KR20060022055A - Apparatus for transfer panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 반송 기구에 관한 것으로, 회전에 의하여 기판을 이동시키는 샤프트와; 상기 샤프트에 회전력을 제공하는 구동 장치와; 상기 샤프트의 내부에 삽입된 제1 마그네틱과, 상기 제1 마그네틱과는 상호 반발력이 일어나도록 극성이 배치된 제2 마그네틱이 있는 마그네틱 바가 구비된 지지 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 최대 하중이 걸리는 샤프트의 중앙부 또는 그 부근에 마그네틱을 이용한 비접촉식 지지 장치를 설치함으로써 향후 대면적화된 글래스 기판을 안정적으로 반송할 수 있는 효과가 있다. 또한, 직접 접촉하지 않는 지지 방식이므로 지지점의 마모에 따른 파티클이 발생할 여지가 없게 된다.The present invention relates to a substrate transfer mechanism, comprising: a shaft for moving a substrate by rotation; A drive device for providing rotational force to the shaft; And a support device provided with a magnetic bar having a first magnetic inserted into the shaft and a second magnetic having a polarity arranged such that a repulsive force occurs between the first magnetic and the first magnetic. According to this, the non-contact supporting apparatus using magnetic is provided in the center part of the shaft which apply | occur | produces the maximum load, and there exists an effect that it can carry a large area glass substrate stably in future. In addition, since the support method does not directly contact, there is no room for particles due to wear of the support point.

Description

기판 반송 기구{APPARATUS FOR TRANSFER PANEL}Substrate conveyance mechanism {APPARATUS FOR TRANSFER PANEL}

도 1은 본 발명에 따른 기판 반송 기구를 도시한 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows the board | substrate conveyance mechanism which concerns on this invention.

도 2는 본 발명에 따른 기판 반송 기구에 있어서 일부를 확대한 단면도이다.It is sectional drawing which expanded one part in the board | substrate conveyance mechanism which concerns on this invention.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

100; 프레임 110; 샤프트100; Frame 110; shaft

120; 롤러 130; 구동 장치120; Roller 130; drive

140; 고정 장치 200; 지지 장치140; Fixing device 200; Support device

210; 제1 마그네틱 220; 마그네틱 바210; First magnetic 220; Magnetic bar

220a; 제2 마그네틱220a; 2nd magnetic

본 발명은 기판 반송 기구에 관한 것으로, 보다 상세하게는 샤프트가 아래로 처지는 것을 방지할 수 있는 기판 반송 기구에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer mechanism, and more particularly, to a substrate transfer mechanism that can prevent the shaft from sagging down.

액정 디스플레이 장치 또는 플라즈마 디스플레이 장치 등과 같은 평판형 표시 장치는 글래스 기판을 사용한다. 평판형 글래스 기판을 제작하기 위해선 여러 가지 공정을 거치는 바 각 공정 프로세스 챔버로 또는 각 챔버 간의 글래스 기판 반송은 롤러가 삽입된 길다란 샤프트가 모터로 구동되는 기판 반송 기구를 사용하는 것이 일반적이다.A flat panel display device such as a liquid crystal display device or a plasma display device uses a glass substrate. In order to fabricate a flat glass substrate, various processes are used to transfer glass substrates to or from each process chamber, and a substrate conveying mechanism in which a long shaft with a roller is inserted is driven by a motor.

현재 이른바 7세대 글래스 기판(1870㎜ ×2200㎜)과 같은 대면적 글래스 기판을 반송하는 기판 반송 기구의 샤프트는 양단 베어링 지지 및 구동으로 제작되고 있다. 그런데, 향후 8세대 글래스 기판(2300㎜ ×2600㎜)에서는 샤프트가 더 길어질 수 밖에 없게 되어 양끝단 지지방식으로는 샤프트가 아래로 처지는 현상이 불가피하다. 이를 해결하기 위하여는 샤프트의 중앙부에 지지점을 더 추가하여야 하는 문제점과 지지점의 마모에 따라 파티클이 발생하여 글래스 기판을 오염시키는 문제점이 있다.At present, the shaft of the substrate conveyance mechanism which conveys large area glass substrates, such as a so-called 7th generation glass substrate (1870 mm x 2200 mm), is manufactured by bearing support and drive of both ends. However, in the future 8 generation glass substrate (2300mm × 2600mm), the shaft will be longer, and the end of the shaft is inevitably a phenomenon that the shaft is down. In order to solve this problem, there is a problem in that a support point must be further added to the center of the shaft, and particles are generated according to the wear of the support point to contaminate the glass substrate.

이에 본 발명은 상술한 종래 기술상의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 대면적화된 글래스 기판을 안정적으로 반송할 수 있고 또한 파티클을 발생시키지 아니하는 기판 반송 기구를 제공함에 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems in the prior art, and an object of the present invention is to provide a substrate transport mechanism capable of stably transporting a large-area glass substrate and not generating particles.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 반송 기구는 최대 하중이 걸리는 샤프트의 중앙부에 비접촉식 지지 기구를 적용하는 것을 특징으로 한다.The substrate conveyance mechanism according to the present invention for achieving the above object is characterized in that the non-contact support mechanism is applied to the central portion of the shaft to which the maximum load is applied.

상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 기구는, 회전에 의하여 기판을 이동시키는 샤프트와; 상기 샤프트에 회전력을 제공하는 구동 장치와; 상기 샤프트의 내부에 삽입된 제1 마그네틱과, 상기 제1 마그네틱과는 상호 반발력이 일어나도록 극성이 배치된 제2 마그네틱이 있는 마그네틱 바가 구비된 지지 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.A substrate transfer mechanism according to an embodiment of the present invention capable of implementing the above features includes: a shaft for moving the substrate by rotation; A drive device for providing rotational force to the shaft; And a support device provided with a magnetic bar having a first magnetic inserted into the shaft and a second magnetic having a polarity arranged such that a repulsive force occurs between the first magnetic and the first magnetic.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1 마그네틱의 좌측 반절분에는 N극성과 S극성 중 어느 하나의 극성이 배치되고 우측 반절분에는 다른 하나의 극성이 배치되고, 상기 제2 마그네틱의 좌측 반절분에 상기 제1 마그네틱의 우측 반절분에 해당하는 극성이 배치되고 우측 반절분에는 상기 제1 마그네틱의 좌측 반절분에 해당하는 극성이 배치되는 것을 특징으로 한다.In an embodiment of the present invention, the left half of the first magnetic is arranged in the polarity of any one of the N polarity and the S polarity, the other half is arranged in the right half of the polarity, the left half of the second magnetic The polarity corresponding to the right half of the first magnetic is disposed in the polarity and the polarity corresponding to the left half of the first magnetic is disposed in the right half.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 지지 장치는 상기 샤프트의 최대 하중 발생 지점 부근에 배치되는 것을 특징으로 한다.In an embodiment of the invention, the support device is characterized in that it is disposed near the maximum load generation point of the shaft.

본 발명에 의하면, 최대 하중이 걸리는 샤프트의 중앙부에 마그네틱을 이용한 비접촉식 지지 장치를 설치함으로써 향후 대면적화된 글래스 기판을 안정적으로 반송할 수 있게 된다. 또한, 직접 접촉하지 않는 지지 방식이므로 지지점의 마모에 따른 파티클이 발생할 여지가 없게 된다.According to the present invention, by providing a non-contact supporting device using magnetic at the center of the shaft to which the maximum load is applied, it is possible to stably transport the large-sized glass substrate in the future. In addition, since the support method does not directly contact, there is no room for particles due to wear of the support point.

이하, 본 발명에 따른 기판 반송 기구를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the board | substrate conveyance mechanism which concerns on this invention is demonstrated in detail with reference to attached drawing.

본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명에 따른 반도체 소자의 제조 장치는 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명에 따른 반도체 소자의 제조 장치는 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.Advantages over the present invention and prior art will become apparent through the description and claims with reference to the accompanying drawings. In particular, a device for manufacturing a semiconductor device according to the present invention is well pointed out and claimed in the claims. However, the apparatus for manufacturing a semiconductor device according to the present invention can be best understood by referring to the following detailed description with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements throughout the various drawings.

도 1은 본 발명에 따른 기판 반송 기구를 도시한 단면도이고, 도 2는 본 발명에 따른 기판 반송 기구에 있어서 일부를 확대한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a substrate transfer mechanism according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a substrate transfer mechanism according to the present invention.

(실시예)(Example)

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 기판 반송 기구는 프레임(100)과, 프레임(100) 내에 설치되어 글래스 기판을 반송시키는 샤프트(110)와, 샤프트(100)에 회전력을 제공하는 구동 장치(130)와, 샤프트(110)의 최대 하중 발생 지점 부근에 설치된 비접촉식 방식 지지 장치(200)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, a substrate transfer mechanism according to the present invention includes a frame 100, a shaft 110 installed in the frame 100 to convey a glass substrate, and a driving device to provide rotational force to the shaft 100 ( 130 and a non-contact type support device 200 installed near the maximum load generation point of the shaft 110.

샤프트(110)는 대면적화된 글래스 기판을 반송하기에 충분한 길이를 가진다. 그리고, 글래스 기판과 직접 접촉하는 복수개의 롤러(120)가 샤프트(110)의 길이 방향으로 일정 간격으로 이격되어 끼워져 있다. 샤프트(110)의 어느 한쪽 끝 또는 양끝에는 샤프트(110)를 회전시키는 구동 장치(130)가 마련된다. 구동 장치(130)로는 스텝핑 모터가 사용될 수 있다.The shaft 110 has a length sufficient to carry a large area glass substrate. The plurality of rollers 120 in direct contact with the glass substrate are spaced apart at regular intervals in the longitudinal direction of the shaft 110. One end or both ends of the shaft 110 is provided with a drive device 130 for rotating the shaft (110). As the driving device 130, a stepping motor may be used.

샤프트(110)의 양 끝단은 샤프트(110)를 회전 동작 가능하게 고정시키는 장치, 예를 들어, 베어링으로 구성된 고정 장치(140)에 의해 고정되어 지지된다. 한편, 샤프트(110)의 양 끝단이 지지되어 있다하더라도 긴 길이를 갖는 샤프트(110)는 최대 하중이 발생되는 중앙부에서 아래로 처질 수 있다. 따라서, 내부가 비어있는 중공형 샤프트(110)를 채택하는 것이 바람직하다. Both ends of the shaft 110 are fixedly supported by a device for fixing the shaft 110 to be rotatable, for example, a fixing device 140 composed of a bearing. On the other hand, even if both ends of the shaft 110 is supported, the shaft 110 having a long length may sag down from the center portion where the maximum load is generated. Therefore, it is preferable to adopt the hollow shaft 110 with an empty inside.

최대 하중이 걸리는 샤프트(110)의 중앙부에는 샤프트(110)가 아래로 처지는 것을 방지하기 위한 비접촉식의 지지 장치(200)가 마련된다. 한편, 경사 반송 시스 템, 예를 들어 샤프트(110)가 수평 상태에서 벗어나 약 5°정도 기울어져 패널을 이송하는 경우 샤프트(110)의 최대 하중 발생 지점은 중앙부에서 약간 이격된 지점일 수 있다. 후자의 경우 비접촉식 지지 장치(200)는 샤프트(110)의 중앙부에서 약간 이격된 지점에 마련된다.The central portion of the shaft 110 under the maximum load is provided with a non-contact support device 200 to prevent the shaft 110 from sagging down. On the other hand, when the inclined conveying system, for example, the shaft 110 is moved out of the horizontal state by about 5 ° inclined to convey the panel, the maximum load generation point of the shaft 110 may be a point spaced slightly from the center. In the latter case, the contactless support device 200 is provided at a point slightly spaced from the center of the shaft 110.

지지 장치(200)는 중공 샤프트(110)의 내부에 삽입된 제1 마그네틱(210)과, 제1 마그네틱(210)과는 상호 반발력이 일어나도록 하는 제2 마그네틱(220a)을 갖는 마그네틱 바(220)로 구성된다. 여기서, 제1 마그네틱(210)과 제2 마그네틱(220a)은 서로 마주보는 면이 동일한 극성을 가지도록 설정되어야 할 것이다. 구체적으로, 도 2에 도시된 바와 같이, 제1 마그네틱(210)의 좌측 반절분은 N극 우측 반절분은 S극이라 가정하면, 제2 마그네틱(220a)의 좌측 반절분은 N극 우측 반절분은 S극으로 되어야 할 것이다.The support device 200 is a magnetic bar 220 having a first magnetic 210 inserted into the hollow shaft 110 and a second magnetic 220a to cause mutual repulsion with the first magnetic 210. It is composed of Here, the first magnetic 210 and the second magnetic 220a should be set such that the surfaces facing each other have the same polarity. Specifically, as shown in FIG. 2, assuming that the left half segment of the first magnetic 210 is an N pole right half segment, the left half segment of the second magnetic 220a is an N pole right half segment. Should be the S pole.

상기와 같이 구성된 기판 반송 기구는 다음과 같이 동작한다.The board | substrate conveyance mechanism comprised as mentioned above operates as follows.

글래스 기판이 샤프트(110)에 올려지면 모터와 같은 구동 장치(130)의 동작으로 회전력이 샤프트(110)에 전달된다. 샤프트(110)의 회전으로 인해 글래스 기판은 반송된다. 이때, 샤프트(110)에는 샤프트(110) 자체의 하중, 글래스 기판의 하중, 약액 분사시의 하중 등이 걸린다. 그런데, 최대 하중이 걸리는 샤프트(110)의 중앙부 또는 그 부근에는 마그네틱의 반발력을 이용하는 지지 장치(200)가 마련되어 있으므로 길이가 긴 샤프트(110)라 하더라도 아래로 처지는 현상이 발생되지 아니한다. 한편, 본 발명의 지지 장치(200)는 샤프트(110)와 직접 접촉하지 아니하는 비접촉 방식이므로 접촉에 따른 파티클이 발생될 여지가 없다. When the glass substrate is mounted on the shaft 110, the rotational force is transmitted to the shaft 110 by the operation of the driving device 130 such as a motor. The rotation of the shaft 110 causes the glass substrate to be conveyed. At this time, the shaft 110 is subjected to the load of the shaft 110 itself, the load of the glass substrate, the load during chemical injection. By the way, since the support device 200 using the repulsive force of the magnetic is provided in the central portion or the vicinity of the shaft 110 is subjected to the maximum load, even if the long shaft 110 does not sag down. On the other hand, since the support device 200 of the present invention is a non-contact type that is not in direct contact with the shaft 110, there is no room to generate particles due to contact.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 그리고, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description illustrates the present invention. In addition, the foregoing description merely shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. And, it is possible to change or modify within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, the scope equivalent to the written description, and / or the skill or knowledge in the art. The above-described embodiments are for explaining the best state in carrying out the present invention, the use of other inventions such as the present invention in other state known in the art, and the specific fields of application and uses of the present invention. Various changes are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other embodiments.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명의 기판 반송 기구에 의하면, 최대 하중이 걸리는 샤프트의 중앙부 또는 그 부근에 마그네틱을 이용한 비접촉식 지지 장치를 설치함으로써 향후 대면적화된 글래스 기판을 안정적으로 반송할 수 있는 효과가 있다. 또한, 직접 접촉하지 않는 지지 방식이므로 지지점의 마모에 따른 파티클이 발생할 여지가 없게 되는 효과가 있다.As described in detail above, according to the substrate transfer mechanism of the present invention, by providing a non-contact support device using magnetic in the central portion or the vicinity of the shaft that is subjected to the maximum load, it is possible to reliably convey a large-area glass substrate in the future There is. In addition, since the support method does not directly contact, there is an effect that there is no room for particles caused by the wear of the support point.

Claims (3)

회전에 의하여 기판을 이동시키는 샤프트와;A shaft for moving the substrate by rotation; 상기 샤프트에 회전력을 제공하는 구동 장치와;A drive device for providing rotational force to the shaft; 상기 샤프트의 내부에 삽입된 제1 마그네틱과, 상기 제1 마그네틱과는 상호 반발력이 일어나도록 극성이 배치된 제2 마그네틱이 있는 마그네틱 바가 구비된 지지 장치;A support device provided with a magnetic bar having a first magnetic inserted into the shaft and a second magnetic having a polarity arranged such that a repulsive force occurs between the first magnetic and the first magnetic; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 기구.Substrate conveying mechanism comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 마그네틱의 좌측 반절분에는 N극성과 S극성 중 어느 하나의 극성이 배치되고 우측 반절분에는 다른 하나의 극성이 배치되고,The polarity of one of the N polarity and the S polarity is disposed in the left half of the first magnetic and the other polarity is disposed in the right half. 상기 제2 마그네틱의 좌측 반절분에 상기 제1 마그네틱의 우측 반절분에 해당하는 극성이 배치되고 우측 반절분에는 상기 제1 마그네틱의 좌측 반절분에 해당하는 극성이 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 반송 기구.The polarity corresponding to the left half of the first magnetic is disposed on the left half of the second magnetic, and the polarity corresponding to the left half of the first magnetic is disposed on the right half . 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지 장치는 상기 샤프트의 최대 하중 발생 지점 부근에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 반송 기구.And the support device is disposed near a maximum load generation point of the shaft.
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