KR200448556Y1 - A grinding pad using tricot mesh fabric as basement - Google Patents

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KR200448556Y1 KR2020080013538U KR20080013538U KR200448556Y1 KR 200448556 Y1 KR200448556 Y1 KR 200448556Y1 KR 2020080013538 U KR2020080013538 U KR 2020080013538U KR 20080013538 U KR20080013538 U KR 20080013538U KR 200448556 Y1 KR200448556 Y1 KR 200448556Y1
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Abstract

본 고안은 피연마물의 연마시 발생하는 분진을 망상 조직으로 짜여진 연마패드의 기재 자체에 형성된 그물눈에서 흡수하여 외부의 분진 흡입장치로 배출하거나 포켓 방식으로 수용할 수 있도록 함으로써 연마효율을 향상시킴과 아울러 연마사가 넓은 면적으로 형성된 기재 일측의 면부에 견고하게 부착되어 연마패드의 내구성을 향상시킬 수 있도록 한 것으로, 본 고안의 일 실시 예에서는 섬유사가 망상으로 직조되되 섬유사가 치밀하게 직조되어 납작한 면을 형성하는 면부(12) 및 이 면부(12) 사이에 형성되는 그물눈(14)을 갖는 트리코트 메시 패브릭(tricot mesh fabric; 10)과, 이 트리코트 메시 패브릭(10) 일측면의 납작한 면부에 연마사가 접착제로 부착되는 연마사층(20)과, 상기 트리코트 메시 패브릭(10) 타측면에 부착되는 벨크로 직물로 이루어진 상부층(30)을 포함하여 이루어져 전동공구(샌더)의 연마패드 홀더 표면에 형성된 고리 형태의 수 벨크로에 분리가능하게 부착되어 사용된다.The present invention improves the polishing efficiency by absorbing the dust generated during polishing of the polished material from the mesh formed in the substrate itself of the polishing pad woven into the reticulated tissue to be discharged to an external dust suction device or accommodated in a pocket manner. The abrasive yarn is firmly attached to a surface portion of one side of the substrate formed with a large area to improve the durability of the polishing pad. In one embodiment of the present invention, the fiber yarn is woven into a mesh but the fiber yarn is tightly woven to form a flat surface. A tricot mesh fabric 10 having a face portion 12 and a mesh 14 formed between the face portions 12 and a flat surface portion on one side of the tricot mesh fabric 10 An upper layer composed of an abrasive sand layer 20 attached with an adhesive and a Velcro fabric attached to the other side of the tricot mesh fabric 10. 30 is made to be detachably attached to the Velcro of the ring-shaped surface formed on the polishing pad holder of the power tool (grinding) is used comprising a.

트리코트 메시 패브릭, 기재, 연마패드, 분진, 그물눈, 벨크로, 연마사 Tricot mesh fabric, base material, polishing pad, dust, mesh, velcro, abrasive

Description

트리코트 메시 패브릭을 기재로 하는 연마패드 {A grinding pad using tricot mesh fabric as basement}A grinding pad using tricot mesh fabric as basement

본 고안은 연마패드에 관한 것으로, 상세히는 섬유사가 망상으로 직조되되 섬유사가 치밀하게 직조되어 납작한 면을 형성하는 면부와 이 면부 사이에 형성되는 그물눈을 갖는 트리코트 메시 패브릭을 기재로 하고, 이 트리코트 메시 패브릭 일측면의 납작한 면부에 연마사가 부착된 것이다.The present invention relates to a polishing pad, and in detail, based on a tricot mesh fabric having a fiber yarn woven into a mesh but having a cotton portion formed between the cotton yarns and a mesh formed between the cotton portions. Abrasive yarn is attached to the flat side of one side of the coat mesh fabric.

일반적으로 목재를 사용하여 가구를 비롯한 여러 제품을 제작할 때 거친 제품 표면을 다듬은 후 도장(塗裝)을 하게 되는데, 이러한 거친 표면의 연마시에는 사포를 사용하고 있다.In general, when using wood to produce a variety of products, including furniture and rough surface roughening (塗裝) is to paint (도장), when polishing the rough surface is used sandpaper.

이러한 사포는 목재뿐만 아니라 석재·합성수지·금속재 등의 표면 연마에도 사용되고 있으나, 이하에서는 편의상 목재를 예로 들어 설명하기로 한다.Such sandpaper is used not only for wood but also for surface polishing of stones, synthetic resins, metals, etc. Hereinafter, for convenience, wood will be described as an example.

상기한 종래의 사포는 종이 또는 직물의 표면에 연마사를 부착한 것이며, 이는 통상 진동방식의 전동 샌더에 끼움 방식으로 부착하여 사용하거나 또는 도 10에 도시된 바와 같이 표면에 연마사가 부착된 종이 또는 직물의 이면에 루프 형태의 암 벨크로 직물을 부착하여 회전방식 샌더의 연마패드 홀더에 형성된 수 벨크로에 분리가능하게 부착하여 사용하는데, 이러한 종래의 사포(연마패드)를 사용하여 목제 가구 등의 표면을 연마할 경우에는, 미세한 분진이 발생하여 대기중으로 부상하거나 피가공물의 표면 위에 쌓이게 됨으로써 작업장의 환경이 매우 열악해지게 됨은 물론 작업자의 신체 특히, 호흡기와 눈에 악영향을 미치게 됨으로써 작업성의 저하와 함께 작업자가 이러한 연마작업 자체를 기피하게 되는 문제가 있었다.The conventional sandpaper is attached to the surface of the paper or fabric of abrasive sand, which is usually used by attaching to the vibration type electric sander, or paper with abrasive sand attached to the surface as shown in FIG. A loop-shaped female velcro fabric is attached to the back side of the fabric and detachably attached to the male velcro formed on the polishing pad holder of the rotary sander. The surface of wooden furniture, etc., is used by using a conventional sandpaper (polishing pad). In the case of grinding, fine dust is generated and floated in the air or accumulated on the surface of the workpiece, which makes the environment of the workplace very bad and adversely affects the worker's body, especially the respiratory organ and the eyes, thereby reducing the workability. There was a problem to avoid such polishing operation itself.

최근에는 샌더의 연마패드 홀더에 분진의 흡인을 위한 구멍을 천공하고 연마패드에도 홀더의 구멍과 일치되는 위치에 구멍을 천공하여 연마시 발생하는 분진이 대기중으로 부상하기 전에 진공방식으로 흡입 제거할 수 있도록 한 장치가 개발되어 사용되고 있는데, 종래 종이나 직물을 기재로 하는 연마패드에 구멍을 천공하여 사용할 경우에는 인위적인 구멍의 천공에 의해 연마패드의 찢어짐이 발생할 우려가 있고, 이 구멍이 타공된 부분에 의해 의도하지 않은 연마상태 즉, 피연마물의 표면에 스크래치가 발생할 우려가 많았으며, 분진이 연마패드 표면에 부착된 연마사와 연마사 사이의 골에 끼이게 되어 연마패드의 연마성능이 급격하게 저하되는 등 연마작업의 효율성이 저하되는 문제점이 있었다.Recently, a hole for dust suction is drilled in the sander's polishing pad holder, and a hole in a position coinciding with the holder's hole is also sucked out by vacuum method before the dust generated during polishing floats into the atmosphere. The device has been developed and used. In the case of using a hole in a polishing pad based on paper or fabric, the polishing pad may be torn due to an artificial hole. There is a high possibility of scratching on the surface of the polishing object, that is, unintentional polishing, and dust is caught in the valley between the abrasive sand and the abrasive sand attached to the surface of the polishing pad, and the polishing performance of the polishing pad is sharply degraded. There was a problem that the efficiency of the polishing operation is lowered.

실용신안등록 제0436999호는 상기한 문제점을 해소하기 위하여 본 출원인이 개발한 연마패드인데, 이는 섬유사가 망상으로 직조된 망체의 일측 표면에 연마사를 부착하고, 망체의 타측에는 암 벨크로를 일체로 직조한 것이다.Utility Model Registration No. 0436999 is a polishing pad developed by the present applicant to solve the above problems, which is attached to the surface of one side of the mesh woven mesh fiber, and the other side of the network integrally with the female velcro Weave

한편, 실용신안등록 제436999호는 연마시 발생한 분진이 망체의 그물눈을 통해 흡인되어 연마효율을 높임과 아울러 분진의 비산을 방지할 수 있는 우수한 효과가 있는 반면, 연마사가 망체의 가느다란 섬유사 표면에 부착되어 있어 연마시 발생하는 저항력에 의해 쉽게 탈락함으로써 내구성이 약한 문제점이 있었으며, 분진을 흡입하는 방식이 아닌 용도로 사용할 경우에는 연마시 발생한 분진이 매우 작은 크기로 형성된 그물눈에 끼이게 되어 연마성능의 저하는 물론 그물눈에 끼인 분진을 털어내는 것이 용이하지 않는 단점이 있었다. On the other hand, Utility Model Registration No. 436999 shows that the dust generated during polishing is attracted through the mesh of the mesh to increase the polishing efficiency and to prevent dust from scattering, whereas the abrasive yarn has a fine fiber surface of the mesh. As it is attached to, it has a problem of weak durability because it is easily dropped by the resistance generated during polishing, and when it is used for a purpose other than suctioning dust, the dust generated during polishing is caught in the mesh formed with a very small size, resulting in polishing performance. The downside was, of course, that it was not easy to shake off the dust caught in the mesh.

본 고안은 상기와 같은 종래의 문제점을 감안하여 안출된 것으로, 본 고안의 목적은 분진 흡입방식 외에도 일반 연마패드나 벨트형 연마패드로도 사용할 수 있으며, 연마시 발생한 분진을 연마면으로부터 신속하게 제거함으로써 연마성능을 높일 수 있으며, 장시간 반복 사용이 가능한 개선된 구조의 연마패드를 제공하는 데 있다.The present invention was devised in view of the above-described conventional problems, and the object of the present invention can be used as a general polishing pad or a belt type polishing pad in addition to the dust suction method, and quickly removes dust generated during polishing from the polishing surface. It is possible to increase the polishing performance, and to provide a polishing pad having an improved structure that can be repeatedly used for a long time.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 고안의 일 실시 예에서는 섬유사가 망상으로 직조되되 섬유사가 치밀하게 직조되어 납작한 면을 형성하는 면부 및 이 면부 사이에 형성되는 그물눈을 갖는 트리코트 메시 패브릭(tricot mesh fabric)과, 이 트리코트 메시 패브릭 일측면의 납작한 면부에 연마사가 접착제로 부착되는 연마사층과, 상기 트리코트 메시 패브릭 타측면에 부착되는 벨크로 직물을 포함하여 이루어져 전동공구(샌더)의 연마패드 홀더 표면에 형성된 고리 형태의 수 벨크로에 분리가능하게 부착되어 사용되는 연마패드를 제공한다.In one embodiment of the present invention in order to achieve the above object is a tricot mesh fabric having a fiber yarn woven in a mesh but has a cotton portion formed between the densely woven fiber yarn and a mesh formed between the cotton portion ), And an abrasive yarn layer to which an abrasive yarn is attached to the flat surface of one side of the tricot mesh fabric with an adhesive, and a Velcro fabric attached to the other side of the tricot mesh fabric, and a polishing pad holder surface of a power tool (sander). Provided are a polishing pad used detachably attached to a male velcro in the form of a ring formed therein.

본 고안의 바람직한 실시 예에서 상기 트리코트 메시 패브릭 일측면의 납작한 면부에는 연마사와의 접착력 향상을 위한 에폭시 코팅층이 형성된 후 연마사가 접착되며, 연마사층의 표면에는 페놀수지로 이루어진 탑 코팅층과 스테아린산칼슘 으로 이루어진 방오성 코팅층이 형성된다.In a preferred embodiment of the present invention, the flat surface of one side of the tricot mesh fabric is formed with an epoxy coating layer for improving the adhesion to the abrasive yarn, then the abrasive yarn is bonded, the top coating layer made of phenol resin and calcium stearate on the surface of the abrasive yarn layer An antifouling coating layer is formed.

본 고안의 연마패드는 기재인 트리코트 메시 패브릭의 납작하고 넓은 면부에 연마사가 부착되므로 부착력이 우수하여 연마사가 쉽게 떨어지지 않는 내구성이 우수한 연마패드를 제공할 수 있으며, 상기 면부는 연마패드의 전체 면적에 대하여 50% 이상의 면적을 형성하게 되므로 연마성능도 우수하며, 연마시 발생한 분진은 트리코트 메시 패브릭 자체에 형성된 비교적 깊고 넓은 면적을 갖는 그물눈을 통해 외부의 분진흡입장치에 수거되거나 포켓 형태의 그물눈 자체에 머물게 되므로 연마면에서 분진이 체류하지 않아 연마성능이 우수하며, 연마 후 그물눈에서 분진을 쉽게 제거할 수 있으므로 연마패드의 반복 사용이 가능한 등의 우수한 효과를 갖는다.The polishing pad of the present invention can provide a polishing pad having excellent durability since the abrasive yarn is attached to the flat and wide surface of the tricot mesh fabric as a substrate, and the abrasive is not easy to fall off, and the surface portion is the total area of the polishing pad. As it forms more than 50% of the area, the polishing performance is also excellent, and the dust generated during the polishing is collected in the external dust intake device through a relatively deep and wide area formed on the tricot mesh fabric itself or in the pocket type mesh itself. Since it does not remain in the polishing surface because it stays in the polishing performance is excellent, and since the dust can be easily removed from the mesh after polishing, it has an excellent effect such as repeated use of the polishing pad.

이하, 본 고안을 한정하지 않는 바람직한 실시 예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments that do not limit the present invention will be described in detail.

도 1은 본 고안의 일 실시 예에 의한 연마패드의 실물사진 및 요부 확대사진이고, 도 2는 본 고안의 일 실시 예에 의한 연마패드의 부분 확대단면도이며, 도 3 은 본 고안의 일 실시 예에 의한 연마패드의 기재 실물 확대사진이고, 도 4는 본 고안의 일 실시 예에 의한 연마패드에 사용되는 벨크로 직물의 실물 확대사진이다.1 is a real picture and the main portion enlarged picture of the polishing pad according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a partial enlarged cross-sectional view of the polishing pad according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is an embodiment of the present invention 4 is a real enlarged photograph of a substrate of a polishing pad, and FIG. 4 is a real enlarged photograph of a Velcro fabric used in a polishing pad according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4의 실물사진에 도시된 바와 같이 본 실시 예에 의한 연마패드(1)는 섬유사가 망상으로 직조되되 섬유사가 치밀하게 직조되어 납작한 면을 형성하는 면부(12) 및 이 면부(12) 사이에 형성되는 그물눈(14)을 갖는 트리코트 메시 패브릭(tricot mesh fabric; 10)과, 이 트리코트 메시 패브릭(10) 일측면의 납작한 면부에 연마사가 접착제로 부착되는 연마사층(20)과, 상기 트리코트 메시 패브릭(10) 타측면에 부착되는 벨크로 직물로 이루어진 상부층(30)을 포함하여 이루어져 있다.As shown in the real picture of Figures 1 to 4, the polishing pad 1 according to the present embodiment is a surface portion 12 and the surface portion 12 is a fiber yarn weaved into a mesh but the fiber yarn is woven tightly to form a flat surface A tricot mesh fabric 10 having a mesh 14 formed therebetween, an abrasive yarn layer 20 to which an abrasive yarn is attached to the flat surface of one side of the tricot mesh fabric 10 by an adhesive; It comprises a top layer 30 made of a velcro fabric attached to the other side of the tricot mesh fabric 10.

본 실시 예의 연마패드(1)는 도 4에 도시된 상기 벨크로 직물로 이루어진 상부층(30; 통상, 루프형의 암 벨크로를 의미)은 도시 안 된 전동공구의 연마패드 홀더 표면에 형성된 고리 형태의 수 벨크로에 분리가능하게 부착되어 사용된다.The polishing pad 1 of this embodiment is an upper layer 30 made of the velcro fabric shown in FIG. 4 (usually a loop-shaped female velcro) of which the number of rings is formed on the surface of the polishing pad holder of the power tool, not shown. Used detachably attached to the Velcro.

한편, 본 고안에서 상기 상부층은 벨크로 직물에만 한정되는 것이 아니며, 이외에도 연마사가 부착된 기재(트리코트 메시 패브릭)의 상면에 내구성을 갖는 직물이나 합성수지 시트 또는 접착/비접착식의 종이를 부착하여 길다란 띠 형태로 재단하여 벨트형 연마패드로 사용하거나 일반 샌드페이퍼 형태의 연마패드로도 제작할 수 있음은 물론이며, 이와 같은 변형 또한 이하에 기재되는 본 고안의 권리범위 에 속함은 자명하다.On the other hand, the upper layer in the present invention is not limited to the Velcro fabric, in addition to the long surface by attaching a durable fabric or synthetic resin sheet or adhesive / non-adhesive paper on the upper surface of the substrate (tricoat mesh fabric) to which the abrasive is attached Of course, it can be used as a belt-type polishing pad or cut into a sandpaper-type polishing pad, of course, such modifications are obviously within the scope of the present invention described below.

본 실시 예에서 상기 트리코트 메시 패브릭(10)은 통풍성을 필요로 하는 스포츠 의류의 내피 등으로 사용되는 공지된 직물인데, 그 직조형태는 도 3에 도시된 바와 같이 천연 또는 합성 섬유사가 치밀하게 직조되어 납작하고 폭이 넓은 면(최소 1mm~최대 3mm의 폭)을 형성하는 면부(12) 및 이 면부(12) 사이에 독립적으로 형성되는 타원형의 그물눈(14)을 갖고 있으며, 이 그물눈(14)의 크기도 직경이 약 1~3mm정도로 매우 크게 형성되어 있다.In the present embodiment, the tricot mesh fabric 10 is a known fabric used for the endothelial of sports clothing that requires air permeability, and the woven form is densely woven by natural or synthetic fibers as shown in FIG. 3. And a face portion 12 that forms a flat and wide surface (a width of at least 1 mm to a maximum of 3 mm) and an elliptical mesh eye 14 independently formed between the face portions 12, and the mesh eye 14 The size of the diameter is about 1 to 3mm is formed very large.

바람직하기에 상기 면부(12)는 전체 면적에 대하여 50% 이상의 면적을 차지하도록 직조되는 것이 바람직하며, 이에 의해 면부에 부착되는 연마사층이 형성하는 실제 연마면적이 연마패드의 전체 면적에 대하여 50% 이상을 차지하도록 함으로써 연마성능을 제고할 수 있다.Preferably, the surface portion 12 is preferably woven so as to occupy an area of 50% or more of the total area, whereby the actual polishing area formed by the abrasive sand layer adhering to the surface portion is 50% of the total area of the polishing pad. The polishing performance can be improved by occupying the above.

본 고안에서 상기 트리코트 메시 패브릭의 직조형태는 첨부도면에 개시된 사진에만 한정되지 않으며, 그물눈(14)의 크기 또한 다양하게 직조하여 사용할 수 있음은 물론이다.The woven form of the tricot mesh fabric in the present invention is not limited only to the photograph disclosed in the accompanying drawings, and the size of the mesh 14 may also be used in various ways.

또한, 본 실시 예에서 상기 트리코트 메시 패브릭(10)은 직조 두께가 약 0.3mm~0.5mm 정도이므로 상기 그물눈(14)의 깊이도 최소 0.3mm~0.5mm를 형성하게 되며, 트리코트 메시 패브릭(10) 일측면의 면부(12)에 연마사가 접착제로 부착되어 연마사층(20)을 형성하고, 이 여마사층(20) 위에 탑 코팅층이 더 형성되므로 그물눈(14)의 깊이는 이보다 더 깊어지게 되어 그물눈(14)의 용적이 증가하게 되는 것이며, 이에 의해 연마중 발생한 분진을 그물눈(14)에서 충분히 흡수하거나 수용할 수 있다.In addition, since the tricot mesh fabric 10 has a weave thickness of about 0.3 mm to 0.5 mm in this embodiment, the depth of the mesh 14 also forms at least 0.3 mm to 0.5 mm, and the tricot mesh fabric ( 10) The abrasive yarn is attached to the surface portion 12 of one side with an adhesive to form an abrasive yarn layer 20, and the top coating layer is further formed on the female yarn layer 20, so that the depth of the mesh 14 becomes deeper than this. As a result, the volume of the mesh 14 increases, whereby dust generated during polishing can be sufficiently absorbed or accommodated in the mesh 14.

본 고안의 첫 번째 장점은 트리코트 메시 패브릭(10)의 면부(12)에 연마사가 전체적으로 부착되므로 기존의 망체를 기재로 하는 연마패드에서는 가느다란 섬유 가닥의 외측에 연마사가 부착되어 연마작업시 연마사가 받게 되는 마찰력에 의해 결합상태가 쉽게 와해되던 것과는 달리, 본 고안은 연마사가 넓은 면을 형성하고 있는 면부(12)에 안정적으로 부착되어 있으므로 견고한 연마사층을 형성하며 실제 연마작업시 연마사가 쉽게 떨어지지 않는 것이며, 이에 의해 연마패드의 내구성이 향상된 점에 있다.The first advantage of the present invention is that the abrasive yarn is attached to the surface 12 of the tricot mesh fabric 10 as a whole, so in the polishing pad based on the existing mesh, the abrasive is attached to the outer side of the thin fiber strands and polished during the polishing operation. Unlike the fact that the bonding state is easily broken by the friction force received by the yarn, the present invention stably adheres to the surface portion 12 where the abrasive yarns form a wide surface, thus forming a solid abrasive yarn layer, and the abrasive yarns do not easily fall off during actual polishing. The durability of the polishing pad is thereby improved.

또, 본 고안의 또 하나의 장점은 연마사가 부착된 면이 전체 연마패드의 면적에 대하여 50% 이상을 차지하도록 함으로써 실제 연마패드의 연마성능을 제고할 수 있어 연마작업에 소요되는 시간을 단축할 수 있는데 있다. In addition, another advantage of the present invention is that the surface to which the abrasive yarn is attached occupies more than 50% of the area of the entire polishing pad, thereby improving the polishing performance of the actual polishing pad, thereby reducing the time required for polishing. I can.

본 고안의 또 다른 장점은 상기 그물눈(14)의 크기가 본 출원인의 실용신안등록 제0436999호의 망체의 경우 망체를 이루는 섬유사와 섬유사 사이의 간격이 조밀하여 그물눈의 크기가 상당히 작아 이 그물눈의 용적이 작고 분진이 끼인 경우 쉽게 빠지지 않게 되므로 연마성능이 급속하게 저하되고 반복 사용이 어려웠던 문제점이 있었던 반면, 본 고안은 그물눈(14)의 크기가 상대적으로 커서 위에서 설명한 바와 같이 용적도 넓을 뿐만 아니라 연마작업시 그물눈을 통해서 외부의 분진흡입장치로 용이하게 배출됨은 물론 흡입방식이 아닌 연마패드로 사용될 경우에는 이 그물눈에 끼였던 분진을 쉽게 털어낼 수 있다는 점에 있다. 따라서, 본 고안은 연마성능의 향상은 물론 연마시 분진이 비산되는 것을 최소화할 수 있으며, 반복적으로 재사용이 가능한 장점을 갖는다.Another advantage of the present invention is that the size of the mesh eyelet is so small that the size of the mesh eyelet is very small in the case of the mesh of the applicant's utility model registration No. 0436999 of the applicant's Utility Model Registration No. 0436999. This small and dusty pinch is not easy to fall off, so the polishing performance is rapidly lowered and it is difficult to use repeatedly, while the present invention has a relatively large size of the mesh 14, as well as a large volume as described above, polishing operation It is easily discharged to the external dust suction device through the mesh net, and when used as a non-suction polishing pad, it is easy to shake off the dust caught in the mesh eye. Therefore, the present invention can improve the polishing performance, as well as minimize the scattering of dust during polishing, and has the advantage that can be reused repeatedly.

상기 연마사의 부착방법은 본 출원인의 실용신안등록 제0436999호에 기재된 방법과 동일한데, 이는 기재인 트리코트 메시 패브릭(10)의 면부(12)에 접착력의 향상을 위한 에폭시코팅층을 형성하고 접착제를 도포한 후 접착하는 것이 바람직하며, 연마사층 위에는 페놀수지로 이루어진 탑 코팅층을 형성하고, 여기에 추가하여 탑 코팅층 위에 스테아린산칼슘으로 이루어진 방오성 코팅층을 더 형성하는 것이 바람직하다.The method of attaching the abrasive yarn is the same as the method described in the applicant's utility model registration No. 0438999, which forms an epoxy coating layer for improving the adhesive force on the surface portion 12 of the tricot mesh fabric 10, which is a substrate, It is preferable to apply | coat and apply | coat, and it is preferable to form the top coating layer which consists of a phenol resin on an abrasive sand layer, and to further form the antifouling coating layer which consists of calcium stearate on a top coating layer further.

도 1은 본 고안의 일 실시 예에 의한 연마패드의 실물사진,1 is a real photograph of a polishing pad according to an embodiment of the present invention,

도 2는 본 고안의 일 실시 예에 의한 연마패드의 확대사진,Figure 2 is an enlarged photograph of the polishing pad according to an embodiment of the present invention,

도 3은 본 고안의 일 실시 예에 의한 연마패드의 기재 실물 확대사진,Figure 3 is an enlarged photograph of the actual substrate of the polishing pad according to an embodiment of the present invention,

도 4는 본 고안의 일 실시 예에 의한 연마패드에 사용되는 벨크로 직물의 실물 확대사진이다.Figure 4 is a real magnified picture of the Velcro fabric used in the polishing pad according to an embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS

1 : 연마패드 10 : 트리코트 메시 패브릭(기재)1 polishing pad 10 tricot mesh fabric (substrate)

12 : 면부 14 : 그물눈12: face 14: mesh eyes

20 : 연마사층 30 : 상부층20: abrasive sand layer 30: upper layer

Claims (2)

섬유사가 망상으로 직조되되 섬유사가 치밀하게 직조되어 1~3mm의 폭으로 이루어진 납작한 면을 형성하는 면부(12) 및 이 면부(12) 사이에 독립적으로 형성되는 직경 1~3mm의 그물눈(14)을 갖되 상기 면부(12)는 전체 면적에 대하여 50% 이상을 차지하도록 형성된 트리코트 메시 패브릭(tricot mesh fabric; 10)과, 이 트리코트 메시 패브릭(10) 일측면의 납작한 면부에 연마사가 접착제로 부착되는 연마사층(20)과, 상기 트리코트 메시 패브릭(10) 타측면에 부착되는 상부층(30)을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 트리코트 메시 패브릭을 기재로 하는 연마패드.While the fiber yarns are woven in a mesh, the fiber yarns are densely woven to form a flat surface having a width of 1 to 3 mm, and a mesh portion 14 having a diameter of 1 to 3 mm is formed independently between the surface portions 12. The cotton portion 12 has a tricot mesh fabric (10) formed to occupy more than 50% of the total area, and the abrasive yarn is attached to the flat surface of one side of the tricot mesh fabric (10) with an adhesive A polishing pad based on a tricoat mesh fabric, characterized in that it comprises an abrasive yarn layer (20) and an upper layer (30) attached to the other side of the tricot mesh fabric (10). 삭제delete
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9522454B2 (en) * 2012-12-17 2016-12-20 Seagate Technology Llc Method of patterning a lapping plate, and patterned lapping plates
US20150335356A1 (en) * 2014-05-22 2015-11-26 Rodge Brooks Skin Treatment Apparatus
US10145869B2 (en) 2014-12-22 2018-12-04 Battelle Memorial Institute Remote leak and failure detection of electrical water heaters through temperature and power monitoring
JP7245493B2 (en) * 2018-11-14 2023-03-24 国立大学法人九州工業大学 Polishing equipment
CN114454101A (en) * 2022-03-03 2022-05-10 徐占文 Polishing wheel and manufacturing method thereof

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060031666A (en) * 2006-03-23 2006-04-12 엠.씨.케이 (주) Polishing pad utilized netting thread

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004291180A (en) * 2003-03-27 2004-10-21 Riken Corundum Co Ltd Coated abrasive, and method and apparatus for manufacturing the same
KR100581614B1 (en) * 2004-12-23 2006-05-23 주식회사 썬텍인더스트리 Precision abrasive cleaning tape
KR200436999Y1 (en) * 2006-11-23 2007-10-23 김명묵 A grinding pad using net at basement

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060031666A (en) * 2006-03-23 2006-04-12 엠.씨.케이 (주) Polishing pad utilized netting thread

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