KR20050023524A - 반도체 제조 장치의 히터 장착 구조 - Google Patents

반도체 제조 장치의 히터 장착 구조 Download PDF

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KR20050023524A
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Abstract

본 발명은 스퍼터링 장치내에 히터의 좌우 움직임(틀어짐)을 방지하여, 리프트 핀 및 웨이퍼의 손상을 방지할 수 있는 반도체 제조 장치의 히터 장착 구조를 개시한다. 개시된 본 발명은, 웨이퍼가 안착되는 히터 테이블, 상기 히터 테이블을 지지하는 지지부, 및 상기 지지부의 소정 부분을 고리 형태로 감싸는 한 쌍의 클램프 링을 포함하며, 상기 클램프 링이 설치되는 지지부에 상기 클램프 링이 놓여지도록 단부가 설치되며, 상기 단부의 소정 부분에 얼라인 핀이 설치되어 있고, 상기 클램프 링 중 어느 하나에 상기 얼라인 핀을 수용할 수 있는 홈부가 마련되어, 상기 히터와 클램프 링이 기계적으로 연결된다.

Description

반도체 제조 장치의 히터 장착 구조{Installation structure of heater in semiconductor manufacturing apparatus}
본 발명은 반도체 제조 장치의 히터 장착 구조에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 스퍼터링(sputtering) 장치의 히터 장착 구조에 관한 것이다.
일반적으로 스퍼터링 장치는 금속 타겟을 이용하여 웨이퍼상에 물리적인 방식으로 금속막을 증착하는 방식이다. 현재에는 이러한 스퍼터링 방식에 의해 증착된 금속막에 리플로우(reflow)와 같이 소정의 열을 제공하기 위하여, 스퍼터링 장치내에 히터를 장착하고 있다.
도 1은 히터가 장착된 일반적인 스퍼터링 장치의 단면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 스퍼터링 장치(10)내에 히터(15)가 장착된다. 히터(15) 상부 표면에는 웨이퍼(20)가 배치되며, 히터(15)의 양측 가장자리 부분에는 웨이퍼(20)를 상하 이동시키는 리프트 핀(17)이 설치된다. 웨이퍼(20) 상부에는 타겟층(도시되지 않음)을 구비한 샤워해드(showerhead:25)가 배치된다. 히터(15)는 그 하부에 2개의 클램프 링(clamp ring:30)에 의해 고정된다. 이와 같은 히터(15)는 작업자에 의해 육안으로 얼라인(align)된다.
그러나, 종래와 같이 스퍼터링 장치내에 히터(15)는 작업자에 의해 수동 얼라인됨에 따라, 미세한 좌우 틀어짐이 발생되더라도 작업자가 쉽게 확인하기 어렵다. 이로 인하여, 웨이퍼를 이송하는 블래이드(blade) 이동시 리프트 핀(17)의 좌우 갭이 부족할 수 있고 이에 따라 리프트 핀이 손상 및 웨이퍼의 손상을 초래할 수 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 스퍼터링 장치내에 히터의 좌우 움직임을 방지하여, 리프트 핀 및 웨이퍼의 손상을 방지할 수 있는 반도체 제조 장치의 히터 장착 구조를 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 반도체 제조 장치의 히터 장착 구조는, 웨이퍼가 안착되는 히터 테이블, 상기 히터 테이블을 지지하는 지지부, 및 상기 지지부의 소정 부분을 고리 형태로 감싸는 한 쌍의 클램프 링을 포함하며, 상기 지지부 및 클램프 링은 기계적으로 체결되어 있다.
상기 클램프 링이 설치되는 지지부에 상기 클램프 링이 놓여지도록 단부가 설치된다.
상기 단부의 소정 부분에 얼라인 핀이 설치되어 있으며, 상기 클램프 링 중 어느 하나에, 상기 얼라인 핀을 수용할 수 있는 홈부가 마련되어 있다.
(실시예)
이하 첨부한 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하도록 한다. 그러나, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이며, 도면상에서 동일한 부호로 표시된 요소는 동일한 요소를 의미한다.
도 2는 본 발명에 따른 스퍼터링 장치에 장착되는 히터를 나타낸 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 클램프 링을 나타낸 평면도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 스퍼터링 장치에 장착되는 히터(100)는 웨이퍼(도시되지 않음)가 장착되는 원판 형태의 히터 테이블(110)과, 히터 테이블(110)을 지지하는 봉 형상의 지지부(120)를 포함한다.
지지부(120)의 소정 부분에 지지부(120)를 고정하도록 2개의 클램프 링(130)이 설치된다.
이때, 클램프 링(130)이 설치되는 지지부(120)에 단부(125)가 구비되고, 단부(125)의 폭은 클램프 링(130)의 폭 정도임이 바람직하다. 지지부(120)의 단부(125)에는 상부를 향하여 돌출된 얼라인 핀(127)이 설치되어 있다.
한편, 상기 고리 형태로 지지부(120)를 채우도록 형성되는 2개의 클램프 링(130)의 어느 하나에 상기 단부(125)에 설치된 얼라인 핀(127)을 수용하는 홈부(135)가 구비된다.
이와 같이 클램프 링(130)이 설치되는 지지부(120)의 단부(125)에 얼라인 핀(127)을 설치하고, 클램프 링(130)중 어느 하나에 얼라인 핀(127)을 수용할 수 있는 홈부(135)를 설치함으로써, 얼라인 핀(127)이 홈부(135)에 삽입 고정되어, 히터(100) 즉 히터의 지지부(120)가 클램프 링(130)에 의해 기계적으로 고정된다.
본 실시예에서는 예를 들어 단부에 얼라인 핀을 설치하였으나, 상기 핀에만 국한되지 않고, 지그(jig)등 돌출된 형상을 가지면서 상기 홈부에 수용될 수 있으면 모두 여기에 적용된다.
이상에서 자세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 클램프 링이 설치되는 히터의 지지부에 얼라인 핀을 설치하고, 얼라인 핀과 대응되는 클램프 링 부분에 얼라인 핀을 수용하는 홈부를 설치한다. 클램프 링을 상기 지지부에 설치시 상기 얼라인 핀이 상기 클램프 링의 홈부에 삽입 고정되어, 히터의 지지부와 클램프 링이 기계적으로 고정된다.
이와 같이 히터가 클램프 링에 기계적으로 고정됨에 따라, 히터 즉, 히터 테이블의 좌우 틀어짐이 감소되어, 리프트 핀의 갭을 충분히 확보할 수 있어, 리프트 핀 및 웨이퍼의 파손을 방지할 수 있다.
이상 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러가지 변형이 가능하다.
도 1은 히터가 장착된 일반적인 스퍼터링 장치의 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 스퍼터링 장치에 장착되는 히터를 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 클램프 링을 나타낸 평면도이다.
(도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명)
100 : 히터 110 : 히터 테이블
120 : 지지부 125 : 단부
127 : 얼라인 핀 130 : 클램프 링
135 : 홈부

Claims (3)

  1. 웨이퍼가 안착되는 히터 테이블;
    상기 히터 테이블을 지지하는 지지부; 및
    상기 지지부의 소정 부분을 고리 형태로 감싸는 한 쌍의 클램프 링을 포함하며,
    상기 지지부 및 클램프 링은 기계적으로 체결되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치의 히터 장착 구조.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 클램프 링이 설치되는 지지부에 상기 클램프 링이 놓여지도록 단부가 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치의 히터 장착 구조.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 단부의 소정 부분에 얼라인 핀이 설치되어 있으며,
    상기 클램프 링 중 어느 하나에, 상기 얼라인 핀을 수용할 수 있는 홈부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치의 히터 장착 구조.
KR1020030059820A 2003-08-28 2003-08-28 반도체 제조 장치의 히터 장착 구조 KR20050023524A (ko)

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KR200482926Y1 (ko) 2015-10-02 2017-03-16 (주)씨에스텍 뒤틀림 현상을 감소시킨 유기금속 화학증착프로세싱 챔버용 오메가형 히터

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