)에 질소 가압을 위한 질소 공급관(112), 이 질소 공급관(112)에 의하여 가해진 질소가스의 압력에 의해 상기 보틀(110)로부터 포토레지스트가 이송되는 제1이송관(122), 제1이송관(122)에 연결 설치되는 펌프(130), 펌프(130) 후단에 제2이송관(124)을 통해 연결되는 포토레지스트를 여과해주는 필터(140), 필터(140)와 제3이송관(126)을 통해 연결설치되는 분사노즐(150)을 포함한다. The photoresist supply apparatus 100 includes a bottle 110 in which a photoresist is stored, a nitrogen supply pipe 112 for pressurizing nitrogen to the bottle 110, and a nitrogen gas applied by the nitrogen supply pipe 112. The first transfer pipe 122 to which the photoresist is transferred from the bottle 110 by the pressure of the pump 110, the pump 130 connected to the first transfer pipe 122, and the second transfer pipe at the rear end of the pump 130 ( It includes a filter 140 for filtering the photoresist connected through the 124, the injection nozzle 150 is connected through the filter 140 and the third transfer pipe 126.

상기 필터(140)를 좀 더 구체적으로 살펴보면, 상기 필터는 상기 펌프(130)로부터 포토레지스트가 유입되는 유입포트(142)(제2이송관과 연결됨), 여과된 포토레지스트가 유출되는 유출포트(144)(제3이송관과 연결됨) 그리고 이물질과 기포 등이 배출되는 밴트포트(146)(드레인관과 연결됨)를 갖는다. 상기 드레인관(128)에는 버퍼탱크(160)가 설치되어 있어, 상기 밴트포트(146)를 통해 드레인관(128)으로 배출되는 기포가 포함된 포토레지스트는 상기 버퍼탱크(160)에 저장된다. Looking at the filter 140 in more detail, the filter is an inlet port 142 (connected with the second transfer pipe) to the photoresist from the pump 130, the outlet port for the filtered photoresist ( 144) (connected with the third conveying pipe) and the vent port 146 (connected with the drain pipe) through which foreign matters and bubbles are discharged. A buffer tank 160 is installed in the drain pipe 128, and a photoresist including bubbles discharged to the drain pipe 128 through the vent port 146 is stored in the buffer tank 160.

상술한 바와 같이 구성을 갖는 본 발명의 포토레지스트 공급 장치에서의 포토레지스트 공급 과정을 설명하면 다음과 같다. The photoresist supply process in the photoresist supply apparatus of the present invention having the configuration as described above is as follows.

먼저, 상기 보틀(110)에 질소가스를 공급하여 상기 보틀(110)내에 압력을 가하면, 포토레지스트는 제1이송관(122)을 따라 흐르게 되고, 제1이송관을 따라 흐르는 포토레지스트는 펌프(130)에 의하여 펌핑되어 필터(140)로 공급된다. 상기 필터(140)에서 소정의 여과작업을 거친 포토레지스트는 제3이송관(126)을 통해 분사노즐(150)로 공급되어 반도체 기판(w)상으로 분사된다. First, when nitrogen gas is supplied to the bottle 110 to apply pressure to the bottle 110, the photoresist flows along the first transfer pipe 122, and the photoresist flowing along the first transfer pipe is pumped ( It is pumped by 130 and supplied to the filter 140. The photoresist having undergone a predetermined filtration in the filter 140 is supplied to the injection nozzle 150 through the third transfer pipe 126 and sprayed onto the semiconductor substrate w.

한편, 포토레지스트를 공급하는 과정에서 기포가 발생되는데, 이 기포는 상기 필터(140)에서 걸러져 일부 포토레지스트와 함께 상기 필터의 밴트포트(146)를 통해 드레인관(128)으로 배출된다. 이렇게 드레인관(128)으로 배출되는 기포와 일부 포토레지스트는 버퍼탱크(160)에 일시 저장된 후, 순수 포토레지스트만 회수라인(162)을 통해 상기 보틀(110)로 재공급된다. Meanwhile, bubbles are generated in the process of supplying the photoresist, which is filtered by the filter 140 and is discharged to the drain pipe 128 through the vent port 146 of the filter together with some photoresist. The bubbles and some photoresist discharged to the drain pipe 128 are temporarily stored in the buffer tank 160, and only pure photoresist is supplied back to the bottle 110 through the recovery line 162.

본 발명은 상기의 구성으로 이루어진 포토레지스트 공급 장치는 다양하게 변형될 수 있고 여러 가지 형태를 취할 수 있다. 하지만, 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 특별한 형태로 한정되는 것이 아닌 것으로 이해되어야 하며, 오히려 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The present invention is a photoresist supply device consisting of the above configuration can be variously modified and can take various forms. It is to be understood, however, that the present invention is not limited to the specific forms referred to in the above description, but rather includes all modifications, equivalents and substitutions within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It should be understood to do.

이상에서, 본 발명에 따른 포토레지스트 공급 장치의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.In the above, the configuration and operation of the photoresist supply apparatus according to the present invention is shown in accordance with the above description and drawings, but this is merely an example, and various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Of course.

상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 필터에서 기포제거를 위해 자동 드레인되는 기포 및 포토레지스트가 버퍼탱크에 저장된 후, 회수라인을 통해 포토레지스트만 재사용함으로써, 포토레지스트의 손실을 줄여 원가절감 및 생산성 증가를 달성할 수 있을 뿐 아니라 바틀 교체 주기 연장으로 인해 가동을 향상에 기여할 수 있는 고신뢰성의 포토레지스트 공급 장치를 실현할 수 있는 것이다. As described above, according to the present invention, after bubbles and photoresist automatically drained to remove bubbles from the filter are stored in the buffer tank, only the photoresist is reused through the recovery line, thereby reducing the loss of the photoresist and increasing productivity. In addition to achieving this, it is possible to realize a highly reliable photoresist supply device that can contribute to improved operation due to an extended bottle replacement cycle.

Claims

1. An apparatus for supplying photoresist to a processing apparatus for processing a semiconductor device using a photoresist:

A bottle containing photoresist;

A pump connected to the bottle via a first transfer pipe;

A filter connected to the pump through a second transfer pipe to remove bubbles and the like contained in the photoresist supplied from the pump;

A spray nozzle connected to the filter through a third transfer pipe and configured to receive and spray a photoresist filtered from the filter;

A drain tube for draining the photoresist including bubbles filtered from the filter;

A buffer tank connected to the drain pipe to recover the photoresist drained; And

And a recovery line for supplying the photoresist recovered in the buffer tank to the bottle.