KR20050075422A - 코팅용 연무 방지 첨가제로서의 스타-분지된 실리콘 중합체 - Google Patents
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Abstract
하이드라이도-실리콘을 하이드로실릴화 조건하에서 (바람직하게는) 장쇄 올레핀과 불완전하게 반응시켜 부분 치환된 하이드라이도-실리콘을 생성시킨 후, 이를 하이드로실릴화 조건하에서 비닐 함유 MQ 수지와 추가로 반응시켜 잔류 하이드라이드를 부분적으로 소비시키고, 이를 다시 하이드로실릴화 조건하에서 장쇄 올레핀과 반응시켜 잔류 하이드라이드를 소비시킴으로써, 가요성 지지체의 코팅에서 연무 방지제로서 유용한 조성물을 제조한다.
Description
본 발명은 직조되거나 직조되지 않은 종이 또는 다른 중합체 물질의 시이트 같은 가요성 물질 또는 지지체를 실리콘 조성물로 코팅하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 부가 반응, 축합 반응, 양이온성 반응 또는 자유-라디칼 반응에 의해 가교결합될 수 있는 하나 이상의 가교결합성 폴리오가노실록세인을 포함하는 액체 조성물로 가요성 물질 또는 지지체를 코팅하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 가요성 물질 또는 지지체에 실리콘 조성물(폴리오가노실록세인)을 도포하는 동안 연무 발생(misting)을 감소시키는 스타 분지된(star branched) 폴리오가노실록세인(실리콘 중합체)에 관한 것이다. 가요성 지지체는 종이, 판지, 플라스틱 필름, 금속 필름 등일 수 있다. 몇몇 예시적인 용도는 식료품용 종이, 접착 라벨, 접착 테이프, 씰(seal) 등이다.
전형적으로는 매우 고속으로 연속 작동되는 코팅 장치에서 액체 실리콘으로 가요성 지지체를 코팅한다. 이들 장치는 통상 하나씩 차례로 위치되는 일련의 롤에 의해, 가교결합될 수 있거나 가교결합될 수 없는 실리콘 조성물이 연속적으로 공급되는 특히 압력 롤 및 코팅 롤을 비롯한 몇몇 롤로 구성된 코팅 헤드를 포함한다. 코팅될 목적하는 물질의 가요성 지지체 스트립을 압력 롤과 코팅 롤 사이에 고속으로 공급하여 그의 표면중 하나 이상을 코팅한다. 실리콘 코팅을 가교결합시키고자 하는 경우에는, 코팅 헤드 이후에 가교결합 반응을 수행하는 장치를 위치시킨다. 가교결합을 수행하는 장치는 예컨대 오븐 또는 방사선(예컨대, 자외선(UV))의 방사체 또는 전자 빔(EB)의 방사체일 수 있다.
가요성 지지체를 실리콘으로 고속 코팅하는 데에는 실리콘 액체(또는 유체)를 코팅 롤로부터 코팅 장치를 통해 전진하는 가요성 지지체로 전달하는데 수반되는 문제점이 있었다. 실리콘 액체를 코팅 롤로부터 가요성 지지체에 전달하는데 수반되는 특정 문제점중 하나는 코팅 헤드의 바로 인근에서, 특히 코팅 롤과 코팅되는 가요성 지지체 사이의 접촉 지점에 인접한 곳에서 농무(fog), 연무 또는 에어로졸이 발생되는 것이다. 전형적으로, 이 농무, 연무 또는 에어로졸의 밀도는 장치에 의해 코팅되는 가요성 지지체의 전진 속도 증가에 따라 증가한다.
이 전달 문제점의 첫번째 효과는 가요성 지지체에 실제로 전달되는 실리콘 액체의 양을 감소시키는 것이다. 두번째 효과는 농무, 연무 또는 에어로졸을 구성하는 소적이 코팅 롤 이후의 새롭게 코팅된 가요성 지지체 상에서 응축되어 오렌지 필(orange peel) 효과를 발생시키는 것이다. 이 오렌지 필 효과 또는 코팅 불균일성은 코팅의 커버력, 기계적 특성(예컨대, 마찰박리(ruboff)) 및 접착 저항성에 문제를 발생시킨다.
코팅의 불균일성에 의해 야기되는 추가적인 문제점은 산업상 위생, 및 코팅 설비 부근에서 작업하는 코팅 설비를 작동시키는 사람들의 안전에 관련되어 있다.
발명의 개요
본 발명은 a) MaMH bDcDH dTeTH f와 b) 특정량 α의 CH2=CHR1의 하이드로실릴화(hydrosilylation) 반응 생성물을 포함하는, 가요성 지지체를 코팅하는 동안 연무 발생을 감소시키는 조성물을 제공하며, 상기 반응 생성물은 화학식 M'gMaMH b-gDcD'hDH d-hTeT'iTH f-i를 갖는다:
상기 화학식들에서,
α+1<b+d+f이고;
g<b이며;
h<d이고;
i<f이고;
1.5<b+d+f<100이며;
2<a+b<12이고;
0<c+d<1000이며;
0<e+f<10이고;
R1은 할로겐, 수소, C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C1 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C1 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C1 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C1 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1가 라디칼이고;
M은 R2R3R4SiO1/2이고;
MH는 HR5R6SiO1/2이며;
D는 R7R8SiO2/2이며;
DH는 HR9SiO2/2이고;
T는 R11SiO3/2이고;
TH는 HSiO3/2이고;
M'은 (CH2CHR1)R5R6SiO1/2이고;
D'은 (CH2CHR1)R9SiO2/2이며;
T'은 (CH2CHR1)SiO3/2이고;
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 및 R11은 각각 C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되며,
아래첨자 a, b, c, d, e, f, g, h 및 i는 0, 또는 b+d+f-g-h-i>0이 되도록 하는 양수이다.
본 발명은 a) 제 1 항의 반응 생성물 조성물과 b) ((MjMVi kDlDVi mTnTVi o)pQ)q의 하이드로실릴화 반응 생성물을 포함하되, 상기 반응 생성물을 특정량 β의 CH2=CHR1과 추가로 반응시킨 조성물을 추가로 제공한다:
상기 화학식들에서,
아래첨자 j, k, l, m, n, o 및 p는 0, 또는 k+m+o>0, k+m+o<b+d+f-g-h-i이도록 하는 양수이고;
p는 0.4 내지 4.0이고;
q는 0이 아니고, (b+d+f-g-h-i)/(((k+m+o)p)q)가 4.59 내지 0.25이도록 하는 양수이며;
MVi는 RViR5R6SiO1/2이고;
DVi는 RViR10SiO2/2이며;
TVi는 RViSiO3/2이고;
Q는 SiO4/2이고;
R10은 C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되며;
각 RVi는 C2 내지 C60 1가 알켄일 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되며;
R1은 할로겐, 수소, C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C1 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C1 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C1 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C1 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1가 라디칼이고;
β>b+d+f-g-h-i이다.
본 발명은 가요성 기판에 코팅될 코팅 조성물을 제조하고 여기에 본 발명의 조성물을 첨가함으로써, 가요성 지지체를 코팅시키는 동안 연무 발생을 감소시키는 방법을 추가로 제공한다.
본 발명의 스타 분지된 실록세인 화합물은 화합물 A와 β CH2=CHR1의 반응 생성물로서 제조되며, 화합물 A는 귀금속 하이드로실릴화 촉매의 존재하에서의 M'gMaMH b-gDcD'hDH d-hTeT'iTH f-i와 ((MjMVi kDlDVi mTnTVi o)pQ)q의 반응 생성물이며, 하이드라이드 함유 전구체와 비닐 함유 전구체 사이의 비는 전구체의 화학량론적 아래첨자 사이의 하기 수학적 관계에 의해 정의되고, 화합물 M'gMaMH b-gDcD'hDH d-hTeT'iTH f-i는 반응 MaMH bDcDH dTeTH f + α CH2=CHR1 → M'gMaMH b-gDcD'hDH d-hTeT'iTH f-i에 의해 수득될 수 있다:
상기 화학식 및 반응식에서,
R1은 할로겐, 수소, C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C1 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C1 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C1 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C1 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 1가 라디칼이고;
β>b+d+f-g-h-i이고;
아래첨자 a, b, c, d, e, f, g, h, i, j, k, l, m, n, o, p는 0 또는 양수이고;
q는 0이 아니고 양수이며;
화합물의 혼합물의 경우, 각 아래첨자의 평균 값은 정수가 아닐 수 있고;
특정 화합물의 경우, 아래첨자는 정수이고;
k+m+o>0이고;
k+m+o<b+d+f-g-h-i이며;
p는 0.4 내지 4.0, 바람직하게는 0.5 내지 3.0, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 2.5, 가장 바람직하게는 0.5 내지 1.5, 및 이들 사이의 보다 좁은 범위 모두이고;
q는 1 내지 200, 바람직하게는 1 내지 100, 더욱 바람직하게는 1 내지 75, 가장 바람직하게는 1 내지 50, 및 이들 사이의 보다 좁은 범위 모두이고;
(b+d+f-g-h-i)/(((k+m+o)p)q)는 4.59 내지 0.25, 바람직하게는 4.5 내지 0.25, 더욱 바람직하게는 4.5 내지 0.25, 가장 바람직하게는 4.0 내지 0.25, 및 특히 3.5 내지 0.25, 3.0 내지 0.25, 2.5 내지 0.25 및 2.0 내지 0.25를 비롯한 그 사이의 보다 좁은 범위 모두이며;
α+1<b+d+f이고;
g<b이고;
h<d이고;
i<f이며;
1.5<b+d+f<100이며;
2<a+b<12이고;
0<c+d<1000이며;
0<e+f<10이고;
M은 R2R3R4SiO1/2이고;
MH는 HR5R6SiO1/2이며;
MVi는 RViR5R6SiO1/2이고;
D는 R7R8SiO2/2이며;
DH는 HR9SiO2/2이고;
DVi는 RViR10SiO2/2이고;
T는 R11SiO3/2이고;
TH는 HSiO3/2이고;
TVi는 RViSiO3/2이며;
Q는 SiO4/2이고;
M'은 (CH2CHR1)R5R6SiO1/2이고;
D'은 (CH2CHR1)R9SiO2/2이며;
T'은 (CH2CHR1)SiO3/2이고;
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11은 각각 C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되며;
각각의 RVi는 C2 내지 C60 1가 알켄일 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되며;
b+d+f-g-h-i>0이다.
((MjMVi kDlDVi mTnTVi o)pQ)q 같은 MQ 수지를 제조하는 방법은 본원에 참고로 인용되어 있는 미국 특허 제 5,817,729 호, 제 5,399,614 호 및 제 2,676,182 호에 기재되어 있다. C1 내지 C60이라는 표현은 1개 내지 60개의 탄소수 범위이고, 지방족 라디칼 및 방향족 라디칼(예: 스타이릴)을 둘 다 포함하며, 이 범위는 또한 15개 내지 60개, 30개 내지 60개, 45개 내지 60개, 1개 내지 15개, 1개 내지 30개, 1개 내지 45개, 10개 내지 30개, 10개 내지 40개, 10개 내지 50개 및 이들 사이의 보다 좁은 범위 모두를 포함한다.
본 발명의 스타 분지된 실리콘 화합물은 M'gMaMH b-gDcD'hDH d-hTeT'iTH f-i와 ((MjMVi kDlDVi mTnTVi o)pQ)q의 반응 생성물로서 기재되는데, 이는 반응하는 각 성분 분자상의 반응에 이용가능한 하이드로실릴화 부위가 다수이고, 이러한 확률적인 화학적 반응을 분석적인 기재내용으로 바꾸기가 어렵기 때문이다.
순수한(neat) 반응에 의해, 또는 반응물을 용매에 의해 희석시키는 반응에 의해, 본 발명의 조성물을 제조할 수 있다. 이들 물질의 치환기의 장쇄 특성으로 인해, 순수한 반응, 즉 임의의 비-참여 용매의 부재하에서 수행되는 반응은, 본원의 분자 기재에 따르지만 더욱 뒤얽힌 거대 구조를 갖는 생성물을 생성시키는 경향이 있다. 이들 화합물의 덜 뒤얽힌 거대-구조가 요구되는 경우에는, 적합한 용매 매질, 예컨대 환상 실록세인, 불활성 탄화수소 용매 등에서 예비 반응을 수행해야 한다.
이 하이드로실릴화 반응을 위한 여러 유형의 귀금속 촉매가 공지되어 있으며, 이들 촉매를 본 발명의 반응에 사용할 수 있다. 광학 투명도가 요구되는 경우, 바람직한 촉매는 반응 혼합물에 가용성인 촉매이다. 귀금속에 대해, 본 출원인은 Ru, Rh, Pd, Os, Ir 및 Pt를 귀금속으로서 정의하고, 공지의 수소화 활성 때문에 Ni를 그 정의에 포함시킨다. 바람직하게는, 촉매는 백금 화합물이고, 백금 화합물은 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 3,159,601 호에 기재되어 있는 화학식 (PtCl2올레핀) 및 H(PtCl3올레핀)을 갖는 화합물로부터 선택될 수 있다. 앞의 두 화학식에 기재된 올레핀은 거의 임의의 유형의 올레핀일 수 있으나, 바람직하게는 2 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알켄일렌, 5 내지 7개의 탄소원자를 갖는 사이클로알켄일렌 또는 스타이렌이다. 상기 화학식에 이용가능한 특정 올레핀은 에틸렌, 프로필렌; 뷰틸렌, 옥틸렌, 사이클로펜텐, 사이클로헥센, 사이클로헵텐의 다양한 이성질체 등이다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 다른 백금 함유 물질은 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 3,159,662 호에 기재되어 있는 염화백금의 사이클로프로페인 착체이다.
또한, 백금 함유 물질은 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 3,220,972 호에 기재되어 있는 알콜, 에터, 알데하이드 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 2몰 이하(백금 1g당)와 클로로플래틴산으로부터 제조된 착체일 수 있다.
액체 사출 성형 조성물과 함께 사용하기 바람직한 촉매는 카스테트(Karstedt)의 미국 특허 제 3,715,334 호, 제 3,775,452 호 및 제 3,814,730 호에 기재되어 있다. 당해 기술 분야에 대한 추가의 배경 지식은 스피어(J. L. Spier)의 문헌["Homogeneous Catalysis of Hydrosilation by Transition Metals", in Advances in Organometallic Chemistry, volume 17, 페이지 407 내지 447, 스톤 및 웨스트 편집, Academic Press 출판(뉴욕, 1979)]에서 찾아볼 수 있다. 당해 분야의 숙련자는 백금 촉매의 유효량을 용이하게 결정할 수 있다. 일반적으로, 하이드로실릴화에 효과적인 양은 전체 오가노폴리실록세인 조성물의 약 0.1 내지 50ppm 및 그 사이의 보다 좁은 범위 모두이다.
실시예로서, C16-18 알파 올레핀 19.9g(0.083몰)을 질소 기체 블랭킷(blanket)하에 실릴 하이드라이드 종결된 폴리다이메틸실록세인 1000g(0.21몰) 및 카스테트 촉매로서 첨가된 Pt 10ppm과 혼합하였다. 반응물을 가열하고 95℃에서 약 4시간동안 교반하여, 올레핀을 실록세인 중합체에 부가시켰다. 잔류 SiH에 대한 화학적 정량 분석은 올레핀을 실록세인에 부착시키는데 바람직한 양의 수소가 소비되었음을 나타내었다. 임의적으로는, 이 생성물을 추가로 반응시키기 전에 단리할 수 있다.
((MVi)2Q)4 수지 5.2g(0.05몰)을 제 1 반응의 생성물에 첨가하였다. 카스테트 촉매로서 Pt 10ppm을 추가로 첨가하고, 반응물을 교반하고 약 4시간동안 95℃로 가열하였다. 화학적 정량 분석은 비닐 작용기 및 하이드라이드 작용기가 목적하는 정도로 반응되었음을 나타내었다. 이 생성물을 단리하고, 아래 표 1 및 표 2에 보고되어 있는 바와 같이 연무 방지 첨가제로서 시험하였다.
알파 메틸스타이렌 15.4g(0.13몰)을 상기 정의된 반응 용액에 첨가하였다. 카스테트 촉매로서의 Pt 10ppm을 첨가하고, 반응물을 가열하고 95℃에서 4시간동안 교반하였다. 화학적인 정량 분석은 알파 메틸 스타이렌을 연무 방지 첨가제 분자상으로 반응시키는데 실릴 하이드라이드를 모두 소비하였음을 나타내었다.
표 1은 상기 기재된 경로에 기초한 연무 방지 첨가제 구조의 합성 실시예를 보여준다. SiH/Si비닐은 반응에 이용가능한 실릴 하이드라이드의 몰 대 반응에 이용가능한 실릴 비닐의 몰의 비이다. 나타낸 화합물에서, SiH/Si비닐 비는 0.2 내지 2.75이지만, 보다 더 큰 0.22 내지 4.5의 범위도 이용가능하다.
표 2는 본 발명의 연무 발생 방지 행태를 보여준다. 2000ft/분의 라인 속도로 예비(pilot) 코팅기를 이용하여 2.5밀의 SC 라이-라이너(Rhi-Liner) 12 종이 상에서 작업하는 동안 측정을 수행하였다. 2% 이하의 연무 방지 첨가제를 함유하는 표준 실리콘 종이 릴리이스 배합물로 종이를 코팅시켰다(1연(ream)당 0.6 내지 0.9 파운드를 표적으로 하여). 더스트트랙 에어로졸 모니터(DustTrack Aerosol Monitor)를 사용하여 연무를 측정하였다. 관찰된 최고 연무 발생 구역에 흡입구를 위치시켜, 최고 예측값을 제공하였다. 이 위치는 정상적인 환경에서의 시험을 반영하지 않을 뿐만 아니라, 모든 작동 조건하에서 특정 값을 보장하지도 않는다. 측정치는 공기 1m3당 연무 물질 mg의 단위이고, 보다 낮은 값은 연무 발생이 적음을 의미하므로 더욱 바람직하다.
결과는, 본 발명에서 제조된 연무 발생 방지 물질이 연무 방지 첨가제를 함유하지 않는 대조용 배합물과 비교하여 2000ft/분에서 발생되는 연무의 양을 감소시킴을 보여준다. 상당히 놀랍게도, 연무는 종종 10배 이상, 때로는 100배 이상 감소된다.
상기 실시예는 본 발명의 단순한 예시일 뿐으로, 본 발명의 특징중 일부를 예시하는 역할을 한다. 첨부된 청구의 범위는 이해되는 한 넓게 본 발명을 청구하고자 하며, 본원에 제공된 실시예는 모든 가능한 다양한 실시태양으로부터 선택된 실시태양의 예이다. 따라서, 출원인의 의도는, 본 발명의 특징을 예시하기 위하여 이용된 실시예의 선택에 의해 첨부된 청구의 범위가 한정되지 않아야 한다는 것이다. 청구의 범위에서 사용되는 단어 "포함하는" 및 그의 문법상의 변형 용어는 논리적으로 예컨대(이들로 한정되지는 않음) "본질적으로 이루어지는" 및 "이루어지는" 같이 범위가 변화하고 달라지는 표현을 유지 및 포함한다. 필요한 경우, 범위가 제공되었는데, 이러한 범위는 그 사이의 보다 좁은 범위를 모두 포함한다. 당해 분야의 숙련자는 이러한 범위 내에서의 변화를 제안하며, 공공에게 이미 공개되지 않은 경우에 이러한 변화는 첨부된 청구의 범위에 의해 포괄되는 것으로 간주될 수 있어야 한다. 과학 및 기술의 진보에 의해, 언어의 부정확성 때문에 현재는 계획되지 않은 등가물 및 대체물이 가능해질 수 있을 것으로 예상되며, 이러한 변화도 첨부된 청구의 범위에 의해 포괄될 수 있는 것으로 간주되어야 한다. 본원에서 참조한 미국 특허는 모두 본원에 참고로 인용되어 있다.
Claims (30)
- a) MaMH bDcDH dTeTH f와 b) 특정량 α의 CH2=CHR1의 하이드로실릴화(hydrosilylation) 반응 생성물을 포함하되, 상기 반응 생성물이 화학식 M'gMaMH b-gDcD'hDH d-hTeT'iTH f-i를 갖는,가요성 지지체를 코팅하는 동안 연무 발생(misting)을 감소시키는 조성물:상기 화학식들에서,α+1<b+d+f이고;g<b이고;h<d이고;i<f이며;1.5<b+d+f<100이며;2<a+b<12이고;0<c+d<1000이며;0<e+f<10이고;R1은 할로겐, 수소, C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C1 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C1 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C1 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C1 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1가 라디칼이고;M은 R2R3R4SiO1/2이고;MH는 HR5R6SiO1/2이며;D는 R7R8SiO2/2이며;DH는 HR9SiO2/2이고;T는 R11SiO3/2이고;TH는 HSiO3/2이고;M'은 (CH2CHR1)R5R6SiO1/2이고;D'은 (CH2CHR1)R9SiO2/2이며;T'은 (CH2CHR1)SiO3/2이고;R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 및 R11은 각각 C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되며;아래첨자 a, b, c, d, e, f, g, h 및 i는 0, 또는 b+d+f-g-h-i>0이 되도록 하는 양수이다.
- a) 제 1 항의 반응 생성물 조성물과 b) ((MjMVi kDlDVi mTnTVi o)pQ)q의 하이드로실릴화 반응 생성물을 포함하되, 상기 반응 생성물을 특정량 β의 CH2=CHR1과 추가로 반응시킨 조성물:상기 화학식들에서,아래첨자 j, k, l, m, n, o 및 p는 0, 또는 k+m+o>0, k+m+o<b+d+f-g-h-i이도록 하는 양수이고;p는 0.4 내지 4.0이고;q는 0이 아니고, (b+d+f-g-h-i)/(((k+m+o)p)q)가 4.59 내지 0.25이도록 하는 양수이며;MVi는 RViR5R6SiO1/2이고;DVi는 RViR10SiO2/2이며;TVi는 RViSiO3/2이고;Q는 SiO4/2이고;R10은 C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되며;각 RVi는 C2 내지 C60 1가 알켄일 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되고;R1은 할로겐, 수소, C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C1 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C1 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C1 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C1 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 1가 라디칼이고;β>b+d+f-g-h-i이다.
- 제 2 항에 있어서,R1이 C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C1 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C1 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C1 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C1 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물.
- 제 2 항에 있어서,R1이 C15 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C15 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C15 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C15 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C15 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물.
- 제 2 항에 있어서,R1이 C30 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C30 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C30 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C30 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C30 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물.
- 제 3 항에 있어서,R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11이 각각 메틸인 조성물.
- 제 4 항에 있어서,R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11이 각각 메틸인 조성물.
- 제 5 항에 있어서,R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11이 각각 메틸인 조성물.
- 제 2 항에 있어서,R1이 스타이릴인 조성물.
- 제 9 항에 있어서,R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11이 각각 메틸인 조성물.
- a) MaMH bDcDH dTeTH f와 b) 특정량 α의 CH2=CHR1의 하이드로실릴화 반응 생성물을 포함하되, 상기 반응 생성물이 화학식 M'gMaMH b-gDcD'hDH d-hTeT'iTH f-i를 갖는 조성물:상기 화학식들에서,α+1<b+d+f이고;g<b이며;h<d이고;i<f이고;1.5<b+d+f<100이며;2<a+b<12이고;0<c+d<1000이며;0<e+f<10이고;R1은 할로겐, 수소, C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C1 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C1 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C1 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C1 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 1가 라디칼이고;M은 R2R3R4SiO1/2이고;MH는 HR5R6SiO1/2이며;D는 R7R8SiO2/2이며;DH는 HR9SiO2/2이고;T는 R11SiO3/2이고;TH는 HSiO3/2이고;M'은 (CH2CHR1)R5R6SiO1/2이고;D'은 (CH2CHR1)R9SiO2/2이며;T'은 (CH2CHR1)SiO3/2이고;R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 및 R11은 각각 C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되며,아래첨자 a, b, c, d, e, f, g, h 및 i는 0, 또는 g>0, b-g>0, h>0 및 d-h>0이 되도록 하는 양수이다.
- a) 제 1 항의 반응 생성물 조성물과 b) ((MjMVi kDlDVi mTnTVi o)pQ)q의 하이드로실릴화 반응 생성물을 포함하되, 상기 반응 생성물을 특정량 β의 CH2=CHR1과 추가로 반응시킨 조성물:상기 화학식들에서,아래첨자 j, k, l, m, n, o 및 p는 0, 또는 k+m+o>0, k+m+o<b+d+f-g-h-i이도록 하는 양수이고;p는 0.4 내지 4.0이고;q는 0이 아니고, (b+d+f-g-h-i)/(((k+m+o)p)q)가 4.59 내지 0.25이도록 하는 양수이며;MVi는 RViR5R6SiO1/2이고;DVi는 RViR10SiO2/2이며;TVi는 RViSiO3/2이고;Q는 SiO4/2이고;R10은 C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되며;각 RVi는 C2 내지 C60 1가 알켄일 탄화수소 라디칼의 군으로부터 독립적으로 선택되고;R1은 할로겐, 수소, C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C1 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C1 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C1 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C1 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 1가 라디칼이고;β>b+d+f-g-h-i이다.
- 제 12 항에 있어서,R1이 C1 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C1 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C1 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C1 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C1 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물.
- 제 12 항에 있어서,R1이 C15 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C15 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C15 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C15 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C15 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물.
- 제 12 항에 있어서,R1이 C30 내지 C60 1가 탄화수소 라디칼, C30 내지 C60 1가 폴리에스터 라디칼, C30 내지 C60 1가 나이트릴 라디칼, C30 내지 C60 1가 알킬 할라이드 라디칼 및 C30 내지 C60 1가 폴리에터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물.
- 제 13 항에 있어서,R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11이 각각 메틸인 조성물.
- 제 14 항에 있어서,R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11이 각각 메틸인 조성물.
- 제 15 항에 있어서,R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11이 각각 메틸인 조성물.
- 제 12 항에 있어서,R1이 스타이릴인 조성물.
- 제 19 항에 있어서,R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11이 각각 메틸인 조성물.
- 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 조성물을 제조하고, 여기에 제 11 항의 조성물을 첨가함을 포함하는, 가요성 기판의 코팅에서 연무 발생을 감소시키는 방법.
- 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 조성물을 제조하고, 여기에 제 12 항의 조성물을 첨가함을 포함하는, 가요성 기판의 코팅에서 연무 발생을 감소시키는 방법.
- 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 조성물을 제조하고, 여기에 제 13 항의 조성물을 첨가함을 포함하는, 가요성 기판의 코팅에서 연무 발생을 감소시키는 방법.
- 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 조성물을 제조하고, 여기에 제 14 항의 조성물을 첨가함을 포함하는, 가요성 기판의 코팅에서 연무 발생을 감소시키는 방법.
- 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 조성물을 제조하고, 여기에 제 15 항의 조성물을 첨가함을 포함하는, 가요성 기판의 코팅에서 연무 발생을 감소시키는 방법.
- 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 조성물을 제조하고, 여기에 제 16 항의 조성물을 첨가함을 포함하는, 가요성 기판의 코팅에서 연무 발생을 감소시키는 방법.
- 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 조성물을 제조하고, 여기에 제 17 항의 조성물을 첨가함을 포함하는, 가요성 기판의 코팅에서 연무 발생을 감소시키는 방법.
- 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 조성물을 제조하고, 여기에 제 18 항의 조성물을 첨가함을 포함하는, 가요성 기판의 코팅에서 연무 발생을 감소시키는 방법.
- 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 조성물을 제조하고, 여기에 제 19 항의 조성물을 첨가함을 포함하는, 가요성 기판의 코팅에서 연무 발생을 감소시키는 방법.
- 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 조성물을 제조하고, 여기에 제 20 항의 조성물을 첨가함을 포함하는, 가요성 기판의 코팅에서 연무 발생을 감소시키는 방법.
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