KR20040090033A - 창상 피복재 및 조직공학 구조체용 중화 키토산 스폰지제조방법 및 이에 의해 제조된 중화 키토산 스폰지 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 ⅰ) 키토산의 산성 수용액을 동결 건조하여 스폰지상의 키토산 구조물을 수득하는 단계; ⅱ) 상기 키토산 구조물을 a) 95 % 이상의 순수 에탄올, b) 70 % 이상의 에탄올 수용액, c) 50 % 이상의 에탄올 수용액, 및 d) 물 또는 완충용액으로 차례로 중화 및 세척하여 잔류 산을 완전히 제거하는 단계; 및 ⅲ) 중화가 완료된 키토산 구조물을 다시 동결 건조하는 단계를 포함하는, 창상 피복재 및 조직공학 구조체(scaffold)용 중화 키토산 스폰지 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 키토산 스폰지는 직접 또는 세포배양 등을 거쳐 상처치유제, 창상 피복재나 인공피부, 또는 세포배양용 조직 공학용 구조체로 사용될 수 있으며, 이러한 용도로 사용될 경우, 상기 스폰지는 여러 가지의 균일크기를 가진 미세기공을 포함하므로 보다 넓은 표면적 및 우수한 공기투과성을 나타낼 뿐만 아니라, 획기적으로 개선된 상처로부터의 분비물 포집능 및 제거능을 가진다. 특히 본 발명에 따른 다층형 창상 피복제 및 조직공학용 구조체는 각 층마다 상이한 크기의 기공을 가지면서, 동일층에서는 일정크기의 기공을 가진 규칙적 구조를 나타내는 바, 균일성 및 포집성이 우수하여 간세포, 표피세포, 섬유아세포등 세포배양에 유리하게 사용될 수 있다.

Description

창상 피복재 및 조직공학 구조체용 중화 키토산 스폰지 제조방법 및 이에 의해 제조된 중화 키토산 스폰지 {A Method for Producing a Neutralized Chitosan Sponge for Wound Dressing and Scaffold, and the Chitosan Sponge produced by the same}
본 발명은 창상 피복재 및 조직공학 구조체용 중화 키토산 스폰지 제조방법과, 이에 의해 제조된 중화 키토산 스폰지에 관한 것으로, 보다 상세하게는, ⅰ) 키토산의 산성 수용액을 동결건조하여 스폰지상의 키토산 구조물을 수득하는 단계; ⅱ) 상기 키토산 구조물을 a) 95 % 이상의 순수 에탄올, b) 70 % 이상의 에탄올 수용액, c) 50 % 이상의 에탄올 수용액, 및 d) 물 또는 완충용액으로 차례로 중화 및 세척하여 잔류 산을 완전히 제거하는 단계; 및 ⅲ) 중화가 완료된 키토산 구조물을 다시 동결 건조하는 단계를 포함하는, 창상 피복재 및 조직공학 구조체용 중화 키토산 스폰지 제조방법과, 그로부터 제조된 키토산 스폰지, 상기 스폰지를 포함하는 창상 피복재 및 조직공학용 구조체에 관한 것이다.
피부는 우리 몸 중 가장 큰 표면적을 차지하며, 광범위하게 손상시 탈수 등으로 인해 생명을 잃을 수도 있는 중요한 기관으로서, 외부의 미생물이나 자외선, 화학물질 등 여러 가지 유해 환경으로부터 인체를 보호하고, 인체의 수분증발을 억제하여 탈수를 방지하고 체온을 조절하는 역할을 하고 있는 바, 피부는 물리적 자극에 강해야 하고 탄력성이 있어야 하며 인체가 생명체를 유지하는 동안 그 역할을 충분히 수행해야 한다.
그러나, 심한 화상, 외상, 창상, 욕창 및 피부질환 등 다양한 원인에 의한 피부 손상은 흔하게 일어나고 있으며, 특히 일차봉합이 불가능한 심한 창상의 경우 피부이식이 불가피하다. 손상된 피부조직의 복구는 중요한 문제이며, 현재 이를 위한 방법으로는, 환자자신의 피부를 이식하는 자가이식 (autograph), 다른 사람의 피부를 이식하는 동종이식 (homograph 또는 allograph), 동물의 피부를 이식하는 이종이식 (heterograph 또는 xenograph)의 세 가지가 있다. 이들 중, 자가이식이 가장 이상적이지만 넓은 범위의 화상인 경우 확보가능한 조직부위에 제한이 있고 피부를 채취한 건강한 부위에 새로운 외상이 발생되어 환자의 고통이 증가하며 완치기간이 길어지는 문제점이 있다. 나아가, 넓은 면적에 걸쳐 심한 화상을 입은경우, 이식에 사용가능한 건강한 피부를 확보할 수 없어 수 차례에 걸친 이식수술이 필요하다.
한편, 영구적 생착보다는 상처주변부의 세포의 이동과 치유를 돕는 동종이식의 경우, 사체로부터의 피부를 글리세롤 등에 냉동 보존하여 일시적인 보호제로서 사용하기도 하며 사체의 피부에서 면역반응을 일으킬 수 있는 세포들을 완전히 제거한 탈표피화/탈세포화된 진피(de-epidermized dermis)의 형태로 만들어서 사용하기도 한다.
이종이식의 경우에는 인체 피부 기증자의 공급 부족에 대한 대안으로서 동결 건조시킨 돼지피부를 사용하기도 하는데, 이 경우 피부원 공급은 안정적이지만, 초급성 거부반응(hyperacute rejection reaction)등의 문제가 있다. 따라서 최소한의 적당한 수분의 투과성을 가지는 동시에 세균 등과 같은 외부 환경을 차단하여 인체를 효과적으로 보호할 수 있는 기능을 가진 인공피부의 개발이 절실히 요구되고 있다.
한편, 인공피부는 일시적 피복형(temporary skin equivalent), 이른바 창상 피복재와, 배양 피부 또는 체내 이식용인 영구생착형(permanent skin equivalent)의 두 가지로 대별된다. 창상피복재는 화상이나 외상 등으로 손상을 입은 피부가 회복할 때까지 일시적으로 환부를 보호하는 것으로, 체내로부터의 수분 누출 방지, 삼출액의 흡수 및 외부로부터 잡균 침입과 감염 방지의 역할을 하며, 현재 겔-응용품 이외, 폴리우레탄막 또는 천연 다당류인 키틴을 이용한 다공성 막이나 돼지가죽의 동결건조물 등으로 제조되어 여러 가지 제품이 임상학적으로 사용되고 있다.
반면, 생인공피부로 알려진 "배양피부"는 자기세포에 의한 재생능력을 상실한 광범위한 3도 이상의 화상이나, 당뇨병 등으로 인한 피부 궤양 등에 적용되고 있으며, 이보다 개량된 방법으로서는, 환자 자신의 진피세포로부터 수득한 겔 형태의 인공피부를 사용하는 경우가 있다. 후자의 경우, 환자의 피부 각층을 구성하는 세포를 채취하여 시험관 내에서 확대배양시킨 후, 소에서 추출한 콜라겐 용액을 사용하여 겔화시킴으로써 진피층 세포와 혼합하여 수축시켜서 제조된 인공진피위에 표피세포를 계층 분화시켜 수득한 피부를 이용한다. 이처럼 겔 형태의 진피를 이용한 인공피부는 주로 적절한 생분해성의 합성고분자 또는 천연고분자로 만들어진 조직공학용 구조체에 자기세포를 접종하여 그 조직형성을 유도하는 방법으로 제조되며, 면역 거부 반응도 없고 피부의 크기를 얼마든지 조절할 수 있는 장점이 있다. 이 경우, 조직공학용 구조체로 사용되는 천연 또는 합성 고분자 재료는 세포의 생장능을 가지면서 본래의 기능을 충분히 발휘될 수 있는 생체모방환경을 제공하여야 하는데, 현재는 생체로부터 분리된 세포외 기질인 천연고분자를 직접 이용하거나 합성고분자 등과 복합화하여 조직공학용 구조체를 만들고 있다.
피부이식에 사용되고 있는 창상 피복재 또는 조직공학 구조체용 재료로서, 미국특허 제 5143071호는 폴리비닐피롤리돈과 폴리에틸렌옥사이드를 포함한 수용액에 광을 조사하여 가수겔을 제조하는 방법 및 그에 따라 제조된 가수겔에 대해 개시하고 있으며; 미국특허 제 4,773,409호는 one-shot 공정에 의해 폴리에틸렌글리콜, 이소시아네이트, 촉매, 물, 수용성 또는 수팽윤성 고분자를 혼합하는 것을 특징으로 하는 친수성 폴리우레탄폼계 드레싱제의 제조방법을; 미국특허 제4,375,519호는 폴리테르타플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene: PTFE) 피브릴 매트릭스에 친수성 흡수가능한 입자를 첨가하는 것을 특징으로 하는 창상피복재 제조방법을; 및 미국특허 제4,563,184호는 디메틸설폭시드를 수소결합가소제로서 포함한, 폴리(2-히드록시에틸메타크릴레이트) (poly (2-hydroxyethyl methacrylate: PHEM)의 폴리에틸렌글리콜용액으로부터 제조된 합성 창상피복재 및, 실리콘 가아제, 가교 폴리비닐알콜 스폰지, 폴리아마이드, 폴리에스테르 섬유, 폴리프로필렌 섬유, 레이온 섬유등 합성고분자를 이용하여 제조된 창상피복재를 개시하고 있으나, 상기기술 모두, 생체와의 거부반응, 기계적 성질 및 밀착성의 결여 등의 문제점으로 인공피부로서의 충분한 기능을 발휘하지 못하고 있다.
한편, 최근 미국, 유럽, 일본 등에서는 콜라겐을 이용하여 제조된 인공피부가 소개되고 있는 바, 예를 들어, 미국특허 제 4,294,214호는 콜라겐 또는 화학적으로 변형된 콜라겐을 겔이나 시트 형태로 제조한 인공피부를; 미국특허 제 4,984,540호는 동결건조로 제조된 다공성의 콜라겐 드레싱 시트 재료의 제조를; 미국특허 제 6,051,425호는 서로 다른 특성을 가진 두 개의 스폰지로 구성된 조직배양용 콜라겐 적층 스폰지 제조방법을 개시하고 있다. 상기 기술들에 따라, 인체 섬유아세포 및 표피세포를 초기에 배양하고, 이를 수화된 콜라겐에서 3차원적으로 배양하여 수득한 생인공진피의 경우 화상환자 및 성형환자에 대한 임상 응용시 상처 치유 촉진 및 상흔 감소의 면에서 우수한 효과를 얻는 것으로 알려져 있으나, 상기 기술들은 동물 콜라겐을 이용해야 하므로 그 제조비용이 높아 매우 높은 가격으로 시판되고 있으며, 수화된 콜라겐 젤을 이용하므로 경도가 부족한 문제가 있다.
현재, 피부이식에서의 이상적 방법은 이식대상자의 조직으로부터 얻은 건강한 세포를 잘 발달된 미세기공구조의 조직공학용 구조체와 복합화하고 이를 조직손상부에 이식함으로써, 이식된 부위에 증식된 세포로 조직 전체를 재생하고, 조직공학용 구조체로 사용된 재료는 시간경과에 따라 체내에서 서서히 분해·흡수되도록 하는 것인 바, 이러한 이상적 피부이식을 저렴한 비용으로 가능하게 할 조직공학 구조체용 재료에 대해 활발한 연구가 이루어지고 있다.
한편, 키토산은 자연계에 존재하는 다당류의 일종으로 게, 새우의 껍질과 오징어의 뼈, 곰팡이 및 세균 등의 미생물의 세포벽에 함유되어 있는 키틴을 탈아세틸하여 수득되는 화합물로써, 1980년대 중반부터 그 다양한 산업분야에서 이용되고 있다. 이러한 키토산의 주요 용도는, 과거에는 주로 응집제, 중금속 흡착제, 염료폐수 정화제 등의 폐수처리 분야와 토양개량제, 살충제, 식물항바이러스제, 농약 등 농업분야에 한정되었으나, 키토산의 장점과 다양한 특성이 밝혀지면서 식품과 음료 응용분야, 보건위생 응용분야, 화장품 응용분야, 섬유관련 응용분야, 의약품 응용분야 등으로 그 범위를 더욱 확대해 가고 있다. 특히 1990년대부터 의료용 재료로서 주목받고 있으며, 이에 관해 상처 치유제, 인공 피부, 약전성 재료, 혈액 응고제, 인공 신장막, 생분해성 수술용 봉합사, 항균성 재료에서의 키토산의 이용이 보고되고 있다.
보다 구체적으로, 키틴, 키토산 관련 창상피복재에 관해 거의 최초의 특허라 할 수 있는 독일특허 DE 1,906,155호, DE 1,906,159호는 분쇄된 키틴 분말이 상처회복에 우수한 효과를 나타내는 것을 개시하고 있고, 미국특허 제 3,632,754호, 일본특허 3,914,413호는 키틴이 창상치유를 촉진시키며, 라이조자임에 분해되는 성질이 있어 생리적으로 용해될 수 있음을 개시하고 있다. 또한, 미국특허 제 4,651,725호는 키틴 섬유 부직포(nonwoven fabric)로 이루어진 창상피복재 제조방법을; 미국특허 제 4,699,135호는 섬유상 키틴체(fibrous chitin body)의 부직포 또는 섬유상 시트(fibrous sheet)로 이루어진 창상피복재 제조방법을; 대한민국 특허 제10-2001-0037340호는 고배양 키토산 단섬유를 이용한 임상의약용 피복재료 제조방법을; 대한민국 특허 제 10-2001-0019732호는 키토산을 함유하는 기능성 섬유의 제조방법을; 대한민국 특허 제 10-2000-0047330호는 키틴, 키토산 알긴산을 이용한 상처치료용 부직포 제조방법등을 개시하고 있다. 또한 키틴 필름으로서, 미국특허 제 4,803,078호는 키틴층과 기공을 가지는 팽창된 polytetrafluoroethylene (PTFE) 층으로 이루어진 필름 적층 창상피복재 제조방법을; 대한민국 특허 제 10-2000-0066617호는 키틴으로부터 얻은 분자량이 높은 고순도의 키토산을 사용하여 피복능을 획기적으로 향상시키는 무정형 수용성 키토산 필름 제조방법을 개시하고 있다. 그러나, 전술한 기술을 이용한 키틴, 키토산계 실, 또는 필름을 이용한 인공피부는 창상피복재로서 만족할 만한 정도의 성능을 보이는 것은 아니며, 또한 잘 발달된 미세구조의 기공이 필수적인 조직공학용 구조체로서는 사용될 수 없는 바, 이는 실 또는 부직포를 이용할 경우 그 기공이 너무 크고 불규칙하여 세포의 부착력이 떨어져 좋은 세포 성장을 기대할 수 없으며 필름의 경우에는 기공이 거의 없거나 너무 작아서 산소 및 영양분의 공급이 원활하지 않아 세포배양이 불가능하고, 수 ㎛의 치수로의 3차원적 배양도 매우 어렵기 때문이다. 또 다른 예로서, 대한민국 특허 제10-2000-0050953호는 중화 키토산 및/또는 중화 콜라겐 스폰지를 이용한 인공진피 및 이의 제조방법을 개시하고 있고, 대한민국 특허 제10-1998-0039579는 중화 키토산 스폰지 또는 중화 키토산/콜라겐 혼합 스폰지를 이용한 인공진피에 관한 방법으로 키토산을 이용하여 세포배양용 조직공학용 구조체제조방법을 개시하고 있다. 그러나 상기 방법들에서는, 키토산 용액을 알칼리 용액으로 중화한 후 동결건조 함으로써 조직공학용 구조체에 가장 중요한 요소인 미세기공의 발달이 충분하지 못하며, 그 결과, 상기 방법으로 제조된 인공진피 또는 구조체의 경우, 키토산 분자간의 인력이 부족하여 쉽게 부서지는 문제가 있어, 부착력 등의 측면에서 조직공학용 구조체로서의 사용이 불가능하다. 또한, 상기 방법에서 사용 가능한 키토산의 분자량 및 탈아세틸화도에 대한 언급이 전혀 없는 실정이다.
따라서, 당해 기술분야에는 생체 적합성 및 생분해성이 뛰어날 뿐 아니라 형태 유지 기간이 길어 상처 치유 개선효과가 우수하며, 피부의 손상, 수술 및 화상을 포함하는 신체적 외상에 처리하였을 때 상처치유, 살균, 흉터조직방지, 흉터조직억제, 상처회복등의 효능을 갖는 창상피복재 및, 전술한 모든 특성을 가지며, 잘 발달된 균일 크기의 미세기공을 가진, 세포배양에 적합한 조직공학용 구조체에 대한 요구가 있어왔다.
본 발명자들은 상기 문제를 해결하기 위해 예의 연구한 결과, 아세틸화도 및 점도를 조절한 키토산의 산성 수용액을, 동결건조하거나, 또는 필요에 따라 2회 이상의 예비동결하고 건조하여 수득한 스폰지상의 키토산 단일층 또는 다층 구조물을 에탄올, 에탄올 수용액 및 물 등으로 차례로 중화 및 세척하는 방법으로 제조한 중화 키토산 스폰지의 경우, 생체 적합성 및 생분해성이 뛰어나고 형태 유지 기간이 길어 상처 치유 개선효과가 우수하며, 피부의 손상, 수술 및 화상을 포함하는 신체적 외상에 처리하였을 때 상처치유, 살균, 흉터조직방지, 흉터조직억제, 상처회복등의 효능을 가지고, 잘 발달된 균일크기의 미세 기공을 포함하고 있어, 전술한 종래 기술상의 문제점을 모두 극복한 창상피복재 또는 조직 공학용 구조체로서 사용될 수 있음을 확인하고 본 발명에 이르게 되었다.
결국 본 발명은 생체적합성 및 생분해성이 뛰어나고 살균, 상처회복의 효능을 가지며 균일크기의 미세기공이 잘 발달되어 있고, 인체의 피부이식분야에서 사용되기에 적합한 물리·화학적 특성을 가지는 창상 피복재 또는 조직공학 구조체용 중화 키토산 스폰지의 제조방법 및 중화 키토산 스폰지를 제공하기 위한 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 키토산 스폰지를 이용한 조직공학용 구조체(scaffold)의 전자현미경 사진이고;
도 2는 본 발명에 따른 키토산 스폰지를 이용한 다중층의 조직공학용 구조체의 전자현미경 사진이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 한 측면은 ⅰ) 키토산의 산성 수용액을 동결건조하여 스폰지상의 키토산 구조물을 수득하는 단계; ⅱ) 상기 키토산 구조물을 a) 95 % 이상의 순수 에탄올, b) 70 % 이상의 에탄올 수용액, c) 50 % 이상의 에탄올 수용액, 및 d) 물 또는 완충용액으로 차례로 중화 및 세척하여 잔류 산을 완전히 제거하는 단계; 및 ⅲ) 중화가 완료된 키토산 구조물을 다시 동결 건조하는 단계를 포함하는, 창상 피복재 및 조직공학 구조체용 중화 키토산 스폰지 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 또 다른 한 측면은 상기방법의 ⅰ) 단계에서 키토산 산성 수용액으로서 탈아세틸화도 및/또는 점도가 상이한 키토산들의 혼합용액을 사용하는 중화 키토산 스폰지 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 또 다른 한 측면은 ⅰ) 단계에서의 동결건조를 예비동결 및 승화건조과정으로 나누어 수행하고, 상기 예비 동결은 2회 이상으로 나누어 수행하며, 각각의 예비동결시, 직전 예비 동결된 키토산 산 수용액 위에 추가로 키토산 산 수용액을 부가하여 예비동결하고 이를 건조함으로써 스폰지상의 키토산 층상 구조물을 수득하는 것을 특징으로 하는 중화 키토산 스폰지의 제조방법에 관한 것이다.
마지막으로, 본 발명의 또 다른 한 측면은 전술한 방법으로 제조된 중화 키토산의 층상 또는 단일상의 스폰지 및 이로부터 제조되는 창상 피복재와 조직공학 구조체에 관한 것이다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 중화키토산 스폰지 제조방법은 ⅰ) 키토산의 산성 수용액을 동결건조하여 스폰지상의 키토산 구조물을 수득하는 단계를 포함한다.
상기 단계에서 사용된 키토산은 키틴을 탈아세틸화한 것으로, 점도가 2 cps 내지 800 cps이며, 탈아세틸화도는 50 % 내지 99 %의 것을 사용한다. 상기 점도는, 예를 들어, 0.5 질량% 아세트산(acetic acid) 수용액의 0.5질량% 키토산 용액을 사용하여 20℃에서 브룩필드(Brookfield) 점도계로 측정한 값이다.
키토산의 산 수용액은 유기산 또는 무기산 수용액내에 키토산을 용해시켜 제조한다. 본 단계에서 사용가능한 유기산 또는 무기산의 예는, 초산, 염산, 젖산, 피로피온산, 구연산, 아크릴산, 부틸산, 개미산, 글루타민산, 글루콘산, 글리콜산, 숙신산, 호박산, 말레인산, 아스콜빈산, 주석산 및 이들 중 2 이상을 혼합한 혼합산을 포함한다. 유기산 및 무기산 수용액의 농도는 물에 대한 무게비로 0.1 질량% 내지 10 질량% 이다. 상기 산 수용액에, 전체 용액대비 1 질량% 내지 10 질량% 농도로 키토산을 용해시켜 키토산의 산 수용액을 제조하며, 이 때, 키토산의 완전 용해를 위해 12시간 내지 48시간 동안 용해시키고, 제조된 상기 산 수용액은 감압처리 또는 실내에서 3 시간 내지 24시간 방치하여 용액 내의 기포를 완전히 없애고, 1 ㎛ 내지 25 ㎛의 거름종이(filter paper) 또는 거즈로 불순물 및 불용성 잔사를 완전히 제거한다.
본 발명은, 추가적으로, 분자량 (또는 점도) 및/또는 탈아세틸화도가 상이한 2종 이상의 키토산을 혼합하여 제조된 키토산의 산성 수용액을 사용할 수 있다. 본 발명자들의 연구에 따르면, 본 발명과 같이, 분자량 및/또는 탈아세틸화도가 상이한 키토산을 혼합사용할 경우, a) 항균성이 우수하나 기계적 강도가 약한 저분자로 제조된 창상피복재 또는 조직공학용 구조체에 있어 항균력은 그대로 유지한 채 기계적 물성을 증가시킬 수 있고, b) 탈아세틸화도가 상이한 키토산 및 키틴을 함께 사용하므로써 양자의 장점 (예를 들어, 높은 용해성을 가지면서도 항균성이 매우 우수한 점)을 상승·보완하는 효과가 있으며, c) 소망하는 다양한 물성을 가진 키토산의 창상피복재 또는 조직공학용 구조체를 얻을 수 있다. 보다 구체적으로, 2 cps 내지 800 cps 점도 범위 및 50 % 내지 99 % 의 탈아세틸화도 범위내에서, 소정의 점도 및 탈아세틸화도를 가진 키토산과, 상기 키토산과는 점도 및 탈아세틸화도가 각각 다르거나, 점도는 동일하고 탈아세틸화도가 상이하거나, 탈아세틸화도는 동일하고 점도가 상이한 1 또는 2 이상의 키토산들을 혼합 사용하여 키토산의 산 수용액을 제조한다.
제조된 키토산 산 수용액은 소정의 형상 및 크기를 가진 디쉬(dish)에 넣고, 이를 동결건조하여 일정한 크기의 기공이 형성된 스폰지상의 구조물을 제조한다.
'동결건조'라 함은 재료를 동결시킨 다음 높은 진공장치내에서 액체상태를 거치지 않고, 기체상태의 증기로 승화시켜 건조하는 방법으로, 일반 건조방법보다 훨씬 고품질의 제품을 얻을 수 있고, 동결된 상태에서 수분이 제거되므로 건조된 제품은 가벼운 스폰지 형태를 가지는 특징을 가지며, 현재 식품과 제약, 미생물의 건조에 이용되는 고품질의 상품을 얻는 데에 적합한 건조방법이다. 본 발명에서 상기 동결건조는, 바람직하게는, 예비동결 및 동결건조의 과정으로 나누어 수행한다.
예비동결시, 동결온도는 건조품의 품질에 큰 영향을 미치므로 이의 조절에 세심한 주의가 요구되는데, 본 발명에서는 영하 10 ℃ 내지 영하 160 ℃ 또는 액체질소를 이용하여 영하 140 ℃ 내지 영하 180 ℃에서 예비동결 처리한다. 동결건조는 키토산 용액에 존재하는 용매를 제거시키는 과정으로 이 때, 수분은 동결층의 윗 부분으로 서서히 제거되어 키토산 스폰지를 남기고 승화면은 아래로 내려가 결국 동결층은 사라지고 키토산 스폰지가 얻어진다.
동결 건조시, 건조 챔버내의 온도를 영하 20 ℃ 내지 30 ℃로 유지하고 진공도를, 50㎜Hg이하, 바람직하게는 10 mmHg 이하로 한 상태에서 키토산 용액을 진공 건조시킨다. 상기 건조에 의해 스폰지상 키토산 구조물을 수득할 수 있다.
본 발명에 한 바람직한 구현예의 경우, ⅰ) 단계에서의 예비 동결은 2회 이상으로 나누어 수행하고, 각각의 예비동결시, 직전 예비 동결된 키토산 산 수용액 위에 추가로 키토산 산 수용액을 부가하여 예비동결하고 이를 전체로써 건조함으로써 스폰지상의 키토산 층상 구조물을 수득할 수 있다. 이 때, 각각의 예비동결은 동결온도 및 시간을 달리하여 수행할 수 있는 바, 예비 동결온도가 영하 10℃ 내지 영하 80℃인 경우 2 내지 24 시간 동안 수행하고, 영하 80℃ 내지 영하 160℃인 경우 1 내지 12 시간동안 수행한다.
복수회에 걸친 예비동결과정으로 층상의 스폰지를 수득함에 있어, ⅰ) 단계에서 추가로 부가되는 키토산 산 수용액은 직전에 예비 동결된 키토산 산 수용액과 동일한 수용액이거나, 농도만 상이한 키토산 산 수용액이거나, 혹은 직전 예비 동결된 키토산 산 수용액과, 점도 및/또는 탈아세틸화도가 상이한 키토산의 동일 또는 상이한 농도의 산 수용액을 사용한다.
본 발명자의 연구에 따르면, 키토산 산 수용액으로부터 제조된 스폰지상의 구조물의 경우, 사용된 키토산의 탈아세틸화도 및/또는 점도, 키토산 수용액의 농도, 동결시 온도 등에 따라 수득된 스폰지상의 미세 기공의 형태 및 크기, 분포가 달라진다. 따라서, 본 발명에서처럼 ⅰ) 단계에서, 사용된 키토산의 점도 및/또는 탈아세틸화도, 키토산 산수용액의 농도를 조절하고, 각각의 키토산 수용액의 예비동결시 그 온도 및 시간조건을 순차적으로 달리하면, 층상의 키토산 스폰지로서, 각각의 동일층에는 일정한 크기의 미세 기공이 균일 분포하고, 각각의 층들을 비교하였을 때는 크기 및 형상이 다른 미세기공이 분포된 키토산 스폰지를 수득할 수 있다. 상기와 같은 구조의 층상 스폰지는, 작은 크기의 기공을 포함하고 있어 체내로부터의 수분 누출 방지, 삼출액의 흡수 및 외부로부터 잡균 침입과 감염 방지에 효과적인 반면, 큰 크기의 기공도 함께 포함하고 있어 스폰지를 통한 통풍이 매우 원활한 장점을 가지고 있다.
보다 구체적으로, 키토산의 점도 및/또는 탈아세틸화도를 조절인자로 선택할 경우, 1차로 예비 동결하여 수득한 키토산 구조물위에, 이미 사용된 키토산과는 점도 및/또는 탈아세틸화도가 상이한 키토산 산 수용액을 부가하고 다시 예비동결하여 전체로써 승화 건조함으로써, 각각의 층이 일정한 크기의 균일한 기공을 가지는 동시에 층마다 서로 상이한 기공크기를 가지며 층마다 탈아세틸화도, 점도가 상이한 중화 키토산의 층상 스폰지 구조물을 수득할 수 있다. 이 경우, 추가되는 키토산 산 수용액의 농도는 동일하거나 상이하게 할 수 있다.
더욱 구체적으로 설명하면, 점도 2cps 내지 800cps 범위 및 탈아세틸화도 50 % 내지 99 % 범위내에서, 소정의 점도 및 탈아세틸화도를 가지는 키토산의 산 수용액을 디쉬에 넣어 1차 예비동결하고, 그 위에 상기 키토산과 상이한 점도 및/또는 탈아세틸화도를 가지는 키토산의 산수용액을 부가하여 다시 2차 예비동결한다. 이 때, 예비동결은 영하 10℃ 내지 영하 160℃의 온도에서 2 내지 24 시간동안 수행하거나, 혹은 액체질소를 이용하여 영하 140℃ 내지 180℃에서 1 내지 12 시간동안수행한다. 1차 또는 2차 예비동결은 동일하거나 상이한 조건에서 수행할 수 있다.
한편, 산 수용액의 농도 및/또는 동결온도를 조절인자로 선택할 경우, 1차 예비 동결상태의 키토산 산 수용액 위에, 동일하거나 상이한 농도의 키토산 수용액을 부가하고 다시 2차 예비동결하고 전체를 승화건조함으로써, 목적하는 구조의 층상 스폰지 구조물을 수득할 수 있다. 이 때, 1차 및 2차 예비동결에 대해서는 전술한 바와 같으나, 동일 키토산을 같은 농도로 포함한 키토산 산 수용액을 사용할 경우, 1차 예비 동결조건(즉, 온도)과 2차 예비동결조건을 달리하여야 한다.
상기 층형성 방법들은 단독으로 사용하거나, 적절히 조합사용하여 2층 또는 그 이상의 예비 동결된 수용액을 수득한다.
상기 예비 동결된 층상의 키토산 수용액을 동결건조할 경우, 수분은 동결층의 윗 부분으로 서서히 제거되어 키토산 스폰지를 남기고 승화면은 아래로 내려가 결국 동결층은 사라지고 각 층마다 기공의 크기가 틀린, 다중층의 스폰지상 키토산 구조물을 수득할 수 있다.
종래의 키토산을 이용한 필름은 기공이 없거나 크기가 너무 작고, 또, 종래 기술을 이용한 키토산 스폰지의 경우 삼출액의 흡수가 잘 되지 않으며 공기의 흐름이 차단되고 이로 인하여 상처치유 및 세포배양이 잘 되지 않는 문제가 있었다. 한편, 섬유를 이용한 부직포는 기공이 지나치게 불규칙하고, 그 크기도 너무 커서 세포배양에 매우 부적합하며, 서로 다른 크기의 미세기공이 분포함에 의한 장점을 충분히 살릴 수 없었다. 그러나, 본 발명에 따른 방법은, 1 또는 2 이상의 다양한 크기를 가지는 균일 미세기공을 포함한 키토산 스폰지를 제조할 수 있어 체내로부터의 수분 누출 방지, 삼출액의 흡수 및 외부로부터 잡균 침입과 감염 방지효과가 뛰어날 뿐만 아니라, 스폰지를 통한 공기의 흐름이 원활하여 상처의 치유 및 세포배양시 세포의 분화 및 성장을 돕는 장점이 있다.
본 발명에 따른 제조방법은 ⅱ) 단계로서, ⅰ) 단계에서 수득한 상기 키토산 구조물을 a) 95 % 이상의 순수 에탄올, b) 70 % 이상의 에탄올 수용액, c) 50 % 이상의 에탄올 수용액, 및 d) 물 또는 완충용액으로 차례로 중화 및 세척하여 잔류 산을 완전히 제거하는 단계를 포함한다. ⅰ) 단계에서 수득한 스폰지상의 키토산 구조물은 스폰지내에 유기산을 그대로 함유하고 있는 바, 본 단계에서 잔류 유기산이 완전히 제거된다. 종래기술은 이 경우, 염기성 용액으로 중화한 후 물 또는 완충액을 사용해 세척하지만, 본 발명자들의 연구에 따르면, 이와 같은 염기성 용액의 사용시, 수득된 스폰지가 염기성 용액과 접촉하면서 전체적으로 수축 또는 심한 뒤틀림 현상이 일어나 처음의 형태를 그대로 유지할 수 없게 되거나 강도의 현저한 저하를 유발한다. 본 발명자들은 상기 문제를 인식하고 이를 효과적으로 해결하기 위해, 순수 에탄올, 에탄올 수용액(즉, 물과 에탄올의 혼합물) 및 물 혹은 완충액(buffer)의 순으로 중화 키토산 스폰지를 중화, 세척하여 잔류 산을 완전히 제거하였다. 본 발명에 따른 방법의 경우, 염기성 용액을 사용하지 않고 에탄올, 물과 에탄올의 혼합물, 물 또는 완충액을 차례로 사용하여 단계별로 잔류 유기산을 완전히 제거하므로, 스폰지의 수축이나 뒤틀림 현상이 전혀 일어나지 않고 동결 건조된 그대로의 형태를 유지할 수 있고, 미세기공이 잘 발달된 스폰지를 얻을 수 있을 뿐만 아니라, 중화, 세척과정에서 살균이 이루어져 추가로 유리하다.
본 발명에 따른 방법은 ⅲ) 중화가 완료된 키토산 구조물을 다시 동결 건조하는 단계를 포함한다. 본 단계의 동결 건조 조건은 전술한 바와 같다. 본 단계를 거치면, 소정의 크기를 가지는 미세기공이 균일 분포되고, 선택적으로 층상 구조를 가지는, 중화 키토산 스폰지를 수득할 수 있다.
수득된 중화 키토산 스폰지는 창상 피복재 또는 조직공학용 구조체로써 유용하게 사용될 수 있다. 특히, 본 발명에 따른 키토산 스폰지를 이용한 창상 피복재 및 조직공학용 구조체는 상처 부위가 넓고 상처 부변의 세포 이동이 어려운 경우에 섬유아세포를 배양하여 인공진피를 제조할 수 있고, 연골 및 간세포등도 배양할 수 있는 조직공학용 구조체로 사용될 수 있다.
이하, 구체적인 실시예 및 비교예를 가지고 본 발명의 구성 및 효과를 보다 상세히 설명하지만, 이들 실시예는 단지 본 발명을 보다 명확하게 이해시키기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다.
[실시예]
실시예 1
1.2%의 아세트산 수용액을 사용하여, 점도 11 cps (0.5 중량% 아세트산의 0.5 중량% 키토산 용액을 제조하여 브룩필드 점도계로 20 ℃에서 측정) 및 탈아세틸화도 98 %의 키토산의 3 w/v %의 수용액을 제조하였다. 수득된 용액 30 ml를 지름 9 cm의 플라스틱 접시에 넣은 후 상온에서 24시간 방치하여 용액안의 공기를 완전히 제거하고, 여과하여 불용성 물질을 제거하였다. 상기 용액을 영하 70℃의 초저온냉동고에서 24시간 예비 동결한 후, 영하 20℃에서 24시간 승화 건조하여 스폰지상의 키토산 구조물을 수득하였다. 수득한 키토산 구조물을 95 %에탄올 1 L로 2회 이상세척하고, 다시 70 % 에탄올 1 L로 2회 이상 세척하고, 50 % 에탄올 1 L로 2회 이상 세척한 후, 증류수 1 L로 수 회에 걸쳐 세척하였다. 세척된 키토산 구조물을 다시 -70℃의 초저온냉동고에서 24시간 동결한 후 영하 20 ℃에서 24시간 건조하여 일정한 크기의 미세 기공이 균일 분포한, 두께 약 3 ㎜의 다공성 중화 키토산 스폰지를 제조하였다.
실시예 2 내지 11
다양한 종류의 키토산 스폰지를 제조하기 위하여 키토산의 점도, 탈아세틸화도, 키토산 농도, 동결온도, 동결시간 등을 표 1에 나타난 바와 같이 달리한 것을 제외하고는, 실시예1과 동일한 방법으로 실시하여 키토산 창상피복재 및 조직공학용 구조체를 제조하였다.
키토산 점도(cps) 탈아세틸화도(%) 키토산농도(%) 동결온도(℃) 동결시간(hr)
실시예1 11 98 3 -70 24
실시예2 11 98 4 -70 24
실시예3 11 98 2 -70 24
실시예4 650 55 1 -40 36
실시예5 700 95 1 액체질소 1
실시예6 82 96 2 -20 48
실시예7 82 96 3 -40 36
실시예8 82 96 4 -70 24
실시예9 215 76 3 액체질소 2
실시예10 215 94 3 액체질소 2
실시예11 11 98 3 액체질소 1
: 키토산 창상피복재 및 조직공학용 구조체의 구성 변화
실시예 12
점도 11 cps (0.5 중량% 아세트산의 0.5 중량% 키토산 용액을 제조하여 브룩필드 점도계로 20 ℃에서 측정), 탈아세틸화도 98 %인 키토산 1을 1.2%의 아세트산 수용액에 용해시켜 3 w/v %의 키토산 1 산 수용액을 제조하였다. 이와 별도로, 점도 212 cps (0.5 중량% 아세트산의 0.5 중량% 키토산 용액을 제조하여 브룩필드 점도계로 20 ℃에서 측정), 탈아세틸화도 98 %인 키토산 2를 1.2%의 아세트산 수용액에 용해시켜 3 w/v%의 키토산 2 산 수용액을 제조하였다. 상기 두 용액을 1:1의 부피비로 혼합하고, 수득한 혼합용액 약 15 ㎖를 지름 5 ㎝의 플라스틱 접시에 넣어 상온에서 24시간 방치하여 용액 안의 공기를 완전히 제거하고 불용성 물질을 여과하였다. 이 용액을 -70℃의 초저온냉동고에서 24시간 동결한 후 영하 20℃에서 24시간 동결건조하여 키토산 스폰지를 제조하였다. 이렇게 제조된 키토산 스폰지를 95% 에탄올 1 L로 2회 이상세척하고 다시 70 % 에탄올 1 L로 2회 이상 세척하고, 50 % 에탄올 1 L로 2회 이상 세척한 후 증류수 1 L로 수 회에 걸쳐 세척하였다.
세척된 키토산 스폰지를 다시 -70℃의 초저온냉동고에서 24시간 동결한 후 영하 20℃에서 24시간 동결건조하여 일정한 크기의 기동을 가진, 두께 약 3㎜의 다공성 중화키토산 창상피복재 및 조직공학용 구조체를 제조하였다.
실시예 13 내지 21
다양한 종류의 키토산 스폰지를 제조하기 위하여 키토산1 및 2의 점도, 탈아세틸화도, 키토산 농도, 동결온도, 동결시간 등을 표 2에 나타난 바와 같이 달리한 것을 제외하고는, 실시예 12와 동일한 방법으로 실시하여 키토산 스폰지를 제조하였다.
키토산 1 키토산 2 비율(키토산1 : 키토산 2) 동결온도(℃) 동결시간(hr)
키토산점도(cps) 탈아세틸화도(%) 키토산농도(%) 키토산점도(cps) 탈아세틸화도(%) 키토산농도(%)
실시예12 11 98 3 212 98 3 1:1 -70 24
실시예13 11 98 3 11 55 3 1:1 -70 24
실시예14 11 98 2 700 95 1 3:1 액체질소 2
실시예15 11 98 4 72 95 2 2:1 -40 36
실시예16 11 98 3 156 72 3 1:1 -20 48
실시예17 11 98 2 650 55 1 5:1 액체질소 1
실시예18 72 95 2 650 55 1 1:1 액체질소 3
실시예19 72 95 3 156 72 2 2:1 -70 36
실시예20 700 95 0.5 156 72 2 1:5 -40 48
실시예21 700 95 1 72 95 4 1:4 -20 48
: 키토산 창상피복재 및 조직공학용 구조체의 구성 변화
실시예 22
점도 20 cps (0.5 중량% 아세트산의 0.5 중량% 키토산 용액을 제조하여 브룩필드 점도계로 20 ℃에서 측정), 탈아세틸화도 95 %의 키토산 1을 1.2%의 아세트산 수용액에 용해시켜 4 w/v %의 키토산 1 산 수용액을 제조하였다. 제조된 키토산 1 산수용액 15㎖를 가로×세로 12㎝×12㎝의 정사각형 플라스틱 접시에 넣은 후 상온에서 24시간 방치하여 용액안의 공기를 완전히 제거하고 여과한 다음, 수득된 용액을 액체질소에서 4시간동안 예비 동결하였다. 예비 동결된 키토산 1 산 수용액위에 다시 키토산 1 산 수용액 15 ㎖를 넣은 후, 영하 70℃의 초저온 냉동고에서 24시간 예비동결한 후, 영하 20℃에서 36시간 동결건조 키토산 스폰지를 제조하였다. 이렇게 제조된 키토산 스폰지를 95 % 에탄올 1 L로 2회 이상 세척하고 다시 70 % 에탄올 1 L로 2회 이상 세척하고, 50 % 에탄올 1 L로 2회 이상 세척한 후 증류수 1 L로 수회에 걸쳐 세척하였다. 세척된 키토산 스폰지를 다시 영하 70℃의 초저온냉동고에서 24시간 동결한 후, 영하 20℃에서 24시간 동결건조하여 일정한 크기의 미세 기공을 가진 다공성 및 층마다 미세기공의 크기가 틀린 중층의 중화 키토산 창상피복재 및 조직공학용 구조체를 제조하였다.
실시예 23 내지 31
다양한 종류의 키토산 스폰지를 제조하기 위하여 상기 실시예 22에서 두 종류의 키토산의 점도, 탈아세틸화도, 키토산 농도, 동결온도, 동결시간 등을 표 3에 나타낸 바와 같이하는 것을 제외하고는, 실시예 22와 동일한 방법으로 키토산 스폰지를 제조하였다.
키토산 1 조건 키토산 2 조건
키토산점도(cps) 탈아세틸화도(%) 키토산농도(%) 동결온도(℃) 동결시간(hr) 키토산점도(cps) 탈아세틸화도(%) 키토산농도(%) 동결온도(℃) 동결시간(hr)
실시예22 11 95 4 액체질소 4 11 95 4 -70 24
실시예23 11 95 3 액체질소 4 11 55 3 -40 36
실시예24 11 95 2 액체질소 4 11 95 2 -20 48
실시예25 11 98 4 -70 24 72 95 2 -40 48
실시예26 72 98 3 액체질소 3 156 72 3 -70 24
실시예27 72 98 2 액체질소 3 650 55 1 -70 24
실시예28 72 95 2 -40 36 72 95 4 액체질소 3
실시예29 650 55 1.5 -70 24 72 95 4 액체질소 3
실시예30 700 95 1 액체질소 3 156 72 2 -70 24
실시예31 700 95 1 액체질소 3 72 95 4 -40 32
: 키토산 창상피복재 및 조직공학용 구조체의 구성 변화
비교예 1
육류로부터 얻어진 수평균 분자량 80,000 g/mol의 젤라틴 100 g을 온도 60 ℃의 물 900 g에 완전히 용해시켜 젤라틴 수용액을 제조하고, 상기 수용액에20 g의 젖산을 첨가하고 수평균 분자량이 500,000 g/mol이고 탈아세틸화도 99 % 인 키토산을 20 g을 첨가하여 1시간 동안 교반시켜 키토산과 젤라틴을 주성분으로 하는 유동성 용액을 제조한다. 키토산과 젤라틴을 주성분으로 하는 유동성용액 500 g을 영하 20 ℃의 온도로 급냉시켜 성형이 용이한 키토산과 젤라틴을 주성분으로 하는 고화 겔 500g을 제조하였다. 제조된 고화겔 10g을 60℃에서 필름성형기를 이용하여필름을 성형시키고 영하 20 ℃이하로 급냉시켜서 두께 20 ㎛의 유연성 필름을 제조하였다. 성형된 고화 겔 필름을 30 ℃의 온도에서 12 시간 동안 자연건조 시켜 두께 19 ㎛의 키토산과 젤라틴을 주성분으로 하는 수용성 고체 필름을 제조하였다.
비교예 2
1 wt %의 초산수용액 97 g에 점도가 1446 cps, 탈아세틸화도가 94 %인 키토산 3g을 넣고 교반기를 사용하여 저어주면서 용해시켜서 투명한 용액을 제조한다. 제조된 키토산 용액을 영하 20 ℃에서 12 시간 동안 숙성시킨다. 숙성한 키토산 용액을 테프론 필름상에서 두께 조졸이 가능한 필름 메이커를 사용하여 300 ㎛두께의 필름상을 형성한다. 형성된 키토산 필름을 상온에서 12 시간동안 건조처리한다. 상기의 제조 과정을 거쳐 요구하는 두께를 가지는 수용성 키토산 필름이 얻어진다.
비교예 3
동결 건조시켜 수득한 스폰지 상의 키토산 구조물을 알칼리 세정한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 키토산 스폰지를 수득하고자 하였으나, 세정시 스폰지의 형태가 완전히 수축되고 뒤틀려 소망하는 형태의 스폰지를 수득할 수 없었다.
본 발명에 따른 키토산 스폰지는 직접 또는 세포배양 등을 거쳐 상처치유제, 창상 피복재 또는 인공피부 혹은 세포배양용 조직 공학용 구조체로 사용될 수 있는 바, 섬유, 필름, 파우더의 형태를 가지는 키토산을 이용하는 종래기술과 비교하여 소정의 균일크기의 미세기공을 가지고 있어 그 표면적이 매우 넓고, 매우 우수한 공기투과성, 분비물의 포집 및 제거능을 나타낸다. 특히 본 발명에서 일정한 기공의 크기를 가지면서 각 층마다 기공의 크기가 다른 중층의창상피복재 및 조직공학용 구조체는 획기적으로 향상된 균일성 및 포집성을 나타내는 바, 간세포, 표피세포, 섬유아세포등 세포배양에 사용될 수 있다.
또한 탈아세틸화도 및 점도가 틀린 키토산을 두 종류 이상 사용하여 키토산의 특성을 최대한 이용할 수 있으며, 세척 및 중화단계에서 염기성 용액 대신에 에탄올, 에탄올수용액 및 물 혹은 완충액을 사용함으로써 최종 창상피복재 및 조직공학용 구조체의 문제점인 수축이나 비틀림을 효과적으로 방지할 수 있다.

Claims (9)

  1. ⅰ) 키토산의 산성 수용액을 동결건조하여 스폰지상의 키토산 구조물을 수득하는 단계; ⅱ) 상기 키토산 구조물을 a) 95 % 이상의 순수 에탄올, b) 70 % 이상의 에탄올 수용액, c) 50 % 이상의 에탄올 수용액, 및 d) 물 또는 완충용액으로 차례로 중화 및 세척하여 잔류 산을 완전히 제거하는 단계; 및 ⅲ) 중화가 완료된 키토산 구조물을 다시 동결 건조하는 단계를 포함하는, 창상 피복재 및 조직공학 구조체용 중화 키토산 스폰지 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서, ⅰ) 단계에서 키토산 산성 수용액은 탈아세틸화도 및/또는 점도가 상이한 키토산의 혼합용액을 사용하는 것을 특징으로 하는 중화 키토산 스폰지 제조방법.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 키토산은 2 cps 내지 800 cps 점도 범위 및 50 % 내지 99 % 의 탈아세틸화도 범위내의 키토산을 사용하는 것을 특징으로 하는 중화 키토산 스폰지 제조방법.
  4. 제 1항에 있어서, ⅰ) 단계의 동결건조는 예비동결 및 동결건조과정으로 나누어 수행하며, 예비동결과정은 영하 10 ℃ 내지 영하 160 ℃ 또는, 액체질소를 이용하여 영하 140 ℃ 내지 영하 180 ℃에서 수행하고, 동결건조과정은 영하 20 ℃ 내지 30 ℃에서 진공건조하여 수행하는 것을 특징으로 하는 중화 키토산 스폰지 제조방법.
  5. 제 4항에 있어서, ⅰ) 단계에서 예비 동결은 2회 이상으로 나누어 수행하고, 각각의 예비동결시, 동결온도 및 시간을 동일하거나 상이하게 하여 직전(直前) 예비 동결된 키토산 산 수용액 위에 추가로 키토산 산 수용액을 부가하여 예비동결하고, 이를 건조하여 스폰지상의 키토산 층상(層狀) 구조물을 수득하는 것을 특징으로 하는 중화 키토산 스폰지의 제조방법.
  6. 제 5항에 있어서, ⅰ) 단계에서 추가로 부가되는 키토산 산 수용액은 직전 예비 동결된 키토산 산 수용액과 동일한 수용액이거나, 농도만 상이한 수용액이거나, 혹은 키토산의 점도 및/또는 탈아세틸화도가 상이하고, 농도는 동일 또는 상이한 키토산 산수용액을 사용하는 것을 특징으로 하는 중화 키토산 스폰지의 제조방법.
  7. 제 1항, 제 2항, 제 5항 및 제 6항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조된 중화 키토산 스폰지.
  8. 제 7항의 중화 키토산 스폰지를 이용한 창상 피복재.
  9. 제 7항의 중화 키토산 스폰지를 이용한 조직 공학용 구조체.
KR1020030023929A 2003-04-16 2003-04-16 창상 피복재 및 조직공학 구조체용 중화 키토산 스폰지제조방법 및 이에 의해 제조된 중화 키토산 스폰지 KR100608192B1 (ko)

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