KR20050013367A - Bonding Equipment For Bonding Anisotropic Conductive Film And Flexible Circuit Board Of Flat Panel Display - Google Patents

Bonding Equipment For Bonding Anisotropic Conductive Film And Flexible Circuit Board Of Flat Panel Display

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KR20050013367A
KR20050013367A KR1020030051990A KR20030051990A KR20050013367A KR 20050013367 A KR20050013367 A KR 20050013367A KR 1020030051990 A KR1020030051990 A KR 1020030051990A KR 20030051990 A KR20030051990 A KR 20030051990A KR 20050013367 A KR20050013367 A KR 20050013367A
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Abstract

PURPOSE: A bonding apparatus for bonding an anisotropic conductive film and a circuit board in a flat panel display is provided to improve bonding quality and efficiency in work processes by making the film and the circuit board easily bonded onto glass by using one equipment. CONSTITUTION: A film bonding part(4) installed on a work stand(2) bonds an anisotropic conductive film(F) onto glass(G). A circuit board bonding part(6) sets and bonds a circuit board(B) on the glass at the work stand. The film bonding part includes a turn table(T1) rotatably installed at the work stand, a loading state(12) which is installed at the turn table and loads the glass and a film bonding unit(14) for bonding the film onto the glass. The circuit board bonding part includes a turn table(T2), a loading unit(24) for loading the glass, a setting unit(26) for setting the circuit board on the loaded glass and a board bonding unit(28) for bonding the set circuit board onto the glass.

Description

평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치{Bonding Equipment For Bonding Anisotropic Conductive Film And Flexible Circuit Board Of Flat Panel Display}Bonding Equipment For Bonding Anisotropic Conductive Film And Flexible Circuit Board Of Flat Panel Display}

본 발명은 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 1대의 장비로 구동칩들이 각각 본딩된 글래스와 회로기판을 용이하게 셋팅 및 본딩하여 본딩 품질은 물론이거니와 작업 공정의 효율성을 대폭 향상시킬 수 있는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus of a flat panel display, and more particularly, to easily set and bond a glass and a circuit board to which driving chips are bonded, respectively, by one equipment, as well as the bonding quality. The present invention relates to an anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus of a flat panel display that can greatly improve the efficiency of the.

일반적으로 엘씨디(LCD)나 이엘디(ELD), 형광표시관(VFD)과 같은 평판디스플레이장치는 점차 경박 단소화 되어 감에 따라 주로 분리된 형태로 글래스의 전극 패턴부의 리드부에 연결되었던 구동칩(Drive Chip)들이 글래스의 패턴부에 직접 본딩됨과 아울러 이 글래스의 패턴부에 회로기판이 함께 본딩되어 적용되는 제품의 전기장치들에 직접 연결될 수 있는 상태로 양산된다.In general, flat panel display devices such as LCD, ELD, and fluorescent display tubes (VFDs) are driven in the form of thinner and lighter devices, which are mainly separated into driving chips that are connected to the lead portion of the glass electrode pattern part. The drive chips are bonded directly to the pattern portion of the glass, and the circuit board is bonded together to the pattern portion of the glass so that it can be directly connected to the electrical devices of the applied product.

상기와 같이 글래스와 회로기판을 본딩하는 방법은 각각의 본딩 공정에서 글래스 및 회로기판에 구동칩을 각각 본딩한 후 이 구동칩들이 본딩된 글래스와 회로기판을 다시 본딩하는 공정을 행하게 된다.As described above, the bonding method of the glass and the circuit board is performed by bonding the driving chips to the glass and the circuit board, respectively, in each bonding process, and then bonding the glass and the circuit board to which the driving chips are bonded.

이와 같은 본딩공정을 행할 때에는 필름 본딩장치로 상기 글래스의 패턴부에 이방전도성필름과 같은 전도성 절연필름을 본딩한 후 이를 다시 기판 본딩장치로 옮겨서 회로기판을 본딩하는 2개의 공정으로 이루어진다.When performing such a bonding process, a film bonding device is used to bond a conductive insulating film such as an anisotropic conductive film to a pattern portion of the glass, and then transfer the same to a substrate bonding device to bond the circuit board.

상기와 같이 필름 본딩공정에서 글래스의 패턴부에 이방전도성필름을 부착하면 상기 글래스의 패턴부에 본딩되는 회로기판의 패턴부가 최적의 전도성을 가지며 원활하게 본딩됨은 물론이거니와 상기 글래스의 패턴부에 하나 이상이 형성되는 패턴들이 서로 절연된 상태가 되므로 이들 패턴에 대응하는 회로기판의 패턴들에만 전도성을 부여하면서 본딩되므로 회로기판의 본딩시 요구되는 전도성 및 접착성, 절연성 등을 충족시켜 본딩 품질을 향상시킬 수 있게 된다.As described above, when the anisotropic conductive film is attached to the pattern portion of the glass in the film bonding process, the pattern portion of the circuit board bonded to the pattern portion of the glass has an optimal conductivity and is smoothly bonded. Since the formed patterns are insulated from each other, bonding is performed while providing conductivity only to the patterns of the circuit board corresponding to the patterns, thereby improving the bonding quality by satisfying the conductivity, adhesiveness, and insulation required for bonding the circuit board. It becomes possible.

상기 종래의 회로기판 본딩장치의 일반적인 구조는, 작업대와, 이 작업대의 상측면에 설치되고 글래스가 로딩되는 글래스 플레이트와, 상기 작업대에서 상기 글래스 플레이트에 대응하여 위치하고 회로기판이 로딩되는 회로기판 플레이트와, 상기 글래스 및 회로기판 플레이트에 로딩된 글래스와 회로기판을 본딩하는 본딩부를 포함하는 구조로 이루어진다.The general structure of the conventional circuit board bonding apparatus includes a work table, a glass plate installed on an upper side of the work table and loaded with glass, a circuit board plate positioned corresponding to the glass plate on the work table and loaded with a circuit board; The glass and the circuit board is made of a structure including a bonding portion for bonding the glass and the circuit board loaded on the plate.

그러나, 상기한 종래의 본딩방법으로 글래스에 회로기판을 본딩하려면 서로 독립된 2개의 공정 즉, 필름 본딩공정에서 이방전도성필름을 본딩한 후 필름이 본딩된 글래스를 다시 상기 회로기판 본딩장치로 옮겨서 본딩하여야 하므로 만족할 만한 공정의 효율성을 기대하기 어렵다.However, in order to bond the circuit board to the glass by the conventional bonding method described above, after bonding the anisotropic conductive film in two independent processes, that is, the film bonding process, the glass on which the film is bonded is transferred back to the circuit board bonding apparatus. Therefore, it is difficult to expect satisfactory process efficiency.

그리고 상기 공정에서 사용되는 필름 본딩장치 및 회로기판 본딩장치를 각각 제작하여야 하므로 제작비 및 유지보수에 과다한 비용이 소요되는 문제가 있다. 게다가 상기 본딩장치들은 1대의 장비로 단순히 필름이나 회로기판을 본딩하는 기능에 한정되므로 그 구조상 작업능률과 생산성을 향상시키기에는 한계가 있다.In addition, since the film bonding apparatus and the circuit board bonding apparatus to be used in the above process must be manufactured, there is a problem in that an excessive cost is required for production cost and maintenance. In addition, since the bonding apparatuses are limited to the function of simply bonding a film or a circuit board with one piece of equipment, there is a limit in improving work efficiency and productivity in terms of their structure.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 1개 공정에서 구동칩이 본딩된 회로기판과 글래스를 용이하게 본딩할 수 있으며, 1대의 장비로 글래스에 이방전도성필름과 회로기판을 순차적으로 본딩함으로서 작업시간과 공정을 대폭 단축시켜 생산성과 작업효율을 향상시킬 수 있는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, an object of the present invention is to easily bond the circuit board and the glass bonded to the driving chip in one process, and to the glass in one equipment The present invention provides an anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus of a flat panel display that can improve productivity and work efficiency by greatly reducing work time and process by sequentially bonding an anisotropic conductive film and a circuit board.

상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 실현하기 위하여, 작업대와, 이 작업대에 설치되어 글래스에 이방전도성필름을 본딩하는 필름 본딩부와, 상기 작업대에서 상기 필름 본딩부와 이격 설치되고 상기 필름 본딩부에서 이방전도성필름이 본딩된 글래스에 회로기판을 셋팅 및 본딩하는 회로기판 본딩부를 포함하며,In order to realize the object of the present invention as described above, a workbench, a film bonding portion which is provided on the workbench to bond the anisotropic conductive film to the glass, and the film bonding portion is provided spaced apart from the film bonding portion in the workbench It includes a circuit board bonding portion for setting and bonding the circuit board to the glass bonded the anisotropic conductive film,

상기 필름 본딩부는, 상기 작업대에서 회전 가능하게 설치되는 회전테이블과, 이 회전테이블에 설치되고 글래스가 로딩되는 로딩스테이지와, 상기 작업대에서 상기 로딩스테이지에 대응하도록 위치하고 이방전도성필름을 상기 글래스에 본딩하는 필름 본딩유니트를 포함하고,The film bonding unit includes a rotary table rotatably installed on the work table, a loading stage installed on the rotary table and loaded with glass, and a bonding table positioned to correspond to the loading stage on the work table to bond the anisotropic conductive film to the glass. A film bonding unit,

상기 회로기판 본딩부는, 상기 작업대에 회전 가능하게 설치되는 회전테이블과, 이 회전테이블에 설치되며 글래스가 로딩되는 로딩유니트들과, 상기 작업대에서 상기 로딩유니트에 대응하도록 위치하고 로딩된 글래스에 회로기판을 셋팅하는 기판 셋팅유니트와, 상기 작업대에서 상기 로딩유니트에 대응하도록 위치하고 글래스에 셋팅된 회로기판을 본딩하는 기판 본딩유니트를 포함하는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치를 제공한다.The circuit board bonding unit includes a rotary table rotatably installed on the work table, loading units installed on the rotary table and loaded with glass, and a glass substrate positioned and loaded on the work table so as to correspond to the loading unit. It provides an anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus of a flat panel display including a substrate setting unit for setting, and a substrate bonding unit for bonding a circuit board set on the glass to correspond to the loading unit in the workbench.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치의 전체사시도.1 is an overall perspective view of an anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus of a flat panel display according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 평면도.2 is a plan view of FIG.

도 3은 도 1의 필름 본딩유니트 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.3 is a partially enlarged perspective view for explaining the structure of the film bonding unit of FIG.

도 4는 도 3의 필름 본딩헤드로 필름을 본딩하는 상태를 나타내는 부분 확대단면도.4 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a state in which a film is bonded by the film bonding head of FIG. 3.

도 5는 도 1의 기판 셋팅유니트 및 기판 본딩유니트 구조를 설명하기 위한 부분확대 사시도.FIG. 5 is a partially enlarged perspective view illustrating a structure of a substrate setting unit and a substrate bonding unit of FIG. 1. FIG.

도 6은 도 1의 회로기판 본딩부의 로딩유니트 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.6 is a partially enlarged perspective view illustrating a structure of a loading unit of the circuit board bonding part of FIG. 1;

도 7은 도 6의 글래스 로딩 구조를 설명하기 위한 측단면도.7 is a side cross-sectional view for explaining the glass loading structure of FIG.

도 8은 도 5의 기판 셋팅유니트의 작동을 설명하기 위한 부분 확대사시도.8 is a partially enlarged perspective view for explaining the operation of the substrate setting unit of FIG.

도 9는 도 1의 필름 본딩부와 회로기판 본딩부 사이에 설치되는 이송장치의 구조를 설명하기 위한 부분 확대평면도이다.9 is a partially enlarged plan view for explaining a structure of a transfer apparatus installed between the film bonding portion and the circuit board bonding portion of FIG. 1.

이하, 본 발명의 바람직한 일실시예를 첨부한 도면을 참조하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the present invention will be described in detail as follows.

도 1, 도 2를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치는, 작업대(2)와, 이 작업대(2)에 설치되어 글래스(G)에 이방전도성필름(F)을 본딩하는 필름 본딩부(4)와, 상기 작업대(2)에서 상기 필름 본딩부(4)와 이격 설치되고 상기 필름 본딩부(4)에서 이방전도성필름(F)이 본딩된 글래스(G)에 회로기판(B)을 셋팅 및 본딩하는 회로기판 본딩부(6)를 포함한다.1 and 2, an anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus of a flat panel display according to an embodiment of the present invention are installed on a work table 2 and the work table 2 to be anisotropic on glass G. The film bonding part 4 bonding the conductive film F, and the worktable 2 is spaced apart from the film bonding part 4 and the anisotropic conductive film F is bonded at the film bonding part 4. And a circuit board bonding part 6 for setting and bonding the circuit board B to the glass G.

상기 작업대(G)는 금속 파이프 및 판재들이 용접 또는 볼트와 같은 체결부재 등으로 결합되어 도면에서와 같은 사각형상의 프레임 형태로 제작된다. 상기 작업대(2)의 상측면에는 상판(8)이 설치되고 하측면에는 바닥에 지지되기 위한 지지구(10)들이 도면에서와 같이 설치된다.The working table (G) is manufactured in the form of a rectangular frame as shown in the drawing by combining the metal pipe and plate with a fastening member such as welding or bolt. The upper plate 8 is installed on the upper side of the work table 2, and the supporters 10 for supporting the bottom are installed on the lower side as shown in the drawing.

상기 상판(8)은 일정한 두께를 가지며 하중이나 충격 그리고, 온도의 변화 등에 의해 표면이 파손되거나 변형되는 것을 방지하고 항상 일정한 평면도(平面度)가 유지될 수 있는 재질로 제작되어 상기 작업대(2)의 상부에서 평면의 작업 영역이 제공될 수 있도록 수평한 자세로 설치된다.The upper plate 8 is made of a material which has a constant thickness and prevents the surface from being damaged or deformed due to a load, an impact, a change in temperature, etc., and maintains a constant flatness at all times. It is installed in a horizontal position so that a flat working area can be provided at the top of the.

상기 지지구(10)들은 도면에는 나타내지 않았지만 고무 또는 스프링과 같은 완충부재가 구비되어 충격이나 진동을 상쇄시킴은 물론이거니와 높낮이를 조절할 수 있는 구조로 이루어지면 좋다.Although not shown in the drawings, the supporters 10 may be provided with a cushioning member such as rubber or a spring to offset shocks or vibrations, as well as a structure capable of adjusting height and height.

그리고, 상기 작업대(2)에는 도면에는 나타내지 않았지만 후술하는 필름 본딩부(4) 및 회로기판 본딩부(6)의 구동장치들에 전기를 공급하거나 이들의 작동을 제어하기 위한 제어박스가 부착된다.In addition, although not shown in the drawing, the work table 2 is provided with a control box for supplying electricity to the driving devices of the film bonding unit 4 and the circuit board bonding unit 6 or controlling their operation.

상기 필름 본딩부(4)는, 회전테이블(T1)과, 이 회전테이블(T1)에 설치되고 글래스(G)가 로딩되는 로딩스테이지(12)와, 상기 작업대(2)에서 상기 로딩스테이지(12)에 대응하도록 위치하고 이방전도성필름(F)을 상기 글래스(G)에 본딩하는 필름본딩유니트(14)를 포함한다.The film bonding unit 4 includes a rotary table T1, a loading stage 12 mounted on the rotary table T1 and loaded with glass G, and the loading stage 12 on the work table 2. ) And a film bonding unit 14 which is positioned to correspond to and bonds the anisotropic conductive film F to the glass G.

상기 회전테이블(T1)을 도면에서와 같이 일정한 직경을 갖는 원판 모양으로 제작되어 상기 작업대(2)의 상판(8)에 수평하게 위치함과 아울러 구동원(M1)에 설치되어 중심부를 기준으로 회전하는 구조이다.The rotary table (T1) is made in the shape of a disk having a constant diameter as shown in the figure is positioned horizontally on the top plate 8 of the work table (2) and installed in the drive source (M1) to rotate about the center Structure.

상기 구동원(M1)은 서보 모터(Servo Motor)가 사용되고 이 모터의 구동에 의해 상기 회전테이블(T1)이 상기 작업대(2)에서 셋팅된 각도만큼 회전하는 구조이거나 인덱싱 드라이브 테이블(Indexing Drive Table)과 같은 이미 잘 알려진 회전장치가 사용될 수 있다.The drive source M1 has a structure in which a servo motor is used and the rotary table T1 is rotated by an angle set at the work table 2 by the driving of the motor, or an indexing drive table and an indexing drive table. The same well known rotating device can be used.

상기 로딩스테이지(12)는, 도면에서와 같이 글래스(G)가 수평하게 안착될 수 있는 크기의 로딩면(12a)이 제공되는 사각판 형태로 제작되고, 이 로딩면(12)은 글래스(G)의 패턴부(G1) 이외의 영역이 안착됨과 아울러 2개의 변이 가이드 되면서 로딩될 수 있게 상기 로딩스테이지(12)의 표면에서 단차를 갖고 형성될 수 있다. 본 실시예에서는 상기 로딩스테이지(12)가 도 1에서와 같이 상기 회전테이블(T1)의 원주방향으로 등분되어 4개가 제공되는 것으로 나타내고 있다.The loading stage 12 is manufactured in the form of a square plate provided with a loading surface 12a having a size on which the glass G can be horizontally seated, as shown in the drawing, and the loading surface 12 is made of glass G. A region other than the pattern portion G1 of the bottom side) may be seated and two sides may be guided and formed to have a step on the surface of the loading stage 12 so as to be loaded while being guided. In this embodiment, as shown in Fig. 1, four loading stages 12 are divided into equal parts in the circumferential direction of the rotary table T1.

상기 로딩스테이지(12)의 로딩면(12a)에는 도 2에서와 같이 다수개의흡착홀(12b)들이 형성되고, 이 흡착홀(12b)은 상기 회전테이블(T1)의 중심부에 설치된 진공발생장치(V)와 연결되어 이 장치로부터 부압이 작용되면서 로딩된 글래스(G)를 진공으로 고정하는 구조이다.A plurality of suction holes 12b are formed in the loading surface 12a of the loading stage 12 as shown in FIG. 2, and the suction holes 12b are vacuum generators installed at the center of the rotary table T1. It is connected to V), and the negative pressure is applied from this device to fix the loaded glass (G) in a vacuum.

상기 로딩스테이지(12)는 금속 또는 합성수지재 중에서 외력이나 온도 등에 의해 형태가 변형되거나 스크래치 등이 발생되지 않는 재질을 선정하여 제작되고 도면에서와 같이 상기 회전테이블(T1)에 볼트와 같은 체결부재로 고정된다.The loading stage 12 is manufactured by selecting a material from which metal is not deformed or scratched due to external force or temperature, etc., from a metal or synthetic resin material, and as a fastening member such as a bolt to the rotary table T1 as shown in the drawing. It is fixed.

도 1 및 도 3을 참조하면, 상기 필름 본딩유니트(14)는, 고정플레이트(16)와, 이 고정플레이트(16)에 설치된 실린더(C)에 의해 이동되면서 글래스(G)의 패턴부(G1)에 이방전도성필름(F)을 본딩하는 필름 본딩헤드(18)와, 이 필름 본딩헤드(18)에 이방전도성필름(F)을 공급하는 필름 공급장치(20)를 포함한다.1 and 3, the film bonding unit 14 is moved by the fixed plate 16 and the cylinder C installed on the fixed plate 16, and the pattern portion G1 of the glass G is moved. ), And a film bonding head 18 for bonding the anisotropic conductive film (F) to, and a film supply device (20) for supplying the anisotropic conductive film (F) to the film bonding head (18).

상기 고정플레이트(16)는 일정한 두께를 가지는 금속판들이 결합되어 도면에서와 같은 형상으로 제작되고, 도 2에서와 같이 상기 회전테이블(T1)에 설치된 로딩스테이지(12)에 대응하는 위치에서 실린더(C)에 의해 가이드부재(L)를 따라 이동 가능하게 설치된다. 이때, 상기 고정플레이트(16)의 이동방향은 글래스(G)의 패턴부(G1) 길이방향이 되도록 셋팅된다.The fixed plate 16 is formed in the shape as shown in the figure is coupled to the metal plate having a constant thickness, as shown in Figure 2 the cylinder (C) at a position corresponding to the loading stage 12 installed on the rotary table (T1) It is installed to be movable along the guide member (L). At this time, the moving direction of the fixing plate 16 is set to be the longitudinal direction of the pattern portion (G1) of the glass (G).

상기 실린더(C) 및 가이드부재(L)는 통상의 공압 실린더와 "LM"가이드가 사용될 수 있고 후술하는 실린더들과 가이드부재들도 이와 동일 또는 유사한 구조의 것들이 사용된다.As the cylinder C and the guide member L, a conventional pneumatic cylinder and an "LM" guide may be used, and cylinders and guide members described later may be used in the same or similar structure.

상기 필름 본딩헤드(18)는 도 3에서와 같이 글래스(G)의 패턴부(G1) 영역을 가압할 수 있도록 이에 대응하는 구조로 이루어지고, 상기 고정플레이트(16)에 설치된 실린더(C)의 피스톤로드 선단에 고정된다.As shown in FIG. 3, the film bonding head 18 has a structure corresponding to the pressing portion of the pattern portion G1 of the glass G, and has a structure C of the cylinder C installed in the fixing plate 16. It is fixed to the end of the piston rod.

상기 필름 본딩헤드(18)는 상기 실린더(C)에 의해 가압 동작될 때에 도 3에서와 같이 상기 고정플레이트(16)에서 가이드부재(L)를 따라 이동되도록 셋팅된다.The film bonding head 18 is set to move along the guide member L on the fixed plate 16 as shown in FIG. 3 when the film bonding head 18 is pressed by the cylinder C. As shown in FIG.

상기 필름 본딩헤드(18)의 내부에는 도면에는 나타내지 않았지만 본딩시 물리적인 가압력과 함께 열로서 이방전도성필름(F)이 글래스(G)의 패턴부(G1)에 본딩될 수 있도록 예를들면, 발열 코일로 이루어진 이미 잘 알려진 히터장치가 설치될 수 있다.Although not shown in the drawing, the film bonding head 18 may be heat-bonded to the pattern portion G1 of the glass G. A well known heater device consisting of a coil can be installed.

그리고, 상기 필름 본딩헤드(18)와 실린더(C)의 피스톤로드 사이에는 도면에는 나타내지 않았지만 상기 필름 본딩헤드(18)의 과다한 압력을 센싱하여 제어할 수 있도록 로드셀(Load Cell)과 같은 압력감지센서가 설치될 수 있다. 이 센서는 상기 필름 본딩헤드(18)의 가압 동작시 허용범위 이상의 압력이 센싱되면 상기 실린더(C)의 작동이 정지될 수 있도록 셋팅된다.And, although not shown in the figure between the film bonding head 18 and the piston rod of the cylinder (C) pressure sensing sensor such as a load cell (Load Cell) to sense and control the excessive pressure of the film bonding head 18 Can be installed. This sensor is set so that the operation of the cylinder C can be stopped if a pressure exceeding an allowable range is sensed in the pressing operation of the film bonding head 18.

도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 작업대(2)에는 필름 본딩영역에 위치한 글래스(G)의 패턴부(G1) 저면에 대응하여 지지판(22)이 설치되고, 이 지지판(22)은 글래스(G)의 패턴부(G1) 저면 영역을 원활하게 지지할 수 있도록 도면에서와 같은 사각판 모양으로 제작되어 상기 작업대(2)에 견고하게 고정된다.3 and 4, the work table 2 is provided with a support plate 22 corresponding to the bottom surface of the pattern portion G1 of the glass G positioned in the film bonding area, and the support plate 22 is made of glass (glass). In order to smoothly support the bottom surface region of the pattern portion G1 of G), a rectangular plate shape as shown in the drawing is firmly fixed to the work table 2.

상기 필름 공급장치(20)는 일정량의 이방전도성필름(F)이 감겨져서 상기 필름 본딩헤드(18)와 글래스(G)의 패턴부(G1) 사이로 공급되게 한 것으로서, 도면에서와 같이 이방전도성필름(F)이 상기 필름본딩헤드(18)에 공급될 수 있도록 구동 릴(Reel)과 가이드 릴(Reel)들로 이루어지는 통상의 필름공급 구조로 이루어진다.The film supply device 20 is a certain amount of the anisotropic conductive film (F) is wound to be supplied between the film bonding head 18 and the pattern portion (G1) of the glass (G), as shown in the anisotropic conductive film It consists of a conventional film supply structure consisting of a drive reel and guide reels so that F can be supplied to the film bonding head 18.

그리고, 상기 이방전도성필름(F, Anisotropic Conductive Film)은 글래스(G)의 패턴부(G1)에 회로기판(B)이 본딩될 때에 접착성과 절연 및 전도성을 부여하는 통상의 전도성 절연필름이 사용된다.As the anisotropic conductive film (F), a conventional conductive insulating film that provides adhesion, insulation, and conductivity when the circuit board B is bonded to the pattern portion G1 of the glass G is used. .

한편, 상기 작업대(2)에는 상기 필름 본딩부(4)와 이격되어 회로기판 본딩부(6)가 설치되는데, 이 회로기판 본딩부(6)의 구조를 더욱 상세하게 설명한다.On the other hand, the worktable 2 is provided with a circuit board bonding part 6 spaced apart from the film bonding part 4, the structure of the circuit board bonding part 6 will be described in more detail.

도 1, 도 2, 도 5를 참조하면, 상기 회로기판 본딩부(6)는, 회전테이블(T2)과, 이 회전테이블(T2)에 설치되며 글래스(G)가 로딩되는 로딩유니트(24)와, 상기 작업대(2)에 설치되고 상기 로딩유니트(24)에 로딩된 글래스(G)에 회로기판(B)을 셋팅하는 기판 셋팅유니트(26)와, 상기 작업대(2)에 설치되고 글래스(G)에 셋팅된 회로기판(B)을 본딩하는 기판 본딩유니트(28)를 포함한다.1, 2, and 5, the circuit board bonding part 6 includes a rotary table T2 and a loading unit 24 mounted to the rotary table T2 and loaded with glass G. And a substrate setting unit 26 installed on the work table 2 and setting the circuit board B on the glass G loaded on the loading unit 24, and installed on the work table 2 and having a glass ( And a substrate bonding unit 28 for bonding the circuit board B set in G).

상기 회전테이블(T2)은 상기 필름본딩부(4)의 회전테이블(T1)과 동일한 구조 즉, 일정한 직경을 가지는 원판 모양으로 제작되고, 도 1에서와 같이 상기 작업대(2)에서 상기 필름 본딩부(4)의 회전테이블(T1)과 이격되어 수평하게 위치한다.The rotary table T2 is manufactured in the same structure as that of the rotary table T1 of the film bonding unit 4, that is, in a disk shape having a constant diameter, and as shown in FIG. 1, the film bonding unit in the work table 2. It is horizontally spaced apart from the rotary table T1 of (4).

상기 회전테이블(T2)은 상기 필름 본딩부(4)의 회전테이블(T1)과 동일하게 서보 모터와 같은 구동원(M2)에 의해 중심부를 기준으로 소정의 각도로 회전하는 구조이다.The rotary table T2 is configured to rotate at a predetermined angle with respect to the center by a driving source M2 such as a servo motor, similarly to the rotary table T1 of the film bonding unit 4.

도 1 및 도 6을 참조하면, 상기 로딩유니트(24)는, 글래스(G)가 로딩되는 글래스 스테이지(30)와, 이 글래스 스테이지(30)를 상기 회전테이블(T2)에서 수평한자세로 지지하는 고정블럭(32)과, 상기 글래스스테이지(30)가 고정됨과 아울러 상기 고정블럭(32)에서 가이드부재(L)를 따라 수직 이동되는 이동블럭(34)을 포함하며, 도 2에서와 같이 상기 회전테이블(T2)에서 일정한 각도로 등분되어 4개가 제공되는 것을 일예로 나타내고 있다.1 and 6, the loading unit 24 includes a glass stage 30 on which glass G is loaded, and the glass stage 30 supporting the glass stage 30 in a horizontal posture at the rotation table T2. The fixed block 32 and the glass stage 30 is fixed and includes a movable block 34 that is vertically moved along the guide member (L) in the fixed block 32, the rotation as shown in FIG. An example is shown in which four pieces are provided at equal angles in the table T2.

상기 글래스 스테이지(30)는 도 6에서와 같이 글래스(G)가 수평하게 안착될 수 있는 크기의 로딩면(30a)이 제공되는 사각판 형태로 제작되고, 이 로딩면(30a)은 글래스(G)의 패턴부(G1) 이외의 영역이 안착됨과 아울러 2개의 변이 가이드 되면서 로딩될 수 있도록 도면에서와 같이 단차지게 형성된다.The glass stage 30 is manufactured in the form of a square plate provided with a loading surface 30a having a size on which the glass G can be horizontally seated, as shown in FIG. 6, and the loading surface 30a is made of glass G. A region other than the pattern portion G1 of) is seated and is stepped as shown in the figure so that the two sides can be loaded while being guided.

상기 글래스 스테이지(30)의 로딩면(30a)에는 하나 이상의 흡착홀(30b)들이 형성되고, 이 흡착홀(30b)은 상기 회전테이블(T2)의 중심부에 설치된 진공발생장치(V)와 연결되어 이 장치로부터 부압이 작용되면서 로딩된 글래스(G)를 진공으로 고정하는 구조이다.One or more adsorption holes 30b are formed in the loading surface 30a of the glass stage 30, and the adsorption holes 30b are connected to a vacuum generator V installed at the center of the rotation table T2. While the negative pressure is applied from this device, the loaded glass G is fixed in a vacuum.

상기 글래스 스테이지(30)는 외력이나 온도 등에 의해 형태가 변형되거나 스크래치 등이 발생되지 않는 금속 또는 합성수지재 중에서 어느 하나를 선정하여 제작된다.The glass stage 30 is manufactured by selecting any one of a metal or a synthetic resin material whose shape is not deformed or scratched due to external force or temperature.

상기 고정블럭(32)은 도 6에서와 같이 예를들면, "L"자 모양으로 제작되고, 상기 회전테이블(T2)의 원주방향 테두리부에서 대략 수직방향으로 세워진 자세를 가지며 볼트와 같은 체결부재로 고정된다.The fixing block 32 is made of, for example, a "L" shape as shown in Figure 6, and has a posture standing in a substantially vertical direction at the circumferential edge of the rotary table T2, and fastening member such as a bolt. Is fixed.

상기 이동블럭(34)은 도 6에서와 같이 예를들면, "L"자 형상으로 제작되고, 상기 고정블럭(32)에서 가이드부재(L)를 따라 상하방향으로 미끄럼 이동이 가능하게 설치된다. 이때, 상기 이동블럭(34)은 도 7에서와 같은 수평한 자세로 상기 고정블럭(32)에 셋팅된다.For example, as shown in FIG. 6, the movable block 34 is manufactured to have an “L” shape, and the movable block 34 is installed to be slidably moved along the guide member L in the fixed block 32. At this time, the movable block 34 is set to the fixed block 32 in the horizontal position as shown in FIG.

상기 고정블럭(32)과 이동블럭(34)의 재질은 상기 글래스 스테이지(30)와 동일한 재질로 제작된다.The fixed block 32 and the movable block 34 are made of the same material as the glass stage 30.

상기 이동블럭(34)에는 도 6에서와 같이 보조플레이트(36)가 설치되어 이 보조플레이트(36)에 상기 글래스 스테이지(30)가 수평한 자세로 고정될 수 있다. 이때, 상기 글래스 스테이지(30)는 상기 보조플레이트(36)에 볼트와 같은 체결부재 또는 끼움 결합으로 분리 가능하게 고정된다.As shown in FIG. 6, the auxiliary plate 36 is installed on the movable block 34 so that the glass stage 30 may be fixed to the auxiliary plate 36 in a horizontal posture. In this case, the glass stage 30 is detachably fixed to the auxiliary plate 36 by a fastening member such as a bolt or a fitting coupling.

상기 이동블럭(34)은 상기 고정블럭(32)에서 셋팅된 위치가 탄력적으로 조절 가능하게 고정되는데, 이와 같은 구조를 더욱 상세하게 설명하면, 도 6에서와 같이 상기 이동블럭(34)의 이동방향에 대응하는 자세로 상기 고정블럭(32)에 마이크로미터(Micro Meter)와 유사한 구조의 조절부재(N)가 설치되고 상기 이동블럭(34)에는 상기 조절부재(N)의 나사봉(N1)에 접촉되는 연장부(34a)가 돌출 형성된다.The moving block 34 is fixed to the position set in the fixed block 32 to be elastically adjustable, to describe in more detail such a structure, as shown in Figure 6 the moving direction of the moving block 34 An adjustment member N having a structure similar to a micrometer is installed on the fixed block 32 in a posture corresponding to the position, and the movable block 34 has a screw rod N1 of the adjustment member N. The extension part 34a which contacts is protruded.

그리고, 상기 고정블럭(32)에는 도 7에서와 같이 이동블럭(34) 또는 가이드부재(L)의 저면 일측이 탄지되도록 판 스프링과 같은 탄성부재(38)가 설치되어 상기 이동블럭(34)이 상기 조절부재(N)의 조절에 의해 상기 고정블럭(32)에서 탄력적으로 상하방향 위치가 조절되는 구조이다. 이와 같은 구조는 후술하는 기판 본딩유니트(28)들에서 글래스(G)와 회로기판(B)을 본딩할 때에 가압력을 완충시킬 수 있게 되어 회로기판(B)의 셋팅된 위치가 변화되는 것을 방지할 수 있다.In addition, an elastic member 38, such as a leaf spring, is installed on the fixed block 32 such that one side of the bottom surface of the movable block 34 or the guide member L is supported as shown in FIG. By the adjustment of the adjustment member (N) is a structure in which the up and down position is elastically adjusted in the fixed block (32). Such a structure can buffer the pressing force when bonding the glass G and the circuit board B in the substrate bonding units 28 described later to prevent the set position of the circuit board B from being changed. Can be.

상기에서는 조절부재(N)로 마이크로미터와 같이 나사봉(N1)을 이용하는 구조의 것을 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니며, 이외에도 본 발명의 목적을 만족하는 조절부재는 다양하게 적용될 수 있다.In the above description of the structure using a screw rod (N1), such as a micrometer as the adjusting member (N) as shown in the description and drawings as an example, but not limited to this, in addition to the control member that satisfies the object of the present invention is variously applied Can be.

상기에서는 로딩유니트(24)가 상기 회전테이블(T2)에서 볼트와 같은 체결부재로 고정되는 것을 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 이외에도 도면에는 나타내지 않았지만 상기 로딩유니트(24)가 상기 회전테이블(T2)에서 고정된 위치가 변화될 수 있도록 예를들면, 하나 이상의 조절스테이지가 적층된 통상의 매뉴얼 스테이지(Manual Stage)에 설치되어 상기 회전테이블(T2)에서 2방향 또는 그 이상으로 위치 조절이 가능하게 셋팅될 수 있다.In the above description, the loading unit 24 is fixed to the rotary table T2 by a fastening member such as a bolt, but is illustrated in the description and drawings as an example, but is not limited thereto. In addition, although not shown in the drawings, the loading unit 24 is installed in a conventional manual stage in which one or more adjustment stages are stacked so that the fixed position of the rotary table T2 can be changed. The rotation table T2 may be set to be positioned in two directions or more.

상기 회전테이블(T2)에는 상기 글래스 스테이지(30)에 대응하여 후술하는 기판 셋팅유니트(26)에 의해 회로기판(B)이 로딩되기 위한 회로기판 스테이지(40)가 설치된다. 본 실시예에서는 도 1에서와 같이 상기 글래스 스테이지(30)에 대응하여 4개가 제공되는 것을 일예로 나타내고 있다.The rotation table T2 is provided with a circuit board stage 40 for loading the circuit board B by the substrate setting unit 26 which will be described later corresponding to the glass stage 30. In the present embodiment, as shown in FIG. 1, four pieces are provided corresponding to the glass stages 30 as an example.

상기 회로기판 스테이지(40)는 회로기판(B)이 수평하게 안착될 수 있는 크기의 로딩면(40a)이 제공되는 사각판 형태로 제작되고, 상기 로딩면(40a)은 상기 글래스 스테이지(30)와 동일하게 로딩된 회로기판(B)을 진공으로 고정하는 구조로 이루어진다.The circuit board stage 40 is manufactured in the form of a square plate provided with a loading surface 40a having a size on which the circuit board B can be horizontally mounted, and the loading surface 40a is the glass stage 30. The circuit board (B), which is loaded in the same manner as the above, is made of a structure for fixing in a vacuum.

상기 회로기판 스테이지(40)는 상기 회전테이블(T2)에서 상기 글래스 스테이지(30)와 이격되어 도 7에서와 같은 자세로 고정된다. 이때 상기 글래스 스테이지(30)와 회로기판 스테이지(40)의 이격 거리는 이들 스테이지(30,40)에 로딩되는 글래스(G)와 회로기판(B)의 패턴부(G1,B1)들이 허용 범위내로 겹쳐질 수 있게 셋팅된다.The circuit board stage 40 is spaced apart from the glass stage 30 in the rotation table T2 and fixed to the posture as shown in FIG. 7. At this time, the distance between the glass stage 30 and the circuit board stage 40 overlaps the glass G loaded on the stages 30 and 40 and the pattern portions G1 and B1 of the circuit board B within the allowable range. It is set to be good.

상기 글래스 스테이지(30)와 회로기판 스테이지(40) 사이에는 로딩된 글래스(G)의 패턴부(G1) 저면을 지지하기 위한 지지판(42)이 위치하고, 이 지지판 (42)은 투명한 재질 예를들면 유리, 합성수지, 석영 중에서 어느 하나가 도면에서와 같은 모양으로 제작된다.Between the glass stage 30 and the circuit board stage 40 is a support plate 42 for supporting the bottom surface of the pattern portion G1 of the loaded glass G, the support plate 42 is a transparent material, for example Any one of glass, synthetic resin, and quartz is manufactured as shown in the drawing.

상기 기판 셋팅유니트(26)는, 제1 이동플레이트(44)와, 이 제1 이동플레이트 (44)의 이동방향과 직교하는 방향으로 이동하는 제2 이동플레이트(46)와, 이 제2 이동플레이트(46)에 설치되며 진공으로 회로기판(B)을 흡착하는 기판 흡착헤드(48)와, 셋팅되는 글래스(G)와 회로기판(B)을 위치를 각각 스캐닝하는 스캐닝 유니트 (50)를 포함하며, 도 1에서와 같이 상기 작업대(2)에서 상기 회전테이블(T2)의 로딩유니트(24)에 대응하도록 위치한다.The substrate setting unit 26 includes a first moving plate 44, a second moving plate 46 moving in a direction orthogonal to the moving direction of the first moving plate 44, and the second moving plate. A substrate adsorption head 48 installed at 46 and adsorbing the circuit board B with a vacuum, and a scanning unit 50 for scanning positions of the glass G and the circuit board B to be set, respectively. 1, the working table 2 is positioned to correspond to the loading unit 24 of the rotary table T2.

상기 제1 이동플레이트(44)는 일정한 두께를 가지는 판상의 금속 또는 합성수지재가 사용될 수 있으며, 도 5에서와 같은 자세로 상기 작업대(2) 즉, 상판(8)에서 실린더(C)에 의해 가이드부재(L)를 따라 미끄럼 이동이 가능하게 설치된다.The first moving plate 44 may be a plate-like metal or synthetic resin material having a predetermined thickness, and the guide member by the cylinder (C) in the work table 2, that is, the upper plate (8) in a posture as shown in FIG. Sliding along (L) is installed.

상기 제2 이동플레이트(46)는 도면에서와 같이 "L"자 형상으로 제작되고 상기 제1 이동플레이트(44) 상측면에서 실린더(C)에 의해 상기 제1 이동플레이트(44)의 가이드부재(L)와 직교하는 자세의 가이드부재(L)에 미끄럼 이동이 가능하게 설치된다. 이때, 상기 제2 이동플레이트(46)는 후술하는 기판 흡착헤드(48)가 셋팅 영역에 위치한 글래스(G)의 패턴부(G1)에 대응하는 위치로 이동하여 상기 패턴부(G1)에 회로기판(B)을 용이하게 셋팅할 수 있는 이동 범위내로 설치된다.The second moving plate 46 is formed in an "L" shape as shown in the figure and the guide member (1) of the first moving plate 44 by the cylinder (C) on the upper surface of the first moving plate 44 ( The sliding member is installed to the guide member L in a posture perpendicular to L). At this time, the second moving plate 46 is moved to a position corresponding to the pattern portion G1 of the glass G in which the substrate adsorption head 48, which will be described later, is located in the setting region, and a circuit board on the pattern portion G1. It is installed in the range of movement which can easily set (B).

상기 기판 흡착헤드(48)는 상기 회로기판(B)을 진공으로 흡착하는 통상의 진공 흡착구조로 이루어지고, 상기 제2 이동플레이트(46)에 위치함과 아울러 실린더 (C)와 회전장치(52)에 의해 상기 상판(8) 표면을 기준으로 할 때에 수직 이동됨과 아울러 회전 가능하게 고정된다.The substrate adsorption head 48 has a conventional vacuum adsorption structure for adsorbing the circuit board B with a vacuum, and is located on the second moving plate 46 and the cylinder C and the rotating device 52. In the reference to the surface of the upper plate (8), it is vertically moved and rotatably fixed.

상기 회전장치(52)는 통상의 스탭모터(Step Motor)가 사용될 수 있으며, 도면에서와 같이 상기 제2 이동플레이트(46)에서 상기 실린더(C)에 의해 가이드부재 (L)를 따라 상하방향으로 이동되는 슬라이드 플레이트(54)에 설치되며, 이 모터 축에 상기 기판 흡착헤드(48)가 고정된다.The rotating device 52 may be a conventional step motor (step motor), as shown in the vertical movement along the guide member (L) by the cylinder (C) in the second moving plate 46 as shown in the figure It is installed on the slide plate 54 to be moved, and the substrate adsorption head 48 is fixed to this motor shaft.

그리고, 상기 제1 이동플레이트(44)의 이동 구간 일측에는 글래스(G)에 셋팅되기 위한 다수 개의 회로기판(B)이 수납된 수납트레이(54)가 도 5에서와 같이 상기 기판 흡착헤드(48)에 의해 흡착 가능하게 위치한다.In addition, a storage tray 54 in which a plurality of circuit boards B to be set in the glass G is accommodated on one side of the moving section 44 of the first moving plate 44, as shown in FIG. 5. It is located so that adsorption is possible.

상기 스캐닝 유니트(50)는, 상기 작업대(2)에서 회로기판 셋팅영역에 위치하는 글래스(G)의 패턴부(G1)를 스캐닝하는 제1 스캐닝부재(S1)와, 상기 기판 흡착헤드(48)에 의해 이동하는 회로기판(B)을 스캐닝하는 제2 스캐닝부재(S2)와, 상기 제1 및 제2 스캐닝부재(S1,S2)에서 스캐닝된 데이터를 연산하여 상기 기판 흡착헤드(48)의 셋팅위치를 제어하는 제어유니트(U)를 포함한다.The scanning unit 50 includes a first scanning member S1 for scanning the pattern portion G1 of the glass G located in the circuit board setting region on the work table 2, and the substrate adsorption head 48. Setting of the substrate adsorption head 48 by calculating the second scanning member S2 for scanning the circuit board B moving by the second data and the data scanned by the first and second scanning members S1 and S2. It includes a control unit (U) for controlling the position.

상기 제1 스캐닝부재(S1)는 도 7에서와 같이 상기 작업대(2)에서 회로기판(B)의 셋팅 영역에 위치한 글래스 스테이지(30)의 지지판(42) 저면에서 글래스(G)의 패턴부(G1)를 스캐닝할 수 있는 자세로 위치한다. 이때, 상기 회전테이블(T2)에는 상기 제1 스캐닝부재(S1)가 상기 지지판(42)을 통해서 글래스(G)의 패턴부(G1)를 스캐닝할 수 있도록 일정한 영역으로 스캐닝홀(56)이 뚫려진다.As shown in FIG. 7, the first scanning member S1 has a pattern portion of the glass G on the bottom surface of the support plate 42 of the glass stage 30 located in the setting area of the circuit board B in the work table 2. G1) is placed in a position capable of scanning. In this case, a scanning hole 56 is drilled in the rotation table T2 in a predetermined area so that the first scanning member S1 can scan the pattern portion G1 of the glass G through the support plate 42. Lose.

상기 제2 스캐닝부재(S2)는 도 5에서와 같이 상기 제1 이동플레이트(44)의 이동 구간 사이에 위치하여 상기 기판 흡착헤드(48)에 흡착되어 이동하는 회로기판 (B)의 패턴부(B1)를 스캐닝할 수 있는 자세로 고정된다.As shown in FIG. 5, the second scanning member S2 is positioned between the moving sections of the first moving plate 44 and is patterned on the circuit board B to be absorbed and moved by the substrate adsorption head 48. B1) is fixed in a position capable of scanning.

상기 제1 스캐닝부재(S1) 및 제2 스캐닝부재(S2)는 통상의 마이크로 카메라가 사용될 수 있으며, 도면에는 나타내지 않았지만 글래스(G)와 회로기판(B)에 각각 표기된 얼라이닝 포인트(Align Point) 위치를 스캐닝하는 구조이다.As the first scanning member S1 and the second scanning member S2, a conventional micro camera may be used, and although not shown in the drawing, an alignment point marked on the glass G and the circuit board B, respectively. It is a structure for scanning a position.

상기 제1 스캐닝부재(S1) 및 제2 스캐닝부재(S2)는 도면에는 나타내지 않았지만 상기 작업대(2)에서 예를들면, 가이드부재나 조절스테이지 등에 의해 스캐닝되는 글래스(G)나 회로기판(B)의 크기나 패턴 형태에 대응하여 스캐닝 위치가 변화될 수 있게 셋팅될 수 있다.Although not shown in the drawings, the first scanning member S1 and the second scanning member S2 are, for example, the glass G or the circuit board B scanned by the guide member or the adjusting stage. The scanning position may be set to change according to the size or pattern shape of the.

상기 제1 스캐닝부재(S1) 및 제2 스캐닝부재(S2)는 이들이 스캐닝한 데이터가 제어유니트(U)로 전송될 수 있도록 셋팅되며, 이 제어유니트(U)는 스캐닝된 2개의 데이터를 상호 연산하여 상기 기판 흡착헤드(48)의 셋팅 위치를 제어할 수 있는 예를들면, 마이크로 컴퓨터(Micro Computer)가 사용될 수 있다.The first scanning member S1 and the second scanning member S2 are set such that the data scanned by them can be transmitted to the control unit U, and the control unit U mutually computes the two scanned data. For example, a micro computer that can control the setting position of the substrate adsorption head 48 may be used.

상기 제어구조를 좀더 상세하게 설명하면, 상기 제어유니트(U)는 상기 제1 스캐닝부재(S1)와 제2 스캐닝부재(S2)로부터 글래스(G)와 회로기판(B)의 위치가 스캐닝된 데이터가 전송되면, 이들 데이터를 연산한 후 허용된 오차범위 이상의 편차가 발생되면 상기 기판 흡착헤드(48)를 다음과 같이 제어하면서 회로기판(B)을 글래스(G)의 패턴부(G1)에 허용 범위내로 셋팅한다.In more detail, the control unit U includes data in which positions of the glass G and the circuit board B are scanned from the first and second scanning members S1 and S2. Is transmitted, and after calculating these data, if a deviation exceeding the allowable error range occurs, the circuit board B is allowed to the pattern portion G1 of the glass G while controlling the substrate adsorption head 48 as follows. Set within the range.

즉, 스캐닝된 데이터에 의해 허용범위 이상으로 편차가 발생되면, 상기 글래스(G)의 위치 편차에 대응하여 상기 제1 및 제2 이동플레이트(44,46)의 이동 범위를 제어하면서 상기 기판 흡착헤드(48)에 흡착된 회로기판(B)을 글래스(G)의 패턴부(G1)에 대응하도록 허용 범위내로 위치 편차를 보정함과 아울러 상기 회전장치(52)에 의해 상기 글래스(G)의 각도 편차에 대응하도록 회로기판(B)을 회전시켜서 허용 범위내로 각도 편차를 보정하면서 셋팅되도록 한 구조이다.(도 8참조)That is, when a deviation occurs beyond the allowable range due to the scanned data, the substrate suction head while controlling the movement range of the first and second moving plates 44 and 46 in response to the positional deviation of the glass G. The circuit board B adsorbed on the 48 is corrected for the position deviation within the allowable range so as to correspond to the pattern portion G1 of the glass G, and the angle of the glass G is caused by the rotating device 52. The circuit board B is rotated so as to correspond to the deviation so as to be set while correcting the angle deviation within the allowable range. (See Fig. 8).

도 1 및 도 5를 참조하면, 상기 기판 본딩유니트(28)는, 고정플레이트(58)와, 이 고정플레이트(58)에 설치된 실린더(C)에 의해 가압 동작되면서 글래스(G)의 패턴부(G1)에 셋팅된 회로기판(B)을 본딩하는 기판 본딩헤드(60)를 포함한다. 본 실시예에서는 상기 작업대(2)에 2개의 본딩유니트 즉, 제1 본딩유니트(28a)와 제2 본딩유니트(28b)가 제공되고 상기 제1본딩유니트(28a)가 상기 기판 셋팅유니트(26)의 셋팅 영역에 위치하는 것을 일예로 나타내고 있다.1 and 5, the substrate bonding unit 28 is pressed by the fixing plate 58 and the cylinder C provided on the fixing plate 58, and the pattern portion of the glass G ( And a substrate bonding head 60 for bonding the circuit board B set in G1). In this embodiment, two bonding units, that is, a first bonding unit 28a and a second bonding unit 28b, are provided on the work table 2, and the first bonding unit 28a is provided with the substrate setting unit 26. Positioning in the setting area of is shown as an example.

상기 고정플레이트(58)는 일정한 두께를 가지는 금속판들이 결합되어 도면에서와 같은 형상으로 제작되고, 상기 작업대(2)에서 상기 회전테이블(T2)의 외주면에 인접되어 도 2에서와 같이 상기 회전테이블(T2)의 글래스 스테이지(30)에 대응하도록 위치한다. 이때, 상기 제1 본딩유니트(28a)의 고정플레이트(58)는 상기 기판 셋팅유니트(26)의 작동 범위를 고려하여 이 셋팅부(26)와 접촉되지 않도록 셋팅되어야 한다.The fixed plate 58 is formed in a shape as shown in the figure by combining the metal plate having a constant thickness, and is adjacent to the outer circumferential surface of the rotary table T2 in the work table (2) as shown in Figure 2 It is located so as to correspond to the glass stage 30 of T2). At this time, the fixing plate 58 of the first bonding unit 28a should be set so as not to contact the setting unit 26 in consideration of the operating range of the substrate setting unit 26.

상기 고정플레이트(58)는 도 1에서와 같이 상기 작업대(2)의 상판(8)에서 가이드부재(L)에 미끄럼 이동이 가능하게 설치됨과 아울러 실린더(C)에 의해 상기 가이드부재(L)를 따라 이동되도록 설치된다. 이때, 상기 가이드부재(L)는 상기 고정플레이트(58)가 상기 회전테이블(T2)에서 제 1 및 제 2 본딩 영역에 위치한 글래스 스테이지(30)에 로딩된 글래스(G)의 패턴부(G1) 길이방향을 따라 이동될 수 있도록 셋팅된다.As shown in FIG. 1, the fixing plate 58 is slidably mounted to the guide member L on the upper plate 8 of the work table 2, and the guide member L is moved by the cylinder C. FIG. It is installed to move along. At this time, the guide member (L) is the pattern portion (G1) of the glass (G), the fixing plate 58 is loaded on the glass stage 30 located in the first and second bonding area in the rotary table (T2). It is set to be movable along the longitudinal direction.

상기 기판 본딩헤드(60)는 상기 고정플레이트(58)에서 글래스(G)의 패턴부 (G1)를 향하여 가압 동작될 수 있는 자세로 실린더(C)의 피스톤로드에 연결된다.The substrate bonding head 60 is connected to the piston rod of the cylinder C in a posture that can be pressed against the pattern portion G1 of the glass G in the fixing plate 58.

상기 기판 본딩헤드(60)는 글래스(G)의 패턴부(G1)에 셋팅된 회로기판(B)의 패턴부(B1)를 가압할 수 있는 통상의 구조로 이루어지고, 도면에는 나타내지 않았지만 내부에는 본딩시 물리적인 압력과 함께 열로서 회로기판(B)이 글래스(G)의 패턴부(G1)에 본딩될 수 있도록 발열 코일로 이루어지는 통상의 히터장치가 설치될 수 있다.The substrate bonding head 60 has a conventional structure capable of pressing the pattern portion B1 of the circuit board B set on the pattern portion G1 of the glass G, and is not shown in the drawing. When bonding, a conventional heater device including a heating coil may be installed so that the circuit board B may be bonded to the pattern portion G1 of the glass G as heat together with physical pressure.

상기 기판 본딩헤드(60)는 상기 고정플레이트(58)에서 상기 실린더(C)에 의해 가압 동작될 때에 정해진 가압 구간으로만 이동될 수 있도록 도면에서와 같이 상기 고정플레이트(58)에서 가이드부재(L)를 따라 가압 동작되도록 셋팅된다.The substrate bonding head 60 is a guide member (L) in the fixed plate 58 as shown in the figure so that it can be moved only in a predetermined pressing section when the pressing operation by the cylinder (C) in the fixed plate 58 It is set to pressurize along).

그리고, 도면에는 나타내지 않았지만 상기 기판 본딩헤드(60)와 실린더(C)의 피스톤로드 사이에는 상기 필름 본딩유니트(14)와 동일하게 상기 기판 본딩헤드(60)의 과다한 가압력을 센싱하여 제어할 수 있도록 로드셀과 같은 압력감지센서가 설치될 수 있다.Although not shown in the drawings, an excessive pressing force of the substrate bonding head 60 may be sensed and controlled between the substrate bonding head 60 and the piston rod of the cylinder C in the same manner as the film bonding unit 14. A pressure sensor such as a load cell may be installed.

상기한 기판 본딩유니트(28)즉, 제1 본딩유니트(28a)와 제2 본딩유니트(28b)는 상기 기판 본딩헤드(60)로 정해진 본딩 시간을 분할하여 회로기판(B)이 가접착 및 본접착될 수 있도록 셋팅되어 상기 제1 본딩유니트(28a)는 글래스(G)에 회로기판(B)을 가접착하고 상기 제2 본딩유니트(28b)는 가접착된 회로기판(B)을 글래스(G)에 본접착한다.The substrate bonding unit 28, that is, the first bonding unit 28a and the second bonding unit 28b divides the bonding time defined by the substrate bonding head 60, thereby temporarily attaching and bonding the circuit board B. The first bonding unit 28a is temporarily bonded to the glass G so that the first bonding unit 28a may be bonded to the glass G, and the second bonding unit 28b may be attached to the glass substrate G. 1)

그리고, 상기 필름 본딩부(4)와 회로기판 본딩부(6)의 회전테이블(T1,T2) 사이에는 도 2에서와 같이 이송장치(62)가 설치되어 이 이송장치(62)로 상기 필름 본딩부(4)의 회전테이블(T1)에 로딩된 글래스(G)를 상기 회로기판 본딩부(6)의 회전테이블(T2)로 옮길 수 있다.In addition, a transfer device 62 is installed between the film bonding part 4 and the rotary tables T1 and T2 of the circuit board bonding part 6 as shown in FIG. 2 to bond the film to the transfer device 62. The glass G loaded on the rotary table T1 of the unit 4 may be moved to the rotary table T2 of the circuit board bonding unit 6.

상기 이송장치(62)는 진공으로 상기 글래스(G)를 흡착함과 아울러 정해진 이송구간으로 이동시키는 통상의 구조로 이루어진다.The transfer device 62 has a conventional structure in which the glass G is sucked by a vacuum and moved to a predetermined transfer section.

그리고, 상기 이송장치(62)에 의해 상기 필름 본딩부(4)의 회전테이블(T1)에서 상기 회로기판 본딩부(6)의 회전테이블(T2)로 글래스(G)가 옮겨질 때에는 도 9에서와 같은 자세로 글래스(G)를 회전시켜서 상기 회로기판 본딩부(6)의 회전테이블(T2) 즉, 글래스 스테이지(30)에 로딩될 수 있도록 셋팅된다.When the glass G is moved from the rotary table T1 of the film bonding part 4 to the rotary table T2 of the circuit board bonding part 6 by the transfer device 62, The glass G is rotated in a posture such as to be set to be loaded on the rotation table T2 of the circuit board bonding part 6, that is, the glass stage 30.

상기한 구조로 이루어지는 본 발명의 일실시예에 따른 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치의 바람직한 작동 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, preferred embodiments of the anisotropic conductive film and the circuit board bonding apparatus of the flat panel display according to an embodiment of the present invention having the above-described structure will be described in detail as follows.

먼저, 상기 작업대(2)에서 글래스(G)의 로딩 및 언로딩은 도 2를 기준으로 할 때에 상기 필름 본딩부(4)의 "A'방향에서 로딩되고, 상기 회로기판 본딩부(6)의"B"방향에서 언로딩이 된다.First, the loading and unloading of the glass G on the work table 2 is loaded in the direction of "A" of the film bonding part 4 when referring to FIG. It is unloaded in the "B" direction.

상기 로딩방향(A)에 대응하는 로딩스테이지(12)에 글래스(G)를 로딩시키면, 상기 회전테이블(T1)이 구동원(M1)에 의해 도 2를 기준으로 할 때에 반시계 방향으로 90°회전하여 필름 본딩유니트(14)의 본딩 영역에 위치된다.When the glass G is loaded on the loading stage 12 corresponding to the loading direction A, the rotary table T1 is rotated 90 degrees counterclockwise when the rotary table T1 is driven by the driving source M1 with reference to FIG. 2. In the bonding area of the film bonding unit 14.

상기와 같이 글래스(G)가 로딩된 로딩스테이지(12)가 필름본딩 영역에 위치하면, 상기 필름본딩 유니트(14)가 글래스(G)의 패턴부(G1)에 이방전도성필름(F)을 본딩한다.When the loading stage 12 loaded with the glass G is positioned in the film bonding region as described above, the film bonding unit 14 bonds the anisotropic conductive film F to the pattern portion G1 of the glass G. do.

도 3, 도 4를 참조하여 상기 이방전도성필름(F)의 본딩 과정을 더욱 상세하게 설명하면, 상기 필름 본딩유니트(14)의 필름공급장치(20)에 의해 이방전도성필름(F)이 글래스(G)의 패턴부(G1) 상측면에 공급되고 상기 필름 본딩헤드(18)가 실린더(C)에 의해 가압 동작되면서 글래스(G)의 패턴부(G1)에 이방전도성필름(F)의 전도성 절연 접착층을 본딩하는 것이다.Referring to FIGS. 3 and 4, the bonding process of the anisotropic conductive film F is described in more detail. The anisotropic conductive film F is formed of a glass by the film supply device 20 of the film bonding unit 14. Conductive insulation of the anisotropic conductive film F is supplied to the pattern portion G1 of the glass G while the film bonding head 18 is pressed by the cylinder C and supplied to the upper surface of the pattern portion G1 of G). Bonding the adhesive layer.

상기와 같은 필름본딩 과정이 완료되면 상기 회전테이블(T1)이 다시 동일한 방향으로 90°회전하여 도 2에서와 같이 이송장치(62)에 대응하는 영역에 위치하고 상기 이송장치(62)는 상기 글래스(G)를 흡착하여 상기 회로기판 본딩부(6) 즉, 회전테이블(T2)의 글래스 스테이지(30)에 도 9에서와 같은 자세로 로딩시킨다.When the film bonding process is completed, the rotary table T1 is rotated by 90 ° in the same direction again, and is positioned in an area corresponding to the transfer device 62 as shown in FIG. 2, and the transfer device 62 includes the glass ( G) is adsorbed and loaded into the circuit board bonding portion 6, ie, the glass stage 30 of the rotary table T2, as shown in FIG.

상기와 같이 글래스(G)가 로딩되면 상기 회전테이블(T2)이 도 2를 기준으로 할 때에 반시계 방향으로 90°회전하여 기판 셋팅유니트(26)의 셋팅 영역에 위치하고 상기 기판 셋팅유니트(26)는 다음과 같이 작동하면서 회로기판(B)을 글래스(G)에 셋팅한다.When the glass G is loaded as described above, when the rotary table T2 is rotated 90 ° counterclockwise based on FIG. 2, the glass table G is positioned in the setting area of the substrate setting unit 26 and the substrate setting unit 26. Sets the circuit board (B) to the glass (G) while operating as follows.

도 5를 참조하면, 상기 기판 셋팅유니트(26)의 기판 흡착헤드(48)가 수납트레이(54)에 수납된 회로기판(B)을 흡착하여 제1 이동플레이트(44)를 따라 이동한 후 다시 제2 이동플레이트(46)를 따라 이동하면서 글래스(G)가 로딩된 글래스 스테이지(30)에 대응하는 회로기판 스테이지(40)에 회로기판(B)을 로딩시켜서 상기 글래스(G)의 패턴부(G1)와 회로기판(B)의 패턴부(B1)가 서로 겹쳐지도록 셋팅한다.Referring to FIG. 5, the substrate adsorption head 48 of the substrate setting unit 26 adsorbs the circuit board B accommodated in the accommodation tray 54, moves along the first moving plate 44, and then again. The circuit board B is loaded on the circuit board stage 40 corresponding to the glass stage 30 on which the glass G is loaded while moving along the second moving plate 46 to form the pattern portion of the glass G ( G1) and the pattern portion B1 of the circuit board B are set to overlap each other.

이때, 상기 스캐닝 유니트(50) 즉, 제1 스캐닝부재(S1)는 도 7에서와 같이 상기 글래스 스테이지(30)에 로딩된 글래스(G)의 패턴부(G1)에 표시된 얼러이닝 포인트 위치를 스캐닝하여 스캐닝된 데이터를 상기 제어유니트(U)로 전송한다.In this case, the scanning unit 50, that is, the first scanning member S1 scans the alignment point position displayed on the pattern portion G1 of the glass G loaded in the glass stage 30 as shown in FIG. 7. To transmit the scanned data to the control unit (U).

그리고, 상기 제2 스캐닝부재(S2)는 상기 기판 흡착헤드(48)에 흡착되어 이송되는 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 표시된 얼라이닝 포인트를 스캐닝하여 스캐닝된 데이터를 상기 제어유니트(U)로 전송한다.In addition, the second scanning member S2 scans an alignment point displayed on the pattern portion B1 of the circuit board B, which is sucked by the substrate adsorption head 48 and transports the scanned data to the control unit ( U) to transmit.

그러면, 상기 제어유니트(U)는 상기 2개의 데이터를 연산하여 허용범위 이상의 편차가 발생되면 상기 기판 흡착헤드(48)로 회로기판(B)을 셋팅할 때에 상기 제1 이동플레이트(44) 및 제2 이동플레이트(46) 그리고 상기 기판 흡착헤드(48)를 회전시키는 회전장치(52)의 작동을 제어하면서 상기 글래스(G)의 위치에 대응하여 상기 회로기판(B)의 셋팅 위치를 보정하면서 허용 범위내로 셋팅하는 것이다.Then, the control unit U calculates the two data, and when the deviation exceeds the allowable range, the first moving plate 44 and the first moving plate 44 are set when the circuit board B is set by the substrate adsorption head 48. 2, while controlling the operation of the movable plate 46 and the rotating device 52 for rotating the substrate adsorption head 48, while correcting the setting position of the circuit board (B) corresponding to the position of the glass (G) Is set within range.

상기와 같이 회로기판(B)의 셋팅이 완료되면 상기 기판 본딩유니트(28) 즉, 제1 본딩유니트(28a)의 기판 본딩헤드(60)가 가압 동작되면서 글래스(G)의 패턴부(G1)에 셋팅된 회로기판(B)을 소정의 본딩시간 동안 가접착하고, 가접착이 완료되면 상기 회전테이블(T2)이 다시 회전하여 가접착된 글래스(G)와 회로기판(B)을 상기 제2 본딩유니트(28b)의 본딩 영역에 위치되도록 하여 상기 제2 본딩유니트(28b)의 기판 본딩헤드(60)에 의해 소정의 시간동안 본접착을 행한다.As described above, when the setting of the circuit board B is completed, the substrate bonding unit 28, that is, the substrate bonding head 60 of the first bonding unit 28a is pressed to operate the pattern portion G1 of the glass G. Temporary bonding of the circuit board (B) set in the for a predetermined bonding time, and when the temporary bonding is completed, the rotating table (T2) is rotated again to move the temporarily bonded glass (G) and the circuit board (B) to the second The main bonding is performed for a predetermined time by the substrate bonding head 60 of the second bonding unit 28b so as to be located in the bonding region of the bonding unit 28b.

그리고, 상기 제2 본딩유니트(28b)에서 글래스(G)의 패턴부(G1)에 회로기판(B)의 본딩이 완료되면 상기 회전테이블(T2)이 도 2의 언로딩 방향"B"으로 회전된 후 회로기판(B)이 본딩된 글래스(G)가 언로딩되는 것이다. 따라서, 이와 같은 과정으로 글래스(G)의 패턴부(G1)에 이방전도성 필름(F) 및 회로기판(B)을 순차적으로 본딩할 수 있다.Then, when the bonding of the circuit board B to the pattern portion G1 of the glass G is completed in the second bonding unit 28b, the rotation table T2 rotates in the unloading direction “B” of FIG. 2. After that, the glass G to which the circuit board B is bonded is unloaded. Therefore, in this process, the anisotropic conductive film F and the circuit board B may be sequentially bonded to the pattern portion G1 of the glass G.

상기에서는 본 발명에 따른 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다.In the above, a preferred embodiment of an anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus of a flat panel display according to the present invention has been described, but the present invention is not limited thereto, but the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings are various. It is possible to carry out modification by branch, and this also belongs to the scope of the present invention.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치는, 1대의 장비에 2개의 회전테이블을 설치하여 이방전도성필름과 회로기판을 글래스의 패턴부에 순차적으로 본딩함으로서 작업 공정은 물론이거니와 본딩시 발생되는 홀딩시간을 대폭 단축시켜서 만족할 만한 작업능률과 생산성을 얻을 수 있다.As described above, the anisotropic conductive film and the circuit board bonding apparatus of the flat panel display according to the present invention, by installing two rotary tables in one equipment by bonding the anisotropic conductive film and the circuit board to the pattern portion of the glass in sequence Of course, the holding time generated during bonding can be greatly reduced to obtain satisfactory work efficiency and productivity.

그리고, 본 발명에 따른 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치는 상기 회로기판 본딩부의 기판 셋팅유니트에 의해 글래스에 회로기판을 셋팅할 때에 스캐닝 유니트가 글래스 및 회로기판의 자세를 각각 센싱하여 상기 글래스의 위치에 대응하여 허용 범위내로 편차를 보정하면서 셋팅을 행하는 구조이므로 회로기판의 셋팅 정밀도를 더욱 향상시킴은 물론이거니와 이로 인하여 더욱 양질의 본딩품질을 얻을 수 있다.In addition, the anisotropic conductive film and the circuit board bonding apparatus of the flat panel display according to the present invention, the scanning unit senses the attitude of the glass and the circuit board when the circuit board is set on the glass by the substrate setting unit of the circuit board bonding portion Since the setting is performed while the deviation is corrected within the allowable range corresponding to the position of the glass, the setting accuracy of the circuit board is further improved, and as a result, a better bonding quality can be obtained.

Claims (10)

작업대와, 이 작업대에 설치되어 글래스에 이방전도성필름을 본딩하는 필름 본딩부와, 상기 작업대에서 상기 필름 본딩부와 이격 설치되고 상기 필름 본딩부에서 이방전도성필름이 본딩된 글래스에 회로기판을 셋팅 및 본딩하는 회로기판 본딩부를 포함하며,A circuit board is set on a worktable, a film bonding portion which is attached to the workbench and bonds the anisotropic conductive film to the glass, and which is spaced apart from the film bonding portion on the worktable, and which is bonded to the anisotropic conductive film on the film bonding portion. It includes a circuit board bonding portion for bonding, 상기 필름 본딩부는, 상기 작업대에서 회전 가능하게 설치되는 회전테이블과, 이 회전테이블에 설치되고 글래스가 로딩되는 로딩스테이지와, 상기 작업대에서 상기 로딩스테이지에 대응하도록 위치하고 이방전도성필름을 상기 글래스에 본딩하는 필름 본딩유니트를 포함하고,The film bonding unit includes a rotary table rotatably installed on the work table, a loading stage installed on the rotary table and loaded with glass, and a bonding table positioned to correspond to the loading stage on the work table to bond the anisotropic conductive film to the glass. A film bonding unit, 상기 회로기판 본딩부는, 상기 작업대에 회전 가능하게 설치되는 회전테이블과, 이 회전테이블에 설치되며 글래스가 로딩되는 로딩유니트들과, 상기 작업대에서 상기 로딩유니트에 대응하도록 위치하고 로딩된 글래스에 회로기판을 셋팅하는 기판 셋팅유니트와, 상기 작업대에서 상기 로딩유니트에 대응하도록 위치하고 글래스에 셋팅된 회로기판을 본딩하는 기판 본딩유니트를 포함하는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치.The circuit board bonding unit includes a rotary table rotatably installed on the work table, loading units installed on the rotary table and loaded with glass, and a glass substrate positioned and loaded on the work table so as to correspond to the loading unit. An anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus for a flat panel display comprising a substrate setting unit for setting and a substrate bonding unit for bonding a circuit board set on the glass to correspond to the loading unit in the workbench. 청구항 1에 있어서, 상기 기판 셋팅유니트는, 상기 작업대에 이동 가능하게 설치되는 제1 이동플레이트와, 이 제1 이동플레이트의 이동방향과 직교하는 방향으로 이동하는 제2 이동플레이트와, 이 제2 이동플레이트에 설치되며 진공으로 회로기판을 흡착하는 기판 흡착헤드와, 셋팅되는 글래스와 회로기판을 위치를 각각 스캐닝하는 스캐닝 유니트를 포함하는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치.The said board | substrate setting unit is a 1st moving plate installed so that a movement is possible to the said work table, the 2nd moving plate which moves in the direction orthogonal to the moving direction of this 1st moving plate, and this 2nd movement An anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus of a flat panel display comprising a substrate adsorption head mounted on a plate and adsorbing a circuit board by vacuum, and a scanning unit scanning positions of glass and circuit boards to be set. 청구항 1에 있어서, 상기 로딩유니트는, 글래스가 로딩되는 글래스 스테이지와, 이 글래스 스테이지를 상기 회전테이블에서 수평한 자세로 지지하는 고정블럭과, 상기 글래스 스테이지가 고정됨과 아울러 상기 고정블럭에서 상하 방향 이동이 가능하게 설치되는 이동블럭을 포함하며 상기 회전테이블의 원주방향으로 등분되어 2개 또는 그 이상이 이격 설치되는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치.The glass unit of claim 1, wherein the loading unit comprises: a glass stage into which glass is loaded, a fixed block for supporting the glass stage in a horizontal position on the rotating table, and the glass stage is fixed and moved up and down in the fixed block. An anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus of a flat panel display including a movable block which can be installed so as to be divided into two or more spaced apart in the circumferential direction of the rotary table. 청구항 2에 있어서, 상기 스캐닝 유니트는, 글래스의 위치를 스캐닝하는 제1스캐닝부재와, 회로기판의 위치를 스캐닝하는 제2 스캐닝부재와, 상기 제1 및 제2스캐닝부재에서 스캐닝된 데이터를 연산하여 상기 기판 흡착헤드의 셋팅 동작을 제어하는 제어유니트를 포함하는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치.The scanning unit of claim 2, wherein the scanning unit is configured to calculate a first scanning member for scanning a position of a glass, a second scanning member for scanning a position of a circuit board, and data scanned by the first and second scanning members. Anisotropic conductive film and circuit board bonding apparatus of a flat panel display comprising a control unit for controlling the setting operation of the substrate suction head. 청구항 1에 있어서, 상기 필름 본딩유니트는, 고정플레이트와, 이 고정플레이트에 설치된 실린더에 의해 이동되면서 글래스의 패턴부에 이방전도성필름을 본딩하는 필름 본딩헤드와, 이 필름 본딩헤드에 이방전도성필름을 공급하는 필름 공급장치를 포함하는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치.The film bonding unit according to claim 1, wherein the film bonding unit comprises a film bonding head for bonding an anisotropic conductive film to a pattern portion of the glass while being moved by a fixed plate, a cylinder provided on the fixed plate, and an anisotropic conductive film on the film bonding head. Anisotropic conductive film and circuit board bonding apparatus of a flat panel display including a film supply device to supply. 청구항 1에 있어서, 상기 2개의 회전테이블은 원판 형태로 이루어지고 상기 작업대에서 구동원에 의해 수평한 자세로 회전 가능하게 설치되며, 상기 구동원은 서보 모터(Servo Motor) 또는 인덱싱 드라이브 테이블(Indexing Drive Table) 중에서 어느 하나로 이루어지는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치.The method according to claim 1, wherein the two rotary table is formed in a disk form and is rotatably installed in a horizontal position by a drive source in the work table, the drive source is a servo motor (Servo Motor) or an indexing drive table (Indexing Drive Table) Anisotropic conductive film and circuit board bonding apparatus of a flat panel display made of any one of the. 청구항 1에 있어서, 상기 기판 본딩유니트는, 고정플레이트와, 이 고정플레이트에 설치된 실린더에 의해 가압 동작되면서 글래스의 패턴부에 셋팅된 회로기판을 본딩하는 기판 본딩헤드를 포함하며, 상기 작업대에서 상기 회전테이블에 대응하여 1개 또는 그 이상이 설치되는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치.The substrate bonding unit of claim 1, wherein the substrate bonding unit includes a fixed plate and a substrate bonding head for bonding a circuit board set to a pattern portion of glass while being pressed by a cylinder installed on the fixed plate, wherein the rotation is performed on the work table. An anisotropic conductive film and a circuit board bonding apparatus of a flat panel display provided with one or more corresponding to a table. 청구항 7에 있어서, 상기 고정플레이트는 상기 작업대에서 실린더 또는 모터에 의해 가이드부재를 따라 미끄럼 이동이 가능하게 셋팅되어 상기 기판 본딩헤드를 회로기판 본딩 영역에 위치한 글래스의 패턴부 길이방향으로 이동시키는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치.The flat panel display of claim 7, wherein the fixing plate is set to be slidably moved along the guide member by a cylinder or a motor in the worktable to move the substrate bonding head in the longitudinal direction of the pattern portion of the glass located in the circuit board bonding region. Anisotropic conductive film and circuit board bonding devices. 청구항 1에 있어서, 상기 회로기판 본딩부의 회전테이블에는 상기 로딩유니트에 대응하여 회로기판이 로딩되는 회로기판 스테이지가 설치되는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치.2. The anisotropic conductive film and circuit board bonding apparatus of claim 1, wherein a circuit board stage on which the circuit board is loaded corresponding to the loading unit is installed on the rotation table of the circuit board bonding unit. 청구항 9에 있어서, 상기 로딩유니트와 회로기판 스테이지 사이에는 글래스의 패턴부 저면을 지지하기 위한 지지판이 위치하고 이 지지판은 투명한 합성수지 또는 석영(Quartz) 중에서 어느 하나로 이루어지는 평판디스플레이의 이방전도성필름 및 회로기판 본딩장치.The method of claim 9, wherein a support plate for supporting the bottom surface of the pattern portion of the glass is located between the loading unit and the circuit board stage, the support plate is an anisotropic conductive film and circuit board bonding of a flat panel display made of any one of transparent synthetic resin or quartz (Quartz) Device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN108556332A (en) * 2018-05-30 2018-09-21 湖南腾远智能设备有限公司 A kind of roll-in film sticking apparatus
KR102303093B1 (en) * 2020-12-24 2021-09-15 유승석 Apparatus for bonding the tap of display pannel

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