KR200453877Y1 - 기판의 접촉식 세정장치 - Google Patents

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Abstract

본 고안은 기판의 접촉식 세정장치에 관한 것으로, 기판의 상면과 저면에 각각 접촉되어 상기 기판을 세정하는 상부롤브러시와 하부롤브러시를 포함하는 기판의 접촉식 세정장치에 있어서, 상기 상부롤브러시와 하부롤브러시 각각은 회전축의 중앙부에 마련된 완충부재와, 상기 회전축과 완충부재의 전면에 감겨있는 브러시포를 포함한다. 이와 같은 구성의 본 고안은, 처짐이 발생하는 롤브러시의 중앙부에 완충부재를 구비하여 처짐이 발생하는 경우에도 기판의 전체에 고른 압력으로 접촉될 수 있도록 하여, 기판의 손상을 방지함과 아울러 기판 전체에 고른 세정력을 나타내어 세정공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
접촉식 세정, 롤브러시, 완충

Description

기판의 접촉식 세정장치{Roll brush for substrate}
본 고안은 기판의 접촉식 세정장치에 관한 것으로, 특히 기판의 대형화에 부합하는 구조의 기판의 접촉식 세정장치에 관한 것이다.
일반적으로 평판 디스플레이 장치의 제조를 위한 대면적 기판을 세정하는 방법은 세정수를 기판에 분사하여 세정하는 비접촉식방법과 세정수가 공급되는 상태에서 기판의 상하면에 접촉되어 회전하는 롤브러시를 사용하는 접촉식방법이 있다.
롤브러시는 상하로 이동이 가능한 회전축에 브러시포를 감아 사용하고 있다. 상기 회전축의 재질은 알루미늄 합금으로 하는 것이 일반적이며, 기판의 폭보다는 그 롤브러시의 길이가 더 길어야 하기 때문에 기판의 크기가 증가할 수록 롤브러시의 길이도 증가하게 된다.
롤브러시의 길이가 증가함에 따라 그 중량의 증가에 의해 롤브러시의 중앙부에 처짐이 발생할 수 있으며, 중앙부의 처짐에 의해 기판의 중앙부와 측면부의 접 촉압력에 차이가 발생하게 되며, 이와 같은 종래 기판의 접촉식 세정장치의 구성을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래 기판의 접촉식 세정장치의 구성도이다.
도 1을 참조하면 이송되는 기판(S)의 상면과 하면에 각각 위치하는 상부롤브러시(1)와 하부롤브러시(2)와, 상기 상부롤브러시(1)와 하부롤브러시(2) 각각을 상하 높이 조절이 가능하도록 지지하는 상부지지블록(3)과 하부지지블록(4)과, 상기 상부롤브러시(1)와 하부롤브러시(2) 각각을 회전시키는 상부구동부(5) 및 하부구동부(6)를 포함한다.
상기와 같은 구성은 모터 등의 회전력을 제공하는 수단인 상부구동부(5) 및 하부구동부(6)의 회전력을 직접 전달받은 상부롤브러시(1)와 하부롤브러시(2)가 회전하면서 그 상부롤브러시(1)와 하부롤브러시(2)의 사이를 지나면서 세정이 이루어지는 구성이다.
상기 상부지지블록(3)과 하부지지블록(4)은 각각 상부롤브러시(1)와 하부롤브러시(2)를 회전가능하도록 지지함과 아울러 높이를 조절하여 기판(S)에 이상이 발생한 경우에 대비하거나, 그 기판(S)과 상부롤브러시(1) 및 하부롤브러시(2)의 접촉압력을 조절할 수 있게 한다.
앞서 설명한 바와 같이 기판(S)의 대면적화가 심화되면서 그 상부롤브러 시(1)와 하부롤브러시(2)의 길이도 길어지게 되어, 그 상부롤브러시(1)와 하부롤브러시(2)의 중앙부가 아래로 처지게 되는 현상이 발생하게 된다.
이와 같이 상부롤브러시(1)와 하부롤브러시(2)에 처짐이 발생하면 기판(S)의 상부에 접촉되는 상부롤브러시(1)와 기판(S)의 접촉압력을 중앙부에서 더 크게되며, 하부롤브러시(1)와 기판(S)의 접촉압력은 측면부에서 더 크게되는 현상이 발생한다.
상기와 같은 압력의 차이는 기판(S)의 부분별 세정력의 차이를 발생시켜 세정공정의 신뢰성을 저하시키는 원인이 되며, 심각한 경우 기판(S)이 파손되는 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 감안한 본 고안이 해결하고자 하는 과제는, 롤브러시에 처짐이 발생하더라도 기판의 전체에 고른 압력으로 접촉될 수 있는 기판의 접촉식 세정장치를 제공함에 있다.
또한 본 고안이 해결하고자 하는 다른 과제는, 상부롤브러시와 하부롤브러시의 특성에 맞춰 서로 다른 디자인을 제공할 수 있는 기판의 접촉식 세정장치를 제공함에 있다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 고안은, 기판의 상면과 저면에 각각 접촉되어 상기 기판을 세정하는 상부롤브러시와 하부롤브러시를 포함하는 기판의 접촉식 세정장치에 있어서, 상기 상부롤브러시와 하부롤브러시 각각은 회전축의 중앙부에 마련된 완충부재와, 상기 회전축과 완충부재의 전면에 감겨있는 브러시포를 포함한다.
상기와 같이 구성되는 본 고안은 처짐이 발생하는 롤브러시의 중앙부에 완충부재를 구비하여 처짐이 발생하는 경우에도 기판의 전체에 고른 압력으로 접촉될 수 있도록 하여, 기판의 손상을 방지함과 아울러 기판 전체에 고른 세정력을 나타 내어 세정공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이하, 상기와 같은 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 고안 기판의 접촉식 세정장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.
도 2를 참조하면 본 고안 기판의 접촉식 세정장치의 바람직한 실시예는,이송되는 기판(S)의 상부에 위치하여 그 기판(S)의 상면을 세정하되, 중앙부 내측에 완충부재(11)를 포함하는 상부롤브러시(10)와, 상기 기판(S)의 저면을 세정하되, 그 중앙부 내측에 완충부재(21)를 포함하는 하부롤브러시(20)와, 상기 상부롤브러시(10)와 하부롤브러시(20) 각각을 회전가능하게 지지하며, 높이의 조절이 가능하도록 하는 상부지지블럭(31) 및 하부지지블럭(32)과, 상기 상부롤브러시(10)와 하부롤브러시(20) 각각을 회전시키는 상부구동부(33) 및 하부구동부(34)를 포함한다.
이하, 상기와 같이 구성되는 본 고안 기판의 접촉식 세정장치의 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
먼저, 도 3은 상기 상부롤브러시(10)의 상세 단면 구성도이다.
도 3을 참조하면 상부롤브러시(10)는, 회전축(12)의 중앙부에 완충부재(11)가 마련되어 있다. 상기 완충부재(11)는 탄성을 가지는 재료이면 무엇이든 사용이 가능하며, 무게가 가벼운 것이면 더욱 유리하다.
또한 상기 상부롤브러시(10)의 회전축(12)과 완충부재(11)의 외측에는 브러시가 형성된 브러시포(13)가 감기게 된다.
이때 상부롤브러시(10)의 중앙부는 기판(S)측으로 처짐이 발생할 수 있기 때문에 그 브러시포(13)를 중앙보다는 측면측이 더 두껍게 되도록 감으며, 그 브러시포(13)의 외형은 돌출된 부분이 없이 평탄하게 되는 것이 바람직하다.
또한, 도 4는 상기 하부롤브러시(20)의 상세 단면 구성도이다.
도 4를 참조하면 하부롤브러시(20)는, 회전축(22)의 중앙부에 완충부재(21)가 마련되어 있으며, 상기 상부롤브러시(10)의 완충부재(11)와 동일한 재질의 것을 선택할 수 있다.
상기 회전축(22)과 완충부재(21)의 표면에 브러시포(23)를 감되, 상기 상부롤브러시(10)의 경우와는 다르게 그 브러시포(23)의 두께를 일정하게 한다.
따라서 하부롤브러시(20)의 중앙부는 주변부에 비하여 직경이 더 큰 상태가 되며, 처짐이 발생하더라도 그 기판(S)의 저면 중앙부와 주변부에 접촉되는 압력이 일정하도록 한다.
도 5는 상기 본 발명에 적용되는 상부롤브러시(10)와 하부롤브러시(20)의 에 처짐이 발생한 상태의 접촉압력분포를 설명하기 위한 단면도이다.
도 5를 참조하면, 상기 상부롤브러시(10)의 회전축(12)의 중앙부가 기판(S)측으로 처진 경우, 그 기판(S)의 중앙부에 접촉되는 상부롤브러시(10)의 압력이 커질 수 있으나, 상기 완충부재(11)에 의한 완충작용에 의해 그 중앙부의 압력이 줄어들게 되어 그 주변부의 접촉압력과 유사 또는 동일한 정도가 된다.
또한, 상기 하부롤브러시(20)의 회전축(22)이 처지는 경우에 그 하부롤브러시(20)와 기판(S)의 저면 중앙부가 접촉되지 않는 상태가 발생할 수 있으나, 상기 하부롤브러시(20)의 중앙부는 완충부재(21)의 삽입에 의하여 주변부에 비해 직경이 더 큰 상태이기 때문에 그 접촉이 계속 유지될 수 있으며, 주변부와 압력이 유사 또는 동일하게 된다.
상기 상부롤브러시(10)와 하부롤브러시(20)에 각각 적용되는 완충부재(11,21)의 분포 형상은 중앙부가 더 두껍고 주변으로 갈수록 선형으로 얇아지는 형상으로 하여, 접촉 압력이 일정치 이상으로 큰 경우에는 그 완충부재(11,21)들의 중앙부가 눌려 압력을 줄이는 역할을 하며, 접촉 압력이 일정치 이하로 작은 경우에는 그 중앙부에 의한 직경의 증가로 인해 접촉되지 않는 경우가 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.
이와 같이 본 고안 기판의 접촉식 세정장치는, 상부롤브러시와 하부롤브러시 각각의 중앙부에 완충부재를 포함시키되, 그 형상에 차이를 두어 기판의 전면에 고 른 압력으로 접촉되어 고른 세정력을 나타낼 수 있다.
도 1은 종래 기판의 접촉식 세정장치의 구성도이다.
도 2는 본 고안 기판의 접촉식 세정장치의 구성도이다.
도 3은 본 고안 기판의 접촉식 세정장치에 적용되는 상부롤브러시의 상세 단면 구성도이다.
도 4는 본 고안 기판의 접촉식 세정장치에 적용되는 하부롤브러시의 상세 단면 구성도이다.
도 5는 본 고안 기판의 접촉식 세정장치의 상부롤브러시와 하부롤브러시에 처짐이 발생한 상태의 압력분포를 설명하기 위한 단면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10:상부롤브러시 11,21:완충부재
12,22:회전축 13,23:브러시포

Claims (3)

  1. 기판의 상면과 저면에 각각 접촉되어 상기 기판을 세정하는 상부롤브러시와 하부롤브러시를 포함하는 기판의 접촉식 세정장치에 있어서,
    상기 상부롤브러시와 하부롤브러시 각각은 회전축의 중앙부에 마련된 완충부재와, 상기 회전축과 완충부재의 전면에 감겨있는 브러시포를 포함하며,
    상기 상부롤브러시에는 상기 브러시포를 상기 회전축의 주변부측에 더 두껍게 감아 전체가 일정한 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 기판의 접촉식 세정장치.
  2. 삭제
  3. 제1에 있어서,
    상기 하부롤브러시는,
    상기 브러시포를 상기 회전축과 상기 완충부재의 전면에 고른 두께로 감아 중앙부의 직경이 더 큰 것을 특징으로 하는 기판의 접촉식 세정장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2001080056A (ja) * 1999-09-17 2001-03-27 Shinko:Kk 洗浄用キャリヤーシート及び洗浄ロール
KR20070113012A (ko) * 2006-05-24 2007-11-28 세메스 주식회사 분리형 롤브러쉬 및 이를 구비하는 기판세정장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001080056A (ja) * 1999-09-17 2001-03-27 Shinko:Kk 洗浄用キャリヤーシート及び洗浄ロール
KR20070113012A (ko) * 2006-05-24 2007-11-28 세메스 주식회사 분리형 롤브러쉬 및 이를 구비하는 기판세정장치

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