KR20050059342A - Method for manufacturing flexible wiring circuit board - Google Patents

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KR20050059342A
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마사나오 와타나베
요리미치 이가리
슈지 쯔치다
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소니 케미카루 가부시키가이샤
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Abstract

A method for manufacturing a flexible wiring circuit board having an insulating support film and, formed thereon, a wiring circuit, which comprises the following steps (a) to (d) : (a) a step of adhering pressure-sensitively a laminate comprising the insulating support film and an electroconductive layer formed thereon to a transparent hard substrate by the use of a pressure-sensitive adhesive layer from the insulating support film side of the laminate; (b) a step of patterning the electroconductive layer of said laminate, to form the wiring circuit; (c) a step of reducing the adhesion strength of said pressure-sensitive adhesive layer; and (d) a step of peeling the laminate having the wiring circuit formed thereon from the transparent hard substrate so as for the pressure-sensitive adhesive layer to remain on the transparent hard substrate.

Description

유연한 배선 회로기판의 제조방법{METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE WIRING CIRCUIT BOARD}Manufacturing method of flexible wiring circuit board {METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE WIRING CIRCUIT BOARD}

본 발명은 유연한 배선 회로기판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a flexible wiring circuit board.

종래에, 두께 25㎛이하의 폴리이미드계 필름의 한면에 적층된 두께 35μm이하의 동박을, 서브트랙티브법으로 패터닝하여 배선회로로 하는 것에 의해 얻어지는 유연한 배선 회로기판이 널리 사용되고 있다.Background Art Conventionally, flexible wiring circuit boards obtained by patterning copper foils having a thickness of 35 μm or less laminated on one surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm or less by a subtractive method to form a wiring circuit have been widely used.

이와같은 유연한 배선 회로기판을 롤투롤(Roll to Roll)로 제조하는 방법으로서, 캐리어 필름상에 광 조사에 의여 점착성이 저하되는 점착제로 동장적층판을 점착하는 것을 특징으로 하는 방법이 제안되어 있다(특허문헌1:특개평7-99379호참조).As a method of manufacturing such a flexible wiring circuit board in a roll to roll, a method characterized by adhering a copper clad laminate with an adhesive whose adhesiveness is reduced by light irradiation on a carrier film has been proposed (patented). Document 1: See Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-99379).

이 제조방법에 있어서는, 폴리이미드계 필름에 동박이 점착되어 있는 구조의 동장적층판을, 그 폴리이미드계 필름측 표면으로부터, 광조사에 의해 점착성이 저하되는 점착제가 도포된 캐리어 필름에 서로 붙여서, 동장적층판의 동박에 배선회로를 형성한 후, 캐리어 필름측에서 자외선을 조사하여 점착제를 경화시켜서 그 점착력을 저하시키고, 점착제와 폴리이미드계 필름과의 계면에서 캐리어 필름을 박리제거함으로써 유연한 배선 회로기판을 얻는다.In this manufacturing method, the copper clad laminated board of the structure by which copper foil is affixed to the polyimide-type film is stuck together to the carrier film with which the adhesive whose adhesiveness falls by light irradiation is apply | coated from the polyimide-type film side surface, and is mutually bonded. After the wiring circuit was formed on the copper foil of the laminated board, the adhesive film was cured by irradiating ultraviolet rays from the carrier film side to lower the adhesive force, and the flexible wiring circuit board was peeled off by removing the carrier film at the interface between the adhesive and the polyimide film. Get

이 제조방법에 의하면, 캐리어 테이프에 동장적층판이 유지되어 있으므로, 배선회로 형성가공시에 꺾임이나 주름의 발생을 억제할 수 있고, 또한, 점착제의 점착력을 저하시킬 수 있으므로, 캐리어 필름의 박리시에도 구부러짐이나 꺾임의 발생을 억제할 수 있다.According to this manufacturing method, since the copper clad laminated board is held on the carrier tape, generation of bending and wrinkles can be suppressed during the wiring circuit forming processing, and the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive can be reduced, so that even when the carrier film is peeled off. The occurrence of bending and bending can be suppressed.

그러나, 최근 전자기기의 고밀도화에 따라서, 유연한 배선 회로기판의 박막화와 고밀도화가 진행되고 있는 현상하에서, 캐리어 테이프를 사용하는 상기 특허문헌 1에 개시되어 있는 제조방법의 경우, 배선회로의 패턴 피치가 40㎛이하이면, 캐리어 테이프의 표면 뒤틀림이나 요철의 영향에 의해 패터닝 정밀도가 저하되는 문제가 생긴다. 또한, 캐리어 테이프의 양단 절단면에서의 절단파편이나 절단면에 노출되어 있는 점착제 등에 의해 패턴 불량이 발생되기 쉬운 문제도 있다.However, with the recent trend of increasing the density of electronic devices, under the phenomenon that thinning and densification of flexible wiring circuit boards are progressing, in the case of the manufacturing method disclosed in Patent Document 1 using a carrier tape, the pattern pitch of the wiring circuit is 40. If the thickness is less than or equal to size, there is a problem that the patterning accuracy is lowered due to the surface warping and the unevenness of the carrier tape. In addition, there is also a problem that pattern defects are likely to occur due to cut debris on both end faces of the carrier tape, an adhesive exposed on the end face, and the like.

또한, 특허문헌1에 개시되어 있는 제조방법을 실시하는 경우에서는, 롤의 권출기, 권취기가 필요하기 때문에, 설비의 소형화에 대한 대응이 곤란하고, 부대설비의 운영비가 비싸고, 또한 롤투롤로 행하기 때문에, 조건선택의 시간이나 감은것을 푸는 시간 등이 길어지므로, 제조 리드 타임도 길어지게 되는 문제가 있다.In addition, in the case of carrying out the manufacturing method disclosed in Patent Document 1, since the unwinding machine and the winding machine of the roll are required, it is difficult to cope with the miniaturization of the equipment, the operating cost of the auxiliary equipment is high, and the roll-to-roll is performed. Therefore, since the time for condition selection, the time for unwinding, etc. becomes long, there is a problem that the production lead time also becomes long.

또한, 동박의 패터닝후에, 필요에 따라서 동장적층판에 대해 추출가공을 행하는 경우, 금형 추출 가공법을 적용하고 있으므로, 절단면단부에 바리(burr)가 생기거나, 유연한 배선 회로기판자체에 변경이 발생하기 쉬운 문제가 있다. 또한, 다른 배선회로 패턴을 갖는 유연한 배선기판 마다 고가의 금형을 조제해야 하므로, 추출가공 가격을 억제할 수 없는 문제가 있다.In addition, when the extraction processing is performed on the copper clad laminate after patterning of the copper foil, a mold extraction processing method is applied. Therefore, burrs are formed at the cut end portions, and a change is likely to occur in the flexible wiring circuit board itself. there is a problem. In addition, since expensive molds must be prepared for each flexible wiring board having a different wiring circuit pattern, there is a problem that the extraction processing price cannot be suppressed.

이 문제를 해결하기 위해서는, 프로그램의 변경으로 다양한 추출 패턴을 용이하게 작성할 수 있는 레이저 컷팅법을 적용하는 것도 고려되지만, 레이저 컷팅법에서는 캐리어 테이프도 동시에 절단되어 버리기 때문에, 유연한 배선 회로기판을 캐리어 테이프상에 유지할 수 없고, 취급성이 크게 저하되어, 불량품의 발생율도 높아지는 문제가 있다.In order to solve this problem, it is considered to apply a laser cutting method that can easily create various extraction patterns by changing the program. However, since the carrier tape is also cut at the same time in the laser cutting method, a flexible wiring circuit board is used. There is a problem that it cannot be maintained in the phase, the handleability is greatly reduced, and the incidence rate of defective products is also increased.

본 발명은 이상의 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것이고, 유연한 배선 회로기판의 패턴 피치가 매우 작아지는 경우에도, 패터닝 정밀도가 저하되지 않고, 패턴 불량도 생기지 않고, 제조설비의 소형화도 비교적 용이하여, 리드 타임을 비교적 짧게할 수 있고, 더욱이 레이저 컷팅법으로 추출가공을 실시할 수 있는, 유연한 배선 회로기판의 제조방법을 제조하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, and even when the pattern pitch of the flexible wiring circuit board becomes very small, the patterning accuracy does not decrease, no pattern defects occur, and the size of the manufacturing equipment is relatively easy, It is an object of the present invention to manufacture a flexible wiring circuit board manufacturing method which can shorten the lead time and can be subjected to extraction processing by a laser cutting method.

제1도(a)~(d)는 본 발명의 실시형태의 제조공정도이다.(A)-(d) is a manufacturing process drawing of embodiment of this invention.

제2도 및 제3도는 본 발명의 부가적인 공정도이다. 제4도(a)~(b4) 및 제5도(c)~(d)는 본 발명의 다른 실시형태의 제조공정도이다. 제6도(a)~(d)는 본 발명의 제조방법의 다른 실시형태의 제조공정도이다. 제7도는 본 발명의 부가적인 공정도이다.2 and 3 are additional process diagrams of the present invention. 4 (a)-(b4) and 5 (c)-(d) are manufacturing process drawings of another embodiment of the present invention. 6 (a) to 6 (d) are manufacturing process drawings of another embodiment of the manufacturing method of the present invention. 7 is an additional process diagram of the present invention.

도면에 있어서, (1)은 절연지지 필름, (2,42)는 도체층, (2a,42a)는 배선회로, (3)은 적층체, (4)는 점착제층, (5)는 양면점착 필름, (5a)는 플라스틱 필름, (5b)는 점착제층, (6)은 도금 레지스트 패턴, (10,40)은 유연한 배선 회로기판, (41)은 폴리이미드 전구체계 점착제층, (43)은 폴리이미드 지지필름, (G)는 투명 경질 기판, UV는 자외선, L은 레이저 광이다.In the drawings, (1) is an insulating support film, (2,42) is a conductor layer, (2a, 42a) is a wiring circuit, (3) is a laminate, (4) is an adhesive layer, and (5) is a double-sided adhesive Film (5a) is a plastic film, (5b) is an adhesive layer, (6) is a plating resist pattern, (10, 40) is a flexible wiring circuit board, (41) is a polyimide precursor-based adhesive layer, (43) Polyimide support film, (G) is a transparent hard substrate, UV is an ultraviolet-ray, L is laser light.

본 발명은 롤투롤이 아닌 매엽식으로 유연한 배선 회로기판을 제조할 수 있도록, 캐리어 테이프 대신에 평면성에서 우수한 유리 기판이나 아크릴 기판 등의 투명 경질기판을 사용하는 것과 동시에, 그 투명경질기판에 자외선조사 등에 의해 점착력을 저하시킬 수 있는 점착제층으로, 절연지지필름상에 도체층이 형성된 적층체를 절연지지필름측에서 점착하고, 도체층의 패터닝 후에, 점착제층의 점착력을 저하시켜서 투명경질기판에서 적층체를 박리시킴으로써, 또는 투명경질기판상에, 도체층을 폴리이미드 전구체계 점착제층으로 직접 점착하고, 그 도체층의 패터닝 후 또는 전에 폴리이미드 전구체계 점착제층을 이미드화하고, 그에 의해 절연성을 갖는 폴리이미드 지지필름과 동시에 그 점착력을 저하시켜서, 그 후에 투명경질 기판에서 폴리이미드 지지필름을 박리시킴으로써 상술의 목적을 달성할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성했다.The present invention uses a transparent hard substrate such as a glass substrate or an acrylic substrate excellent in planarity instead of a carrier tape so that a flexible wiring circuit board can be manufactured by a sheet type rather than a roll-to-roll, and irradiates ultraviolet rays to the transparent rigid substrate. A pressure-sensitive adhesive layer capable of lowering the adhesive force by, for example, a laminate in which a conductor layer is formed on the insulating support film is adhered on the insulating support film side, and after patterning the conductor layer, the adhesive force of the adhesive layer is reduced to be laminated on a transparent hard substrate. By peeling the sieve or on a transparent hard substrate, the conductor layer is directly adhered to the polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer, and the polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer is imidized after or before the conductor layer is patterned, thereby having insulating properties. At the same time as the polyimide support film, its adhesive force is lowered, and then the polyimide is By peeling a de support film, it discovered that the said objective was achieved and completed this invention.

이러한 지식에 기초한 제1의 발명은, 절연지지필름상에 배선회로가 형성된 유연한 배선 회로기판의 제조방법이고, 이하의 공정(a)~(d):The first invention based on this knowledge is a manufacturing method of a flexible wiring circuit board having wiring circuits formed on an insulating support film, and the following steps (a) to (d):

(a)절연지지필름상에 도체층이 형성된 적층체를 그 절연지지필름측에서 투명경질 기판에 점착제층으로 점착시키는 공정;(a) adhering a laminate having a conductor layer formed on the insulating support film to the transparent rigid substrate with an adhesive layer on the insulating support film side;

(b)상기 적층체의 도체층을 패터닝하여 배선 회로를 형성하는 공정;(b) forming a wiring circuit by patterning the conductor layer of the laminate;

(c)상기 점착제층의 점착력을 저하시키는 공정;및(c) reducing the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer; and

(d)점착제층이 투명경질기판측에 잔존하도록 배선회로가 형성된 적층체를 투명경질기판에서 박리하는 공정을 갖는 것이다.(d) It has a process of peeling from the transparent hard board the laminated body in which the wiring circuit was formed so that an adhesive layer might remain on the transparent hard board side.

또한, 제2의 발명은, 절연성을 갖는 폴리이미드 지지필름상에 배선회로가 형성된 유연한 배선 회로기판의 제조방법이고, 이하의 공정(aa)~(dd):Moreover, 2nd invention is the manufacturing method of the flexible wiring circuit board with which the wiring circuit was formed on the polyimide support film which has insulation, The following process (aa)-(dd):

(aa)투명경질기판상에 폴리이미드 전구체계 점착제층을 개재시켜서 도체층을 적층하는 공정;(aa) a step of laminating a conductor layer on a transparent hard substrate via a polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer;

(bb)상기 도체층을 패터닝하여 배선회로를 형성하는 공정;(bb) forming a wiring circuit by patterning the conductor layer;

(cc)상기 폴리이미드 전구체계 점착제층을 이미드화하여 절연성을 갖는 폴리이미드 지지필름으로 하는 공정;및(cc) imidating the polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer to obtain a polyimide support film having insulation; and

(dd)배선회로가 형성된 폴리이미드 지지필름을 투명경질기판에서 박리시키는 공정을 갖는 것이다.and (dd) the polyimide support film on which the wiring circuit is formed is peeled off from the transparent hard substrate.

또한, 제1의 본 발명에 있어서, 추출가공을 레이저 컷팅법으로 실시하는 경우에는, 공정(b)와 공정(c) 사이 또는 공정(c)와 공정(d)의 사이에, 공정(e):In the first aspect of the present invention, when the extraction processing is performed by laser cutting, the step (e) is performed between the step (b) and the step (c) or between the step (c) and the step (d). :

(e)배선회로가 형성된 적층체에 대해, 레이저-컷팅법에 의해 추출가공을 행하는 공정을 더욱 구비하는 것이 바람직하다.(e) It is preferable to further provide the process of extracting and processing by the laser cutting method with respect to the laminated body in which the wiring circuit was formed.

마찬가지로, 제2의 본 발명에 있어서는, 공정(bb)와 공정(cc)사이에 또는 공정(cc)와 공정(dd)의 사이에, 공정(ee):Similarly, in the second aspect of the present invention, between the step (bb) and the step (cc) or between the step (cc) and the step (dd), the step (ee):

(ee)배선회로가 형성된 적층판에 대해, 레이저 컷팅법에 의해 추출가공을 행하는 공정을 더욱 구비하는 것이 바람직하다.(ee) It is preferable to further include the step of performing extraction processing by the laser cutting method with respect to the laminated board in which the wiring circuit was formed.

이하, 본발명의, 절연지지 필름상에 배선회로가 형성된 유연한 배선 회로기판의 제조방법의 실시의 형태를 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of the manufacturing method of the flexible wiring circuit board with which a wiring circuit was formed on the insulating support film of this invention is demonstrated in detail, referring drawings.

제1의 본발명의 경우, 제1도(a)~(d)를 참조하면서 각 공정을 설명한다.In the first aspect of the present invention, each step will be described with reference to FIGS. 1A to 1D.

공정(a)Process (a)

먼저, 제1도(a)에 나타내었듯이, 절연지지필름(1)상에 도체층(2)가 형성된 적층체(3)을, 그 절연지지필름(1)측에서 투명경질기판(G)에 점착제층(4)로 점착시킨다. 이 경우, 구체적으로는, 투명경질기판(G)상에 점착제를 공지의 방법, 예를 들면 스핀코터법에 의해 도포하고, 건조하여 점착제층(4)를 형성하고, 이 점착제층(4)상에 적층체(3)을 그 절연지지필름(1)측에서 고무롤러 등을 사용하여 가압하여 점착시킨다.First, as shown in FIG. 1 (a), the laminated body 3 having the conductor layer 2 formed on the insulating support film 1 is placed on the transparent hard substrate G from the insulating support film 1 side. It sticks by the adhesive layer 4. In this case, specifically, the pressure-sensitive adhesive is applied onto the transparent hard substrate G by a known method, for example, a spin coater method, and dried to form the pressure-sensitive adhesive layer 4, and onto the pressure-sensitive adhesive layer 4 The laminated body 3 is pressed by using a rubber roller or the like on the insulating support film 1 side.

여기에서, 투명경질기판(G)로서는, 아크릴기판, 유리기판 등이 열거되지만, 평탄성에서 보다 우수하고, 내열성에서도 우수한 유리기판을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 점착제층(4)는 투명경질기판(G)의 한쪽의 전면에 형성되어도 좋다.Here, as the transparent hard substrate (G), although an acrylic substrate, a glass substrate, etc. are enumerated, it is preferable to use a glass substrate which is more excellent in flatness and also excellent in heat resistance. The pressure-sensitive adhesive layer 4 may be formed on one entire surface of the transparent hard substrate G. As shown in FIG.

이 공정(a)에서 중요한 점은, 평탄성에서 우수한 투명경질기판(G)를 매엽식으로 사용하는 것과, 패터닝공정 등의 가공중에서는 절연지지필름(1)과 투명경질기판(G)에 대해 양호한 밀착성을 유지하면서도, 어떤 처리(예를 들면, 자외선 조사처리, 가열처리, 냉각처리, 초음파조사처리, 전자선 조사처리 등)을 실시하여, 투명경질기판(G)에 대한 경우에 비해 상대적으로 절연지지필름(1)에 대한 밀착성이 크게 저하하는 점착제층(4)를 사용할 수 있다.In this process (a), it is important to use a transparent hard substrate (G) having excellent flatness in a single sheet type, and to have a good relation with the insulating support film (1) and the transparent hard substrate (G) during processing such as a patterning process. While maintaining the adhesiveness, by performing certain treatments (for example, ultraviolet irradiation treatment, heat treatment, cooling treatment, ultrasonic irradiation treatment, electron beam irradiation treatment, etc.), the insulation is relatively insulated as compared with the case of the transparent hard substrate (G). The adhesive layer 4 which the adhesiveness with respect to the film 1 falls large can be used.

본 실시의 형태에 의하면, 평탄성에서 우수한 투명경질기판(G)를 매엽식으로 사용하여, 유연한 배선 회로기판의 패턴피치가 매우 작게된 경우에서도, 패터닝 정밀도가 저하되지 않고, 패턴 불량도 생기지 않고, 제조설비의 소형화도 비교적 용이하며, 리드타임을 비교적 짧게할 수 있다. 또한, 자외선 조사처리 등의 처리를 실시하여, 투명경질기판(G)에 대한 경우에 비해 상대적으로 절연지지필름(1)에 대한 밀착성이 저하되는 점착제층(4)를 사용하여, 도체층(2)의 패터닝의 경우에, 적층체(3)을 투명경질기판(G)상에 확실하게 유지할 수 있고, 더욱이, 패터닝 후에 적층체(3)을 투명경질 기판(G)에서 용이하게 분리할 수 있다.According to the present embodiment, even when the patterned pitch of the flexible wiring circuit board is very small by using the transparent hard board G having excellent flatness as a single sheet type, the patterning accuracy does not decrease, and no pattern defect occurs. The downsizing of the manufacturing equipment is also relatively easy, and the lead time can be relatively short. In addition, the conductive layer 2 may be formed by performing an ultraviolet irradiation treatment or the like, and using the pressure-sensitive adhesive layer 4 which is inferior in adhesion to the insulating support film 1 as compared with the case of the transparent hard substrate G. In the case of patterning), the laminate 3 can be reliably held on the transparent hard substrate G, and furthermore, the laminate 3 can be easily separated from the transparent hard substrate G after patterning. .

본 발명의 경우, 절연성 지지필름(1)로서는, 종래의 동장 적층판의 절연계 필름과 같은 것을 사용할 수 있고, 예를 들면 폴리이미드 필름을 바람직하게 사용할 수 있다. 절연성 지지필름(1)의 두께는 제한되지 않지만, 통상 50㎛이하, 바람직하게는 20~25㎛이다.In the case of this invention, as the insulating support film 1, the thing similar to the insulating film of a conventional copper clad laminated board can be used, For example, a polyimide film can be used preferably. Although the thickness of the insulating support film 1 is not restrict | limited, Usually, it is 50 micrometers or less, Preferably it is 20-25 micrometers.

또한, 도체층(2)로서는 전해동박, SUS304박, SUS430박, 알루미늄박, 베릴륨박, 인 청동박 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 동-니켈합금 도금층 등도 바람직하게 사용할 수 있다. 도체층(2)의 두께에도 특히 제한은 없지만, 통상 35㎛이하, 바람직하게는 8~12㎛이다.Moreover, as the conductor layer 2, electrolytic copper foil, SUS304 foil, SUS430 foil, aluminum foil, beryllium foil, phosphorus bronze foil, etc. can be used preferably. Moreover, a copper- nickel alloy plating layer can also be used preferably. Although there is no restriction | limiting in particular also in the thickness of the conductor layer 2, Usually, it is 35 micrometers or less, Preferably it is 8-12 micrometers.

투명경질기판(G)의 두께가 너무 얇으면 외부응력에 의해 쉽게 변형 또는 파괴되어, 제조시의 작업성이 저하되고, 또는 두께가 너무 두꺼우면 중량이 무거워져서, 제조설비에 대한 부하가 증가하고, 설비의 안정성이 저하하므로, 바람직하게는 1.0mm~5.0mm, 보다 바람직하게는 1.5~2.5mm이다.If the thickness of the transparent rigid substrate G is too thin, it is easily deformed or destroyed by external stress, and the workability at the time of manufacture is reduced, or if the thickness is too thick, the weight becomes heavy, and the load on the manufacturing equipment increases. Since stability of equipment falls, Preferably it is 1.0 mm-5.0 mm, More preferably, it is 1.5-2.5 mm.

투명경질기판(G)의 두께 불균일도(평탄도1:TTV(Total Thickness Valuation)법에 의해 측정한 결과)가 크게 되면, 파인패턴을 노광하는 경우에, 노광시의 초점이 맞지 않게 되고, 패턴 불량이 발생할 우려가 있으므로, 두께 불균일도를 0.02mm이하로 억제하는 것이 바람직하다.When the thickness non-uniformity of the transparent hard substrate G (the result of measurement by the flatness 1: TTV (Total Thickness Valuation) method) becomes large, when the fine pattern is exposed, the focus during exposure becomes unfocused. Since a defect may arise, it is preferable to suppress thickness nonuniformity to 0.02 mm or less.

여기에, TTV법은 측정대상물 전체의 표면조도를 측정하는 방법이고, 측정 대상물을 흡착 고정한 경우에 측정되는 조도의 최대값-최소값의 차이를 나타내는 것이다.Here, the TTV method is a method of measuring the surface roughness of the entire measurement object, and represents a difference between the maximum value and the minimum value of the roughness measured when the measurement object is adsorbed and fixed.

또한, 투명경질기판(G)의 휘도(평탄도2:LTV(Local Thickness Valuation)법에 의해 측정된 결과)가 크게 되면, 후술한 공정(b)의 도체층(2)의 패터닝의 경우의 노광시에, 투명경질기판(G)를 진공 척에 의해 고정하기 어렵게 되어, 패턴불량이 발생할 우려가 있으므로, 0.1mm이하로 억제하는 것이 바람직하다.In addition, when the luminance of the transparent hard substrate G (the result measured by the flatness 2: Local Thickness Valuation (LTV) method) becomes large, exposure in the case of patterning the conductor layer 2 in the step (b) described later At the time, since the transparent hard substrate G is hard to be fixed by the vacuum chuck and there is a possibility that pattern defects may occur, it is preferable to suppress the thickness to 0.1 mm or less.

여기서, LTV법은 측정대상물의 표면 조도를 부분적으로 측정하는 방법이고, 측정대상물을 흡착고정한 경우에 소정의 영역(예를 들면 15mm×15mm□)에 있어서 측정된 조도의 최대값-최소값의 차이를 나타내는 것이다.Here, the LTV method is a method of partially measuring the surface roughness of a measurement object, and when the measurement object is fixed to adsorption, the difference between the maximum value and the minimum value of the measured roughness in a predetermined area (for example, 15 mm x 15 mm square) is measured. To indicate.

또한, 투명경질기판(G)는 후술하는 공정(c)에 있어서 점착제층(4)로서, 자외선 경화형 점착제를 경화시키기 위해, 투명경질기판(G)측에서 자외선을 조사하는 때에, 자외선 경화형 점착제를 충분히 경화시킬 수 있도록, 자외선을 투과하는 성질을 갖는 것이 바람직하다.In addition, in order to harden an ultraviolet curable adhesive as the adhesive layer 4 in the process (c) mentioned later, transparent hard board | substrate G uses an ultraviolet curable adhesive at the time of irradiating an ultraviolet-ray from the transparent hard board | substrate G side. It is preferable to have the property which permeate | transmits an ultraviolet-ray so that it may fully harden | cure.

여기서, 투명경질기판(G)의 자외선 투과율은 너무 낮으면 자외선 경화형 점착제(4)를 경화시키기 위해 조사시간을 길게하거나 조사량을 증대시켜야 하기 때문에 작업효율이 현저히 저하하므로, 적어도 30%(250~450nm의 파장영역에 있어서 자외선 분광광도계를 사용한 경우의 측정결과)로 하는 것이 바람직하다.In this case, when the UV transmittance of the transparent hard substrate G is too low, since the irradiation time must be increased or the irradiation amount must be increased to cure the UV-curable pressure-sensitive adhesive 4, at least 30% (250-450 nm). Measurement results in the case of using an ultraviolet spectrophotometer in the wavelength range of?).

점착제층(4)의 예로서는, 자외선 경화형 점착제층, 열경화성 점착제층 등이 열거되지만, 양호한 열적안정성을 실현하도록 하는 관점에서, 자외선 경화형 점착제층이 특히 바람직하다.As an example of the adhesive layer 4, although an ultraviolet curable adhesive layer, a thermosetting adhesive layer, etc. are mentioned, an ultraviolet curable adhesive layer is especially preferable from a viewpoint of realizing favorable thermal stability.

이와 같은 자외선 경화형 점착제층으로서는 자외선 조사전에는 어느 정도의 점착강도가 있고, 자외선 조사에 의해 경화하여 그 점착력이 저하되는 것을 사용한다. 이 경우, 투명경질기판(G)에 대한 경우에 비해 적층체(3)의 절연지지필름(1)에 대한 점착력(필 강도)이 상대적으로 작게 되는 것이 필요하다.As such an ultraviolet curable adhesive layer, there exists a certain adhesive strength before ultraviolet irradiation, and hardens | cures by ultraviolet irradiation, and the adhesive force falls. In this case, it is necessary that the adhesive force (peel strength) of the laminated body 3 to the insulating support film 1 is relatively small compared with the case of the transparent hard substrate G.

이와같은 자외선 경와형 점착제층으로서는, 자외선 조사전의 초기 필강도(JIS K6854)가 3N/cm이상이고, 자외선 조사후의 필강도가 1N/cm이상이 되도록 자외선 경화형 점착제를 성막한 것을 사용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 자외선 경화형 점착제로서는, 광라디컬 중합타입의 아크릴계 자외선 경화형 점착제 등을 사용할 수 있다.As such an ultraviolet light-type adhesive layer, it is preferable to use what formed the ultraviolet curable adhesive so that the initial stage peel strength (JIS K6854) before ultraviolet irradiation may be 3 N / cm or more, and the peel strength after ultraviolet irradiation may be 1 N / cm or more. . In this case, as the ultraviolet curable pressure sensitive adhesive, an optical ultraviolet curing type acrylic ultraviolet curable pressure sensitive adhesive or the like can be used.

공정(b)Process (b)

이어서, 제1도(b)에 나타내었듯이, 적층체(3)의 도체층(2)를, 예를 들면 통상의 포토리소그래피 기술을 이용하여 패터닝하는 것에 의해 배선회로(2a)를 형성한다. 이 경우, 구체적으로는 도체층(2)상에 감광성 레지스트 필름을 그 점착력을 이용하여 점착하고, 도시되지 않은 패터닝용의 마스크를 개재하여 노광하고, 현상하여 도체층(2)의 에칭용 레지스트 패턴을 형성한 후에, 도체층(2)를 에칭하여 패터닝하고, 그 후에 감광성 레지스트 패턴을 제거하는 것에 의해 배선회로(2a)를 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 1 (b), the wiring circuit 2a is formed by patterning the conductor layer 2 of the laminate 3 using, for example, a conventional photolithography technique. In this case, specifically, the photosensitive resist film is adhered on the conductor layer 2 using the adhesive force, exposed through a mask for patterning (not shown), and developed to develop the resist pattern for etching the conductor layer 2. After the formation, the conductor layer 2 is etched and patterned, and then the wiring circuit 2a is formed by removing the photosensitive resist pattern.

본 발명의 경우, 배선회로(2a)는 적층체(3)의 절연지지필름(1)상에 1개만 형성되어도 좋지만, 통상은 복수개 형성된다. 복수개의 배선회로(2a)를 형성한 경우에는, 후술한 것처럼 추출가공에 의해 각각의 유연한 배선 회로기판에 분리되게 된다.In the present invention, only one wiring circuit 2a may be formed on the insulating support film 1 of the laminate 3, but usually a plurality of wiring circuits 2a are formed. When a plurality of wiring circuits 2a are formed, they are separated from each flexible wiring circuit board by extraction processing as described later.

공정(c)Process (c)

이어서, 점착제층(4)의 점착력을 저하시킨다. 예를 들면, 점착제층(4)로서 자외선 경화형 점차제층을 사용한 경우에는 제1도(c)에 나타내었듯이, 투명경화기판(G)측에서 자외선 UV를 조사하고, 자외선 경화형 점착제층을 경화시키고, 투명경질기판(G)에 대한 것 보다 절연지지필름(1)에 대한 밀착 강도가 저하되도록 그 점착력을 저하시킨다.Next, the adhesive force of the adhesive layer 4 is reduced. For example, when the ultraviolet curing type gradually increasing agent layer is used as the adhesive layer 4, as shown in FIG. 1 (c), ultraviolet-ray UV is irradiated from the transparent hardening board G side, and an ultraviolet curing adhesive layer is hardened, The adhesive force is lowered so that the adhesion strength to the insulating support film 1 is lower than that of the transparent hard substrate G.

본 발명의 경우, 점착제층(4)의 점착력을 저하시키는 다른 수단으로서는, 분위기 온도를 저하시켜서, 점착제층(4)의 온도를 점착시의 온도 보다도 저온으로 하는 것이 열거된다. 이것에 의해, 점착제층(4)이 경화되어 점착력을 저하시킬 수 있다.In the case of this invention, as another means of reducing the adhesive force of the adhesive layer 4, the atmospheric temperature is reduced and the temperature of the adhesive layer 4 is made lower than the temperature at the time of adhesion | attachment. Thereby, the adhesive layer 4 hardens | cures and adhesive force can be reduced.

공정(d)Process (d)

이어서, 제1도(d)에 나타내었듯이, 경화에 의해 점착력이 저하된 점착제층(4)이 투명경질기판(G)측에 남도록 투명경질기판(G)에서 배선회로(2a)가 형성된 적층체(3)을 박리시킨다. 이에 의해, 유연한 배선 회로기판(10)을 얻을 수 있다.Subsequently, as shown in FIG. 1 (d), the laminate in which the wiring circuit 2a is formed on the transparent hard substrate G so that the pressure-sensitive adhesive layer 4 whose adhesive strength is lowered by curing remains on the transparent hard substrate G side. (3) is peeled off. Thereby, the flexible wiring circuit board 10 can be obtained.

그런데, 1개의 적층체(3)에 대해서 복수의 배선회로(2a)를 형성한 경우, 그것을 각각의 유연한 배선 회로기판에 추출가공하는 것이 필요하지만, 이 경우, 투명경질기판(G)에서 박리한 복수의 배선회로(2a)가 형성된 적층체(3)을 금형추출가공법으로 각각의 유연한 배선 회로기판에 분리해도 좋지만, 본 발명에서는, 바리(burr)나 변형이 발생되지 않고 다양한 펀칭패턴이 용이하게 작성될 수 있는 레이저 컷팅법에 의한 공정(e)를 적용하는 것이 바람직하다.By the way, in the case where a plurality of wiring circuits 2a are formed for one laminate 3, it is necessary to extract and process them on each of the flexible wiring circuit boards, but in this case, the plurality of wiring circuits 2a are peeled off from the transparent hard board G. Although the laminated body 3 in which the some wiring circuit 2a was formed may be isolate | separated into each flexible wiring circuit board by the metal mold extraction process, in this invention, a variety of punching patterns are easily carried out without a burr or deformation | transformation. It is preferable to apply the process (e) by the laser cutting method which can be prepared.

공정(e)Process (e)

제2도에 나타내었듯이, 이 공정(e)는 배선회로(2a)가 형성된 적층체(3)에 대해, 절단용의 공지의 고출력의 레이저 광L을 추출패턴에 따라서 조사하여 추출가공을 행한다. 사용한 레이저 장치, 레이저 조사 조건으로는, 절단해야할 재료에 따라서 공지의 것 중에서 적절히 결정할 수 있다.As shown in FIG. 2, this process (e) performs extraction processing by irradiating the laminated body 3 in which the wiring circuit 2a was formed by irradiating the well-known high-output laser light L for cutting according to an extraction pattern. As a used laser apparatus and laser irradiation conditions, it can determine suitably from a well-known thing according to the material to be cut | disconnected.

본 발명의 경우, 공정(e)는 상술한 공정(b)와 공정(c)의 사이 또는 공정(c)와 공정(d)의 사이에 설치될 수 있지만, 미경화 점착제에 의한 오염 방지의 관점에서는 공정(c)와 공정(d)의 사이에 설치하는 것이 바람직하다.In the case of the present invention, step (e) may be provided between step (b) and step (c) described above or between step (c) and step (d), but from the viewpoint of preventing contamination by the uncured adhesive In the case, it is preferable to provide between the step (c) and the step (d).

또한, 제1도의 태양에서는 단층의 점착제층(4)로 투명 경질기판(G)와 적층체(3)을 적층하지만, 제3도에 나타내었듯이, 플라스틱 필름(5a)의 양면에, 상술한 점착제층(4)와 동일한 특성을 나타내는 점착제층(5b)(예를 들면, 자외선 경화형 점착제층)이 형성된 양면 점착 필름(5)를 개재시켜 투명경질기판(G)와 적층체(3)을 적층해도 좋다. 이 경우에도, 상기 제1도(a)~(d)와 동일의 공정을 행하여, 최종적으로 적층체(3)의 절연지지필름(1)과 양면 점착 필름(5)의 점착제층(5b)와의 사이에서 박리가 행해지게 된다.In addition, although the transparent hard board | substrate G and the laminated body 3 are laminated | stacked by the single-layered adhesive layer 4 in the aspect of FIG. 1, as shown in FIG. 3, the above-mentioned adhesive on both surfaces of the plastic film 5a is shown. Even if the transparent rigid substrate G and the laminated body 3 are laminated | stacked through the double-sided adhesive film 5 in which the adhesive layer 5b (for example, an ultraviolet curable adhesive layer) which shows the same characteristic as the layer 4 was formed. good. Also in this case, the process similar to the said FIG. 1 (a)-(d) is performed, and finally, between the insulating support film 1 of the laminated body 3, and the adhesive layer 5b of the double-sided adhesive film 5 is carried out. Peeling is performed in between.

플라스틱 필름(5a)로서는, 예를 들면 두께 50~125㎛의 폴리에스테르 필름을 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 점착제층(5b)의 재료로서는 상술한 점착제층(4)와 동일한 특성을 나타내는 것을 바람직하게 사용할 수 있고, 그 두께는 바람직하게는 10~30㎛이다.As the plastic film 5a, for example, a polyester film having a thickness of 50 to 125 µm can be preferably used. Moreover, as a material of the adhesive layer 5b, what shows the same characteristic as the adhesive layer 4 mentioned above can be used preferably, The thickness is 10-30 micrometers preferably.

또한 제1도의 태양은 서브트랙티브법으로 도체층(2)의 패터닝을 행한 예이지만, 본 발명은 빌드업법에 의해 패터닝을 행해도 좋다. 이 경우에도 제1도에 나타낸 예와 동일하게, 이하에 나타낸 공정(a')~공정(d')를 거쳐 유연한 배선 회로기판을 얻을 수 있다. 이 경우, 필요에 따라서, 공정(e')로서 레이저 컷팅법을 더 적용하여 추출가공을 행할 수 있다.In addition, although the aspect of FIG. 1 is the example which patterned the conductor layer 2 by the subtractive method, you may pattern in this invention by the buildup method. Also in this case, similarly to the example shown in FIG. 1, a flexible wiring circuit board can be obtained through the following steps (a ') to (d'). In this case, extraction processing can be performed further by applying the laser cutting method as a process (e ') as needed.

공정(a')Process (a ')

제4도(a)에 내었듯이, 제1도에서 설명한 공정(a)와 동일하게, 절연지지필름(1)상에 얇은 도체층(2)가 형성된 적층체(3)을 그 절연지지필름(1)측에서 투명경질기판(G)에 공지의 방법으로 형성된 점착제층(4)로 점착시킨다. 또는 투명경질기판(G)에 점착제층(4)로 절연지지필름(1)을 점착시킨 후, 절연지지필름(1)의 표면에 무전해 도금법에 의해 금속 박막을 얇은 도체층(2)로서 형성해도 좋다(제4도(a)).As shown in Fig. 4 (a), in the same manner as the step (a) described in Fig. 1, the laminated body 3 on which the thin conductor layer 2 is formed on the insulating support film 1 is formed by the insulating support film ( On the 1) side, it is made to adhere to the transparent hard substrate G with the adhesive layer 4 formed by a well-known method. Alternatively, the insulating support film 1 is attached to the transparent hard substrate G with the adhesive layer 4, and then a metal thin film is formed as a thin conductor layer 2 on the surface of the insulating support film 1 by electroless plating. It may be sufficient (FIG. 4 (a)).

여기서, 점착제층(4)는 투명경질기판(G)의 한쪽 전면에 형성한 것이 바람직하다. 이것에 의해, 후술한 도금 레지스트 패턴(6)의 투명경질기판(G)에 대한 밀착성을 향상시킬 수 있다.Here, it is preferable that the adhesive layer 4 is formed in one whole surface of the transparent hard board | substrate G. As shown in FIG. Thereby, adhesiveness with respect to the transparent hard board | substrate G of the plating resist pattern 6 mentioned later can be improved.

공정(b')Process (b ')

제4도(b1)에 나타내었듯이, 예를 들면 통상의 포토리소그래피 기술에 의해, 적층체(3)의 얇은 도체층(2)상에 도금 레지스트 패턴(6)을 형성한 후, 제4도(b2)에 나타내었듯이, 예를 들면 동을 사용한 전해 도금법에 의해 얇은 도체층(2)상에 도금 금속(2')를 석출시킨다.As shown in Fig. 4 (b1), after the plating resist pattern 6 is formed on the thin conductor layer 2 of the laminate 3, for example, by a conventional photolithography technique, As shown in b2), the plating metal 2 'is deposited on the thin conductor layer 2 by the electroplating method using copper, for example.

또한, 제4도(b3)에 나타내었듯이, 에칭에 의해 도금 레지스트 패턴(6)을 제거한 후, 제4도(b4)에 나타내었듯이 얇은 도체층(2)에 소프트 에칭을 실시하여 배선회로 패턴(2a)를 형성한다.As shown in Fig. 4 (b3), after removing the plating resist pattern 6 by etching, as shown in Fig. 4 (b4), soft etching is performed on the thin conductor layer 2 to form a wiring circuit pattern ( 2a).

공정(c')Process (c ')

제5도(c)에 나타내었듯이, 제1도에서 설명한 공정(c)와 동일하게, 예를 들면 투명경질기판(G)측에서 자외선 UV를 조사하여 점착제층(4)의 점착력을 저하시킨다.As shown in FIG. 5 (c), similarly to the process (c) described in FIG. 1, for example, ultraviolet ray UV is irradiated on the transparent hard substrate G side to lower the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer 4.

공정(d')Process (d ')

제5도(d)에 나타내었듯이, 제1도에서 설명한 공정(d)와 동일하게, 점착제층(4)가 투명경질기판(G)측에 남도록 투명경질기판(G)에서 배선회로(2a)가 형성된 적층체(3)을 박리시킨다. 이것에 의해, 유연한 배선 회로기판(10)을 얻을 수 있다.As shown in FIG. 5 (d), in the same manner as the process (d) described in FIG. 1, the wiring circuit 2a is formed on the transparent hard substrate G such that the pressure-sensitive adhesive layer 4 remains on the transparent hard substrate G side. The laminated body 3 in which the was formed is peeled. As a result, the flexible wiring circuit board 10 can be obtained.

본 발명의 경우에도, 필요에 따라서, 공정(b')와 (c')의 사이 또는 공정(c')와 (d')사이(바람직하게는 공정(c')와 (d')사이)에 제2도에서 설명한 공정(e)와 동일하게, 공정(e')로서 레이저 컷팅법을 적용하여 추출가공을 행할 수 있다.Even in the case of the present invention, if necessary, between steps (b ') and (c') or between steps (c ') and (d') (preferably between steps (c ') and (d')). In the same manner as the step (e) described in FIG. 2, the extraction process can be performed by applying the laser cutting method as the step (e ').

이어서, 제2의 발명의 예를, 제6도를 참조하면서 각 공정을 설명한다.Next, each process is demonstrated, referring FIG. 6 for the example of 2nd invention.

공정(aa)Process (aa)

먼저 제6도(a)에 나타내었듯이 투명경질기판(G)상에 폴리이미드 전구체계 점착제층(41)을 개재하여 도체층(42)를 적층한다. 구체적으로는 폴리이미드 전구체계 점착제를 투명경질기판(G)에 도포하고, 건조시켜서 폴리이미드 전구체계 점착제층(41)을 형성하고, 그 상에 동박 등의 도체층(42)를 가압롤로 가압하여 점착하면 좋다.First, as shown in FIG. 6 (a), the conductor layer 42 is laminated on the transparent hard substrate G via the polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer 41. Specifically, a polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive is applied to a transparent hard substrate (G), dried to form a polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer 41, and a conductor layer 42 such as copper foil is pressed thereon with a pressure roll. It is good to stick.

여기서, 폴리이미드 전구체계 점착제층(41)로서는, 예를 들면 250℃~350℃로 가열하는 이미드화 처리에 의해 절연성을 갖는 폴리이미드 필름이 되는 성질을 갖는 것을 사용한다.Here, as a polyimide precursor adhesive layer 41, what has a property to become a polyimide film which has insulation by the imidation process heated at 250 degreeC-350 degreeC is used, for example.

폴리이미드 전구체계 점착제층(41)은 상술한 것처럼 폴리이미드 전구체계 점착제를 성막한 것이다. 이와같은 폴리이미드 전구체계 점착제로서는 산이무수물과 디아민에서 얻을 수 있는 폴리아믹산류(특개소60-157286호공보, 특개소60-243120호공보, 특개소63-239998호공보, 특개평1-245586호공보, 특개평3-123093호공보, 특개평5-139027호공보 참조), 과잉의 산이무수물과 디아민에서 합성된 말단을 산이무수물인 폴리아믹산 프리폴리머와 디이소시아네이트 화합물에서 얻어질 수 있는 일부이미드화한 폴리아믹산류(폴리아미드수지 핸드북, 일간공업신문사 발생(536항, 1988년); 고분자토론집, 47(6), 1990참조)등을 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 산이무수물과 디아민에서 얻을 수 있는 폴리아믹산류를 바람직하게 사용할 수 있다.The polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer 41 is formed by forming a polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive as described above. As such polyimide precursor-based adhesives, polyamic acids obtained from acid dianhydrides and diamines (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-157286, Japanese Patent Laid-Open No. 60-243120, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-239998, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-245586). (See Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-123093, Japanese Patent Laid-Open Publication No. HEI 5-139027), and the terminal synthesized from the excess acid dianhydride and diamine is partially imidized from the polyamic acid prepolymer and diisocyanate compound, which are acid dianhydrides. Polyamic acids (polyamide resin handbook, the Daily Industrial Newspaper Co., Ltd. (536, 1988); Polymer Debate, 47 (6), 1990) and the like can be used. Among these, polyamic acids obtained from acid dianhydride and diamine can be preferably used.

여기서, 산이무수물의 바람직한 예는 피로멜리트산 이무수물(PMDA), 3,4,3',4'-비페닐테트라카르복시산 이무수물(BPDA), 3,4,3',4'-벤조페논테트라카르복시산 이무수물(BTDA), 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산이무수물(DSDA)이 열거된다. 또한, 디아민의 바람직한 예는 4,4'-디아미노디페닐에테르(DPE), 파라페닐렌디아민(PDA), 4,4'-디아미노벤즈아닐리드(DABA), 4,4'-비스(p-아미노페녹시)디페닐술폰(BAPS)가 열거된다.Preferred examples of acid dianhydrides include pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,4,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 3,4,3', 4'-benzophenonetetra Carboxylic acid dianhydride (BTDA), 3,3 ', 4,4'- diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride (DSDA) is mentioned. Further preferred examples of the diamine include 4,4'-diaminodiphenyl ether (DPE), paraphenylenediamine (PDA), 4,4'-diaminobenzanilide (DABA), 4,4'-bis (p -Aminophenoxy) diphenylsulfone (BAPS).

또한, 투명경질기판(G)와 도체층(42)에 대해서는, 제1도에 관하여 공정(a)에서 설명한 것과 같은 것을 사용한다.In addition, the transparent hard board | substrate G and the conductor layer 42 are the same as what was demonstrated by process (a) regarding FIG.

공정(bb)Process (bb)

이어서, 제6도(b)에 나타내었듯이, 도체층(42)을 제1도에서 설명한 공정(b)와 동일한 방법에 의해 패터닝하여 배선회로(42a)를 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 6 (b), the conductor layer 42 is patterned by the same method as the process (b) described in FIG. 1 to form the wiring circuit 42a.

공정(cc)Process (cc)

제6도(c)에 나타내었듯이, 폴리이미드 전구체계 점착제층(41)을 이미드화하여 절연성을 갖는 폴리이미드 지지필름(43)으로 한다.As shown in FIG. 6 (c), the polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer 41 is imided to obtain a polyimide support film 43 having insulation.

이 경우, 이미드화 조건으로서는 사용하는 폴리이미드 전구체계 점착제층의 종류에 따라 적절하게 설정할 수 있다.In this case, as imidation conditions, it can set suitably according to the kind of polyimide precursor type adhesive layer to be used.

이 폴리이미드 지지필름(43)은 도체층(42)의 지지체로서 기능하는 것과 동시에 도체층(42)(배선회로(42a)에 대한 경우에 비해 투명경질기판(G)에 대한 접착력이 낮고, 이것에 의해 투명경질기판(G)와 폴리이미드 지지필름(43)의 경계면에서 용이하게 박리할 수 있게 된다.This polyimide support film 43 functions as a support for the conductor layer 42 and has a lower adhesive force to the transparent hard substrate G than the case for the conductor layer 42 (wiring circuit 42a). As a result, the transparent hard substrate G and the polyimide support film 43 can be easily peeled off.

또한 이공정(cc)는 본례와 같이 공정(bb)와 공정(dd)의 사이에 실시하는 것이외에 공정(aa)와 공정(bb)와의 사이에 실시해도 좋다.In addition, this process (cc) may be performed between the process (aa) and the process (bb) in addition to performing between the process (bb) and the process (dd) like the present example.

공정(dd)Process (dd)

이어서, 제6도(d)에 나타내었듯이, 배선회로(42a)가 형성된 폴리이미드 지지필름(43)을 투명경질기판에서 박리시킨다. 이것에 의해, 유연한 배선 회로기판(40)을 얻을 수 있다.Subsequently, as shown in FIG. 6 (d), the polyimide support film 43 having the wiring circuit 42a formed thereon is peeled off from the transparent hard substrate. As a result, the flexible wiring circuit board 40 can be obtained.

본 례의 경우에도, 필요에 따라서, 얻어진 유연한 배선 회로기판(40)에 대해 금형추출가공을 실시해도 좋지만, 제2도에서 설명한 공정(e)와 동일하게 레이저 컷팅법에 의해 추출가공을 실시하는 것이 바람직하다.Also in this case, although the mold extraction processing may be performed with respect to the obtained flexible wiring circuit board 40 as needed, extraction processing is performed by the laser cutting method similarly to process (e) demonstrated in FIG. It is preferable.

이 경우, 구체적으로는 공정(bb)와 공정(cc)와의 사이에 또는 공정(cc)와 공정(dd)와의 사이에, 이하의 공정(ee)를 설치하는 것이 바람직하다.In this case, specifically, it is preferable to provide the following steps (ee) between the step (bb) and the step (cc) or between the step (cc) and the step (dd).

공정(ee)Ee

제7도에 나타내었듯이, 제2도에서 설명한 공정(e)와 동일하게, 배선회로(42a)가 형성된 폴리이미드 지지필름(43)에 대해 공지의 절단용 고출력의 레이저 광L을 추출패턴에 따라서 조사하여 추출가공을 행한다. 사용한 레이저 장치, 레이저 조사조건으로서는 절단해야할 재료에 따라서 공지의 것중에서 적절하게 결정할 수 있다.As shown in Fig. 7, according to the extraction pattern, a known high-output laser light L for cutting the polyimide support film 43 in which the wiring circuit 42a is formed is applied in the same manner as in step (e) described in Fig. 2. Irradiation is performed by irradiation. As used laser apparatus and laser irradiation conditions, it can determine suitably from a well-known thing according to the material to be cut | disconnected.

또한, 이 공정(ee)는 점착제의 비산에 의한 오염방지의 관점에서 공정(cc)와 공정(dd)와의 사이에 설치하는 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is more preferable to arrange this process (ee) between a process (cc) and a process (dd) from a viewpoint of preventing contamination by the scattering of an adhesive.

이하, 본 발명을 실시예에 의하여 구체적으로 설명하다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples.

<실시예1>Example 1

자외선 투과율이 98%의 두께1mm의 유리기판의 한면에 자외선 경화형 아크릴계 점착체(고형분20%)를 건조두께가 20~30㎛가 되도록 도포하고, 60℃와 100℃의 2단계로 건조하여 자외선 경화형 점착제층을 설치하였다.UV-curable acrylic adhesive (solid content 20%) is applied to one side of glass substrate with a thickness of 1mm with a UV transmittance of 98% so as to have a dry thickness of 20 to 30 μm, and dried in two steps of 60 ° C. and 100 ° C. An adhesive layer was installed.

이어서, 동장적층판(동박12㎛두께/폴리이미드25㎛두께)을 그 폴리이미드면에서 유리기판상의 자외선 경화형 점착제층에 고무롤러를 사용하여 가압점착하고 그 동장적층판의 동박을 과산화수소와 황산의 혼합액에 소프트에칭하여 동박표면을 청정화하였다.Subsequently, a copper-clad laminate (copper foil 12 µm thickness / polyimide 25 µm thickness) was pressure-adhered to the UV curable pressure-sensitive adhesive layer on a glass substrate using a rubber roller from the polyimide surface, and the copper foil of the copper-clad laminate was added to a mixture of hydrogen peroxide and sulfuric acid. Soft etching was used to clean the copper foil surface.

이어서, 그 동박표면에 액상 레지스트(PMER-P, 도쿄오카고교 가부시키가이샤제)를 스핀코터법에 의해 도포하고, 건조하여 두께7㎛의 에칭 레지스트층을 형성하고 그 에칭 레지스트층에 대해 패턴 마스크를 개재하여 노광하고, 사용한 액상 레지스트의 전용 현상액(도쿄오카고교 가부시키가이샤제)로 현상하고, 염화 제2철 수용액으로 동박을 더욱 에칭하여 동박에 배선회로 패턴을 형성하고 에칭레지스트층을 제거한 후, 솔더레지스트층을 설치하고, 패턴단자부에 솔더링 도금을 행한다.Subsequently, a liquid resist (PMER-P, manufactured by Tokyo Okago Kogyo Co., Ltd.) was applied to the copper foil surface by spin coating method, dried to form an etching resist layer having a thickness of 7 μm, and a pattern mask was applied to the etching resist layer. After exposure through light, and developed with a dedicated developer (manufactured by Tokyo-Kagokyo Co., Ltd.) of the used liquid resist, the copper foil was further etched with an aqueous ferric chloride solution to form a wiring circuit pattern on the copper foil, and then the etching resist layer was removed. A solder resist layer is provided and solder plating is performed on the pattern terminal portion.

이어서, 유리기판측에서 자외선을 자외선 경화형 점차제층에 400mj의 에너지량으로 조사하여 자외선 경화형 점착제층을 경화시켰다.Subsequently, ultraviolet rays were irradiated on the glass substrate side to the ultraviolet curable gradually increasing agent layer at an energy amount of 400mj to cure the ultraviolet curable pressure sensitive adhesive layer.

마지막으로, 유리기판상의 경화된 자외선 경화형 점착제층과, 동장적층판의 폴리이미드면과의 사이에서 박리시켜서 유연한 배선 회로기판을 얻었다. 이 때 박리력은 0.2N/cm이고, 제품이 컬이 생기지 않고, 점착제가 폴리이미드면에 전착되지 도 않아 유리기판에서 용이하게 박리시킬 수 있다.Finally, the cured ultraviolet curable pressure sensitive adhesive layer on the glass substrate and the polyimide surface of the copper clad laminate were peeled off to obtain a flexible wiring circuit board. At this time, the peel force is 0.2 N / cm, the product is not curled, the pressure-sensitive adhesive is not electrodeposited on the polyimide surface can be easily peeled off the glass substrate.

<실시예2>Example 2

두께50㎛ 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 양면에 각각 두께15㎛의 자외선 경화형 아크릴계 점착제층(D-203DF, 라인텍 가부시키가이샤제)를 설치한 양면점착필름을 제조하고, 그 양면점착필름을 자외선 투과율이 95%의 두께2mm의 유리기판의 한면에 온도80℃의 조건으로 고무롤러를 사용하여 가압점착하였다. A 50-micrometer-thick polyethylene terephthalate film was prepared on both sides of an ultraviolet-curable acrylic pressure-sensitive adhesive layer (D-203DF, manufactured by Linetec Co., Ltd.) having a thickness of 15 micrometers, respectively. One side of a glass substrate having a thickness of 95% and a thickness of 2mm was pressure-adhered by using a rubber roller under the condition of a temperature of 80 ° C.

유리기판에 점착된 양면점착 필름상에 25㎛두께의 폴리이미드 필름의 한면에 0.25㎛두께의 시드층(니켈-동 합금층)이 설치된 적층체를 폴리이미드 필름측에서 고무롤러로 적층하였다.On the double-sided adhesive film adhered to the glass substrate, a laminate in which a seed layer (nickel-copper alloy layer) having a thickness of 0.25 μm was provided on one side of a 25 μm thick polyimide film was laminated with a rubber roller on the polyimide film side.

이어서, 유리기판측에서 양면점착 필름에 대해 자외선을 400mj의 에너지양으로 조사하여 자외선 경화형 아크릴계 점착제층을 경화시켰다. 이어서, 적층체의 시드층 표면에 액상레지스트(PMER-P, 도쿄오카고교 가부시키가이샤제)를 스핀코터법으로 도포하고, 건조하여 두께8㎛의 도금 레지스트층을 형성하고, 그 도금 레지스트층에 대해, 패턴 마스크를 개재하여 노광하고, 사용한 액상 레지스트의 전용현상액(도쿄오카고교 가부시키가이샤제)로 현상하여 도금레지스트 패턴을 형성한 후, 전해동 도금처리에 의해 시드층상에 두께7㎛의 동을 축적시켰다.Subsequently, ultraviolet rays were irradiated with an energy amount of 400mj on the glass substrate side to cure the ultraviolet curable acrylic pressure-sensitive adhesive layer. Subsequently, a liquid resist (PMER-P, manufactured by Tokyo Okagyo Co., Ltd.) is applied to the seed layer surface of the laminate by a spin coater method, dried to form a plating resist layer having a thickness of 8 μm, and the plating resist layer After exposing through a pattern mask, developing with a dedicated developer (manufactured by Tokyo-Kagokyo Co., Ltd.) of the used liquid resist to form a plating resist pattern, copper having a thickness of 7 μm was deposited on the seed layer by electrolytic copper plating. Accumulated.

이어서, 도금레지스트 패턴을 제거한 후, 과산화수소와 황산의 혼합액으로 소프트에칭하여 노출되어 있는 시드층을 제거하였다. 그리고 솔더 레지스트층을 설치하여 패턴단자부에 솔더링 도금을 실시하였다.Next, after removing the plating resist pattern, the seed layer exposed by soft etching with a mixture of hydrogen peroxide and sulfuric acid was removed. And a soldering resist layer was provided and the soldering plating was performed to the pattern terminal part.

마지막으로, 유리기판상의 양면 점착필름과 적층체의 폴리이미드 필름의 사이에서 박리를 행하고, 유연한 배선 회로기판을 얻었다. 이 때 박리력은 0.4N/cm이고, 제품이 컬이 생기지 않고, 점착제가 폴리이미드면에 전착되는 일도 없었다.Finally, peeling was performed between the double-sided adhesive film on the glass substrate and the polyimide film of the laminate to obtain a flexible wiring circuit board. At this time, the peeling force was 0.4 N / cm, the product did not produce curl, and the adhesive was not electrodeposited on the polyimide surface.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 유연한 배선 회로기판의 제조방법에 의하면, 평탄성이 우수한 투명경질기판상에 공정 조작을 실시하므로, 전공정을 통하여 평탄성이 유지되고 배선회로가 정밀화하여도, 품질이 불균일 하지 않고, 수율이 현저하게 향상된다. 특히, 서브트랙티브법에 의한 패턴 형성에서도 안정된 정밀화가 가능하게 되어, 제품의 임피던스 제어가 용이하게 된다. 또한 캐리어 필름을 사용하지 않으므로, 캐리어 필름의 사용에 기인하는 먼지 등의 이물질 부착에 의한 패턴불량을 없앨수 있다. 또한, 투명경질기판상에 매엽식으로 제조할 수 있으므로, 매우 간소한 설비로 제조가 가능해진다. 그 결과 제조 공간이나 부대설비 공간을 작게할 수 있고, 전력, 약액, 물 등의 자원절약화가 가능해지고, 리드타임의 단축화도 가능해진다. 또한, 추출가공을 레이저 컷팅법으로 행할 수 있으므로 금형추출가공에 따르는 각종 문제를 없앨 수 있다.As described above, according to the manufacturing method of the flexible wiring circuit board of the present invention, since the process operation is performed on the transparent rigid substrate having excellent flatness, the flatness is maintained throughout the entire process and the quality is uneven even if the wiring circuit is refined. The yield is remarkably improved. In particular, stable precision can be achieved even in the pattern formation by the subtractive method, and the impedance control of a product becomes easy. In addition, since the carrier film is not used, pattern defects due to adhesion of foreign matter such as dust due to the use of the carrier film can be eliminated. In addition, since the sheet can be produced on a transparent hard substrate in a sheet type, the production can be made with a very simple facility. As a result, the manufacturing space and the auxiliary equipment space can be reduced, and the resources such as electric power, chemical liquid and water can be reduced, and the lead time can be shortened. In addition, since the extraction processing can be performed by the laser cutting method, it is possible to eliminate various problems caused by the mold extraction processing.

Claims (8)

절연지지필름상에 배선회로가 형성된 유연한 배선 회로기판의 제조방법으로서, 이하의 공정(a)~(d)을 갖는 유연한 배선 회로기판의 제조방법:A method of manufacturing a flexible wiring circuit board having wiring circuits formed on an insulating support film, the method of manufacturing a flexible wiring circuit board having the following steps (a) to (d): (a)절연지지필름상에 도체층이 형성된 적층체를 그 절연지지필름측에서 투명경질 기판에 점착제층으로 점착시키는 공정;(a) adhering a laminate having a conductor layer formed on the insulating support film to the transparent rigid substrate with an adhesive layer on the insulating support film side; (b)상기 적층체의 도체층을 패터닝하여 배선 회로를 형성하는 공정;(b) forming a wiring circuit by patterning the conductor layer of the laminate; (c)상기 점착제층의 점착력을 저하시키는 공정;및(c) reducing the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer; and (d)점착제층이 투명경질기판측에 잔존하도록 투명경질기판에서 배선회로가 형성된 적층체를 박리하는 공정. (d) Process of peeling the laminated body in which the wiring circuit was formed in the transparent hard board so that an adhesive layer might remain on the transparent hard board side. 제1항에 있어서, 공정(b)에 있어서 사용하는 점착제층이 자외선 경화형 점착제층이고, 공정(c)에 있어서, 상기 점착제층의 점착력을 저하시키기 위해, 투명경질기판측에서 자외선을 상기 점착제층에 조사하여 경화시키는 유연한 배선 회로기판의 제조방법.The pressure-sensitive adhesive layer according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer used in the step (b) is an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer, and in the step (c), in order to reduce the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer, ultraviolet rays are applied to the pressure-sensitive adhesive layer on the transparent hard substrate side. A method of manufacturing a flexible wiring circuit board which is cured by irradiating with light. 제1항에 있어서, 공정(b)에 있어서 사용하는 점착제층이 플라스틱필름의 양면에 자외선 경화형 점착제층이 형성된 양면점착 필름이고, 공정(c)에 있어서, 상기 점착제층의 점착력을 저하시키기 위해, 투명경질기판측에서 자외선을 상기 점착제층에 조사하여 경화시키는 유연한 배선 회로기판의 제조방법.The adhesive layer used in a process (b) is a double-sided adhesive film in which the ultraviolet curable adhesive layer was formed in both surfaces of a plastic film, In a process (c), in order to reduce the adhesive force of the said adhesive layer, A method for manufacturing a flexible wiring circuit board which irradiates ultraviolet light to the pressure-sensitive adhesive layer on the transparent hard board side to cure the adhesive layer. 제1항에 있어서, 공정(b)와 공정(c)의 사이 또는 공정(c)와 공정(d)의 사이에 공정(e)을 더욱 갖는 유연한 배선 회로기판의 제조방법:The method of manufacturing a flexible wiring circuit board according to claim 1, further comprising step (e) between step (b) and step (c) or between step (c) and step (d): (e)배선회로가 형성된 적층체에 대해, 레이저 컷팅법에 의해 추출가공을 행하는 공정.(e) A step of performing extraction processing on the laminated body on which the wiring circuit is formed by the laser cutting method. 제2항에 있어서, 공정(b)와 공정(c)의 사이 또는 공정(c)와 공정(d)와의 사이에 공정(e)을 더욱 갖는 유연한 배선 회로기판의 제조방법:The method of manufacturing a flexible wiring circuit board according to claim 2, further comprising step (e) between step (b) and step (c) or between step (c) and step (d): (e)배선회로가 형성된 적층체에 대해, 레이저 컷팅법에 의해 추출가공을 행하는 공정. (e) A step of performing extraction processing on the laminated body on which the wiring circuit is formed by the laser cutting method. 제3항에 있어서, 공정(b)와 공정(c)의 사이 또는 공정(c)와 공정(d)와의 사이에 공정(e)을 더욱 갖는 유연한 배선 회로기판의 제조방법:The method of manufacturing a flexible wiring circuit board according to claim 3, further comprising step (e) between step (b) and step (c) or between step (c) and step (d): (e)배선회로가 형성된 적층체에 대해, 레이저 컷팅법에 의해 추출가공을 행하는 공정.(e) A step of performing extraction processing on the laminated body on which the wiring circuit is formed by the laser cutting method. 절연성을 갖는 폴리이미드 지지필름상에 배선회로가 형성된 유연한 배선 회로기판의 제조방법으로서, 이하의 공정(aa)~(dd)을 갖는 유연한 배선 회로기판의 제조방법:A method of manufacturing a flexible wiring circuit board having wiring circuits formed on an insulating polyimide support film, the method of manufacturing a flexible wiring circuit board having the following steps (aa) to (dd): (aa)투명경질기판상에 폴리이미드 전구체계 점착제층을 개재시켜서 도체층을 적층하는 공정;(aa) a step of laminating a conductor layer on a transparent hard substrate via a polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer; (bb)상기 도체층을 패터닝하여 배선회로를 형성하는 공정;(bb) forming a wiring circuit by patterning the conductor layer; (cc)상기 폴리이미드 전구체계 점착제층을 이미드화하여 절연성을 갖는 폴리이미드 지지필름으로 하는 공정;및(cc) imidating the polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer to obtain a polyimide support film having insulation; and (dd)배선회로가 형성된 폴리이미드 지지필름을 투명경질기판에서 박리시키는 공정.(dd) A step of peeling a polyimide support film having a wiring circuit formed from a transparent hard substrate. 제7항에 있어서, 공정(bb)와 공정(cc)사이에 또는 공정(cc)와 공정(dd)의 사이에, 공정(ee)을 더욱 갖는 유연한 배선 회로기판의 제조방법:The method of manufacturing a flexible wiring circuit board according to claim 7, further comprising step (ee) between step (bb) and step (cc) or between step (cc) and step (dd). (ee)배선회로가 형성된 폴리이미드 지지필름에 대해, 레이저 컷팅법에 의해 추출가공법을 행하는 공정.(ee) A step of performing an extraction processing method by a laser cutting method on a polyimide support film having a wiring circuit formed thereon.
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