KR102318644B1 - Substrate transfer system and substrate transper method using the same - Google Patents

Substrate transfer system and substrate transper method using the same Download PDF

Info

Publication number
KR102318644B1
KR102318644B1 KR1020200038505A KR20200038505A KR102318644B1 KR 102318644 B1 KR102318644 B1 KR 102318644B1 KR 1020200038505 A KR1020200038505 A KR 1020200038505A KR 20200038505 A KR20200038505 A KR 20200038505A KR 102318644 B1 KR102318644 B1 KR 102318644B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
unit
driving
magnetic unit
substrate
shaft
Prior art date
Application number
KR1020200038505A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
최갑수
임범수
김병수
노건우
Original Assignee
(주)에스티아이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)에스티아이 filed Critical (주)에스티아이
Priority to KR1020200038505D priority Critical patent/KR20210121578A/en
Priority to KR1020200038505A priority patent/KR102318644B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102318644B1 publication Critical patent/KR102318644B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706Mechanical details, e.g. roller, belt
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063Transporting devices for sheet glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

기판 반송 시스템이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반송 시스템은, 복수개가 서로 나란하게 배열되고, 기판에 접면되는 복수개의 롤러를 자유 회전 가능하게 지지하는 반송 샤프트; 상기 반송 샤프트의 일단에 마련된 복수개의 제1 구동 마그네틱 유닛; 상기 제1 구동 마그네팃 유닛과 대면하되 이격 마련되고, 상기 제1 구동 마그네틱 유닛과 마그네틱 커플링되어 회전 가능한 제2 구동 마그네틱 유닛; 상기 제2 구동 마그네틱 유닛에 회전력을 제공하는 구동부; 및 상기 반송 샤프트의 타단에 마련되고, 장력을 가해 상기 구동부에 의한 상기 반송 샤프트의 편심을 조절하는 장력 조절부를 포함할 수 있다.A substrate transport system is disclosed. A substrate transport system according to an embodiment of the present invention includes: a transport shaft in which a plurality of rollers are arranged in parallel with each other and rotatably supported by a plurality of rollers in contact with a substrate; a plurality of first driving magnetic units provided at one end of the conveying shaft; a second driving magnetic unit facing the first driving magnetic unit but provided to be spaced apart from each other and being magnetically coupled to the first driving magnetic unit to be rotatable; a driving unit providing a rotational force to the second driving magnetic unit; and a tension adjusting unit provided at the other end of the conveying shaft and adjusting the eccentricity of the conveying shaft by the driving unit by applying a tension.

Figure R1020200038505
Figure R1020200038505

Description

기판 반송 시스템{SUBSTRATE TRANSFER SYSTEM AND SUBSTRATE TRANSPER METHOD USING THE SAME}SUBSTRATE TRANSFER SYSTEM AND SUBSTRATE TRANSPER METHOD USING THE SAME

본 발명은 기판 반송 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 평판 디스플레이 장치의 제조 공정에 사용되는 기판 반송 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transport system, and more particularly, to a substrate transport system used in a manufacturing process of a flat panel display device.

디스플레이 장치는 발광 방식에 따라 액정 표시 장치(LCD, liquid crystal display)와 유기 발광 표시 장치(OLED, organic light emitting diode display), 플라즈마 표시 장치(PDP, plasma display panel) 등이 있다.The display device includes a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting diode display (OLED), and a plasma display panel (PDP) according to a light emitting method.

그 중 평판 디스플레이 장치(FPD, flat panel display)는 다른 디스플레이 장치에 비해 두께가 얇고 무게가 가벼울 뿐만 아니라 높은 해상도를 구현할 수 있어 널리 활용되고 있다.Among them, a flat panel display (FPD) is widely used because it is thinner and lighter in weight than other display devices, and can realize high resolution.

평판 디스플레이 장치는 평판 타입의 기능성 기판이 복수 개 적층 형성된다. 이때, 기판 반송 시스템에 기판이 로딩, 이동되면서 약액도포공정, 세정공정, 건조공정 등 다양한 처리공정들이 수행된다.A flat panel display device is formed by stacking a plurality of flat panel type functional substrates. At this time, various processing processes such as a chemical application process, a cleaning process, and a drying process are performed while the substrate is loaded and moved in the substrate transfer system.

따라서 일련의 기판 처리 공정은 통상적으로 기판 반송 시스템과 연계되어 공정이 진행되는데, 기판 반송 시스템을 통해 각각의 공정 영역으로 반송된다.Accordingly, a series of substrate processing processes are typically performed in connection with a substrate transport system, and are transported to each process area through the substrate transport system.

기판 반송 시스템은, 기판의 이송 방향을 따라 반송 샤프트가 나란하게 배열되고, 반송 샤프트에 결합된 복수의 롤러가 반송 샤프트와 함께 회전하며 기판을 반송시킨다.In the substrate transport system, a transport shaft is arranged side by side along a transport direction of a substrate, and a plurality of rollers coupled to the transport shaft rotate together with the transport shaft to transport the substrate.

반송 샤프트의 일측에는 회전력을 발생시키는 구동 유닛과, 반송 샤프트에 회전력을 전달하기 위한 동력 전달부가 구동 유닛과 반송 샤프트 사이에 개재된다. 동력을 전달하는 구동 유닛이 일 측에만 마련됨으로써 회전력이 일방향으로만 전달되고, 힘의 불균형으로 반송 샤프트의의 위치 변화를 초래하고, 기판 반송을 불안정하게 하는 문제점이 있었다.At one side of the conveying shaft, a driving unit for generating a rotational force and a power transmitting unit for transmitting a rotational force to the conveying shaft are interposed between the driving unit and the conveying shaft. Since the driving unit for transmitting power is provided on only one side, the rotational force is transmitted only in one direction, causing a change in the position of the conveying shaft due to the imbalance of the force, and there is a problem in that the substrate conveyance is unstable.

또한 이러한 반송 샤프트의 일측 편심은 베어링과 반송 샤프트의 마모를 가져오고, 구성품의 마모에 따라 분진 발생 및 반송 저하에 따른 생산성 저하와 이물로 인한 공정 불량을 초래하는 문제점이 있었다.In addition, the eccentricity of one side of the conveying shaft causes wear of the bearing and the conveying shaft, and there was a problem of causing dust generation and lowering of conveyance due to wear of components, resulting in a decrease in productivity and process defects due to foreign substances.

한국공개특허공보(공개번호: 10-2008-0062302, "기판 이송 장치")는, 회전 샤프트의 일단에 순차로 마련된 마그네틱 기어와 구동 기어에 의해 회전 샤프트를 회전 시키는 기판 이송 장치를 개시하고 있다.Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2008-0062302, "substrate transport device") discloses a substrate transport device that rotates a rotating shaft by a magnetic gear and a driving gear sequentially provided at one end of the rotating shaft.

한국공개특허공보 제10-2008-0062302호(공개일자: 2008.07.03.)Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2008-0062302 (published date: 2008.07.03.)

본 발명이 해결하고자 하는 일 기술적 과제는, 구동 유닛의 회전력에 의한 반송 샤프트의 편심을 방지하여 대면적의 기판을 안정적으로 반송할 수 있는 기판 반송 시스템에 관한 것이다.One technical problem to be solved by the present invention relates to a substrate transport system capable of stably transporting a large-area substrate by preventing eccentricity of a transport shaft due to a rotational force of a driving unit.

상기 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 기판 반송 시스템을 제공한다.In order to solve the above technical problem, the present invention provides a substrate transport system.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반송 시스템은, 복수개가 서로 나란하게 배열되고, 기판에 접면되는 복수개의 롤러를 자유 회전 가능하게 지지하는 반송 샤프트; 상기 반송 샤프트의 일단에 마련된 복수개의 제1 구동 마그네틱 유닛; 상기 제1 구동 마그네팃 유닛과 대면하되 이격 마련되고, 상기 제1 구동 마그네틱 유닛과 마그네틱 커플링되어 회전 가능한 제2 구동 마그네틱 유닛; 상기 제2 구동 마그네틱 유닛에 회전력을 제공하는 구동부; 및 상기 반송 샤프트의 타단에 마련되고, 장력을 가해 상기 구동부에 의한 상기 반송 샤프트의 편심을 조절하는 장력 조절부를 포함할 수 있다.A substrate transport system according to an embodiment of the present invention includes: a transport shaft in which a plurality of rollers are arranged in parallel with each other and rotatably supported by a plurality of rollers in contact with a substrate; a plurality of first driving magnetic units provided at one end of the conveying shaft; a second driving magnetic unit facing the first driving magnetic unit but provided to be spaced apart from each other and being magnetically coupled to the first driving magnetic unit to be rotatable; a driving unit providing a rotational force to the second driving magnetic unit; and a tension adjusting unit provided at the other end of the conveying shaft and adjusting the eccentricity of the conveying shaft by the driving unit by applying a tension.

일 실시예에 따르면, 상기 장력 조절부는, 상기 반송 샤프트의 타단에 마련된 제1 장력 조절 마그네틱 유닛; 및 상기 제1 장력 조절 마그네틱 유닛과 대면하되 이격 마련되어 자기 세기를 조절해 상기 제1 장력 조절 마그네틱 유닛과의 이격거리를 조절하는 제2 장력 조절 마그네틱 유닛을 포함할 수 있다.According to an embodiment, the tension adjusting unit may include: a first tension adjusting magnetic unit provided at the other end of the conveying shaft; and a second tension control magnetic unit facing the first tension control magnetic unit but provided to be spaced apart to adjust magnetic strength to adjust a separation distance from the first tension control magnetic unit.

일 실시예에 따르면, 상기 제2 장력 조절 마그네틱 유닛은, 전자석 또는 영구자석 중 어느 하나를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the second tension control magnetic unit may include any one of an electromagnet and a permanent magnet.

일 실시예에 따르면, 상기 제2 장력 조절 마그네틱 유닛은, 상기 이격거리를 조정하기 위해 결합부재와의 결합 길이를 조절 가능한 간격 조절 수단을 포함할 수 있다.According to an embodiment, the second tension adjusting magnetic unit may include a gap adjusting means capable of adjusting the length of the coupling with the coupling member to adjust the distance.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 장력 조절 마그네틱 유닛은, 상기 반송 샤프트의 일단을 회전 지지하는 베어링의 외주연에 배치 마련되고, 영구자석 또는 자성을 띄는 금속성 바디부를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the first tension adjusting magnetic unit may be disposed on an outer periphery of a bearing that rotatably supports one end of the transport shaft, and may include a permanent magnet or a magnetic metallic body.

일 실시예에 따르면, 상기 반송 샤프트의 위치 정보를 측정하는 제1 센서; 상기 이격거리를 측정하는 제2 센서; 및 상기 제1 센서 또는 상기 제2 센서의 측정값을 기준으로 상기 반송 샤프트의 편심 여부를 검출하는 제어부를 더 포함할 수 있다.According to an embodiment, a first sensor for measuring the position information of the conveying shaft; a second sensor for measuring the separation distance; and a control unit configured to detect whether the conveyance shaft is eccentric based on a measurement value of the first sensor or the second sensor.

본 발명의 실시예에 따르면, 장력 조절 유닛이 반송 샤프트의 일 측으로 가해지는 힘을 상쇄시키기 위한 장력을 발생시켜 구동부의 편심 위치에 의한 동작 불량을 개선하고, 반송 샤프트 양단 간격을 일정하게 유지해 반송력을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.According to an embodiment of the present invention, the tension control unit generates a tension to cancel the force applied to one side of the conveying shaft to improve the operation failure due to the eccentric position of the driving unit, and to maintain a constant distance between both ends of the conveying shaft to provide a conveying force There are advantages to improving

본 발명의 일 실시예에 따르면, 제2 장력 조절 마그네틱의 자력 세기를 조절해 제1 장력 조절 마그네틱과의 이격 거리를 조절해 반송 샤프트의 편심을 조절하여 기판 반송력을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.According to an embodiment of the present invention, there is an advantage in that the substrate carrying force can be improved by adjusting the magnetic force strength of the second tension adjusting magnetic and adjusting the separation distance from the first tension adjusting magnetic to adjust the eccentricity of the transfer shaft. .

본 발명의 다른 실시예에 따르면 제2 구동 마그네틱 유닛과 제2 장력 조절 마그네틱 유닛이 비접촉 방식으로 반송 샤프트를 지지하므로, 직접 마찰에 따른 소모를 최소화하여 설비 내구성을 높일 수 있는 이점이 있다.According to another embodiment of the present invention, since the second driving magnetic unit and the second tension adjusting magnetic unit support the conveying shaft in a non-contact manner, there is an advantage in that consumption due to direct friction can be minimized to increase equipment durability.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반송 시스템을 개략적으로 보여주는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 상태에서의 기판 반송 시스템의 평면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 반송 시스템을 개략적으로 보여주는 정면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반송 시스템 중 어느 하나의 반송 샤프트를 보여주는 정면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반송 시스템 중 장력 조절부를 보여주는 도면이다.
도 6a 또는 도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 장력 조절 유닛을 보여주는 도면이다.
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 장력 조절 유닛을 보여주는 도면이다.
1 is a perspective view schematically showing a substrate transport system according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view of a substrate transport system in a substrate transport state according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic front view of a substrate transport system according to another embodiment of the present invention.
4 is a front view showing a transfer shaft of any one of the substrate transfer systems according to an embodiment of the present invention.
5 is a view showing a tension adjusting unit in the substrate transport system according to an embodiment of the present invention.
6A or 6B is a view showing a first tension adjusting unit according to an embodiment of the present invention.
7A to 7C are views illustrating a second tension adjusting unit according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명할 것이다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 통상의 기술자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the technical spirit of the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosed content may be thorough and complete, and the spirit of the present invention may be sufficiently conveyed to those skilled in the art.

본 명세서에서, 어떤 구성요소가 다른 구성요소 상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 구성요소 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 구성요소가 개재될 수도 있다는 것을 의미한다. 또한, 도면들에 있어서, 형상 및 크기는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다.In this specification, when a component is referred to as being on another component, it means that it may be directly formed on the other component or a third component may be interposed therebetween. In addition, in the drawings, the shape and size are exaggerated for the effective description of the technical content.

또한, 본 명세서의 다양한 실시예들에서 제1, 제2, 제3 등의 용어가 다양한 구성요소들을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 구성요소들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 구성요소를 다른 구성요소와 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 따라서 어느 한 실시예에 제 1 구성요소로 언급된 것이 다른 실시예에서는 제 2 구성요소로 언급될 수도 있다. 여기에 설명되고 예시되는 각 실시예는 그것의 상보적인 실시예도 포함한다. 또한, 본 명세서에서 '및/또는'은 전후에 나열한 구성요소들 중 적어도 하나를 포함하는 의미로 사용되었다.Also, in various embodiments of the present specification, terms such as first, second, third, etc. are used to describe various components, but these components should not be limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, what is referred to as a first component in one embodiment may be referred to as a second component in another embodiment. Each embodiment described and illustrated herein also includes a complementary embodiment thereof. In addition, in the present specification, 'and/or' is used to mean including at least one of the elements listed before and after.

명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다. 또한, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 구성요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 구성요소 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 배제하는 것으로 이해되어서는 안 된다. 또한, 본 명세서에서 "연결"은 복수의 구성 요소를 간접적으로 연결하는 것, 및 직접적으로 연결하는 것을 모두 포함하는 의미로 사용된다.In the specification, the singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In addition, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate that a feature, number, step, element, or a combination thereof described in the specification is present, and one or more other features, numbers, steps, configuration It should not be construed as excluding the possibility of the presence or addition of elements or combinations thereof. Also, in the present specification, the term “connection” is used to include both indirectly connecting a plurality of components and directly connecting a plurality of components.

또한, 하기에서 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 것이다.In addition, in the following description of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반송 시스템을 구성하는 각 구성요소에 대하여 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, each component constituting the substrate transport system according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반송 시스템(10)을 개략적으로 보여주는 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 상태에서의 기판 반송 시스템(10)의 평면도이고, 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 반송 시스템(10)을 개략적으로 보여주는 정면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반송 시스템(10) 중 어느 하나의 반송 샤프트(100)를 보여주는 정면도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반송 시스템(10) 중 장력 조절부(500)를 보여주는 도면이고, 도 6a 또는 도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 장력 조절 유닛(510)을 보여주는 도면이며, 도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 장력 조절 유닛(520)을 보여주는 도면이다.1 is a perspective view schematically showing a substrate transport system 10 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the substrate transport system 10 in a substrate transport state according to an embodiment of the present invention, 3 is a schematic front view of a substrate transport system 10 according to another embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a transport shaft 100 of any one of the substrate transport systems 10 according to an embodiment of the present invention. is a front view showing a , and FIG. 5 is a view showing the tension adjusting unit 500 of the substrate transport system 10 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6A or 6B is a first view according to an embodiment of the present invention. It is a view showing the tension adjusting unit 510, and FIGS. 7A to 7C are views showing the second tension adjusting unit 520 according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 7c에 도시된 대로 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반송 시스템(10)은, 기판(S)을 지지한 채로 기판 이송 중, 기판(S)을 어느 일 방향으로 반송시킬 수 있다. 기판 반송 시스템(10)은, 기판 처리 공정 영역(미도시) 내 마련될 수 있다.As shown in FIGS. 1 to 7C , the substrate transport system 10 according to an embodiment of the present invention can transport the substrate S in any one direction while the substrate S is being transported while supporting the substrate S. . The substrate transfer system 10 may be provided in a substrate processing process area (not shown).

기판 반송 시스템(10)은, 반송 샤프트(100)와 제1 구동 마그네틱 유닛(200), 제2 구동 마그네틱 유닛(300), 구동부(400), 장력 조절부(500)를 포함하고, 제1 센서(610)와 제2 센서(620), 제어부(700), 챔버(800)를 더 포함할 수 있다.The substrate transfer system 10 includes a transfer shaft 100 , a first driving magnetic unit 200 , a second driving magnetic unit 300 , a driving unit 400 , and a tension adjusting unit 500 , and a first sensor It may further include a 610 , a second sensor 620 , a controller 700 , and a chamber 800 .

다시 도 1 내지 도 4에 도시된 대로 반송 샤프트(100)는, 기판(S) 하면을 지지하며 어느 일 방향으로 이송할 수 있다. 반송 샤프트(100)는, 복수개가 서로 나란하게 배열될 수 있다. 반송 샤프트(100)들은 기판 이송 방향을 따라 나란하게 배치될 수 있다. 일 실시예에 따라 반송 샤프트(100)들은 수평하게 배치되거나, 다른 실시예에 따라 일단이 타단에 비해 수직방향으로 다른 높이에 마련되어 경사지게 배치될 수 있다. 반송 샤프트(100)는, 복수개의 롤러(110)를 회전 가능하게 지지할 수 있다. 롤러(110)는, 기판(S)에 접면될 수 있다. 기판(S)은, 롤러에 접면되어 일 방향을 따라 이송 안내될 수 있다.Again, as shown in FIGS. 1 to 4 , the transport shaft 100 supports the lower surface of the substrate S and can be transported in any one direction. A plurality of conveying shafts 100 may be arranged in parallel with each other. The transfer shafts 100 may be arranged in parallel along the substrate transfer direction. According to one embodiment, the conveying shafts 100 may be horizontally arranged, or according to another embodiment, one end may be provided at a different height in the vertical direction compared to the other end, and may be inclined. The conveyance shaft 100 can rotatably support the plurality of rollers 110 . The roller 110 may be in contact with the substrate S. The substrate (S) is in contact with the roller may be transported in one direction.

다시 도 1 내지 도 4에 도시된 대로 제1 구동 마그네틱 유닛(200)은, 후술할 제2 구동 마그네틱 유닛(300)과 마그네틱 커플링(magnetic coupling)되어 자력에 의해 반송 샤프트(100)에 회전력을 전달할 수 있다. 제1 구동 마그네틱 유닛(200)은, 반송 샤프트(100)의 일단에 마련될 수 있다. 제1 구동 마그네틱 유닛(200)은, 반송 샤프트(100)에 대응되는 개수로 복수개가 마련될 수 있다. 제1 구동 마그네틱 유닛(200)은, 전자석 또는 영구자석을 포함할 수 있다.Again, as shown in FIGS. 1 to 4 , the first driving magnetic unit 200 is magnetically coupled to a second driving magnetic unit 300 to be described later to apply a rotational force to the transport shaft 100 by magnetic force. can transmit The first driving magnetic unit 200 may be provided at one end of the conveyance shaft 100 . A plurality of first driving magnetic units 200 may be provided in a number corresponding to the conveyance shaft 100 . The first driving magnetic unit 200 may include an electromagnet or a permanent magnet.

다시 도 1 내지 도 3에 도시된 대로 제2 구동 마그네틱 유닛(300)은, 제1 구동 마그네틱 유닛(200)과 마그네틱 커플링(magnetic coupling)되어 후술할 구동부(400)의 회전력을 반송 샤프트(100)에 전달할 수 있다. 제2 구동 마그네틱 유닛(300)은, 제1 구동 마그네틱 유닛(200)과 자계(인력 및/또는 척력)가 형성될 수 있다.Again, as shown in FIGS. 1 to 3 , the second driving magnetic unit 300 is magnetically coupled to the first driving magnetic unit 200 to transfer the rotational force of the driving unit 400 to be described later to the transport shaft 100 . ) can be passed to The second driving magnetic unit 300 may form a magnetic field (attractive force and/or repulsive force) with the first driving magnetic unit 200 .

제2 구동 마그네틱 유닛(300)은, 반송 샤프트(100)의 일단에 마련될 수 있다. 제2 구동 마그네틱 유닛(300)은, 구동부(400)와 연결될 수 있다.The second driving magnetic unit 300 may be provided at one end of the conveyance shaft 100 . The second driving magnetic unit 300 may be connected to the driving unit 400 .

제2 구동 마그네틱 유닛(300)은, 제1 구동 마그네틱 유닛(200)과 대면하되 소장 간격 이상 이격 마련될 수 있다. 즉 제2 구동 마그네틱 유닛(300)은, 제1 구동 마그네틱 유닛(200)과 비접촉하도록 배치될 수 있다. 제2 제2 구동 마그네틱 유닛(300)은, 제1 구동 마그네틱 유닛(200)에 대응되는 개수로 복수개가 마련될 수 있다. 제2 구동 마그네틱 유닛(300)은, 전자석 또는 영구자석을 포함할 수 있다.The second driving magnetic unit 300 may face the first driving magnetic unit 200 , but may be provided to be spaced apart from each other by more than a small intestine interval. That is, the second driving magnetic unit 300 may be disposed to be non-contact with the first driving magnetic unit 200 . A plurality of second second driving magnetic units 300 may be provided in a number corresponding to the first driving magnetic unit 200 . The second driving magnetic unit 300 may include an electromagnet or a permanent magnet.

다시 도1과 도 3에 도시된 대로 구동부(400)는, 반송 샤프트(100)를 회전시키기 위한 회전력을 제공할 수 있다. 구동부(400)는, 제2 구동 마그네틱 유닛(300)에 회전력을 제공할 수 있다. 구동부(400)는, 반송 샤프트(100)의 일단에 마련될 수 있다. 구동부(400)가 제2 구동 마그네틱 유닛(300)에 제공하는 회전력에 의해, 제1 구동 마그네틱 유닛(200)과 반송 샤프트(100)가 함께 회전할 수 있다. 구동부(400)는, 동력원으로서 모터를 포함할 수 있다.Again, as shown in FIGS. 1 and 3 , the driving unit 400 may provide a rotational force for rotating the conveying shaft 100 . The driving unit 400 may provide a rotational force to the second driving magnetic unit 300 . The driving unit 400 may be provided at one end of the conveying shaft 100 . The first driving magnetic unit 200 and the conveying shaft 100 may rotate together by the rotational force that the driving unit 400 provides to the second driving magnetic unit 300 . The driving unit 400 may include a motor as a power source.

다시 도 1 내지 도 7c를 참조하면 장력 조절부(500)는, 구동부(400)에 의해 반송 샤프트(100)에 가해지는 일 측에서 가해지는 구동력을 상쇄시키기 위해 장력을 반송 샤프트(100)에 제공할 수 있다. 즉 장력 조절부(500)는, 장력을 가해 구동부(400)에 의한 반송 샤프트(100)의 편심을 조절할 수 있다. 장력 조절부(500)는, 구동부(400)가 설치된 단부를 기준으로 반송 샤프트(100)의 타단에 마련될 수 있다. Referring back to FIGS. 1 to 7C , the tension adjusting unit 500 provides tension to the conveying shaft 100 in order to offset the driving force applied from one side applied to the conveying shaft 100 by the driving unit 400 . can do. That is, the tension adjusting unit 500 may adjust the eccentricity of the conveying shaft 100 by the driving unit 400 by applying tension. The tension adjusting unit 500 may be provided at the other end of the conveying shaft 100 based on the end at which the driving unit 400 is installed.

장력 조절부(500)는, 반송 샤프트(100) 양끝 단 중 제1 구동 마그네틱 유닛(200)와 반대방향인, 반송 샤프트(100)의 타단에 마련될 수 있다. 장력 조절부(500)는, 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)과 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)을 포함할 수 있다.The tension adjusting unit 500 may be provided at the other end of the conveyance shaft 100 in a direction opposite to the first driving magnetic unit 200 among both ends of the conveyance shaft 100 . The tension control unit 500 may include a first tension control magnetic unit 510 and a second tension control magnetic unit 520 .

다시 도 2와 도 3, 도 5 내지 도 6b를 참조하면 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)은, 반송 샤프트(100)와 일 측이 연결될 수 있다. 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)은, 반송 샤프트의 일단을 회전 지지하는 베어링의 외주연에 돌출되도록 마련될 수 있다. 베어링은, 제1 장력 조절 마그네틱 유닛()가 반송 샤프트(100)와 직접 접촉에 의해 마찰되는 것을 막을 수 있다. 베어링은, 반송 샤프트(100)에 연동되어 축 상에서 회전 가능하도록 설치될 수 있다. 베어링은, 스러스트 베어링일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Referring back to FIGS. 2, 3, and 5 to 6B , the first tension adjusting magnetic unit 510 may have one side connected to the conveying shaft 100 . The first tension control magnetic unit 510 may be provided to protrude from the outer periphery of a bearing that rotatably supports one end of the transport shaft. The bearing may prevent the first tension adjusting magnetic unit ( ) from being rubbed by direct contact with the conveying shaft ( 100 ). The bearing may be installed to be rotatable on the shaft in association with the conveying shaft 100 . The bearing may be a thrust bearing, but is not limited thereto.

제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)은, 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)과 인력이 작용하여 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520) 방향으로 반송 샤프트(100)를 잡아당길 수 있다. 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)은, 영구자석(511a) 또는 금속성 바디부(511b)를 포함하고, 하우징(511)을 더 포함할 수 있다. 금속성 바디부(511b)는, 철과 같은 자성을 띄는 재질로 이루어질 수 있다. 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)은, 반송 샤프트(100)와 달리, 회전하지 않고 반송 샤프트(100)를 지지 고정될 수 있다.The first tension control magnetic unit 510 may pull the conveyance shaft 100 in the direction of the second tension control magnetic unit 520 by an attractive force acting with the second tension control magnetic unit 520 . The first tension control magnetic unit 510 may include a permanent magnet 511a or a metallic body 511b, and may further include a housing 511 . The metallic body portion 511b may be made of a magnetic material such as iron. Unlike the transport shaft 100 , the first tension control magnetic unit 510 may support and fix the transport shaft 100 without rotating.

하우징(512a, 512b)은, 영구자석(511a) 또는 금속성 바디부(511b)를 수용할 수 있다. 하우징(512a, 512b)은, 하우징 바디부(512a)와 하우징 캡(512b)을 포함할 수 있다. 하우징 캡(512b)은, 하우징 바디부(512a)의 일단에 내장 결합되어 외부로부터 분리된 채로 내부에 중공부를 형성할 수 있다. 하우징 바디부(512a)에 전자석(521a) 또는 영구자석(521b)이 지지된 상태에서 하우징 캡(512b)이 하우징 바디부(512a)의 일단에 결합할 수 있다.The housings 512a and 512b may accommodate a permanent magnet 511a or a metallic body 511b. The housings 512a and 512b may include a housing body portion 512a and a housing cap 512b. The housing cap 512b may be internally coupled to one end of the housing body 512a to form a hollow inside while being separated from the outside. In a state in which the electromagnet 521a or the permanent magnet 521b is supported on the housing body 512a, the housing cap 512b may be coupled to one end of the housing body 512a.

다시 도 2와 도 3, 도 5 내지 도 7c를 참조하면 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)은, 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)과 대면하되 소정 간격 이상 이격 마련될 수 있다. 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)은, 자기 세기를 조절해 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)과의 이격거리를 조절할 수 있다. 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)은, 전자석(521a) 또는 영구자석(521b) 중 어느 하나를 포함하고, 하우징(522a, 522b)을 더 포함할 수 있다. 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)은, 반송 샤프트(100)와 달리, 회전하지 않고 지지 고정될 수 있다.Referring again to FIGS. 2, 3, and 5 to 7C , the second tension control magnetic unit 520 may face the first tension control magnetic unit 510 but be spaced apart from each other by a predetermined distance or more. The second tension control magnetic unit 520 may adjust a magnetic strength to adjust a separation distance from the first tension control magnetic unit 510 . The second tension control magnetic unit 520 may include either an electromagnet 521a or a permanent magnet 521b, and may further include housings 522a and 522b. Unlike the transport shaft 100 , the second tension control magnetic unit 520 may be supported and fixed without rotating.

하우징(522a, 522b)은, 전자석(521a) 또는 영구자석(521b)을 수용할 수 있다. 하우징(522a, 522b)은, 하우징 바디부(522a)와 하우징 캡(522b)을 포함할 수 있다. 하우징 캡(522b)은, 하우징 바디부(522a)의 일단에 내장 결합되어 외부로부터 분리된 채로 내부에 중공부를 형성할 수 있다. 하우징 바디부(522a)에 전자석(521a) 또는 영구자석(521b)이 지지된 상태에서 하우징 캡(522b)이 하우징 바디부(522a)의 일단에 결합할 수 있다.The housings 522a and 522b may accommodate an electromagnet 521a or a permanent magnet 521b. The housings 522a and 522b may include a housing body portion 522a and a housing cap 522b. The housing cap 522b may be internally coupled to one end of the housing body 522a to form a hollow inside while being separated from the outside. The housing cap 522b may be coupled to one end of the housing body 522a while the electromagnet 521a or the permanent magnet 521b is supported on the housing body 522a.

일 실시예에 따른 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)에 전자석(521a)이 내장된 경우, 전자석(521a)에 인가되는 전류의 세기를 조절해 전자석(521a)의 자력 세기를 조절할 수 있다. 이를 위해 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)은, 하우징(522a, 522b)의 일 측에 마그네틱 배선(523)과 전원부(미도시)를 더 포함할 수 있다. 마그네틱 배선(523)은, 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)의 자력 세기를 조절하기 위해 전류가 흐르는 배선일 수 있다. 마그네틱 배선(523)이 하우징(522a, 522b) 내부의 전자석(521a)과 연결되기 위해 하우징 바디부(522a) 또는 하우징 캡(522a, 522b) 일단에 마그네틱 배선(523)에 대응되는 중공이 형성될 수 있다. 전원부(미도시)는, 마그네틱 배선(523)을 통해 전류를 인가할 수 있다.When the electromagnet 521a is built in the second tension control magnetic unit 520 according to an embodiment, the magnetic force strength of the electromagnet 521a may be adjusted by adjusting the strength of the current applied to the electromagnet 521a. To this end, the second tension control magnetic unit 520 may further include a magnetic wire 523 and a power supply unit (not shown) on one side of the housings 522a and 522b. The magnetic wire 523 may be a wire through which a current flows to adjust the magnetic force strength of the second tension control magnetic unit 520 . In order for the magnetic wiring 523 to be connected to the electromagnet 521a inside the housings 522a and 522b, a hollow corresponding to the magnetic wiring 523 is formed at one end of the housing body 522a or the housing caps 522a and 522b. can The power supply unit (not shown) may apply a current through the magnetic wiring 523 .

다른 실시예에 따른 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)에 영구자석(521b)이 내장된 경우, 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(520)과 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)의 이격거리를 간격 조절 수단(524)로 조절할 수 있다. 이를 위해 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)은, 간격 조절 수단(524)을 더 포함할 수 있다. 간격 조절 수단(524)은, 하우징 바디부(522a) 또는 하우징 캡(522b)에 형성된 간격 조절 체결구(525)에 대응 결합될 수 있다. 간격 조절 수단(524)은, 간격 조절 체결구(525)와의 결합 거리를 조절하여, 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)과 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510) 사이 이격거리를 조절할 수 있다.When the permanent magnet 521b is built in the second tension control magnetic unit 520 according to another embodiment, the separation distance between the first tension control magnetic unit 520 and the second tension control magnetic unit 520 is adjusted. It can be adjusted by means 524 . To this end, the second tension adjusting magnetic unit 520 may further include a gap adjusting means 524 . The gap adjusting means 524 may be coupled to the gap adjusting fastener 525 formed in the housing body 522a or the housing cap 522b. The gap adjusting means 524 may adjust the distance between the second tension adjusting magnetic unit 520 and the first tension adjusting magnetic unit 510 by adjusting the coupling distance with the gap adjusting fastener 525 .

다시 도 7을 참조하면 또 다른 실시예에 따른 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)은 전자석(521a)과 영구자석(521b)을 선택적으로 수용할 수 있다. 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)은, 마그네틱 배선(523)과 간격 조절 수단(524)을 더 포함할 수 있다.Referring back to FIG. 7 , the second tension control magnetic unit 520 according to another embodiment may selectively accommodate the electromagnet 521a and the permanent magnet 521b. The second tension adjusting magnetic unit 520 may further include a magnetic wire 523 and a gap adjusting means 524 .

다시 도 1을 참조하면 제1 센서(610)는, 반송 샤프트(100)의 위치 정보를 측정할 수 있다. 제1 센서(610)는, 반송 샤프트(100)의 하부에 마련되어, 반송 샤프트(100)의 임의 지점의 위치를 감지하고, 반송 샤프트(100)가 기준 위치를 기준으로 축방향에 대해 편심되어 이동하였는지 여부를 측정할 수 있다.Referring back to FIG. 1 , the first sensor 610 may measure position information of the transport shaft 100 . The first sensor 610 is provided under the conveying shaft 100 to sense the position of any point of the conveying shaft 100 , and the conveying shaft 100 moves eccentrically with respect to the axial direction based on the reference position. It can be measured whether

다시 도 5를 참조하면 제2 센서(620)는, 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)으로부터 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)의 이격거리를 측정할 수 있다. 제2 센서(620)는, 광 송신부와 광 수신부로 이루어진 광 센서일 수 있고, 이 경우 광 송신부는, 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)에서 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)과 대면하는 위치에 마련될 수 있다. 광 수신부는, 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)에서 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)과 대면하는 위치에 마련될 수 있다.Referring back to FIG. 5 , the second sensor 620 may measure the separation distance of the first tension control magnetic unit 510 from the second tension control magnetic unit 520 . The second sensor 620 may be an optical sensor composed of a light transmitter and a light receiver, and in this case, the light transmitter is located at a position facing the first tension adjusting magnetic unit 510 in the second tension adjusting magnetic unit 520 . can be provided in The light receiver may be provided at a position facing the second tension control magnetic unit 520 in the first tension control magnetic unit 510 .

다시 도 1을 참조하면 제어부(700)는, 제1 센서(610) 또는 제2 센서(620)의 측정값을 기준으로 반송 샤프트(100)의 편심 여부를 검출할 수 있다. 제어부(700)는, 반송 샤프트(100)가 편심된 경우, 작업자를 호출할 수 있다. 이 때 반송 샤프트(100)의 편심 여부는, 기준 위치를 기준으로 반송 샤프트(100)의 임의 지점이 얼마나 이격되어 있는지를 기준하거나 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)이 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520)에 근접하거나 이격되어 있는지를 기준할 수 있다.Referring back to FIG. 1 , the control unit 700 may detect whether the conveyance shaft 100 is eccentric based on a measurement value of the first sensor 610 or the second sensor 620 . The control unit 700, when the conveying shaft 100 is eccentric, may call the operator. At this time, the eccentricity of the conveying shaft 100 is determined based on how far the arbitrary points of the conveying shaft 100 are spaced apart from the reference position, or the first tension control magnetic unit 510 is the second tension control magnetic unit ( 520) can be based on whether it is close to or spaced apart.

다시 도 3을 참조하면 챔버(800)는, 일정한 두께의 벽체를 포함할 수 있다. 챔버(800)는, 기판 반송 시스템(10)의 일 구성을 수용할 수 있다. 챔버(800)는, 제1 구동 마그네틱 유닛(200)과 제2 구동 마그네틱 유닛(300) 사이, 제1 장력 조절 마그네틱 유닛(510)과 제2 장력 조절 마그네틱 유닛(520) 사이에 개재될 수 있다.Referring back to FIG. 3 , the chamber 800 may include a wall having a constant thickness. The chamber 800 may house one configuration of the substrate transfer system 10 . The chamber 800 may be interposed between the first driving magnetic unit 200 and the second driving magnetic unit 300 , and between the first tension adjusting magnetic unit 510 and the second tension adjusting magnetic unit 520 . .

이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.As mentioned above, although the present invention has been described in detail using preferred embodiments, the scope of the present invention is not limited to specific embodiments and should be interpreted by the appended claims. In addition, those skilled in the art should understand that many modifications and variations are possible without departing from the scope of the present invention.

10 : 기판 반송 시스템
100 : 반송 샤프트 110 : 롤러
200 : 제1 구동 마그네틱 유닛
300 : 제2 구동 마그네틱 유닛
400 : 구동부
500 : 장력 조절부 510 : 제1 장력 조절 마그네틱 유닛
511a : 영구자석 511b : 금속성 바디부
512a : 하우징 바디부 512b : 하우징 캡
520 : 제2 장력 조절 마그네틱 유닛 521a : 전자석
521b : 영구자석 522a : 하우징 바디부
522b : 하우징 캡 523 : 마그네틱 배선
524 : 간격 조절 수단
610 : 제1 센서 620 : 제2 센서
700 : 제어부
800 : 챔버
S : 기판
10: substrate transfer system
100: conveying shaft 110: roller
200: first driving magnetic unit
300: second driving magnetic unit
400: drive unit
500: tension control unit 510: first tension control magnetic unit
511a: permanent magnet 511b: metallic body part
512a: housing body 512b: housing cap
520: second tension control magnetic unit 521a: electromagnet
521b: permanent magnet 522a: housing body part
522b: housing cap 523: magnetic wiring
524: spacing adjustment means
610: first sensor 620: second sensor
700: control unit
800: chamber
S: substrate

Claims (6)

복수개가 서로 나란하게 배열되고, 기판에 접면되는 복수개의 롤러를 자유 회전 가능하게 지지하는 반송 샤프트;
상기 반송 샤프트의 일단에 마련된 복수개의 제1 구동 마그네틱 유닛;
상기 제1 구동 마그네틱 유닛과 대면하되 이격 마련되고, 상기 제1 구동 마그네틱 유닛과 마그네틱 커플링되어 회전 가능한 제2 구동 마그네틱 유닛;
상기 제2 구동 마그네틱 유닛에 회전력을 제공하는 구동부; 및
상기 반송 샤프트의 타단에 마련되고, 장력을 가해 상기 구동부에 의한 상기 반송 샤프트의 편심을 조절하는 장력 조절부를 포함하고,
상기 장력 조절부는,
상기 반송 샤프트의 타측에 고정 마련되어 자성을 띄는 제1 장력 조절 마그네틱 유닛; 및
상기 제1 장력 조절 마그네틱 유닛과 대면하되 이격 마련되고, 상기 구동부의 편심 하중에 상응하도록 자기 세기를 조절 가능한 제2 장력 조절 마그네틱 유닛을 포함하고,
상기 제2 장력 조절 마그네틱 유닛은,
상기 이격거리를 조정하기 위해 간격 조절 체결구와의 결합 거리를 조절 가능한 간격 조절 수단 또는 인가되는 전류 세기를 조절 가능한 마그네틱 배선 중 어느 하나를 포함하는, 기판 반송 시스템.
a plurality of conveying shafts arranged in parallel with each other and freely rotatably supporting a plurality of rollers in contact with the substrate;
a plurality of first driving magnetic units provided at one end of the conveying shaft;
a second driving magnetic unit facing the first driving magnetic unit but provided to be spaced apart from each other and being magnetically coupled to the first driving magnetic unit to be rotatable;
a driving unit providing a rotational force to the second driving magnetic unit; and
It is provided at the other end of the conveying shaft and includes a tension adjusting unit for adjusting the eccentricity of the conveying shaft by the driving unit by applying a tension,
The tension control unit,
a first tension control magnetic unit fixed to the other side of the conveying shaft and exhibiting magnetism; and
and a second tension control magnetic unit facing but spaced apart from the first tension control magnetic unit and capable of adjusting magnetic strength to correspond to the eccentric load of the driving unit,
The second tension control magnetic unit,
In order to adjust the separation distance, the substrate transport system comprising any one of a gap adjusting means capable of adjusting a coupling distance with a gap adjusting fastener or a magnetic wiring capable of adjusting an applied current strength.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 제1 장력 조절 마그네틱 유닛은,
상기 반송 샤프트의 일단을 회전 지지하는 베어링의 외주연에 배치 마련되고, 영구자석 또는 자성을 띄는 금속성 바디부를 포함하는, 기판 반송 시스템.
The method of claim 1,
The first tension control magnetic unit,
A substrate transport system, which is disposed on an outer periphery of a bearing that rotatably supports one end of the transport shaft, and includes a permanent magnet or a magnetic metallic body.
제 1 항에 있어서,
상기 반송 샤프트의 위치 정보를 측정하는 제1 센서;
상기 이격거리를 측정하는 제2 센서; 및
상기 제1 센서 또는 상기 제2 센서의 측정값을 기준으로 상기 반송 샤프트의 편심 여부를 검출하는 제어부를 더 포함하는, 기판 반송 시스템.
The method of claim 1,
a first sensor for measuring position information of the conveying shaft;
a second sensor for measuring the separation distance; and
The substrate transport system further comprising a controller configured to detect whether the transport shaft is eccentric based on a measurement value of the first sensor or the second sensor.
KR1020200038505A 2020-03-30 2020-03-30 Substrate transfer system and substrate transper method using the same KR102318644B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200038505D KR20210121578A (en) 2020-03-30 2020-03-30 Substrate transfer system and substrate transper method using the same
KR1020200038505A KR102318644B1 (en) 2020-03-30 2020-03-30 Substrate transfer system and substrate transper method using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200038505A KR102318644B1 (en) 2020-03-30 2020-03-30 Substrate transfer system and substrate transper method using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102318644B1 true KR102318644B1 (en) 2021-10-28

Family

ID=78232399

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200038505A KR102318644B1 (en) 2020-03-30 2020-03-30 Substrate transfer system and substrate transper method using the same
KR1020200038505D KR20210121578A (en) 2020-03-30 2020-03-30 Substrate transfer system and substrate transper method using the same

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200038505D KR20210121578A (en) 2020-03-30 2020-03-30 Substrate transfer system and substrate transper method using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (2) KR102318644B1 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100710883B1 (en) 2006-09-30 2007-04-27 아프로시스템 주식회사 Sag prevention apparatus of glass transfer roller for flat panel display
KR100761319B1 (en) * 2006-12-01 2007-09-27 아프로시스템 주식회사 Glass transfer apparatus for flat panel display

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100710883B1 (en) 2006-09-30 2007-04-27 아프로시스템 주식회사 Sag prevention apparatus of glass transfer roller for flat panel display
KR100761319B1 (en) * 2006-12-01 2007-09-27 아프로시스템 주식회사 Glass transfer apparatus for flat panel display

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210121578A (en) 2021-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100835202B1 (en) Apparatus for transferring a substrate
KR102318644B1 (en) Substrate transfer system and substrate transper method using the same
KR100978852B1 (en) Method and apparatus for transferring substrates, and equipment for processing substrate having the apparatus
KR100821964B1 (en) Apparatus for carrying a substrate
KR20090111607A (en) Roller for transferring substrate and substrate transferring apparatus including of the same
KR100560959B1 (en) Apparatus for transporting works having magnet bearing for use in preventing shaft from vending
KR20150076807A (en) apparatus for treating substrate and method for sensing substrate transfer
KR20110057680A (en) Transfer shaft
KR20150090934A (en) Substrate transfer apparatus
KR101071268B1 (en) Apparatus for transferring a substrate
KR101416593B1 (en) Substrate Transfer Device for Roller Shaft Sagging Prevention
KR100813617B1 (en) Apparatus and method for transfering substrates
KR100870745B1 (en) Transferring apparatus
KR100819039B1 (en) Apparatus for transferring a substrate and apparatus for treating the substrate including the same
JP2007307533A (en) Washing device
KR102366928B1 (en) Substrate transfer system and substrate transper method using the same
KR101164175B1 (en) Apparatus for moving substrate
JP2008297092A (en) Magnetic conveyance system and magnetic conveying method
KR100783069B1 (en) Apparatus for transferring a substrate and apparatus for treating the substrate including the same
JPH1135119A (en) Conveying method and device for printed wiring board
KR101926520B1 (en) Apparatus for conveying substrate
KR100862232B1 (en) Apparatus for treating substrate
KR20070090503A (en) Magnetic gear and magnetic conveyor using magnetic gear
KR100541918B1 (en) Apparatus for Ttransfering Plate
KR101040695B1 (en) Apparatus for transferring a substrate

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right