KR20050025704A - 가장자리 식각 장치 - Google Patents

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KR20050025704A KR1020030062511A KR20030062511A KR20050025704A KR 20050025704 A KR20050025704 A KR 20050025704A KR 1020030062511 A KR1020030062511 A KR 1020030062511A KR 20030062511 A KR20030062511 A KR 20030062511A KR 20050025704 A KR20050025704 A KR 20050025704A
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Abstract

기판에서 패턴이 형성된 부분 중 소정부분을 제외한 나머지 부분을 제거하는 가장자리 식각 장치에 관한 것이다. 본 발명의 가장자리 식각 장치는 서포터부에 장착된 기판의 가장자리부에 유체를 분사하는 노즐을 갖는 노즐부와, 상기 노즐의 분사 위치를 측정하여, 그 위치를 보정하기 위한 노즐 위치 보정부를 갖는다. 본 발명에 따르면 노즐 위치 보정부의 거리 감지 센서들을 이용하여 실시간으로 노즐의 위치를 확인하고, 잘못된 경우에는 노즐의 위치를 자동적으로 보정함으로써, 재현성을 확보할 수 있고, 노즐의 위치 보정에 소요되는 시간을 단축시킬 수 있다.

Description

가장자리 식각 장치{A EDGE ETCHER}
본 발명은 반도체 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 기판에서 패턴이 형성된 부분 중 소정부분을 제외한 나머지 부분을 제거하는 가장자리 식각 장치에 관한 것이다.
반도체 소자의 제조공정에서 반도체 기판으로 사용되는 웨이퍼(wafer;이하 기판이라 칭함)상에는 다결정막, 산화막, 질화막 및 금속막 등과 같은 복수의 막질이 형성된다. 상기한 막질 위에는 포토레지스트막이 코팅되고, 노광 공정에 의해 포토마스크에 그려진 패턴은 상기 포토레지스트막으로 전사된다. 이후, 식각공정에 의해서 기판상에는 원하는 패턴이 형성된다.
이러한 공정들이 진행된 기판의 가장자리에는 각종 막질이나 포토레지스트와 같은 감광액이 잔존하게 된다. 이 상태에서 기판의 가장자리가 파지된 채로 다른 공정으로 이송하게 되면, 기판 가장자리의 막질 등이 떨어져 비산하게 된다. 이들 막질은 파티클로 작용하게 되어 수율(Yield)을 저하시키므로, 웨이퍼 가장자리부의 막질이나 감광막을 제거하는 식각공정을 거친다.
이러한 가장자리 식각 공정은 노즐을 통해 식각액을 기판의 가장자리에 분사시켜 제거하는 바, 정확한 노즐의 위치 제어가 필수적이다.
일반적으로, 가장자리 식각 장치에서는 업/다운 에어 실린더 및 스토퍼(stopper)를 이용하여 노즐과 반도체 웨이퍼와의 간격을 설정하고, 타이밍 벨트로 노즐의 위치를 설정한 후, 후속 검사를 통해 노즐의 위치를 확인하고 있다.
따라서, 후속 검사를 통해 노즐의 위치를 확인함으로써 공정 시간이 길어지게 되고, 재현성이 떨어지는 등의 문제가 제기되었다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 신속하고 용이하게 노즐의 위치를 확인 및 정확한 노즐 위치 보정을 수행할 수 있는 새로운 형태의 가장자리 식각 장치를 제공하는데 있다.
상기 기술적 과제들을 이루기 위하여 본 발명의 가장자리 식각 장치는 반도체 기판이 놓여지는 서포터부와; 상기 서포터부에 장착된 상기 기판의 가장자리부에 유체를 분사하는 노즐을 갖는 노즐부와; 상기 노즐의 분사 위치를 측정하여, 그 위치를 보정하기 위한 노즐 위치 보정부를 갖는다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 노즐부는 상기 노즐이 설치되는 노즐지지대; 상기 노즐지지대를 이동시키기 위한 노즐 이동부를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 노즐 위치 보정부는 상기 노즐지지대에 설치되어 상기 노즐지지대의 x축, y축 좌표를 측정하는 센서들과; 상기 센서들로부터 측정된 위치값을 받아서 기설정된 위치값과 비교하여 상기 노즐의 위치를 보정하는 콘트롤러를 포함한다.
본 발명의 가장자리 식각 장치는 기판의 식각된 영역을 촬영하여, 그 식각영역의 변화를 실시간으로 모니터링 하기 위한 비젼부를 포함하며, 이 비젼부는 상기 노즐지지대에 설치되는 그리고 기판의 식각된 영역을 촬영하는 카메라와; 상기 촬영 영역을 조명하기 위한 램프와; 상기 카메라로부터 촬영된 영상을 받아서 식각 영역의 변화를 모니터링 하기 위한 영상처리부를 포함한다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가장자리 식각 장치의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 서포터부와 유체분사부를 보여주는 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명인 식각 장치는 보울(Bowl)(10), 서포터부(Supporter portion)(100),유체 분사부(Fluid Injecting Portion)(200), 노즐부(Nozzer Portion)(300), 노즐의 위치를 자동으로 보정하기 위한 위치보정장치 그리고 비젼부를 포함한다.
상기 서포터부(100)는 공정이 진행되는 기판(W)이 장착되는 곳으로 척(Chuck)(110), 척킹 핀들(Chucking Pins)(112), 그리고 척 회전부(Chuck Rotating Portion)(130)를 구비한다. 공정 진행 중 기판은 상기 척(110)으로부터 소정거리 이격된 상태에서 위치된다. 상기 기판을 지지하고 기판이 상기 척(110)으로부터 이탈되는 것을 방지하기 위해 상기 척(110)의 가장자리에는 기판의 가장자리를 고정하는 복수의 척킹 핀들(112)이 설치된다.
상기 척(110)은 공정이 진행되는 동안에 회전된다. 이를 위해 상기 서포터부(100)는 상기 척(110)을 회전시키는 척 회전부(130)를 구비한다. 도 2를 참조하면, 상기 척 회전부(130)는 상기 척(110)을 지지하는 척 지지대(Chuck Supporter)(132)와 상기 척 지지대(132)를 회전시키는 척 구동부(Chuck Driving Portion)(134)를 포함한다.
다시 도 2를 참조하면, 상기 서포터부(100) 내에는 기판의 하부면을 식각하기 위한 상기 유체 분사부(200)가 위치된다. 상기 유체 분사부(200)는 유체 분사구(210)와 유체 공급관(220)을 구비한다. 상기 유체 분사구(210)는 상기 척(110)의 중앙에 형성되며, 상기 유체 공급관(220)은 상기 척 지지대(132) 및 상기 척(110)의 내부 중앙에 위치된다. 따라서 외부의 식각액 저장부(도시되지 않음)로부터 상기 유체 공급관(220)을 통해 공급된 식각액은 상기 척(110)의 표면과 상기 웨이퍼 하부면 사이의 공간으로 분사된다.
상기 서포터부(100)는 상기 바울(10) 내에 위치된다. 상기 바울(10)은 개방된 상부를 가지며, 공정진행 중에 분사되는 식각액이 외부로 튀는 것을 방지하기 위해 상기 서포터부(100)의 둘레를 감싸는 부분이다.
본 발명인 식각 장치는 상기 척(110)에 놓여진 기판의 가장자리부에 식각액을 분사하는 노즐부(300)와, 노즐부의 위치를 측정하여 그 위치를 보정하기 위한 위치보정장치를 구비한다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가장자리 식각 장치의 측면도이고, 도 4는 노즐의 위치 보정을 설명하기 위한 가장자리 식각 장치의 평면도이다.
도 3을 참조하면, 상기 노즐부(300)는 노즐(310)과, 노즐지지대(320) 그리고 노즐 이동부를 (Nozzer Moving Portion)(330) 구비한다.
상기 노즐(310)은 그 분사구가 기판의 가장자리를 향하도록 기판 가장자리 상부에 위치되며, 노즐 지지대(320)에 의해 지지된다. 상기 노즐(310)은 그 분사구가 기판의 중심에서 멀어지는 방향을 향하도록, 그리고 기판의 회전방향으로 소정각도 기울어진 상태로 위치된다. 이는 상기 노즐(310)로부터 기판 가장자리로 분사되는 분사액이 웨이퍼 바깥쪽으로 흐르도록 하기 위한 것이다. 상기 노즐(310)로부터 분사되는 식각액은 외부의 식각액 저장부(도시되지 않음)로부터 약액 공급관을 통해 공급된다. 본 실시예에서 상기 약액 공급관은 상기 노즐 지지대(320)의 내부에 위치된다.
도 3을 참조하면, 상기 노즐(310)은 식각되는 기판 가장자리 폭을 조절하기 위해 이동될 수 있다. 이를 위해 상기 노즐부(300)는 상기 노즐지지대(320)와 연결되는 회전축(332), 이 회전축 하단부에 결합되어 상기 노즐(310)을 업/다운 시키기 위한 승강유닛(334)(일반적으로 유압실린더 또는 피니언과 랙 그리고 모터로 구성된 장치가 적용된다), 상기 노즐을 회전시키기 위한 회전유닛(336)(스탭핑 모터와, 풀리 그리고 타이밍 벨트로 구성됨)을 포함하는 노즐 이동부(330)를 구비한다.
한편, 본 발명은 상기 노즐(310)의 위치를 보정하기 위한 장치를 갖는다. 이 노즐 위치 보정 장치는 상기 노즐 지지대(320)의 끝단부의 양측에 x축 거리감지센서(342)와, Y축 거리감지센서(344)가 설치되어 있고, 이들 거리감지센서들은 컨트롤러(346)와 연결되어 있다.
공정 설정시, 상기 노즐의 공정위치는 상기 식각 장치의 프레임(F)과 노즐 지지대(320)와의 위치값(a,b)을 미리 설정하여 둔다. 그리고 매 공정시마다 상기 x축 거리감지센서(342)와, Y축 거리감지센서(344)가 상기 프레임(F)과의 거리(a,b)를 측정하게 되며, 그 측정된 값은 상기 컨트롤러(346)에서 기설정된 위치값과 비교하여 노즐의 현재 위치를 확인하게 된다. 만약, 컨트롤러(346)에서 기설정된 위치값과 측정된 위치값이 틀릴 경우에는, 상기 노즐 이동부의 회전유닛(336)을 작동시켜 상기 노즐 지지대(320)의 위치를 보정한 다음 다시 센서들이 측정하게 된다.
이처럼, 본 발명의 가장자리 식각 장치는 공정을 진행하기 전에 2개의 거리 감지 센서(342,344)들을 이용하여 실시간으로 노즐의 위치를 확인하고, 잘못된 경우에는 노즐의 위치를 자동적으로 보정한다는데 그 특징이 있다.
도 3을 참조하면, 상기 비젼부(180)는 상기 기판의 식각된 영역을 촬영하기 위한 카메라(182)와, 상기 촬영 영역을 조명하기 위한 램프(184) 그리고 상기 카메라로부터 촬영된 영상을 받아서 식각 영역의 변화를 모니터링 하기 위한 영상처리부(186)를 갖는다. 상기 카메라(182)와 램프(184)는 상기 노즐지지대에 설치된다.
여기서, 상기 기판은 포토레티클(reticlo: 회로 원판)용 기판, 액정 디스플레이 패널용 기판이나 플라즈마 디스플레이 패널용 기판 등의 표시 패널 기판, 하드 디스크용 기판, 반도체 장치 등의 전자 디바이스용 웨이퍼 등을 뜻한다.
한편, 본 발명은 상기의 구성으로 이루어진 가장자리 식각 장치는 다양하게 변형될 수 있고 여러 가지 형태를 취할 수 있다. 하지만, 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 특별한 형태로 한정되는 것이 아닌 것으로 이해되어야 하며, 오히려 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
이상에서, 본 발명에 따른 가장자리 식각 장치의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 2개의 거리 감지 센서들을 이용하여 실시간으로 노즐의 위치를 확인하고, 잘못된 경우에는 노즐의 위치를 자동적으로 보정함으로써, 재현성을 확보할 수 있고, 노즐의 위치 보정에 소요되는 시간을 단축시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가장자리 식각 장치의 사시도;
도 2는 본 발명의 서포터부와 유체분사부를 보여주는 단면도;
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가장자리 식각 장치의 측면도;
도 4는 노즐의 위치 보정을 설명하기 위한 가장자리 식각 장치의 평면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10 : 보울(bowl)
100 : 서포터부
200 : 유체 분사부
300 : 노즐부
310 : 노즐
320 : 노즐지지대
330 : 노즐 이동부
332 : 회전축
334 : 승강유닛
336 : 회전유닛
342 : X축 거리감지센서
344 : Y축 거리감지센서
346 : 컨트롤러
182 : 카메라
184 : 램프
186 : 영상처리부

Claims (5)

  1. 가장자리 식각 장치에 있어서:
    반도체 기판이 놓여지는 서포터부와;
    상기 서포터부에 장착된 상기 기판의 가장자리부에 유체를 분사하는 노즐을 갖는 노즐부와;
    상기 노즐의 분사 위치를 측정하여, 그 위치를 보정하기 위한 노즐 위치 보정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 가장자리 식각 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 노즐부는
    상기 노즐이 설치되는 노즐지지대;
    상기 노즐지지대를 이동시키기 위한 노즐 이동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 가장자리 식각 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 노즐 위치 보정부는 상기 노즐지지대에 설치되어 상기 노즐지지대의 x축, y축 좌표를 측정하는 센서들과;
    상기 센서들로부터 측정된 위치값을 받아서 기설정된 위치값과 비교하여 상기 노즐의 위치를 보정하는 콘트롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 가장자리 식각 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 가장자리 식각 장치는
    기판의 식각된 영역을 촬영하여, 그 식각영역의 변화를 실시간으로 모니터링 하기 위한 비젼부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가장자리 식각 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 비젼부는
    상기 노즐지지대에 설치되는 그리고 기판의 식각된 영역을 촬영하는 카메라와;
    상기 촬영 영역을 조명하기 위한 램프와;
    상기 카메라로부터 촬영된 영상을 받아서 식각 영역의 변화를 모니터링 하기 위한 영상처리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 가장자리 식각 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101692915B1 (ko) * 2016-03-09 2017-01-17 주식회사 포톤 반도체 세정 및 건조 설비용 노즐 구동 시스템

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