KR20050039042A - Method for surface modification of silicon carbide and silicon carbide resulted therefrom - Google Patents

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KR20050039042A
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Abstract

본 발명은 내열부품, 내마모부품 및 반도체 제조 장비용 부품 등으로 사용되는 탄화규소의 표면개질 방법 및 표면개질된 탄화규소에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 표면 개질을 통하여 강도, 내열 충격 특성, 내마모성이 향상되도록 하는 탄화규소의 공기중 표면개질 방법 및 이에 의하여 표면개질된 탄화규소에 관한 것이다.The present invention relates to a method for surface modification of silicon carbide and surface-modified silicon carbide used as heat-resistant parts, wear-resistant parts and components for semiconductor manufacturing equipment, and more particularly, through the surface modification, strength, thermal shock characteristics, wear resistance A method for surface modification of silicon carbide in the air and thereby surface modified silicon carbide to be improved.

본 발명의 탄화규소 표면개질 방법은 Silicon carbide surface modification method of the present invention

공기중 900-1300℃, 바람직하게는 1050-1300℃의 온도에서 탄화규소를 수초 내지 수십시간 열처리하는 단계를 포함한다. Heat-treating the silicon carbide at a temperature of 900-1300 ° C., preferably 1050-1300 ° C., for several seconds to several tens of hours in air.

본 발명의 탄화규소 표면개질 방법에 의하면 탄화규소가 갖는 강도, 내열충격 특성, 내마모성을 향상시키고 가공시 발생하는 균열을 치유하는 효과를 갖는다. According to the silicon carbide surface modification method of the present invention, silicon carbide has the effect of improving the strength, heat shock resistance and wear resistance, and healing cracks generated during processing.

또한, 이러한 표면개질 방법은 간단한 방법에 의하여 탄화규소의 물성을 향상시킬 뿐 만 아니라, 비용 면에서 유리한 가공 공정을 제공하게 되므로, 탄화규소가 이용되는 내열부품, 내마모부품 및 반도체 제조 장비용 부품의 산업에 큰 효과가 기대된다. In addition, the surface modification method not only improves the properties of silicon carbide by a simple method, but also provides an advantageous processing process in terms of cost, and therefore, parts for heat-resistant parts, wear-resistant parts, and semiconductor manufacturing equipment that use silicon carbide. A great effect is expected in the industry.

Description

탄화규소의 표면개질 방법 및 표면개질된 탄화규소{METHOD FOR SURFACE MODIFICATION OF SILICON CARBIDE AND SILICON CARBIDE RESULTED THEREFROM} Surface Modification Method of Silicon Carbide and Surface Modified Silicon Carbide {METHOD FOR SURFACE MODIFICATION OF SILICON CARBIDE AND SILICON CARBIDE RESULTED THEREFROM}

본 발명은 내열부품, 내마모부품 및 반도체 제조 장비용 부품 등으로 사용되는 탄화규소의 표면개질 방법 및 표면개질된 탄화규소, 더욱 상세하게는 표면 개질을 통하여 강도, 내열 충격 특성, 내마모성이 향상되도록 하는 탄화규소의 공기중 표면개질 방법 및 이에 의하여 표면개질된 탄화규소에 관한 것이다.The present invention is to improve the strength, heat shock characteristics, wear resistance through the surface modification method and the surface-modified silicon carbide, more particularly surface modification of silicon carbide used as heat-resistant parts, wear-resistant parts and components for semiconductor manufacturing equipment The present invention relates to a surface modification method of silicon carbide in the air and thereby silicon carbide surface modified.

탄화규소란 규소의 탄화물로 화학명은 실리콘카바이드(SiC)이며, 내열성이 크고 고온에서 화학적으로 안정할 뿐 만 아니라, 가열-냉각 중 열충격에 의해서 파손되지 않도록 충분한 강도를 가지고 있으므로, 이러한 성질을 요구하는 반도체 웨이퍼의 어닐링, 산화, 확산 처리 등을 행하는 가열장치에 이용되는 히터 발열체, 웨이퍼 지지체, 에지 링, 히터 내벽 등의 주변부품들의 소재로 많이 사용된다. Silicon carbide is a carbide of silicon and its chemical name is silicon carbide (SiC), which is not only heat resistant and chemically stable at high temperatures, but also has sufficient strength not to be damaged by thermal shock during heating and cooling. BACKGROUND ART It is widely used as a material for peripheral components such as a heater heating element, a wafer support, an edge ring, a heater inner wall, and the like, which are used in a heating apparatus for annealing, oxidizing, and diffusing a semiconductor wafer.

또한, 탄화규소의 높은 열전도도, 내열성, 내마모성, 화학적 안정성 및 내열충격성으로 인하여, 두 유체물질의 혼합을 방지하는 역할을 하는 회전기계의 메카니칼씰 및 높은 열전도도, 내열성 및 열충격에 대한 저항성을 요구하는 고온의 폐가스나 폐수로부터 재활용할 수 있는 열을 얻기 위한 장치인 열 교환기의 소재로서 이용된다. In addition, due to the high thermal conductivity, heat resistance, abrasion resistance, chemical stability and thermal shock resistance of silicon carbide, the mechanical seal and the high thermal conductivity, heat resistance and resistance to thermal shock of a rotating machine that serve to prevent mixing of two fluid materials are required. It is used as a material of the heat exchanger which is a device for obtaining heat that can be recycled from hot waste gas or waste water.

통상, 탄화규소는 탄화규소 분말을 진공에서 약 2000℃에서 소결시키거나, 진공에 탄화규소 분말을 뭉친 후 비교적 융점이 낮은 실리콘을 융해시킨 후 분말과 혼합함으로서 제조되었다. Typically, silicon carbide was prepared by sintering silicon carbide powder at about 2000 ° C. in a vacuum or by agglomeration of silicon carbide powder in a vacuum and then melting the silicon with a relatively low melting point and then mixing it with the powder.

이들 제조방법에 있어서 진공상태에서 진행하는 이유는 공기 중에서 진행시 탄화규소 및 실리콘이 강도 및 취성이 낮은 이산화규소(SiO2)로 산화되기 때문이다.The reason why these processes proceed in a vacuum state is that silicon carbide and silicon are oxidized to silicon dioxide (SiO 2 ) having low strength and brittleness when advancing in air.

이러한 탄화규소 및 탄화규소 부품은 산업상 이용하는 데에 있어서, 하기와 같은 문제점들이 있었다.Such silicon carbide and silicon carbide parts have the following problems in industrial use.

첫째, 강도가 350 MPa 이하로 충분하지 못함.   First, strength less than 350 MPa is not sufficient.

둘째, 내 열 충격 온도가 충분하지 못하여 400∼500 ℃에서 급격하게 냉각할 경우 파손될 가능성이 높음.   Second, there is a high possibility of breakage if the heat shock temperature is not enough and the cooling is abruptly at 400 ~ 500 ℃.

세째, 탄화규소의 취약성 때문에 부품을 가공 제조할 때 부품의 표면에 균열이 발생하기 쉽기 때문에 제품의 신뢰성에 문제가 있음.   Third, there is a problem in the reliability of the product because the fragility of silicon carbide tends to cause cracks on the surface of the part when the part is manufactured and manufactured.

네째, 내 마모 특성이 충분하지 못하여 더 높은 하중 조건에서 사용될 메카니칼 씰 소재로서 적합하지 않음.   Fourth, it is not suitable as a mechanical seal material to be used at higher load conditions due to insufficient wear resistance.

탄화규소의 단점을 극복하기 위하여 고온 강도를 향상시키기 위한 노력은 계속되어 왔으며, 그 예로서 2003년 8월 12일자로 등록된 대한미국 특허 등록 제0395685호에는 β-탄화규소 분말에, 세라믹 전체 중량에 대하여, 0.5∼10중량%의 α-탄화규소 분말과, 1∼12중량%의 질화알루미늄과 2∼25중량%의 산화니어비움 또는 1∼12중량%의 질화알루미늄과 2∼25중량%의 산화이터비움에서 선택된 어느 한 종류의 소결조제와, 그리고 용매, 유기바인더를 혼합하여 원료분말 혼합체를 얻는 단계; 상기 원료분말 혼합체를 압축 성형하여 성형체를 얻는 단계; 및 상기 성형체를 1800∼1900℃에서 소결한 후, 1950∼2100℃에서 열처리하는 단계를 포함하는 고온강도가 향상된 고인성 탄화규소 소재의 제조방법에 관한 것이 공개되어 있다. Efforts have been made to improve the high temperature strength to overcome the drawbacks of silicon carbide, for example, Korean Patent Registration No. 0395685, filed Aug. 12, 2003, discloses β-silicon carbide powder, the total weight of ceramic 0.5 to 10% by weight of α-silicon carbide powder, 1 to 12% by weight of aluminum nitride, 2 to 25% by weight of niobium oxide or 1 to 12% by weight of aluminum nitride, and 2 to 25% by weight of Mixing any one kind of sintering aid selected from ether oxide, and a solvent and an organic binder to obtain a raw material powder mixture; Compressing the raw powder mixture to obtain a molded body; And it is disclosed a method for producing a high toughness silicon carbide material having a high temperature strength including the step of sintering the molded body at 1800 ~ 1900 ℃, heat treatment at 1950 ~ 2100 ℃.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 개선하고자 발명된 것으로서, 탄화규소가 갖는 강도, 내열 충격 특성, 내마모성을 향상시키고 가공시 발생하는 균열을 치유하기 위하여 간단한 탄화규소의 표면개질 방법을 제공하고자 한다. The present invention has been invented to improve the conventional problems as described above, and to provide a simple method for surface modification of silicon carbide to improve the strength, thermal shock characteristics, wear resistance of silicon carbide and to heal cracks generated during processing. .

본 발명의 또 다른 목적은 물성이 향상된 표면개질된 탄화규소를 제공하고자 한다. Another object of the present invention is to provide a surface-modified silicon carbide with improved physical properties.

본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 탄화규소를 공기중에서 열처리를 하는 공정을 포함한다.In order to achieve the object of the present invention, the present invention includes a step of heat-treating silicon carbide in air.

본 발명을 구체적으로 설명하면, In more detail, the present invention,

공기중 900-1300℃, 바람직하게는 1050-1300℃의 온도에서 탄화규소를 수초 내지 수십시간 열처리하는 단계를 포함한다. Heat-treating the silicon carbide at a temperature of 900-1300 ° C., preferably 1050-1300 ° C., for several seconds to several tens of hours in air.

이때, 열처리 단계전에 균열을 만들기 위하여 탄화규소를 연삭하는 공정을 더욱 포함할 수 있으며, 특히, 200번 다이아몬드 휠을 이용하여 연삭함으로서 균열을 생성하는 것이 바람직하다. 탄화규소를 연삭하여, 인위적인 균열을 생성한 후, 열처리에 의하여 그 균열을 치유함으로서, 그 강도를 더욱 높힐 수 있다.  In this case, the step of grinding silicon carbide to make a crack before the heat treatment step may be further included, in particular, it is preferable to create a crack by grinding using a diamond wheel 200. The strength can be further increased by grinding silicon carbide to create artificial cracks and then healing the cracks by heat treatment.

상기 열처리 시간은 제품의 크기, 형상 열처리 온도에 따라 다르므로, 적절한 시간상 범위를 정하는 것은 곤란하나 대략 수초-10시간정도가 바람직하다. Since the heat treatment time depends on the size of the product and the shape heat treatment temperature, it is difficult to determine an appropriate time range, but it is preferably about several seconds to 10 hours.

열처리 장치는 일반적인 전기로를 사용하고 이 가열과정은 재료 표면의 산화반응을 위한 것으로 반응 분위기는 공기이면 된다. The heat treatment apparatus uses a general electric furnace, and this heating process is for oxidation reaction of the material surface, and the reaction atmosphere may be air.

즉, 진공 중에서 제조된 탄화규소를 공기중에서 열처리함으로, 표면은 이산화규소층이 형성되어 산소확산이 방지되고, 산화규소가 탄화규소의 틈을 메꿔줌으로서 탄화규소의 균열을 치유하고 표면에 모재인 탄화규소와의 열팽창계수 차이로 인하여 압축응력이 잔류하도록 함으로서 내열충격성, 강도를 비롯한 물성이 향상되는 것이다. 이때, 열처리온도에 따라 반응으로 인한 산화물질이 비정질 혹은 결정상으로 바뀌고 물성도 차이를 보인다.  In other words, by heat-treating silicon carbide produced in vacuum in the air, a silicon dioxide layer is formed on the surface to prevent oxygen diffusion, and silicon oxide fills the gap of silicon carbide to heal the cracks of silicon carbide and Due to the difference in thermal expansion coefficient with silicon carbide, the compressive stress remains, thereby improving physical properties including thermal shock resistance and strength. At this time, depending on the heat treatment temperature, the oxide due to the reaction is changed to an amorphous or crystalline phase and the physical properties also show a difference.

이를 이론적으로 설명하면 하기와 같다. This is explained theoretically as follows.

: 잔류 응력으로 음의 부호이면 압축 응력이고 양의 부호이면 인장 응력 : Residual stress, negative sign, compressive stress, positive sign, tensile stress

: 실리카 및 탄화규소의 열팽창계수 And : Coefficient of thermal expansion of silica and silicon carbide

: 실리카가 결정질일 경우에는 열처리 온도, 실리카가 비정질이고 열처리 온도가 비정질 실리카의 연화점보다 높을 경우에는 비정질 실리카의 연화점, 실리카가 비정질이고 열처리 온도가 실리카의 연화점보다 낮을 경우에는 열처리 온도 : When silica is crystalline, heat treatment temperature, silica is amorphous, and when heat treatment temperature is higher than softening point of amorphous silica, softening point of amorphous silica, heat treatment temperature when silica is amorphous and heat treatment temperature is lower than softening point of silica

: 각각 실리카 및 탄화규소의 탄성계수 And : Modulus of elasticity of silica and silicon carbide, respectively

탄화규소의 열팽창계수는 약 3.5×10-6이고 비정질 실리카의 열팽창계수는 약 0.2×10-6이며 크리스토발라이트의 열팽창계수는 온도에 따라 크게 변하나 탄화규소의 열팽창계수보다는 현저하게 큰 것으로 알려져 있다.The coefficient of thermal expansion of silicon carbide is about 3.5 × 10 −6 , the coefficient of thermal expansion of amorphous silica is about 0.2 × 10 −6, and the coefficient of thermal expansion of cristobalite varies greatly with temperature, but it is known to be significantly larger than that of silicon carbide.

따라서, 1300℃ 이하의 온도에서 열처리하여 비정질 실리카로 치유된 균열의 경우 잔류 응력은 도 1에 나타낸 바와 같이 압축 성분이며 크리스토발라이트로 치유된 균열의 경우 잔류 응력은 도 2에 나타낸 바와 같이 인장 성분임을 알 수 있고, 실리카로 치유된 경우 압축응력에 의하여 강도가 상승됨을 알 수 있다. Therefore, in the case of cracks treated with amorphous silica by heat treatment at a temperature of 1300 ° C. or less, the residual stress is a compressive component as shown in FIG. 1, and in the case of cracks healed with cristobalite, the residual stress is a tensile component as shown in FIG. 2. It can be seen that the strength is increased by compressive stress when healed with silica.

실제로, 탄화규소를 900-1300℃, 바람직하게는 1050-1300℃의 온도에서 열처리하여 균열이 비정질 실리카로 채워져 치유된 경우, 열팽창계수 데이터와 비정질 실리카의 연화점 1050 ℃, 비정질 실리카 및 탄화규소의 탄성계수 각각 75 GPa 및 400 GPa를 위의 식에 대입하면 균열 내부 및 주위에 약 290 MPa의 압축 응력이 존재할 것임을 계산할 수 있다. Indeed, when the silicon carbide was heat treated at a temperature of 900-1300 ° C., preferably 1050-1300 ° C., the cracks were healed and filled with amorphous silica, the coefficient of thermal expansion and the softening point of amorphous silica 1050 ° C., the elasticity of amorphous silica and silicon carbide Substituting the coefficients 75 GPa and 400 GPa into the above equation, it can be calculated that there will be a compressive stress of about 290 MPa in and around the crack.

또한, 탄화규소를 1300 ℃보다 높은 온도에서 열처리하여 크리스토발라이트가 균열을 채워 치유할 경우에는 크리스토발라이트의 열팽창계수가 탄화규소의 열팽창계수보다 크므로 균열 내부에 발생하는 응력은 인장 성분이 되므로 이 인장 응력은 치유된 균열의 강도를 감소시키는 역할을 함을 확인할 수 있다In addition, in case that the silicon carbide is heat-treated at a temperature higher than 1300 ° C. and cristobalite is healed by cracks, the thermal expansion coefficient of cristobalite is greater than that of silicon carbide, so the stress generated inside the crack becomes a tensile component. It can be seen that it serves to reduce the strength of the healed cracks.

따라서, 본 발명에 있어서, 열처리 온도는 900-1300℃, 바람직하게는 1050-1300℃의 온도가 가장 적합함을 알 수 있다. Therefore, in the present invention, it can be seen that the temperature of the heat treatment is most suitable 900-1300 ℃, preferably 1050-1300 ℃.

국내 특허 공개 제 2003-0047799호에는 질화규소 및 탄화규소의 복합체를 800-1400℃에서 열처리하여 균열을 치유하는 기술이 공지되어 있고, 탄화규소제만으로 실험시는 1400℃ 이상의 고온에서 열처리가 필요하다고 기재하고 있으나, 본 발명에서는 질화규소를 혼합하지 않은 상태에서 1050℃ 내지 1300℃의 열처리로서 균열치유 등이 가능한 발명인 것이다.Korean Patent Publication No. 2003-0047799 discloses a technique for curing a crack by heat treating a composite of silicon nitride and silicon carbide at 800-1400 ° C., and describes that heat treatment is required at a high temperature of 1400 ° C. or higher when using only silicon carbide. However, in the present invention, it is an invention that can heal cracks or the like as a heat treatment of 1050 ° C to 1300 ° C without mixing silicon nitride.

하기 실시예를 통하여 본 발명을 상세히 설명하고자 한다. Through the following examples will be described in detail the present invention.

[실시예 1]Example 1

탄화규소의 균열 치유Crack Healing of Silicon Carbide

보론과 탄소를 소결 조제로 섞어 상압소결한 탄화규소를 가공하여 높이 4 mm, 폭 3 mm 및 길이 40 mm인 시편을 만든 후 98 N의 힘으로 Vickers 압자를 압입한 다음 bridge 로딩을 하여 도 3에서 보는 바와 같이 시편의 중앙 부분에 관통 균열을 도입하였다. Mixing boron and carbon with a sintering aid to process atmospheric sintered silicon carbide to make a specimen 4 mm high, 3 mm wide and 40 mm long, press-fit the Vickers indenter with a force of 98 N, and then bridge loading As can be seen, a penetration crack was introduced at the center of the specimen.

그 후 시편을 대기 분위기에서 1050 ℃ - 1300 ℃의 온도 범위에서 50 시간 동안 열처리하였다. Thereafter, the specimen was heat-treated for 50 hours at a temperature range of 1050 ℃ to 1300 ℃ in the air atmosphere.

그 결과 도 4에 도시된 바와 같이, 균열이 치유되었다. As a result, the cracks healed, as shown in FIG. 4.

즉, 균열이 새로운 물질에 의하여 완전히 채워져서 치유되었음을 알 수 있다. In other words, it can be seen that the crack was completely filled by the new material and healed.

도 5는 균열을 채운 새로운 물질에 대하여 원소 분석 (EDX 분석)을 한 결과이고, 이 결과에 의하면, 균열을 채운 물질은 주위의 탄화규소에 비하여 산소를 많이 포함하고 있고 실리콘 성분이 적음을 알 수 있으므로, 이것은 균열을 채운 물질이 실리카라는 것을 알 수 있다. FIG. 5 shows the results of elemental analysis (EDX analysis) on the new material filled with cracks. According to these results, it can be seen that the material filled with cracks contains more oxygen and contains less silicon than the surrounding silicon carbide. Therefore, it can be seen that the material filling the crack is silica.

1300 ℃에서 열처리하였을 때 및 1400 ℃에서 열처리하였을 때 내부에 나타낸 투과전자현미경 사진인 도 6 및 도 7의 회절패턴에서 보듯이 1300 ℃이하의 온도에서 열처리하면 비정질 실리카가 균열을 채워 치유하고 1300 ℃보다 높은 온도에서 열처리하면 결정질 실리카(크리스토발라이트)가 균열을 채워 치유함을 알 수 있다. As shown in the diffraction patterns of FIGS. 6 and 7, which are shown inside and after heat treatment at 1300 ° C. and heat treatment at 1400 ° C., when the heat treatment is performed at a temperature of 1300 ° C. or less, the amorphous silica fills cracks and heals 1300 ° C. It can be seen that when heat treated at a higher temperature, crystalline silica (cristobalite) fills the cracks and heals.

[실시예 2]Example 2

균열 치유에 따른 강도 회복 1 Strength recovery from crack healing 1

균열이 치유됨에 따라 강도가 회복되는 것을 보여 주기 위하여 ISO 14704 규격에 준하여 굽힘 강도를 측정하였다.The bending strength was measured according to the ISO 14704 standard to show that the strength was restored as the crack healed.

균열이 항상 인장 면이 되도록 시험하였고 도 8은 강도 데이터를 열처리 온도에 따라 그린 것이다.The cracks were always tested to be tensile planes and FIG. 8 plots the strength data according to the heat treatment temperature.

상기한 그래프에 의하면, 균열을 만들지 않고 측정한 탄화규소 본래의 강도는 약 310 MPa이었고, 인위적으로 표면에 다이아몬드를 압입하여 균열을 만든 다음 측정한 강도는 10 MPa이었다. (도 8의 열린 마름모) 그 후 1000℃ 이하의 열처리를 한 시편은 강도가 100 MPa 이하이나, 1050℃ 이상의 열처리를 하면 원래 강도의 80% 수준까지 회복이 되었음을 알 수 있고, 1300℃ 이상 열처리시 강도가 다시 낮아지는 것을 확인할 수 있었다.According to the graph described above, the original strength of silicon carbide measured without making cracks was about 310 MPa, and the strength measured after artificially indenting diamond into the surface was 10 MPa. (Opened rhombus of Figure 8) After the heat treatment at 1000 ℃ or less after that the strength is 100 MPa or less, when the heat treatment above 1050 ℃ it can be seen that the recovery to 80% of the original strength, when the heat treatment above 1300 ℃ It was confirmed that the strength was lowered again.

따라서, 열처리 온도는 1050℃ 내지 1300℃가 가장 적합함을 확인할 수 있었다. Therefore, the heat treatment temperature was confirmed that the most suitable 1050 ℃ to 1300 ℃.

[실시예 3]Example 3

균열치유에 따른 강도회복 2Strength recovery by crack healing 2

실시 예 1과 2의 시편은 인위적 균열을 생성을 위한 다이아몬드 입자의 압입으로 인하여 커다란 요철(凹)부가 생기므로, 결과적인 강도저하에 미치는 효과가 있었다. 요철부는 실제 재료의 생산 가공 운전 중에는 발생할 수 없는 것으로 표면의 이 결함을 연마하여 요철부에 의한 강도 저하의 오차를 없애고 실제 강도 상승효과를 알아보기 위하여 열처리 실험을 하였고 그 강도 데이터는 표 1과 같다. The specimens of Examples 1 and 2 had a large uneven portion due to the indentation of the diamond particles for generating an artificial crack, and thus had an effect on the resulting strength decrease. The uneven part cannot be generated during the actual production and processing operation of the material. The defects on the surface were polished to remove the error of the reduced strength caused by the uneven part, and the heat treatment experiment was conducted to find the actual strength increase effect. .

강도 (MPa)Strength (MPa) 비교 예: 탄화규소 본래 강도Comparative example: silicon carbide original strength 310±61310 ± 61 비교 예: 균열을 도입한 후의 강도Comparative example: strength after introducing cracks 10±210 ± 2 실시 예: 균열을 치유한 후의 강도Example: Strength after healing a crack 324±34324 ± 34

표 1에 나타난 바와 같이, 균열을 만들지 않고 측정한 탄화규소 본래의 강도는 약 310 MPa이었으나, 균열을 만든 다음 측정한 강도는 10 MPa이었고, 900-1300 ℃의 온도에서 열처리하여 균열을 비정질 실리카로 채워 치유한 시편의 강도는 약 324 MPa로 원래의 강도로 완전히 회복되었음을 알 수 있다. As shown in Table 1, the original strength of silicon carbide measured without cracking was about 310 MPa, but the strength measured after cracking was 10 MPa, and the cracks were thermally treated at 900-1300 ° C. to form amorphous silica. The strength of the filled and cured specimens was approximately 324 MPa, indicating full recovery to original strength.

파괴된 시편을 관찰한 결과 도 9 에 도시된 바와 같이, 파괴는 치유된 균열을 통하여 일어나지 않고 원 재료인 탄화규소를 통하여 일어났음을 알수 있다. 이는 치유된 균열이 원 재료보다도 더 강하다는 것을 의미하는 것이다.As a result of observing the broken specimen, it can be seen that the fracture did not occur through the cured crack but through the silicon carbide as a raw material. This means that the repaired crack is stronger than the raw material.

한편, 1300 ℃보다 고온에서 열처리하여 크리스토발라이트로 균열을 치유하였을 때의 강도는 약 260 MPa로 모재의 본래 강도인 310 MPa의 약 83%로 회복되었으나 완전히 회복되지는 않았고, 또한 시편의 파괴도 항상 치유된 균열을 따라 일어났다. 이것은 크리스토발라이트로 채워져 치유된 균열의 강도는 모재인 탄화규소의 강도보다는 작다는 것을 의미한다. On the other hand, when the crack was healed by cristobalite by heat treatment at a temperature higher than 1300 ° C, the strength was about 260 MPa, which was restored to about 83% of the original strength of 310 MPa, which was not completely recovered. Happened along the cracks. This means that the strength of the cracks healed and filled with cristobalite is less than that of the underlying silicon carbide.

[실시예 4] Example 4

균열 치유에 따른 강도 회복 이유에 대한 실험적 증명Experimental proof of the reason for strength recovery following crack healing

치유된 균열 내부의 잔류 응력이 그 강도를 결정하는데 있어서 미치는 영향을 다음과 같이 실험적으로 확인하였다. The effect of residual stress inside the repaired crack in determining its strength was experimentally confirmed as follows.

시편의 밑 부분에서부터 점선까지 즉 균열 끝 바깥 부분을 연삭하여 없앤 다음 강도를 측정하였다. From the bottom of the specimen to the dashed line, i.e. the outer edge of the crack was ground and removed, the strength was measured.

그 결과 반대 성분의 응력이 존재하는 부분을 없애면 균열 내부 및 주위에 존재하는 응력도 함께 없어짐을 확인할 수 있었다. 즉, 응력이 잔류하지 않는 상태에서의 균열의 강도 즉 실리카 자체의 강도를 측정할 수 있다는 것이다. As a result, it could be confirmed that when the stress component of the opposite component is removed, the stress existing in and around the crack also disappears. In other words, it is possible to measure the strength of the crack, that is, the strength of the silica itself, in a state where no stress remains.

900-1300℃의 온도에서 열처리하여 비정질 실리카로 균열을 치유한 시편의 경우 이와 같이 균열 끝 부분을 연삭하여 없앤 다음의 강도는 약 60 MPa에 불과하였고, 시편의 파괴는 항상 치유된 균열을 통하여 일어났다. 이것은 비정질 실리카 자체의 강도가 약 60 MPa에 불과함을 의미하는 것으로서, 900-1300℃의 온도에서 열처리한 시편에서 치유된 균열의 강도가 탄화규소 본래의 강도보다도 더 큰 이유는 압축 잔류 응력이 크기 때문이라는 것을 알 수 있다. In the case of specimens that were cured with amorphous silica by heat treatment at 900-1300 ℃, the strength after grinding and removing the crack tip was only about 60 MPa, and the fracture of the specimen always occurred through the cured crack. . This means that the strength of amorphous silica itself is only about 60 MPa, and the strength of the cracks healed in specimens heat-treated at temperatures of 900-1300 ° C. is greater than the original strength of silicon carbide. It can be seen that.

반면에, 1300 ℃보다 높은 온도에서 열처리하여 크리스토발라이트로 균열을 치유한 시편의 경우 균열 끝 바깥 부분을 연삭하여 없앤 다음의 강도는 약 320 MPa로 탄화규소 본래의 강도와 같았고, 또 파손된 시편을 관찰한 결과 시편의 파괴는 균열을 따라 일어나지 않고 탄화규소를 통하여 일어났다. On the other hand, in the case of specimens that were cured by cristobalite by heat treatment at a temperature higher than 1300 ° C., the strength after grinding off the outer edge of the crack was about 320 MPa, which was the same as that of silicon carbide, and the damaged specimen was observed. As a result, the fracture of the specimen did not occur along the crack but through the silicon carbide.

이것은 크리스토발라이트 자체의 강도가 탄화규소의 강도보다도 더 크다는 것을 의미하는 것으로, 1300 ℃보다 높은 온도에서 열처리한 시편에서 치유된 균열의 강도가 탄화규소 본래의 강도로 완전히 회복되지 않는 이유는 균열 내부에 인장 응력 잔류하기 때문임을 알수 있다. This means that the strength of cristobalite itself is greater than that of silicon carbide, and that the strength of the cracks healed in specimens heat-treated at temperatures above 1300 ° C. does not fully recover to the original strength of silicon carbide. It can be seen that the residual stress.

[실시예 5] Example 5

표면 개질에 의한 강도 향상Strength improvement by surface modification

탄화규소를 900-1300℃의 온도에서 열처리하여 균열을 비정질 실리카로 채워서 치유할 때 균열 내부 및 주위에 압축 응력이 잔류하게 되는 것을 이용하여 탄화규소의 역학 특성을 향상시킬 수 있다. When the silicon carbide is heat-treated at a temperature of 900-1300 ° C., the cracks are filled with amorphous silica and the compressive stress remains in and around the cracks to improve the mechanical properties of the silicon carbide.

도 10은 이를 설명하기 위한 탄화규소 표면개질의 개념도이다. 10 is a conceptual diagram of silicon carbide surface modification for explaining this.

균열 하나를 비정질 실리카로 채워 치유하였을 압축 응력 분포는 도 10의 왼쪽 그림과 같이 되는 것으로, 즉, 균열 내부와 주위에 압축 응력이 분포하게 된다. 만일 표면에 수많은 균열을 만든 다음 이 균열들을 비정질 실리카로 채워 치유한다면 도 10의 오른쪽 그림에서 보듯이 재료 표면의 모든 부위에서 압축 응력이 발생한다. The compressive stress distribution that would be cured by filling a crack with amorphous silica becomes as shown in the left figure of FIG. 10, that is, the compressive stress is distributed in and around the crack. If numerous cracks are made on the surface and these cracks are filled with amorphous silica to heal, compressive stresses occur at all parts of the surface of the material, as shown in the figure on the right.

이 압축 응력에 의해서 강도, 내열충격 특성, 내마모성 등 역학 특성이 향상될 수 있고, 탄화규소의 특성 향상을 위한 표면 개질 방법은 이에 대한 것이다.By this compressive stress, mechanical properties such as strength, thermal shock resistance, and wear resistance can be improved, and a surface modification method for improving the characteristics of silicon carbide is directed to this.

표면에 수많은 균열을 생성시키기 위하여 탄화규소를 다이아몬드 휠로 연삭하는 방법을 사용할 수 있으며, 본 예에서는 200 번 다이아몬드 휠을 사용하여 시편의 길이 방향과 직각 방향으로 연삭하였다. 그 다음 공기 중 1200 ℃에서 50 시간 동안 열처리하여 균열들을 비정질 실리카로 채워 치유한 후 열처리한 시편의 강도를 측정하여 열처리하지 않은 시편의 강도와 비교하였다.   In order to create numerous cracks on the surface, a method of grinding silicon carbide with a diamond wheel may be used. In this example, the diamond wheel 200 was used to grind perpendicularly to the longitudinal direction of the specimen. The cracks were then cured by heat treatment at 1200 ° C. for 50 hours in air, and then treated with amorphous silica, and the strengths of the heat treated specimens were measured and compared with those of the unheated specimens.

하기 표 2는 강도 데이터를 나타낸 것이다. Table 2 below shows the intensity data.

강도 (MPa)Strength (MPa) 비교 예: 탄화규소 본래 강도Comparative example: silicon carbide original strength 310±61310 ± 61 비교 예: 200번 휠로 연삭한 후의 강도Comparative example: strength after grinding with wheel 200 167±4167 ± 4 실시 예: 표면 개질 후의 강도Example: Strength after Surface Modification 473±25473 ± 25

ISO 14704 규격에 준하여 측정한 원 재료의 강도는 310 MPa이었고, 200번 다이아몬드 휠로 연삭하였을 때의 강도는 약 167 MPa로 원 재료의 강도 310 MPa보다 현저하게 작았다. 이것은 200번 다이아몬드 휠로 연삭할 때 많은 균열이 발생한다는 것을 뜻하는 것이다.The strength of the raw material measured according to the ISO 14704 standard was 310 MPa, and the strength when grinding with the diamond wheel 200 was about 167 MPa, which was significantly smaller than the strength of the raw material 310 MPa. This means that there are many cracks when grinding with the diamond wheel 200.

이 시편을 열처리하였을 때의 강도는 약 473 MPa로 원 재료보다도 현저하게 강도가 컸으며, 이는 수많은 균열을 만든 다음 균열들을 열팽창 계수가 작은 물질로 채울 경우 강도가 향상된다는 것을 보여 주는 것이다.When the specimens were heat-treated, the strength was about 473 MPa, which was significantly higher than that of the raw material, indicating that the strength was improved when numerous cracks were made and then the cracks were filled with a material with a low coefficient of thermal expansion.

[실시예 6] Example 6

표면개질에 의한 비용절감 Cost reduction by surface modification

표면개질의 또 다른 유용성은 세라믹의 생산비에서 많은 부분을 차지하는 가공비와 가공시간을 절약할 수 있다는 것이다. Another usefulness of surface modification is that it saves processing costs and processing time, which is a large part of the production cost of ceramics.

도 11은 시편을 여러 가지 다이아몬드 휠로 가공하고 가공된 재료의 굽힘 강도를 측정한 결과(도 11의 ○)이다. 다이아몬드 휠의 입자가 거칠수록 (숫자가 작을수록) 강도는 낮으므로 실제 세라믹 부품의 가공은 고운 입자의 휠(큰 숫자)로 천천히 가공하므로, 가공비와 시간이 많이 소모되었다.  FIG. 11 is a result of measuring the bending strength of the processed material by processing the specimen with various diamond wheels (○ in FIG. 11). The rougher (smaller numbers) the diamond wheels are, the lower the strength is, and the actual machining of ceramic parts is slower with finer particles (larger numbers), which consumes a lot of processing time and time.

그러나, 여러 가지 휠로 가공된 재료를 표면개질한 후 그 굽힘강도를 측정하면 (도 b의 ●), 강도가 회복됨은 물론 오히려 향상됨을 확인할 수 있다. 즉 거친 휠로 빨리 가공된 부품이라도 표면개질을 거치면 물성이 향상되므로 가공 비용과 시간을 줄일수 있는 장점을 갖는 것을 확인할 수 있다. However, the surface strength of the material processed by the various wheels and then measuring the bending strength (● of Figure b), it can be seen that the strength is not only recovered, but rather improved. In other words, even if the machined parts quickly processed by the coarse wheel, the physical properties are improved when the surface is subjected to surface modification, which can be confirmed that it has the advantage of reducing the processing cost and time.

[실시예 7]Example 7

표면개질에 의한 내열충격의 향상Improvement of heat shock by surface modification

표면 개질 방법으로 내 열충격 특성이 향상되는 것을 보여 주기 위하여 급냉 실험을 하였다. In order to show that the thermal shock resistance is improved by the surface modification method, a quenching experiment was performed.

실시예 5와 동일한 방법으로 200번 다이아몬드 휠로 연삭하여 표면에 수많은 균열들을 생성시킨 후 열처리를 하여 균열들을 비정질 실리카로 채워 치유하였다. In the same manner as in Example 5, a number of cracks were formed on the surface by grinding with a diamond wheel 200, and then the cracks were filled with amorphous silica to heal.

그 후 시편들을 430 ℃ 내지 800 ℃로 가열한 다음 상온의 물로 급냉하여 균열의 발생 여부를 현미경으로 관찰하였다. Then, the specimens were heated to 430 ℃ to 800 ℃ and then quenched with water at room temperature to observe the occurrence of cracks under a microscope.

표 3은 온도에 따른 균열 발생 여부를 나타낸 것이다. Table 3 shows whether cracks occur with temperature.

온도(℃)시편       Temperature (℃) Specimen 430430 440440 450450 460460 470470 480480 500500 590590 600600 650650 700700 750750 800800 비교 예: 표면개질하지 않은 탄화규소Comparative Example: Unmodified Silicon Carbide ○×○○ × ○ ×××××× × × × × × × ×××××× - - - - - - - - - - - - 실시 예: 표면개질한 탄화규소Example: Surface Modified Silicon Carbide - - - - - - - - - - - - - - ○○○○○○ ○○○○○○ ○×○ × ××××××

×: 균열이 발생하였음X: crack occurred

○: 균열이 발생하지 않았음○: no cracking

그 결과 표면을 개질하지 않은 탄화규소의 경우 450 ℃ 이상의 온도에서 급냉하였을 경우 예외 없이 균열이 발생하였으나, 표면개질한 탄화규소의 경우는 700 ℃이하의 온도에서 급냉하였을 때는 균열이 발생하지 않았고 750 ℃ 이상의 온도에서 급냉하여야 균열이 발생하였다. 따라서, 이 결과는 표면 개질에 의해서 내열충격성이 현저하게 향상됨을 보여 주는 것이다.As a result, in the case of silicon carbide without surface modification, cracking occurred without exception when quenched at a temperature above 450 ° C., but in the case of surface modified silicon carbide, when it was quenched at temperature below 700 ° C., no crack occurred. Cracking occurred only after quenching at the above temperature. Therefore, this result shows that the thermal shock resistance is remarkably improved by surface modification.

본 발명에 의한 탄화규소 표면개질 방법에 의하면 탄화규소가 갖는 강도, 내열 충격 특성, 내마모성을 향상시키고 가공시 발생하는 균열을 치유하는 효과를 갖는다. According to the silicon carbide surface modification method according to the present invention, silicon carbide has the effect of improving the strength, heat shock resistance, and abrasion resistance and healing cracks generated during processing.

또한, 이러한 표면개질 방법은 간단한 방법에 의하여 탄화규소의 물성을 향상시킬 뿐 만 아니라, 비용면에서 유리한 가공 공정을 제공하게 되므로, 탄화규소가 이용되는 내열부품, 내마모부품 및 반도체 제조 장비용 부품의 산업에 큰 효과가 기대된다. In addition, the surface modification method not only improves the physical properties of silicon carbide by a simple method, but also provides an advantageous processing process in terms of cost, and therefore, parts for heat-resistant parts, wear-resistant parts, and semiconductor manufacturing equipment that use silicon carbide. A great effect is expected in the industry.

도 1은 탄화규소를 1300℃ 이하의 온도에서 열처리하여 균열이 비정질 실리카로 채워진 경우의 응력을 도시함. 1 shows the stress when the silicon carbide is heat-treated at a temperature of 1300 ° C. or less, so that the crack is filled with amorphous silica.

도 2는 탄화규소를 1300℃ 이상의 온도에서 열처리하여 균열이 크리스토발라이트로 채워진 경우의 응력을 도시함. Figure 2 shows the stress when the silicon carbide is heat-treated at a temperature of 1300 ℃ or more cracks filled with cristobalite.

도 3은 탄화 규소 시편에 도입한 관통 균열을 도시함. 3 shows through cracks introduced into silicon carbide specimens.

도 4는 열처리 전의 균열 및 열처리 후의 탄화규소 균열을 도시함. 4 shows cracks before heat treatment and silicon carbide cracks after heat treatment.

도 5는 탄화규소의 균열을 채운 물질에 대한 원소 분석 결과 (EDX 분석). 5 is an elemental analysis result (EDX analysis) of a material filled with cracks of silicon carbide.

도 6은 탄화규소의 시편을 1300 ℃에서 열처리하였을 때의 투과전자현미경 사진.6 is a transmission electron micrograph when the specimen of silicon carbide heat-treated at 1300 ℃.

도 7은 탄화규소의 시편을 1400 ℃에서 열처리하였을 때 균열을 중심으로 촬영한 투과전자현미경 사진Figure 7 is a transmission electron microscope photograph taken around the crack when the specimen of silicon carbide heat-treated at 1400 ℃

도 8은 탄화규소시편의 열처리온도에 따른 강도데이타를 나타내는 그래프. 8 is a graph showing the strength data according to the heat treatment temperature of the silicon carbide specimen.

도 9는 파괴가 치유된 균열을 따라 일어나지 않고 모재인 탄화규소를 따라 일어났음을 보여 주는 사진. 9 is a photograph showing that destruction did not occur along the cured crack, but along the silicon carbide as a base material.

도 10은 탄화규소 표면 개질을 통한 강화의 개념도.10 is a conceptual diagram of reinforcement through silicon carbide surface modification.

도 11은 탄화규소 시편의 표면을 가공한 연마 휠의 입자크기에 따른 굽힘강도(○)와 이를 표면개질한 후의 굽힘강도(●)를 나타낸 그래프이다. 11 is a graph showing the bending strength (○) and the bending strength (●) after surface modification thereof according to the particle size of the abrasive wheel processing the surface of the silicon carbide specimen.

Claims (5)

공기중에서 탄화규소를 900-1300℃의 온도에서 수초 내지 수십시간 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄화규소의 표면개질 방법.Method for surface modification of silicon carbide comprising the step of heat-treating silicon carbide in the air at a temperature of 900-1300 ℃ several seconds to several tens of hours. 제 1항에 있어서, 열처리 온도는 1050-1300℃인 것을 특징으로 하는 탄화규소의 표면개질 방법. The method of claim 1, wherein the heat treatment temperature is 1050-1300 ° C. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 열처리 공정 전 단계로서, 탄화규소를 연삭하여 표면에 균열을 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄화규소의 표면개질 방법.The method for surface modification of silicon carbide according to claim 1 or 2, comprising the step of grinding the silicon carbide to form cracks on the surface as a step before the heat treatment process. 제 3항에 있어서, 200 번 이상의 그릿번호를 가지는 다이아몬드 휠을 사용하여 연삭하는 단계;4. The method of claim 3, further comprising: grinding using a diamond wheel having a grit number of 200 or more; 공기 중 1200 ℃에서 탄화규소를 50 시간 동안 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄화규소의 표면개질 방법. Method for surface modification of silicon carbide comprising the step of heat-treating silicon carbide for 50 hours at 1200 ℃ in air. 제 1항 내지 제 4항의 방법중 하나의 방법으로 표면 개질된 탄화규소.Silicon carbide surface-modified by one of the methods of claims 1-4.
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