JP4577526B2 - Method for manufacturing flexible printed circuit board - Google Patents

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Description

本発明は、フレキシブル配線回路基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a flexible printed circuit board.

厚さ25μm以下のポリイミドベースフィルムの片面に積層された厚さ35μm以下の銅箔を、サブトラクティブ法でパターニングして配線回路とすることにより得られるフレキシブル配線回路基板が広く使用されている。   A flexible printed circuit board obtained by patterning a copper foil having a thickness of 35 μm or less laminated on one side of a polyimide base film having a thickness of 25 μm or less into a wiring circuit by a subtractive method is widely used.

このようなフレキシブル配線回路基板をロールツーロールで製造する方法として、キャリアフィルム上に、光照射により粘着性が低下する粘着剤で銅張積層板を貼着することを特徴とする方法が提案されている(特許文献1参照)。この製造方法においては、ポリイミドフィルムベースに銅箔が貼着されている構造の銅張積層板を、そのポリイミドフィルムベース側表面から、光照射により粘着性が低下する粘着剤が塗布されたキャリアフィルムに貼り合わせ、銅張積層板の銅箔に配線回路を形成した後、キャリアフィルム側から紫外線を照射して粘着剤を硬化させてその粘着力を低下させ、粘着剤とポリイミドベースフィルムとの界面でキャリアフィルムを剥離除去することによりフレキシブル配線回路基板が得られる。この製造方法では、キャリアテープに銅張積層板が保持されているので、配線回路形成加工時に折れやしわの発生を抑制することができ、また、粘着剤の粘着力を低下させることができるので、キャリアフィルムの剥離時にもカールや折れの発生を抑制することができる。   As a method for manufacturing such a flexible printed circuit board in a roll-to-roll manner, a method is proposed in which a copper-clad laminate is adhered on a carrier film with an adhesive whose adhesiveness is reduced by light irradiation. (See Patent Document 1). In this manufacturing method, a copper-clad laminate having a structure in which a copper foil is adhered to a polyimide film base is coated with a pressure-sensitive adhesive whose adhesiveness is reduced by light irradiation from the polyimide film base side surface. After forming the wiring circuit on the copper foil of the copper-clad laminate, the adhesive is cured by irradiating with ultraviolet rays from the carrier film side to reduce its adhesive strength, and the interface between the adhesive and the polyimide base film A flexible printed circuit board can be obtained by peeling and removing the carrier film. In this manufacturing method, since the copper-clad laminate is held on the carrier tape, it is possible to suppress the occurrence of folds and wrinkles during wiring circuit formation processing, and it is possible to reduce the adhesive strength of the adhesive. Further, curling and folding can be suppressed even when the carrier film is peeled off.

特開平7−99379号公報JP-A-7-99379

しかしながら、近年の電子機器の高密度化に伴い、フレキシブル配線回路基板の薄膜化と高密度化とが進行している現状の下で、キャリアテープを使用する特許文献1に開示されている製造方法の場合、配線回路のパターンピッチが40μm以下となると、キャリアテープの表面歪みや凹凸の影響によりパターニング精度が低下するという問題があった。また、キャリアテープの両端切断面からの切り屑や切断面に露出している粘着剤等によりパターン不良が引き起こされ易くなるという問題もあった。   However, with the recent increase in the density of electronic devices, the manufacturing method disclosed in Patent Document 1 using a carrier tape under the present situation that the flexible printed circuit board is thinned and densified. In this case, when the pattern pitch of the wiring circuit is 40 μm or less, there is a problem that the patterning accuracy is lowered due to the influence of the surface distortion and unevenness of the carrier tape. In addition, there has been a problem that pattern defects are easily caused by chips from the cut surfaces on both ends of the carrier tape, adhesives exposed on the cut surfaces, and the like.

また、特許文献1に開示されている製造方法の実施に際しては、ロールの巻き出し機、巻き取り機が必須なため、設備の小型化への対応が困難であり、付帯設備のランニングコストも大きく、また、ロールツーロールで行うために、条件出しの時間や巻き戻し時間等が長くなるため、製造リードタイムも長くなるという問題がある。   In addition, when implementing the manufacturing method disclosed in Patent Document 1, a roll unwinder and a winder are indispensable, making it difficult to reduce the size of the equipment and increasing the running cost of the incidental equipment. In addition, since the roll-to-roll process is performed, the condition setting time, the rewinding time, and the like become long, so that there is a problem that the manufacturing lead time becomes long.

また、銅箔のパターニング後に、必要に応じて銅張積層板に対して抜き加工を行う場合、金型抜き加工法を適用しているため、切断面端部にバリができたり、フレキシブル配線回路基板自体に変形が発生し易いという問題があった。また、異なる配線回路パターンを有するフレキシブル配線基板毎に高価な金型を作成しなければならず、抜き加工コストを抑制できないという問題があった。このため、プログラムの変更で様々な抜きパターンを容易に作成できるレーザーカッティング法を適用することが考えられるが、レーザーカッティング法ではキャリアテープも同時に切断されてしまうため、フレキシブル配線回路基板をキャリアテープ上に保持できず、取り扱い性が大きく低下し、不良品の発生率も高まるという問題があった。   In addition, after patterning the copper foil, when punching the copper-clad laminate as necessary, the die-cutting method is applied, so that the end of the cut surface can be burred or the flexible wiring circuit There was a problem that the substrate itself was easily deformed. Moreover, an expensive metal mold must be prepared for each flexible wiring board having different wiring circuit patterns, and there has been a problem that the punching cost cannot be suppressed. For this reason, it is conceivable to apply a laser cutting method that can easily create various blank patterns by changing the program. However, the laser cutting method simultaneously cuts the carrier tape, so the flexible printed circuit board is placed on the carrier tape. In other words, the handleability is greatly reduced, and the incidence of defective products is increased.

本発明は、以上の従来の技術の問題点を解決しようとするものであり、フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができ、しかもレーザーカッティング法で抜き加工を実施できる、フレキシブル配線回路基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention is intended to solve the above-described problems of the prior art, and even when the pattern pitch of the flexible printed circuit board becomes very small, the patterning accuracy does not decrease and the pattern defect is not caused. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a flexible printed circuit board, which is less likely to occur, the manufacturing equipment can be reduced in size relatively easily, the lead time can be reduced relatively, and the punching can be performed by a laser cutting method. And

本発明者は、ロールツーロールではなく枚葉式でフレキシブル配線回路基板を製造できるように、キャリアテープに代えて平面性に優れたガラス基板やアクリル基板等の透明硬質基板を使用すると共に、その透明硬質基板に、紫外線照射等により粘着力を低下させることができる粘着剤層で、絶縁支持フィルム上に導体層が形成された積層体を、絶縁支持フィルム側から貼着し、導体層のパターニングの後で、粘着剤層の粘着力を低下させて透明硬質基板から積層体を剥離することにより、あるいは、透明硬質基板上に、導体層をポリイミド前駆体系粘着剤層で直接貼着し、その導体層のパターニングの後又は前でポリイミド前駆体系粘着剤層をイミド化し、それにより絶縁性のポリイミド支持フィルムとすると共にその粘着力を低下させ、その後で透明硬質基板からポリイミド支持フィルムを剥離することにより上述の目的を達成できることを見出し、本発明を完成させた。   The present inventor uses a transparent hard substrate such as a glass substrate or an acrylic substrate having excellent flatness in place of the carrier tape so that a flexible printed circuit board can be manufactured in a sheet-fed type instead of roll-to-roll, and its A laminated body in which a conductive layer is formed on an insulating support film with a pressure-sensitive adhesive layer capable of reducing the adhesive strength by ultraviolet irradiation or the like is attached to the transparent hard substrate from the side of the insulating support film, and patterning of the conductor layer is performed. After that, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer is reduced and the laminate is peeled off from the transparent hard substrate, or the conductor layer is directly bonded to the transparent hard substrate with the polyimide precursor-based pressure-sensitive adhesive layer. Immediately after the patterning of the conductor layer, the polyimide precursor system pressure-sensitive adhesive layer is imidized, thereby making the insulating polyimide support film and reducing its adhesive strength, It found that the above object can be achieved by peeling the polyimide support film from the transparent hard substrate after, and completed the present invention.

即ち、第1の本発明は、絶縁支持フィルム上に配線回路が形成されたフレキシブル配線回路基板の製造方法であって、以下の工程(a)〜(d):
(a)絶縁支持フィルム上に導体層が形成された積層体を、その絶縁支持フィルム側から透明硬質基板に粘着剤層で貼着させる工程;
(b)該積層体の導体層をパターニングして配線回路を形成する工程;
(c)該粘着剤層の粘着力を低下させる工程; 及び
(d)配線回路が形成された積層体を、粘着剤層が透明硬質基板側に残るように透明硬質基板から剥離する工程
を有することを特徴とする製造方法を提供する。
That is, the first aspect of the present invention is a method for producing a flexible printed circuit board in which a wired circuit is formed on an insulating support film, and includes the following steps (a) to (d):
(A) The process of sticking the laminated body by which the conductor layer was formed on the insulation support film with the adhesive layer from the insulation support film side to a transparent hard substrate;
(B) patterning the conductor layer of the laminate to form a wiring circuit;
(C) reducing the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer; and (d) peeling the laminate on which the wiring circuit is formed from the transparent hard substrate so that the pressure-sensitive adhesive layer remains on the transparent hard substrate side. A manufacturing method is provided.

また、第2の本発明は、絶縁性のポリイミド支持フィルム上に配線回路が形成されたフレキシブル配線回路基板の製造方法であって、以下の工程(aa)〜(dd):
(aa)透明硬質基板上に、ポリイミド前駆体系粘着剤層を介して導体層を積層する工程;
(bb)該導体層をパターニングして配線回路を形成する工程;
(cc)該ポリイミド前駆体系粘着剤層をイミド化して絶縁性のポリイミド支持フィルムとする工程; 及び
(dd)配線回路が形成されたポリイミド支持フィルムを透明硬質基板から剥離する工程
を有することを特徴とする製造方法を提供する。
Moreover, 2nd this invention is a manufacturing method of the flexible wiring circuit board by which the wiring circuit was formed on the insulating polyimide support film, Comprising: The following processes (aa)-(dd):
(Aa) a step of laminating a conductor layer on a transparent hard substrate via a polyimide precursor adhesive layer;
(Bb) patterning the conductor layer to form a wiring circuit;
(Cc) imidating the polyimide precursor adhesive layer to form an insulating polyimide support film; and (dd) separating the polyimide support film on which the wiring circuit is formed from the transparent hard substrate. A manufacturing method is provided.

なお、第1の本発明において、抜き加工をレーザーカッティング法で実施する場合には、工程(b)と工程(c)との間又は工程(c)と工程(d)との間に、更に工程(e)
(e)配線回路が形成された積層体に対し、レーザーカッティング法により抜き加工を行う工程
を更に備えることが好ましい。同様に、第2の本発明においては、工程(bb)と工程(cc)との間又は工程(cc)と工程(dd)との間に、更に工程(ee)
(ee)配線回路が形成された積層板に対し、レーザーカッティング法により抜き加工を行う工程
を更に備えることが好ましい。
In the first aspect of the present invention, when the punching process is performed by the laser cutting method, it is further performed between the step (b) and the step (c) or between the step (c) and the step (d). Step (e)
(E) It is preferable to further include a step of performing a punching process on the laminated body on which the wiring circuit is formed by a laser cutting method. Similarly, in the second aspect of the present invention, a step (ee) is further provided between the step (bb) and the step (cc) or between the step (cc) and the step (dd).
(Ee) It is preferable to further include a step of performing a punching process on the laminated board on which the wiring circuit is formed by a laser cutting method.

本発明のフレキシブル配線回路基板の製造方法によれば、平坦性に優れた透明硬質基板上で工程操作を実施するので、全工程を通じて平坦性が保持され、配線回路がファイン化しても、品質のバラツキがなく、歩留まりも飛躍的に向上する。特に、サブトラクティブ法によるパターニング形成でも安定したファイン化が可能となり、製品のインピーダンスコントロールが容易となる。また、キャリアフィルムを使用しないので、キャリアフィルムの使用に由来するゴミなどの異物付着によるパターン不良を無くすことができる。   According to the method for manufacturing a flexible printed circuit board of the present invention, the process operation is performed on a transparent hard substrate having excellent flatness. There is no variation and the yield is dramatically improved. In particular, even fine patterning by subtractive method enables stable refinement and facilitates product impedance control. Moreover, since a carrier film is not used, pattern defects due to adhesion of foreign matters such as dust resulting from the use of the carrier film can be eliminated.

また、透明硬質基材板上で枚葉式で製造できるので、非常にコンパクトな設備での製造が可能となる。従って、製造スペースや付帯設備スペースを小さくすることができ、電力、薬液、水等の省資源化が可能となり、リードタイムの短縮化も可能となる。更に、抜き加工をレーザーカッティング法で行うことができるので、金型抜き加工に伴う種々の問題を無くすことができる。   Moreover, since it can manufacture by a single wafer type on a transparent hard base plate, manufacture with a very compact installation is attained. Therefore, manufacturing space and incidental equipment space can be reduced, resources such as electric power, chemicals, and water can be saved, and lead time can be shortened. Furthermore, since the punching process can be performed by the laser cutting method, various problems associated with the die cutting process can be eliminated.

以下、本発明の、絶縁支持フィルム上に配線回路が形成されたフレキシブル配線回路基板の製造方法の一例を図面を参照しながら詳細に説明する。   Hereinafter, an example of a method for producing a flexible printed circuit board having a wiring circuit formed on an insulating support film according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1の本発明の製造方法を、図1を参照しながら工程毎に説明する。   The manufacturing method of the first aspect of the present invention will be described step by step with reference to FIG.

工程(a)
まず、図1(a)に示すように、絶縁支持フィルム1上に導体層2が形成された積層体3を、その絶縁支持フィルム1側から透明硬質基板Gに粘着剤層4で貼着させる。具体的には、透明硬質基板G上に粘着剤を公知の手法、例えばスピンコート法により塗布し、乾燥することにより粘着剤層4を形成し、その上に積層体3をその絶縁支持フィルム1側からゴムローラ等を用いて貼着させる。
Step (a)
First, as shown to Fig.1 (a), the laminated body 3 in which the conductor layer 2 was formed on the insulation support film 1 is stuck on the transparent hard substrate G by the adhesive layer 4 from the insulation support film 1 side. . Specifically, a pressure-sensitive adhesive is applied onto the transparent hard substrate G by a known method, for example, spin coating, and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer 4, and the laminate 3 is formed on the insulating support film 1. Adhere from the side using a rubber roller.

ここで、透明硬質基板Gとしては、アクリル基板、ガラス基板等が挙げられるが、より平坦性に優れ、耐熱性にも優れているガラス基板を使用することが好ましい。また、粘着剤層4は透明硬質基板Gの片全面に形成してもよい。   Here, examples of the transparent hard substrate G include an acrylic substrate and a glass substrate, but it is preferable to use a glass substrate that is more excellent in flatness and heat resistance. The pressure-sensitive adhesive layer 4 may be formed on the entire surface of the transparent hard substrate G.

この工程(a)で重要な点は、平坦性に優れた透明硬質基板Gを枚葉式で使用することと、パターニング工程などの加工中には絶縁支持フィルム1と透明硬質基板Gに対し良好な密着性を保ちながらも、なんらかの処理(例えば、紫外線照射処理、加熱処理、冷却処理、超音波照射処理、電子線照射処理等)が施されることにより、透明硬質基板Gに対するよりも相対的に絶縁支持フィルム1に対する密着性が大きく低下する粘着剤層4を使用することである。   The important point in this step (a) is that the transparent hard substrate G having excellent flatness is used in a single wafer type, and the insulating support film 1 and the transparent hard substrate G are good during processing such as a patterning step. It is relatively more than with respect to the transparent hard substrate G by being subjected to some processing (for example, ultraviolet irradiation processing, heat processing, cooling processing, ultrasonic irradiation processing, electron beam irradiation processing, etc.) while maintaining good adhesion. It is to use the adhesive layer 4 in which the adhesiveness with respect to the insulating support film 1 is greatly reduced.

平坦性に優れた透明硬質基板Gを枚葉式で使用することにより、フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができる。また、紫外線照射処理等の処理が施されることにより、透明硬質基板Gに対するよりも相対的に絶縁支持フィルム1に対する密着性が低下する粘着剤層4を使用することにより、導体層2のパターニングの際には、積層体3を透明硬質基板G上に確実に保持することができ、しかも、パターニング後に積層体3を透明硬質基板Gから容易に分離することができる。   Even when the pattern pitch of the flexible printed circuit board becomes very small by using the transparent hard substrate G having excellent flatness in a single-wafer type, the patterning accuracy is not lowered and pattern defects are less likely to occur. The manufacturing equipment can also be reduced in size relatively easily, and the lead time can be relatively shortened. Further, by using the pressure-sensitive adhesive layer 4 whose adhesion to the insulating support film 1 is relatively lower than that to the transparent hard substrate G due to treatment such as ultraviolet irradiation treatment, the patterning of the conductor layer 2 is performed. In this case, the laminate 3 can be reliably held on the transparent hard substrate G, and the laminate 3 can be easily separated from the transparent hard substrate G after patterning.

絶縁支持フィルム1としては、従来の銅張積層板の絶縁べースフィルムと同じものを使用することができ、好ましくはポリイミドフィルムである。その厚みにも特に制限はないが、通常50μm以下、好ましくは20〜25μmである。   As the insulating support film 1, the same insulating base film as a conventional copper-clad laminate can be used, and a polyimide film is preferable. Although there is no restriction | limiting in particular also in the thickness, Usually, it is 50 micrometers or less, Preferably it is 20-25 micrometers.

また、導体層2としては、電解銅箔、SUS304箔、SUS430箔、アルミニウム箔、ベリリウム箔、リン青銅箔等を挙げることができる。また、銅−ニッケル合金メッキ層等も挙げることができる。その厚みにも特に制限はないが、通常35μm以下、好ましくは8〜12μmである。   Examples of the conductor layer 2 include electrolytic copper foil, SUS304 foil, SUS430 foil, aluminum foil, beryllium foil, and phosphor bronze foil. Moreover, a copper-nickel alloy plating layer etc. can also be mentioned. Although there is no restriction | limiting in particular also in the thickness, Usually, 35 micrometers or less, Preferably it is 8-12 micrometers.

透明硬質基板Gの厚さとしては、薄すぎると外部応力により変形あるいは破壊しやすくなり、製造時の作業性が低下し、また厚すぎると重量が重くなり、製造設備に対する負荷が増加し、設備の安定性が低下するので、好ましくは1.0mm〜5.0mm、より好ましくは1.5〜2.5mmである。   If the thickness of the transparent hard substrate G is too thin, it is likely to be deformed or broken by external stress, and the workability at the time of manufacture is reduced. If it is too thick, the weight becomes heavy, increasing the load on the manufacturing equipment. Therefore, the thickness is preferably 1.0 mm to 5.0 mm, more preferably 1.5 to 2.5 mm.

透明硬質基板Gの厚さムラ(平坦度1−TTV法により測定した結果)が大きくなると、ファインパターンを露光する場合に、露光時の焦点が合わなくなり、パターン不良が発生するおそれがあるので、厚さムラを0.02mm以下に抑制することが望まれる。   If the thickness unevenness of the transparent hard substrate G (flatness 1-measured by the TTV method) becomes large, when exposing a fine pattern, the focus at the time of exposure may not be achieved, and pattern defects may occur. It is desired to suppress the thickness unevenness to 0.02 mm or less.

また、透明硬質基板Gの反り(平坦度2−LTV法により測定した結果)が大きくなると、後述する工程(b)の導体層2のパターニングの際の露光時に、透明硬質基板Gをバキュームチャックにより固定し難くなり、パターン不良が発生するおそれがあるので、好ましくは0.1mm以下に抑制することが好ましい。   Further, when the warpage of the transparent hard substrate G (result of measurement by flatness 2-LTV method) becomes large, the transparent hard substrate G is removed by a vacuum chuck at the time of patterning of the conductor layer 2 in step (b) described later. Since it becomes difficult to fix and a pattern defect may occur, it is preferably suppressed to 0.1 mm or less.

なお、透明硬質基板Gは、後述する工程(c)において粘着剤層4として、紫外線硬化型接着剤を硬化させるために、透明硬質基板G側から紫外線を照射したときに、紫外線硬化型粘着剤を十分に硬化させることができるように、紫外線透過性であることが好ましい。ここで、紫外線透過率は、低すぎると紫外線硬化型粘着剤4を硬化させるために照射時間を長くすることや照射量を増大させることをしなければならず、作業効率が著しく低下するので、少なくとも30%(250〜450nmの波長領域において紫外線分光光度計での測定結果)とすることが好ましい。   The transparent hard substrate G is an ultraviolet curable adhesive when irradiated with ultraviolet rays from the transparent hard substrate G side in order to cure the ultraviolet curable adhesive as the adhesive layer 4 in the step (c) described later. It is preferable to be UV transmissive so that can be sufficiently cured. Here, if the ultraviolet transmittance is too low, it is necessary to lengthen the irradiation time or increase the irradiation amount in order to cure the ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive 4, and the work efficiency is significantly reduced. It is preferably at least 30% (measurement result with an ultraviolet spectrophotometer in a wavelength region of 250 to 450 nm).

粘着剤層4の例としては、紫外線硬化型粘着剤層、熱硬化性粘着剤層等が挙げられるが、良好な熱的安定性を実現するという点で、紫外線硬化型粘着剤層が特に好ましい。   Examples of the pressure-sensitive adhesive layer 4 include an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer, a thermosetting pressure-sensitive adhesive layer, and the like, and an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer is particularly preferable in terms of realizing good thermal stability. .

このような紫外線硬化型粘着剤層としては、紫外線照射前にはある程度の接着強度があり、紫外線の照射により硬化してその粘着力が低下するものを使用する。この場合、透明硬質基板Gに対するよりも積層体3の絶縁支持フィルム1に対する接着力(ピール強度)が小さくなることが必要である。このような紫外線硬化型粘着剤層としては、紫外線照射前の初期ピール強度(JIS K6854)が3N/cm以上であり、紫外線照射後のピール強度が1N/cm以下となるような紫外線硬化型粘着剤を成膜したものを使用することが好ましい。具体的には、光ラジカル重合タイプのアクリル系紫外線硬化型粘着剤等を使用することができる。   As such an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer, a layer having a certain degree of adhesive strength before irradiation with ultraviolet rays and being cured by irradiation with ultraviolet rays to reduce its adhesive strength is used. In this case, it is necessary that the adhesive force (peel strength) of the laminate 3 to the insulating support film 1 is smaller than that of the transparent hard substrate G. As such an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer, an ultraviolet curable adhesive having an initial peel strength (JIS K6854) before ultraviolet irradiation of 3 N / cm or more and a peel strength after ultraviolet irradiation of 1 N / cm or less. It is preferable to use a film formed of an agent. Specifically, a photo radical polymerization type acrylic ultraviolet curable pressure sensitive adhesive or the like can be used.

工程(b)
次に、積層体3の導体層2を、例えば通常のフォトリソグラフ技術を利用してパターニングすることにより配線回路2aを形成する(図1(b))。具体的には、導体層2上に感光性レジストフィルムをその粘着力を利用して貼着し、パターニング用のマスクを介して露光し、現像して導体層2のエッチング用レジストパターンを形成した後に、導体層2をエッチングしてパターニングし、その後に感光性レジストパターンを除去することにより配線回路2aを形成する。
Step (b)
Next, the wiring layer 2a is formed by patterning the conductor layer 2 of the multilayer body 3 using, for example, a normal photolithography technique (FIG. 1B). Specifically, a photosensitive resist film was stuck on the conductor layer 2 using its adhesive force, exposed through a patterning mask, and developed to form an etching resist pattern for the conductor layer 2. Thereafter, the conductor layer 2 is etched and patterned, and then the photosensitive resist pattern is removed to form the wiring circuit 2a.

なお、配線回路2aを、積層体3の絶縁支持フィルム1上に一つだけ形成してもよいが、通常は複数個形成する。複数個の配線回路2aを形成した場合には、後述するように、抜き加工により個々のフレキシブル配線回路基板に分けられることになる。   Although only one wiring circuit 2a may be formed on the insulating support film 1 of the laminate 3, a plurality of wiring circuits 2a are usually formed. When a plurality of wiring circuits 2a are formed, as will be described later, the wiring circuits 2a are divided into individual flexible wiring circuit boards by punching.

工程(c)
次に、粘着剤層4の粘着力を低下させる(図1(c))。例えば、粘着剤層4として紫外線硬化型粘着剤層を使用した場合には、透明硬質基板G側から紫外線UVを照射し、紫外線硬化型粘着剤層を硬化させ、透明硬質基板Gに対するよりも絶縁支持フィルム1に対する密着強度が低下するように、その粘着力を低下させる(図1(c))。
Step (c)
Next, the adhesive strength of the adhesive layer 4 is reduced (FIG. 1C). For example, when an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer is used as the pressure-sensitive adhesive layer 4, the ultraviolet light UV is irradiated from the transparent hard substrate G side, the ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer is cured, and is insulated more than the transparent hard substrate G. The adhesive strength is lowered so that the adhesion strength to the support film 1 is lowered (FIG. 1 (c)).

なお、粘着剤層4の粘着力を低下させる他の手段としては、粘着剤層4の雰囲気温度を貼り付けた温度よりも低温にすることが挙げられる。これにより、粘着剤層4が硬くなり粘着力を低下させることができる。   In addition, as another means for reducing the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer 4, it is possible to set the atmosphere temperature of the pressure-sensitive adhesive layer 4 to be lower than the temperature at which the pressure-sensitive adhesive layer 4 is attached. Thereby, the adhesive layer 4 becomes hard and adhesive force can be reduced.

工程(d)
次に、配線回路2aが形成された積層体3を、硬化により粘着力の低下した粘着剤層4が透明硬質基板G側に残るように透明硬質基板Gから剥離する。これにより、フレキシブル配線回路基板10が得られる。
Step (d)
Next, the laminate 3 on which the wiring circuit 2a is formed is peeled from the transparent hard substrate G so that the adhesive layer 4 whose adhesive strength is reduced by curing remains on the transparent hard substrate G side. Thereby, the flexible printed circuit board 10 is obtained.

なお図1の態様では、単層の粘着剤層4で透明硬質基板Gと積層体3とを積層したが、図2に示すように、プラスチックフィルム5aの両面に、前述の粘着剤層4と同じ特性を示す粘着剤層5b(例えば、紫外線硬化型粘着剤層)が形成された両面粘着フィルム5を介在させて透明硬質基板Gと積層体3とを積層してもよい。この場合にも、最終的には積層体3の絶縁支持フィルム1と両面粘着フィルム5の粘着剤層5bと間で剥離することになる。   In the embodiment of FIG. 1, the transparent hard substrate G and the laminate 3 are laminated with a single adhesive layer 4. However, as shown in FIG. 2, the adhesive layer 4 and the adhesive layer 4 described above are formed on both surfaces of the plastic film 5 a. The transparent hard substrate G and the laminate 3 may be laminated with a double-sided adhesive film 5 on which an adhesive layer 5b (for example, an ultraviolet curable adhesive layer) having the same characteristics is formed. Even in this case, the insulating support film 1 of the laminate 3 and the pressure-sensitive adhesive layer 5b of the double-sided pressure-sensitive adhesive film 5 are finally peeled off.

プラスチックフィルム5aとしては、好ましくは厚さ50〜125μmのポリエステルフィルムを好ましく挙げられる。また、粘着剤層5bとしては、前述の粘着剤層4と同じ特性を示すものを好ましく挙げることができ、その厚みは好ましくは10〜30μmである。   A preferable example of the plastic film 5a is a polyester film having a thickness of 50 to 125 μm. Moreover, as an adhesive layer 5b, what shows the same characteristic as the above-mentioned adhesive layer 4 can be mentioned preferably, The thickness becomes like this. Preferably it is 10-30 micrometers.

ところで、一つの積層体3に対して複数の配線回路2aを形成した場合、それらを個々のフレキシブル配線回路基板に抜き加工することが必要となるが、その場合、透明硬質基板Gから剥がした複数の配線回路2aが形成された積層体3を金型抜き加工法で個々のフレキシブル配線回路基板に分離してもよいが、バリや変形が発生し難く、様々な打ち抜きパターンが容易に作成できるレーザーカッティング法を適用することが好ましい。   By the way, when a plurality of wiring circuits 2a are formed on one laminated body 3, it is necessary to punch them into individual flexible wiring circuit boards. The laminated body 3 on which the wiring circuit 2a is formed may be separated into individual flexible wiring circuit boards by a die-cutting method. However, it is difficult to generate burrs and deformation, and a laser that can easily create various punching patterns. It is preferable to apply a cutting method.

具体的には、工程(b)と工程(c)との間又は工程(c)と工程(d)との間に、以下の工程(e)を設けることが好ましい。   Specifically, it is preferable to provide the following step (e) between step (b) and step (c) or between step (c) and step (d).

工程(e)
図1(e)に示すように、配線回路2aが形成された積層体3に対し、切断用の公知の高出力のレーザー光Lを抜きパターンに従って照射することにより抜き加工を行う。使用するレーザー装置、レーザー照射条件としては、切断すべき材料に応じて公知のものの中から適宜決定することができる。
Step (e)
As shown in FIG. 1E, the laminate 3 on which the wiring circuit 2a is formed is punched by irradiating a known high-power laser beam L for cutting in accordance with the punching pattern. The laser device to be used and the laser irradiation conditions can be appropriately determined from known ones according to the material to be cut.

なお、工程(e)は、未硬化粘着剤による汚染防止の点から工程(c)と工程(d)との間に設けることがより好ましい。   In addition, it is more preferable that the step (e) is provided between the step (c) and the step (d) from the viewpoint of preventing contamination with the uncured adhesive.

また、図1の態様はサブトラクティブ法で導体層2のパターニングを行った例であるが、ビルトアップ法によりパターニングを行ってもよい。この場合も図1と同様に、以下に示す工程(a')〜工程(d')を経てフレキシブル配線回路基板を得ることができる。必要に応じて、更に工程(e')としてレーザーカッティング法を適用して抜き加工を行うこともできる。   Moreover, although the aspect of FIG. 1 is an example which patterned the conductor layer 2 by the subtractive method, you may pattern by the built-up method. Also in this case, a flexible printed circuit board can be obtained through steps (a ′) to (d ′) shown below as in FIG. If necessary, a blanking process can also be performed by applying a laser cutting method as the step (e ′).

工程(a')
図1で説明した工程(a)と同様に、絶縁支持フィルム1上に薄い導体層2が形成された積層体3を、その絶縁支持フィルム側1から透明硬質基板Gに公知の手法により形成された粘着剤層4で貼着させる(図3(a))。あるいは、絶縁支持フィルム1を透明硬質基板Gに粘着剤層4で貼着させた後、絶縁支持フィルム1の表面に無電解メッキ法により金属薄膜を薄い導体層2として形成してもよい(図3(a))。
Step (a ′)
Similar to the step (a) described with reference to FIG. 1, the laminate 3 having the thin conductor layer 2 formed on the insulating support film 1 is formed on the transparent hard substrate G from the insulating support film side 1 by a known method. The adhesive layer 4 is adhered (FIG. 3A). Alternatively, after the insulating support film 1 is adhered to the transparent hard substrate G with the adhesive layer 4, a metal thin film may be formed on the surface of the insulating support film 1 as a thin conductor layer 2 by electroless plating (see FIG. 3 (a)).

ここで、粘着剤層4は、透明硬質基板Gの片全面に形成することが好ましい。これにより、後述するメッキレジストパターンの透明硬質基板Gに対する密着性を向上させることができる。   Here, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is preferably formed on the entire surface of the transparent hard substrate G. Thereby, the adhesiveness with respect to the transparent hard board | substrate G of the plating resist pattern mentioned later can be improved.

工程(b')
図1で説明した工程(b)と同様に、積層体3の薄い導体層2にメッキレジストパターン6を形成し(図3(b1))、メッキ金属2'を析出させ(図3(b2))、メッキレジストパターン6を除去し(図3(b3))、ソフトエッチングすることにより配線回路パターン2aを形成する(図3(b4))。
Step (b ′)
Similar to the step (b) described in FIG. 1, a plating resist pattern 6 is formed on the thin conductor layer 2 of the multilayer body 3 (FIG. 3 (b1)), and a plating metal 2 ′ is deposited (FIG. 3 (b2)). The plating resist pattern 6 is removed (FIG. 3 (b3)), and the wiring circuit pattern 2a is formed by soft etching (FIG. 3 (b4)).

工程(c')
図1で説明した工程(c)と同様に、粘着剤層4の粘着力を低下させる(図3(c))。
Step (c ′)
Similar to the step (c) described in FIG. 1, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer 4 is reduced (FIG. 3 (c)).

工程(d')
図1で説明した工程(d)と同様に、配線回路2aが形成された積層体3を、粘着剤層4が透明硬質基板G側に残るように透明硬質基板Gから剥離する。これにより、フレキシブル配線回路基板10が得られる。
Step (d ′)
Similar to the step (d) described in FIG. 1, the laminate 3 on which the wiring circuit 2 a is formed is peeled from the transparent hard substrate G so that the adhesive layer 4 remains on the transparent hard substrate G side. Thereby, the flexible printed circuit board 10 is obtained.

必要に応じて、工程(b')と(c')との間又は工程(c')と(d')との間に、図1で説明した工程(e)と同様に、工程(e')としてレーザーカッティング法を適用して抜き加工を行うこともできる。   As necessary, between the steps (b ′) and (c ′) or between the steps (c ′) and (d ′), as in the step (e) described in FIG. 1, the step (e It is also possible to perform punching by applying the laser cutting method as').

次に、第2の本発明の製造方法を、図4を参照しながら工程毎に説明する。   Next, the manufacturing method of the second aspect of the present invention will be described step by step with reference to FIG.

工程(aa)
まず、透明硬質基板G上に、ポリイミド前駆体系粘着剤層41を介して導体層42を積層する(図4(a))。具体的には、ポリイミド前駆体系粘着剤を透明硬質基板Gに塗布し、乾燥することによりポリイミド前駆体系粘着剤層41を形成し、その上に銅箔などの導体層42を加圧ロールで貼着すればよい。
Step (aa)
First, the conductor layer 42 is laminated on the transparent hard substrate G via the polyimide precursor system pressure-sensitive adhesive layer 41 (FIG. 4A). Specifically, a polyimide precursor adhesive is applied to the transparent hard substrate G and dried to form a polyimide precursor adhesive layer 41, and a conductor layer 42 such as a copper foil is pasted thereon with a pressure roll. Just wear it.

ここで、ポリイミド前駆体系粘着剤層41は、例えば250℃〜350℃に加熱するというイミド化処理が施されることにより絶縁性のポリイミド支持フィルムとなる。このポリイミド支持フィルムは、導体層42の支持体として機能すると共に、導体層42に対するよりも透明硬質基板Gに対する接着力が低下する。これにより透明硬質基板Gとポリイミド支持フィルムとの界面で容易に剥離できるようになる。   Here, the polyimide precursor system pressure-sensitive adhesive layer 41 becomes an insulating polyimide support film by being subjected to an imidization treatment of heating to 250 ° C. to 350 ° C., for example. This polyimide support film functions as a support for the conductor layer 42 and has a lower adhesive force to the transparent hard substrate G than to the conductor layer 42. This makes it easy to peel off at the interface between the transparent hard substrate G and the polyimide support film.

ポリイミド前駆体系粘着剤層41は、前述したようにポリイミド前駆体系粘着剤を成膜したものである。このようなポリイミド前駆体系粘着剤としては、酸二無水物とジアミンとから得られるポリアミック酸類(特開昭60−157286号公報、特開昭60−243120号公報、特開昭63−239998号公報、特開平1−245586号公報、特開平3−123093号公報、特開平5−139027号公報参照)、過剰な酸二無水物とジアミンとから合成した末端が酸二無水物であるポリアミック酸プレポリマーとジイソシアネート化合物とから得られる一部イミド化したポリアミック酸類(ポリアミド樹脂ハンドブック,日刊工業新聞社発行(536頁,1988年);高分子討論集,47(6),1990参照)等を使用することができる。中でも、酸二無水物とジアミンとから得られるポリアミック酸類を好ましく使用することができる。   The polyimide precursor adhesive layer 41 is formed by forming a polyimide precursor adhesive as described above. Examples of such polyimide precursor adhesives include polyamic acids obtained from acid dianhydrides and diamines (Japanese Patent Laid-Open Nos. 60-157286, 60-243120, 63-239998). JP-A-1-245586, JP-A-3-123903, and JP-A-5-139027), a polyamic acid prepolymer synthesized from an excess of acid dianhydride and diamine and having a terminal acid dianhydride. Partially imidized polyamic acids obtained from polymers and diisocyanate compounds (polyamide resin handbook, published by Nikkan Kogyo Shimbun (page 536, 1988); polymer discussion, 47 (6), 1990) are used. be able to. Among these, polyamic acids obtained from acid dianhydride and diamine can be preferably used.

ここで、酸二無水物の例としては、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、3,4,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、3,4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(DSDA)が好ましく挙げられる。また、ジアミンの例としては、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DPE)、パラフェニレンジアミン(PDA)、4,4’−ジアミノベンズアニリド(DABA)、4,4’−ビス(p−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン(BAPS)が好ましく挙げられる。   Here, examples of the acid dianhydride include pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,4,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 3,4,3 ′, Preferable examples include 4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) and 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride (DSDA). Examples of diamines include 4,4′-diaminodiphenyl ether (DPE), paraphenylenediamine (PDA), 4,4′-diaminobenzanilide (DABA), and 4,4′-bis (p-aminophenoxy). Preferred is diphenyl sulfone (BAPS).

なお、透明硬質基板Gと導体層42については、図1に関し工程(a)で説明したとおりである。   The transparent hard substrate G and the conductor layer 42 are as described in the step (a) with respect to FIG.

工程(bb)
次に、導体層42を、図1で説明した工程(b)と同様にパターニングして配線回路42aを形成する(図4(b))。
Step (bb)
Next, the conductor layer 42 is patterned in the same manner as in the step (b) described with reference to FIG. 1 to form a wiring circuit 42a (FIG. 4B).

工程(cc)
ポリイミド前駆体系粘着剤層41をイミド化して絶縁性のポリイミド支持フィルム43とする(図4(c))。イミド化条件としては、使用するポリミド前駆体系粘着剤の種類に応じて適宜設定することができる。
Process (cc)
The polyimide precursor system pressure-sensitive adhesive layer 41 is imidized to form an insulating polyimide support film 43 (FIG. 4C). As imidation conditions, it can set suitably according to the kind of polyimide precursor system adhesive to be used.

なお、この工程(cc)は、工程(bb)と工程(dd)との間で実施してもよいが、工程(aa)と工程(bb)との間で実施してよい。   In addition, although this process (cc) may be implemented between a process (bb) and a process (dd), you may implement between a process (aa) and a process (bb).

工程(dd)
次に、配線回路42aが形成されたポリイミド支持フィルム43を透明硬質基板から剥離する(図4(d))。これにより、フレキシブル配線回路基板40が得られる。
Step (dd)
Next, the polyimide support film 43 on which the wiring circuit 42a is formed is peeled from the transparent hard substrate (FIG. 4D). Thereby, the flexible printed circuit board 40 is obtained.

必要に応じ、得られたフレキシブル配線回路基板40に対し金型抜き加工を施してもよいが、図1で説明した工程(e)と同様に、レーザーカッティング法により抜き加工を実施することが好ましい。   If necessary, the obtained flexible printed circuit board 40 may be subjected to die cutting, but it is preferable to carry out the punching by a laser cutting method as in the step (e) described in FIG. .

具体的には、工程(bb)と工程(cc)との間又は工程(cc)と工程(dd)との間に、以下の工程(ee)を受けることが好ましい。   Specifically, the following step (ee) is preferably performed between the step (bb) and the step (cc) or between the step (cc) and the step (dd).

工程(ee)
図1で説明した工程(e)と同様に、配線回路42aが形成されたポリイミド支持フィルム43に対し、切断用の公知の高出力のレーザー光Lを抜きパターンに従って照射することにより、抜き加工を行うことが好ましい。
Step (ee)
As in the step (e) described in FIG. 1, the polyimide support film 43 on which the wiring circuit 42a is formed is irradiated with a known high-power laser beam L for cutting according to the extraction pattern. Preferably it is done.

なお、工程(ee)は、粘着剤の飛散による汚染防止の点から工程(cc)と工程(dd)との間に設けることがより好ましい。   The step (ee) is more preferably provided between the step (cc) and the step (dd) from the viewpoint of preventing contamination due to the scattering of the adhesive.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples.

実施例1
紫外線透過率が98%の1mm厚のガラス基板の片面に、紫外線硬化型アクリル系粘着剤(固形分20%)を、乾燥厚が20〜30μm厚となるように塗布し、60℃、更に100℃の2段階で乾燥することにより紫外線硬化型粘着剤層を設けた。
Example 1
An ultraviolet curable acrylic pressure-sensitive adhesive (solid content: 20%) was applied to one side of a 1 mm-thick glass substrate having an ultraviolet transmittance of 98% so that the dry thickness was 20 to 30 μm, and 60 ° C. and 100 An ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer was provided by drying in two stages at C.

次に、銅張積層板(銅箔12μm厚/ポリイミド25μm厚)を、そのポリイミド面からガラス基板上の紫外線硬化型粘着剤層に、ゴムローラを使用して貼着し、その銅張積層板の銅箔を、過酸化水素と硫酸との混合液でソフトエッチングして、銅箔表面を清浄化した。   Next, a copper-clad laminate (copper foil 12 μm thickness / polyimide 25 μm thickness) was adhered to the UV curable adhesive layer on the glass substrate from the polyimide surface using a rubber roller, and the copper-clad laminate The copper foil was soft etched with a mixture of hydrogen peroxide and sulfuric acid to clean the copper foil surface.

次に、その銅箔表面に液状レジスト(PMER−P、東京応化工業社)をスピンコート法で塗布し、乾燥して厚さ7μmのエッチングレジスト層を形成し、そのエッチングレジスト層に対し、パターンマスクを介して露光し、使用した液状レジストの専用現像液(東京応化工業社)で現像し、更に塩化第二鉄水溶液で銅箔をエッチングすることにより、銅箔を配線回路に加工し、エッチングレジスト層を除去した後、ソルダーレジスト層を設け、パターン端子部に半田メッキを施した。   Next, a liquid resist (PMER-P, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied to the copper foil surface by a spin coat method, and dried to form an etching resist layer having a thickness of 7 μm. A pattern is formed on the etching resist layer. It is exposed through a mask, developed with a dedicated developer for the liquid resist used (Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.), and then etched into a wiring circuit by etching the copper foil with a ferric chloride aqueous solution. Etching After removing the resist layer, a solder resist layer was provided, and the pattern terminal portion was subjected to solder plating.

次に、ガラス基板側から紫外線を紫外線硬化型粘着剤層に、400mJのエネルギー量で照射することにより、紫外線硬化型粘着剤層を硬化させた。   Next, the ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer was cured by irradiating the ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer with an energy amount of 400 mJ from the glass substrate side.

最後に、ガラス基板上の硬化した紫外線硬化型粘着剤層と、銅張積層板のポリイミド面との間で剥離してフレキシブル配線回路基板を得た。この時の剥離力は0.2N/cmであり、製品がカールすることもなく、粘着剤がポリイミド面に転着することもなく、ガラス基板から容易に剥離することができた。   Finally, it peeled between the hardened ultraviolet curable adhesive layer on a glass substrate, and the polyimide surface of a copper clad laminated board, and obtained the flexible printed circuit board. The peeling force at this time was 0.2 N / cm, the product was not curled, the adhesive was not transferred to the polyimide surface, and could be easily peeled from the glass substrate.

実施例2
厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に、それぞれ15μm厚の紫外線硬化型アクリル系粘着剤層(D−203DF、リンテック社)を設けた両面粘着フィルムを用意し、それを、紫外線透過率が95%の2mm厚のガラス基板の片面に、80℃でゴムローラーを用いて貼着した。
Example 2
A double-sided pressure-sensitive adhesive film having a 15 μm-thick UV-curable acrylic pressure-sensitive adhesive layer (D-203DF, Lintec Co., Ltd.) on each side of a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film was prepared, and its UV transmittance was 95%. Was attached to one side of a 2 mm thick glass substrate at 80 ° C. using a rubber roller.

ガラス基板に貼着された両面粘着フィルム上に、25μm厚のポリイミドフィルムの片面に0.25μm厚のシード層(ニッケル−銅合金層)が設けられた積層体を、ポリイミドフィルム側からゴムローラーでラミネートした。   A laminated body in which a 25 μm-thick polyimide film is provided with a 0.25 μm-thick seed layer (nickel-copper alloy layer) on a double-sided pressure-sensitive adhesive film attached to a glass substrate with a rubber roller from the polyimide film side. Laminated.

次に、ガラス基板側から両面粘着フィルムに対して紫外線を400mJのエネルギー量で照射することにより、紫外線硬化型アクリル系粘着剤層を硬化させた。   Next, the ultraviolet curable acrylic pressure-sensitive adhesive layer was cured by irradiating the double-sided pressure-sensitive adhesive film with ultraviolet rays at an energy amount of 400 mJ from the glass substrate side.

次に、積層体のシード層表面に液状レジスト(PMER−P、東京応化工業社)をスピンコート法で塗布し、乾燥して厚さ8μmのメッキレジスト層を形成し、そのメッキレジスト層に対し、パターンマスクを介して露光し、使用した液状レジストの専用現像液(東京応化工業社)で現像してメッキレジストパターンを形成した後、電解銅メッキ処理してシート層上に7μm厚の銅を堆積させた。   Next, a liquid resist (PMER-P, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied to the surface of the seed layer of the laminate by a spin coat method, and dried to form a plating resist layer having a thickness of 8 μm. , Exposed through a pattern mask, developed with a dedicated liquid resist developer (Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) to form a plating resist pattern, and then subjected to electrolytic copper plating to form 7 μm thick copper on the sheet layer. Deposited.

次に、メッキレジストパターンを除去した後、過酸化水素と硫酸との混合液でソフトエッチングして、露出しているシード層を除去した。そしてソルダーレジスト層を設け、パターン端子部に半田メッキを施した。   Next, after removing the plating resist pattern, the exposed seed layer was removed by soft etching with a mixed solution of hydrogen peroxide and sulfuric acid. Then, a solder resist layer was provided, and the pattern terminal portion was subjected to solder plating.

最後に、ガラス基板上の両面粘着フィルムと積層体のポリイミドフィルムとの間で剥離してフレキシブル配線回路基板を得た。この時の剥離力は0.4N/cmであり、製品がカールすることもなく、粘着剤がポリイミド面に転着することもなかった。   Finally, it peeled between the double-sided adhesive film on a glass substrate, and the polyimide film of a laminated body, and the flexible wiring circuit board was obtained. The peeling force at this time was 0.4 N / cm, the product was not curled, and the adhesive was not transferred to the polyimide surface.

本発明のフレキシブル配線回路基板の製造方法は、平坦性に優れた透明硬質基板上で工程操作を実施するので、全工程を通じて平坦性が保持され、配線回路がファイン化しても、品質のバラツキがなく、歩留まりも飛躍的に向上する。特に、サブトラクティブ法によるパターニング形成でも安定したファイン化が可能となり、製品のインピーダンスコントロールが容易となる。また、キャリアフィルムを使用しないので、キャリアフィルムの使用に由来するゴミなどの異物付着によるパターン不良を無くすことができ、有用である。   In the method for manufacturing a flexible printed circuit board according to the present invention, process operations are performed on a transparent hard substrate having excellent flatness, so that flatness is maintained throughout the entire process, and even if the printed circuit is refined, there is a variation in quality. In addition, the yield is dramatically improved. In particular, even fine patterning by subtractive method enables stable refinement and facilitates product impedance control. Moreover, since no carrier film is used, pattern defects due to adhesion of foreign matters such as dust resulting from the use of the carrier film can be eliminated, which is useful.

また、透明硬質基材板上で枚葉式で製造できるので、非常にコンパクトな設備での製造が可能となる。従って、製造スペースや付帯設備スペースを小さくすることができ、電力、薬液、水等の省資源化が可能となり、リードタイムの短縮化も可能となる。更に、抜き加工をレーザーカッティング法で行うことができるので、金型抜き加工に伴う種々の問題を無くすことができ、有用である。   Moreover, since it can manufacture by a single wafer type on a transparent hard base plate, manufacture with a very compact installation is attained. Therefore, manufacturing space and incidental equipment space can be reduced, resources such as electric power, chemicals, and water can be saved, and lead time can be shortened. Furthermore, since the punching process can be performed by a laser cutting method, various problems associated with the die cutting process can be eliminated, which is useful.

本発明の製造方法の一実施態様の製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of one embodiment of the manufacturing method of this invention. 本発明の製造方法の付加的な工程図である。It is an additional process drawing of the manufacturing method of the present invention. 本発明の製造方法の別の実施態様の製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of another embodiment of the manufacturing method of this invention. 本発明の製造方法の別の実施態様の製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of another embodiment of the manufacturing method of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 絶縁支持フィルム
2、42 導体層
2a、42a 配線回路
3 積層体
4 粘着剤層
5 両面粘着フィルム
5a プラスチックフィルム
5b 粘着剤層
6 メッキレジストパターン
10、40 フレキシブル配線回路基板
41 ポリイミド前駆体系粘着剤層
43 ポリイミド支持フィルム
G 透明硬質基板
UV 紫外線
L レーザー光
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulation support film 2, 42 Conductor layer 2a, 42a Wiring circuit 3 Laminate 4 Adhesive layer 5 Double-sided adhesive film 5a Plastic film 5b Adhesive layer 6 Plating resist pattern 10, 40 Flexible wiring circuit board 41 Polyimide precursor system adhesive layer 43 Polyimide support film G Transparent hard substrate UV UV L Laser light

Claims (1)

絶縁性のポリイミド支持フィルム上に配線回路が形成されたフレキシブル配線回路基板の製造方法であって、以下の工程(aa)〜(ee):
(aa)厚さが1.0mm〜5.0mmであり、TTV法による厚さムラが0.02mm以下であり、LTV法による反りが0.1mm以下である透明硬質基板をバキュームチャックで固定し、バキュームチャックで固定されたその透明硬質基板上に、ポリイミド前駆体系粘着剤層を介して導体層を積層する工程;
(bb)工程(aa)に引き続き、該導体層をパターニングして配線回路を形成する工程;
(cc)工程(bb)に引き続き、該ポリイミド前駆体系粘着剤層をイミド化して絶縁性のポリイミド支持フィルムとし、それによりそのポリイミド支持フィルムの透明硬質基板に対する接着力を配線回路に対する接着力よりも低下させる工程;
(ee)工程(cc)に引き続き、配線回路が形成されたポリイミド支持フィルムに対し、レーザーカッティング法により抜き加工を行う工程; 及び
(dd)工程(ee)に引き続き、配線回路が形成されたポリイミド支持フィルムを透明硬質基板から剥離する工程
を有する製造方法。
A method for manufacturing a flexible printed circuit board in which a wiring circuit is formed on an insulating polyimide support film, the following steps (aa) to ( ee ):
( Aa ) A transparent hard substrate having a thickness of 1.0 mm to 5.0 mm, a thickness unevenness by the TTV method of 0.02 mm or less, and a warp by the LTV method of 0.1 mm or less is fixed with a vacuum chuck. A step of laminating a conductor layer on the transparent hard substrate fixed by a vacuum chuck with a polyimide precursor adhesive layer;
(Bb) Following the step (aa), a step of patterning the conductor layer to form a wiring circuit;
(Cc) Subsequent to step (bb), the polyimide precursor system pressure-sensitive adhesive layer is imidized to form an insulating polyimide support film , whereby the adhesive strength of the polyimide support film to the transparent hard substrate is determined from the adhesive strength to the wiring circuit. Also reducing the process;
(Ee) Subsequent to the step (cc), a step of punching the polyimide support film on which the wiring circuit is formed by a laser cutting method ; and (dd) a polyimide on which the wiring circuit is formed following the step (ee). Concrete methods made that have a step of peeling off the support film from the transparent hard substrate.
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