KR20050039081A - Pod and smif system with the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 웨이퍼를 외부 환경과 격리시킨 상태에서 보관 및 운반하는 파드 및 이를 구비하는 SMIF 시스템에 관한 것으로, 본 발명의 SMIF 시스템은, 웨이퍼 또는 웨이퍼 카세트를 안착하는 파드 플레이트와, 상기 파드 플레이트와 조립되며 웨이퍼 카세트를 덮는 하우징과, 상기 하우징 내부에 설치되며 파드 내부 공기의 오염 여부를 감지하는 리트머스지를 포함하는 파드; 상기 파드 플레이트가 안착되는 포트 플레이트와, 상기 파드 플레이트가 포트 플레이트의 정위치에 배치되어 있는가를 감지하는 센서부와, 상기 파드 플레이트를 하우징과 선택적으로 결합 및 분리하기 위한 결합부를 포함하는 포트; 및, 상기 파드 플레이트와 하우징이 분리된 후 상기 파드 플레이트를 이동시켜 웨이퍼 이송이 가능하게 하는 구동부;를 포함한다.The present invention relates to a pod for storing and transporting a wafer in a state in which the wafer is isolated from an external environment, and an SMIF system including the pod. And a pad including a housing covering the wafer cassette and litmus paper installed inside the housing to detect contamination of air in the pod; A port including a port plate on which the pod plate is seated, a sensor unit for detecting whether the pod plate is disposed at a proper position of the port plate, and a coupling unit for selectively coupling and separating the pod plate from the housing; And a driving unit which enables wafer transfer by moving the pod plate after the pod plate and the housing are separated.
Description
본 발명은 웨이퍼를 외부 환경과 격리시킨 상태에서 보관 및 운반하는 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 오염 여부를 용이하게 파악할 수 있는 파드(POD) 및 이를 구비하는 SMIF 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a system for storing and transporting a wafer in an isolated state from an external environment, and more particularly, to a pod (POD) capable of easily grasping a contamination and a SMIF system having the same.
SMIF 시스템(Standard Mechanical Interface System)은 반도체 제조 공정을 수행하는 반도체 장비의 주변 장치로서, 반도체 웨이퍼 또는 이 웨이퍼가 저장된 카세트를 단위 공정을 수행하기 위한 반도체 장비에 로딩하거나 언로딩하는데 이용된다.SMIF (Standard Mechanical Interface System) is a peripheral device of a semiconductor device that performs a semiconductor manufacturing process, and is used to load or unload a semiconductor wafer or a cassette in which the wafer is stored into a semiconductor device for performing a unit process.
이러한 SMIF 시스템은 도 1에 도시한 바와 같이 웨이퍼 카세트(C)를 수납하기 위한 파드(POD)(110)와, 상기 파드(110)를 저장하거나 인출하기 위한 포트(PORT)(120)를 포함한다.The SMIF system includes a pod (POD) 110 for accommodating the wafer cassette C as shown in FIG. 1, and a port 120 for storing or withdrawing the pod 110. .
상기 파드(110)는 웨이퍼 카세트(C)가 안착되는 파드 플레이트(112)와, 상기 파드 플레이트(112)와 조립되며 웨이퍼 카세트(C)를 덮는 하우징(114)을 포함하며, 파드 플레이트(112)에는 파드(110) 내부에 공기 등의 주입을 방지하기 위한 밀봉재(116)가 마련된다. 이때, 상기 밀봉재(116)는 파드 플레이트(112)의 각 측면을 따라 대략 사각형상으로 배치되어 하우징(114)이 파드 플레이트(112)와 선택적으로 체결될 때 하우징(114)과 파드 플레이트(112) 사이의 간격을 밀봉하는 역할을 한다.The pod 110 includes a pod plate 112 on which the wafer cassette C is seated, a housing 114 assembled with the pod plate 112 and covering the wafer cassette C, and the pod plate 112. In the pod 110, a sealing material 116 is provided to prevent injection of air or the like. In this case, the sealing material 116 is disposed in a substantially rectangular shape along each side of the pod plate 112 so that the housing 114 and the pod plate 112 when the housing 114 is selectively fastened to the pod plate 112. It serves to seal the gap between.
그리고, 파드(110)를 저장하거나 인출하기 위한 포트(120)는 파드 플레이트(112)가 안착되는 포트 플레이트(122)를 포함하며, 포트 플레이트(122)에는 파드 위치 결정핀(124), 파드 센서(126) 및 래치 핀(128)을 포함한다.In addition, the port 120 for storing or withdrawing the pod 110 includes a port plate 122 on which the pod plate 112 is seated, and the port plate 122 has a pod positioning pin 124 and a pod sensor. 126 and latch pin 128.
상기 파드 위치 결정핀(124)은 파드 도어(122')의 하면에 형성된 삽입홀(미도시함)에 각각 삽입됨으로써 파드(110)를 소망하는 정위치에 배치시키는 역할을 하고, 파드 센서(126)는 파드(110) 유무를 감지하는 역할을 한다. 그리고, 래치 핀(128)은 파드 플레이트(112)의 하면에 구비된 회전판에 형성된 걸림홈과 선택적으로 체결되어 파드 플레이트(112)에 제공된 후크가 하우징(114)의 후크홈으로부터 선택적으로 결합되도록 함으로써 파드 플레이트(112)를 하우징(114)에 결합 및 분리하는 역할을 한다.The pod positioning pins 124 are respectively inserted into insertion holes (not shown) formed on the bottom surface of the pod door 122 ′, thereby placing the pod 110 at a desired position, and the pod sensor 126. ) Serves to detect the presence of the pod (110). In addition, the latch pin 128 is selectively engaged with the engaging groove formed in the rotating plate provided on the lower surface of the pod plate 112 so that the hook provided on the pod plate 112 is selectively coupled from the hook groove of the housing 114. The pod plate 112 serves to couple and detach the housing 114.
이러한 구성의 SMIF 시스템은 상기 파드 플레이트(112)와 하우징(114)이 분리된 후 도시하지 않은 구동부에 의해 파드 플레이트(112)를 하측으로 이동시킴으로써 아암에 의한 웨이퍼 이송이 가능하게 한다.The SMIF system having such a configuration enables wafer transfer by the arm by moving the pod plate 112 downward by a driver not shown after the pod plate 112 and the housing 114 are separated.
상기한 구성의 SMIF 시스템에 있어서, 웨이퍼(W)를 생산 공정에 투입할 때에는 통상적으로 정해진 파드(110)를 계속적으로 사용하는 경우가 대부분이며, 그 사용 주기는 대략 2개월 정도의 기간에 해당한다.In the SMIF system having the above-described configuration, when the wafer W is introduced into the production process, the pod 110 is usually used continuously, and the use cycle corresponds to a period of about two months. .
따라서, 상기 파드(110)의 내부가 산성의 케미컬 가스 등의 오염 요인으로 인해 오염되는 경우가 발생하는데, 종래에는 상기 파드(110) 내부의 오염 여부를 확인할 수 있는 방법이 없으므로, 오염된 파드 사용으로 인한 수율 저하의 문제점이 있었다.Therefore, the inside of the pod 110 may be contaminated due to a pollution factor such as an acidic chemical gas. In the related art, since there is no method of checking whether the pod 110 is contaminated, the contaminated pod is used. There was a problem of a decrease in yield.
이에 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명은 오염 여부를 용이하게 확인할 수 있는 웨이퍼 보관 및 운반용 파드를 제공함을 목적으로 한다.Accordingly, the present invention is to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a pod for wafer storage and transport that can easily determine whether the contamination.
본 발명의 다른 목적은 오염 여부를 용이하게 확인할 수 있는 파드를 구비하는 SMIF 시스템을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a SMIF system having a pod that can easily check whether there is contamination.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,The present invention to achieve the above object,
웨이퍼 또는 웨이퍼 카세트를 안착하는 파드 플레이트;A pod plate for seating a wafer or wafer cassette;
상기 파드 플레이트와 조립되며 웨이퍼 카세트를 덮는 하우징; 및,A housing assembled with the pod plate and covering a wafer cassette; And,
상기 하우징 내부에 설치되며, 내부 공기의 오염 여부를 감지하는 감지부;A detection unit installed inside the housing and detecting whether the internal air is polluted;
를 포함하는 파드를 제공한다.Provides a pod comprising a.
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 감지부는 내부 공기의 오염 정도에 따라 색상이 변하는 리트머스지로 이루어진다.According to a preferred embodiment of the present invention, the detection unit is made of litmus paper that changes color depending on the degree of contamination of the internal air.
그리고, 상기한 파드를 구비하는 SMIF 시스템은,And the SMIF system provided with the above-mentioned pod,
상기 파드 플레이트가 안착되는 포트 플레이트와, 상기 파드 플레이트가 포트 플레이트의 정위치에 배치되어 있는가를 감지하는 센서부와, 상기 파드 플레이트를 하우징과 선택적으로 결합 및 분리하기 위한 결합부를 포함하는 포트; 및,A port including a port plate on which the pod plate is seated, a sensor unit for detecting whether the pod plate is disposed at a proper position of the port plate, and a coupling unit for selectively coupling and separating the pod plate from the housing; And,
상기 파드 플레이트와 하우징이 분리된 후 상기 하우징 또는 파드 플레이트를 이동시켜 웨이퍼 이송이 가능하게 하는 구동부;A driving unit which enables wafer transfer by moving the housing or the pod plate after the pod plate and the housing are separated;
를 포함한다.It includes.
여기에서, 상기 구동부가 파드 플레이트를 이동시키는 경우에는, 상기 포트 플레이트와 분리되어 웨이퍼 카세트를 웨이퍼 이송 위치로 하향 이동하는 포트 도어를 더욱 포함할 수 있으며, 이 경우, 상기 포트 도어를 하향 이동시키는 구동부는 포트 도어의 하측에 결합된 이송부재와, 이송부재에 나사 결합되어 상기 이송부재를 수직방향으로 이송시키는 선형기어와, 선형기어와 연결되어 선형기어를 회전시키는 모터를 포함하여 구성할 수 있다.Here, when the driving unit moves the pod plate, it may further include a port door which is separated from the port plate to move the wafer cassette downward to the wafer transfer position, in this case, the driving unit for moving the port door downward It may be configured to include a transfer member coupled to the lower side of the port door, a linear gear screwed to the transfer member to transfer the transfer member in the vertical direction, and a motor connected to the linear gear to rotate the linear gear.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 파드를 구비하는 SMIF 시스템의 개략적인 구성을 나타내는 투영 사시도를 도시한 것이다.2 is a perspective view showing a schematic configuration of a SMIF system having a pod according to an embodiment of the present invention.
도시한 바와 같이, 본 실시예의 SMIF 시스템은 웨이퍼 카세트(C)를 수납하기 위한 파드(10)와, 파드(10)에 웨이퍼 카세트(C)를 저장하거나 인출하기 위한 포트 도어(22')를 구비한 포트(20)와, 포트(20)의 내측에 마련되며 상기 포트 도어(22')와 결합되어 웨이퍼 카세트(C)를 수직방향으로 이동시키는 구동부(30)를 포함한다.As shown, the SMIF system of this embodiment has a pod 10 for accommodating the wafer cassette C and a port door 22 'for storing or withdrawing the wafer cassette C in the pod 10. As shown in FIG. One port 20 and a driving unit 30 provided inside the port 20 and coupled to the port door 22 ′ to move the wafer cassette C in the vertical direction.
파드(10)는 웨이퍼 카세트(C)가 안착되는 파드 플레이트(12)와, 파드 플레이트(12)에 안착된 웨이퍼 카세트(C)를 덮는 하우징(14)을 포함한다. 이러한 구성의 파드(10) 내부는 진공 상태를 유지하는 것이 바람직하므로, 파드 플레이트(12)에는 파드(10)의 내부에 공기 등의 주입을 방지하기 위한 밀봉재(16)가 마련된다.The pod 10 includes a pod plate 12 on which the wafer cassette C is seated, and a housing 14 covering the wafer cassette C seated on the pod plate 12. Since the inside of the pod 10 having such a structure is preferably maintained in a vacuum state, the pod plate 12 is provided with a sealing material 16 for preventing injection of air or the like into the pod 10.
그리고, 상기 파드 플레이트(12)의 외측면 둘레에는 도시하지 않은 다수의 후크를 마련하고, 이에 상응하는 하우징(14)의 내측면에는 다수의 후크홈을 마련하여 파드 플레이트(12)와 하우징(14)을 결합 또는 분리할 수 있다. 또한, 도시하지는 않았지만, 파드 플레이트(12)의 하면에 후크와 연동하는 회전판을 마련하고, 여기에 한쌍의 걸림홈을 형성하여 이 걸림홈이 포트 도어(22')의 래치 핀(22a)과 체결되는 것에 의해 후크를 작동시키도록 구성할 수 있다.In addition, a plurality of hooks (not shown) are provided around the outer surface of the pod plate 12, and a plurality of hook grooves are provided on the inner surface of the housing 14 corresponding to the pod plate 12 and the housing 14. ) Can be combined or separated. In addition, although not shown, a lower plate of the pod plate 12 is provided with a rotating plate interlocking with the hook, and a pair of locking grooves are formed therein, and the locking groove is engaged with the latch pin 22a of the port door 22 '. Can be configured to actuate the hook.
이때, 상기 파드(10)는 내부 공기의 오염 여부를 확인할 수 있도록 하기 위한 감지부를 구비하는데, 본 실시예에서는 상기 감지부가 상기 하우징(14)의 내측면에 설치되는 리트머스지(40)로 구성된다.At this time, the pod 10 is provided with a sensing unit for checking whether the internal air is contaminated, in this embodiment, the sensing unit is composed of litmus paper 40 is installed on the inner surface of the housing 14. .
물론, 파드(10) 내부의 오염 여부를 확인할 수 있는 디지털 측정기 등의 다른 감지부를 사용하는 것도 가능하다. 상기한 디지털 측정기를 사용하는 경우에는 오염 정도를 정확한 양으로 확인할 수 있는 장점이 있다.Of course, it is also possible to use other sensing units such as a digital measuring device that can check whether the pod 10 is contaminated. In the case of using the digital measuring device, there is an advantage in that the degree of contamination can be checked in an accurate amount.
상기 리트머스지(40)는 지의류(地衣類)에서 얻은 용액을 여과지에 침투시켜 건조한 시험지로서, 파드(10) 내부의 공기가 산성 등의 성질을 갖는 케미칼 용액에 의해 오염된 경우 색상이 변하게 된다.The litmus paper 40 is a test paper dried by infiltrating the solution obtained from lichens into the filter paper, and the color changes when the air inside the pod 10 is contaminated by a chemical solution having an acidic property.
따라서, 투명한 재질의 하우징(14)을 통해 외부에서 상기 파드(10) 내부의 오염 여부를 용이하게 확인할 수 있다.Therefore, it is easy to check whether the pod 10 is contaminated from the outside through the housing 14 made of a transparent material.
한편, 상기 포트(20)는 포트 도어(22')와 포트 플레이트(22)를 포함한다. 포트 플레이트(22)는 포트(20)상에 파드(10)를 위치시킬 때 파드(10)의 하면을 수평으로 유지시키는 작용을 하는 것으로, 포트 플레이트(22)에는 포트(20)상의 소망하는 정위치에 파드(10)를 안내하는 가이드 레일(24)이 구비된다.Meanwhile, the port 20 includes a port door 22 ′ and a port plate 22. The port plate 22 acts to keep the lower surface of the pod 10 horizontally when placing the pod 10 on the port 20, and the port plate 22 has a desired crystal on the port 20. Guide rails 24 are provided to guide the pods 10 in position.
포트 도어(22')는 구동부(30)에 의해 화살표로 도시한 수직방향으로 이동되어 파드 플레이트(12)상의 웨이퍼 카세트(C)를 운반하는 역할을 하며, 포트 도어(22')에 설치되는 위치 결정핀(26)은 파드 플레이트(12)의 하면에 형성된 삽입홀(미도시함)에 각각 삽입되어 파드(10)를 소망하는 정위치에 배치시키는 역할을 하고, 파드 센서(28)는 파드(10) 유무를 감지하는 역할을 한다.The port door 22 'is moved in the vertical direction indicated by the arrow by the drive unit 30 to transport the wafer cassette C on the pod plate 12, and is installed in the port door 22'. Determination pins 26 are respectively inserted into insertion holes (not shown) formed in the lower surface of the pod plate 12 serves to place the pod 10 in the desired position, the pod sensor 28 is a pod ( 10) It detects the presence or absence.
그리고, 구동부(30)는 이송부재(32)와, 선형 기어(34)와, 모터(36)를 포함하고 있다. 이송부재(32)는 포트 도어(22')의 하측에 결합되며, 이송부재(32)의 일단에는 포트(20)의 내측 일측에 수직으로 설치된 선형 기어(34)가 나사 결합되고, 선형 기어(34)는 그 끝단에 축결합된 풀리(38)에 벨트(38')로 모터(36)와 연결된다.The drive unit 30 includes a transfer member 32, a linear gear 34, and a motor 36. The conveying member 32 is coupled to the lower side of the port door 22 ', and one end of the conveying member 32 is screwed with a linear gear 34 installed vertically on one inner side of the port 20, and the linear gear ( 34 is connected to the motor 36 by a belt 38 'to a pulley 38 axially coupled at its end.
따라서, 모터(36)의 회전에 의해 선형 기어(34)가 회전되면 포트 도어(22')와 결합된 이송부재(32)가 수직방향으로 이동하게 된다.Therefore, when the linear gear 34 is rotated by the rotation of the motor 36, the transfer member 32 coupled with the port door 22 ′ moves in the vertical direction.
이러한 구성의 SMIF 시스템에 의하면, 상기 파드의 하우징 내부에 리트머스지가 설치되어 있으므로, 파드 내부 공기의 오염 여부를 확인할 수 있다.According to the SMIF system having such a configuration, since litmus paper is installed in the housing of the pod, it is possible to check whether the air in the pod is contaminated.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 설명하였지만 본원 발명은 상기한 실시예에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. In addition, it is natural that it belongs to the scope of the present invention.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 실시예에 의하면, 웨이퍼 제조시에 사용하는 여러 종류의 케미컬 가스로 인해 파드 내부의 공기가 오염된 경우, 이를 용이하게 확인할 수 있으므로, 오염된 파드 사용으로 인한 웨이퍼 수율 저하를 효과적으로 방지할 수 있는 장점이 있다.According to the embodiment of the present invention as described above, when the air inside the pod is contaminated by various types of chemical gases used in the wafer manufacturing, it can be easily confirmed, the wafer yield due to the use of contaminated pod There is an advantage that can effectively prevent degradation.
도 1은 종래 기술에 따른 파드를 구비하는 SMIF 시스템의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이고,1 is a perspective view showing a schematic configuration of a SMIF system having a pod according to the prior art,
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 파드를 구비하는 SMIF 시스템의 개략적인 구성을 나타내는 투영 사시도이다.2 is a perspective view showing a schematic configuration of a SMIF system having a pod according to an embodiment of the present invention.
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020030074443A KR20050039081A (en) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | Pod and smif system with the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020030074443A KR20050039081A (en) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | Pod and smif system with the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20050039081A true KR20050039081A (en) | 2005-04-29 |
Family
ID=37241361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020030074443A KR20050039081A (en) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | Pod and smif system with the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20050039081A (en) |
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| KR100807598B1 (en) * | 2006-08-18 | 2008-02-28 | (주)인터노바 | An Indexer For POD |
| CN115132629A (en) * | 2022-06-16 | 2022-09-30 | 乐孜芯创半导体设备(上海)有限公司 | Multi-size compatible closed substrate box loading port |
| CN116659593A (en) * | 2023-08-01 | 2023-08-29 | 浙江果纳半导体技术有限公司 | Wafer storage detection method |
-
2003
- 2003-10-23 KR KR1020030074443A patent/KR20050039081A/en not_active Application Discontinuation
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