KR200466370Y1 - 케미컬 공급 장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 케미컬 공급 장치에 관한 것으로, 케미컬의 공급압력을 제공하는 푸시 가스 공급부와, 상기 케미컬을 저장하며, 소진시 그 케미컬이 저장된 것으로 교환되는 벌크 캐니스터와, 상기 벌크 캐니스터로부터 케미컬을 공급받아 저장하며, 상기 푸시 가스 공급부의 푸시 가스 공급 압력에 의해 저장된 케미컬을 공정장치부로 정압공급하는 프로세스 캐니스터와, 상기 벌크 캐니스터와 상기 프로세스 캐니스터의 중량을 각각 검출하는 제1저울 및 제2저울과, 상기 제2저울의 주변부에서 상기 제2저울의 영점 조정시 상기 프로세스 캐니스터를 상기 제2저울로부터 상향 이동시키는 리프트부를 포함한다. 이와 같은 구성의 본 고안은 프로세스 캐니스터의 중량을 검출하는 저울의 영점을 조정하기 위해, 그 프로세스 캐니스터를 선택적으로 승하강시킬 수 있는 리프트 장치를 부가함으로써, 저울의 영점을 조정하는 동안에도 케미컬이 정상적으로 공급될 수 있도록 하는 효과가 있다.

프로세스 캐니스터, 영점, 저울

Description

케미컬 공급 장치{Chemical Supply System}

본 고안은 케미컬 공급 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액상의 케미컬을 정압 정량으로 반도체 제조장치, 디스플레이 제조장치 등의 각종 제조장치에 공급하기 위한 케미컬 공급 장치에 관한 것이다.

일반적으로, 액상의 케미컬을 제조장치에 공급하는 케미컬 공급 장치는 벌크 캐니스터(bulk canister)와 프로세스 캐니스터(process canister) 두 개의 캐니스터(canister)를 구비하고 있으며, 케미컬의 소진시 교체가 가능한 벌크 캐니스터로부터 공급된 케미컬을 상기 프로세스 캐니스터에 저장해두고, 이를 반도체 등의 공정장치에 공급하도록 구성된다.

즉 프로세스 캐니스터의 아래쪽에 저울을 두어 그 프로세스 캐니스터의 중량을 검출하며, 그 중량이 소정 값 이하인 경우 벌크 캐니스터로부터 케미컬을 프로세스 캐니스터로 공급하도록 구성되어 있으며, 벌크 캐니스터 또한 저울을 이용하여 벌크 캐니스터의 교체 시점을 확인하도록 구성되어 있다.

일반적으로 프로세스 캐니스터와 벌크 캐니스터의 중량을 검출하는 저울들은 사용 시간이 경과함에 따라 영점 조정이 필요하게 된다.

영점의 조정은 부하가 없는 상태에서 중량이 0인 상태를 뜻하며, 부하가 없는 상태에서 0이 아닌 중량이 검출되면, 프로세스 캐니스터와 벌크 캐니스터의 검출된 중량에 대한 신뢰성이 저하되며, 케미컬 공급장치 전체에 오작동이 발생할 수 있다.

상기 벌크 캐니스터는 주기적으로 교체가 되는 것이기 때문에 그 벌크 캐니스터를 이탈시킨 상태에서 하부의 저울을 영점 조정할 수 있으나, 프로세스 캐니스터의 중량을 검출하기 위해서는 케미컬의 공급을 중단하고, 프로세스 캐니스터를 이탈시킨 후 그 하부 저울의 영점을 조정해야 한다.

따라서 종래에는 프로세스 캐니스터의 중량을 검출하는 저울의 영점 조정을 위해 반도체 또는 디스플레이 제조장치에 공급되는 케미컬의 공급을 중단해야 하며, 이는 반도체 또는 디스플레이 제조공정의 중단으로 이어져 생산성을 저하시키는 문제점이 있었다.

또한 프로세스 캐니스터를 탈착 및 부착하는 시간이 오래 걸리기 때문에 그 반도체 또는 디스플레이 제조공정의 중단시간 또한 지연되는 문제점이 있었다.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 고안이 해결하고자 하는 과제는, 프로세스 캐니스터의 중량을 검출하는 저울의 영점을 조정하는 중에도, 케미컬의 공급이 정상적으로 이루어질 수 있도록 하는 케미컬 공급 장치를 제공함에 있다.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 고안 케미컬 공급 장치는, 케미컬의 공급압력을 제공하는 푸시 가스 공급부와, 상기 케미컬을 저장하며, 소진시 그 케미컬이 저장된 것으로 교환되는 벌크 캐니스터와, 상기 벌크 캐니스터로부터 케미컬을 공급받아 저장하며, 상기 푸시 가스 공급부의 푸시 가스 공급 압력에 의해 저장된 케미컬을 공정장치부로 정압공급하는 프로세스 캐니스터와, 상기 벌크 캐니스터와 상기 프로세스 캐니스터의 중량을 각각 검출하는 제1저울 및 제2저울과, 상기 제2저울의 주변부에서 상기 제2저울의 영점 조정시 상기 프로세스 캐니스터를 상기 제2저울로부터 상향 이동시키는 리프트부를 포함한다.

본 고안은 프로세스 캐니스터의 중량을 검출하는 저울의 영점을 조정하기 위해, 그 프로세스 캐니스터를 선택적으로 승하강시킬 수 있는 리프트 장치를 부가함으로써, 저울의 영점을 조정하는 동안에도 케미컬이 정상적으로 공급될 수 있도록 하는 효과가 있다.

이하, 상기와 같은 본 고안 케미컬 공급 장치의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 1은 본 고안 케미컬 공급 장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.

도 1을 참조하면 본 고안 케미컬 공급 장치의 바람직한 실시예는, 케미컬을 저장하며, 소진시 교체되는 벌크 캐니스터(10)와, 상기 벌크 캐니스터(10)의 케미컬을 선택적으로 공급받아 저장하는 프로세스 캐니스터(20)와, 상기 벌크 캐니스터(10) 또는 프로세스 캐니스터(20)에 선택적으로 푸시 가스(push gas)를 공급하는 푸시 가스 공급부(30)와, 상기 푸시 가스 공급부(30)에서 상기 벌크 캐니스터(10)로 푸시 가스가 공급되면, 그 벌크 캐니스터(10)의 케미컬을 상기 프로세스 캐니스터(20)로 공급하는 드레인라인 케미컬 보충라인(40)과, 상기 케미컬 보충라인 (40)을 통해 케미컬이 공급되는 과정에서 상기 프로세스 캐니스터(20) 내부의 공기를 배출시키는 압력조절부(50)와, 상기 프로세스 캐니스터(20)의 케미컬을 공정장치부(70)로 공급하는 공급라인부(60)와, 상기 공정 캐니스터(20)를 퍼지하는 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급부(80)와, 상기 프로세스 캐니스터(20)와 벌크 캐니스터(10)의 중량을 각각 검출하는 제2저울(21) 및 제1저울(11)과, 상기 제2저울(21)의 주변에 설치되어 그 제2저울(21)의 영점 조정시 프로세스 캐니스터(20)를 소정 높이로 승강시키는 리프트부(90)를 포함하여 구성된다.

이하, 상기와 같이 구성된 본 고안 케미컬 공급 장치의 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.

먼저, 프로세스 캐니스터(20)에 저장된 케미컬이 상기 공급라인부(60)를 통해 공정장치부(70)로 공급되며, 이때 상기 프로세스 캐니스터(20)에는 푸시 가스 공급부(30)로부터 푸시 가스가 공급되어 정확한 압력으로 케미컬을 공급할 수 있다.

상기 푸시 가스 공급부(30)는 푸시 가스를 각각 일정한 압력으로 공급하기 위한 제1 및 제2레귤레이터(R1,R2)와, 그 제1레귤레이터(R1)를 통해 정압공급되는 푸시 가스를 상기 벌크 캐니스터(10)로 공급제어하는 밸브(V1BA)와, 상기 제2레귤레이터(R2)를 통해 정압공급되는 푸시 가스를 상기 프로세스 캐니스터(20)로 공급제어하는 밸브(V1BA)를 포함한다.

이와 같은 상태에서 제2저울(21)에서 검출된 상기 프로세스 캐니스터(20)의 중량이 최소 기준값에 도달하면 이를 감지한 제어부(도면 미도시)는 상기 푸시 가스 공급부(30)의 밸브(V1B)를 닫고, 밸브(V1A)를 열어 그 푸시 가스가 상기 벌크 캐니스터(10)로 공급되도록 한다.

즉, 그 제어부는 공급라인부(60)의 밸브(V3B)를 닫고, 압력조절부(50)의 밸브(V2B)를 열어 상기 푸시 가스의 공급에 의해 벌크 캐니스터(10)로부터 유입되 는 케미컬에 의해 압력이 상승하는 것을 방지하게 된다.한다.

이와 같은 케미컬의 리필은 상기 제2저울(21)에서 검출된 결과가 최대 기준값과 동일할 때까지 진행된 후 중단된다. 이는 그 제2저울(21)의 검출 중량을 확인한 제어부에 의해 각 밸브(V1A, V1B, V3A)의 상태 변화에 따른 것이며, 밸브(V2B)에 의해 케미컬의 리필 중량에 미세 조정이 가능하그다. 케미컬 리필 작업이 중단되면, 압력조절부(50)의 밸브(V2B)가 닫혀 그 프로세스 캐니스터(20) 내부 압력이 일정하게 유지될 수 있도록 한다.

그 다음, 다시 상기 푸시 가스 공급부(30)에서 공급된 푸시 가스는 프로세스 캐니스터(20)의 압력을 높이며, 그 압력과 동일한 압력으로 케미컬이 공급라인부(60)를 통해 공정장치부(70)로 공급된다.

상기 벌크 캐니스터(10)는 그 중량을 검출하는 제1중량계(11)의 검출결과에 따라 케미컬이 충진된 새로운 벌크 캐니스터로 교환될 수 있다. 즉 제1저울(11)의 검출 중량이 상기 제어부에서 비교한 교체 중량일 때, 교체 중량을 감지하여 작업자에게 알리는 표시등과 같은 시각적 알림 또는 알람과 같은 청각적 알림 등을 발생시켜 작업자에게 벌크 캐니스터(10)의 교체시기가 되었음을 인지시킨다.

상기와 같이 벌크 캐니스터(10)의 교체시기가 도달함을 인지한 작업자는, 벌크 캐니스터(10)를 교체하면서 그 제1저울(11)의 영점을 조정할 수 있다. 이러한 벌크 캐니스터(10)의 중량을 측정하는 제1저울(11)의 영점은 벌크 캐니스터(10)의 교체시에 조정할 수 있으며, 프로세스 캐니스터(20)의 중량을 측정하는 제2저울(21)의 영점은 상기 리프트부(90)로 프로세스 캐니스터(20)를 승강시킨 후 조정하게 된다.

도 2는 상기 리프트부(90)의 일실시 구성도이다.

도 2를 참조하면 상기 리프트부(90)는 공기압으로 이동축(93)을 승강 또는 하강 시키는 다수의 공기압 실린더(92)와, 상기 이동축(93)의 상부면에서 상기 프로세스 캐니스터(20)와의 지지면적을 증가시켜 승하강시 안정성을 향상시키는 지지판(91)을 포함하여 구성된다.

이를 참조하면, 제2저울(21)의 영점 조정시에는 상기 공기압 실린더(92)가 구동하여 이동축(93)을 승강시켜 그 지지판(91)을 그 프로세스 캐니스터(20)의 저면에 지지시킨 후, 상기 공기압 실린더(92)가 구동하여 이동축(93)을 승강시켜 그 프로세스 캐니스터(20)를 그 제2저울(21)로부터 이격되도록 상향 이동시킨다.

상기 공기압 실린더(92)는 프로세스 캐니스터(20)의 저면 모서리를 승강시킬 수 있도록 설치함이 바람직하며, 안정성이 보장되는 범위 내에서 그 설치 수를 조절할 수 있다.

이와 같은 프로세스 캐니스터(20)의 상승은 프로세스 캐니스터(20)에 충진된 케미컬이 공급되는 상태에서도 가능하며, 가급적 프로세스 캐니스터(20)의 승강은 그 프로세스 캐니스터(20)에 벌크 캐니스터(10)의 케미컬이 공급되기 이전에 수행하는 것이 바람직하다.

상기 프로세스 캐니스터(20)가 올려진 상태에서 부하가 없는 제2저울(21)의 영점을 조절한다. 영점의 조절이 완료되면 그 공기압 실린더(92)로부터 공기를 유출시켜 그 이동축(93)을 하강시켜, 그 프로세스 캐니스터(20)가 제2저울(21)의 상부에 올려지도록 한다.

이때, 상기 이동축(92)이 완전히 하강하였을 때, 그 지지판(91)은 상기 프로세스 캐니스터(20)의 저면으로부터 완전히 이격된 상태가 되며, 이동축(92)의 단면에 비해 더 넓은 면적을 가지는 지지판(91)이 제2저울(21)과 간섭되지 않도록 한다.

도 3은 본 발명에 따른 리프트부(90)의 다른 실시 구성도이다.

도 3에 도시한 바와 같이 도 2의 구성에서 지지판(91)을 프로세스 캐니스터(20) 저면의 주변부에 접하는 사각의 지지프레임(94)으로 대체한 것이며, 이는 각 공기압 실린더(92)의 구동정도를 보다 균일하게 하여 승강 또는 하강시의 안정성을 더욱 확보할 수 있게 된다.

도 1은 본 고안 케미컬 공급 장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.

도 2는 본 고안에 적용되는 리프트부의 일실시 구성도이다.

도 3은 본 고안에 적용되는 리프트부의 다른 실시 구성도이다.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

10:벌크 캐니스터 11:제1중량계

20:프로세스 캐니스터 21:제2중량계

30:푸시 가스 공급부 40:케미컬 보충라인

50:압력조절부 60:공급라인부

70:공정장치부 80:퍼지가스 공급부

90:리프트부 91:지지판

92:공기압 실린더 93:이동축

94:지지프레임

Claims (3)

1. 케미컬의 공급압력을 제공하는 푸시 가스 공급부;

   상기 케미컬을 저장하며, 소진시 그 케미컬이 저장된 것으로 교환되는 벌크 캐니스터;

   상기 벌크 캐니스터로부터 케미컬을 공급받아 저장하며, 상기 푸시 가스 공급부의 푸시 가스 공급 압력에 의해 저장된 케미컬을 공정장치부로 정압공급하는 프로세스 캐니스터;

   상기 벌크 캐니스터와 상기 프로세스 캐니스터의 중량을 각각 검출하는 제1저울 및 제2저울; 및

   상기 제2저울의 주변부에서 상기 제2저울의 영점 조정시, 상기 프로세스 캐니스터를 상향이동시켜 상기 제2저울로부터 이격시키는 리프트부를 포함하는 케미컬 공급 장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 리프트부는,

   공기의 압력에 따라 이동축을 승강 또는 하강 시키는 다수의 공기압 실린더와, 상기 다수의 공기압 실린더의 상기 이동축의 상면에 위치하여 상기 프로세스 캐니스터의 저면과 접하는 지지판을 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치.
3. 제1항에 있어서,

   상기 리프트부는,

   공기의 압력에 따라 이동축을 승강 또는 하강 시키는 다수의 공기압 실린더와, 상기 다수의 공기압 실린더의 상기 이동축의 상면에 위치하여 상기 프로세스 캐니스터의 저면 모서리부분과 접하는 지지프레임을 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치.

Images