KR20050055079A

KR20050055079A - 나노유체 직접제조장치

Info

Publication number: KR20050055079A
Application number: KR1020030087684A
Authority: KR
Inventors: 최순림
Original assignee: 최순림
Priority date: 2003-12-04
Filing date: 2003-12-04
Publication date: 2005-06-13

Abstract

본 고안은 고체상태의 재료를 가열, 증발시켜 생성된 나노크기의 입자를 유체에 직접 분산시킴으로써 나노미터 크기를 갖는 입자의 콜로이드성 용액인 나노유체를 직접 제조하는 장치에 관한 것으로서, 내측에 설치된 가열장치와 이 가열장치 주변을 감싸는 다수의 분위기가스 통과홀이 천공되고 분위기 가스이동통로가 구비된 세라믹 내벽이 포함되고, 이 세라믹 외벽을 냉각시키기 위하여 냉각수 통로가 구비된 상부 반응로와 기화된 나노결정상의 입자를 반응로 후단에 배치된 다수의 노즐을 통해 분사되는 유체로 포집/분산되도록 하며 이 유체의 증기압 및 온도를 제어하기 위하여 냉각부가 설치된 몸체와 이 나노유체를 필요한 농도에 도달할 때까지 분사노즐까지 순환시키기 위해 장치된 순환회로로 구성된 된 것이다.

Description

나노유체 직접제조장치{Nanofluids one-step manufacturing equipment}

본 발명은 나노 물질의 제조방법 중에서 나노콜로이드 용액의 직접 제조장치에 관한 것이다. 종래에는 나노 콜로이드 용액을 만들기 위하여 화학적 방법을 사용할 경우 직접 콜로이드 용액의 제조가 가능하나 개개입자의 응집현상이 강하고 입자형상이 다소 불규칙한 단점이 있고, 물리적 방법으로는 기상반응으로 나노 분말을 만든 후 콜로이드 용액을 제조할 경우 산화가 쉽게 일어날 소지가 있었다. 미국의 Argonne National Laboratory의 Stephen U.S. Choi 등은 위의 물리적 방법에서 산화 방지를 위하여 용매를 담은 용기를 회전시켜 이 때 발생하는 원심력으로 내부에 빈 공간을 만들고, 이 공간에 저항가열장치를 설치하여 원하는 재료를 가열 기화시켜 생성된 나노입자를 회전하는 용매에 흡수될 수 있도록 한 단계의 공정만을 사용해서 나노유체를 제조하는 방법 및 장치를 고안하였다(미국 특허 번호 US 6,221,275B1참조). 하지만 이 장치는 대량의 나노 콜로이드 제조가 어려울 뿐 아니라 장치 구성의 어려움 등이 있다.

본 고안의 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해소하기 위하여 저항가열, 고주파 가열, 플라즈마 가열 등의 방법을 사용하여 고체상태의 원 재료를 진공화 된 용기내에서 불활성 가스 분위기 하에서 나노 크기의 입자로 기화시킨 다음 용매를 분사시켜 바로 콜로이드 용액을 제조함으로써, 물리적 방법중의 하나인 증발법을 통한 분말제조 후 용매에 분산시켜 콜로이드 용액을 제조하는 방법과 화학적 방법의 단점을 보완할 수 있도록 하며, 나노 입자가 용매에 분산이 보다 용이하도록 하여 고 품질의 나노 유체를 제공코자 함을 그 목적으로 하는 것이다

이러한 목적 달성을 위하여 본 발명을 첨부도면에 의거 상세히 설명하면 다음과 같다.

도1은 본 발명의 전체 정면도,

도2는 도1의 A-A 선을 따라 취한 단면도

도3은 도1의 B-B 선을 따라 단면도로서

도1, 도2, 도3에 도시된 바와 같이

반응로(101)측면에 장착된 재료 투입관(112)으로 투입되는 고체상태의 재료는 반응로 내부에 위치한 가열장치부(111)를 통하여 고체상태의 재료를 가열기화시켜 나노크기의 입자를 생성시켜 줄 수 있도록 하며, 이 가열장치부의 외부에 가스통과홀(121)이 천공된 세라믹 내벽(113)과 그 외부에 불활성 가스 이동 통로(114)가 구비되고, 여기에 연결된 가스공급구(116)를 통하여 공급된 불활성가스가 가스이동통로 및 경사지게 천공된 가스통과홀(121)을 통하여 나선형 와류를 형성하면서 나노입자의 산화를 방지하도록 고안되었으며, 가스이동통로 외벽에 냉각수유입구(117) 및 냉각수유출구(118)가 구비된 냉각수 통로(115)가 구성되어 반응로를 냉각하도록 하였다.

반응로(101) 후단에 위치한 다수의 분사 노즐(201)을 통하여 유체가 분사되어 나노 결정상의 입자와 혼합되도록 하였고, 이 혼합된 나노 유체가 몸체(333)에 저장되도록 하고 몸체 내부에 나노입자의 산화를 방지하기 위하여 마그네슘등 산화성이 강한 재료를 사용한 내벽(331)이 설치되고 또한 초기 진공상태를 생성하기 위한 진공펌프와 연결된 진공배기구(334) 및 불활성가스배기구(335)가 설치되고 나노유체의 투입과 배출을 위한 유체 투입구(336)와 유체 배출구(337)가 구비되었다.

몸체 내부에 저장된 나노유체를 냉각장치(332)을 통하여 상승된 온도를 냉각시키며, 이 냉각된 나노유체를 펌프(211)가 상부저장탱크(204)까지 이송하며, 상부저장탱크(204)와 분사노즐(201) 사이에는 나노유체를 가압시켜 보내주기 위하여 솔레노이드 밸브의 제어로 간헐적이고 가변적 유량제어가 가능한 유량공급장치(203)가 설치되어 나노유체의 순환을 가능케 하며, 필요에 따라 계속적인 순환을 통하여 나노 유체의 농도를 맞추어 줄 수 있도록 발명되었다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 나노유체 직접 제조 장치를 사용하면 제조된 나노 입자의 산화를 크게 줄여 콜로이드 용액의 품질을 향상시킬 수 있고, 나노분말을 제조후 용매에 섞는 이중의 공정을 거치지 않고 나노입자를 함유한 콜로이드 용액을 직접 제조할 수 있게 됨으로써 제조비용을 절감시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.

제1도는 본 고안의 전체 정면도

제2도는 도1의 A-A 선을 따라 취한 단면도

제3도는 도1의 B-B 선을 따라 단면도

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

101; 반응로

111; 가열장치부

121; 가스통과홀

113; 세라믹 내벽

201; 분사 노즐

333; 몸체

332; 냉각장치

204; 상부저장탱크

203; 유량공급장치

Claims

고체상태의 재료를 반응로(101)내측에 장착된 가열장치부(111)를 통하여 가열 기화시켜 생성된 나노입자를 용매인 유체를 반응로(101) 후단에 다수의 분사 노즐(201)을 통하여 분사시켜 기화된 나노입자를 유체가 포집 분산되도록 하며, 이 나노입자와 유체가 혼합된 나노유체를 저장되는 몸체(333)와 이 저장된 나노유체를 순환시켜주는 순환장치로 구성됨을 특징으로 하는 나노입자를 함유한 콜로이드 용액을 직접 제조 가능토록 함을 특징으로하는 나노유체 직접 제조 장치
몸체(333)는 진공배기구(334) 및 불활성가스배기구(335)가 설치되고 유체 투입구(336)와 유체 배출구(337)가 구비되며 또한 마그네슘등 산화성이 강한 재료를 사용한 내벽(331)이 설치되고 또한 몸체 내부에 저장되는 나노유체를 냉각시키기 위한 냉각장치(332)가 구비됨을 특징으로 하는 나노유체 직접 제조장치
순환장치는 몸체(333)에 저장된 유체를 분사노즐(201)까지 공급하여 재 분사시키기 위한 순환장치로서 상부저장탱크(204)까지 유체를 공급하기 위한 펌프(211), 상부저장탱크(204), 분사노즐(201)에 유체를 가압시켜 보내주기 위한 솔레노이드 밸브의 제어로 간헐적이고 가변적 유량제어가 가능한 유량공급장치(203)가 순차적으로 구성됨을 특징으로 하는 나노유체 직접 제조장치